JP2014157339A - レジスト剥離剤組成物 - Google Patents
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Abstract
【課題】レジストに対して高い剥離性を有し、かつ液安定性に優れるレジスト剥離剤組成物の提供。
【解決手段】本発明のレジスト剥離剤組成物は、下記（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有する。（Ａ）成分：第４級アンモニウムの水酸化物。（Ｂ）成分：アルカリ金属の水酸化物。（Ｃ）成分：アルカノールアミン。（Ｄ）成分：下記一般式（１）で表される化合物および／またはその塩。（Ｅ）成分：下記一般式（２）で表される化合物。
［化１］
［化２］
【選択図】なし
【解決手段】本発明のレジスト剥離剤組成物は、下記（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有する。（Ａ）成分：第４級アンモニウムの水酸化物。（Ｂ）成分：アルカリ金属の水酸化物。（Ｃ）成分：アルカノールアミン。（Ｄ）成分：下記一般式（１）で表される化合物および／またはその塩。（Ｅ）成分：下記一般式（２）で表される化合物。
［化１］
［化２］
【選択図】なし
Description
本発明は、レジスト剥離剤組成物に関する。
カラーフィルターは、ガラス基板と、該ガラス基板上に形成されたレジストおよび電極とを備えている。レジストは、カラーレジストである赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）パターンと、各画素間の漏れ光を遮断してカラーコントラストの改善や外部光反射の抑制による視野性の向上等の役割を果たすブラックマトリックス（ＢＭ）とで構成されている。
カラーフィルターは、通常、以下のようにして製造される。
まず、ガラス基板上にブラックマトリックスの構成材料（ＢＭ材料）を塗布してパターンを露光し、光重合反応によりＢＭ材料を硬化させる。現像により露光されていない部分を除去してブラックマトリックスパターンを形成した後、カラーレジストについてもブラックマトリックスと同様にして、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）毎にカラーレジストの構成材料（レジスト材料）を用いてカラーレジストパターンを形成する。欠陥検査後、必要に応じて透明保護膜（オーバーコート膜）を形成し、さらに透明導電膜（ＩＴＯ電極）を形成して、カラーフィルターを得る。以下、透明保護膜および透明導電膜を形成する前のカラーフィルターをカラーフィルター基板という。
まず、ガラス基板上にブラックマトリックスの構成材料（ＢＭ材料）を塗布してパターンを露光し、光重合反応によりＢＭ材料を硬化させる。現像により露光されていない部分を除去してブラックマトリックスパターンを形成した後、カラーレジストについてもブラックマトリックスと同様にして、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）毎にカラーレジストの構成材料（レジスト材料）を用いてカラーレジストパターンを形成する。欠陥検査後、必要に応じて透明保護膜（オーバーコート膜）を形成し、さらに透明導電膜（ＩＴＯ電極）を形成して、カラーフィルターを得る。以下、透明保護膜および透明導電膜を形成する前のカラーフィルターをカラーフィルター基板という。
ＢＭ材料としては、従来クロム系金属材料が用いられていたが、近年、経済性や環境の面から樹脂系材料が主流となっている。樹脂系材料に含まれる樹脂としては、通常、アクリル系樹脂が用いられる。
一方、レジスト材料に含まれる樹脂としては、通常、アクリル系樹脂やエポキシ樹脂が用いられる。
一方、レジスト材料に含まれる樹脂としては、通常、アクリル系樹脂やエポキシ樹脂が用いられる。
従来、欠陥検査により不良品と判定されたカラーフィルター基板は、廃棄処分されていた。
しかし、経済性や環境の面から、近年では不良品となったカラーフィルター基板上のレジストを除去し、ガラス基板を再使用している。
しかし、経済性や環境の面から、近年では不良品となったカラーフィルター基板上のレジストを除去し、ガラス基板を再使用している。
カラーフィルター基板上のレジストを除去するための剥離剤として、例えば特許文献１には無機アルカリ水酸化物および／または第４級アンモニウム水酸化物と、アルカノールアミン類等のアミン化合物と、環状アルコール系溶剤等の有機溶剤と、カルボン酸またはヒドロキシカルボン酸等の有機酸およびその塩と、水とを含むレジスト剥離液組成物が開示されている。
