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JP2014139667A - Transparent body and fitting - Google Patents

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JP2014139667A
JP2014139667A JP2013263453A JP2013263453A JP2014139667A JP 2014139667 A JP2014139667 A JP 2014139667A JP 2013263453 A JP2013263453 A JP 2013263453A JP 2013263453 A JP2013263453 A JP 2013263453A JP 2014139667 A JP2014139667 A JP 2014139667A
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JP
Japan
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height
transparent body
microprojections
microprotrusions
microprojection
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Pending
Application number
JP2013263453A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuki Harito
一樹 播戸
Yuichi Miyazaki
祐一 宮崎
Noboru Masubuchi
暢 増淵
Yoichiro Ohashi
洋一郎 大橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2013263453A priority Critical patent/JP2014139667A/en
Publication of JP2014139667A publication Critical patent/JP2014139667A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To achieve a transparent body which enables the inside and the outside with the transparent body sandwiched therebetween to be more clearly observed, improves visibility of the transparent body without largely impairing a function of improving daylighting, and can prevent collision and the like, and to achieve a fitting including the transparent body.SOLUTION: A transparent body has a formation region 4 of anti-reflective minute projections, and a non-formation region 5 of the anti-reflective minute projections, on at least one surface 2s of a transparent base material 2. In the formation region of the anti-reflective minute projections, the minute projections are arranged in close contact with each other, and a space between the adjacent minute projections is a shortest wavelength of a wavelength band of electromagnetic waves preventing reflection, or less. The transparent body is used for observation or daylighting of at least the other surface 2r from one surface 2s.

Description

本願発明は、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下の間隔で多数の微小突起を密接配置して、反射防止を図る透明体、特に、窓ガラスやガラス扉、ショウウィンドウ、ショウケース等に用いられる透明体及びこの透明体を用いた建具に関するものである。   The invention of the present application is a transparent body for preventing reflection by arranging a large number of minute protrusions closely at intervals of not more than the shortest wavelength of the electromagnetic wave wavelength band for preventing reflection, in particular, window glass, glass door, show window, showcase, etc. The present invention relates to a transparent body that is used in the above and a joinery using the transparent body.

近年、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下の間隔で多数の微小突起を密接配置して、反射防止を図る透明体の利用が拡大している。   In recent years, the use of a transparent body that prevents reflection by increasing the number of minute projections closely spaced at an interval equal to or shorter than the shortest wavelength in the wavelength band of electromagnetic waves for preventing reflection has been increasing.

表面に多数の微小突起を密接配置して反射防止を図る方法は、いわゆるモスアイ(Moth eye:蛾の目)構造を利用したものであり、入射光に対する屈折率を基板の厚み方向に連続的に変化させ、これにより屈折率の不連続面を消失させて反射防止を図るものである。   A method of closely arranging a large number of microprotrusions on the surface to prevent reflection uses a so-called moth-eye structure, and the refractive index for incident light is continuously measured in the thickness direction of the substrate. By changing this, the discontinuous surface of the refractive index disappears to prevent reflection.

特許文献1に記載されているように、このような透明体の出現は古いが、当時は、微小突起を多数作るプロセスは、コストがかかり、また大面積への適用が難しかった。すなわち、特許文献1に記載の記述を説明すれば、表面反射を減らすべきレンズ等の光学部品に対して、その表面にフォトレジスト等を塗布し、露光し、現像する等して、レジストパターンを作製し、該パターンによりガラス基材を腐蝕することで、光学部品の表面に一品毎に直接、微細凹凸を造形する方法である。但し、この方法では、作業能率が悪く、工業製品に必要な生産性(量産性)は得られない。従って、その利用は、光学機器など、比較的小面積で付加価値の高い分野に限られていた。   As described in Patent Document 1, the appearance of such a transparent body is old, but at that time, the process for producing a large number of microprojections was costly and difficult to apply to a large area. That is, if the description of patent document 1 is demonstrated, a photoresist pattern etc. will be apply | coated to the surface with respect to optical components, such as a lens which should reduce surface reflection, and it will expose, develop, etc. This is a method of forming fine irregularities directly on the surface of the optical component for each product by producing and corroding the glass substrate with the pattern. However, with this method, the work efficiency is poor and the productivity (mass productivity) required for industrial products cannot be obtained. Therefore, its use has been limited to fields with a relatively small area and high added value, such as optical equipment.

特許文献2に記載されているように、アルミニウムの陽極酸化を利用して作製した版を利用することにより製造コストの低減が図られた。   As described in Patent Document 2, the production cost was reduced by using a plate produced by utilizing anodization of aluminum.

さらに、特許文献3に記載されているように、微細凹凸は、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小波長をλMIN、該微細凹凸の最凸部に於ける周期をPMAXとしたときに、PMAX≦λMINなる関係を有し、且つ該微細凹凸をその凹凸方向と直交する面で切断したと仮定したときの断面内に於ける基材の材料部分の断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部から最凹部に行くに従って連続的に漸次増加して行く様な凹凸であり、且つ、上記微細凹凸は、最凸部を有する山側の形状が、最凹部を有する谷側の形状に比べて、より尖った形状を成している構成としたことにより光透過率が向上するなどの改善がなされている。 Further, as described in Patent Document 3, for the fine unevenness, the minimum wavelength in the vacuum in the wavelength band of visible light is λ MIN , and the period at the most convex portion of the fine unevenness is P MAX . Sometimes, the cross-sectional area occupancy ratio of the material portion of the base material in the cross-section when it is assumed that P MAX ≦ λ MIN and the fine unevenness is cut along a plane orthogonal to the unevenness direction. , The unevenness that gradually increases gradually from the most convex part of the fine unevenness to the most concave part, and the above-mentioned fine unevenness has a peak-side shape having the most convex part and a valley having the most concave part. Compared to the shape on the side, the configuration having a sharper shape improves the light transmittance and the like.

特開昭50−70040号公報Japanese Patent Laid-Open No. 50-70040 特表2003−531962号公報Special Table 2003-531962 特許第4197100号公報Japanese Patent No. 4197100

このように、製造コストの低減により、このような透明体1を、例えば、ガラス窓、ガラス扉、ガラス壁(面)やショウウィンドウ、ショウケースなどに用いるガラスやアクリル樹脂(アクリルガラス)等の透明体に適用する用途広がりつつある。透明体を挟んでの内部や外部を観察する際に、いわゆる、映り込みが少なく、透明体の存在を意識することなく、よりクリアに観察することを可能にしたり、採光を向上したりすることを可能とする。   Thus, by reducing the manufacturing cost, such a transparent body 1 is made of, for example, glass or acrylic resin (acrylic glass) used for a glass window, a glass door, a glass wall (surface), a show window, a show case, or the like. Applications for transparent bodies are expanding. When observing the inside and outside of a transparent body, the so-called reflection is small, and it is possible to observe more clearly without being aware of the presence of the transparent body, or to improve the daylighting. Is possible.

しかしながら、これらの用途において、透明性の向上と反射率の低下は、これらの透明体自体の視認性を著しく低下させるため透明体の存在に気付かずに鳥や動物、あるいは人間が透明体に衝突し、衝突の結果、破損により怪我をするといった危険がある。その対策として、従来より、透明体(窓ガラス等)の表面の一部に着色インキ、着色フィルム、或いは金属板からなる文字、記号、図形等を積層して、透明体の存在を視認せしめることも行なわれていた。しかし、これら文字等は視界を妨げ、美観も損ねると云う欠点が有った。   However, in these applications, improved transparency and reduced reflectivity significantly reduce the visibility of these transparent bodies themselves, so birds, animals, or humans collide with transparent bodies without noticing the presence of transparent bodies. However, there is a risk of injury due to damage as a result of the collision. As countermeasures, conventionally, the presence of a transparent body is visually recognized by laminating characters, symbols, figures, etc. made of colored ink, colored film, or metal plate on a part of the surface of a transparent body (window glass, etc.). Was also done. However, these characters have the disadvantage that they impede visibility and impair aesthetics.

また、採光を良くする目的で、窓ガラスなどに使用した場合は、特に日中、屋外から室内の様子が明瞭に観察でき、防犯及び私生活を覗かれるといった懸念や不安を生じるといった心理的によくない副作用を生じる。   In addition, when used on window glass, etc. for the purpose of improving daylighting, it is possible to observe the interior clearly from the outdoors, especially during the daytime. Produces no side effects.

本願発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、透明体を挟んでの内部や外部をよりクリアに観察することを可能にしたり、採光を向上したりする機能と外観を大きく損なうことなく、透明体の視認性を向上し、衝突などを防止することが可能な透明体と同透明体を含んで構成される建具を実現することを課題とする。また、透明体を挟んでの内部や外部をよりクリアに観察することを可能にしたり、採光を向上したりする機能を大きく損なうことなく、外部から室内の観察や、覗き込みなどのプライバシーなどを考慮した透明体と同透明体を含んで構成される建具を実現することを課題とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and makes it possible to observe the inside and outside of the transparent body more clearly, and greatly impairs the function and appearance for improving the daylighting. It is an object of the present invention to realize a joinery that includes the transparent body and the transparent body that can improve the visibility of the transparent body and prevent collision and the like. In addition, it allows you to observe the inside and outside of the transparent body more clearly, and without damaging the function of improving daylighting, etc. It is an object to realize a joinery configured to include the transparent body considered and the transparent body.

以上の状況を鑑み、鋭意研究開発を進め、本願発明の請求項1は、透明基材2の少なくとも一方の表面2sに、反射防止性微小突起の形成領域4と、反射防止性微小突起の非形成領域5を有する透明体1であって、前記反射防止性微小突起の形成領域4は、前記微小突起3が密接して配置され、隣接する前記微小突起3の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下であることを特徴とする透明体である。   In view of the above situation, earnest research and development is proceeding, and claim 1 of the present invention claims that at least one surface 2s of the transparent substrate 2 has antireflection microprojection formation region 4 and antireflection microprojection non-reflection. The transparent body 1 having the formation region 5, wherein the antireflection microprojection formation region 4 has the microprojections 3 arranged in close contact with each other, and the interval between the adjacent microprojections 3 is an electromagnetic wave for preventing reflection. It is a transparent body characterized by being less than or equal to the shortest wavelength of the wavelength band.

加えて、本願発明の請求項2は、前記透明基材2の両表面2s、2rにそれぞれ前記反射防止性微小突起の形成領域4と、前記反射防止性微小突起の非形成領域5を有する透明体1であり、一方の表面に形成された前記反射防止性微小突起の形成領域4と他方の表面に形成された前記反射防止性微小突起の形成領域4が前記透明基材2の法線方向で一致することを特徴とする請求項1に記載の透明体1である。   In addition, according to the second aspect of the present invention, a transparent region having the antireflection microprojection formation region 4 and the antireflection microprojection non-formation region 5 is formed on both surfaces 2s and 2r of the transparent substrate 2, respectively. The antireflection microprojection formation region 4 formed on one surface of the body 1 and the antireflection microprojection formation region 4 formed on the other surface are in the normal direction of the transparent substrate 2 The transparent body 1 according to claim 1, wherein:

加えて、本願発明の請求項3は、前記微小突起3の少なくとも一部が、頂点を複数有する微小突起3b、3c、・・・であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の透明体1である。   In addition, according to claim 3 of the present invention, at least a part of the microprojections 3 are microprojections 3b, 3c,... Having a plurality of apexes. This is a transparent body 1.

加えて、本願発明の請求項4は、請求項1〜請求項3のいずれかに記載の透明体を含んで構成されることを特徴とする建具である。   In addition, a fourth aspect of the present invention is a joinery comprising the transparent body according to any one of the first to third aspects.

請求項1に記載の発明によれば、反射防止性微小突起の形成領域4と反射防止性微小突起の非形成領域5が形成されることで、映り込み(反射)のほとんどない反射防止性微小突起の形成領域4と映り込み(反射)がある反射防止性微小突起の非形成領域5が同時に目に入る。従って、透明体1それ自体の視認性が向上することにより、注意が喚起され透明体1の存在を意識しやすくなり、人が、透明体1に衝突することを防止できる。しかも、視界(透視性)乃至美観も損ね無い。   According to the first aspect of the present invention, the antireflection microprojection formation region 4 and the antireflection microprojection non-formation region 5 are formed, so that there is almost no reflection (reflection). The projection formation region 4 and the antireflection microprojection non-formation region 5 having reflection (reflection) are simultaneously seen by the eyes. Therefore, by improving the visibility of the transparent body 1 itself, attention is drawn and it becomes easy to be aware of the presence of the transparent body 1, and it is possible to prevent a person from colliding with the transparent body 1. Moreover, the visibility (perspective property) or aesthetic appearance is not impaired.

