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JP2015184882A - Laminate, manufacturing method of laminate, electrostatic capacitance type touch panel, and image display device - Google Patents

Laminate, manufacturing method of laminate, electrostatic capacitance type touch panel, and image display device Download PDF

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JP2015184882A
JP2015184882A JP2014060099A JP2014060099A JP2015184882A JP 2015184882 A JP2015184882 A JP 2015184882A JP 2014060099 A JP2014060099 A JP 2014060099A JP 2014060099 A JP2014060099 A JP 2014060099A JP 2015184882 A JP2015184882 A JP 2015184882A
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transparent panel
transparent
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Junichi Inoue
純一 井上
佳昭 今村
Yoshiaki Imamura
佳昭 今村
広和 小田桐
Hirokazu Odagiri
広和 小田桐
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Dexerials Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate, a manufacturing method of a laminate, an electrostatic capacitance type touch panel, and an image display device, in which a decorative printing layer formed by black ink on an outer edge part of a back surface of a transparent panel substrate is not damaged when a transparent electrode layer and a wiring layer of a touch panel are patterned by laser processing.SOLUTION: A top plate 11 includes: a transparent panel substrate 1; a decorative printing layer 3 formed on an outer edge part of a back surface of the transparent panel substrate 1; planarization resin layer 4 which is formed over a surface of the transparent panel substrate 1, on which the decorative printing layer 3 is formed, so as to cover the area over the decorative printing layer 3 and the transparent panel substrate 1, and which has an infrared absorption function; and a transparent electrode layer 6 formed on a back surface of the planarization resin layer and having a wiring layer 6A. The wiring layer 6A and the transparent electrode layer 6 of the top plate 11 are patterned by laser processing of an infrared laser from a back surface side of the decorative printing layer 3.

Description

本発明は、積層体、積層体の製造方法、静電容量型タッチパネル及び画像表示装置に関し、特に、透明パネル基板の背面の外縁部に形成された加飾印刷層を有する積層体、積層体の製造方法、静電容量型タッチパネル及び画像表示装置に関する。   The present invention relates to a laminate, a method for producing the laminate, a capacitive touch panel, and an image display device, and in particular, a laminate having a decorative print layer formed on the outer edge portion of the back surface of a transparent panel substrate, and the laminate. The present invention relates to a manufacturing method, a capacitive touch panel, and an image display device.

タッチパネルで容易に操作できるスマートフォンや、タブレットPCが広く普及するようになり、タッチパネル薄型化、軽量化、及び低コスト化が喫緊の課題となっている。   Smartphones and tablet PCs that can be easily operated with a touch panel have become widespread, and touch panel thickness reduction, weight reduction, and cost reduction are urgent issues.

タッチパネルの検出方式には、さまざまな方式があり、たとえば、2枚の抵抗膜を重ねて指示位置を特定する抵抗膜方式や、パネル表面に超音波や表面弾性波を発生させ、指示位置検出を行う表面弾性波方式等が挙げられる。上述したスマートフォンやタブレットPCに用いられるタッチパネルでは、パネル上を指でタップしたり、ドラッグしたり、あるいは画像を拡大するのに画面上で2本の指を広げるようなピンチアウト動作をしたり、2本の指をせばめるように動かすピンチイン操作といった複雑で自由度のある操作に対応する必要がある。そのため、現状では、透明電極を用いてxyマトリクスを形成し、複数の指示位置の検出を同時に行える静電容量型タッチパネルが主流となっている。   There are various touch panel detection methods, for example, a resistive film method that specifies the pointing position by overlapping two resistive films, or an ultrasonic wave or surface acoustic wave is generated on the panel surface to detect the pointing position. The surface acoustic wave method to perform etc. is mentioned. The touch panel used for the above-described smartphone or tablet PC taps or drags on the panel with a finger, or performs a pinch-out operation that spreads two fingers on the screen to enlarge the image, It is necessary to deal with a complicated and flexible operation such as a pinch-in operation that moves two fingers together. Therefore, at present, a capacitive touch panel that forms a xy matrix using transparent electrodes and can simultaneously detect a plurality of designated positions has become the mainstream.

従来、静電容量式タッチパネルの製造工程では、接触を検出する検出部形成は透明導電膜を基板に塗布後、エッチングによって検出に必要な部分のみを残し、不要部は除去するようにしている。   Conventionally, in the manufacturing process of a capacitive touch panel, detection part formation for detecting contact is performed by applying a transparent conductive film to a substrate, leaving only a part necessary for detection by etching, and removing unnecessary parts.

また、検出部と外部回路を接続するための引出配線は、銀ペーストによって、スクリーン印刷でタッチパネル外周部に形成されていたが、タッチパネル上の検出部の数が増えるに従い配線幅が微細化したため印刷による手法では限界が生じ、現在では透明導電膜と同様にエッチングによって形成されるようになっている。   In addition, the lead-out wiring for connecting the detection unit and the external circuit was formed on the outer periphery of the touch panel by screen printing with silver paste. However, as the number of detection units on the touch panel increased, the wiring width became finer and printed. However, there is a limit to the method according to, and at present, it is formed by etching in the same manner as the transparent conductive film.

エッチングの手法は、薬液によるウエットエッチングと、レーザなどによるドライエッチングに大別される。ウエットエッチングでは洗浄などを繰り返すため製造工程が多くるが、ドライエッチングでは製造工程の簡略化が図れ、コストダウンに繋がるというメリットがある。   Etching methods are roughly classified into wet etching using a chemical solution and dry etching using a laser or the like. In wet etching, the number of manufacturing processes is increased because cleaning and the like are repeated. However, dry etching has the advantage of simplifying the manufacturing process and leading to cost reduction.

また、タッチパネルには前述の引出配線を被覆するために、外周部に加飾印刷と呼ばれる主として黒色インクによる印刷が施される。   In addition, in order to cover the above-described lead wiring on the touch panel, printing with mainly black ink called decorative printing is performed on the outer peripheral portion.

すなわち、従来の電子機器等の画像表示パネルやその表面に設けられる静電容量型タッチパネルでは、画像表示領域の周辺領域を加飾領域として種々のデザインを付することで、商品価値を高める工夫がなされている。しかしながら、上記周辺領域には、透明電極に電気的に接続される配線パターンが形成されているため、積層体を構成した際にタッチパネルの表面に上記配線パターンの形状に対応した凹凸が発生する場合がある。この場合、タッチパネルの所望の平坦性を維持できなくなり、商品価値を損なうという問題がある。   In other words, conventional image display panels such as electronic devices and capacitive touch panels provided on the surface of the image display panel are designed to increase the commercial value by attaching various designs to the peripheral area of the image display area as a decoration area. Has been made. However, since the wiring pattern that is electrically connected to the transparent electrode is formed in the peripheral region, when the laminated body is configured, unevenness corresponding to the shape of the wiring pattern occurs on the surface of the touch panel. There is. In this case, there is a problem that the desired flatness of the touch panel cannot be maintained and the commercial value is impaired.

また、パネル基板に加飾を施し、その上に光学両面テープを貼り付けた場合、加飾によって生じた段差の内側に気泡や空気層が発生することがあるので、パネル基板背面における加飾印刷層による段差を埋めるように紫外線硬化樹脂を充填して、パネル基板背面を平滑にすることによりパネル基板を歪みの無い平滑状に形成することが行われている。   In addition, if decoration is applied to the panel substrate and an optical double-sided tape is applied to it, bubbles or air layers may be generated inside the steps created by the decoration. A panel substrate is formed in a smooth state without distortion by filling an ultraviolet curable resin so as to fill a level difference between layers and smoothing the back surface of the panel substrate.