しかしながら、特許文献１に記載の剥離液組成物は、液が分離したり析出物が発生したりしやすく、液安定性に劣るものであった。レジストを除去する場合、通常、カラーフィルター基板に剥離剤をスプレーやシャワーで吹き付けてレジストを剥離する。剥離剤の液安定性が悪いとカラーフィルター基板に均一に吹き付けることができないため、レジストを十分に剥離できなくなる。
また、ＢＭ材料とレジスト材料の樹脂組成が異なる場合、１種類の剥離剤ではブラックマトリックスとカラーレジストとを剥離することは困難であった。
本発明は上記事情を鑑みてなされたものであり、レジストに対して高い剥離性を有し、かつ液安定性に優れるレジスト剥離剤組成物を提供することを目的とする。
本発明は以下の態様を有する。
［１］ 下記（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有する、レジスト剥離剤組成物。
（Ａ）成分：第４級アンモニウムの水酸化物。
（Ｂ）成分：アルカリ金属の水酸化物。
（Ｃ）成分：アルカノールアミン。
（Ｄ）成分：下記一般式（１）で表される化合物および／またはその塩。
（Ｅ）成分：下記一般式（２）で表される化合物。
［１］ 下記（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有する、レジスト剥離剤組成物。
（Ａ）成分：第４級アンモニウムの水酸化物。
（Ｂ）成分：アルカリ金属の水酸化物。
（Ｃ）成分：アルカノールアミン。
（Ｄ）成分：下記一般式（１）で表される化合物および／またはその塩。
（Ｅ）成分：下記一般式（２）で表される化合物。
式（１）中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４のアルケニル基であり、Ｒ２は水素原子、またはメチル基であり、Ｍは水素原子、またはアルカリ金属である。
式（２）中、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルケニル基、またはヒドロキシ基であり、Ｒ４はメチレン基、またはオキシメチレン基であり、ｎは０〜２の整数である。
［２］ 前記（Ｄ）成分と（Ｅ）成分のモル比（（Ｄ）成分／（Ｅ）成分）が０．２０以上である、［１］に記載のレジスト剥離剤組成物。
［３］ カラーフィルター基板用である、［１］または［２］に記載のレジスト剥離剤組成物。
［３］ カラーフィルター基板用である、［１］または［２］に記載のレジスト剥離剤組成物。
本発明のレジスト剥離剤組成物は、レジストに対して高い剥離性を有し、かつ液安定性に優れる。
本発明のレジスト剥離剤組成物は、下記（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有する。
以下、各成分について説明する。
以下、各成分について説明する。
＜（Ａ）成分＞
（Ａ）成分は、第４級アンモニウムの水酸化物である。（Ａ）成分はエッチング作用によりレジストをカラーフィルター基板から剥離するアルカリ剤である。特に、カラーレジストに対する剥離性に優れ、後述の（Ｂ）成分との併用により、カラーレジストに対する剥離性が高まる。
（Ａ）成分は、第４級アンモニウムの水酸化物である。（Ａ）成分はエッチング作用によりレジストをカラーフィルター基板から剥離するアルカリ剤である。特に、カラーレジストに対する剥離性に優れ、後述の（Ｂ）成分との併用により、カラーレジストに対する剥離性が高まる。
（Ａ）成分としては、例えば水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、水酸化トリメチルベンジルアンモニウム、水酸化トリメチル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムなどが挙げられる。これらの中でも、水酸化テトラメチルアンモニウムが好ましい。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
（Ａ）成分の含有量は、レジスト剥離剤組成物１００質量％中、１〜１５質量％が好ましく、５〜１０質量％がより好ましい。（Ａ）成分の含有量が１質量％以上であれば、レジストに対する剥離性がより高まる。一方、（Ａ）成分の含有量が１５質量％以下であれば、液安定性がより良好となる。
＜（Ｂ）成分＞
（Ｂ）成分はアルカリ金属の水酸化物である。（Ｂ）成分はエッチング作用によりレジストをカラーフィルター基板から剥離するアルカリ剤である。特に、ブラックマトリックスに対する剥離性に優れ、後述の（Ｃ）成分との併用により、ブラックマトリックスに対する剥離性が高まる。
