JP2015072439A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】薄型化した場合であっても表示性能に優れた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】互いに吸収軸を直交して配置された第１の偏光子１および第２の偏光子５と、第１の偏光子１および第２の偏光子５の間に配置された垂直配向モード液晶セル３と、第１の偏光子１と液晶セル３との間および第２の偏光子５と液晶セル３との間の一方に設けられた第１の光学異方性層２と、第１の偏光子１と液晶セル３との間および第２の偏光子５と液晶セル３との間の一方に設けられた第２の光学異方性層４と、を有し、第１の光学異方性層２および第２の光学異方性層４の少なくとも一方が、液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下であり、第１の光学異方性層が所定のレターデーションに関する関係式を満たし、第２の光学異方性層が所定のレターデーションに関する関係式を満たす、液晶表示装置。
【選択図】図１

Description

本発明は、垂直配向モード液晶セルを有する液晶表示装置に関する。

近年、液晶表示装置の薄型化が進んでおり、それに伴い使用される部材（例えば偏光板）の薄型化が求められている。偏光板の薄型化の方法として、例えば、偏光子自体や偏光子の保護フィルムを薄くする方法や、偏光子と液晶セルとの間に配置されていた保護フィルムや位相差フィルムをなくす方法等が挙げられる。

このような状況に対し、例えば、特許文献１には「偏光膜と液晶性分子から形成された光学異方性層とを有する偏光板であって、光学異方性層が偏光膜の表面に直接または配向膜を介して設けられていることを特徴とする偏光板。」が記載されている（［請求項１］）。

特開２００４−０５３７７０号公報

本発明者らは、特許文献１に記載のように光学フィルムの支持体をなくし、偏光膜に光学異方性層を形成した場合、液晶表示装置は薄くできるが、それだけでは表示性能（特に黒表示時での色付）が要求に対して劣る場合があることを見出した。

そこで、本発明は、薄型化した場合であっても表示性能に優れた液晶表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、薄型化のために液晶層（光学異方性層）を形成するために通常設けられる支持体をなくした場合、液晶セルを補償するための光学特性と偏光子を補償するための光学特性とを、第１の光学異方性層と第２の光学異方性層に機能分離することで、液晶表示装置を薄くした場合であっても、表示性能を良好なものとできることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

［１］ 互いに吸収軸を直交して配置された第１の偏光子および第２の偏光子と、
第１の偏光子および第２の偏光子の間に配置された垂直配向モード液晶セルと、
第１の偏光子と液晶セルとの間および第２の偏光子と液晶セルとの間の一方に設けられた第１の光学異方性層と、
第１の偏光子と液晶セルとの間および第２の偏光子と液晶セルとの間の一方に設けられた第２の光学異方性層と、を有し、
第１の光学異方性層および第２の光学異方性層の少なくとも一方が、液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下であり、
第１の光学異方性層が下記式（１−１−１）を満たし、
第２の光学異方性層が下記式（１−２−１）、（１−２−２）、（１−２−３）、（１−２−４）および（１−２−５）を満たす、液晶表示装置。
３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦３００ｎｍ 式（１−１−１）
５０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦２００ｎｍ 式（１−２−１）
４０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦２００ｎｍ 式（１−２−２）
Ｒｔｈ（５５０）≧（−１２／５）×Ｒｅ（５５０）＋２８０ｎｍ
式（１−２−３）
Ｒｔｈ（５５０）≦（−７／５）×Ｒｅ（５５０）＋３４０ｎｍ
式（１−２−４）
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０５ 式（１−２−５）
（Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。）
［２］ 第１の光学異方性層および第２の光学異方性層のうち、液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下である光学異方性層と、第１の偏光子または第２の偏光子とが隣接している、［１］に記載の液晶表示装置。
［３］ 第１の光学異方性層および第２の光学異方性層のうち、液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下である光学異方性層と、第１の偏光子または第２の偏光子とが、配向膜を介して積層されている、［１］に記載の液晶表示装置。
［４］ 第１の光学異方性層および第２の光学異方性層のうち、液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下である光学異方性層と、第１の偏光子または第２の偏光子とが、接着剤層または粘着剤層を介して積層されている、［１］に記載の液晶表示装置。
［５］ 第１の光学異方性層および第２の光学異方性層のうち、少なくとも第１の光学異方性層が、液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下である光学異方性層であり、
第１の光学異方性層が、下記式（２−１−１）および（２−１−２）を満たす、［１］〜［４］のいずれかに記載の液晶表示装置。
Ｒｅ（５５０）≦１０ｎｍ 式（２−１−１）
３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦２５０ｎｍ 式（２−１−２）
［６］ 第１の光学異方性層および第２の光学異方性層のうち、少なくとも第２の光学異方性層が、液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下である光学異方性層であり、
第１の光学異方性層が、下記式（３−１−１）を満たし、
第２の光学異方性層が、下記式（３−２−１）および（３−２−２）を満たす［１］〜［４］のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
１００ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦３００ｎｍ 式（３−１−１）
９０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１９０ｎｍ 式（３−２−１）
４０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１００ｎｍ 式（３−２−２）
［７］ 第１の光学異方性層が、液晶性化合物を含む光学異方性層である［６］に記載の液晶表示装置。
［８］ 第１の光学異方性層に含まれる液晶性化合物がディスコティック液晶性化合物であり、第１の光学異方性層が下記式（４−１−１）を満たす、［５］または［７］に記載の液晶表示装置。
０．９＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０（５５０）≦１．２ 式（４−１−１）
（Ｒｅ４０（λ）は、波長λｎｍにおける極角４０°から測定したレターデーションを表す。）
［９］ 第２の光学異方性層に含まれる液晶性化合物が棒状液晶性化合物である、［６］または［７］に記載の液晶表示装置。
［１０］ 第２の光学異方性層が下記式（５−２−１）を満たす、［９］に記載の液晶表示装置。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０ 式（５−２−１）
［１１］ 視認側から、第１の偏光子、第１の光学異方性層、液晶セル、第２の光学異方性層、および、第２の偏光子をこの順に有する［１］〜［１０］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［１２］ 視認側から、第１の偏光子、第２の光学異方性層、液晶セル、第１の光学異方性層、および、第２の偏光子をこの順に有する、［１］〜［１０］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［１３］ 第１の光学異方性層および第２の光学異方性層のいずれもが、第１の偏光子と液晶セルとの間および第２の偏光子と液晶セルとの間のいずれか一方の間のみに配置されている［１］〜［１０］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［１４］ 第１の光学異方性層および第２の光学異方性層が配置されていない側の偏光子が、粘着剤または接着剤を介して液晶セルに配置されている、［１３］に記載の液晶表示装置。
［１５］ 第１の偏光子および第２の偏光子の、液晶セルと反対側の少なくとも一方に、保護膜を有し、
保護膜の透湿度が１００ｇ／ｍ²／２４ｈ以下である、［１］〜［１４］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［１６］ 第１の光学異方性層および第２の光学異方性層の少なくとも一方の透湿度が、１００ｇ／ｍ²／２４ｈ以下である、［１］〜［６］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［１７］ 第１偏光子および第２の偏光子の、液晶セルと反対側の少なくとも一方に、ラミネートフィルムを有し、
ラミネートフィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が５０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下である、［１］〜［１６］のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
［１８］ 第１の偏光子および第２の偏光子の少なくとも一方の偏光子の厚さが２５μｍ以下である、［１］〜［１７］のいずれかに記載の液晶表示装置。

本発明によれば、薄型化した場合であっても表示性能に優れた液晶表示装置を提供することができる。

本発明の液晶表示装置の実施形態の例を示す模式的な断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
次に、本明細書で用いられる用語について説明する。

〔Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）〕
本明細書において、Ｒｅ（λ）、および、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、および、厚さ方向のレターデーションを表す。
Ｒｅ（λ）は、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡ ＷＲ（いずれも王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。

ここで、測定されるフィルムが、１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、上記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡ ＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡ ＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡ ＷＲが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、および入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）および式（Ｂ）よりＲｔｈを算出することもできる。

なお、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。また、式（Ａ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘおよびｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚である。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ・・・・・・・・・・・式（Ｂ）

また、本明細書において、Ｒｅ４０（λ）は、波長λｎｍにおける極角４０°から測定したレターデーションを表す。
また、角度の関係（例えば「直交」、「平行」、「９０°」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。具体的には、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。

〔透湿度〕
本明細書において、透湿度とは、ＪＩＳ Ｚ ０２０８：１９７６の「防湿包装材料の透湿度試験方法（カップ法）」に記載された手法に従い、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの雰囲気中、面積１ｍ²の試料を２４時間に通過する水蒸気の量（ｇ／ｍ²／ｄａｙ）をいう。

〔液晶表示装置〕
本発明の液晶表示装置は、互いに吸収軸を直交して配置された第１の偏光子および第２の偏光子と、第１の偏光子および第２の偏光子の間に配置された垂直配向モード液晶セルと、第１の偏光子と液晶セルとの間および第２の偏光子と液晶セルとの間の一方に設けられた第１の光学異方性層と、第１の偏光子と液晶セルとの間および第２の偏光子と液晶セルとの間の一方に設けられた第２の光学異方性層と、を有し、第１の光学異方性層および第２の光学異方性層の少なくとも一方が、液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下であり、第１の光学異方性層および第２の光学異方性層が、特定の光学特性の関係になっている液晶表示装置である。

本発明においては、上述した通り、第１の偏光子および第２の偏光子と、第１の光学異方性層および第２の光学異方性層と、垂直配向モード液晶セルとを有する液晶表示装置が、液晶表示装置を薄型化した場合であっても表示性能が良好なものとなる。

次に、本発明の液晶表示装置の全体の構成について図１を用いて説明した後に、各構成について詳述する。

図１は、本発明の液晶表示装置の実施形態の例を示す模式的な断面図である。
図１に示す液晶表示装置１０は、第１の偏光子１、第２の偏光子５、第１の光学異方性層２、第２の光学異方性層４、および、垂直配向モード液晶セル３を有する。第１の偏光子１の吸収軸と、第２の偏光子５の吸収軸は直交している。

また、液晶表示装置１０は、図１（Ａ）に示すように、第１の偏光子１、第１の光学異方性層２、垂直配向モード液晶セル３、第２の光学異方性層４、第２の偏光子５の順に積層されているのが好ましい。ここで、第１の光学異方性層２と、第２の光学異方性層４は入れ替わっていてもよい。

また、液晶表示装置１０は、図１（Ｂ）に示すように、第１の偏光子１、第１の光学異方性層２、第２の光学異方性層４、垂直配向モード液晶セル３、第２の偏光子５の順に積層されていても良い。ここで、第１の光学異方性層２と、第２の光学異方性層４は入れ替わっていてもよい。さらに、第１の光学異方性層および第２の光学異方性層が、第２の偏光子５と、垂直配向モード液晶セル３の間に配置されていてもよい。

また、液晶表示装置１０は、図１（Ｃ）に示すように、第１の偏光子１の垂直配向モード液晶セル３と反対側に、保護膜６を有していてもよい。また、第１の偏光子１の垂直配向モード液晶セル３と反対側に、ラミネートフィルム７を有していてもよい。
ここで、本発明においては、第２の偏光子５の直配向モード液晶セル３と反対側に、保護膜６およびラミネートフィルム７の少なくとも一方または両方を有していてもよく、第１の偏光子１および第２の偏光子５の垂直配向モード液晶セル３と反対側の両方に、保護膜６およびラミネートフィルム７の少なくとも一方または両方を有していてもよい。

〔光学異方性層〕
本発明の液晶表示装置は、第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する。
また、第１の光学異方性層および第２の光学異方性層の少なくとも一方が、液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下である。
また、第１の光学異方性層は下記式（１−１−１）を満たし、第２の光学異方性層は下記式（１−２−１）、（１−２−２）、（１−２−３）、（１−２−４）および（１−２−５）を満たす。
・３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦３００ｎｍ 式（１−１−１）
・５０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦２００ｎｍ 式（１−２−１）
・４０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦２００ｎｍ 式（１−２−２）
・Ｒｔｈ（５５０）≧（−１２／５）×Ｒｅ（５５０）＋２８０ｎｍ
式（１−２−３）
・Ｒｔｈ（５５０）≦（−７／５）×Ｒｅ（５５０）＋３４０ｎｍ
式（１−２−４）
・Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０５ 式（１−２−５）

＜第１の態様＞
｛第１の光学異方性層｝
本発明に用いられる第１の光学異方性層が液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下である光学異方性層である場合（第１の態様）は、第１の光学異方性層は下記式（２−１−１）および（２−１−２）を満たすことが好ましい。
・Ｒｅ（５５０）≦１０ｎｍ 式（２−１−１）
・３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦２５０ｎｍ 式（２−１−２）
ここで、Ｒｅ（５５０）は６ｎｍ以下を満たすことがより好ましく、３ｎｍ以下を満たすことが更に好ましい。
また、Ｒｔｈ（５５０）は５０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦２４０ｎｍを満たすことがより好ましく、７０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦２３０ｎｍを満たすことが更に好ましい。

第１の光学異方性層に含まれる液晶性化合物は後述するディスコティック液晶性化合物であることが好ましい。

｛第２の光学異方性層｝
第１の態様において、第２の光学異方性層のＲｅ（５５０）は６０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１８０ｎｍを満たすことがより好ましく、６５ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１７０ｎｍを満たすことが更に好ましい。
同様に、第１の態様において、第２の光学異方性層のＲｔｈ（５５０）は４５ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１９５ｎｍを満たすことがより好ましく、５０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１９０ｎｍを満たすことが更に好ましい。
第２の光学異方性層は、後述するポリマーフィルムを含む光学異方性層であることが好ましい。