特開2014−000725号公報JP 2014-000725 A 特開2013−246885号公報JP 2013-246885 A 特開2001−202826号公報JP 2001-202826 A

ところで、薬液によるウエットエッチングプロセスでは、水シャワーやエッチング等の工程があるため、耐溶剤性や耐アルカリ性等のある樹脂や基板の選定が必須である。充分な耐性ではない場合は、膜密着性やシート抵抗値の導電性等に不具合が生じる。またウエットエッチングは工程数が多いことも歩留まり低下の要因となる。   By the way, in the wet etching process using a chemical solution, since there are steps such as water shower and etching, it is essential to select a resin or a substrate having solvent resistance or alkali resistance. If the resistance is not sufficient, problems such as film adhesion and conductivity of the sheet resistance value occur. In addition, a large number of steps in wet etching also causes a decrease in yield.

一方でレーザ加工はドライプロセスのためウエットプロセスに比べて樹脂や基板の選択に自由度があり、また、加工工程数も少ない。現行ウエットプロセスでは8工程必要であるのに対して、レーザでは1工程でパターニング可能となる。   On the other hand, since laser processing is a dry process, the resin and substrate can be selected more freely than the wet process, and the number of processing steps is small. While the current wet process requires 8 steps, the laser can pattern in one step.

しかしながら、従来の静電容量型タッチパネルでは、レーザ加工によってタッチパネルの透明電極層や配線層をパターニングする際に、透明パネル基板の背面の外縁部に黒色インクにより形成された加飾印刷層にダメージを受け外観を損なうなどの欠陥を生じてしまうという問題があった。 However, in the conventional capacitive touch panel, when the transparent electrode layer or wiring layer of the touch panel is patterned by laser processing, the decorative printed layer formed of black ink on the outer edge of the back surface of the transparent panel substrate is damaged. There has been a problem that defects such as the appearance of the receiver are impaired.

そこで、本発明の目的は、上述の如き従来の問題点に鑑み、レーザ加工によってタッチパネルの透明電極層や配線層をパターニングする際に、透明パネル基板の背面の外縁部に黒色インクにより形成された加飾印刷層に欠陥を生じることのない積層体、積層体の製造方法、静電容量型タッチパネル及び画像表示装置を提供することにある。   Therefore, in view of the conventional problems as described above, the object of the present invention is formed by black ink on the outer edge of the back surface of the transparent panel substrate when patterning the transparent electrode layer and the wiring layer of the touch panel by laser processing. It is providing the laminated body which does not produce a defect in a decorative printed layer, the manufacturing method of a laminated body, an electrostatic capacitance type touch panel, and an image display apparatus.

本発明のさらに他の目的、本発明によって得られる具体的な利点は、以下において図面を参照して説明される実施に形態から一層明らかにされるであろう。   Other objects of the present invention and specific advantages obtained by the present invention will become more apparent from the embodiments described below with reference to the drawings.

本発明では、加飾印刷層を赤外線吸収機能を有する平坦化樹脂層で被覆することにより、加飾印刷層に届く赤外線量を減らすことで,上記加飾印刷層のダメージを低減する。   In the present invention, the decorative print layer is covered with a planarizing resin layer having an infrared absorption function, thereby reducing the amount of infrared rays reaching the decorative print layer, thereby reducing the damage of the decorative print layer.

すなわち、本発明は、積層体であって、透明パネル基板と、上記透明パネル基板の背面の外縁部に形成された加飾印刷層と、上記透明パネル基板の上記加飾印刷層が形成された面上に、上記加飾印刷層と上記透明パネル基板に亘る領域を覆うように形成された赤外線吸収機能を有する平坦化樹脂層と、上記平坦化樹脂層の背面に形成され、配線層を有する透明電極層とを備えることを特徴とする。   That is, this invention is a laminated body, Comprising: The transparent panel board | substrate, the decorative printed layer formed in the outer edge part of the back surface of the said transparent panel board | substrate, and the said decorative printed layer of the said transparent panel board | substrate were formed. On the surface, a planarizing resin layer having an infrared absorption function formed so as to cover the region extending over the decorative printed layer and the transparent panel substrate, and a wiring layer formed on the back surface of the planarizing resin layer. And a transparent electrode layer.

本発明に係る積層体において、上記加飾印刷層は、例えば、上記透明パネル基板の背面の外縁部に直接形成されているものとすることができる。   In the laminate according to the present invention, the decorative print layer can be formed directly on the outer edge of the back surface of the transparent panel substrate, for example.

また、本発明に係る積層体において、上記加飾印刷層は、例えば、上記透明パネル基板の背面を覆うアンカー層を介して上記透明パネル基板の背面の外縁部に形成されているものとすることができる。   Moreover, the laminated body which concerns on this invention WHEREIN: The said decorative print layer shall be formed in the outer edge part of the back surface of the said transparent panel board | substrate through the anchor layer which covers the back surface of the said transparent panel board | substrate, for example. Can do.

また、本発明に係る積層体において、上記平坦化樹脂層は、例えば、波長1060nmにおける赤外線吸収量が4%〜30%であるものとすることができる。   Moreover, the laminated body which concerns on this invention WHEREIN: As for the said planarization resin layer, the infrared rays absorption amount in wavelength 1060nm shall be 4%-30%, for example.

さらに、本発明に係る積層体において、上記透明導電層は、例えば、銀ナノワイヤ―又はCuナノワイヤ―を含む材料からなるものとすることができる。   Furthermore, in the laminate according to the present invention, the transparent conductive layer may be made of a material containing, for example, silver nanowires or Cu nanowires.

本発明は、積層体の製造方法であって、透明パネル基板の背面の外縁部に加飾印刷層を形成し、上記透明パネル基板の上記加飾印刷層が形成された面上に、上記加飾印刷層と上記透明パネル基板に亘る領域を覆うように赤外線吸収機能を有する平坦化樹脂層を形成し、上記平坦化樹脂層の背面に、配線層を有する透明電極層を形成することにより積層体を構成し、上記積層体の上記加飾印刷層の背面上の上記配線層及び上記透明電極層をレーザ光源として赤外線レーザを用いたレーザ加工によりパターニングすることを特徴とする。   The present invention is a method for producing a laminate, wherein a decorative print layer is formed on an outer edge portion of the back surface of a transparent panel substrate, and the decorative print layer is formed on the surface of the transparent panel substrate. A flattened resin layer having an infrared absorption function is formed so as to cover a region extending from the decorative printed layer and the transparent panel substrate, and a transparent electrode layer having a wiring layer is formed on the back surface of the flattened resin layer. The wiring layer and the transparent electrode layer on the back surface of the decorative print layer of the laminate are patterned by laser processing using an infrared laser as a laser light source.

本発明は、静電容量型タッチパネルであって、透明パネル基板と、上記透明パネル基板の背面の外縁部に形成された加飾印刷層と、上記透明パネル基板の上記加飾印刷層が形成された面上に、上記加飾印刷層と上記透明パネル基板に亘る領域を覆うように形成された赤外線吸収機能を有する平坦化樹脂層と、上記平坦化樹脂層の背面に形成され、配線層を有する透明電極層とを備え、上記加飾印刷層の背面上の上記配線層及び上記透明電極層は、赤外線レーザを用いたレーザ加工によりパターニングされていることを特徴とする。   This invention is a capacitive touch panel, Comprising: A transparent panel board | substrate, the decorative printed layer formed in the outer edge part of the back surface of the said transparent panel board | substrate, and the said decorative printed layer of the said transparent panel board | substrate are formed. A planarizing resin layer having an infrared absorption function formed so as to cover a region extending over the decorative printed layer and the transparent panel substrate, and a wiring layer formed on the back surface of the planarizing resin layer. The wiring layer and the transparent electrode layer on the back surface of the decorative print layer are patterned by laser processing using an infrared laser.

また、本発明に係る静電容量型タッチパネルにおいて、上記加飾印刷層は、例えば、上記透明パネル基板の背面に直接積層されているものとすることができる。   Moreover, the electrostatic capacitance type touch panel which concerns on this invention WHEREIN: The said decorative printing layer shall be directly laminated | stacked on the back surface of the said transparent panel board | substrate, for example.