（Ｂ）成分はアルカリ金属の水酸化物である。（Ｂ）成分はエッチング作用によりレジストをカラーフィルター基板から剥離するアルカリ剤である。特に、ブラックマトリックスに対する剥離性に優れ、後述の（Ｃ）成分との併用により、ブラックマトリックスに対する剥離性が高まる。
（Ｂ）成分としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙げられる。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
（Ｂ）成分の含有量は、レジスト剥離剤組成物１００質量％中、１〜２０質量％が好ましく、２〜１０質量％がより好ましい。（Ｂ）成分の含有量が１質量％以上であれば、レジストに対する剥離性がより高まる。一方、（Ｂ）成分の含有量が２０質量％以下であれば、液安定性がより良好となる。
＜（Ｃ）成分＞
（Ｃ）成分はアルカノールアミンである。（Ｃ）成分はエッチング作用によりレジストをカラーフィルター基板から剥離するアルカリ剤である。特に、前記（Ｂ）成分との併用により、ブラックマトリックスに対する剥離性が高まる。また、（Ｃ）成分は後述の（Ｄ）成分との併用により、液安定性をより高める成分でもある。
（Ｃ）成分はアルカノールアミンである。（Ｃ）成分はエッチング作用によりレジストをカラーフィルター基板から剥離するアルカリ剤である。特に、前記（Ｂ）成分との併用により、ブラックマトリックスに対する剥離性が高まる。また、（Ｃ）成分は後述の（Ｄ）成分との併用により、液安定性をより高める成分でもある。
（Ｃ）成分としては、例えばモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、アミノエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルエタノールアミン、アミノエトキシエタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエトキシエタノール、イソプロパノールアミンなどが挙げられる。これらの中でも、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、イソプロパノールアミンが好ましく、イソプロパノールアミンがより好ましい。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
（Ｃ）成分の含有量は、レジスト剥離剤組成物１００質量％中、１〜２０質量％が好ましく、３〜１０質量％がより好ましい。（Ｃ）成分の含有量が１質量％以上であれば、レジストに対する剥離性、および液安定性がより高まる。一方、（Ｃ）成分の含有量が２０質量％以下であれば、液安定性がより良好となる。
また、（Ａ）成分と（Ｂ）成分と（Ｃ）成分の含有量の合計は、レジスト剥離剤組成物１００質量％中、３〜５５質量％が好ましく、１０〜３０質量％がより好ましい。（Ａ）〜（Ｃ）成分の含有量の合計が３質量％以上であれば、レジストに対する剥離性、および液安定性がより高まる。一方、（Ａ）〜（Ｃ）成分の含有量の合計が５５質量％以下であれば、液安定性がより良好となる。
また、（Ａ）成分と（Ｂ）成分と（Ｃ）成分の質量比（（Ａ）成分：（Ｂ）成分：（Ｃ）成分）は、（３４〜６３）：（６〜３７）：（２５〜４８）が好ましい。質量比が上記範囲内であれば、レジストに対する剥離性、および液安定性がより高まる。
＜（Ｄ）成分＞
（Ｄ）成分は、下記一般式（１）で表される化合物および／またはその塩である。（Ｄ）成分は後述の（Ｅ）成分をレジスト剥離剤組成物中に可溶化させ、液安定性を向上させる成分である。特に、前記（Ｃ）成分との併用により、液安定性が高まる。レジスト剥離剤組成物の液安定性が高いことで、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｅ）成分の相乗効果が高まり、剥離性がより良好となる。
（Ｄ）成分は、下記一般式（１）で表される化合物および／またはその塩である。（Ｄ）成分は後述の（Ｅ）成分をレジスト剥離剤組成物中に可溶化させ、液安定性を向上させる成分である。特に、前記（Ｃ）成分との併用により、液安定性が高まる。レジスト剥離剤組成物の液安定性が高いことで、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｅ）成分の相乗効果が高まり、剥離性がより良好となる。
式（１）中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４のアルケニル基であり、Ｒ２は水素原子、またはメチル基であり、Ｍは水素原子、またはアルカリ金属である。