＜第２の態様＞
｛第１の光学異方性層｝
本発明に用いられる第２の光学異方性層が液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下である光学異方性層である場合（第２の態様）は、第１の光学異方性層は下記式（３−１−１）を満たすことが好ましい。
・１００ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦３００ｎｍ 式（３−１−１）
ここで、Ｒｔｈ（５５０）は１２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦２８０ｎｍを満たすことがより好ましく、１４０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦２７０ｎｍを満たすことが更に好ましい。

第１の光学異方性層は、後述するディスコティック液晶性化合物を含む光学異方性層であっても、後述するポリマーフィルムを含む光学異方性層であってもよい。

｛第２の光学異方性層｝
第２の態様において、第２の光学異方性層は下記式（３−２−１）および（３−２−２）を満たすことが好ましい。
・９０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１９０ｎｍ 式（３−２−１）
・４０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１００ｎｍ 式（３−２−２）
ここで、Ｒｅ（５５０）は１００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１８０ｎｍを満たすことがより好ましく、１０５ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１７０ｎｍを満たすことが更に好ましい。
また、Ｒｔｈ（５５０）は４５ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦９０ｎｍを満たすことがより好ましく、５０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦８５ｎｍを満たすことが更に好ましい。

第２の光学異方性層に含まれる液晶性化合物は後述する棒状液晶性化合物であることが好ましい。

＜光学異方性層に用いられる部材＞
次に、本発明に用いられる光学異方性層に用いられる部材について説明する。

｛液晶性化合物｝
本発明に用いられる第１の光学異方性層および第２の光学異方性層の少なくとも一方は液晶性化合物を含む光学異方性層である。
液晶性化合物を含む光学異方性層が配置される側の偏光子と液晶セルとの間には、液晶性化合物を含む光学異方性層以外に、位相差を持つ部材が存在しないことが好ましい。
液晶性化合物は、各種公知のディスコティック液晶性化合物、棒状液晶性化合物を用いることができる。

光学異方性層に液晶性化合物が含まれる場合は、光学異方性層の厚さは１０μｍ以下であり、７μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましい。

〈ディスコティック液晶性化合物〉
本発明に用いられるディスコティック液晶性化合物は各種公知のものを用いることができる。ディスコティック液晶性化合物の例には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ、Ａ、７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．、１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。具体的には特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１５１］〜「０１６８」、特開２０１３−５４２０１号公報の[００２０]〜[００３６]に記載のもの等を用いることができる。

光学異方性層にディスコティック液晶性化合物が含まれる場合は、光学異方性層は下記式（４−１−１）を満たすことが好ましい。
・０．９＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０（５５０）≦１．２ 式（４−１−１）
ここで、Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０（５５０）は０．９５＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０（５５０）≦１．１９を満たすことがより好ましく、０．９９＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０（５５０）≦１．１８を満たすことが更に好ましい。

〈棒状液晶性化合物〉
本発明に用いられる棒状液晶性化合物は各種公知のものを用いることができる。
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
その他、国際公開第２０１３／０１８５２６号の［００２５］〜［０１８３］に記載のもの等を用いることができる。

光学異方性層に棒状液晶性化合物が含まれる場合は、光学異方性層は下記式（５−２−１）を満たすことが好ましい。
・Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０ 式（５−２−１）
ここで、Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０（５５０）はＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜０．９８を満たすことがより好ましく、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜０．９６を満たすことが更に好ましい。

〈ボロン酸化合物〉
本発明において、偏光子上に液晶性化合物を含む光学異方性層を直接形成する際、偏光子と光学異方性層の密着性を高めるため、光学異方性層に、液晶性化合物とともにボロン酸化合物を用いてもよい。

本発明に用いることができるボロン酸化合物としては、例えば、少なくとも一つのボロン酸基、もしくは、ボロン酸エステル基を有する化合物を表し、且つ、それらを配位子とした金属錯体や、４配位の硼素原子を有するボロニウムイオンも同時に表し、特開２０１３−０５４２０１号公報、段落番号［００４０］〜［００５３］に記載のものを用いることができる。

光学異方性層中におけるボロン酸化合物の含有量の好ましい範囲は、光学異方性層中（層形成前の組成物においては、組成物の溶媒を除く全固形分中）、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましく、０．０５〜１質量％であるのがさらに好ましい。

｛ポリマーフィルム｝
本発明に用いられるポリマーフィルムは各種公知のポリマーフィルムを用いることができ、具体的にはセルロースアシレート系フィルム、（メタ）アクリル樹脂系フィルム、ポリエステル樹脂系フィルム、シクロオレフィン系樹脂フィルム等が挙げられる。

ポリマーフィルムの厚みは２５０μｍ以下が好ましく、２００μｍ以下がより好ましく、１５０μｍ以下が更に好ましい。下限は特に限定されないが、一般的に１０μｍ以上である。

ポリマーフィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度は１００ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であることが好ましく、８０以下であることがより好ましく、６０以下であることが更に好ましい。透湿度がこの値を満たすポリマーフィルムとしては、（メタ）アクリル樹脂系フィルム、ポリエステル樹脂系フィルム、シクロオレフィン系樹脂フィルム等が挙げられる。

なお、（メタ）アクリル系樹脂は、メタクリル系樹脂とアクリル系樹脂の両方を含む概念であり、アクリレート／メタクリレートの誘導体、特にアクリレートエステル／メタクリレートエステルの（共）重合体も含まれる。
さらに、上記（メタ）アクリル系樹脂は、メタクリル系樹脂、アクリル系樹脂の他に、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体も含み、ラクトン環を有する重合体、無水コハク酸環を有する無水マレイン酸系重合体、無水グルタル酸環を有する重合体、グルタルイミド環含有重合体を含む。

ポリエステル系樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましい。

本発明に用いることができるシクロオレフィン系樹脂フィルムは各種公知のものを用いることができ、具体的には特開２００６−１８８６７１号公報の段落［００３０］〜［０１４４］に記載のもの等を用いることができる。

本発明に用いることができるセルロースアシレート系フィルムとしては、各種公知のものを用いることができ、具体的には特開２０１２−０７６０５１号公報に記載のもの等を用いることができる。

本発明に用いられるポリマーフィルムは、必要に応じて各種添加剤を含有することができる。添加剤の具体例としては、紫外線吸収剤、可塑剤、マット剤微粒子等が挙げられ、各種公知のものを使用できる。本発明のポリマーフィルムが添加剤を含有する場合、添加剤の総量は、ポリマーフィルムの樹脂に対して５〜５０質量％であることが好ましく、５〜４０質量％であることがより好ましく、５〜３０質量％であることが更に好ましい。

＜光学異方性層の作成方法＞
本発明に用いられる光学異方性層は各種公知の方法で作成することができる。

｛液晶性化合物を含む光学異方性層の作成方法｝
本発明に用いられる液晶性化合物を含む光学異方性層は、偏光子に液晶性化合物を含む組成物を塗布して偏光子上に直接作成することが好ましい。ここで、偏光子上に配向膜を作成してからその上に光学異方性層を作成してもよい。また、別の仮支持体を用意し、仮支持体上で液晶性化合物を含む光学異方性層を作成し、光学異方性層を仮支持体から剥離し、偏光子と光学異方性層とを粘着剤または接着剤を介して配置する転写方式で作成してもよい。

液晶性化合物を含む光学異方性層を、偏光子上に塗布または転写方式で作成することで、偏光子と光学異方性層とが隣接した構成（図１参照）、あるいは、偏光子と光学異方性層とが、配向膜または接着剤もしくは粘着剤を介して積層された構成とすることができる。
これらの構成では、液晶性化合物を含む通常光学フィルムが有する支持体をなくすことができ、液晶表示装置の薄型化に有効である。また温湿度変化によって発生する液晶表示装置の表示ムラを低減することに有効である。

偏光子が高温になることによる偏光子性能の劣化、しわ等を低減できる理由から、液晶性化合物を偏光子上で配向、硬化させる場合は、配向、硬化時の温度を、偏光子のガラス転移温度以下で行うことが好ましい。

｛ポリマーフィルムを含む光学異方性層の作成方法｝
本発明に用いられるポリマーフィルムを含む光学異方性層は各種公知の方法で作成できる。

〔偏光子〕
本発明に用いられる偏光子は各種公知のものを用いることができ、具体的にはポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムにヨウ素を吸着させたヨウ素偏光子、二色性有機色素を用いた偏光子などが挙げられる。

＜偏光子の厚さ＞
偏光子の厚さは、２５μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましく、１７μｍ以下が更に好ましい。膜厚の制御は公知の方法で制御することができ、例えば流延工程におけるダイスリット幅や、延伸条件を適切な値に設定することで制御できる。
偏光子の厚さを薄くできる観点から、仮支持体上にＰＶＡ溶液を塗布し、仮支持体ごとヨウ素を吸着、延伸した塗布型偏光子も好ましい。塗布型偏光子は例えば、特許第４６９１２０５号公報や特許第４７５１４８１号公報に記載の塗布法を用いた製造方法により形成することができる。

〔保護膜〕
本発明の液晶表示装置は、図１（Ｃ）でも示した通り、任意の保護膜を有していてもよい。
本発明に用いられる保護膜は各種公知のものを用いることができ、具体的には上述したポリマーフィルムなどが挙げられる。

高温高湿環境経時中に偏光板内へ入る水の量を抑制し、液晶パネルの反り等による表示ムラを抑制できる等の理由から、保護膜の４０℃、相対湿度９０％における透湿度は１００ｇ／ｍ²・日以下であることが好ましく、８０以下であることがより好ましく、６０以下であることが更に好ましい。
保護膜の透湿度を下げるために、ポリマーフィルムに透湿度の低い部材による低透湿層を設けることも好ましい。透湿度の低い部材としては（メタ）アクリル樹脂系フィルム、ポリエステル樹脂系フィルム、シクロオレフィン系樹脂フィルムなどが挙げられる。

保護膜には更に、各種目的に応じて機能層を設けてもよい。機能層としてはハードコート層、アンチグレア層、低反射層などが挙げられる。

〔ラミネートフィルム〕
本発明の液晶表示装置は、図１（Ｃ）でも示した通り、任意のラミネートフィルムを有していてもよい。
本発明に用いられるラミネートフィルムは各種公知のものを用いることができる。ラミネートフィルムは液晶表示装置の視認側および／または、バックライト側最表面に配置され、使用時には剥離される。
液晶表示装置の輸送時において、液晶表示装置への水分の侵入による悪影響を低減できる等の理由から、ラミネートフィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度は５０ｇ／ｍ²・日以下であることが好ましく、４０以下であることがより好ましく、３０以下であることが更に好ましい。

〔輝度向上フィルム〕
本発明の液晶表示装置は、輝度向上フィルムと組み合わせて使用することができる。輝度向上フィルムは、円偏光もしくは直線偏光の分離機能を有しており、偏光板とバックライトとの間に配置され、一方の円偏光もしくは直線偏光をバックライト側に後方反射もしくは後方散乱する。バックライト部からの再反射光は、部分的に偏光状態を変化させ、輝度向上フィルムおよび偏光板に再入射する際、部分的に透過するため、この過程を繰り返すことにより光利用率が向上し、正面輝度が１．４倍程度に向上する。輝度向上フィルムとしては異方性反射方式および異方性散乱方式が知られており、いずれも本発明における用いられる偏光板と組み合わせることができる。

また、本発明では国際公開第９７／３２２２３号パンフレット、国際公開第９７／３２２２４号パンフレット、国際公開第９７／３２２２５号パンフレット、国際公開第９７／３２２２６号パンフレットの各明細書および特開平９−２７４１０８号、同１１−１７４２３１号の各公報に記載された正の固有複屈折性ポリマーと負の固有複屈折性ポリマーとをブレンドして一軸延伸した異方性散乱方式の輝度向上フィルムと組み合わせて使用することも好ましい。異方性散乱方式輝度向上フィルムとしては、ＤＲＰＦ−Ｈ（３Ｍ社製）が好ましい。

〔液晶セル〕
本発明に用いられる液晶セルは、垂直配向モードの液晶セルであり、各種公知のものが使用できる

垂直配向モードの液晶セルのΔｎ・ｄは２５０ｎｍ≦Δｎ・ｄ≦４００ｎｍであることが好ましい。ここで、Δｎは垂直配向モードの液晶セルに用いられている液晶材料の複屈折を、ｄはセル液晶層の厚みを表す。

一画素を複数の領域に分割するマルチドメインと呼ばれる構造にすると上下左右の視野角特性が平均化され表示品質が向上するので好ましい。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

〔液晶表示装置の構成〕
各実施例、比較例の液晶表示装置作製において、偏光子、光学異方性層、液晶セルの積層順は下記のようにし、表２〜表６に記載した。なお、表２〜６中、「Ｒｅ／Ｒｔｈ」はＲｅおよびＲｔｈの各々の値を示し、「波長分散」はＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）の値を示す。
・構成Ｉ：視認側から第１の保護膜、第１の偏光子、第１の光学異方性層、液晶セル、第２の光学異方性層、第２の偏光子、第２の保護膜
・構成ＩＩ：視認側から第１の保護膜、第１の偏光子、第２の光学異方性層、液晶セル、第１の光学異方性層、第２の偏光子、第２の保護膜
・構成ＩＩＩ：視認側から第１の保護膜、第１の偏光子、液晶セル、第１の光学異方性層、第２の光学異方性層、第２の偏光子、第２の保護膜
・構成ＩＶ：視認側から第１の保護膜、第１の偏光子、第２の光学異方性層、第１の光学異方性層、液晶セル、第２の偏光子、第２の保護膜
・構成Ｖ：視認側から第１の保護膜、第１の偏光子、液晶セル、第２の光学異方性層、第１の光学異方性層、第２の偏光子、第２の保護膜
・構成ＶＩ：視認側から第１の保護膜、第１の偏光子、第１の光学異方性層、第２の光学異方性層、液晶セル、第２の偏光子、第２の保護膜