また、本発明に係る静電容量型タッチパネルにおいて、上記加飾印刷層は、例えば、上記透明パネル基板の背面を覆うアンカー層を介して積層されているものとすることができる。   Moreover, the electrostatic capacitance type touch panel which concerns on this invention WHEREIN: The said decorative printing layer shall be laminated | stacked through the anchor layer which covers the back surface of the said transparent panel board | substrate, for example.

また、本発明に係る静電容量型タッチパネルにおいて、上記平坦化樹脂層は、例えば、波長1060nmにおける赤外線吸収量が4%〜30%であるものとすることができる。   In the capacitive touch panel according to the present invention, the planarizing resin layer may have an infrared absorption amount of 4% to 30% at a wavelength of 1060 nm, for example.

さらに、本発明に係る静電容量型タッチパネルにおいて、上記透明導電層は、例えば、銀ナノワイヤ―又はCuナノワイヤ―を含む材料からなるものとすることができる。   Furthermore, in the capacitive touch panel according to the present invention, the transparent conductive layer may be made of a material containing, for example, silver nanowires or Cu nanowires.

本発明は、表示画面の全面に静電容量型タッチパネルを備える画像表示装置であって、上記静電容量型タッチパネルは、透明パネル基板と、上記透明パネル基板の背面の外縁部に形成された加飾印刷層と、上記透明パネル基板の上記加飾印刷層が形成された面上に、上記加飾印刷層と上記透明パネル基板に亘る領域を覆うように形成された赤外線吸収機能を有する平坦化樹脂層と、上記平坦化樹脂層の背面に形成され、配線層を有する透明電極層とを備えることを特徴とする。   The present invention is an image display device including a capacitive touch panel on the entire surface of a display screen, wherein the capacitive touch panel is formed on a transparent panel substrate and an outer edge portion of the back surface of the transparent panel substrate. A flattening having an infrared absorption function formed so as to cover a region extending over the decorative print layer and the transparent panel substrate on the surface on which the decorative print layer and the decorative print layer of the transparent panel substrate are formed. It is characterized by comprising a resin layer and a transparent electrode layer formed on the back surface of the planarizing resin layer and having a wiring layer.

また、本発明に係る画像表示装置において、上記加飾印刷層は、例えば、上記透明パネル基板の背面の外縁部に直接形成されているものとすることができる。   Moreover, the image display apparatus which concerns on this invention WHEREIN: The said decorating printing layer shall be directly formed in the outer edge part of the back surface of the said transparent panel board | substrate, for example.

また、本発明に係る画像表示装置において、上記加飾印刷層は、例えば、上記透明パネル基板の背面を覆うアンカー層を介して上記透明パネル基板の背面の外縁部に形成されているものとすることができる。   Moreover, the image display apparatus which concerns on this invention WHEREIN: The said decorating printing layer shall be formed in the outer edge part of the back surface of the said transparent panel board | substrate through the anchor layer which covers the back surface of the said transparent panel board | substrate, for example. be able to.

また、本発明に係る画像表示装置において、上記平坦化樹脂層は、例えば、波長1060nmにおける赤外線吸収量が4%〜30%であるものとすることができる。   In the image display device according to the present invention, the planarizing resin layer may have an infrared absorption amount of 4% to 30% at a wavelength of 1060 nm, for example.

さらに、本発明に係る画像表示装置において、上記透明導電層は、例えば、銀ナノワイヤ―又はCuナノワイヤ―を含む材料からなるものとすることができる。   Furthermore, in the image display device according to the present invention, the transparent conductive layer may be made of a material containing, for example, silver nanowires or Cu nanowires.

本発明では、加飾印刷層を赤外線吸収機能を有する平坦化樹脂層で被覆することにより、加飾印刷層に届く赤外線量を減らすことで,上記加飾印刷層のダメージを低減することができ、レーザ加工によってタッチパネルの透明電極層や配線層をパターニングする際に、透明パネル基板の背面の外縁部に黒色インクにより形成された加飾印刷層に欠陥を生じることのない積層体、積層体の製造方法、静電容量型タッチパネル及び画像表示装置を提供することができる。   In the present invention, by covering the decorative print layer with a planarizing resin layer having an infrared absorption function, the amount of infrared rays reaching the decorative print layer can be reduced, thereby reducing the damage of the decorative print layer. When patterning the transparent electrode layer or wiring layer of the touch panel by laser processing, a laminate that does not cause defects in the decorative printed layer formed of black ink on the outer edge of the back surface of the transparent panel substrate, A manufacturing method, a capacitive touch panel, and an image display device can be provided.

本発明の一実施の形態に係る静電容量型タッチパネルの構造を示す図である。(A)は、静電容量型タッチパネルの平面図であり、(B)は、(A)図のAA’線における断面図である。It is a figure which shows the structure of the capacitive touch panel which concerns on one embodiment of this invention. (A) is a top view of an electrostatic capacitance type touch panel, (B) is sectional drawing in the AA 'line | wire of (A) figure. 上記静電容量型タッチパネルの製造手順の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing procedure of the said capacitive touch panel. 上記製造手順の第1の工程乃至第4工程におけるトッププレートの形成過程を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the formation process of the top plate in the 1st process of the said manufacture procedure thru | or a 4th process. 上記製造手順の第5の工程乃至第8工程におけるトッププレートの形成過程を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the formation process of the top plate in the 5th process thru | or 8th process of the said manufacture procedure. 上記製造手順の第9の工程におけるトッププレートの形成過程を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the formation process of the top plate in the 9th process of the said manufacture procedure. トッププレートの加飾印刷層の視認性の評価を示す図である。It is a figure which shows evaluation of the visibility of the decorative printed layer of a top plate. 上記製造手順の第10の工程におけるトッププレートとボトムプレートの貼り合わせ過程を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the bonding process of the top plate and bottom plate in the 10th process of the said manufacture procedure. 静電容量型タッチパネルを備えるタッチパネル付き画像表示装置を示す図である。It is a figure which shows an image display apparatus with a touch panel provided with an electrostatic capacitance type touch panel.

以下、本発明を実施するための形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態のみに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の変更が可能であることはもちろんである。なお、図面における各部の寸法は、概略を示すものであって、特に断面図は、構造を明りょうに示すために厚さ方向に強調した寸法としている。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. It should be noted that the present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. In addition, the dimension of each part in drawing shows the outline, and especially sectional drawing is taken as the dimension emphasized in the thickness direction in order to show a structure clearly.

本発明は、例えば図1に示すような構造の静電容量型タッチパネル100に適用される。   The present invention is applied to, for example, a capacitive touch panel 100 having a structure as shown in FIG.

図1は、本発明に係る構造により構成した静電容量型タッチパネル100の構成例を示す図であり、(A)は静電容量型タッチパネル100の正面図を示し、(B)はそのAA’線断面図を示している。   FIG. 1 is a diagram showing a configuration example of a capacitive touch panel 100 configured by the structure according to the present invention, where (A) shows a front view of the capacitive touch panel 100 and (B) shows its AA ′. A line sectional view is shown.

この静電容量型タッチパネル100は、トッププレート11とボトムプレート12との積層体からなる。   The capacitive touch panel 100 includes a laminate of a top plate 11 and a bottom plate 12.