また、居住空間の仕切り、窓等に適用すれば、採光を重視する領域(例えば人の目線より上方)に反射防止性微小突起の形成領域4を設け、覗かれたくない領域(例えば人の目線付近の高さ)を反射防止性微小突起の非形成領域5とすることで、覗かれたくない領域は、従来の窓同等に映り込みが生じ内部の様子が窺い難くなり採光性とプライバシーを守ることの両立が可能となる。   In addition, when applied to a partition of a living space, a window or the like, an antireflection micro-projection formation region 4 is provided in an area where lighting is important (for example, above the human eye), and an area that is not desired to be looked at (for example, the human eye) By making the neighborhood height) the non-reflective microprojection forming area 5, the area that you don't want to look into is reflected like a conventional window, making it difficult to see the inside and protecting lighting and privacy It is possible to achieve both.

さらに、請求項2に記載の構成要件を備えることにより、反射防止性微小突起の形成領域4と反射防止性微小突起の非形成領域5との光の反射率の差が、より大となる為、該透明体1の視認性が非常に向上する。従って、注意喚起もされやすくなりより確実に衝突などを回避できる。また、意匠性も向上させることができる。   Furthermore, by providing the structural requirement according to claim 2, the difference in light reflectance between the antireflection microprojection formation region 4 and the antireflection microprojection non-formation region 5 becomes larger. The visibility of the transparent body 1 is greatly improved. Therefore, it is easy to call attention, and collisions can be avoided more reliably. Moreover, the designability can also be improved.

さらに請求項3に記載の構成要件を備えることにより、1突起当たり1つの頂点を有する微小突起3a比して機械的強度が優れた1突起当たり複数の頂点を有する微小突起3b、3c、・・・が設けられることにより、外力が加わった場合、1突起当たり1つの頂点を有する微小突起3aのみの場合に比して、微小突起3が損傷しないようにすることができ、これにより反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。また仮に微小突起3が損傷した場合でも、その損傷個所の面積を低減することができ、これによっても反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。   Furthermore, by providing the constituent elements according to claim 3, microprojections 3 b, 3 c having a plurality of vertices per projection having excellent mechanical strength as compared with microprojections 3 a having one vertex per projection,... By providing an external force, it is possible to prevent the microprojections 3 from being damaged as compared with the case of only the microprojections 3a having one apex per projection, thereby preventing the antireflection function. It is possible to reduce local deterioration of the image and further reduce the appearance defects. Also, even if the microprojection 3 is damaged, the area of the damaged portion can be reduced, which can also reduce local deterioration of the antireflection function and further reduce the occurrence of appearance defects.

さらに請求項4に記載の構成要件を備えることにより、透明性(採光性)や反射防止機能と透明体1の視認性の向上(衝突の防止)やプライバシーの保持が両立可能で、且つ、意匠性に優れた建具とすることができる。   Furthermore, by providing the structural requirements described in claim 4, it is possible to achieve both transparency (lighting property) and antireflection function, transparency improvement of the transparent body 1 (prevention of collision) and maintenance of privacy, and design. It can be a joinery with excellent properties.

本願発明の一実施形態である第一の形態の透明体を示す模式図(平面図)である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic diagram (plan view) which shows the transparent body of the 1st form which is one Embodiment of this invention. 図1のX−X線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XX line of FIG. 本願発明の一実施形態である第二の形態の透明体を示す模式図(平面図)である。It is a schematic diagram (plan view) which shows the transparent body of the 2nd form which is one Embodiment of this invention. 図3のY−Y線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the YY line of FIG. 本願発明の一実施形態であるガラス扉(建具)の模式図である。It is a schematic diagram of the glass door (joint) which is one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態であるショウケースの模式図である。It is a schematic diagram of the showcase which is one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態であるアルミサッシ窓の模式図である。It is a schematic diagram of the aluminum sash window which is one Embodiment of this invention. 隣接突起の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of an adjacent protrusion. 極大点の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the maximum point. ドロネー図を示す図である。It is a figure which shows a Delaunay figure. 隣接突起間距離の計測に供される度数分布図である。It is a frequency distribution diagram used for the measurement of the distance between adjacent protrusions. 微小高さの説明に供される度数分布図である。It is a frequency distribution diagram used for description of minute height. 微小突起の説明に供される図である。It is a figure with which it uses for description of a microprotrusion. 微小突起の写真である。It is a photograph of a microprotrusion. 微小突起の谷底の包絡面が凹凸面(うねり)を呈する形態を示す概念断面図である。It is a conceptual sectional view showing the form in which the envelope surface of the valley bottom of the microprojection exhibits an uneven surface (waviness). 透明体の形成領域に形成された微小突起の高さhの度数分布の例を示す図である。It is a figure which shows the example of frequency distribution of the height h of the microprotrusion formed in the formation area of a transparent body. ロール版の作製工程を示す図である。It is a figure which shows the preparation process of a roll plate. 賦型用金型の製造工程における陽極酸化工程とエッチング工程とにより作製される微細孔を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the micropore produced by the anodic oxidation process and etching process in the manufacturing process of the shaping mold. 実施例の透明体の形成領域に形成された微小突起の高さhの度数分布を示す図である。It is a figure which shows the frequency distribution of the height h of the microprotrusion formed in the formation area of the transparent body of an Example.

以下、本願発明の実施形態について、図面を用いて以下に詳しく説明する。なお、本願発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本願発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that the present invention is not limited to the following embodiments, and can be implemented with appropriate modifications within the scope of the object of the present invention.

まず、図1から図4に本願実施形態の透明体1を2形態例示する。この透明体1は、透明基材2よりなり、その一方の表面2sに反射防止性微小突起3(以降、単に「微小突起」或いは「突起」とも略称する。又、複数の微小突起を総称する場合は、「微小突起群」或いは「突起群」と呼称する。)よりなる反射防止性微小突起の形成領域4(以降、単に、「形成領域4」とも略称する)と反射防止性微小突起の非形成領域5(以降、単に、「非形成領域5」とも略称する)を形成されているものである。透明体1は、窓ガラスやガラス扉、ショウウィンドウ、ショウケース等において、典型的な例としてはガラス板のように透光性の部材として用いられるものである。   First, FIG. 1 to FIG. 4 illustrate two forms of the transparent body 1 according to this embodiment. The transparent body 1 is made of a transparent substrate 2 and has an antireflection microprotrusion 3 (hereinafter simply referred to as “microprotrusion” or “protrusion”) on one surface 2s thereof. In this case, an antireflection microprojection formation region 4 (hereinafter simply referred to as “formation region 4”) and an antireflection microprojection composed of “microprojection group” or “projection group”. A non-formation region 5 (hereinafter simply referred to as “non-formation region 5”) is formed. The transparent body 1 is typically used as a translucent member such as a glass plate in a window glass, a glass door, a show window, a show case, or the like.

本願発明において、透明体1とは、光、特に可視光領域の波長(380nm以上780nm以下)の光を透過する固体の透明基材2の表面の少なくとも一部に、反射防止性微小突起の形成領域4を形成したものを示している。   In the present invention, the transparent body 1 is the formation of antireflection microprotrusions on at least a part of the surface of a solid transparent substrate 2 that transmits light, particularly light having a wavelength in the visible light region (380 nm or more and 780 nm or less). The region 4 is formed.

図1、図2に示したように、透明基材2の一方の表面2sに反射防止性小突起の形成領域4と反射防止性微小突起の非形成領域5の両方を設けることにより、非形成領域5においては、日光や電燈光の反射や風景の映り込みが生じ、形成領域4はこれらの反射や映り込みが殆ど生じない透明体1となる。   As shown in FIG. 1 and FIG. 2, non-formation is achieved by providing both the antireflection small projection formation region 4 and the antireflection microprojection non-formation region 5 on one surface 2 s of the transparent substrate 2. In the region 5, reflection of sunlight and electric light and reflection of scenery occur, and the formation region 4 becomes the transparent body 1 in which these reflection and reflection hardly occur.

透明体1の視認性向上、又は衝突の防止の観点からは、この反射や映り込みの差が認識され透明体1の存在を認識させる。従って、透明体1が存在することの視認性を向上させ、又は衝突を防止させるためには、反射防止性微小突起の形成領域4と反射防止性微小突起の非形成領域5の境界域が、目視で目立つ位置に形成されていると好適である。   From the viewpoint of improving the visibility of the transparent body 1 or preventing the collision, the difference in reflection and reflection is recognized and the presence of the transparent body 1 is recognized. Therefore, in order to improve the visibility of the presence of the transparent body 1 or prevent collision, the boundary area between the antireflection microprojection formation region 4 and the antireflection microprojection non-formation region 5 is: It is preferable that it is formed at a position that is conspicuous visually.

本願発明における微小突起3が密接して配置され、隣接する前記微小突起3の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である微小突起の形成領域である反射防止性微小突起の形成領域4は、反射率が通常1%以下、多くの場合0.1%以下ときわめて低く、また、映り込みがほとんど生じないために、非形成領域5との境界は、より明確に認識できる。   In the present invention, the microprotrusions 3 are closely arranged, and the interval between the adjacent microprotrusions 3 is a region where the microprojections are formed, which is equal to or less than the shortest wavelength of the wavelength band of the electromagnetic wave to prevent reflection. The formation region 4 has a very low reflectance of usually 1% or less, and in many cases 0.1% or less. Further, since the reflection hardly occurs, the boundary with the non-formation region 5 can be recognized more clearly. .

透明体1の視認性向上、又は衝突の防止の観点からは、例えば、一方の表面2sのみに反射防止性微小突起の形成領域4と反射防止性微小突起の非形成領域5が形成されている場合には、形成された面からの方が視認性は高く、また、明るい(光が照射されている)方から見た場合の方が視認性は高い。また、図3、図4に示したように透明基材2の一方の面2s及び他方の面2rの両面にそれぞれ反射防止性微小突起の形成領域4と、反射防止性微小突起の非形成領域5を有する透明体1であり、一方の面に形成された形成領域4と他方の面に形成された形成領域4が透明基材2の法線方向に於いて一致するように形成することにより、形成領域4は、透明基材2の両面に生じる反射や映り込みを生じないために、存在感は弱くなるが、非形成領域5との差がより一層明瞭となるために一層視認性を向上することができる。   From the viewpoint of improving the visibility of the transparent body 1 or preventing collision, for example, the antireflection microprojection formation region 4 and the antireflection microprojection non-formation region 5 are formed only on one surface 2s. In some cases, the visibility from the formed surface is higher, and the visibility is higher when viewed from a brighter side (irradiated with light). Further, as shown in FIGS. 3 and 4, the antireflection microprojection formation region 4 and the antireflection microprojection non-formation region are formed on both the one surface 2 s and the other surface 2 r of the transparent substrate 2, respectively. 5 is formed so that the formation region 4 formed on one surface and the formation region 4 formed on the other surface coincide with each other in the normal direction of the transparent substrate 2. The formation region 4 does not cause reflection or reflection that occurs on both surfaces of the transparent base material 2, so the presence is weakened, but the difference from the non-formation region 5 becomes more clear, so that the visibility is further improved. Can be improved.

さらに反射防止性微小突起の形成領域4と反射防止性微小突起の非形成領域5の境界は、単なる帯状よりも複雑な形状であるほうが目立ちやすく、全体に均一に存在するよりは、視線に入りやすい部分に集中して設けたほうが効果的である。大人の目線上、子供の目線上に衝突防止のデザイン(ヒトガタ(人形)の注意喚起図形、または文字で「注意」、「危険」のロゴ)、あるいは明確なパターン(バツ線、波線)を帯状に配すると効果的である。透明であるが何か物があると容易に知覚させることができ、且つ衝突を効果的に回避できる。デザイン性を重視したい場合には、店のロゴやアナグラム、トレードマーク、文様などを用いることも可能である。   Further, the boundary between the antireflection microprojection formation region 4 and the antireflection microprojection non-formation region 5 is more conspicuous if it is a complex shape than a simple band, and enters the line of sight rather than being uniformly present throughout. It is more effective to concentrate on easy-to-use parts. Anti-collision design on human eyes or children's eyes (Hitgata (doll) warning figure or “caution” or “danger” logo) or clear pattern (cross line, wavy line) It is effective to arrange it in Although it is transparent, it can be easily perceived as something is present, and collision can be effectively avoided. If you want to focus on design, you can use a store logo, anagram, trademark, or pattern.

夜景や風景を観察する窓などの用途であれば、反射防止性微小突起の形成領域4と反射防止性微小突起の非形成領域5の形成を室内側のみとすれば、室内からは、外部の観察しやすさと、視認性が両立した窓となり、また、透明体1の室外側の界面は反射や映り込みがあり、外側からは室内が観察されにくくなる。勿論、視認性も高くなる。   In the case of a window or the like for observing a night view or a landscape, if the formation of the antireflection microprojection formation region 4 and the antireflection microprojection non-formation region 5 is limited to the indoor side, the interior of the window It becomes a window having both easy observation and visibility, and the interface on the outdoor side of the transparent body 1 is reflected and reflected, making it difficult to observe the room from the outside. Of course, the visibility is also improved.