［実施例１］
〔保護膜の作製〕
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液（ドープ）を調製した。
（セルロースアセテート溶液（ドープ）の組成）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・セルロースアセテート １００質量部
（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０）
・トリフェニルホスフェート ８．０質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート ４．０質量部
・チヌビン３２８ チバ・ジャパン製 １．０質量部
・チヌビン３２６ チバ・ジャパン製 ０．２質量部
・メチレンクロライド ３６９質量部
・メタノール ８０質量部
・１−ブタノール ４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

得られたドープを３０℃に加温し、流延ギーサーを通して直径３ｍのドラムである鏡面ステンレス支持体上に流延した。支持体の表面温度は−５℃に設定した。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部の終点部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースエステルフィルムをドラムから剥ぎ取った後、両端をピンテンターでクリップした。剥ぎ取り直後のセルロースエステルウェブの残留溶媒量は７０％およびセルロースエステルウェブの膜面温度は５℃であった。

ピンテンターで保持されたセルロースエステルウェブは、乾燥ゾーンに搬送した。初めの乾燥では４５℃の乾燥風を送風した。次に１１０℃で５分、さらに１４０℃で１０分乾燥した。これを保護膜０１とした。

得られたフィルムの厚さは６０μｍであり、透湿度は６００ｇ／ｍ²／２４ｈであった。また、Ｒｅ(５５０)＝１．５ｎｍ、Ｒｔｈ(５５０)＝４０ｎｍであった。屈折率はｎｘ＝１．４８とした。

〔ハードコート層の作製〕
ハードコート層形成用の塗布液として、下記表１に記載のハードコート用硬化性組成物ハードコート１を調製した。

上記ハードコート１を、上記にて作製した保護膜０１の表面上へ塗布し、その後、１００℃で６０秒乾燥し、窒素０．１％以下の条件でＵＶを１．５ｋＷ、３００ｍＪにて照射し、硬化させ、厚み５μｍのハードコート層を有するハードコート層付保護膜０１を作製した。なお、ハードコート層の膜厚の調整は、スロットダイを用い、ダイコート法において塗布量を調整することにより行った。

〔片面保護膜付偏光板の作製〕
＜フィルムのケン化＞
作製したハードコート層付保護膜０１を３７℃に調温した４．５ｍｏｌ/Ｌの水酸化ナトリウム水溶液（ケン化液）に１分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、更に水洗浴に通した。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、ケン化処理したハードコート層付保護膜０１を作製した。
＜偏光子の作製＞
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸し、幅１３３０ｍｍ、厚みは１５μｍの偏光子を調製した。このようにして作製した偏光子を偏光子１とした。
＜貼り合わせ＞
このようにして得た偏光子１と、前記ケン化処理したハードコート層付保護膜０１とを、ＰＶＡ（（株）クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、偏光軸とフィルムの長手方向とが直交するようにロールツーロールで貼りあわせて視認側片面保護膜付き偏光板０１を作製した。
このとき、保護膜のセルロースアシレートフィルム側が、偏光子側になるように貼り合わせた。

〔片面保護膜付偏光板の作製２〕
視認側片面保護膜付き偏光板０１の作製において、保護膜０１の表面上へハードコート層を設けなかった以外は同様にしてバックライト側片面保護膜付き偏光板０１を作製した。なお、下記実施例および比較例では特に断りのない場合は視認側に視認側片面保護膜付き偏光板０１をバックライト側にバックライト側片面保護膜付き偏光板０１を用いて各偏光板を作製した。

〔第１の光学異方性層〕
下記化合物３−１〜３−６をメチルエチルケトンに溶解して固形分濃度が３６．２％になるように調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ディスコティック液晶性化合物３−１ ９１．０質量部
・化合物３−２ ９．０質量部
・重合開始剤：化合物３−３ ３．０質量部
・重合開始剤：化合物３−４ １．０質量部
・含フッ素界面活性剤：化合物３−５ ０．８質量部
・密着向上剤：化合物３−６ ０．５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

〔偏光板の作製〕
塗布液を上記作製した片面保護膜付き偏光板０１の偏光子側の面に、＃４．４のワイヤーバーを用いて塗布し、乾燥した。７０℃で９０秒加熱して、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。その後、ただちに７０℃の温度条件で、２９０ｍＪ/ｃｍ²の紫外線を照射して、ディスコティック液晶性化合物を重合させ、配向状態を固定し、第１の光学異方性層を形成した。形成した光学異方性層の厚みは２μｍであった。光学異方性層の厚みはレーザー膜厚計にて計測した。

〔光学特性の計測〕
第１の光学異方性層をガラス基板上に実施例と同条件で形成させ、光学異方性層のみのレターデーションを測定した。屈折率は１．５８３とした。結果を表２に示す。

〔第２の光学異方性層の作製〕
特開２００９−０６３９８３の実施例に記載のフィルム試料Ｎｏ．１１１を作製において延伸温度、倍率を変え、膜厚５３μｍ、Ｒｅ（５５０）＝１１０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１２０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８３の第２の光学異方性層を作製した。屈折率はｎｘ＝１．４８とした。

〔偏光板の作製〕
前記保護膜０１と同様の条件でケン化処理した第２の光学異方性層を、上記作製した片面保護膜付き偏光板０１の偏光子側の面に（すなわち偏光子１を挟むように）、ＰＶＡ（（株）クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、偏光子吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とが直交するようにロールツーロールで貼りあわせて偏光板を作製した。

〔液晶表示装置の作製〕
市販の垂直配向モード液晶表示装置（ＵＮ４０ＥＨ６０３０Ｆ、Ｓａｍｓｕｎｇ社製）の表裏の偏光板を剥がして、上記作成した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を互いの吸収軸が直交するように貼り合わせて実施例１の液晶表示装置を作製した。

〔液晶表示装置の評価〕
作製した液晶表示装置を下記の方法で評価し、その結果を表２に記載した。
＜正面コントラストの評価＞
暗室内で液晶表示装置の黒表示時に測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ ＸＬ８８、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて正面方向の黒輝度及び白輝度を計測した。白輝度／黒輝度を正面コントラストとした。
（評価基準）
Ａ：正面コントラストが３０００以上
Ｂ：正面コントラストが３０００未満

＜斜め光漏れ、色味の評価＞
｛光漏れの評価｝
暗室内で液晶表示装置の黒表示時に測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ ＸＬ８８、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて黒輝度を計測した。極角６０°における方位角４５°、１３５°、２２５°、３１５°における輝度の平均値を光漏れＹとして評価した。なお、偏光子の吸収軸は特に断りのない限り、視認側を方位角０°、バックライト側を方位角９０°に配置している。
（評価基準）
Ａ： Ｙ ＜ ０．６（ｃｄ/ｍ^２）
Ｂ：０．６（ｃｄ/ｍ^２）≦ Ｙ ＜ ０．８（ｃｄ/ｍ^２）
Ｃ：０．８（ｃｄ/ｍ^２）≦ Ｙ

｛色変化の評価｝
暗室内で液晶表示装置の黒表示時に測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ ＸＬ８８、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて色度を計測した。具体的には極角６０°における方位角０°から３４５°まで１５°刻みで色度ｕ’、ｖ’を算出し、各々ｕ’、ｖ’の最小値（ｕ’ｍｉｎ、ｖ’ｍｉｎ）、最大値（ｕ’ｍａｘ、ｖ’ｍａｘ）を抜き出し、以下の式で色変化Δｕ’ｖ’を評価した。
Δｕ’ｖ’＝√（（ｕ’ｍａｘ - ｕ’ｍｉｎ）^２＋（ｖ’ｍａｘ - ｖ’ｍｉｎ）^２）
（評価基準）
Ａ：Δｕ’ｖ’ ＜ ０．１
Ｂ：０．１ ≦ Δｕ’ｖ’ ＜ ０．１４
Ｃ：０．１４ ≦ Δｕ’ｖ’

＜表示ムラの評価＞
作製した液晶表示装置について、４０℃相対湿度９５％で２４時間サーモ後、２５℃相対湿度６０％で液晶表示装置のバックライトを点灯し、点灯から５〜１０時間後のパネルについて、その四隅の光漏れを、輝度計測用カメラ「ＰｒｏＭｅｔｒｉｃ」（Ｒａｄｉａｎｔ Ｉｍａｇｉｎｇ社製）で画面正面から黒表示画面を撮影し、全画面の平均輝度と、４角の光漏れが大きい箇所の輝度差をもとにして、評価した。
｛表示ムラの評価基準｝
Ａ：パネル４角の光漏れが視認されない（パネルの光漏れがサーモ投入前と同程度）。
Ｂ：パネル４角のうち、１〜２角でわずかな光漏れが視認されるが許容できる。
Ｃ：パネル４角のうち、３〜４角でわずかな光漏れが視認されるが許容できる。
Ｄ：パネル４角の光漏れが強く、許容できない。
また、２５℃相対湿度６０％で液晶表示装置のバックライトを５時間点灯の代わりに、４０℃ＤＲＹ環境で２時間サーモ後、２５℃相対湿度６０％で液晶表示装置のバックライトを２４時間点灯として同様の評価を実施したが、光漏れ量や表示ムラの評価結果は２５℃相対湿度６０％で２時間放置の場合と同様であった。

［実施例２］
〔第１の光学異方性層、偏光板の作製〕
＃５．０のワイヤーバーを用いて塗布した以外は実施例１と同様に第１の光学異方性層および第１の光学異方性層を有する偏光板を作製した。

〔第２の光学異方性層の作製〕
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ｂを調製した。
（セルロースアシレート溶液Ｂの組成）
――――――――――――――――――――――――――――――――
・セルロースアセテート（置換度２．４６） １００．０質量部
・化合物Ａ０１ １９．０質量部
・メチレンクロライド ３６５．５質量部
・メタノール ５４．６質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
０１：化合物Ａはテレフタル酸／コハク酸／プロピレンクリコール／エチレングリコール共重合体（共重合比[モル％]＝２７．５／２２．５／２５／２５）を表す。

下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ｃを調製した。
（セルロースアシレート溶液Ｃの組成）
――――――――――――――――――――――――――――――――
・セルロースアセテート（置換度２．７９） １００．０質量部
・化合物Ａ０１ １１．０質量部
・シリカ微粒子 Ｒ９７２（日本エアロジル製） ０．１５質量部
・メチレンクロライド ３９５．０質量部
・メタノール ５９．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
０１：化合物Ａはテレフタル酸／コハク酸／プロピレンクリコール／エチレングリコール共重合体（共重合比[モル％]＝２７．５／２２．５／２５／２５）を表す。

前記セルロースアシレート溶液Ｂを膜厚９０μｍのコア層になるように、前記セルロースアシレート溶液Ｃを膜厚２μｍのスキンＡ層および膜厚２μｍのスキンＢ層になるように、それぞれ流延した。
得られたウェブ（フィルム）をバンドから剥離し、乾燥させた後に巻き取った。この時、フィルム全体の質量に対する残留溶媒量が０〜０．５％であった。続いて、前記フィルムを送り出し、テンターにて１９０℃で７５％のＴＤ延伸を行うことにより、膜厚４０μｍの第２の光学異方性層を作製した。光学特性を測定し、Ｒｅ（５５０）＝１００ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１００ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０２であった。屈折率はｎｘ＝１．４８とした。

〔偏光板の作製〕
上記第２の光学異方性層を用いた以外は実施例１と同様にして偏光板を作製した。

〔液晶表示装置の作製、評価〕
上記の偏光板を用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

［実施例３］
〔合成例１〕
＜スピロ［フルオレン−９,８'−トリシクロ［４.３.０.１^2,5］[３]デセン］（ｅｎｄo体、下記式（Ａ）参照）の合成）

滴下ロートを取り付けた１０００ｍｌフラスコにフルオレン１５．５２ｇ（０．０９３４ｍｏｌ）をはかり取り、系内を窒素置換した。これに脱水ＴＨＦ １６５ｍｌを加え、スターラーにてよく攪拌して溶解させた。次にｎ−ブチルリチウムの１．６ｍｏｌ／ｌヘキサン溶液１１７ｍｌを反応系の温度をドライアイスバス中で−７８℃に保ちながら徐々に滴下した。滴下終了後、反応系を−７８℃に保持しつつ、１時間攪拌を継続した。この反応液中に、２ｅｎｄｏ，３ｅｎｄｏ−ビス−（トルエン−４−スルホニルオキシ）−５−ノルボルネン（（Ｂ）、endo）２１．６０gを予め脱水ＴＨＦ ５００ｍｌに溶解させたものを、反応系の温度を−７８℃に保ちながら徐々に滴下した。滴下終了後、ドライアイスバス中で１時間攪拌を継続し、その後、冷却バスを取りのぞき、反応系が完全に室温に戻るまで攪拌を継続した（約３時間）。これに、食塩水を添加してクエンチした後、反応液を蒸留水で３回洗浄を行い、硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。その後、減圧、加熱して溶媒を除去し、得られた結晶をメタノールを用いて再結晶させ、薄黄色の結晶として、上記式（Ａ）で表されるスピロ［フルオレン−９,８'−トリシクロ［４.３.０.１^2,5］[３]デセン］（ｅｎｄｏ体）５．６８ｇを得た。