この静電容量型タッチパネル100において、トッププレート11は、透明パネル基板1と、この透明パネル基板1の背面を覆うアンダーコート層2を介して上記透明パネル基板1の背面の外縁部に形成された加飾印刷層3と、上記透明パネル基板1の背面側及び加飾印刷層3の背面側にわたって覆うように形成された赤外線吸収機能を有する平坦化樹脂層4と、上記平坦化樹脂層4の背面にオーバーコート層5を介して形成された配線層6Aを有する透明電極層6とからなる。   In this capacitive touch panel 100, the top plate 11 is formed on the outer edge portion of the back surface of the transparent panel substrate 1 through the transparent panel substrate 1 and the undercoat layer 2 covering the back surface of the transparent panel substrate 1. The decorative printed layer 3, the planarizing resin layer 4 having an infrared absorption function formed so as to cover the back side of the transparent panel substrate 1 and the back side of the decorative printed layer 3, and the planarizing resin layer 4 It consists of a transparent electrode layer 6 having a wiring layer 6A formed on the back surface via an overcoat layer 5.

なお、このトッププレート11は、上記透明パネル基板1の背面の外縁部に上記加飾印刷層3が直接形成されていてもよく、上記アンダーコート層2を省略した構造のものであってもよい。   The top plate 11 may have the decorative print layer 3 directly formed on the outer edge of the back surface of the transparent panel substrate 1 or may have a structure in which the undercoat layer 2 is omitted. .

また、ボトムプレート12は、透明パネル基板7と、この透明パネル基板7の全面に形成された配線層8Aを有する透明電極層8とからなる。   The bottom plate 12 includes a transparent panel substrate 7 and a transparent electrode layer 8 having a wiring layer 8A formed on the entire surface of the transparent panel substrate 7.

上記トッププレート11に形成されている配線層6Aを有する透明電極層6と、上記ボトムプレート12に形成されている配線層8Aを有する透明電極層8とは、上記トッププレート11の背面にボトムプレート12が張り合わされることにより、互いに対向するように設けられることによりセンサ部として機能する。透明電極層6,8から配線層6A,8Aを介して引き出された配線は、フレキシブルプリント基板(FPC)9を介して、外部回路との接続をとるようになっている。   The transparent electrode layer 6 having the wiring layer 6 </ b> A formed on the top plate 11 and the transparent electrode layer 8 having the wiring layer 8 </ b> A formed on the bottom plate 12 are formed on the back surface of the top plate 11. When 12 are bonded together, they are provided so as to face each other, thereby functioning as a sensor unit. Wiring drawn from the transparent electrode layers 6 and 8 through the wiring layers 6A and 8A is connected to an external circuit through a flexible printed circuit board (FPC) 9.

この静電容量型タッチパネル100は、例えば、図2の工程図に示す手順に従って第1の乃至第10の工程(S1〜S10)の処理を行うことにより製造される。   The capacitive touch panel 100 is manufactured, for example, by performing the processes of the first to tenth steps (S1 to S10) according to the procedure shown in the process diagram of FIG.

すなわち、先ず、第1の工程S1において、可撓性を有する透明パネル基板1の背面に、上記透明パネル基板1の背面全面を覆うアンカー層2を形成する(図3の(A)、(B)参照)。   That is, first, in the first step S1, the anchor layer 2 that covers the entire back surface of the transparent panel substrate 1 is formed on the back surface of the flexible transparent panel substrate 1 (FIGS. 3A and 3B). )reference).

次に、第2の工程S2において、透明パネル基板1の背面に、上記アンダーコート層2を介して上記透明パネル基板1の背面の外縁部に黒色インクにより加飾印刷層3を形成する(図3の(C)参照)。   Next, in the second step S2, the decorative printed layer 3 is formed on the back surface of the transparent panel substrate 1 with black ink on the outer edge portion of the back surface of the transparent panel substrate 1 via the undercoat layer 2 (FIG. 3 (C)).

なお、上記第1の工程S1を省略して、上記第2の工程S2において、上記透明パネル基板1の背面の外縁部に上記加飾印刷層3を直接形成するようにしてもよい。   In addition, the said 1st process S1 may be abbreviate | omitted and you may make it form the said decorating printing layer 3 in the outer edge part of the back surface of the said transparent panel board | substrate 1 directly in the said 2nd process S2.

次に、第3の工程S3において、上記加飾印刷層3が形成された可撓性を有する透明パネル基板2の背面における上記加飾印刷層3の段差の内側及び該加印刷飾層3の背面に赤外線吸収剤が添加された紫外線硬化樹脂を塗布して平坦化樹脂層4を形成する(図3の(D)参照)。   Next, in the third step S3, the inside of the step of the decorative print layer 3 on the back surface of the flexible transparent panel substrate 2 on which the decorative print layer 3 is formed, and the decorative print layer 3 A flattened resin layer 4 is formed by applying an ultraviolet curable resin to which an infrared absorber is added on the back surface (see FIG. 3D).

次に、第4の工程S4において、上記平坦化樹脂層4の背面全面にアンダーコート層2を形成する(図3の(E)参照)。   Next, in the fourth step S4, the undercoat layer 2 is formed on the entire back surface of the planarizing resin layer 4 (see FIG. 3E).

このようにして透明パネル基板1、加飾印刷層3、平坦化樹脂層4などからなるトッププレート材10Aを形成する。   In this way, the top plate material 10A composed of the transparent panel substrate 1, the decorative printing layer 3, the flattening resin layer 4, and the like is formed.

ここで、加飾印刷層3は、スマートフォンやタブレット端末等を構成する液晶画面の外縁部に形成され、タッチパネルを機能させる上で必要な電極や配線等が形成される領域を額縁領域として外部から視認できないように覆う目的で形成される層である。加飾印刷層3は、例えば、シルクスクリーン印刷によって、例えば2液型ウレタンインクを用いた有色インクを多層に重ね塗りして形成される。額縁領域に形成されている電極や配線等が透過しないように所定の厚さを塗布するためには、1回の塗布で厚塗りするのはムラになりやすいため、1回当たりの塗布層を薄くして複数回に分けて多層の印刷層を形成する必要がある。たとえば、光が透過しにくい濃色のインクの場合には、2回の塗布により印刷層を形成し、光が透過しやすい淡色(白色等)のインクの場合には、4回程度の重ね塗りを行う必要がある。1回当たりの塗布厚が8μm程度となる場合には、淡色インクの層は、32μm程度の厚さを有するものとされる。   Here, the decorative print layer 3 is formed on the outer edge portion of the liquid crystal screen that constitutes a smartphone, a tablet terminal, etc., and an area where electrodes, wirings, etc. necessary for functioning the touch panel are formed is used as a frame area from the outside. It is a layer formed for the purpose of covering so that it cannot be visually recognized. The decorative print layer 3 is formed by, for example, overlaying colored inks using, for example, a two-component urethane ink in multiple layers by silk screen printing. In order to apply a predetermined thickness so that the electrodes and wirings formed in the frame region do not pass through, it is easy to make a thick coating with a single application. It is necessary to form a multi-layered printing layer by thinning and dividing into multiple times. For example, in the case of dark ink that does not easily transmit light, a printing layer is formed by applying twice, and in the case of light color ink (such as white) that easily transmits light, it is applied approximately four times. Need to do. When the coating thickness per one time is about 8 μm, the light-color ink layer has a thickness of about 32 μm.

次の第5の工程S5では、図4の(A)に示すように、上記平坦化樹脂層4の背面と平坦基板30の平坦面を貼り合わせた状態で上記平坦化樹脂層4に加圧処理を施す。   In the next fifth step S5, as shown in FIG. 4A, the flattening resin layer 4 is pressed with the back surface of the flattening resin layer 4 and the flat surface of the flat substrate 30 bonded together. Apply processing.

具体的には、この第5の工程S5では、吸引機能を備えた天板20に平坦基板30として例えばガラスプレートを吸着しておき、上記平坦基板30とローラ21で上記トッププレート材10Aを挟み、上記ローラ21を矢印方向に転動させることにより、上記平坦基板30とトッププレート10Aを貼り合わせる貼合装置を用いて、上記透明パネル基板1側から上記平坦化樹脂層4に上記ローラ21により加圧処理を施す。   Specifically, in the fifth step S5, for example, a glass plate is adsorbed as the flat substrate 30 to the top plate 20 having a suction function, and the top plate material 10A is sandwiched between the flat substrate 30 and the roller 21. By rolling the roller 21 in the direction of the arrow, the roller 21 is applied to the planarizing resin layer 4 from the transparent panel substrate 1 side by using a bonding apparatus that bonds the flat substrate 30 and the top plate 10A. Apply pressure treatment.