また、外部からの室内が見えても良い用途の場合には、透明基材2の両表面2s、2rにそれぞれ反射防止性微小突起の形成領域4と、反射防止性微小突起の非形成領域5を有する透明体1であり、一方の表面2sに形成された形成領域4と他方の表面2rに形成された形成領域4が透明基材2の法線方向で一致するように設ける(図3、図4)ことにより、内側からも外側からも観察しやすく、且つ、視認性の一段と良い窓が実現できる。   In the case of an application in which the room from the outside may be visible, an antireflection microprojection formation region 4 and an antireflection microprojection non-formation region 5 are formed on both surfaces 2s and 2r of the transparent substrate 2, respectively. The formation region 4 formed on one surface 2s and the formation region 4 formed on the other surface 2r are provided so as to coincide with each other in the normal direction of the transparent substrate 2 (FIG. 3, 4), it is possible to realize a window that is easy to observe from the inside and from the outside and has a better visibility.

いずれにしても、室内を明るくしても窓に反射や映り込みがないために屋外を快適に風景や、夜景を楽しめる。特に、夜景を鑑賞する際には、室内を暗くする必要がなく、明るい照明のもとで食事などをしながら快適に夜景を鑑賞することができる。而も、反射防止性微小突起の非形成領域5の表面で照明光を数%(屈折率1.5程度の硝子板の場合、法線方向からの入射光に対して片方の表面で4%程度両方の表面を合せ計8%程度)反射し、室内の光景も映り込む為、窓の存在が視認出來、窓や扉との衝突も防止し得る。   In any case, even if the room is bright, there are no reflections or reflections on the windows, so you can enjoy the outdoors and the night view comfortably. In particular, when viewing a night view, it is not necessary to darken the room, and it is possible to view the night view comfortably while having a meal under bright lighting. However, the illumination light is several percent on the surface of the non-reflective microprojection formation region 5 (in the case of a glass plate having a refractive index of about 1.5, 4% on one surface with respect to the incident light from the normal direction). Since both surfaces are reflected (approx. 8% in total) and the indoor scene is reflected, the presence of the window can be visually recognized and collision with the window or door can be prevented.

採光の向上とプライバシーの保護を両立させる用途の場合は、透明基材2の覗き見しやすい部分や覗き見られたくない部位を反射防止性微小突起の非形成領域5として、採光性を重視する部分に反射防止性微小突起の形成領域4として両領域を区別して形成することにより実現できる。
例えば、透明体1を窓ガラスなどに適用する場合には、人が覗き見し易い外部の地面から垂直方向で高さ80cm〜180cmの部分を反射防止性微小突起の非形成領域5として、比較的覗き込み難い外部の地面から垂直方向で高さ80cm以下の部分や、180cmより高い部分を反射防止性微小突起の形成領域4とすることで実現できる。(図7)
In the case of an application that achieves both improved daylighting and privacy protection, the portion of the transparent substrate 2 that is easily peeped or the portion that is not desired to be peeped is designated as the non-reflective microprojection non-formation region 5 and importance is placed on daylighting. This can be realized by forming both regions as the antireflection minute projection forming region 4 in a part.
For example, when the transparent body 1 is applied to a window glass or the like, a portion having a height of 80 cm to 180 cm in the vertical direction from the outside ground that is easy for a person to peep is used as the non-reflective microprojection formation region 5 for comparison. This can be realized by forming a portion having a height of 80 cm or less in the vertical direction from the outside ground, which is difficult to look into, or a portion higher than 180 cm, as the formation region 4 of the antireflection microprotrusions. (Fig. 7)

<透明基材>
本願発明で用いられる透明基材2は、用途によって各種材料が使用できるが、少なくとも可視光領域の波長(380nm以上780nm以下)の一部の光を透過する材料である必要がある。好ましくは、可視光領域の波長全般にわたって、高い透過率を有する材料であれば、本願発明を効果的に適用できる。さらに、採光の用途で使用する場合などは、赤外線領域の波長の光に対しても透過率を有する材料であれば明るさとともに、室内温度の上昇も期待できる。日光浴を目的とした部屋の窓、温室や農業用ビニールハウス等の紫外線も利用する用途の場合には紫外線領域にも透明性を有する材料が選択される。また、ショウウィンドウ、ショウケースや風景を鑑賞する目的の窓等の用途においては、可視光領域の波長全域においてできるだけ高い透過率であった方が違和感なく鑑賞でき好ましい。
<Transparent substrate>
Various materials can be used for the transparent substrate 2 used in the invention of the present application, but it is necessary to be a material that transmits at least part of light in the visible light wavelength range (380 nm to 780 nm). Preferably, the present invention can be effectively applied to any material having a high transmittance over the entire wavelength in the visible light region. In addition, when used in daylighting applications, it is possible to expect an increase in room temperature as well as brightness as long as the material has transmittance even for light having a wavelength in the infrared region. In the case of an application using ultraviolet rays such as a window of a room for sunbathing, a greenhouse or an agricultural greenhouse, a material having transparency also in the ultraviolet region is selected. In applications such as a show window, a showcase, or a window for viewing scenery, it is preferable that the transmittance is as high as possible in the entire wavelength range of the visible light region, because it is possible to appreciate without a sense of incongruity.

ここで透明基材2の材料としては、例えばTAC(Triacetyl cellulose)、等のセルロース(纖維素)系樹脂、PMMA(Poly(methyl methacrylate))等のアクリル系樹脂、PET(Polyethylene terephthalate)等のポリエステル系樹脂、PP(Poly(propene))等のポリオレフィン系樹脂、PVC(Polyvinyl chloride)等のビニル系樹脂、PC(Polycarbonate)等の各種透明樹脂フィルムの他に、例えばソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、PLZT等のセラミックス、石英、螢石等の各種透明無機材料等を適用することができる。   Here, examples of the material of the transparent substrate 2 include cellulose resins such as TAC (Triacetyl cellulose), acrylic resins such as PMMA (polymethyl methacrylate), and polyesters such as PET (Polyethylene terephthalate). In addition to various transparent resin films such as plastic resins, polyolefin resins such as PP (Poly (propene)), vinyl resins such as PVC (Polyvinyl chloride), PC (Polycarbonate), etc., for example, soda glass, potassium glass, lead glass Various transparent inorganic materials such as glass such as PLZT, ceramics such as PLZT, quartz, and meteorite can be applied.

<微小突起>
本願発明において透明基材2に形成される微小突起3は、図2に記載したように隣接する微小突起3同士の間隔dが、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長Λmin以下(d≦Λmin)となるよう密接して配置される。この実施形態では、微小突起3の形成は透明体1を介しての観察や採光性を向上させることを主目的とするため、この最短波長は、個人差、視覚条件を加味した可視光領域の最短波長(380nm)に設定され、間隔dは、ばらつきを考慮して100〜300nmとされる。またこの間隔dに係る隣接する微小突起3は、いわゆる隣り合う微小突起3であり、透明基材2側の付け根部分である微小突起3の裾(乃至麓)の部分が接している突起である。透明体1では微小突起3が密接して配置されることにより、微小突起3間の谷の部位を順次辿るようにして仮想的な線分を作成すると、平面視において各微小突起3を囲む多角形状領域を多数連結してなる網目状の模様が作製されることになる。間隔dに係る隣接する微小突起3は、この網目状の模様を構成する一部の線分を共有する突起である。
<Micro projection>
In the present invention, the minute protrusions 3 formed on the transparent substrate 2 have an interval d between adjacent minute protrusions 3 as shown in FIG. 2, which is equal to or less than the shortest wavelength Λmin of the wavelength band of electromagnetic waves to prevent reflection (d ≦ (Λmin) are closely arranged. In this embodiment, since the formation of the microprojections 3 is mainly aimed at improving the observation through the transparent body 1 and the daylighting property, this shortest wavelength is in the visible light region taking into account individual differences and visual conditions. The shortest wavelength (380 nm) is set, and the interval d is set to 100 to 300 nm in consideration of variation. The adjacent minute protrusions 3 related to the distance d are so-called adjacent minute protrusions 3, and are protrusions that are in contact with the hem (or heel) portion of the minute protrusion 3 that is the base portion on the transparent substrate 2 side. . In the transparent body 1, the microprojections 3 are closely arranged so that when a virtual line segment is created so as to sequentially follow the valleys between the microprojections 3, the polygons surrounding each microprojection 3 in a plan view. A mesh-like pattern formed by connecting a large number of shape regions is produced. The adjacent minute protrusions 3 related to the distance d are protrusions that share a part of the line segments constituting the mesh pattern.

なお微小突起3に関しては、より詳細には以下のように定義される。モスアイ構造による反射防止では、透明体1表面とこれに隣接する媒質との界面における有効屈折率を、厚み方向に連続的に変化させて反射防止を図るものであることから、微小突起3に関しては一定の条件を満足することが必要である。この条件のうち重要なものは突起間隔d及び突起高さHである。この1つである突起間隔dに関して、例えば特開昭50−70040号公報、特許第4632589号公報等に開示のように、微小突起3が一定周期で規則正しく配置されている場合、隣接する微小突起3の間隔dは、突起配列の周期P(d=P)となる。これにより可視光線帯域の最長波長をλmax、可視光線領域の最短波長をλmin、反射防止すべき光の波長帯域の最短波長をΛminとした場合に、最低限、可視光線帯域の最長波長において反射防止効果を奏し得る必要最小限の条件は、Λmin=λmaxであるため、P(=d)≦λmaxとなり、可視光線帯域の全波長(λmin≦λ≦λmax)に対して反射防止効果を奏し得る必要十分の条件は、Λmin=λminであるため、P(=d)≦λminとなる。   The minute protrusion 3 is defined in more detail as follows. In the antireflection by the moth-eye structure, the effective refractive index at the interface between the surface of the transparent body 1 and the medium adjacent thereto is continuously changed in the thickness direction to prevent the reflection. It is necessary to satisfy certain conditions. Among these conditions, important ones are the protrusion interval d and the protrusion height H. With respect to this one protrusion interval d, when the minute protrusions 3 are regularly arranged at a constant period as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-70040, Japanese Patent No. 4632589, etc., adjacent minute protrusions The interval d of 3 is the protrusion arrangement period P (d = P). As a result, when the longest wavelength in the visible light band is λmax, the shortest wavelength in the visible light region is λmin, and the shortest wavelength in the wavelength band of light to be anti-reflected is Λmin, antireflection is performed at the longest wavelength in the visible light band. Since the minimum necessary condition that can produce the effect is Λmin = λmax, P (= d) ≦ λmax, and it is necessary to exhibit the antireflection effect for all wavelengths in the visible light band (λmin ≦ λ ≦ λmax). A sufficient condition is Λmin = λmin, and therefore P (= d) ≦ λmin.

なお波長λmax、λminは、観察条件、光の強度(輝度)、個人差等にも依存して多少幅を持ち得るが、標準的には、λmax=780nm及びλmin=380nmとされる。これらにより可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、P(=d)≦300nmであり、より好ましい条件は、P≦200nmとなる。なお反射防止効果の発現及び反射率の等方性(低角度依存性)の確保等の理由から、周期Pの下限値は、通常、P≧50nm、好ましくは、P≧100nmとされる。又、斜方向(透明基材の法線方向から45度以上の方向)から見た場合の白濁を低減せしめる為には、好ましくはP≧150nm、より好ましくはP≧200nmとされる。これに対して突起の高さHは、十分な反射防止効果を発現させる観点より、H≧0.2×λmax=156nm(λmax=780nmとして)とされる。   The wavelengths λmax and λmin may have some width depending on observation conditions, light intensity (luminance), individual differences, and the like, but are typically λmax = 780 nm and λmin = 380 nm. Preferable conditions for more reliably exhibiting the antireflection effect for all wavelengths in the visible light band are P (= d) ≦ 300 nm, and more preferable conditions are P ≦ 200 nm. Note that the lower limit value of the period P is normally set to P ≧ 50 nm, preferably P ≧ 100 nm, for reasons such as the expression of the antireflection effect and the securing of isotropicity (low angle dependency) of the reflectance. Further, in order to reduce white turbidity when viewed from an oblique direction (a direction of 45 degrees or more from the normal direction of the transparent substrate), P ≧ 150 nm is preferable, and P ≧ 200 nm is more preferable. On the other hand, the height H of the protrusion is set to H ≧ 0.2 × λmax = 156 nm (assuming λmax = 780 nm) from the viewpoint of exhibiting a sufficient antireflection effect.