〔重合体合成例１〕
ノルボルネン系単量体（Ｉｍ）として、上記構造式（Ａ）で表されるスピロ［フルオレン−９,８'−トリシクロ［４.３.０.１^2,5］[３]デセン］（ｅｎｄｏ体）１．９０ｇ、下記式（Ｃ）で表される８−メトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ［４.４.０.１^2,5.１^7,10］−３−ドデセン５．５ｇ、分子量調節剤の１−ヘキセン ０．３９１ｇ、および、トルエン １６．４ｇを、窒素置換した反応容器に仕込み、８０℃に加熱した。これにトリエチルアルミニウム（０．６モル／Ｌ）のトルエン溶液０．１６９ｍｌ、メタノール変性ＷＣｌ6のトルエン溶液（０．０２５モル／Ｌ）０．１３８ｍｌを加え、８０℃で３時間反応させることにより開環共重合体溶液を得た。得られた開環共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は１０．０×１０4であり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は４．８０であった。

次いで得られた開環共重合体溶液をオートクレーブに入れ、さらにトルエンを８３．８ｇ加えた。水添触媒であるＲｕＨＣｌ(ＣＯ)[Ｐ(Ｃ₆Ｈ₅)]₃をモノマー仕込み量に対して２５００ｐｐｍ添加し、水素ガス圧を９〜１０ＭＰａとし、１６０〜１６５℃にて３時間の反応を行った。反応終了後、多量のメタノール溶液に沈殿させることにより水素添加物を得た。得られた開環共重合体の水素添加物（樹脂（Ｐ１））は、重量平均分子量（Ｍｗ）＝９．１５×１０⁴、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝３．７６、固有粘度［η］＝０．６３、ガラス転移温度（Ｔｇ）＝１８４．０℃であった。

また、樹脂（Ｐ１）におけるスピロ［フルオレン−９,８'−トリシクロ［４.３.０.１^2,5］[３]デセン］（ｅｎｄｏ体）に由来する構造単位（Ｉ）の割合が２０．６モル％、８−メトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ［４.４.０.１^2,5.１^7,10］−３−ドデセンに由来する構造単位（II）の割合が７９．４モル％であった。また、樹脂（Ｐ１）を¹Ｈ−ＮＭＲにより分析した結果、オレフィン性二重結合に対する水素添加率は９９％以上であり、また、芳香環の残存率は実質的に１００％であった。

〔第２の光学異方性層の作製〕
上記の合成例１で得た樹脂（Ｐ１）を塩化メチレンキャスト法により厚さ１５０μｍ、溶媒残留量０．２％以下の無色透明なキャストフィルムを得た。このフィルムをテンター内で、Ｔｇ＋１０℃である１９４℃に加熱し、延伸速度２２０％／分でＴＤ方向に５０％、ＭＤ方向に５％延伸した後、冷却して取り出し第２の光学異方性層を得た。屈折率はｎｘ＝１．５２として光学特性を測定した。

〔偏光板の作製〕
上記第２の光学異方性層上に、下記組成のＵＶ硬化接着剤を、マイクログラビアコーター（グラビアロール：＃３００、回転速度１４０％／ライン速）を用いて、厚さ５μｍになるように塗工した接着剤付きフィルムとした。
次いで、この接着剤付きフィルムを、上記ポリビニルアルコール接着剤に浸漬した偏光子１に、前記保護膜０１、前記光学異方性層とともにロール機で貼り合わせた。

（ＵＶ硬化接着剤の組成）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・２−ヒドロキシエチルアクリレート １００質量部
・ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート
（サートマージャパン（株）製、商品名ＳＲ３５５） １１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

貼り合わせたフィルムの両側から、電子線を照射して、偏光子の両側にフィルムを有する偏光板２００６を得た。ライン速度は２０ｍ／ｍｉｎ、加速電圧は２５０ｋＶ、照射線量は２０ｋＧｙとした。

上記第２の光学異方性層を有する偏光板を用いた以外は実施例１と同様に液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

［実施例４］
〔合成例２〕
上記式（Ｃ）で表される８−メトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ［４.４.０.１^2,5.１^7,10］−３−ドデセン５０ｇ、分子量調節剤の１−ヘキセン３．６ｇおよびトルエン１００ｇを、窒素置換した反応容器に仕込み、８０℃に加熱した。これにトリエチルアルミニウム（０．６モル／Ｌ）のトルエン溶液０．０９ｍｌ、メタノール変性ＷＣｌ6のトルエン溶液（０．０２５モル／Ｌ）０．２９ｍｌを加え、８０℃で３時間反応させることにより重合体を得た。次いで、実施例１と同様にして水素添加反応を行い、水素添加を得た。得られた開環重合体の水素添加物（樹脂（Ｐ２））は、ガラス転移温度（Ｔｇ）＝１６７℃、重量平均分子量（Ｍｗ）＝５．６×１０⁴、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝３．２０であった。

〔第２の光学異方性層の作製〕
上記の合成例２で得た樹脂（Ｐ２）を塩化メチレンキャスト法により厚さ８０μｍ、溶媒残留量０．２％以下の無色透明なキャストフィルムを得た。このフィルムをテンター内で、Ｔｇ＋１０℃である１９４℃に加熱し、延伸速度２２０％／分でＴＤ方向に９０％、ＭＤ方向に１０％延伸した後、冷却して取り出し第２の光学異方性層を得た。屈折率はｎｘ＝１．５２として光学特性を測定した。

上記作成した第２の光学異方性層を使用した以外は実施例３と同様にして偏光板を作製した。

上記第２の光学異方性層を有する偏光板を用いた以外は実施例１と同様に液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

［実施例５］
〔第１の光学異方性層、偏光板の作製〕
＃６．０のワイヤーバーを用いて塗布した以外は実施例１と同様に第１の光学異方性層及び第１の光学異方性層を有する偏光板を作製した。

〔第２の光学異方性層、偏光板の作製〕
国際公開第２０１３／０１８５２６号公報に記載の化合物１を１ｇ、光重合開始剤（商品名：イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）を３０ｍｇ、界面活性剤（商品名：ＫＨ−４０、ＡＧＣセイミケミカル社製）の１％シクロペンタノン溶液１００ｍｇを２．３ｇのシクロペンタノンに溶解させた。この溶液を０．４５μｍの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、液晶組成物を得た。

前記液晶組成物を、♯４のワイヤーバーを使用してＴＤ方向にラビング処理した片面保護膜付き偏光板０１の偏光子側の面上に塗布した。塗膜を１１０℃で３０秒間乾燥し、膜厚２μｍの液晶層を形成した。その後、液晶層の塗布面側から２０００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し偏光板を得た。

〔光学特性の計測〕
第１の光学異方性層をガラス基板上に実施例と同条件で形成させ、光学異方性層のみのレターデーションを測定した。屈折率は１．５３とした。結果を表２に示す。

〔液晶表示装置の作製、評価〕
上記の偏光板を用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

［実施例６］
〔第１の光学異方性層の作製〕
ゼオノア１４３０Ｒ（ノルボルネン系開環重合体水素化物、日本ゼオン社製、Ｔｇ１３８℃）のペレットを単軸押出機（三菱重工社製：シリンダー内径が９０ｍｍ、スクリューのＬ／Ｄが２５）で温度２４０℃で溶融し、厚さ８０μｍの透明樹脂を得た。次いでゾーン加熱の縦一軸（ＭＤ）延伸装置とテンター延伸（横一軸（ＴＤ）延伸）装置に順次送り込んで逐次二軸延伸を行い、厚さ４０μｍの第１の光学異方性層を得た。延伸温度は縦延伸、横延伸のいずれも１４０℃、延伸倍率はＭＤ方向に３０％、ＴＤ方向に３０％とした。屈折率はｎｘ＝１．５２として光学特性を測定した。

〔偏光板の作製〕
上記作成した第１の光学異方性層を使用した以外は実施例３と同様にして偏光板を作製した。

〔液晶表示装置の作製、評価〕
上記の偏光板を用いた以外は実施例５と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

［比較例１］
〔第２の光学異方性層の作製〕
片面保護膜付き偏光板０１の偏光子側の面に、偏光子の吸収軸と直交方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に下記光学異方性層用塗布液Ａを、バー番手＃２．４のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度６０℃で３０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第２の光学補異方性層を形成した。形成された第２の光学異方性層は、棒状液晶が水平配向しており、遅相軸方向はラビング方向に平行、すなわち、遅相軸方向が偏光子の吸収軸方向に対して直交していた。このとき、光学異方性層の厚みは１μｍであった。

（位相差層用塗布液Ａの組成）
───────────────────────────────────
・棒状液晶性化合物１ ８０質量部
・棒状液晶性化合物２ ２０質量部
・光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
・増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
・含フッ素化合物Ａ ０．８質量部
・メチルエチルケトン ２３４質量部
───────────────────────────────────

棒状液晶性化合物１

棒状液晶性化合物２

含フッ素化合物Ａ

〔光学特性の計測〕
第１の光学異方性層をガラス基板上に実施例と同条件で形成させ、光学異方性層のみのレターデーションを測定した。屈折率は１．５３とした。結果を表２に示す。

〔液晶表示装置の作製、評価〕
上記の偏光板を用いた以外は実施例５と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

［比較例２］
〔第１の光学異方性層および第２の光学異方性層の作製〕
＜ドープ調製＞
下記に記載の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、ドープを調製した。

（ドープ組成）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・セルロースアセテート（置換度２．８１） １００質量部
・トリフェニルホスフェート ６．８質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート ４．９質量部
・レターデーション発現剤Ｒ−１ ４．０質量部
・平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子
（ａｅｒｏｓｉｌ Ｒ９７２日本アエロジル（株）製） ０．１５質量部
・ジクロロメタン ４２９．７質量部
・メタノール ６４．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――

（レターデーション発現剤Ｒ−１）

＜セルロースアシレートフィルムの作製＞
バンド流延装置を用い、前記調製したドープを２０００ｍｍ幅でステンレス製のエンドレスバンド（流延支持体）に流延ダイから均一に流延した。ドープ中の残留溶媒量が４０質量％になった時点で流延支持体から高分子膜として剥離し、テンターにて積極的に延伸をせずに搬送し、乾燥ゾーンで１３０℃で乾燥を行った後、得られた未延伸フィルムの膜厚は７０μｍ、ガラス転移温度Ｔｇは１４２℃であった。
また、上記と同様の方法で流延を行い、流延支持体から剥離した高分子膜の両端をクリップを有したテンターで固定して、幅方向（ＴＤ方向）に延伸し、搬送ながら乾燥ゾーンで１３０℃で乾燥し、耳部をスリットして幅１５００ｍｍのフィルムを得た。テンターで延伸を始めたときの高分子膜中の残留溶剤量は１０質量％であった。ここで、搬送方向（ＭＤ方向）については、ステンレスバンドと流延支持体の回転速度とテンターの運動速度から算出すると、搬送により若干延伸された。延伸時の温度は１４０℃、ＭＤ方向の延伸倍率を１．０２、ＴＤ方向の延伸倍率を１．３０になるようにした。
作製した光学異方性層はＲｅ（５５０）＝５０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１１５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０２であった。屈折率はｎｘ＝１．４８とした。

〔偏光板の作製〕
上記光学異方性層を用いた以外は実施例１の第２の光学異方性層を有する偏光板と同様にして偏光板を作製した。

上記の偏光板を用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

［比較例３］
〔第２の光学異方性層の作製〕
下記の組成物をミキシングタンクに投入し攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープを調製した。
（コア層セルロースアシレートドープの組成）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．４３のセルロースアセテート １００質量部
・下記レターデーション調整剤 ６質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ６２５質量部
・メタノール（第２溶剤） ９３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

（レターデーション調整剤）

＜マット剤分散液の調製＞
次に上記方法で調製したコア層セルロースアシレートドープを含む、下記成分を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。
（マット剤分散液の組成）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ０．２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７２．４質量部
・メタノール（第２溶剤） １０．８質量部
・コア層セルロースアシレートドープ １０．３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――

コア層セルロースアシレートドープを１００質量部、及び上記マット剤分散液を、セルロースアシレートに対してシリカ微粒子が０．０２質量部となる量で混合し、製膜用ドープを調製した。

＜セルロースアシレートフィルムの作製＞
前記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、２００℃の温度でテンターにて５０％の延伸倍率で横延伸し、パスロールを搬送させ１２０℃２０分間乾燥させ巻き取り、第２の光学異方性層を作製した。膜厚は２５μｍ、Ｒｅ（５５０）＝１１０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１２０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０６であった。屈折率はｎｘ＝１．４８とした。

〔偏光板の作製〕
上記光学異方性層を用いた以外は実施例１の第２の光学異方性層を有する偏光板と同様にして偏光板を作製した。

上記の偏光板を用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

［比較例４］
〔第１の光学異方性層〕
下記の組成物をミキシングタンクに投入し攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープを調製した。
（コア層セルロースアシレートドープの組成）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ５質量部
・下記レターデーション調整剤 ７質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ５５５質量部
・メタノール（第２溶剤） ８３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

（レターデーション調整剤）

＜マット剤分散液の調製＞
次に上記方法で調製したコア層セルロースアシレートドープを含む、下記成分を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。
（マット剤分散液の組成）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ０．２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７２．４質量部
・メタノール（第２溶剤） １０．８質量部
・コア層セルロースアシレートドープ １０．３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――

コア層セルロースアシレートドープを１００質量部、及び上記マット剤分散液を、セルロースアシレートに対してシリカ微粒子が０．０２質量部となる量で混合し、製膜用ドープを調製した。

＜セルロースアシレートフィルムの作製＞
前記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、パスロールを搬送させ１２０℃２０分間乾燥させ巻き取り、第１の光学異方性層を作製した。膜厚は６５μｍ、Ｒｅ（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１３５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０８であった。屈折率はｎｘ＝１．４８とした。