このように、上記透明パネル基板1側から上記平坦化樹脂層4に上記ローラ21により加圧処理を施して上記平坦化樹脂層4に平坦基板30を貼合することにより、上記平坦化樹脂層4の背面には、上記平坦基板30の平坦面が転写され、上記平坦化樹脂層4の背面は、例えば上記平坦基板30として用いられる例えばガラスプレートの面精度、すなわち、平坦度や面粗度などを有する平坦面となる。   As described above, the flattening resin layer 4 is pressed by the roller 21 from the transparent panel substrate 1 side, and the flattening substrate 30 is bonded to the flattening resin layer 4. 4, the flat surface of the flat substrate 30 is transferred, and the back surface of the flattening resin layer 4 is, for example, the surface accuracy of, for example, a glass plate used as the flat substrate 30, that is, the flatness and the surface roughness. And so on.

また、上記透明パネル基板2側から上記平坦化樹脂層4に上記ローラ21により加圧処理を施して上記平坦化樹脂層4の背面に平坦基板30を貼合する際に、上記ローラ21の転動速度を所定の一定速度とすることにより、上記トッププレート1の加飾層3による段差部分に残存する気泡を少なくすることができる。   Further, when the flattening resin layer 4 is pressed by the roller 21 from the transparent panel substrate 2 side and the flat substrate 30 is bonded to the back surface of the flattening resin layer 4, By setting the moving speed to a predetermined constant speed, it is possible to reduce bubbles remaining in the stepped portion by the decorative layer 3 of the top plate 1.

次の第6の工程S6では、上記加圧処理が施された上記トッププレート材10Aの平坦化樹脂層4にさらにクレーブ処理を施す。   In the next sixth step S6, the flattening resin layer 4 of the top plate material 10A that has been subjected to the pressure treatment is further subjected to a clave treatment.

具体的には、この第6の工程S6では、上記天板20による平坦基板30の吸引を停止して、上記トッププレート材10Aを上記平坦基板30とともに上記天板20から離脱させ、オートクレーブ圧力釜に入れてクレーブ処理を施す。   Specifically, in the sixth step S6, the suction of the flat substrate 30 by the top plate 20 is stopped, the top plate material 10A is separated from the top plate 20 together with the flat substrate 30, and the autoclave pressure cooker is removed. And cleave.

上記加圧処理が施された上記トッププレート材10Aの加飾印刷層3による段差部分に残存する気泡は、クレーブ処理を施すことによりさらに少なくすることができ、上記加飾層3の内側の画像表示領域内に残存する気泡を無くすことができる。   Bubbles remaining in the stepped portion of the decorative printing layer 3 of the top plate material 10A subjected to the pressurizing treatment can be further reduced by performing a clave treatment, and the image inside the decorative layer 3 can be reduced. Bubbles remaining in the display area can be eliminated.

そして、次の第7の工程S7では、上記クレーブ処理が施された上記トッププレート材10Aの平坦化樹脂層4を硬化させる。   Then, in the next seventh step S7, the planarizing resin layer 4 of the top plate material 10A that has been subjected to the clave treatment is cured.

具体的には、この第7の工程S7では、図4の(B)に示すように、上記加圧処理及びクレーブ処理が施された上記トッププレート材10Aの平坦化樹脂層4に上記平坦基板30側から紫外線光源22により紫外線を照射して上記平坦化樹脂層4を硬化させる。   Specifically, in the seventh step S7, as shown in FIG. 4B, the flat substrate is applied to the flattening resin layer 4 of the top plate material 10A that has been subjected to the pressurizing process and the clave process. The planarizing resin layer 4 is cured by irradiating ultraviolet rays from the ultraviolet light source 22 from the 30 side.

ここで、上記平坦基板20には紫外線の透過率が高い透明なガラスプレートを用いることにより、上記平坦基板30側から紫外線を照射して上記平坦化樹脂層4を効率良く硬化させることができる。   Here, by using a transparent glass plate having a high ultraviolet transmittance for the flat substrate 20, the flattened resin layer 4 can be efficiently cured by irradiating ultraviolet rays from the flat substrate 30 side.

なお、上記平坦基板30には、上記ガラスプレートに代えて、例えば、離型処理を施した紫外線を通すポリカーボネート製基板又はやアクリル樹脂製基板などを用いることもできる。   The flat substrate 30 may be, for example, a polycarbonate substrate or an acrylic resin substrate through which ultraviolet rays subjected to mold release treatment pass, instead of the glass plate.

次の第8の工程S8では、硬化させた上記平坦化樹脂層4から上記平坦基板30を剥離する。   In the next eighth step S8, the flat substrate 30 is peeled off from the cured flattening resin layer 4.

なお、上記平坦基板30は、硬化した平坦化樹脂層4から剥離し易いように、基板材、例えば0.5mmから2mm以下の厚さのガラスプレートからなり、さらに、撥水剤や剥離剤を表面に塗布する離型処理が施されているものとすることが好ましい。   The flat substrate 30 is made of a substrate material, for example, a glass plate having a thickness of 0.5 mm to 2 mm or less, so that the cured flattening resin layer 4 can be easily peeled off. It is preferable that the mold release process applied to the surface is performed.

そして、次の第9の工程S9において、図5に示すように、上記トッププレート10Bの平坦化樹脂層4の背面に配線層6Aを有する透明電極層6を形成することにより、トッププレート11を完成する。   Then, in the next ninth step S9, as shown in FIG. 5, the top plate 11 is formed by forming the transparent electrode layer 6 having the wiring layer 6A on the back surface of the planarizing resin layer 4 of the top plate 10B. Complete.

具体的には、この第9の工程S9では、上記トッププレート10Bの平坦化樹脂層4の背面に、配線層6Aを有する透明電極層6を形成し(図5の(A),(B)参照)、さらに、図5の(C)に示すように、レーザ光源として赤外線レーザを用いたレーザ加工により配線層6Aを有する透明電極層6をパターニングすることによりトッププレート11を完成する。   Specifically, in the ninth step S9, the transparent electrode layer 6 having the wiring layer 6A is formed on the back surface of the planarizing resin layer 4 of the top plate 10B (FIGS. 5A and 5B). Further, as shown in FIG. 5C, the top plate 11 is completed by patterning the transparent electrode layer 6 having the wiring layer 6A by laser processing using an infrared laser as a laser light source.

このようにして、上記第1から第9の工程(S1〜S9)の処理により、図3の(A),(B)に示すような構造のトッププレート10Bが作られる。   In this manner, the top plate 10B having a structure as shown in FIGS. 3A and 3B is produced by the processes of the first to ninth steps (S1 to S9).

ここで、このような構造のトッププレート10Bについて、赤外線吸収剤の種類及び添加量を変えた紫外線硬化樹脂を用いてサンプルを作成して、加飾印刷層3の視認性を評価したところ、図6に示すような結果が得られた。   Here, with respect to the top plate 10B having such a structure, a sample was prepared using an ultraviolet curable resin in which the type and addition amount of the infrared absorbent were changed, and the visibility of the decorative printing layer 3 was evaluated. Results as shown in FIG. 6 were obtained.