しかしながら本実施形態のように、微小突起3が不規則に配置されている場合には、隣接する微小突起3間の間隔dはばらつきを有することになる。より具体的には、図8に示すように、透明基材2の表面又は裏面の法線方向から見て平面視した場合に、微小突起3が一定周期で規則正しく配列されていない場合、突起の繰り返し周期Pによっては隣接突起間の間隔dは規定し得ず、また隣接突起の概念すら疑念が生じることになる。加えて、単に微小突起4同士の間の距離を所定個数計測して其の最大値を最大突起間距離として採用すると、傷、異物等による現実の突起間距離を反映し無いなんらかの異常値を採用する虞も有る。そこでこのような場合、以下のように算定される。   However, when the microprotrusions 3 are irregularly arranged as in the present embodiment, the distance d between the adjacent microprotrusions 3 varies. More specifically, as shown in FIG. 8, when viewed from the normal direction of the front surface or the back surface of the transparent substrate 2, when the microprojections 3 are not regularly arranged at a constant period, Depending on the repetition period P, the distance d between adjacent protrusions cannot be defined, and even the concept of adjacent protrusions may cause doubt. In addition, when a predetermined number of distances between the microprojections 4 are simply measured and the maximum value is adopted as the maximum interprotrusion distance, an abnormal value that does not reflect the actual interprotrusion distance due to scratches, foreign matter, etc. is adopted. There is also a risk of doing. Therefore, in such a case, it is calculated as follows.

(1)すなわち先ず、原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope;AFMと呼称する。)又は走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope:SEMと呼称する。)を用いて突起の面内配列(突起配列の平面視形状)を検出する。なお図8は、実際に本実施形態の透明体1に於ける微小突起3について原子間力顕微鏡により求められた微小突起3の高さ情報を画像データ化した拡大写真である。尚、図8の如き微小突起3を表面に有する本実施形態の透明体1は、透明基材2の法線方向から入射する波長帶域380〜780nmの範囲の可視光線に対して0.05〜0.1%の反射率を有する。   (1) That is, first, an in-plane arrangement of projections (plane of projection arrangement) using an atomic force microscope (referred to as AFM) or a scanning electron microscope (referred to as SEM). Visual shape) is detected. FIG. 8 is an enlarged photograph in which the height information of the microprojections 3 actually obtained by an atomic force microscope is converted into image data for the microprojections 3 in the transparent body 1 of the present embodiment. In addition, the transparent body 1 of this embodiment which has the microprotrusions 3 on the surface as shown in FIG. 8 is 0.05 with respect to visible light in a wavelength range of 380 to 780 nm incident from the normal direction of the transparent substrate 2. Has a reflectance of ˜0.1%.

(2)続いてこの求められた面内配列から各突起の高さの極大点(以下、単に極大点と呼ぶ)を検出する。極大点とは、高さが、其の近傍周辺の何れの点と比べても大(極大値)となる点を意味する。極大点が微小突起3の頂点に相当する。なお極大点を求める方法としては、平面視形状と対応する断面形状の拡大写真とを逐次対比して極大点を求める方法、高さデータを画像化した平面視拡大写真の画像処理によって極大点を求める方法、AFMから得られた微小突起3の高さデータの直接解析等、種々の手法を適用することができる。図9は、AFMにより測定した、図8に示した高さデータを画像化した拡大写真に対応する高さの面内分布データに係るデータの処理による極大点の検出結果を示す図であり、この図において黒点により示す個所がそれぞれ各突起の極大点である。なおこの処理では4.5×4.5画素のガウシアン特性によるローパスフィルタにより事前に高さデータを処理し、これによりノイズによる極大点の誤検出を防止した。また8画素×8画素による最大値検出用のフィルタを順次スキャンすることにより1nm(=1画素)単位で極大点を求めた。   (2) Subsequently, the maximum point of the height of each protrusion (hereinafter simply referred to as the maximum point) is detected from the obtained in-plane arrangement. The maximum point means a point where the height is larger (maximum value) than any point around the vicinity. The maximum point corresponds to the apex of the minute protrusion 3. In addition, as a method for obtaining the local maximum point, a method for obtaining the local maximum point by sequentially comparing the planar view shape and the enlarged photograph of the corresponding cross-sectional shape, and the local maximum point by image processing of the planar view enlarged photograph obtained by imaging the height data. Various methods such as a method for obtaining, and direct analysis of the height data of the microprojections 3 obtained from the AFM can be applied. FIG. 9 is a diagram illustrating a detection result of a local maximum point by processing data related to in-plane distribution data of height corresponding to an enlarged photograph obtained by imaging the height data illustrated in FIG. In this figure, each point indicated by a black dot is a maximum point of each protrusion. In this process, the height data is processed in advance by a low-pass filter having a Gaussian characteristic of 4.5 × 4.5 pixels, thereby preventing erroneous detection of the maximum point due to noise. Further, a maximum point was obtained in units of 1 nm (= 1 pixel) by sequentially scanning a filter for detecting a maximum value of 8 pixels × 8 pixels.

(3)次に検出した極大点を母点とするドロネー図(Delaunary Diagram)を作成する。ここでドロネー図とは、各極大点を母点としてボロノイ分割を行った場合に、ボロノイ領域が隣接する母点同士を隣接母点と定義し、各隣接母点同士を線分で結んで得られる3角形の集合体からなる網状図形である。各3角形は、ドロネー三角形と呼ばれ、各3角形の辺(隣接母点同士を結ぶ線分)は、ドロネー線と呼ばれる。図10は、図9から求められるドロネー図(白色の線分により表される図である)を図9による原画像と重ね合わせた図である。ドロネー図は、ボロノイ図(Voronoi diagram)と双対の関係に有る。またボロノイ分割とは、各隣接母点間を結ぶ線分(ドロネー線)の垂直二等分線同士によって画成される閉多角形の集合体からなる網状図形で平面を分割することを言う。ボロノイ分割により得られる網状図形がボロノイ図であり、各閉領域がボロノイ領域である。   (3) Next, a Delaunay diagram with the detected maximum point as a generating point is created. Here, Delaunay diagram is obtained by dividing the Voronoi region adjacent to the Voronoi region when the Voronoi division is performed with each local maximum as the generating point, and connecting the adjacent generating points with line segments. This is a net-like figure made up of triangular aggregates. Each triangle is called a Delaunay triangle, and each triangle side (line segment connecting adjacent generating points) is called a Delaunay line. FIG. 10 is a diagram in which the Delaunay diagram (represented by white line segments) obtained from FIG. 9 is superimposed on the original image of FIG. The Delaunay diagram has a dual relationship with the Voronoi diagram. Voronoi division means that a plane is divided by a net-like figure composed of a set of closed polygons defined by vertical bisectors of line segments (Droney lines) connecting between adjacent generating points. A network figure obtained by Voronoi division is a Voronoi diagram, and each closed region is a Voronoi region.

(4)次に、各ドロネー線の線分長の度数分布、すなわち隣接する極大点間の距離、を隣接突起間の距離と見做し、其の距離(以下、隣接突起間距離と呼ぶ)の度数分布を求める。図11は、図10のドロネー図から作成した度数分布のヒストグラムである。なお図8、図13に示すように、突起の頂部に溝状等の凹部が存在し、あるいは頂部が複数の峰に分裂している場合は、求めた度数分布から、このような突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に分裂している微細構造に起因するデータを除去し、突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を作成する。
尚、頂部が複数の峰に分裂し1突起当たり複数の頂点を有する微小突起を多峰性微小突起と呼称する。又、1突起当たり1つの頂点のみを有する(1つの峰のみを有する)微小突起を単峰性微小突起と呼称する。
(4) Next, the frequency distribution of the length of each Delaunay line, that is, the distance between adjacent maximum points, is regarded as the distance between adjacent protrusions, and the distance (hereinafter referred to as the distance between adjacent protrusions). Find the frequency distribution of. FIG. 11 is a histogram of the frequency distribution created from the Delaunay diagram of FIG. As shown in FIG. 8 and FIG. 13, when there is a groove-like recess at the top of the projection, or the top is split into a plurality of peaks, the top of such a projection is obtained from the obtained frequency distribution. The data resulting from the fine structure in which the concave portion is present and the fine structure in which the top portion is split into a plurality of peaks are removed, and only the data of the projection body itself is selected to create a frequency distribution.
In addition, the microprotrusion in which the top part is divided into a plurality of peaks and has a plurality of vertices per protrusion is referred to as a multimodal microprotrusion. A microprojection having only one vertex per projection (having only one peak) is referred to as a monomodal microprojection.

具体的には、突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に分裂している多峰性微小突起3b、3c、・・に係る微細構造においては、このような微細構造を備えていない単峰性微小突起3aの場合の数値範囲から、隣接極大点間距離が明らかに大きく異なることになる。これによりこの特徴を利用して対応するデータを除去することにより突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を検出する。より具体的には、例えば図8に示すような微小突起(群)の平面視の拡大写真から、5〜20個程度の互いに隣接する単峰性微小突起3aを選んで、その隣接極大点間距離の値を標本抽出し、この標本抽出して求められる数値範囲から明らかに外れる値(通常、単峰性微小突起のみを標本抽出して求められる隣接極大点間距離平均値に対して、値が1/2以下のデータ)を除外して度数分布を検出する。図11の例では、隣接極大点間距離が56nm以下のデータ(矢印Aにより示す左端の小山)を除外する。なお図11は、このような除外する処理を行う前の度数分布を示すものである。因みに上述の極大点検出用のフィルタの設定により、このような除外する処理を実行してもよい。   Specifically, in the fine structure in which the concave portion is present at the top of the protrusion, or the fine structure related to the multimodal microprotrusions 3b, 3c,. From the numerical range in the case of the unimodal microprotrusions 3a that are not provided, the distance between adjacent local maximum points is clearly different. Thus, by removing the corresponding data using this feature, only the data of the projection body itself is selected and the frequency distribution is detected. More specifically, for example, about 5 to 20 adjacent single-peak microprojections 3a are selected from an enlarged photograph of the microprojections (group) in plan view as shown in FIG. Sampling the distance value, and a value that clearly deviates from the numerical range obtained by sampling (usually the value for the average distance between adjacent maximum points obtained by sampling only single-peak microprojections) Is excluded, and the frequency distribution is detected. In the example of FIG. 11, data having a distance between adjacent maximum points of 56 nm or less (the leftmost small mountain indicated by the arrow A) is excluded. FIG. 11 shows a frequency distribution before such exclusion processing is performed. Incidentally, such exclusion processing may be executed by setting the above-described maximum point detection filter.

(5)このようにして求めた隣接突起間距離dの度数分布から平均値dAVG及び標準偏差σを求める。ここでこのようにして得られる度数分布を正規分布とみなして平均値dAVG及び標準偏差σを求めると、図11の例では、平均値dAVG=158nm、標準偏差σ=38nmとなった。これにより隣接突起間距離dの最大値を、dmax=dAVG+2σとし、この例ではdmax=234nmとなる。 (5) The average value d AVG and the standard deviation σ are obtained from the frequency distribution of the distance d between adjacent protrusions thus obtained. When the frequency distribution obtained in this way is regarded as a normal distribution and the average value d AVG and the standard deviation σ are obtained, the average value d AVG = 158 nm and the standard deviation σ = 38 nm are obtained in the example of FIG. Thus, the maximum value of the distance d between adjacent protrusions is set to dmax = d AVG + 2σ, and in this example, dmax = 234 nm.

なお同様の手法を適用して突起の高さを定義する。この場合、上述の(2)により求められる極大点から、特定の基準位置からの各極大点位置の相対的な高さの差を取得してヒストグラム化する。図12は、このようにして求められる突起付け根位置を基準(高さ0)とした突起高さHの度数分布のヒストグラムを示す図である。このヒストグラムによる度数分布から平均突起高さHAVG、標準偏差σを求める。ここでこの図12の例では、平均突起高さHAVG=178nm、標準偏差σ=30nmである。これによりこの例では、突起の高さは、平均突起高さHAVG=178nmとなる。なお図12に示す突起高さHのヒストグラムにおいて、多峰性微小突起3b、3c、・・の場合は、頂点(極大点)を複数有していることにより、1つの突起に対してこれら複数の突起高さデータが混在することになる。そこでこの場合は麓部が同一の微小突起に属するそれぞれ複数の頂点の中から高さの最も高い頂点を、当該微小突起の突起高さとして採用して度数分布を求める。又、麓部が同一の微小突起が複数の頂点を有し、且つ全頂点の高さが同一の場合は共通の該突起高さを以って、該微小突起の高さHと定義する。 The same method is applied to define the height of the protrusion. In this case, a relative height difference of each local maximum point position from a specific reference position is acquired from the local maximum point obtained by the above (2), and is histogrammed. FIG. 12 is a diagram showing a histogram of the frequency distribution of the protrusion height H with the protrusion root position thus obtained as a reference (height 0). The average protrusion height H AVG and standard deviation σ are obtained from the frequency distribution based on this histogram. Here, in the example of FIG. 12, the average protrusion height H AVG = 178 nm and the standard deviation σ = 30 nm. Accordingly, in this example, the height of the protrusion is the average protrusion height H AVG = 178 nm. In the histogram of the protrusion height H shown in FIG. 12, in the case of the multi-peak microprotrusions 3b, 3c,... The protrusion height data will be mixed. Therefore, in this case, the frequency distribution is obtained by adopting the vertex having the highest height from among the plurality of vertices belonging to the same microprotrusion as the protuberance. In addition, when the minute protrusions having the same collar portion have a plurality of vertices and the heights of all the vertices are the same, the height of the minute protrusion is defined as the common protrusion height.