〔偏光板の作製〕
上記第１の光学異方性層を用いた以外は実施例１の第２の光学異方性層を有する偏光板と同様にして第１の光学異方性層を有する偏光板を作製した。

上記の偏光板を用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

［実施例７］
〔第１の光学異方性層、偏光板の作製〕
下記化合物をメチルエチルケトンに溶解して固形分濃度が３０．６％になるように調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ディスコティック液晶性化合物４−１ ７２．０質量部
・ディスコティック液晶性化合物４−２ １８．０質量部
・ディスコティック液晶性化合物３−１ １０．０質量部
・重合開始剤：化合物３−３ ３．０質量部
・重合開始剤：化合物３−４ １．０質量部
・含フッ素界面活性剤：化合物３−５ ０．８質量部
・密着向上剤：化合物３−６ ０．１質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――

（化合物４−１）

（化合物４−２）

塗布液を上記で作製した片面保護膜付き偏光板０１の偏光子側の面に、＃３．４のワイヤーバーを用いて塗布し、乾燥した。８０℃で９０秒加熱して、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。その後、ただちに８０℃の温度条件で、２９０ｍＪ/ｃｍ²の紫外線を照射して、ディスコティック液晶性化合物を重合させ、配向状態を固定し、第１の光学異方性層を形成した。形成した光学異方性層の厚みは２μｍであった。光学異方性層の厚みはレーザー膜厚計にて計測した。

〔光学特性の計測〕
第１の光学異方性層をガラス基板上に実施例と同条件で形成させ、光学異方性層のみのレターデーションを測定した。屈折率は１．５８３とした。結果を表２に示す。

上記の偏光板を用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

［実施例８］
〔第１の光学異方性層、偏光板の作製〕
＃４．０のワイヤーバーを用いて塗布した以外は実施例７と同様に作製した。

上記の偏光板を用いた以外は実施例２と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

［実施例９］
実施例７で作製した第１の光学異方性層およびその偏光板を用いた以外は実施例３と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

［実施例１０］
実施例７で作製した第１の光学異方性層およびその偏光板を用いた以外は実施例４と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

［実施例１１］
〔第１の光学異方性層、偏光板の作製〕
＃５．０のワイヤーバーを用いて塗布した以外は実施例７と同様に作製した。

上記の偏光板を用いた以外は実施例５と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

［実施例１２］
〔第２の光学異方性層の作製〕
＜合成例３＞
合成例１と同様に得た上記式（Ａ）で表されるスピロ［フルオレン−９,８'−トリシクロ［４.３.０.１^2,5］[３]デセン］（ｅｎｄｏ体）１．９０ｇ、上記式（Ｃ）で表される８−メトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ［４.４.０.１^2,5.１^7,10］−３−ドデセン６．２０ｇ、分子量調節剤の１−ヘキセン ０．４１９ｇ、およびトルエン １８．６ｇを、窒素置換した反応容器に仕込み、８０℃に加熱した。これにトリエチルアルミニウム（０．６モル／Ｌ）のトルエン溶液０．２６７ｍｌ、メタノール変性ＷＣｌ６のトルエン溶液（０．０２５モル／Ｌ）０．０６６ｍｌを加え、８０℃で３時間反応させることにより開環共重合体溶液を得た。得られた開環共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は１１．４×１０4、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は４．６０であった。

次いで、合成例１と同様にして水素添加反応を行い、水素添加物を得た。得られた開環共重合体の水素添加物（樹脂（Ｐ３））は、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１０．６×１０4、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝３．５２、固有粘度［η］＝０．７０、ガラス転移温度（Ｔｇ）＝１８４．０℃であった。

また、樹脂（Ｐ３）におけるスピロ［フルオレン−９,８'−トリシクロ［４.３.０.１^2,5］［３］デセン］（ｅｎｄｏ体）に由来する構造単位（Ｉ）の割合が１９．６モル％、８−メトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ［４.４.０.１^2,5.１^7,10］−３−ドデセンに由来する構造単位（II）の割合が８０．４モル％であった。また、樹脂（Ｐ３）を1Ｈ−ＮＭＲにより分析した結果、オレフィン性二重結合に対する水素添加率は９９％以上であり、また、芳香環の残存率は実質的に１００％であった。

上記の合成例３で得た樹脂（Ｐ３）を塩化メチレンキャスト法により厚さ１２０μｍ、溶媒残留量０．２％以下の無色透明なキャストフィルムを得た。このフィルムをテンター内で、Ｔｇ＋１０℃である１９４℃に加熱し、延伸速度２２０％／分でＴＤ方向に５０％、ＭＤ方向に５％延伸した後、冷却して取り出し光学異方性層を得た。屈折率はｎｘ＝１．５２として光学特性を測定した。

上記の第２の光学異方性層を用いた以外は実施例３と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

［実施例１３］
〔第２の光学異方性層の作製〕
＜合成例４＞
合成例１と同様に得た上記式（Ａ）で表されるスピロ［フルオレン−９,８'−トリシクロ［４.３.０.１^2,5］［３］デセン］（ｅｎｄｏ体）２．００ｇ、上記式（Ｃ）で表される８−メトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ［４.４.０.１^2,5.１^7,10］−３−ドデセン４．９０ｇ、分子量調節剤の１−ヘキセン ０．３５８ｇ、およびトルエン １３．８ｇを、窒素置換した反応容器に仕込み、８０℃に加熱した。これにトリエチルアルミニウム（０．６モル／Ｌ）のトルエン溶液０．０５０ｍｌ、メタノール変性ＷＣｌ6のトルエン溶液（０．０２５モル／Ｌ）０．２２５ｍｌを加え、８０℃で３時間反応させることにより開環共重合体溶液を得た。得られた開環共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は８．３２×１０⁴、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は５．０６であった。

次いで、合成例１と同様にして水素添加反応を行い、水素添加物を得た。得られた開環共重合体の水素添加物（樹脂（Ｐ４））は、重量平均分子量（Ｍｗ）＝７．３９×１０⁴、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝４．０６、固有粘度［η］＝０．５４、ガラス転移温度（Ｔｇ）＝１８４．０℃であった。また、樹脂（Ｐ４）におけるスピロ［フルオレン−９,８'−トリシクロ［４.３.０.１^2,5］［３］デセン］（ｅｎｄｏ体）に由来する構造単位（Ｉ）の割合が２２．７モル％、８−メトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ［４.４.０.１^2,5.１^7,10］−３−ドデセンに由来する構造単位（II）の割合が７７．３モル％であった。また、樹脂（Ｐ４）を¹Ｈ−ＮＭＲにより分析した結果、オレフィン性二重結合に対する水素添加率は９９％以上であり、また、芳香環の残存率は実質的に１００％であった。

上記の合成例４で得た樹脂（Ｐ４）を塩化メチレンキャスト法により厚さ２５０μｍ、溶媒残留量０．２％以下の無色透明なキャストフィルムを得た。このフィルムをテンター内で、Ｔｇ＋１０℃である１９４℃に加熱し、延伸速度２２０％／分でＴＤ方向に５０％、ＭＤ方向に５％延伸した後、冷却して取り出し光学異方性層を得た。屈折率はｎｘ＝１．５２として光学特性を測定した。

上記の第２の光学異方性層を用いた以外は実施例３と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

［実施例１４］
〔第２の光学異方性層の作製〕
＜合成例５＞
合成例１と同様に得た上記式（Ａ）で表されるスピロ［フルオレン−９,８'−トリシクロ［４.３.０.１^2,5］[３]デセン］（ｅｎｄｏ体）３．００ｇ、上記式（Ｃ）で表される８−メトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ［４.４.０.１^2,5.１^7,10］−３−ドデセン５．７０ｇ、分子量調節剤の１−ヘキセン ０．４４３ｇ、およびトルエン １７．４ｇを、窒素置換した反応容器に仕込み、８０℃に加熱した。これにトリエチルアルミニウム（０．６モル／Ｌ）のトルエン溶液０．０６９ｍｌ、メタノール変性ＷＣｌ6のトルエン溶液（０．０２５モル／Ｌ）０．２８１ｍｌを加え、８０℃で３時間反応させることにより開環共重合体溶液を得た。得られた開環共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は７．６３×１０4、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は６．３４であった。

次いで、合成例１と同様にして水素添加反応を行い、水素添加物を得た。得られた開環共重合体の水素添加物（樹脂（Ｐ５））は、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６．４１×１０⁴、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝３．７７、固有粘度[η]＝０．４８、ガラス転移温度（Ｔｇ）＝１７３．０℃であった。

また、樹脂（Ｐ５）におけるスピロ［フルオレン−９,８'−トリシクロ［４.３.０.１^2,5］［３］デセン］（ｅｎｄｏ体）に由来する構造単位（Ｉ）の割合が２７．０モル％、８−メトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ［４.４.０.１^2,5.１^7,10］−３−ドデセンに由来する構造単位（II）の割合が７３．０モル％であった。また、樹脂（Ｐ５）を1Ｈ−ＮＭＲにより分析した結果、オレフィン性二重結合に対する水素添加率は９９％以上であり、また、芳香環の残存率は実質的に１００％であった。

上記の合成例５で得た樹脂（Ｐ５）を塩化メチレンキャスト法により厚さ３００μｍ、溶媒残留量０．２％以下の無色透明なキャストフィルムを得た。このフィルムをテンター内で、Ｔｇ＋１０℃である１９４℃に加熱し、延伸速度２２０％／分でＴＤ方向に５０％、ＭＤ方向に５％延伸した後、冷却して取り出し光学異方性層を得た。屈折率はｎｘ＝１．５２として光学特性を測定した。

上記の第２の光学異方性層を用いた以外は実施例３と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

［実施例１５］
実施例７で作製した第１の光学異方性層およびその偏光板を用いた以外は実施例１２と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

［実施例１６］
実施例７で作製した第１の光学異方性層およびその偏光板を用いた以外は実施例１３と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

［実施例１７］
〔保護膜の作製〕
＜原料ポリエステルの作製＞
｛原料ポリエステル１の作製｝
以下に示すように、テレフタル酸及びエチレングリコールを直接反応させて水を留去し、エステル化した後、減圧下で重縮合を行なう直接エステル化法を用いて、連続重合装置により原料ポリエステル１（Ｓｂ触媒系ＰＥＴ）を得た。

〈エステル化反応〉
第一エステル化反応槽に、高純度テレフタル酸４．７トンとエチレングリコール１．８トンを９０分かけて混合してスラリー形成させ、３８００ｋｇ／ｈの流量で連続的に第一エステル化反応槽に供給した。更に三酸化アンチモンのエチレングリコール溶液を連続的に供給し、反応槽内温度２５０℃、攪拌下、平均滞留時間約４．３時間で反応を行なった。このとき、三酸化アンチモンはＳｂ添加量が元素換算値で１５０ｐｐｍとなるように連続的に添加した。

この反応物を第二エステル化反応槽に移送し、攪拌下、反応槽内温度２５０℃で、平均滞留時間で１．２時間反応させた。第二エステル化反応槽には、酢酸マグネシウムのエチレングリコール溶液と、リン酸トリメチルのエチレングリコール溶液を、Ｍｇ添加量およびＰ添加量が元素換算値でそれぞれ６５ｐｐｍ、３５ｐｐｍになるように連続的に供給した。

〈重縮合反応〉
上記で得られたエステル化反応生成物を連続的に第一重縮合反応槽に供給し、攪拌下、反応温度２７０℃、反応槽内圧力２０ｔｏｒｒ（２．６７×１０^-3ＭＰａ）で、平均滞留時間約１．８時間で重縮合させた。

更に、第二重縮合反応槽に移送し、この反応槽において攪拌下、反応槽内温度２７６℃、反応槽内圧力５ｔｏｒｒ（６．６７×１０^-4ＭＰａ）で滞留時間約１．２時間の条件で反応（重縮合）させた。

次いで、更に第三重縮合反応槽に移送し、この反応槽では、反応槽内温度２７８℃、反応槽内圧力１．５ｔｏｒｒ（２．０×１０^-4ＭＰａ）で、滞留時間１．５時間の条件で反応（重縮合）させ、反応物（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ））を得た。

次に、得られた反応物を、冷水にストランド状に吐出し、直ちにカッティングしてポリエステルのペレット＜断面：長径約４ｍｍ、短径約２ｍｍ、長さ：約３ｍｍ〕を作製した。

得られたポリマーは、固有粘度ＩＶ＝０．６３であった。このポリマーを原料ポリエステル１とした。

ＩＶは、原料ポリエステルフィルム１を、１，１，２，２−テトラクロルエタン／フェノール（＝２／３[質量比]）混合溶媒に溶解し、該混合溶媒中の２５℃での溶液粘度から求めた。

｛原料ポリエステル２の作製｝
乾燥させた紫外線吸収剤（２，２’−（１，４−フェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンズオキサジノン−４−オン）１０質量部、原料ポリエステル１（ＩＶ＝０．６３）９０質量部を混合し、混練押出機を用い、紫外線吸収剤を含有する原料ポリエステル２を得た。