平坦化樹脂層4を形成する紫外線硬化樹脂には、サンユレック株式社製 RL−9262樹脂を用い、添加する赤外線吸収剤として、BASF社製 LumogenIR765、日本化薬社製 IRG−022C,IRG−069、日本カーリット社製CIR−265を用いて各サンプルを作成し、レーザ加工機として片岡製作所社製ファイバーレーザ(1060±10nm)により、配線層6Aを有する透明電極層6をパターニングして、加飾印刷層3の視認性の評価を行った。   For the UV curable resin forming the planarizing resin layer 4, RL-9262 resin manufactured by Sanyu Rec Co., Ltd. is used, and as an infrared absorber to be added, Lumogen IR765 manufactured by BASF, IRG-022C, IRG-069 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Each sample is prepared using CIR-265 manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd., and the transparent electrode layer 6 having the wiring layer 6A is patterned using a fiber laser (1060 ± 10 nm) manufactured by Kataoka Manufacturing Co., Ltd. as a laser processing machine. The visibility of the layer 3 was evaluated.

視認性の評価は、光学顕微鏡の透過および落射を用いて、積層体の表面及び裏面をそれぞれ観測して加飾印刷層3において欠陥が検出できるか否かにより行った。   Visibility was evaluated based on whether or not defects could be detected in the decorative print layer 3 by observing the front and back surfaces of the laminate using transmission and incident light of an optical microscope.

赤外線吸収剤の添加量が0%のサンユレック株式社製 RL−9262樹脂により厚み10μmの平坦化樹脂層4を形成したサンプルを比較例1とした。   A sample in which the flattening resin layer 4 having a thickness of 10 μm was formed from RL-9262 resin manufactured by San Yulec Co., Ltd., in which the addition amount of the infrared absorber was 0%, was referred to as Comparative Example 1.

赤外線吸収剤の添加量が0%のサンユレック株式社製 RL−9262樹脂により厚み30μmの平坦化樹脂層4を形成したサンプルを比較例2とした。   A sample in which the planarizing resin layer 4 having a thickness of 30 μm was formed from RL-9262 resin manufactured by San Yulec Co., Ltd., in which the addition amount of the infrared absorbing agent was 0% was used as Comparative Example 2.

赤外線吸収剤としてBASF社製LumogenIR765を0.1%添加したサンユレック株式社製 RL−9262樹脂により厚み10μmの平坦化樹脂層4を形成したサンプルを比較例3とした。   A sample in which the flattening resin layer 4 having a thickness of 10 μm was formed by RL-9262 resin manufactured by Sanyu Rec Co., Ltd., to which 0.1% of BASF Lumogen IR765 was added as an infrared absorber was set as Comparative Example 3.

赤外線吸収剤としてBASF社製LumogenIR765を0.5%添加したサンユレック株式社製 RL−9262樹脂により厚み10μmの平坦化樹脂層4を形成したサンプルを比較例4とした。   A sample in which the flattened resin layer 4 having a thickness of 10 μm was formed by RL-9262 resin manufactured by Sanyu Rec Co., Ltd., to which 0.5% of Lumogen IR765 manufactured by BASF was added as an infrared absorber was set as Comparative Example 4.

赤外線吸収剤として日本化薬社製IRG−022Cを0.1%添加したサンユレック株式社製 RL−9262樹脂により厚み10μmの平坦化樹脂層4を形成したサンプルを比較例5とした。   A sample in which the flattening resin layer 4 having a thickness of 10 μm was formed by RL-9262 resin manufactured by Sanyu Rec Co., Ltd., in which 0.1% of IRG-022C manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. was added as an infrared absorber was set as Comparative Example 5.

赤外線吸収剤として日本化薬社製IRG−069を0.1%添加したサンユレック株式社製RL−9262樹脂により厚み10μmの平坦化樹脂層4を形成したサンプルを比較例6とした。   A sample in which the flattened resin layer 4 having a thickness of 10 μm was formed of RL-9262 resin manufactured by Sanyu Rec Co., Ltd., to which 0.1% of IRG-069 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. was added as an infrared absorber was set as Comparative Example 6.

赤外線吸収剤として日本カーリット社製CIR−265を0.1%添加したサンユレック株式社製RL−9262樹脂により厚み10μmの平坦化樹脂層4を形成したサンプルを比較例7とした。   A sample in which the flattened resin layer 4 having a thickness of 10 μm was formed by RL-9262 resin manufactured by Sanyu Rec Co., Ltd., to which 0.1% of CIR-265 manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd. was added as an infrared absorber was set as Comparative Example 7.

赤外線吸収剤としてBASF社製 LumogenIR765を1.0%添加したサンユレック株式社製 RL−9262樹脂により厚み10μmの平坦化樹脂層4を形成したサンプルを実施例1とした。   A sample in which the flattened resin layer 4 having a thickness of 10 μm was formed by using RL-9262 resin manufactured by Sanyu Rec Co., Ltd. to which 1.0% of Lumogen IR765 manufactured by BASF was added as an infrared absorber was defined as Example 1.

赤外線吸収剤としてBASF社製 LumogenIR765を5.0%添加したサンユレック株式社製RL−9262樹脂により厚み10μmの平坦化樹脂層4を形成したサンプルを実施例2とした。   A sample in which the flattened resin layer 4 having a thickness of 10 μm was formed of RL-9262 resin manufactured by Sanyu Rec Co., Ltd. to which 5.0% of Lumogen IR765 manufactured by BASF was added as an infrared absorber was set as Example 2.

赤外線吸収剤として日本化薬社製 IRG−022Cを1.0%添加したサンユレック株式社製RL−9262樹脂により厚み10μmの平坦化樹脂層4を形成したサンプルを実施例3とした。   A sample in which the flattening resin layer 4 having a thickness of 10 μm was formed from Sanurec Co., Ltd. RL-9262 resin to which 1.0% of IRG-022C manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. was added as an infrared absorber was defined as Example 3.

赤外線吸収剤として日本化薬社製 IRG−069を1.0%添加したサンユレック株式社製RL−9262樹脂により厚み10μmの平坦化樹脂層4を形成したサンプルを実施例4とした。   A sample in which the planarizing resin layer 4 having a thickness of 10 μm was formed from RL-9262 resin manufactured by Sanyu Rec Co., Ltd., to which 1.0% of IRG-069 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. was added as an infrared absorber was defined as Example 4.

赤外線吸収剤として日本カーリット社製CIR−265を1.0%添加したサンユレック株式社製RL−9262樹脂により厚み10μmの平坦化樹脂層4を形成したサンプルを実施例5とした。   A sample in which the flattened resin layer 4 having a thickness of 10 μm was formed from Sanurec Co., Ltd. RL-9262 resin to which 1.0% of CIR-265 manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd. was added as an infrared absorber was taken as Example 5.

比較例1〜7では、いずれもレーザ加工により加飾印刷層3に欠陥が生じ視認性に問題あった。   In Comparative Examples 1 to 7, all of the decorative print layers 3 were defective due to laser processing, and there was a problem in visibility.

これに対し、実施例1〜5では、いずれもレーザ加工により加飾印刷層3に欠陥が生じルことなく、良好な視認性が得られた。   On the other hand, in Examples 1 to 5, good visibility was obtained without any defects in the decorative print layer 3 caused by laser processing.

上記実施例1〜5にける平坦化樹脂層4は、赤外線吸収剤が添加されることにより波長1060nmにおける赤外線吸収量が4%〜30%になっている。   The planarization resin layer 4 in the above Examples 1 to 5 has an infrared absorption amount of 4% to 30% at a wavelength of 1060 nm by adding an infrared absorber.

そして、次の第10の工程S10において、図7の(A)に示すように、トッププレート11の背面とボトムプレート11の前面を対向させて、図7の(B)に示すように、上記トッププレート11とボトムプレート11を貼り合わせることにより、上記トッププレート11に形成されている配線層6Aを有する透明電極層7と、上記ボトムプレート12に形成されている配線層8Aを有する透明電極層8とがセンサ部として機能する静電容量型タッチパネル100を完成する。   Then, in the next tenth step S10, as shown in FIG. 7A, the back surface of the top plate 11 and the front surface of the bottom plate 11 face each other, and as shown in FIG. A transparent electrode layer 7 having a wiring layer 6A formed on the top plate 11 and a transparent electrode layer 8A having a wiring layer 8A formed on the bottom plate 12 by bonding the top plate 11 and the bottom plate 11 together. 8 completes the capacitive touch panel 100 that functions as a sensor unit.