なお上述した突起の高さを測る際の基準位置は、隣接する微小突起3の間の谷底(高さの極小点)を高さ0の基準とする。但し、係る谷底の高さ自体が場所によって異なる場合(例えば、図15について後述するように、谷底の高さが微小突起3の隣接突起間距離に比べて大きな周期でウネリを有する場合等)は、谷底の高さの変動幅が個々の突起高さに比べて十分小さい場合、具体的には、5〜20個の微小突起を標本抽出して求めた谷底の高さ分布に於ける標準偏差をσ、個々の微小突起3の隣接する谷底からの高さhの平均値をhAVGとしたときに、
4σ≦0.1hAVG
の場合については、以下の(1)〜(3)如く微小突起の高さを算出する。(1)先ず、透明基材2の表面又は裏面から測った各谷底の高さの平均値を、該平均値が收束するに足る面積の中で算出する。(2)次いで、該平均値の高さを持ち、透明基材2の表面又は裏面と平行な面を基準面として考える。(3)その後、該基準面を改めて高さ0として、該基準面からの各微小突起の高さを算出する。
In addition, the reference position when measuring the height of the projection described above is based on the valley bottom (minimum point of height) between the adjacent minute projections 3 as a reference of height 0. However, when the height of the valley bottom itself varies depending on the location (for example, as described later with reference to FIG. 15, the height of the valley bottom has undulation with a period larger than the distance between adjacent projections of the microprojections 3). When the fluctuation range of the height of the valley bottom is sufficiently smaller than the height of each protrusion, specifically, the standard deviation in the height distribution of the valley bottom obtained by sampling 5 to 20 minute protrusions. Is σ, and the average value of the height h from the adjacent valley bottom of each microprojection 3 is h AVG .
4σ ≦ 0.1h AVG
In the case of (1), the height of the microprojection is calculated as follows (1) to (3). (1) First, an average value of the heights of the valley bottoms measured from the front surface or the back surface of the transparent substrate 2 is calculated within an area sufficient for the average value to converge. (2) Next, a plane having the average height and parallel to the front or back surface of the transparent substrate 2 is considered as a reference plane. (3) Then, the height of each microprotrusion from the reference surface is calculated by setting the reference surface to a height of 0 again.

尚、図15に示す変形形態の如く、谷底の高さの変動幅が個々の突起高さに比べて十分大きい場合、具体的には、谷底の高さ分布の標準偏差σとしたときに、
4σ>0.1hAVG
の場合については、以下の(1)〜(3)如く微小突起の高さを算出する。此の場合は、以下のように突起高さを算出する。(1)各谷底の位置、即ち各高さの極小点を連ねる包絡面16を求める。(2)次いで、各突起の中心部直下の該包絡面16の高さを高さ=0として、該微小突起の高さを算出する。
In addition, as in the modification shown in FIG. 15, when the fluctuation range of the height of the valley bottom is sufficiently larger than the height of each protrusion, specifically, when the standard deviation σ of the height distribution of the valley bottom is used,
4σ> 0.1h AVG
In the case of (1), the height of the microprojection is calculated as follows (1) to (3). In this case, the protrusion height is calculated as follows. (1) The envelope surface 16 which connects the position of each valley bottom, that is, the minimum point of each height, is obtained. (2) Next, the height of the minute projection is calculated by setting the height of the envelope surface 16 immediately below the center of each projection to height = 0.

突起が不規則に配置されている場合には、このようにして求められる隣接突起間距離の最大値dmax=dAVG+2σ、平均突起高さHAVGが、規則正しく配置されている場合に於ける上述の条件を満足することが必要であることが判った。具体的には、反射防止効果を発現する微小突起間距離の条件は、dmax≦Λminとなる。最低限、可視光線帯域の最長波長において反射防止効果を奏し得る必要最小限の条件は、Λmin=λmaxであるため、dmax≦λmaxとなり、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得る必要十分の条件は、Λmin=λminであるため、dmax≦λminとなる。そして、可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、dmax≦300nmであり、更に好ましい条件は、dmax≦200nmである。また反射防止効果の発現及び反射率の等方性(低角度依存性)の確保等の理由から、通常、dmax≧50nmであり、好ましくは、dmax≧100nmとされる。また突起高さについては、十分な反射防止効果を発現する為には、HAVG≧0.2×λmax=156nm(λmax=780nmとして)とされる。 When the protrusions are irregularly arranged, the maximum value dmax = d AVG + 2σ of the distance between adjacent protrusions thus obtained and the average protrusion height H AVG described above in the case where the protrusions are regularly arranged. It was found necessary to satisfy the conditions. Specifically, the condition of the distance between the microprotrusions that exhibits the antireflection effect is dmax ≦ Λmin. The minimum necessary condition that can exhibit the antireflection effect at the longest wavelength in the visible light band is Λmin = λmax, and therefore dmax ≦ λmax, and the antireflection effect can be obtained for all wavelengths in the visible light band. The necessary and sufficient condition is Λmin = λmin, and therefore dmax ≦ λmin. A preferable condition that can more reliably exhibit the antireflection effect for all wavelengths in the visible light band is dmax ≦ 300 nm, and a more preferable condition is dmax ≦ 200 nm. Also, dmax ≧ 50 nm is usually satisfied and dmax ≧ 100 nm is preferable because of the antireflection effect and ensuring the isotropic (low angle dependency) of the reflectance. The height of the protrusion is set to H AVG ≧ 0.2 × λmax = 156 nm (assuming λmax = 780 nm) in order to exhibit a sufficient antireflection effect.

因みに、図8〜図12の例により説明するとdmax=234nm≦λmax=780nmとなり、dmax≦λmaxの条件を満足して十分に反射防止効果を奏し得ることが判る。また可視光線帯域の最短波長λminが380nmであることから、可視光線の全波長帯域において反射防止効果を発現する十分条件dmax≦λminも満たすことが判る。また平均突起高さHAVG=178nmであることにより、平均突起高さHAVG≧0.2×λmax=156nmとなり(可視光波長帯域の最長波長λmax=780nmとして)、十分な反射防止効果を実現するための突起の高さに関する条件も満足していることが判る。なお標準偏差σ=30nmであることから、HAVG−σ=148nm<0.2×λmax=156nmとの関係式が成立することから、統計学上、全突起の50%以上、84%以下が、突起の高さに係る条件(178nm以上)の条件を満足していることが判る。なおAFM及びSEMによる観察結果、並びに微小突起の高さ分布の解析結果から、多峰性微小突起3b、3c、・・は相対的に高さの低い微小突起よりも高さの高い微小突起でより多く生じる傾向にある。 8 to 12, dmax = 234 nm ≦ λmax = 780 nm, and it can be seen that the antireflection effect can be sufficiently achieved by satisfying the condition of dmax ≦ λmax. In addition, since the shortest wavelength λmin in the visible light band is 380 nm, it can be seen that the sufficient condition dmax ≦ λmin for exhibiting the antireflection effect in all visible light wavelength bands is also satisfied. Further, since the average protrusion height H AVG = 178 nm, the average protrusion height H AVG ≧ 0.2 × λmax = 156 nm (assuming the longest wavelength λmax = 780 nm of the visible light wavelength band), and a sufficient antireflection effect is realized. It can be seen that the conditions regarding the height of the protrusions to satisfy are also satisfied. Since the standard deviation σ = 30 nm, the relational expression H AVG −σ = 148 nm <0.2 × λmax = 156 nm is established, and therefore, statistically, 50% or more and 84% or less of all the protrusions. It can be seen that the condition of the height of the protrusion (178 nm or more) is satisfied. From the observation results by AFM and SEM and the analysis result of the height distribution of the microprojections, the multi-peak microprojections 3b, 3c,... Are microprojections having a height higher than the microprojections having a relatively low height. It tends to occur more.

この実施形態のように、単峰性微小突起3aと多峰性微小突起3b、3c、・・・とを混在させる場合には、アスペクト比の異なる単峰性微小突起3aを混在させた場合と同様に、広い波長帯域で低い反射率を確保することができる。   As in this embodiment, when the monomodal microprotrusions 3a and the multimodal microprotrusions 3b, 3c,... Are mixed, the monomodal microprotrusions 3a having different aspect ratios are mixed. Similarly, a low reflectance can be secured in a wide wavelength band.

すなわち、陽極酸化処理により微細孔を作製する場合、微細孔のピッチと深さとは比例する関係になる。これにより陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより賦型用金型を作製し、この賦型用金型を使用した賦型処理により透明基材2に微小突起3を作製する場合、作製される単峰性微小突起3aは、付け根部分の幅と高さとの比であるアスペクト比がほぼ一定に保持される。   That is, when producing micropores by anodic oxidation, the pitch and depth of the micropores are proportional. Thus, a mold for molding is produced by repeating the anodizing treatment and the etching treatment, and is produced when the microprojections 3 are produced on the transparent substrate 2 by the molding process using the mold for molding. The monomodal microprotrusions 3a are held substantially constant in aspect ratio, which is the ratio between the width and height of the base portion.

透明体1の形成領域4の反射防止機能は、微小突起の間隔だけでなく、アスペクト比にも依存し、アスペクト比が一定である場合、例えば可視光域では十分に小さな反射率を確保できる場合でも、紫外線域では可視光域に比して反射率が増大して反射防止機能が不足する。なお微小突起のピッチを一段と小さくして紫外線域で十分な反射防止機能を確保できるように設定すると、今度は、赤外線域で反射防止機能が低下することになる。   The antireflection function of the formation region 4 of the transparent body 1 depends not only on the interval between the minute protrusions but also on the aspect ratio. When the aspect ratio is constant, for example, a sufficiently small reflectance can be secured in the visible light region. However, in the ultraviolet region, the reflectance increases compared to the visible light region and the antireflection function is insufficient. If the pitch of the minute protrusions is further reduced so that a sufficient antireflection function can be ensured in the ultraviolet region, the antireflection function is lowered in the infrared region.

しかしながら多峰性微小突起3b、3c、・・・では、隣接突起間間隔を低下させた反射防止機能を確保することができ、これにより多峰性微小突起と単峰性微小突起との混在により広い波長帯域で低い反射率を確保することができる。なお可視光域を中心にした広い波長帯域で十分に小さな反射率を確保する場合、可視光域に係る波長480〜660nmに対応する480〜660nmの隣接突起間間隔による微小突起において、多峰性微小突起3b、3c、・・・と単峰性微小突起3aとを混在させることが望ましい。   However, in the multimodal microprotrusions 3b, 3c,..., It is possible to ensure an antireflection function by reducing the interval between adjacent protrusions. A low reflectance can be secured in a wide wavelength band. In the case where a sufficiently small reflectance is ensured in a wide wavelength band centered on the visible light region, the multi-protrusion is small in the minute protrusions due to the distance between adjacent protrusions of 480 to 660 nm corresponding to the wavelength 480 to 660 nm in the visible light region. It is desirable to mix the microprotrusions 3b, 3c,... And the single-peak microprotrusions 3a.