＜ポリエステルフィルムの作製＞
｛フィルム成形工程｝
原料ポリエステル１（９０質量部）と、紫外線吸収剤を含有した原料ポリエステル２（１０質量部）を、含水率２０ｐｐｍ以下に乾燥させた後、直径５０ｍｍの１軸混練押出機１のホッパー１に投入し、押出機１で３００℃に溶融した（中間層ＩＩ層）。また原料ポリエステル１を、含水率２０ｐｐｍ以下に乾燥させた後、直径３０ｍｍの１軸混練押出機２のホッパー２に投入し、押出機２で３００℃に溶融した（外層Ｉ層、外層ＩＩＩ層）。
これらの２種のポリマー溶融物をそれぞれギアポンプ、濾過器（孔径２０μｍ）に介した後、２種３層合流ブロックにて、押出機１から押出されたポリマーが中間層（ＩＩ層）に、押出機２から押出されたポリマーが外層（Ｉ層及びＩＩＩ層）になるように積層し、ダイよりシート状に押し出した。
溶融樹脂の押出条件は、圧力変動を１％、溶融樹脂の温度分布を２％として、溶融樹脂をダイから押出した。具体的には、背圧を、押出機のバレル内平均圧力に対して１％加圧し、押出機の配管温度を、押出機のバレル内平均温度に対して２％高い温度で加熱した。
ダイから押出した溶融樹脂は、温度２５℃に設定された冷却キャストドラム上に押出し、静電印加法を用い冷却キャストドラムに密着させた。冷却キャストドラムに対向配置された剥ぎ取りロールを用いて剥離し、未延伸ポリエステルフィルム２を得た。このとき、Ｉ層、ＩＩ層、ＩＩＩ層の厚さの比は１０：８０：１０となるように各押出機の吐出量を調整した。

得られた未延伸ポリエステルフィルム２を、下記条件で横延伸し、厚さ８０μｍ、面内方向のレターデーションＲｅが８２００ｎｍ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈが９４００ｎｍのポリエステルフィルムを製造した。

〈横延伸条件〉
・横延伸温度：９０℃
・横延伸倍率：４．３倍

次いで、上記作成したポリエステルフィルムの膜面温度を下記範囲に制御しながら、熱固定処理を行った。
〈熱固定処理条件〉
・熱固定温度：１８０℃
・熱固定時間：１５秒

熱固定後のポリエステルフィルムを下記の温度に加熱し、フィルムを緩和した。
〈緩和条件〉
・熱緩和温度：１７０℃
・熱緩和率：ＴＤ方向（フィルム幅方向、横方向）２％

次に、熱緩和後のポリエステルフィルムを５０℃の冷却温度にて冷却した。（以降、上記作製した熱緩和後のポリエステルフィルムを、「延伸ＰＥＴ８０μｍ ３層共流延」と略す。）

＜ＨＣ層付き 延伸ＰＥＴ８０μｍの作製＞
｛易接着層の形成｝
〈ハードコート層側易接着層の形成〉
下記化合物を下記の比率で混合し、ハードコート層側易接着層用の塗布液Ｈ１を作製した。上記で得られた延伸ＰＥＴ８０μｍ ３層共流延の上に、ハードコート層側易接着層用の塗布液Ｈ１を膜厚０．０９μｍで塗布した。

（ハードコート層側易接着層用の塗布液Ｈ１の組成）
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリエステル樹脂：（ＩＣ） ６０質量部
・アクリル樹脂：（ＩＩ） ２５質量部
・メラミン化合物：（ＶＩＢ） １０質量部
・粒子：（ＶＩＩ） ５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
以下に使用化合物の詳細を示す。
・ポリエステル樹脂：（ＩＣ）
下記組成のモノマーで共重合したポリエステル樹脂のスルホン酸系水分散体
モノマー組成：（酸成分）テレフタル酸／イソフタル酸／５−ソジウムスルホイソフタ
ル酸／／（ジオール成分）エチレングリコール／１，４−ブタンジオール／ジエチレングリコール＝５６／４０／４／／７０／２０／１０（ｍｏｌ％）

・アクリル樹脂：（ＩＩ）
下記組成のモノマーで重合したアクリル樹脂の水分散体 エチルアクリレート／ｎ−ブチルアクリレート／メチルメタクリレート／Ｎ−メチロールアクリルアミド／アクリル酸＝６５／２１／１０／２／２（質量％）の乳化重合体（乳化剤：アニオン系界面活性剤）
・ウレタン樹脂：（ＩＩＩＢ）
１，６−ヘキサンジオールとジエチルカーボネートからなる数平均分子量が２０００のポリカーボネートポリオールを４００質量部、ネオペンチルグリコールを１０．４質量部、イソホロンジイソシアネート５８．４質量部、ジメチロールブタン酸が７４．３質量部からなるプレポリマーをトリエチルアミンで中和し、イソホロンジアミンで鎖延長して得られるウレタン樹脂の水分散体。
・メラミン化合物：（ＶＩＢ）ヘキサメトキシメチルメラミン
・粒子：（ＶＩＩ）平均粒径６５ｎｍのシリカゾル

｛ハードコート層の塗布による形成｝
その後、上記で得られた延伸ＰＥＴ８０μｍ ３層共流延のハードコート層側易接着層用の塗布液Ｈ１を塗布した面に、下記組成の混合塗液（アクリル−１）を乾燥膜厚が５μｍになるように塗布・乾燥し、紫外線を照射して硬化させハードコート層を形成した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ８５質量部
・２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート １５質量部
・光重合開始剤（商品名：イルガキュア１８４、チバスペシャルティケミカル製）
５質量部
・メチルエチルケトン ２００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――

このようにして得られたハードコート層付きのＰＥＴフィルムを、ＨＣ層付き延伸ＰＥＴ８０μｍとし、保護膜を作製した。

〔偏光板の作製〕
＜偏光子側易接着層の作製＞
｛偏光子側易接着用の塗布液Ｐ１の作製｝
〈共重合ポリエステル樹脂（Ａ−１）の合成〉
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ジメチルテレフタレート １９４．２質量部
・ジメチルイソフタレート １８４．５質量部
・ジメチル−５−ナトリウムスルホイソフタレート １４．８質量部
・ジエチレングリコール ２３３．５質量部
・エチレングリコール １３６．６質量部
・テトラ−ｎ−ブチルチタネート ０．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記化合物を仕込み、１６０℃から２２０℃の温度で４時間かけてエステル交換反応を行なった。次いで２５５℃まで昇温し、反応系を徐々に減圧した後、３０Ｐａの減圧下で１時間３０分反応させ、共重合ポリエステル樹脂（Ａ−１）を得た。

〈ポリエステル水分散体（Ａｗ−１）の作製〉
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・共重合ポリエステル樹脂（Ａ−１） ３０質量部
・エチレングリコールｎ−ブチルエーテル １５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記化合物を入れ、１１０℃で加熱、攪拌し樹脂を溶解した。樹脂が完全に溶解した後、水５５質量部をポリエステル溶液に攪拌しつつ徐々に添加した。添加後、液を攪拌しつつ室温まで冷却して、固形分３０質量％の乳白色のポリエステル水分散体（Ａｗ−１）を作製した。

〈ポリビニルアルコール水溶液（Ｂｗ−１）の作製〉
水９０質量部を入れ、攪拌しながらケン化度が８８％で重合度５００のポリビニルアルコール樹脂（クラレ製）（Ｂ−１）１０質量部を徐々に添加した。添加後、液を攪拌しながら、９５℃まで加熱し、樹脂を溶解させた。溶解後、攪拌しながら室温まで冷却して、固形分１０質量％のポリビニルアルコール水溶液（Ｂｗ−１）を作製した。

〈ブロックポリイソシアネート水分散液（Ｃ−１）の作製〉
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ヘキサメチレンジイソシアネートを原料としたイソシアヌレート構造を有する
ポリイソシアネート化合物（旭化成ケミカルズ製、デュラネートＴＰＡ）
１００質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ５５質量部
・ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（平均分子量７５０） ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記化合物を仕込み、窒素雰囲気下、７０℃で４時間保持した。その後、反応液温度を５０℃に下げ、メチルエチルケトオキシム４７質量部を滴下した。反応液の赤外スペクトルを測定し、イソシアネート基の吸収が消失したことを確認し、固形分７５質量％のブロックポリイソシアネート水分散液（Ｃ−１）を得た。

下記の塗剤を混合し、ポリエステル系樹脂（Ａ）／ポリビニルアルコール系樹脂（Ｂ）の質量比が７０／３０になる偏光子側易接着用の塗布液Ｐ１を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・水 ４０．６１質量％
・イソプロパノール ３０．００質量％
・ポリエステル水分散体（Ａｗ−１） １１．６７質量％
・ポリビニルアルコール水溶液（Ｂｗ−１） １５．００質量％
・ブロックイソシアネート系架橋剤（Ｃ−１） ０．６７質量％
・粒子（平均粒径１００ｎｍのシリカゾル、固形分濃度４０質量％）
１．２５質量％
・触媒（有機スズ系化合物 固形分濃度１４質量％） ０．３質量％
・界面活性剤（シリコン系、固形分濃度１０質量％） ０．５質量％
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――

＜保護膜への易接着層の作製＞
リバースロール法にて、上記作製した保護膜の延伸ＰＥＴ８０μｍ ３層共流延側に偏光子側易接着用の塗布液Ｐ１を乾燥後の塗布量が０．１２ｇ／ｍ²になるように調整しながら、塗布し、保護膜に易接着層を作製した。

＜偏光子と保護膜の貼合＞
上記易接着層を塗布した保護膜の、易接着層側の面を偏光子側としロールツーロールで積層し、得られた積層体に対して接着剤を硬化させるためにロール上を搬送しながら、７０℃、相対湿度６０％で加熱し、貼合した。このようにして、片面保護膜付き偏光板０２を作製した。
なお、下記実施例および比較例では特に断りのない場合は視認側にハードコート層を有する片面保護膜付き偏光板０２をバックライト側にハードコート層を有さない片面保護膜付き偏光板０２を用いて各偏光板を作製した。

第１の光学異方性層および第２の光学異方性層と垂直配向モード液晶セルの積層順を表４に記載の積層順に変え、バックライト側の偏光板を片面保護膜付偏光板０２を用いて作製した以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

［実施例１８］
第１の光学異方性層および第２の光学異方性層と垂直配向モード液晶セルの積層順を表４に記載の積層順に変更した以外は実施例３と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

［実施例１９］
第１の光学異方性層および第２の光学異方性層と垂直配向モード液晶セルの積層順を表４に記載の積層順に変更した以外は実施例５と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

［実施例２０］
視認側及びバックライト側の片面保護膜付偏光板０１を片面保護膜付偏光板０２に変更した以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

［実施例２１］
視認側及びバックライト側の片面保護膜付偏光板０１を片面保護膜付偏光板０２に変更した以外は実施例３と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

［実施例２２］
視認側及びバックライト側の片面保護膜付偏光板０１を片面保護膜付偏光板０２に変更した以外は実施例５と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

［実施例２３］
第１の光学異方性層および第２の光学異方性層と垂直配向モード液晶セルの積層順を表４に記載の積層順に変更した以外は実施例２０と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

［実施例２４］
第１の光学異方性層および第２の光学異方性層と垂直配向モード液晶セルの積層順を表４に記載の積層順に変更した以外は実施例２１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

［実施例２５］
第１の光学異方性層および第２の光学異方性層と垂直配向モード液晶セルの積層順を表４に記載の積層順に変更した以外は実施例２２と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

［実施例２６］
第１の保護膜および第２の保護膜、第１の光学異方性層および第２の光学異方性層と垂直配向モード液晶セルの積層順を表５に記載の積層順に変更した以外は実施例１７と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例２７］
第１の光学異方性層および第２の光学異方性層と垂直配向モード液晶セルの積層順を表５に記載の積層順に変更した以外は実施例３と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例２８］
第１の光学異方性層および第２の光学異方性層と垂直配向モード液晶セルの積層順を表５に記載の積層順に変更した以外は実施例５と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例２９］
第１の光学異方性層および第２の光学異方性層と垂直配向モード液晶セルの積層順を表５に記載の積層順に変更した以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例３０］
第１の光学異方性層および第２の光学異方性層と垂直配向モード液晶セルの積層順を表５に記載の積層順に変更した以外は実施例３と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例３１］
第１の光学異方性層および第２の光学異方性層と垂直配向モード液晶セルの積層順を表５に記載の積層順に変更した以外は実施例５と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例３２］
視認側の片面保護膜付偏光板０１を片面保護膜付偏光板０２に変更した以外は実施例２９と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例３３］
〔配向膜の作製〕
上記作製した片面保護膜付き偏光板０１の偏光子側の面に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍＬ／ｍ^２を塗布した。８０℃の温風で６０秒乾燥し、配向膜を作製した。乾燥後の配向膜の厚みは、０．５μｍであった。
（配向膜形成用塗布液の組成）
────────────────────────────────────
・下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
・水 ３７１質量部
・メタノール １１９質量部
・グルタンアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部
・クエン酸エステル（三協化学社製 ＡＳ−３） ０．３５質量部
────────────────────────────────────

〔第１の光学異方性層の形成〕
下記化合物３−１〜３−５をメチルエチルケトンに溶解して固形分濃度が３６．２％になるように調製した。
────────────────────────────────────
・ディスコティック液晶性化合物３−１ ９１．０質量部
・化合物３−２ ９．０質量部
・重合開始剤：化合物３−３ ３．０質量部
・重合開始剤：化合物３−４ １．０質量部
・含フッ素界面活性剤：化合物３−５ ０．８質量部
────────────────────────────────────

塗布液を上記で作製した片面保護膜付き偏光板０１の配向膜面に、＃４．４のワイヤーバーを用いて塗布し、乾燥した。７０℃で９０秒加熱して、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。その後、ただちに７０℃の温度条件で、２９０ｍＪ/ｃｍ²の紫外線を照射して、ディスコティック液晶性化合物を重合させ、配向状態を固定した。形成した光学異方性層の厚みは２μｍであった。光学異方性層の厚みはレーザー膜厚計にて計測した。

〔光学特性の計測〕
第１の光学異方性層をガラス基板上に実施例と同条件で形成させ、光学異方性層のみのレターデーションを測定した。屈折率は１．５８３とした。結果を表５に示す。

上記で作製した偏光板を使用した以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例３４］
〔転写材の作製〕
＜仮基板の準備＞
仮基板として、ＴＤ８０（富士フイルム（株）製）を用いた。