なお、上記ボトムプレート12に形成されている配線層8Aを有する透明電極層8は、上記トッププレート11に形成されている配線層7Aを有する透明電極層7と同様に赤外線レーザを用いたレーザ加工により配線層6Aを有する透明電極層6をパターニングすることにより、微細配線パターンが形成されている。   The transparent electrode layer 8 having the wiring layer 8A formed on the bottom plate 12 is processed by laser using an infrared laser in the same manner as the transparent electrode layer 7 having the wiring layer 7A formed on the top plate 11. A fine wiring pattern is formed by patterning the transparent electrode layer 6 having the wiring layer 6A.

ここで、透明電極層6,7には、Ag若しくはCuナノワイヤ、ITO又はZnO等を含む材料が好適に用いられる。透明電極層6,7は、複数の配線から構成され、絶縁物をはさんで交差するように形成されて、静電容量が等価的に形成される。   Here, a material containing Ag or Cu nanowire, ITO, ZnO or the like is preferably used for the transparent electrode layers 6 and 7. The transparent electrode layers 6 and 7 are composed of a plurality of wirings, and are formed so as to cross each other with an insulator therebetween, so that the capacitance is equivalently formed.

また、透明パネル基板2の背面及び加飾印刷層3の背面にわたって全面を覆うように形成される平坦化樹脂層4の材料としては、紫外線硬化型インクに用いられる透明のアクリル系樹脂塗料あるいはウレタン系樹脂塗料等を用いることができる。より具体的には、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエステルウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリカーボネート(メタ)アクリレート、ポリカーボネートウレタン(メタ)アクリレート等を材質とする塗料を用いることができる。平坦化樹脂層4に用いる材料は、タッチパネルの光学特性に影響を及ぼさないように、拡散透過光の全光線透過光に対する割合であるヘイズが1%を超えないものがより好ましい。上述したように、淡色インクで加飾印刷を行う場合には、加飾層3は、32μm程度の厚さとなるので、たとえば35μm程度の厚さとなるように、透明パネル基板1の背面及び加飾印刷層3の背面にわたってアクリル系塗料を塗布して平坦化樹脂層4を形成すればよい。平坦化樹脂層4を形成するアクリル系塗料を塗布するには、シルクスクリーン印刷のほか、ダイコータを用いて直接塗布すればよい。このように平坦化樹脂層4の形成には、周知の塗布技術を用いることができるので、特殊な設備導入の必要がなく、加飾印刷層3の印刷工程に用いる設備と同じものを用いることができ、製造コストの低減が可能になる。平坦化樹脂層4の背面に透明電極層6Aを形成した場合に、この段差による配線切れを防止することもできる。   In addition, as a material of the flattening resin layer 4 formed so as to cover the entire back surface of the transparent panel substrate 2 and the back surface of the decorative print layer 3, a transparent acrylic resin paint or urethane used for ultraviolet curable ink is used. A resin paint or the like can be used. More specifically, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polyester urethane (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polycarbonate (meth) acrylate, polycarbonate urethane (meth) acrylate It is possible to use a paint made of such as a material. The material used for the flattening resin layer 4 is more preferably one whose haze, which is the ratio of diffusely transmitted light to total light transmitted, does not exceed 1% so as not to affect the optical properties of the touch panel. As described above, when decorative printing is performed with light ink, the decoration layer 3 has a thickness of about 32 μm, and thus, for example, the back surface and the decoration of the transparent panel substrate 1 have a thickness of about 35 μm. The planarizing resin layer 4 may be formed by applying an acrylic paint over the back surface of the printing layer 3. In order to apply the acrylic paint for forming the flattening resin layer 4, it may be applied directly using a die coater in addition to silk screen printing. Thus, since the well-known application | coating technique can be used for formation of the planarization resin layer 4, it is not necessary to introduce special equipment, and the same thing as the equipment used for the printing process of the decorative printing layer 3 should be used. Manufacturing costs can be reduced. When the transparent electrode layer 6 </ b> A is formed on the back surface of the planarizing resin layer 4, it is possible to prevent disconnection of wiring due to this step.

この静電容量型タッチパネル100におけるトッププレート11の平坦化樹脂層4は、赤外線吸収剤が添加された紫外線硬化樹脂等を硬化させた赤外線吸収機能を有する樹脂層であって、製造工程において、上記樹脂層を硬化させる前に、ガラスプレートなどの平坦面を有する平坦基板で平坦化樹脂層4の背面が覆われた状態で圧縮処理が施されることによって、上記平坦化樹脂層4の背面は、上記平坦基板の平坦面が転写され平坦面となっている。これにより、上記加飾印刷層3内の画像表示領域において、上記平坦化樹脂層4の背面の表面粗さが視認されてしまうことがなくなり、上記平坦化樹脂層4の背面の表面粗さが、この静電容量型タッチパネル100の品質を低下させることはない。この静電容量型タッチパネル100は、トッププレート1の背面の外縁部に形成された加飾印刷層3による段差をなくすための平坦化樹脂層4の背面の表面粗さが視認されてしまうことのない、高品質の静電容量型タッチパネルとなっている。   The flattening resin layer 4 of the top plate 11 in the capacitive touch panel 100 is a resin layer having an infrared absorption function obtained by curing an ultraviolet curable resin or the like to which an infrared absorber is added. Before the resin layer is cured, the back surface of the flattened resin layer 4 is subjected to a compression treatment in a state where the back surface of the flattened resin layer 4 is covered with a flat substrate having a flat surface such as a glass plate. The flat surface of the flat substrate is transferred to form a flat surface. Thereby, in the image display area in the decorative print layer 3, the surface roughness of the back surface of the flattening resin layer 4 is not visually recognized, and the surface roughness of the back surface of the flattening resin layer 4 is reduced. The quality of the capacitive touch panel 100 is not deteriorated. In this capacitive touch panel 100, the surface roughness of the back surface of the flattening resin layer 4 for eliminating a step due to the decorative printing layer 3 formed on the outer edge portion of the back surface of the top plate 1 is visually recognized. No high quality capacitive touch panel.

また、この静電容量型タッチパネル100におけるトッププレート11は、赤外線吸収機能を有する平坦化樹脂層4を備えることにより、製造工程において、加飾印刷層3の背面側から配線層6A及び透明電極層6を赤外線レーザを用いたレーザ加工によりパターニングしても、加飾印刷層3が赤外線レーザによって欠陥を生じることがなく、この静電容量型タッチパネル100の品質を低下させることはない。   Moreover, the top plate 11 in the capacitive touch panel 100 includes the planarizing resin layer 4 having an infrared absorption function, so that the wiring layer 6A and the transparent electrode layer are formed from the back side of the decorative printing layer 3 in the manufacturing process. Even if 6 is patterned by laser processing using an infrared laser, the decorative printed layer 3 does not cause defects due to the infrared laser, and the quality of the capacitive touch panel 100 does not deteriorate.

上記静電容量型タッチパネル100は、例えば図8に示すように液晶パネルなどの画像表示部200の前面に設置されることによりタッチパネル付き画像表示装置300を構成する。   For example, as shown in FIG. 8, the capacitive touch panel 100 is installed in front of an image display unit 200 such as a liquid crystal panel to constitute an image display device 300 with a touch panel.