ここで、透明体1の形成領域4に形成された多峰性微小突起3b、3c、・・・は、上述の可視光域に係る入射光に対する反射防止機能及び微小突起の耐擦傷性を向上させるために、以下の条件を満たすようにして形成される必要がある。図16は、透明体1の形成領域4に形成された微小突起の高さhの度数分布の例を示す図である。図16に示すように、微小突起の高さhの度数分布における高さの平均値をmとし、標準偏差をσとし、h<m−σの領域を微小突起の低高度領域とし、m−σ≦h≦m+σの領域を中高度領域とし、m+σ<hの領域を高高度領域とした場合に、各領域内の多峰性微小突起3b、3c、・・・の数Nmと、度数分布全体における微小突起の総数Ntとの比率が、以下の(a)、(b)の関係を満たす必要がある。
(a)中高度領域のNm/Nt>低高度領域のNm/Nt
(b)中高度領域のNm/Nt>高高度領域のNm/Nt
Here, the multimodal microprotrusions 3b, 3c,... Formed in the formation region 4 of the transparent body 1 improve the antireflection function for the incident light in the visible light region and the scratch resistance of the microprotrusions. In order to achieve this, it must be formed so as to satisfy the following conditions. FIG. 16 is a diagram illustrating an example of the frequency distribution of the height h of the fine protrusions formed in the formation region 4 of the transparent body 1. As shown in FIG. 16, the average value of the height in the frequency distribution of the height h of the microprojections is m, the standard deviation is σ, the region of h <m−σ is the low altitude region of the microprojections, and m− When the region of σ ≦ h ≦ m + σ is a medium altitude region and the region of m + σ <h is a high altitude region, the number Nm of the multimodal microprojections 3b, 3c,. The ratio with the total number Nt of microprojections in the whole needs to satisfy the following relationships (a) and (b).
(A) Nm / Nt in the middle altitude region> Nm / Nt in the low altitude region
(B) Nm / Nt in middle altitude region> Nm / Nt in high altitude region

<反射防止性微小突起の形成領域>
本願発明において、反射防止性微小突起の形成領域4は、前述したような反射防止性微小突起3を形成する領域であり、透明基材の表面2s、又は2s及び2rの全面積のうちの一部分であって、透明性、採光性、反射防止、映り込みの防止を優先する領域に形成される。本形成領域4単独では、透明性、採光性、反射防止、映り込みの防止等の効果は高いが、透明体1の視認性、プライバシーの保護や覗き見防止の効果の点では欠点となる。
<Formation area of antireflection micro-projections>
In the present invention, the antireflective microprojection formation region 4 is a region where the antireflective microprojection 3 is formed as described above, and is a part of the surface 2s of the transparent substrate or the total area of 2s and 2r. Thus, it is formed in a region where priority is given to transparency, daylighting, reflection prevention, and reflection prevention. The present formation region 4 alone has high effects such as transparency, daylighting, reflection prevention, and reflection prevention, but is disadvantageous in terms of the visibility of the transparent body 1, privacy protection, and peep prevention effects.

反射防止性微小突起の形成領域4は、透明基材2の表面2s、又は2s及び2rに微小突起3を賦形することによって透明基材2と一体に形成されていてもよいし、透明基材2上に表面に微小突起3を形成してなる層(受容層14)を直接積層して形成してもよい。また、反射防止性微小突起3を形成したベース基材と透明基材2を貼り合わせることで形成してもよい。   The antireflection microprojection formation region 4 may be formed integrally with the transparent substrate 2 by shaping the microprojections 3 on the surface 2s or 2s and 2r of the transparent substrate 2, or the transparent substrate 2 A layer (receiving layer 14) formed by forming the fine protrusions 3 on the surface of the material 2 may be directly laminated. Moreover, you may form by bonding the base base material in which the anti-reflective microprotrusion 3 was formed, and the transparent base material 2 together.

<微小突起の非形成領域>
本願発明において、微小突起の非形成領域5は、微小突起3を形成しない領域であり、透明性、採光性、反射防止性、採光性、映り込み防止性の点からは、反射防止性微小突起の形成領域4に劣るが、プライバシーの保護や覗き見防止の効果の点で反射防止性微小突起の形成領域4よりも優れる為、反射防止性微小突起の形成領域4と組み合わせることで、視認性が向上することができる。
<Non-formation area of microprojections>
In the present invention, the microprojection non-formation region 5 is a region in which the microprojection 3 is not formed. From the viewpoint of transparency, daylighting property, antireflection property, daylighting property, and antireflection effect, the antireflection microprojection region is used. The formation region 4 is inferior to the formation region 4 of the anti-reflective microprojections in terms of the effect of protecting privacy and preventing peeping. Can be improved.

本願発明において、反射防止性微小突起の非形成領域5は、微小突起3を形成しない領域であるが、結果として微小突起が形成されていなければ良い。すなわち、全面に一度、反射防止性微小突起3を相互に隣接して設け、反射防止性微小突起の非形成領域5としたい部分の微小突起3を剥離、除去、乃至は破壊してもよいし、微小突起3と近い屈折率となる物質で微小突起3を覆って表面を平滑化してしまってもよい。特に、透明体1の全面に反射防止性微小突起3を形成した後に、スクリーン印刷で微小突起3の形成に使用した紫外線硬化樹脂を微小突起の非形成領域5としたい場所で充填塗布し、紫外線を照射することによって形成すれば、複雑なもしくは細かなパターンであっても効率よく作成可能となる。   In the present invention, the non-reflective micro-projection non-formation region 5 is a region where the micro-projections 3 are not formed, but as a result, the micro-projections are not formed. That is, the antireflection microprotrusions 3 may be provided once adjacent to each other on the entire surface, and the microprojections 3 that are desired to be the antireflection microprotrusions non-formation region 5 may be peeled, removed, or destroyed. The surface of the microprojections 3 may be smoothed by covering the microprojections 3 with a material having a refractive index close to that of the microprojections 3. In particular, after forming the antireflective microprotrusions 3 on the entire surface of the transparent body 1, the ultraviolet curable resin used for forming the microprotrusions 3 by screen printing is filled and applied in a place where the microprotrusions non-formation regions 5 are to be formed. Even if the pattern is complicated or fine, it can be efficiently created.

或いは、透明基材2の上の表面2s、又は2s及び2rの反射防止性微小突起の非形成領域5を除いた部分のみ反射防止性微小突起3を形成することによって形成したり、或いは反射防止性微小突起3を予め形成したベース基材を微小突起の非形成領域5を除いて貼りつけてもよい。これらの方法は、比較的大面積で微小突起の形成領域4と微小突起の非形成領域5を作るプライバシー保護用途で使用しやすい。   Alternatively, it is formed by forming the antireflection microprojections 3 only on the surface 2 s on the transparent substrate 2, or only on the portions other than the antireflection microprojection non-formation regions 5 of 2 s and 2 r, or antireflection The base substrate on which the fine protrusions 3 are formed in advance may be affixed except for the non-formation region 5 of the minute protrusions. These methods are easy to use in privacy protection applications in which a microprojection formation region 4 and a microprotrusion non-formation region 5 are formed in a relatively large area.

或いはまた、透明体1の全面に反射防止性微小突起3を形成した後に、レザーで微小突起3を熔融又は焼失させることによって形成すれば、複雑なもしくは細かなパターンであっても効率よく作成可能となる。   Alternatively, by forming the anti-reflective micro-projections 3 on the entire surface of the transparent body 1 and then melting or burning the micro-projections 3 with leather, even a complicated or fine pattern can be efficiently created. It becomes.

<反射防止性微小突起の製造方法>
前述したような形状を有する反射防止性微小突起3の製造方法は、反射防止性微小突起3を形成する表面に対して、その表面にフォトレジスト等を塗布し、該微小突起3の平面視形状のパターンを露光し、現像する等して、レジストパターンを作製し、該パターンによりガラス基材を腐蝕することで、光学部品の表面に一品毎に直接、微細凹凸を造形する方法(特開昭50−70040号公報に記載)など、さまざまな方法が提案されている。
<Manufacturing method of antireflection microprotrusions>
In the manufacturing method of the antireflection microprotrusion 3 having the shape as described above, a photoresist or the like is applied to the surface on which the antireflection microprotrusion 3 is formed, and the planar shape of the microprotrusion 3 is formed. A pattern is directly exposed on the surface of the optical component by producing a resist pattern by exposing and developing the pattern, and corroding the glass substrate with the pattern. Various methods have been proposed, such as those described in Japanese Patent No. 50-70040.

本願発明においては、特に限定されるわけではないが、単峰性微小突起3aと多峰性微小突起3b、3c、・・を混入して作製できる点から、アルミニウム版に対して陽極酸化とエッチングを施して賦型用金型とする方法が好適である。   In the present invention, although not particularly limited, anodization and etching are performed on an aluminum plate from the viewpoint that it can be produced by mixing single-peak microprojections 3a and multi-peak microprojections 3b, 3c,. A method for forming a mold for shaping is suitable.

以下、本発明の代表的な製造方法の実施形態を述べる。この製造工程は、樹脂供給工程において、ダイにより帯状フィルム形態のベース基材に微小突起形状の受容層を構成する未硬化で液状の紫外線硬化性樹脂を塗布する。なお紫外線硬化性樹脂の塗布については、ダイによる場合に限らず、各種の手法を適用することができる。続いてこの製造工程は、押圧ローラにより、微小突起3の賦型用金型であるロール版の周側面にベース基材を加圧押圧し、これによりベース基材に未硬化状態で液状の例えばアクリレート系紫外線硬化性樹脂を密着させると共に、ロール版の周側面に作製された微細な凹凸形状の凹部に紫外線硬化性樹脂を充分に充填する。この製造工程は、この状態で、紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂を硬化させ、これによりベース基材の表面に微小突起群を作製する。この製造工程は、続いて剥離ローラを介してロール版から、硬化した紫外線硬化性樹脂と一体にベース基材を剥離する。製造工程は、必要に応じてこのベース基材の微小突起群形成面とは反対面に粘着層等を作製した後、所望の形状及び大きさに切断して透明基材2に貼り合わせることにより透明体1を作製する。これにより透明体1は、ロール材による長尺のベース基材に、賦型用金型であるロール版の周側面に作製された微細形状を順次賦型して、効率良く大量生産することができる。   Hereinafter, typical embodiments of the manufacturing method of the present invention will be described. In this manufacturing process, in the resin supplying process, an uncured and liquid ultraviolet curable resin that forms a microprojection-shaped receiving layer is applied to a base substrate in the form of a strip-shaped film by a die. In addition, about application | coating of ultraviolet curable resin, not only the case of using a die | dye but various methods are applicable. Subsequently, in this manufacturing process, the base substrate is pressed and pressed against the peripheral side surface of the roll plate, which is a mold for molding the fine protrusions 3, by the pressing roller. The acrylate-based ultraviolet curable resin is brought into close contact, and the fine concavo-convex recesses formed on the peripheral side surface of the roll plate are sufficiently filled with the ultraviolet curable resin. In this state, in this manufacturing process, the ultraviolet curable resin is cured by irradiation with ultraviolet rays, thereby producing a group of minute protrusions on the surface of the base substrate. In this manufacturing process, the base substrate is subsequently peeled off from the roll plate integrally with the cured ultraviolet curable resin via a peeling roller. In the manufacturing process, an adhesive layer or the like is formed on the surface of the base substrate opposite to the surface on which the microprojections are formed, and then cut into a desired shape and size and bonded to the transparent substrate 2. The transparent body 1 is produced. Thus, the transparent body 1 can be efficiently mass-produced by sequentially molding the fine shape produced on the peripheral side surface of the roll plate, which is a mold for molding, on a long base substrate made of a roll material. it can.

ロール版は、円筒形状の金属材料である母材の周側面に、陽極酸化処理及びエッチング処理の繰り返しにより、多数の小孔が配列した微細な凹凸形状が作製され、この微細な凹凸形状が上述したように基材に賦型される。このため母材は、少なくとも周側面に純度の高いアルミニウム層が設けられた円柱形状又は円筒形状の部材が適用される。より具体的に、この実施形態では、母材に中空のステンレスパイプが適用され、直接に又は各種の中間層を介して、純度の高いアルミニウム層が設けられる。アルミニウムの純度は99.0%以上、通常は、99.9%以上とする。なおステンレスパイプに代えて、銅やアルミニウム等のパイプ材等を適用してもよい。ロール版は、陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、母材の周側面に微細孔が密に作製され、この微細孔を掘り進めると共に、開口部に近付くに従ってより大きな径となるようにこの微細孔の孔径を徐々に拡大して凹凸形状が作製される。これによりロール版は、深さ方向に徐々に孔径が小さくなる微細孔が密に作製され、透明体1には、この微細孔に対応して、頂部に近付くに従って徐々に径が小さくなる多数の微小突起3により微細な凹凸形状が作製される。その際に、アルミニウム層の純度(不純物量)や結晶粒径、陽極酸化処理及び/又はエッチング処理等の諸条件を適宜調整することによって、本願発明特有の微小突起形状とする。   The roll plate has a fine uneven shape in which a large number of small holes are arranged on the peripheral side surface of the base material, which is a cylindrical metal material, by repeating anodizing treatment and etching treatment. As such, it is molded into the substrate. For this reason, a columnar or cylindrical member in which a high-purity aluminum layer is provided at least on the peripheral side surface is used as the base material. More specifically, in this embodiment, a hollow stainless steel pipe is applied to the base material, and a high-purity aluminum layer is provided directly or via various intermediate layers. The purity of aluminum is 99.0% or higher, and usually 99.9% or higher. In addition, it may replace with a stainless steel pipe and may apply pipe materials, such as copper and aluminum. By repeating the anodizing treatment and the etching treatment, the roll plate has fine holes formed densely on the peripheral side surface of the base material, and the fine holes are dug and the diameter of the roll plate becomes larger as it approaches the opening. The concavo-convex shape is produced by gradually increasing the hole diameter of the fine holes. As a result, the roll plate has densely formed micropores whose pore diameter gradually decreases in the depth direction, and the transparent body 1 has a large number of gradually decreasing diameters as it approaches the top corresponding to the micropores. A minute uneven shape is produced by the minute protrusion 3. At that time, by appropriately adjusting various conditions such as the purity (impurity amount), crystal grain size, anodizing treatment and / or etching treatment of the aluminum layer, the shape of the fine protrusion unique to the present invention is obtained.