Ｒ１がアルキル基またはアルケニル基である場合、Ｒ１の炭素数は１〜４であり、１〜３が好ましい。また、Ｒ１は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
Ｍがアルカリ金属である場合、Ｍとしてはナトリウム、カリウムなどが挙げられる。
Ｒ１がアルキル基またはアルケニル基である場合、Ｒ１の炭素数は１〜４であり、１〜３が好ましい。また、Ｒ１は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
Ｍがアルカリ金属である場合、Ｍとしてはナトリウム、カリウムなどが挙げられる。
（Ｄ）成分としては、例えばベンゼンスルホン酸、ｍ−キシレンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、クメンスルホン酸、およびこれらのナトリウム塩もしくはカリウム塩などが挙げられる。これらの中でも、ｍ−キシレンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、およびこれらのナトリウム塩もしくはカリウム塩が好ましく、ｍ−キシレンスルホン酸、およびそのナトリウム塩がより好ましい。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
（Ｄ）成分の含有量は、レジスト剥離剤組成物１００質量％中、５〜２０質量％が好ましく、８〜１５質量％がより好ましい。（Ｄ）成分の含有量が上記範囲内であれば、後述の（Ｅ）成分が分離するのを効果的に抑制し、液安定性をより高めることができる。
＜（Ｅ）成分＞
（Ｅ）成分は、下記一般式（２）で表される化合物である。（Ｅ）成分は前記（Ａ）〜（Ｃ）成分のエッチング作用により剥がれたレジストとガラス基板との間に浸透し、剥離効果を高める成分である。
（Ｅ）成分は、下記一般式（２）で表される化合物である。（Ｅ）成分は前記（Ａ）〜（Ｃ）成分のエッチング作用により剥がれたレジストとガラス基板との間に浸透し、剥離効果を高める成分である。
式（２）中、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルケニル基、またはヒドロキシ基であり、Ｒ４はメチレン基、またはオキシメチレン基であり、ｎは０〜２の整数である。
Ｒ３がアルキル基またはアルケニル基である場合、Ｒ３の炭素数は１〜４であり、１〜３が好ましい。また、Ｒ３は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
Ｒ３がアルキル基またはアルケニル基である場合、Ｒ３の炭素数は１〜４であり、１〜３が好ましい。また、Ｒ３は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
（Ｅ）成分としては、例えばベンジルアルコール、フェネチルアルコール、ｐ−ヒドロキシベンジルアルコール、ｐ−ヒドロキシフェネチルアルコール、２−フェノキシエタノールなどが挙げられる。これらの中でも、ベンジルアルコールが好ましい。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
（Ｅ）成分の含有量は、レジスト剥離剤組成物１００質量％中、５〜３０質量％が好ましく、１０〜２０質量％がより好ましい。（Ｅ）成分の含有量が５質量％以上であれば、レジストに対する剥離性がより高まる。一方、（Ｅ）成分の含有量が３０質量％以下であれば、液安定性がより良好となる。
また、前記（Ｄ）成分と（Ｅ）成分のモル比（（Ｄ）成分／（Ｅ）成分）は０．２０以上が好ましく、０．３５以上がより好ましい。モル比が０．２０以上であれば、（Ｅ）成分がより分離しにくくなり、液安定性がより向上し、透明均一な状態を良好に維持できる。モル比の上限値については、剥離性を維持する点で、１．４０以下が好ましく、０．７０以下がより好ましい。
＜その他の成分＞
本発明のレジスト剥離剤組成物は、（Ａ）〜（Ｅ）成分以外の成分として、溶媒を含有する。また、レジスト用の剥離剤に用いられる通常の添加剤を含有してもよい。
溶媒としては、例えば水などが挙げられる。
添加剤としては、例えば界面活性剤、キレート剤、酸化防止剤、防錆剤、消泡剤などが挙げられる。
本発明のレジスト剥離剤組成物は、（Ａ）〜（Ｅ）成分以外の成分として、溶媒を含有する。また、レジスト用の剥離剤に用いられる通常の添加剤を含有してもよい。
溶媒としては、例えば水などが挙げられる。
添加剤としては、例えば界面活性剤、キレート剤、酸化防止剤、防錆剤、消泡剤などが挙げられる。
＜製造方法＞