＜配向膜の形成＞
上記準備した仮基板の表面に、鹸化処理を施すことなく、直接、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
（配向膜形成用塗布液の組成）
────────────────────────────────────
・下記の変性ポリビニルアルコール（ＰＶＡ） １０質量部
・水 ３７１質量部
・メタノール １１９質量部
・グルタルアルデヒド ０．５質量部
────────────────────────────────────

＜転写用光学異方性層の作製＞
｛第１の光学異方性層の作製｝
下記化合物を混合、溶解して光学異方性層用塗布液Ｂを調製した。
（光学異方性層用塗布液Ｂの組成）
──────────────────────────────
・ディスコティック重合性液晶性化合物３−１ ９１．０質量部
・化合物３−２ ９．０質量部
・重合開始剤：化合物３−３ ３．０質量部
・重合開始剤：化合物３−４ １．０質量部
・含フッ素界面活性剤：化合物３−５ ０．８質量部
・密着向上剤：化合物３−６ ０．５質量部
・メチルエチルケトン １８６．３質量部
──────────────────────────────

上記で作製した光学異方性層用塗布液Ｂを、上記で作製した配向膜上に、＃４．４のワイヤーバーで塗布、乾燥した。７０℃で１分間加熱して、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。その後、ただちに７０℃の温度条件で、２９０ｍＪ/ｃｍ²の紫外線を照射して、ディスコティック液晶性化合物を重合させ、配向状態を固定し、転写用光学異方性層を作製した。作製した光学異方性層の厚みは２μｍであった。光学異方性層の厚みはレーザー膜厚計にて計測した。

〔偏光板の作製〕
＜偏光板の準備＞
片面保護膜付き偏光板０１の偏光子側の面に、ＵＶ硬化性樹脂を塗布・乾燥して、接着剤層を形成した。

＜転写＞
上記で作製した転写材を、転写材の転写用光学異方性層表面と、上記で作製した片面保護膜付き偏光板０１の接着剤層表面とを接触させて、積層し、加圧ローラで加圧した後、ＵＶ光を照射して、ＵＶ硬化性組成物を硬化させて、光学異方性層を接着層に強く接着させた。次に、強粘着性ロールを仮基板の裏面に押し当てて回転させ、仮基板と配向膜とを剥離し、片面保護膜付き偏光板０１上に接着剤を介して光学異方性層が積層された偏光板を作製した。

上記で作製した偏光板を使用した以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例３５］
〔第１の光学異方性層、偏光板の作製〕
＃３．４のワイヤーバーを用いて塗布した以外は実施例１と同様に第１の光学異方性層及び第１の光学異方性層を有する偏光板を作製した。
〔第２の光学異方性層の作製〕
上記の合成例１（実施例３）で得た樹脂（Ｐ１）を塩化メチレンキャスト法により厚さ１９０μｍ、溶媒残留量０．２％以下の無色透明なキャストフィルムを得た。このフィルムをテンター内で、Ｔｇ＋１０℃である１９４℃に加熱し、延伸速度２２０％／分でＴＤ方向に３０％、ＭＤ方向に７％延伸した後、冷却して取り出し光学異方性層を得た。
上記で作製した光学異方性層を用いた以外は実施例３と同様にして第２の光学異方性層を有する偏光板を作製した。

上記で作製した偏光板を使用した以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例３６］
〔第１の光学異方性層、偏光板の作製〕
＃６．０のワイヤーバーを用い、メチルエチルケトンの量を固形分濃度が３４．３％になるように調製して塗布した以外は実施例１と同様に第１の光学異方性層及び第１の光学異方性層を有する偏光板を作製した。
〔第２の光学異方性層の作製〕
上記の合成例１（実施例３）で得た樹脂（Ｐ１）を塩化メチレンキャスト法により厚さ１４０μｍ、溶媒残留量０．２％以下の無色透明なキャストフィルムを得た。このフィルムをテンター内で、Ｔｇ＋１０℃である１９４℃に加熱し、延伸速度２２０％／分でＴＤ方向に９５％、ＭＤ方向に４％延伸した後、冷却して取り出し光学異方性層を得た。
上記で作製した光学異方性層を用いた以外は実施例３と同様にして第２の光学異方性層を有する偏光板を作製した。

上記で作製した偏光板を使用した以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例３７］
〔第２の光学異方性層の作製〕
上記の合成例４（実施例１３）で得た樹脂（Ｐ４）を塩化メチレンキャスト法により厚さ２３０μｍ、溶媒残留量０．２％以下の無色透明なキャストフィルムを得た。このフィルムをテンター内で、Ｔｇ＋１０℃である１９４℃に加熱し、延伸速度２２０％／分でＴＤ方向に９５％、ＭＤ方向に４％延伸した後、冷却して取り出し光学異方性層を得た。
上記で作製した光学異方性層を用いた以外は実施例３と同様にして第２の光学異方性層を有する偏光板を作製した。

上記で作製した偏光板を使用した以外は実施例３６と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［比較例５］
〔第２の光学異方性層の作製〕
特開平１０−４５８０４号公報、同０８−２３１７６１号公報に記載の方法で、セルロースアシレートを合成し、その置換度を測定した。具体的には、触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、アシル置換基の原料となるカルボン酸を添加し４０℃でアシル化反応を行った。この時、カルボン酸の種類、量を調整することでアシル基の種類、置換度を調整した。またアシル化後に４０℃で熟成を行った。さらにこのセルロースアシレートの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。

＜セルロースアシレート溶液Ｃ０１の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。各セルロースアシレート溶液の固形分濃度は２２質量％となるように溶剤（メチレンクロライドおよびメタノール）の量は適宜調整した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
・セルロースアセテート（置換度２．４５） １００．０質量部
・下記添加剤 化合物Ａ １９．０質量部
・メチレンクロライド ３６５．５質量部
・メタノール ５４．６質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

＜セルロースアシレート溶液Ｃ０２の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。各セルロースアシレート溶液の固形分濃度は２２質量％となるように溶剤（メチレンクロライドおよびメタノール）の量は適宜調整した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
・セルロースアセテート（置換度２．８１） １００．０質量部
・下記添加剤 化合物Ａ １２．０質量部
・メチレンクロライド ３６５．５質量部
・メタノール ５４．６質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
化合物Ａはテレフタル酸／コハク酸／エチレングリコール／プロピレングリコール共重合体（共重合比［モル％］＝２７．５／２２．５／２５／２５）を表す。
化合物Ａは、非リン酸エステル系の化合物であり、かつ、レターデーション発現剤でもある。化合物Ａの末端はアセチル基で封止されている。

セルロースアシレート溶液Ｃ０１を用いて５６μｍの膜厚のコア層になるように、セルロースアシレート溶液Ｃ０２を２μｍの膜厚のスキンＡ層になるように、それぞれバンド延伸機を用いて流延した。引き続き、得られたウェブ（フィルム）をバンドから剥離し、クリップに挟み、テンターを用いて横延伸した。延伸温度１７２℃及び延伸倍率３０％に設定した。その後、フィルムからクリップを外して１３０℃で２０分間乾燥させ、フィルムを得た。
膜厚６０μｍの光学異方性層を作製した。光学特性を測定し、Ｒｅ（５５０）＝５０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１２０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．９８であった。屈折率はｎｘ＝１．４８とした。

上記第２の光学異方性層を用いた以外は実施例１の第２の光学異方性層を有する偏光板と同様にして偏光板を作製した。

上記で作製した偏光板を使用した以外は実施例２と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［比較例６］
〔第１の光学異方性層の形成〕
＃７．０のワイヤーバーを用いて塗布した以外は実施例１と同様に第１の光学異方性層及び第１の光学異方性層を有する偏光板を作製した。
〔第２の光学異方性層の作製〕
上記の合成例２（実施例４）で得た樹脂（Ｐ２）を塩化メチレンキャスト法により厚さ５０μｍ、溶媒残留量０．２％以下の無色透明なキャストフィルムを得た。このフィルムをテンター内で、Ｔｇ＋１０℃である１９４℃に加熱し、延伸速度２２０％／分でＴＤ方向に２０％延伸、ＭＤ方向に３％収縮した後、冷却して取り出し光学異方性層を得た。

上記第２の光学異方性層を用いた以外は実施例３の第２の光学異方性層を有する偏光板と同様にして偏光板を作製した。

上記で作製した偏光板を使用した以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［比較例７］
〔第１の光学異方性層の作製〕
比較例６と同様にして第１の光学異方性層を形成した。
〔第２の光学異方性層の作製〕
実施例５において♯６のワイヤーバーを使用した以外は同様にして第２の光学異方性層を形成した。

上記で作製した偏光板を使用した以外は比較例６と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例３８］
〔熱可塑性樹脂フィルム１〕

［上記一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子、Ｒ^２およびＲ^３はメチル基であるラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂｛共重合モノマー質量比＝メタクリル酸メチル／２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル＝８／２、ラクトン環化率約１００％、ラクトン環構造の含有割合１９．４％、質量平均分子量１３３０００、メルトフローレート６．５ｇ／１０分（２４０℃、１０ｋｇｆ）、Ｔｇ１３１℃｝９０質量部と、アクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂｛トーヨーＡＳ ＡＳ２０、東洋スチレン社製｝１０質量部との混合物；Ｔｇ１２７℃］のペレットを二軸押し出し機に供給し、約２８０℃でシート状に溶融押し出しして、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂シートを得た。この未延伸シートを、１６０℃の温度条件下、縦、横に延伸して熱可塑性樹脂フィルム（厚さ：４０μｍ、面内位相差Ｒｅ：０．８ｎｍ、厚み方向位相差Ｒｔｈ：１．５ｎｍ）を得た。

偏光子１の片方の面に、アクリル接着剤を用いて、作製した熱可塑性樹脂フィルムにコロナ処理を施したのち、貼合して片面保護膜付き偏光板０３を作製した。
なお、下記実施例および比較例では特に断りのない場合は視認側にハードコート層を有する片面保護膜付き偏光板０３をバックライト側にハードコート層を有さない片面保護膜付き偏光板０３を用いて各偏光板を作製した。

上記で作製した片面保護膜付き偏光板０３をバックライト側に用いた以外はは実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例３９］
上記で作製した片面保護膜付き偏光板０３を視認側及びバックライト側に用いた以外はは実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例４０］
特開２０１１‐１３８１１９号公報の［０１７３］〜［０１７６］に記載の方法で、イミド化樹脂を得た。
得られたイミド化樹脂（ＩＩＩ）１００重量部と、下記トリアジン化合物Ａ０．１０質量部を単軸押出機を用いてペレットにした。
上記ペレットを用いて、未延伸フィルムを縦方向、横方向に延伸して、その他条件は実施例３８と同様の方法で熱可塑性樹脂フィルムを作製した。

得られたフィルムの厚さは４０μｍであった。Ｒｅ＝１．０ｎｍであり、Ｒｔｈ＝３．０ｎｍであった。

偏光子１の片方の面に、アクリル接着剤を用いて、作製した熱可塑性樹脂フィルムをコロナ処理を施したのち、貼合して片面保護膜付き偏光板０４を作製した。
なお、下記実施例および比較例では特に断りのない場合は視認側にハードコート層を有する片面保護膜付き偏光板０４をバックライト側にハードコート層を有さない片面保護膜付き偏光板０４を用いて各偏光板を作製した。

上記で作製した片面保護膜付き偏光板０４をバックライト側に用いた以外はは実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例４１］
上記で作製した片面保護膜付き偏光板０４を視認側及びバックライト側に用いた以外はは実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例４２］
〔低透湿層積層フィルムの作製〕
＜低透湿層形成用組成物の調製＞
低透湿層形成用組成物を下記に示すように調製した。

（低透湿層形成用組成物Ｂ−１の組成）
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・Ａ−ＤＣＰ（１００％）：トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート
［新中村化学工業（株）製］
９７．０質量部
・イルガキュア９０７（１００％）：重合開始剤
［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
３．０質量部
・ＳＰ−１３（レベリング剤）： ０．０４質量部
・ＭＥＫ（メチルエチルケトン）： ８１．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――

＜基材フィルムの作製＞
｛セルロースエステルドープの調整｝
下記に記載の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、ドープを調製した。
アシル基総置換度２．７５、アセチル置換度０．１９、プロピオニル置換度２．５６、重量平均分子量２０００００のセルロースエステルを使用した。
このセルロースエステルは、以下のように合成した。
セルロースに触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、アシル置換基の原料となるカルボン酸を添加して４０℃でアシル化反応を行った。この時、カルボン酸の量を調整することでアセチル基及びプロピオニル基の置換度を調整した。またアシル化後に４０℃で熟成を行った。更にこのセルロースエステルの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。

（ドープの組成）
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・セルロースエステル ３０．０質量部
・アクリル樹脂 ７０．０質量部
（ダイヤナールＢＲ８５ 三菱レイヨン（株）製）
・チヌビン３２８ チバ・ジャパン製 １．０質量部
・メチレンクロライド ３２０質量部
・エタノール ４５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――

｛セルロースエステルフィルムの作製｝
バンド流延装置を用い、前記調製したドープをステンレス製のエンドレスバンド（流延支持体）に流延ダイから均一に流延した。ドープ中の残留溶媒量が４０質量％になった時点で流延支持体から高分子膜として剥離し、テンターにて積極的に延伸をせずに搬送し、乾燥ゾーンで１３０℃で乾燥を行った。
得られたフィルムの厚さは４０μｍであった。また、得られた基材フィルムのＲｅおよびＲｔｈの値を後述の方法で測定したところ、Ｒｅ＝１．０ｎｍであり、Ｒｔｈ＝５．０ｎｍであった。このフィルムを基材フィルムとした。