〔陽極酸化処理、エッチング処理〕
図17は、ロール版の製造工程を示す図である。この製造工程は、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって母材の周側面を超鏡面化する(電解研磨)。続いての工程では、母材の周側面にアルミニウムをスパッタリングし、純度の高いアルミニウム層を作製する(アルミニウム層形成工程)。続いての工程では、陽極酸化処理を行う工程、即ち、陽極酸化工程A1、…、AN、エッチング処理を行う工程、即ち、エッチング工程E1、…、ENを交互に繰り返して母材を処理し、ロール版を作製する。尚、陽極酸化工程及びエッチング工程の工程数N(2以上の整数)は通常2〜7とする。
[Anodic oxidation treatment, etching treatment]
FIG. 17 is a diagram showing a roll plate manufacturing process. In this manufacturing process, the peripheral side surface of the base material is made into a super mirror surface by an electrolytic composite polishing method that combines electrolytic elution action and abrasion action by abrasive grains (electrolytic polishing). In the subsequent step, aluminum is sputtered on the peripheral side surface of the base material to produce a high-purity aluminum layer (aluminum layer forming step). In the subsequent process, the process of anodizing, that is, the process of anodizing A1,..., AN, the process of performing etching, that is, the etching process E1,. A roll plate is produced. Note that the number N (integer of 2 or more) of the anodizing step and the etching step is usually 2 to 7.

この製造工程において、陽極酸化工程A1、…、ANでは、陽極酸化法により母材の周側面に微細な孔を作製し、さらにこの作製した微細な孔を掘り進める。ここで陽極酸化工程A1、…、ANでは、例えば負極に炭素棒、ステンレス板材等を使用する場合のように、アルミニウムの陽極酸化に適用される各種の手法を広く適用することができる。また溶解液についても、中性、酸性の各種溶解液を使用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。この製造工程A1、…、ANは、液温、浴濃度、印加する電圧、陽極酸化に供する時間等の管理により、微細な孔をそれぞれ目的とする深さ及び微小突起形状に対応する形状に作製する。   In this manufacturing process, in the anodic oxidation steps A1,..., AN, fine holes are produced on the peripheral side surface of the base material by an anodic oxidation method, and the produced fine holes are further dug. Here, in the anodizing step A1,..., AN, various methods applied to aluminum anodizing can be widely applied, for example, when a carbon rod, a stainless steel plate, or the like is used for the negative electrode. Further, as the solution, various neutral and acid solutions can be used. More specifically, for example, a sulfuric acid aqueous solution, an oxalic acid aqueous solution, a phosphoric acid aqueous solution and the like can be used. In this manufacturing process A1,..., AN, the fine holes are formed into shapes corresponding to the target depth and the shape of the fine protrusions, respectively, by managing the liquid temperature, bath concentration, applied voltage, time for anodic oxidation, etc. To do.

続くエッチング工程E1、…、ENは、金型をエッチング液に浸漬し、直前の陽極酸化工程A1、…、ANにより作製、掘り進めた微細な孔の孔径をエッチングにより拡大すると共に、深さ方向に向かって滑らか、かつ徐々に孔径が小さくなるように、これら微細な孔を成形する。なおエッチング液については、この種の処理に適用される各種エッチング液を広く適用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。陽極酸化処理に用いる溶解液と同じ液を、電圧印加無しで用いることにより、溶解液をエッチング液としても兼用することが出来る。これらによりこの製造工程では、陽極酸化処理とエッチング処理とを交互にそれぞれ複数回実行することにより、賦型に供する微細孔を母材の周側面に作製する。   In the subsequent etching process E1,..., EN, the mold is immersed in an etching solution, and the diameter of the fine holes produced and dug in the previous anodic oxidation process A1,. These fine holes are formed so that the hole diameter becomes smoother and gradually smaller. As the etching solution, various etching solutions that are applied to this type of treatment can be widely applied. More specifically, for example, a sulfuric acid aqueous solution, an oxalic acid aqueous solution, a phosphoric acid aqueous solution, or the like can be used. By using the same solution as the solution used for the anodizing treatment without applying a voltage, the solution can be used also as an etching solution. As a result, in this manufacturing process, the anodizing process and the etching process are alternately performed a plurality of times, thereby forming micropores for shaping on the peripheral side surface of the base material.

〔微小突起を形成する微細孔の形成過程〕
次に、多峰性微小突起3b、3c、・・・を形成し、また、微小突起の高さの分布が制御された微細な孔が形成される方法について説明する。上述したように、賦型用金型(ロール版)に形成される微細孔は、陽極酸化処理及びエッチング処理の交互の繰り返しによって形成されるが、この繰り返しの陽極酸化処理における印加電圧を可変することによって、微細孔の深さ(微小突起の高さ分布)を制御することができる。ここで、陽極酸化処理における印加電圧と、形成される微細孔の間隔(ピッチ)とは、比例する関係にあるため、陽極酸化処理、エッチング処理の繰り返しにおいて、各工程A1、・・・、AN毎に陽極酸化処理の印加電圧を可変すれば、深さ方向に掘り進める時間が相違する微細孔を混在させてその比率を制御することができる。或いは、直流電圧に交流電圧を加えた変動電圧とする。例えば、印加電圧は15〜35Vの間の電圧として各工程の陽極酸化処理をすることもできる。
[Formation process of micropores forming microprotrusions]
Next, a method for forming the multimodal microprotrusions 3b, 3c,... And forming fine holes in which the height distribution of the microprotrusions is controlled will be described. As described above, the fine holes formed in the shaping mold (roll plate) are formed by alternately repeating the anodizing treatment and the etching treatment, and the applied voltage in the repeated anodizing treatment is varied. As a result, the depth of the fine holes (the height distribution of the fine protrusions) can be controlled. Here, since the applied voltage in the anodizing treatment and the interval (pitch) between the formed fine holes are in a proportional relationship, each step A1,..., AN in the repetition of the anodizing treatment and the etching treatment. If the applied voltage of the anodic oxidation treatment is varied every time, it is possible to control the ratio by mixing micropores having different digging times in the depth direction. Or it is set as the fluctuation voltage which added the alternating voltage to the direct-current voltage. For example, the applied voltage can be anodized in each step as a voltage between 15 and 35V.

また、このように陽極酸化処理における印加電圧を可変する場合にあっては、太さの太い微細孔の底面に、複数の微細孔を作成して多峰性微小突起に係る微細孔とすることができる。この太さの太い微細孔の高さの制御等により、多峰性微小突起についても、高さ分布を制御することができる。   In addition, in the case where the applied voltage in the anodic oxidation process is varied in this way, a plurality of micro holes are created on the bottom surface of the micro hole having a large thickness to form a micro hole related to the multimodal micro protrusion. Can do. The height distribution of the multimodal microprotrusions can be controlled by controlling the height of the thick micropores.

図18は、このような高さの分布の制御の説明に供する模式図であり、賦型用金型の製造工程における陽極酸化工程とエッチング工程とにより作製される微細孔を示す図である。
上述したように、陽極酸化処理における印加電圧と、微細孔のピッチとの関係は比例関係であるが、実際上、処理に供するアルミニウムの粒界等により微細孔のピッチにはばらつきが生じる。しかし、図18においては、このばらつきが存在しないものとして、微細孔が規則正しい配列により作製されるものとして説明する。なお、図18(a)〜図18(e)において、左側の図は、ロール版の表面の拡大図を示し、右側の図は、左側の図におけるa−a断面図を示す。
FIG. 18 is a schematic diagram for explaining the control of such a height distribution, and is a diagram showing fine holes produced by an anodizing step and an etching step in a molding die manufacturing process.
As described above, the relationship between the applied voltage in the anodic oxidation process and the pitch of the fine holes is proportional, but in practice, the pitch of the fine holes varies depending on the grain boundaries of aluminum used for the treatment. However, in FIG. 18, it is assumed that the micropores are formed in a regular arrangement, assuming that this variation does not exist. In FIGS. 18A to 18E, the left diagram shows an enlarged view of the surface of the roll plate, and the right diagram shows an aa cross-sectional view in the left diagram.

(第1の工程)
図18(a)に示すように、まず、賦型用金型の表面のアルミニウム層に、電圧V1を印加して陽極酸化工程A1を実行した後に、エッチング工程E1を実行し、微細孔f1を形成する。ここで、陽極酸化工程A1は、アルミニウムのフラット面に後続する陽極酸化処理のきっかけを作製するものである。なお、この場合、エッチング工程を適宜省略してもよい。
(First step)
As shown in FIG. 18 (a), first, after applying the voltage V1 to the aluminum layer on the surface of the shaping mold and performing the anodic oxidation step A1, the etching step E1 is carried out to form the fine holes f1. Form. Here, the anodic oxidation step A1 is to create a trigger for the anodic oxidation treatment that follows the flat surface of aluminum. In this case, the etching process may be omitted as appropriate.

(第2の工程)次に、電圧V1よりも高い電圧V2(V2>V1)を印加して陽極酸化工程A2を実行した後に、エッチング工程E2を実行する。これにより、陽極酸化工程A2では、図18(b)に示すように、先の陽極酸化工程A1により形成された微細孔f1のうち、陽極酸化工程A2に対応する間隔の微細孔f1を更に掘り下げる。本実施形態では、印加電圧V2をV2=3×V1に設定して、陽極酸化工程A2によって、先の陽極酸化工程A1で形成された微細孔f1を二つ置きに掘り進める処理が行われる。従って、賦型用金型の表面には、二つ置きに広くかつ深く掘り下げられた微細孔f2が形成され、ロール版の表面には、微細孔f1と微細孔f2とが混在する状態となる。 (Second Step) Next, after applying the voltage V2 (V2> V1) higher than the voltage V1 to execute the anodic oxidation step A2, the etching step E2 is executed. As a result, in the anodizing step A2, as shown in FIG. 18B, among the fine holes f1 formed in the previous anodizing step A1, the fine holes f1 having an interval corresponding to the anodizing step A2 are further dug down. . In the present embodiment, the applied voltage V2 is set to V2 = 3 × V1, and the process of digging every two fine holes f1 formed in the previous anodizing process A1 is performed by the anodizing process A2. Therefore, every two large and deeply drilled fine holes f2 are formed on the surface of the mold for molding, and the surface of the roll plate is in a state where the fine holes f1 and f2 are mixed. .

(第3の工程)
続いて、電圧V2よりも高い電圧V3(V3>V2)を印加して陽極酸化工程A3を実行した後に、エッチング工程E3を実行する。この工程では、ピッチの異なる微細孔を作製する。具体的には、印加する電圧を、電圧V2から電圧V3へ徐々に上昇させ、この印加電圧の上昇を離散的(段階的)に実行すると、微小突起の高さ分布(微細孔の深さ分布)を離散的に作製することができ、この印加電圧の上昇を連続的に実行すると、微小突起の高さ分布を正規分布に設定することができる。そのため、本実施形態では、印加電圧V3をV3=4×V1に設定して、陽極酸化工程A3における印加電圧の印加時間、エッチング工程の処理時間を上述の第1の工程、第2の工程よりも長く設定することにより、図18(c)に示すように、最初の陽極酸化工程A1において形成された微細孔f1が二つ、一つに纏まるように広くかつ深く掘り進められ、また、その一つに纏められた微細孔f3の底面が略平坦に形成される(平坦微細孔形成工程)。ここで、略平坦とは、微細孔の底面が平坦な状態だけでなく、その底面が大きい曲率半径で湾曲している状態をも含む状態をいう。
(Third step)
Subsequently, after applying the voltage V3 (V3> V2) higher than the voltage V2 to execute the anodic oxidation step A3, the etching step E3 is executed. In this step, fine holes with different pitches are produced. Specifically, when the voltage to be applied is gradually increased from the voltage V2 to the voltage V3 and the increase in the applied voltage is executed discretely (stepwise), the height distribution of the microprojections (depth distribution of the micropores) ) Can be produced discretely, and when the applied voltage is continuously increased, the height distribution of the microprotrusions can be set to a normal distribution. Therefore, in the present embodiment, the applied voltage V3 is set to V3 = 4 × V1, and the application time of the applied voltage in the anodizing step A3 and the processing time of the etching step are compared with those in the first step and the second step described above. By setting the length too long, as shown in FIG. 18 (c), the fine holes f1 formed in the first anodizing step A1 are dug wide and deep so as to be combined into one, The bottom surfaces of the fine holes f3 collected into one are formed substantially flat (flat microhole forming step). Here, “substantially flat” means not only a state in which the bottom surface of the fine hole is flat but also a state in which the bottom surface is curved with a large curvature radius.