11 トッププレート、1,7 透明パネル基板、2 アンカーコート層、3 加飾印刷層、4 平坦化樹脂層、5 オーバーコート層、6,8 透明電極層、6A,8A 配線層、12 ボトムプレート、100 静電容量型タッチパネル 11 Top plate, 1, 7 Transparent panel substrate, 2 Anchor coat layer, 3 Decorative printing layer, 4 Flattening resin layer, 5 Overcoat layer, 6, 8 Transparent electrode layer, 6A, 8A Wiring layer, 12 Bottom plate, 100 Capacitive touch panel

Claims (16)

透明パネル基板と、
上記透明パネル基板の背面の外縁部に形成された加飾印刷層と、
上記透明パネル基板の上記加飾印刷層が形成された面上に、上記加飾印刷層と上記透明パネル基板に亘る領域を覆うように形成された赤外線吸収機能を有する平坦化樹脂層と、
上記平坦化樹脂層の背面に形成され、配線層を有する透明電極層と
を備える積層体。
A transparent panel substrate;
A decorative print layer formed on the outer edge of the back surface of the transparent panel substrate;
On the surface of the transparent panel substrate on which the decorative printing layer is formed, a planarizing resin layer having an infrared absorption function formed so as to cover the region extending over the decorative printing layer and the transparent panel substrate,
A laminate comprising: a transparent electrode layer formed on a back surface of the planarizing resin layer and having a wiring layer.
上記加飾印刷層は、上記透明パネル基板の背面の外縁部に直接形成されていることを特徴とする請求項1記載の積層体。   The laminate according to claim 1, wherein the decorative print layer is directly formed on an outer edge portion of the back surface of the transparent panel substrate. 上記加飾印刷層は、上記透明パネル基板の背面を覆うアンカー層を介して上記透明パネル基板の背面の外縁部に形成されていることを特徴とする請求項1記載の積層体。   The laminate according to claim 1, wherein the decorative print layer is formed on an outer edge portion of the back surface of the transparent panel substrate via an anchor layer covering the back surface of the transparent panel substrate. 上記平坦化樹脂層は、波長1060nmにおける赤外線吸収量が4%〜30%であることを特徴とする請求項2または請求項3の何れか1項に記載の積層体。   4. The laminate according to claim 2, wherein the planarizing resin layer has an infrared absorption amount of 4% to 30% at a wavelength of 1060 nm. 5. 上記透明導電層は、銀ナノワイヤ―又はCuナノワイヤ―を含む材料からなることを特徴とする請求項4に記載の積層体。   The laminate according to claim 4, wherein the transparent conductive layer is made of a material containing silver nanowires or Cu nanowires. 透明パネル基板の背面の外縁部に加飾印刷層を形成し、
上記透明パネル基板の上記加飾印刷層が形成された面上に、上記加飾印刷層と上記透明パネル基板に亘る領域を覆うように赤外線吸収機能を有する平坦化樹脂層を形成し、
上記平坦化樹脂層の背面に、配線層を有する透明電極層を形成する
ことにより積層体を構成し、
上記構造体の上記加飾印刷層の背面上の上記配線層及び上記透明電極層をレーザ光源として赤外線レーザを用いたレーザ加工によりパターニングすることを特徴とする積層体の製造方法。
Form a decorative print layer on the outer edge of the back of the transparent panel substrate,
On the surface of the transparent panel substrate on which the decorative printing layer is formed, a planarizing resin layer having an infrared absorption function is formed so as to cover the region extending over the decorative printing layer and the transparent panel substrate,
A laminated body is formed by forming a transparent electrode layer having a wiring layer on the back surface of the planarizing resin layer,
A method for producing a laminate, wherein the wiring layer and the transparent electrode layer on the back surface of the decorative printed layer of the structure are patterned by laser processing using an infrared laser as a laser light source.
透明パネル基板と、
上記透明パネル基板の背面の外縁部に形成された加飾印刷層と、
上記透明パネル基板の上記加飾印刷層が形成された面上に、上記加飾印刷層と上記透明パネル基板に亘る領域を覆うように形成された赤外線吸収機能を有する平坦化樹脂層と、
上記平坦化樹脂層の背面に形成され、配線層を有する透明電極層と
を備え、
上記加飾印刷層の背面上の上記配線層及び上記透明電極層は、赤外線レーザを用いたレーザ加工によりパターニングされている静電容量型タッチパネル。
A transparent panel substrate;
A decorative print layer formed on the outer edge of the back surface of the transparent panel substrate;
On the surface of the transparent panel substrate on which the decorative printing layer is formed, a planarizing resin layer having an infrared absorption function formed so as to cover the region extending over the decorative printing layer and the transparent panel substrate,
A transparent electrode layer formed on the back surface of the planarizing resin layer and having a wiring layer;
The capacitance touch panel in which the wiring layer and the transparent electrode layer on the back surface of the decorative printing layer are patterned by laser processing using an infrared laser.
上記加飾印刷層は、上記透明パネル基板の背面に直接積層されていることを特徴とする請求項7記載の静電容量型タッチパネル。   The capacitive touch panel according to claim 7, wherein the decorative print layer is directly laminated on a back surface of the transparent panel substrate. 上記加飾印刷層は、上記透明パネル基板の背面を覆うアンカー層を介して積層されていることを特徴とする請求項7記載の静電容量型タッチパネル。   The capacitive touch panel according to claim 7, wherein the decorative printing layer is laminated via an anchor layer that covers a back surface of the transparent panel substrate. 上記平坦化樹脂層は、波長1060nmにおける赤外線吸収量が4%〜30%であることを特徴とする請求項8または請求項9の何れか1項に記載の静電容量型タッチパネル。   10. The capacitive touch panel according to claim 8, wherein the planarizing resin layer has an infrared absorption amount of 4% to 30% at a wavelength of 1060 nm. 上記透明導電層は、銀ナノワイヤ―又はCuナノワイヤ―を含む材料からなることを特徴とする請求項10に記載の静電容量型タッチパネル。   11. The capacitive touch panel according to claim 10, wherein the transparent conductive layer is made of a material containing silver nanowires or Cu nanowires. 表示画面の前面に静電容量型タッチパネルを備える画像表示装置であって、
上記静電容量型タッチパネルは、透明パネル基板と、上記透明パネル基板の背面の外縁部に形成された加飾印刷層と、上記透明パネル基板の上記加飾印刷層が形成された面上に、上記加飾印刷層と上記透明パネル基板に亘る領域を覆うように形成された赤外線吸収機能を有する平坦化樹脂層と、上記平坦化樹脂層の背面に形成され、配線層を有する透明電極層とを備える画像表示装置。
An image display device comprising a capacitive touch panel on the front of the display screen,
The capacitive touch panel has a transparent panel substrate, a decorative print layer formed on the outer edge of the back surface of the transparent panel substrate, and a surface on which the decorative print layer of the transparent panel substrate is formed. A planarizing resin layer having an infrared absorption function formed so as to cover the region extending over the decorative printing layer and the transparent panel substrate; a transparent electrode layer having a wiring layer formed on the back surface of the planarizing resin layer; An image display device comprising:
上記加飾印刷層は、上記透明パネル基板の背面の外縁部に直接形成されていることを特徴とする請求項12記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 12, wherein the decorative printing layer is directly formed on an outer edge portion of the back surface of the transparent panel substrate. 上記加飾印刷層は、上記透明パネル基板の背面を覆うアンカー層を介して上記透明パネル基板の背面の外縁部に形成されていることを特徴とする請求項12記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 12, wherein the decorative print layer is formed on an outer edge portion of the back surface of the transparent panel substrate via an anchor layer covering the back surface of the transparent panel substrate. 上記平坦化樹脂層は、波長1060nmにおける赤外線吸収量が4%〜30%であることを特徴とする請求項13または請求項14の何れか1項に記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 13, wherein the planarizing resin layer has an infrared absorption amount of 4% to 30% at a wavelength of 1060 nm. 上記透明導電層は、銀ナノワイヤ―又はCuナノワイヤ―を含む材料からなることを特徴とする請求項15に記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 15, wherein the transparent conductive layer is made of a material containing silver nanowires or Cu nanowires.
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