レジスト剥離剤組成物は、例えば（Ａ）〜（Ｅ）成分と、必要に応じて添加剤と、溶媒とを混合することにより製造される。
レジスト剥離剤組成物は、例えば（Ａ）〜（Ｅ）成分と、必要に応じて添加剤と、溶媒とを混合することにより製造される。
＜使用方法＞
本発明のレジスト剥離剤組成物は、カラーフィルター基板上のレジストの剥離に使用される剥離剤として好適である。
剥離方法としては、レジスト剥離剤組成物をレジストに接触させる方法であれば特に制限されず、例えばシャワー法、スプレー法、浸漬法、超音波法、およびこれらを組み合わせた方法などが挙げられる。
レジストを剥離した後は、通常、水による洗浄を行う。
また、本発明のレジスト剥離剤組成物は、カラーフィルター基板の製造装置内に付着したレジストの除去にも使用できる。
本発明のレジスト剥離剤組成物は、カラーフィルター基板上のレジストの剥離に使用される剥離剤として好適である。
剥離方法としては、レジスト剥離剤組成物をレジストに接触させる方法であれば特に制限されず、例えばシャワー法、スプレー法、浸漬法、超音波法、およびこれらを組み合わせた方法などが挙げられる。
レジストを剥離した後は、通常、水による洗浄を行う。
また、本発明のレジスト剥離剤組成物は、カラーフィルター基板の製造装置内に付着したレジストの除去にも使用できる。
＜作用効果＞
以上説明した本発明のレジスト剥離剤組成物は、３種類のアルカリ剤（（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分）を併有し、かつ（Ｄ）成分および（Ｅ）成分を併有する。（Ａ）成分と（Ｂ）成分とを併有することで特にカラーレジストに対する剥離性が高まる。さらに（Ｃ）成分を併有することで特にブラックマトリックスに対する剥離性が高まる。加えて、本発明のレジスト剥離剤組成物は（Ｅ）成分を含有するので、剥離効果が高まる。
以上説明した本発明のレジスト剥離剤組成物は、３種類のアルカリ剤（（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分）を併有し、かつ（Ｄ）成分および（Ｅ）成分を併有する。（Ａ）成分と（Ｂ）成分とを併有することで特にカラーレジストに対する剥離性が高まる。さらに（Ｃ）成分を併有することで特にブラックマトリックスに対する剥離性が高まる。加えて、本発明のレジスト剥離剤組成物は（Ｅ）成分を含有するので、剥離効果が高まる。
このように、ブラックマトリックスおよびカラーレジストの両方に対して剥離性を発現させるには、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分の全てに加え、（Ｅ）成分が必要である。その一方で、（Ｅ）成分は水などの溶媒に可溶しにくいため、（Ａ）〜（Ｃ）成分と分離しやすく、液安定性が低下する。
しかし、本発明のレジスト剥離剤組成物は（Ｄ）成分を含有するので、（Ｅ）成分がレジスト剥離剤組成物中で可溶化し、液安定性を維持しつつ、優れた剥離性を発現できる。
加えて、本発明のレジスト剥離剤組成物は液安定性に優れるので、シャワー法やスプレー法などでレジスト剥離剤組成物をカラーフィルター基板に吹き付けてレジストを剥離する場合でも、レジスト剥離剤組成物を均一に吹き付けることができ、剥離性を十分に発揮させることができる。
しかし、本発明のレジスト剥離剤組成物は（Ｄ）成分を含有するので、（Ｅ）成分がレジスト剥離剤組成物中で可溶化し、液安定性を維持しつつ、優れた剥離性を発現できる。
加えて、本発明のレジスト剥離剤組成物は液安定性に優れるので、シャワー法やスプレー法などでレジスト剥離剤組成物をカラーフィルター基板に吹き付けてレジストを剥離する場合でも、レジスト剥離剤組成物を均一に吹き付けることができ、剥離性を十分に発揮させることができる。
上述したように、従来、ＢＭ材料とレジスト材料の樹脂組成が異なる場合、１種類の剥離剤ではブラックマトリックスとカラーレジストとを剥離することは困難であった。
上述の通り、本発明のレジスト剥離剤組成物は（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有するので、ブラックマトリックスおよびカラーレジストの両方に対して高い剥離性を有する。よって、ＢＭ材料とレジスト材料の樹脂組成が異なっていても、１種類の剥離剤で容易にブラックマトリックスとカラーレジストとを剥離できる。
上述の通り、本発明のレジスト剥離剤組成物は（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有するので、ブラックマトリックスおよびカラーレジストの両方に対して高い剥離性を有する。よって、ＢＭ材料とレジスト材料の樹脂組成が異なっていても、１種類の剥離剤で容易にブラックマトリックスとカラーレジストとを剥離できる。