上記基材フィルムに上記低透湿層形成用組成物Ｂ−１を使用し、特開２００６−１２２８８９号公報実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥させた。その後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．１％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。低透湿層の膜厚は１２μｍになるよう塗布量を調整した。
得られた光学フィルムを低透湿層積層フィルム１とした。

〔偏光板の作製〕
上記作製した低透湿層積層フィルム１の基材フィルム側にコロナ処理を施し、低透湿積層フィルム１を保護膜として、偏光子１の片方の面と低透湿積層フィルム１のコロナ処理を施した面とを、アクリル接着剤を介して貼合し、片面保護膜付き偏光板０５を作製した。
なお、下記実施例および比較例では特に断りのない場合は視認側にハードコート層を有する片面保護膜付き偏光板０５をバックライト側にハードコート層を有さない片面保護膜付き偏光板０５を用いて各偏光板を作製した。

上記で作製した片面保護膜付き偏光板０５をバックライト側に用いた以外はは実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例４３］
上記で作製した片面保護膜付き偏光板０５を視認側及びバックライト側に用いた以外はは実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例４４］
〔保護膜の作製〕
＜コア層セルロースアシレートドープの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープ１−Ａを調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・エステルオリゴマー（化合物１−１） １０質量部
・耐久性改良剤（化合物１−２） ４質量部
・紫外線吸収剤（化合物１−３） ３質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３８質量部
・メタノール（第２溶剤） ６５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

＜外層セルロースアシレートドープの作製＞
上記のコア層セルロースアシレートドープ１９０質量部に下記のマット剤分散液１を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープ１−Ａを調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶剤） １１質量部
・コア層セルロースアシレートドープ１−Ａ １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

＜セルロースアシレートフィルムの作製＞
前記コア層セルロースアシレートドープ１−Ａとその両側に外層セルロースアシレートドープ１−Ａとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、残留溶剤が３〜１５質量％の状態で、横方向に１．２倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、厚さ２５μｍのセルロースアシレートフィルムを作製し保護膜とした。

上記で作製した保護膜を用いた以外は実施例１と同様にして片面保護膜付偏光板０６を作製した。
なお、下記実施例および比較例では特に断りのない場合は視認側にハードコート層を有する片面保護膜付き偏光板０６をバックライト側にハードコート層を有さない片面保護膜付き偏光板０６を用いて各偏光板を作製した。

上記で作製した片面保護膜付き偏光板０６を視認側及びバックライト側に用いた以外はは実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例４５］
上記で作製した片面保護膜付き偏光板０６を視認側及びバックライト側に用いた以外はは実施例３と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例４６］
〔第１の光学異方性層、偏光板の作製〕
下記化合物をメチルエチルケトンに溶解して固形分濃度が３６．２％になるように調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ディスコティック液晶性化合物３−１ ９１．０質量部
・化合物３−２ ９．０質量部
・重合開始剤：化合物３−７ ３．０質量部
・含フッ素界面活性剤：化合物３−５ ２．０質量部
・密着向上剤：化合物３−８ ０．６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

（化合物３−７）

（化合物３−８）

〔偏光板の作製〕
塗布液を上記作製した片面保護膜付き偏光板０１の偏光子側の面に、＃４．４のワイヤーバーを用いて塗布し、乾燥した。６０℃で９０秒加熱して、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。その後、ただちに６０℃の温度条件で、２９０ｍＪ/ｃｍ²の紫外線を照射して、ディスコティック液晶性化合物を重合させ、配向状態を固定し、第１の光学異方性層を形成した。形成した光学異方性層の厚みは２μｍであった。光学異方性層の厚みはレーザー膜厚計にて計測した。

〔光学特性の計測〕
第１の光学異方性層をガラス基板上に実施例と同条件で形成させ、光学異方性層のみのレターデーションを測定した。屈折率は１．５８３とした。結果を表７に示す。

上記で作製した偏光板を用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表７に示す。

［実施例４７］
〔第１の光学異方性層、偏光板の作製〕
下記化合物をメチルエチルケトンに溶解して固形分濃度が３０．０％になるように調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ディスコティック液晶性化合物４−１ ７２．０質量部
・ディスコティック液晶性化合物４−２ １８．０質量部
・ディスコティック液晶性化合物３−１ ５．０質量部
・化合物３−２ ５．０質量部
・重合開始剤：化合物３−７ ３．０質量部
・含フッ素界面活性剤：化合物４−３ ２．０質量部
・密着向上剤：化合物３−８ ０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――

（化合物４−３）

〔偏光板の作製〕
塗布液を上記作製した片面保護膜付き偏光板０１の偏光子側の面に、＃３．４のワイヤーバーを用いて塗布し、乾燥した。８０℃で９０秒加熱して、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。その後、ただちに６０℃の温度条件で、２９０ｍＪ/ｃｍ²の紫外線を照射して、ディスコティック液晶性化合物を重合させ、配向状態を固定し、第１の光学異方性層を形成した。形成した光学異方性層の厚みは２μｍであった。光学異方性層の厚みはレーザー膜厚計にて計測した。

〔光学特性の計測〕
第１の光学異方性層をガラス基板上に実施例と同条件で形成させ、光学異方性層のみのレターデーションを測定した。屈折率は１．５８３とした。結果を表７に示す。

上記で作製した偏光板を用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表７に示す。

［実施例４８］
〔第１の光学異方性層、偏光板の作製〕
下記化合物をメチルエチルケトンに溶解して固形分濃度が３０．０％になるように調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ディスコティック液晶性化合物４−１ ７２．０質量部
・ディスコティック液晶性化合物４−２ １８．０質量部
・化合物３−２ １０．０質量部
・重合開始剤：化合物３−７ ３．０質量部
・含フッ素界面活性剤：化合物４−３ ２．０質量部
・密着向上剤：化合物３−８ ０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――

〔偏光板の作製〕
塗布液を上記作製した片面保護膜付き偏光板０１の偏光子側の面に、＃３．４のワイヤーバーを用いて塗布し、乾燥した。８０℃で９０秒加熱して、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。その後、ただちに６０℃の温度条件で、２９０ｍＪ/ｃｍ²の紫外線を照射して、ディスコティック液晶性化合物を重合させ、配向状態を固定し、第１の光学異方性層を形成した。形成した光学異方性層の厚みは２μｍであった。光学異方性層の厚みはレーザー膜厚計にて計測した。

〔光学特性の計測〕
第１の光学異方性層をガラス基板上に実施例と同条件で形成させ、光学異方性層のみのレターデーションを測定した。屈折率は１．５８３とした。結果を表７に示す。

上記で作製した偏光板を用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表７に示す。

［実施例４９］
上記で作製した片面保護膜付き偏光板０６を視認側及びバックライト側に用いた以外はは実施例４６と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表７に示す。

［実施例５０］
上記で作製した片面保護膜付き偏光板０６を視認側及びバックライト側に用いた以外はは実施例４７と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表７に示す。

［実施例５１］
上記で作製した片面保護膜付き偏光板０６を視認側及びバックライト側に用いた以外はは実施例４８と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表７に示す。

表２〜７に示す結果から、第２の光学異方性層が波長分散、すなわち、上記式（１−２−５）を満たさない場合は、表示性能（特に色変化）に劣ることが分かった（比較例１および３）。
また、第１の光学異方性層および第２の光学異方性層のいずれもが液晶性化合物を有していない場合は、薄膜化が図れず、また、表示ムラも生じることが分かった（比較例２および４）。
また、第２の光学異方性層が上記式（１−２−３）を満たさない場合は、表示性能（特に色変化）に劣ることが分かった（比較例５および６）。
また、第２の光学異方性層が上記式（１−２−４）を満たさない場合は、表示性能（特に光漏れ）に劣ることが分かった（比較例７）。

これに対し、第１の光学異方性層および第２の光学異方性層の少なくとも一方が、液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下であり、また、第１の光学異方性層が上記式（１−１−１）を満たし、かつ、第２の光学異方性層が上記式（１−２−１）、（１−２−２）、（１−２−３）、（１−２−４）および（１−２−５）を満たす場合は、いずれも、表示性能に優れ、温湿度環境変化に対する耐久性にも優れることが分かった。

１ 第１偏光子
２ 第１光学異方性層
３ 液晶セル
４ 第２光学異方性層
５ 第２偏光子
６ 保護膜
７ ラミネートフィルム
１０ 液晶表示装置

Claims (18)

1. 互いに吸収軸を直交して配置された第１の偏光子および第２の偏光子と、
   前記第１の偏光子および前記第２の偏光子の間に配置された垂直配向モード液晶セルと、
   前記第１の偏光子と前記液晶セルとの間および前記第２の偏光子と前記液晶セルとの間の一方に設けられた第１の光学異方性層と、
   前記第１の偏光子と前記液晶セルとの間および前記第２の偏光子と前記液晶セルとの間の一方に設けられた第２の光学異方性層と、を有し、
   前記第１の光学異方性層および前記第２の光学異方性層の少なくとも一方が、液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下であり、
   前記第１の光学異方性層が下記式（１−１−１）を満たし、
   前記第２の光学異方性層が下記式（１−２−１）、（１−２−２）、（１−２−３）、（１−２−４）および（１−２−５）を満たす、液晶表示装置。
   ３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦３００ｎｍ 式（１−１−１）
   ５０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦２００ｎｍ 式（１−２−１）
   ４０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦２００ｎｍ 式（１−２−２）
   Ｒｔｈ（５５０）≧（−１２／５）×Ｒｅ（５５０）＋２８０ｎｍ
   式（１−２−３）
   Ｒｔｈ（５５０）≦（−７／５）×Ｒｅ（５５０）＋３４０ｎｍ
   式（１−２−４）
   Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０５ 式（１−２−５）
   （Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。）
2. 前記第１の光学異方性層および前記第２の光学異方性層のうち、前記液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下である光学異方性層と、前記第１の偏光子または第２の偏光子とが隣接している、請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 前記第１の光学異方性層および前記第２の光学異方性層のうち、前記液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下である光学異方性層と、前記第１の偏光子または第２の偏光子とが、配向膜を介して積層されている、請求項１に記載の液晶表示装置。
4. 前記第１の光学異方性層および前記第２の光学異方性層のうち、前記液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下である光学異方性層と、前記第１の偏光子または第２の偏光子とが、接着剤層または粘着剤層を介して積層されている、請求項１に記載の液晶表示装置。
5. 前記第１の光学異方性層および前記第２の光学異方性層のうち、少なくとも前記第１の光学異方性層が、前記液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下である光学異方性層であり、
   前記第１の光学異方性層が、下記式（２−１−１）および（２−１−２）を満たす、請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
   Ｒｅ（５５０）≦１０ｎｍ 式（２−１−１）
   ３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦２５０ｎｍ 式（２−１−２）
6. 前記第１の光学異方性層および前記第２の光学異方性層のうち、少なくとも前記第２の光学異方性層が、前記液晶性化合物を含み、厚さが１０μｍ以下である光学異方性層であり、
   前記第１の光学異方性層が、下記式（３−１−１）を満たし、
   前記第２の光学異方性層が、下記式（３−２−１）および（３−２−２）を満たす請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
   １００ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦３００ｎｍ 式（３−１−１）
   ９０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１９０ｎｍ 式（３−２−１）
   ４０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１００ｎｍ 式（３−２−２）
7. 前記第１の光学異方性層が、液晶性化合物を含む光学異方性層である請求項６に記載の液晶表示装置。
8. 前記第１の光学異方性層に含まれる前記液晶性化合物がディスコティック液晶性化合物であり、前記第１の光学異方性層が下記式（４−１−１）を満たす、請求項５または７に記載の液晶表示装置。
   ０．９＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０（５５０）≦１．２ 式（４−１−１）
   （Ｒｅ４０（λ）は、波長λｎｍにおける極角４０°から測定したレターデーションを表す。）
9. 前記第２の光学異方性層に含まれる前記液晶性化合物が棒状液晶性化合物である、請求項６または７に記載の液晶表示装置。
10. 前記第２の光学異方性層が下記式（５−２−１）を満たす、請求項９に記載の液晶表示装置。
    Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０ 式（５−２−１）
11. 視認側から、前記第１の偏光子、前記第１の光学異方性層、前記液晶セル、前記第２の光学異方性層、および、前記第２の偏光子をこの順に有する請求項１〜１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
12. 視認側から、前記第１の偏光子、前記第２の光学異方性層、前記液晶セル、前記第１の光学異方性層、および、前記第２の偏光子をこの順に有する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
13. 前記第１の光学異方性層および前記第２の光学異方性層のいずれもが、前記第１の偏光子と前記液晶セルとの間および前記第２の偏光子と前記液晶セルとの間のいずれか一方の間のみに配置されている請求項１〜１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
14. 前記第１の光学異方性層および前記第２の光学異方性層が配置されていない側の前記偏光子が、粘着剤または接着剤を介して前記液晶セルに配置されている、請求項１３に記載の液晶表示装置。
15. 前記第１の偏光子および前記第２の偏光子の、前記液晶セルと反対側の少なくとも一方に、保護膜を有し、
    前記保護膜の透湿度が１００ｇ／ｍ²／２４ｈ以下である、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
16. 前記第１の光学異方性層および前記第２の光学異方性層の少なくとも一方の透湿度が、１００ｇ／ｍ²／２４ｈ以下である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
17. 前記第１偏光子および前記第２の偏光子の、前記液晶セルと反対側の少なくとも一方に、ラミネートフィルムを有し、
    前記ラミネートフィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が５０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下である、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
18. 前記第１の偏光子および前記第２の偏光子の少なくとも一方の偏光子の厚さが２５μｍ以下である、請求項１〜１７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。