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
「使用原料」
（Ａ）成分として、以下に示す化合物を用いた。
・水酸化テトラメチルアンモニウム（[(ＣＨ３)４Ｎ]＋[ＯＨ]−）：東洋合成工業株式会社製、「ＴＭＡＨ−２５Ｈ」。
（Ａ）成分として、以下に示す化合物を用いた。
・水酸化テトラメチルアンモニウム（[(ＣＨ３)４Ｎ]＋[ＯＨ]−）：東洋合成工業株式会社製、「ＴＭＡＨ−２５Ｈ」。
（Ｂ）成分として、以下に示す化合物を用いた。
・水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）：旭硝子株式会社製、「４８％苛性ソーダ」。
・水酸化カリウム（ＫＯＨ）：旭硝子株式会社製、「４８％苛性カリ」。
・水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）：旭硝子株式会社製、「４８％苛性ソーダ」。
・水酸化カリウム（ＫＯＨ）：旭硝子株式会社製、「４８％苛性カリ」。
（Ｃ）成分として、以下に示す化合物を用いた。
・モノエタノールアミン（ＮＨ２(ＣＨ２)２ＯＨ）：三井化学株式会社製。
・ジエタノールアミン（ＨＯ(ＣＨ２)２ＮＨ(ＣＨ２)２ＯＨ）：三井化学株式会社製。
・イソプロパノールアミン（ＣＨ３ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ２ＮＨ２）：ダウ・ケミカル社製、「ＭＩＰＡ」。
・モノエタノールアミン（ＮＨ２(ＣＨ２)２ＯＨ）：三井化学株式会社製。
・ジエタノールアミン（ＨＯ(ＣＨ２)２ＮＨ(ＣＨ２)２ＯＨ）：三井化学株式会社製。
・イソプロパノールアミン（ＣＨ３ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ２ＮＨ２）：ダウ・ケミカル社製、「ＭＩＰＡ」。
（Ｄ）成分として、以下に示す化合物を用いた。
・ｐ−トルエンスルホン酸（ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３Ｈ）：江南化工株式会社製。
・ｍ−キシレンスルホン酸（(ＣＨ３)２Ｃ６Ｈ３ＳＯ３Ｈ）：北星興業株式会社製、「ＳＸＡ−６０」。
・ｐ−トルエンスルホン酸（ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３Ｈ）：江南化工株式会社製。
・ｍ−キシレンスルホン酸（(ＣＨ３)２Ｃ６Ｈ３ＳＯ３Ｈ）：北星興業株式会社製、「ＳＸＡ−６０」。
（Ｄ）成分の代替品（（Ｄ'）成分）として、以下に示す化合物を用いた。
・グルコン酸ナトリウム（ＨＯＣＨ２ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ(ＯＨ)ＣＯＯＮａ）：ライオン株式会社製。
・グルコン酸ナトリウム（ＨＯＣＨ２ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ(ＯＨ)ＣＯＯＮａ）：ライオン株式会社製。
（Ｅ）成分として、以下に示す化合物を用いた。
・ベンジルアルコール（Ｃ６Ｈ５ＣＨ２ＯＨ）：Ｔｅｓｓｅｎｄｅｒｌｏ社製。
・２−フェノキシエタノール（Ｃ６Ｈ５ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）：関東化学株式会社製。
・ベンジルアルコール（Ｃ６Ｈ５ＣＨ２ＯＨ）：Ｔｅｓｓｅｎｄｅｒｌｏ社製。
・２−フェノキシエタノール（Ｃ６Ｈ５ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）：関東化学株式会社製。
「実施例１」
＜レジスト剥離剤組成物の調製＞
表１に示す配合で各成分を混合して、レジスト剥離剤組成物を調製した。
得られたレジスト剥離剤組成物について、以下のようにして液安定性および剥離性を評価した。これらの結果を表１に示す。
なお、表１中の配合量の単位は質量％であり、純分換算量を示す。また、バランス量の水とは、最終生成物であるレジスト剥離剤組成物の総量（全体量）が１００質量％になるように配合量を調整した水のことである。
＜レジスト剥離剤組成物の調製＞
表１に示す配合で各成分を混合して、レジスト剥離剤組成物を調製した。
得られたレジスト剥離剤組成物について、以下のようにして液安定性および剥離性を評価した。これらの結果を表１に示す。
なお、表１中の配合量の単位は質量％であり、純分換算量を示す。また、バランス量の水とは、最終生成物であるレジスト剥離剤組成物の総量（全体量）が１００質量％になるように配合量を調整した水のことである。
＜液安定性の評価＞
レジスト剥離剤組成物を２５℃、４０℃、および−５℃の環境下で１ヶ月間保存した。保存後のレジスト剥離剤組成物の外観を以下のように観察し、以下の評価基準にて液安定性を評価した。評価が◎または○であれば、十分な液安定性を有すると判断する。
（観察方法）
外観観察：レジスト剥離剤組成物の外観を目視にて観察し、析出物や液分離の有無を調べた。
（評価基準）
◎：２５℃、４０℃、−５℃のいずれの環境下で保存しても、析出物および液分離は見られなかった。
○：２５℃の環境下で保存した場合は析出物および液分離は見られなかったが、４０℃および／または−５℃の環境下で保存した場合は析出物および／または液分離が見られた。
△：２５℃、４０℃、−５℃のいずれの環境下で保存した場合も、析出物および／または液分離が見られた。
×：レジスト剥離剤組成物の調製直後に析出物や液分離が生じた。
レジスト剥離剤組成物を２５℃、４０℃、および−５℃の環境下で１ヶ月間保存した。保存後のレジスト剥離剤組成物の外観を以下のように観察し、以下の評価基準にて液安定性を評価した。評価が◎または○であれば、十分な液安定性を有すると判断する。
（観察方法）
外観観察：レジスト剥離剤組成物の外観を目視にて観察し、析出物や液分離の有無を調べた。
（評価基準）
◎：２５℃、４０℃、−５℃のいずれの環境下で保存しても、析出物および液分離は見られなかった。
○：２５℃の環境下で保存した場合は析出物および液分離は見られなかったが、４０℃および／または−５℃の環境下で保存した場合は析出物および／または液分離が見られた。
△：２５℃、４０℃、−５℃のいずれの環境下で保存した場合も、析出物および／または液分離が見られた。
×：レジスト剥離剤組成物の調製直後に析出物や液分離が生じた。
＜剥離性の評価＞
ガラス基板上にブラックマトリックスおよびカラーレジストとで構成されたレジストが形成されたカラーフィルター基板を用意した。
カラーフィルター基板を調製直後のレジスト剥離剤組成物に７０℃で２０分間浸漬させた後、水で洗浄し、乾燥させた。乾燥後のカラーフィルター基板の外観を以下のように観察し、以下の評価基準にて剥離性を評価した。評価が◎または○であれば、十分な剥離性を有すると判断する。
（観察方法）
外観観察：浸漬・洗浄・乾燥後のカラーフィルター基板の外観を目視にて観察し、ブラックマトリックス（ＢＭ）およびカラーレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の残留物をそれぞれ確認した。また。浸漬前のカラーフィルター基板の外観と比較した。
顕微鏡観察：浸漬・洗浄・乾燥後のカラーフィルター基板の表面を顕微鏡で観察し、残留しているブラックマトリックス（ＢＭ）およびカラーレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の量をそれぞれ確認した。
（評価基準）
◎：目視観察で残留物を確認できず、かつ顕微鏡観察で１００％除去された状態。
○：目視観察で残留物を確認できたが、顕微鏡観察で９０％以上１００％未満除去された状態。
△：目視観察で残留物を確認でき、顕微鏡観察で５０％以上９０％未満除去された状態。
×：目視観察で残留物を確認でき、顕微鏡観察で５０％以上残存している状態、あるいは浸漬前のカラーフィルター基板とほぼ同じ状態。
ガラス基板上にブラックマトリックスおよびカラーレジストとで構成されたレジストが形成されたカラーフィルター基板を用意した。
カラーフィルター基板を調製直後のレジスト剥離剤組成物に７０℃で２０分間浸漬させた後、水で洗浄し、乾燥させた。乾燥後のカラーフィルター基板の外観を以下のように観察し、以下の評価基準にて剥離性を評価した。評価が◎または○であれば、十分な剥離性を有すると判断する。
（観察方法）
外観観察：浸漬・洗浄・乾燥後のカラーフィルター基板の外観を目視にて観察し、ブラックマトリックス（ＢＭ）およびカラーレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の残留物をそれぞれ確認した。また。浸漬前のカラーフィルター基板の外観と比較した。
顕微鏡観察：浸漬・洗浄・乾燥後のカラーフィルター基板の表面を顕微鏡で観察し、残留しているブラックマトリックス（ＢＭ）およびカラーレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の量をそれぞれ確認した。
（評価基準）
◎：目視観察で残留物を確認できず、かつ顕微鏡観察で１００％除去された状態。
○：目視観察で残留物を確認できたが、顕微鏡観察で９０％以上１００％未満除去された状態。
△：目視観察で残留物を確認でき、顕微鏡観察で５０％以上９０％未満除去された状態。
×：目視観察で残留物を確認でき、顕微鏡観察で５０％以上残存している状態、あるいは浸漬前のカラーフィルター基板とほぼ同じ状態。
「実施例２〜９、比較例１〜６」
各成分の配合量を表１、２に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして各例のレジスト剥離剤組成物を調製し、各種評価を行った。結果を表１、２に示す。
各成分の配合量を表１、２に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして各例のレジスト剥離剤組成物を調製し、各種評価を行った。結果を表１、２に示す。
表１から明らかなように、各実施例で得られたレジスト剥離剤組成物は、ブラックマトリックスおよびカラーレジストの両方に対して高い剥離性を有し、かつ液安定性に優れていた。
実施例１、７、９を比較すると、（Ｄ）成分と（Ｅ）成分のモル比（（Ｄ）成分／（Ｅ）成分）が０．２０以上である実施例１、９のレジスト剥離剤組成物は、液安定性に特に優れていた。
実施例１、７、９を比較すると、（Ｄ）成分と（Ｅ）成分のモル比（（Ｄ）成分／（Ｅ）成分）が０．２０以上である実施例１、９のレジスト剥離剤組成物は、液安定性に特に優れていた。
一方、（Ａ）成分、または（Ｂ）成分を含有しない比較例１、２のレジスト剥離剤組成物は、ブラックマトリックス（ＢＭ）およびカラーレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に対する剥離性に劣っていた。
（Ｃ）成分を含有しない比較例３のレジスト剥離剤組成物は、ブラックマトリックス（ＢＭ）に対する剥離性に劣っていた。
（Ｄ）成分を含有しない比較例４のレジスト剥離剤組成物は、液安定性に劣っていた。また、ブラックマトリックス（ＢＭ）およびカラーレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に対する剥離性も劣っていた。
（Ｄ）成分の代わりに、グルコン酸ナトリウムを用いた比較例５のレジスト剥離剤組成物は、液安定性に劣っていた。また、ブラックマトリックス（ＢＭ）およびカラーレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に対する剥離性も劣っていた。
（Ｅ）成分を含有しない比較例６のレジスト剥離剤組成物は、ブラックマトリックス（ＢＭ）およびカラーレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に対する剥離性に劣っていた。
（Ｃ）成分を含有しない比較例３のレジスト剥離剤組成物は、ブラックマトリックス（ＢＭ）に対する剥離性に劣っていた。
（Ｄ）成分を含有しない比較例４のレジスト剥離剤組成物は、液安定性に劣っていた。また、ブラックマトリックス（ＢＭ）およびカラーレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に対する剥離性も劣っていた。
（Ｄ）成分の代わりに、グルコン酸ナトリウムを用いた比較例５のレジスト剥離剤組成物は、液安定性に劣っていた。また、ブラックマトリックス（ＢＭ）およびカラーレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に対する剥離性も劣っていた。
（Ｅ）成分を含有しない比較例６のレジスト剥離剤組成物は、ブラックマトリックス（ＢＭ）およびカラーレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に対する剥離性に劣っていた。
Claims (3)
- 下記（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有する、レジスト剥離剤組成物。
（Ａ）成分：第４級アンモニウムの水酸化物。
（Ｂ）成分：アルカリ金属の水酸化物。
（Ｃ）成分：アルカノールアミン。
（Ｄ）成分：下記一般式（１）で表される化合物および／またはその塩。
（Ｅ）成分：下記一般式（２）で表される化合物。
- 前記（Ｄ）成分と（Ｅ）成分のモル比（（Ｄ）成分／（Ｅ）成分）が０．２０以上である、請求項１に記載のレジスト剥離剤組成物。
- カラーフィルター基板用である、請求項１または２に記載のレジスト剥離剤組成物。
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