(第4の工程)
続いて、電圧V3よりも高い電圧V4(V4>V3)を印加して陽極酸化工程A4を実行した後に、エッチング工程E4を実行する。この工程では、目的とする突起間間隔によるピッチにより微細孔を作成する。この陽極酸化工程A4においても、印加電圧は、電圧V3から電圧V4へ徐々に上昇させる。本実施形態では、印加電圧V4をV4=8×V1に設定して、これにより、上記第3の工程により掘り進められた微細孔f3の一部が更に掘り進められ、その結果、図11(d)に示すように、微細孔f4となり、この微細孔f4が高さの高い単峰性微小突起3aを形成する。
(Fourth process)
Subsequently, after applying the voltage V4 (V4> V3) higher than the voltage V3 to execute the anodic oxidation step A4, the etching step E4 is executed. In this step, micropores are created with a pitch based on the target interprotrusion spacing. Also in this anodizing step A4, the applied voltage is gradually increased from the voltage V3 to the voltage V4. In the present embodiment, the applied voltage V4 is set to V4 = 8 × V1, and as a result, a part of the fine hole f3 dug in the third step is further dug up. As a result, FIG. As shown to d), it becomes the micropore f4, and this micropore f4 forms the high monomodal microprotrusion 3a.

(第5の工程)
続いて、印加電圧を上記第1の工程における電圧V1に変更して陽極酸化工程A5を実行した後に、エッチング工程E5を実行する。この工程では、微細な穴f1、f2、及びf3については、其の底部の深さが更に一律に深くなるだけで穴形状の峰数は不変で有るが、陽極酸化工程A3において形成された微細孔f3であって、第4の工程の陽極酸化工程A4の影響を受けていない微細孔f3の底面には、図18(e)に示すように、微細孔を複数個形成し、多峰性微小突起3b、3c、・・・に対応する微細孔f5を形成する(多峰突起用微細孔形成工程)。ここで、印加する電圧V1の大きさを調整することによって、微細孔f5の底面に形成される微細孔の数を増減したり、その微細孔の間隔を調整したりすることができる。
(Fifth step)
Subsequently, after changing the applied voltage to the voltage V1 in the first step and performing the anodic oxidation step A5, the etching step E5 is performed. In this process, the fine holes f1, f2, and f3 have the same number of holes at the bottom, and the number of holes in the hole shape remains unchanged. However, the fine holes formed in the anodizing process A3 are not changed. As shown in FIG. 18 (e), a plurality of fine holes are formed on the bottom surface of the fine hole f3 which is the hole f3 and is not affected by the anodic oxidation step A4 of the fourth step. Fine holes f5 corresponding to the fine protrusions 3b, 3c,... Are formed (micro-hole protrusion fine hole forming step). Here, by adjusting the magnitude of the voltage V1 to be applied, the number of micropores formed in the bottom surface of the micropore f5 can be increased or decreased, and the interval between the micropores can be adjusted.

以上より、賦型用金型の表面には、高さの異なる微小突起を形成する微細孔f1、f2、f4や、多峰性微小突起3b、3c、・・・を形成する微細孔f5が形成される。ここで、この一連の工程では、第1の工程及び第2の工程により作製された深さの異なる微細孔f1、f2を、第3の工程で掘り進めて底面の略平坦な微細孔f3を作製し、第4の工程において、この微細孔f3を掘り進めて単峰性微小突起3aに係る微細孔f4を作製し、また、第5の工程において、この微細孔f3の底面を加工して多峰性微小突起3b、3c、・・・に係る微細孔f5を作製している。ここで、第1の工程から第4の工程に係る陽極酸化工程の印加時間、処理時間、エッチング工程の処理時間等を制御して、各工程で作製される微細孔の深さを制御することにより、微小突起の高さの分布や、多峰性微小突起3b、3c、・・・の高さの分布を制御することができる。なお、上述の第1の工程〜第5の工程は、必要に応じて回数を省略したり、繰り返したり、工程を一体化したりすることができる。   As described above, the microholes f1, f2, and f4 that form microprojections having different heights and the microholes f5 that form multimodal microprojections 3b, 3c,... It is formed. Here, in this series of steps, the fine holes f1 and f2 having different depths produced in the first step and the second step are dug in the third step to form a substantially flat fine hole f3 on the bottom surface. In the fourth step, the minute hole f3 is dug to produce the minute hole f4 related to the single-peaked minute projection 3a. In the fifth step, the bottom surface of the minute hole f3 is processed. The micropore f5 which concerns on the multimodal microprotrusion 3b, 3c, ... is produced. Here, by controlling the application time, the processing time, the processing time of the etching process, etc. of the anodizing process according to the first to fourth processes, the depth of the micropores produced in each process is controlled. Thus, the height distribution of the microprojections and the height distribution of the multimodal microprojections 3b, 3c,... Can be controlled. In addition, the above-mentioned 1st process-5th process can abbreviate | omit the number as needed, can repeat, or can integrate a process.

次に、上述の方法により作製された賦型用金型によって透明体1に製造された反射防止性微小突起3の実施例について説明する。
〔実施例〕
図19は、本実施形態の透明体1の反射防止性微小突起の形成領域4に形成された反射防止性微小突起3の高さhの度数分布を示す図である。本実施形態の微小突起3を製造する賦型用金型は、上述の第2工程、第3工程、第4工程で陽極酸化処理の印加電圧を連続的に変化させたものであり、また第4工程では、第3工程の印加電圧から電圧を低下させたものである。この賦型用金型によって製造された形成領域4は、微小突起の高さ分布が正規分布を示しており、微小突起が作製されてなる面の法線を中心とした比較的狭い範囲で、良好な反射防止機能を確保することができる。またこのときこのような高さ分布において、多峰性微小突起(頂点数が2つ及び3つのものをそれぞれ二峰、三峰により示す)についても、ほぼ高さの平均値が一致した正規分布とすることができ、これにより効率良く多峰性微小突起3b、3c、・・・の耐擦傷性の機能、光学特性の向上機能を発揮させることができる。
Next, an example of the antireflective microprotrusions 3 manufactured on the transparent body 1 by the molding die manufactured by the above-described method will be described.
〔Example〕
FIG. 19 is a diagram showing a frequency distribution of the height h of the antireflection microprotrusion 3 formed in the antireflection microprotrusion forming region 4 of the transparent body 1 of the present embodiment. The mold for manufacturing the microprojections 3 of the present embodiment is obtained by continuously changing the applied voltage of the anodizing process in the second step, the third step, and the fourth step. In the fourth step, the voltage is reduced from the applied voltage in the third step. In the formation region 4 manufactured by the mold for molding, the height distribution of the microprojections shows a normal distribution, and in a relatively narrow range centering on the normal of the surface on which the microprojections are formed, A good antireflection function can be ensured. Also, at this time, in such a height distribution, the multimodal microprojections (two and three vertices are indicated by two peaks and three peaks, respectively) also have a normal distribution in which the average values of the heights are almost the same. Thus, the scratch resistance function and the optical property improvement function of the multimodal microprotrusions 3b, 3c,... Can be efficiently exhibited.

上述の方法により製造された実施例の形成領域4は、図19に示すように、微小突起の高さの平均値がm=145.7nmであり、その標準偏差がσ=22.1nmである。
ここで、微小突起の高さhの度数分布において、低高度領域は、h<m−σ=123.6nmとなり、中高度領域は、m−σ=123.6nm≦h≦m+σ=167.8nmとなり、高高度領域は、h>m+σ=167.8nmとなる。
度数分布全体の微小突起の総数Ntは、263個である。また、中高度領域の多峰性微小突起の数Nmは、23個であるので、中高度領域のNm/Ntは、0.087となる。低高度領域の多峰性微小突起の数Nmは、2個であるので、低高度領域のNm/Ntは、0.008となる。高高度領域の多峰性微小突起の数Nmは、5個であるので、高高度領域のNm/Ntは、0.019となる。
In the formation region 4 of the example manufactured by the above-described method, as shown in FIG. 19, the average value of the heights of the microprojections is m = 145.7 nm, and the standard deviation is σ = 22.1 nm. .
Here, in the frequency distribution of the height h of the microprotrusions, the low altitude region is h <m−σ = 123.6 nm, and the middle altitude region is m−σ = 13.6 nm ≦ h ≦ m + σ = 167.8 nm. Thus, the high altitude region is h> m + σ = 167.8 nm.
The total number Nt of microprojections in the entire frequency distribution is 263. Further, since the number Nm of multi-modal microprotrusions in the middle altitude region is 23, Nm / Nt in the middle altitude region is 0.087. Since the number Nm of the multimodal microprotrusions in the low altitude region is two, Nm / Nt in the low altitude region is 0.008. Since the number Nm of multimodal microprojections in the high altitude region is 5, the Nm / Nt in the high altitude region is 0.019.

従って、本実施例の形成領域4は、上述の(a)、(b)の関係、すなわち、
(a)中高度領域のNm/Nt=0.087>低高度領域のNm/Nt=0.008
(b)中高度領域のNm/Nt=0.087>高高度領域のNm/Nt=0.019
を満足する。
Therefore, the formation region 4 of this example has the above-described relationship (a) and (b), that is,
(A) Nm / Nt in the middle altitude region = 0.087> Nm / Nt = 0.008 in the low altitude region
(B) Nm / Nt = 0.087 in the medium altitude region> Nm / Nt = 0.19 in the high altitude region
Satisfied.

以上より、実施例の形成領域4は、中高度領域における多峰性微小突起の数(Nm)と度数分布における微小突起の総数(Nt)との比率(Nm/Nt)が、低高度領域及び高高度領域の比率よりも大きくなるように多峰性微小突起が形成されているので、可視光域に係る入射光に対する反射率を効果的に低減することができ、透明体1の形成領域4における反射防止機能の広帯域化を図ることができる。
また、この形成領域4は、このような高さ分布において、多峰性微小突起(頂点数が2つ及び3つのものをそれぞれ二峰、三峰により示す)についても、ほぼ高さの平均値が一致した正規分布とすることができるので、該高さHの度数分布が正規分布より一様分布に近い分布、或いは度数分布の極大値を複数有する場合に比べて、視野角特性を制限し、形成領域4の法線に対する角度が70〜75度以下の正面方向に於いて十分な低反射率と低ヘイズを実現すると共に該法線に対する角度が70〜75度超過の側面方向については射率防及びヘイズが立ち上がる視野角特性とすることができる。斯かる視野角特性の制限により、外光存在下の建具などにおいてに、観察者の方向に対しては外光反射を低減した良好な映り込みや反射を生じない部分として観察され、側面方向からの視線に対しては反射率とヘイズの上昇により映り込みや反射目視しやすい部分として認識される効果を期待しえる。また、効率良く多峰性微小突起の耐擦傷性を向上させることができる。
即ち、上述の構成にすることによって、形成領域4は、高さが高い(180nm以上)微小突起に分布する多峰性微小突起の比率が小さく、単峰性微小突起3aの比率が多いので、他の物体が微小突起に摩擦接触したとしても、高さの高い単峰性微小突起3aが先に接触することとなり、反射防止機能を主に向上させる多峰性微小突起3b、3c、・・・に接触してしまうのを抑制することができる。
As described above, in the formation region 4 of the example, the ratio (Nm / Nt) between the number of multi-peak microprojections (Nm) in the medium altitude region and the total number of microprojections (Nt) in the frequency distribution is low Since the multimodal microprotrusions are formed so as to be larger than the ratio of the high altitude region, the reflectance for incident light in the visible light region can be effectively reduced, and the formation region 4 of the transparent body 1 can be reduced. It is possible to increase the bandwidth of the antireflection function.
In addition, the formation region 4 has an average value of almost the same height for the multi-peak microprojections (two and three vertices are indicated by two peaks and three peaks, respectively) in such a height distribution. Since the frequency distribution of the height H can be a matched normal distribution, the viewing angle characteristic is limited as compared with the case where the frequency distribution of the height H is closer to the uniform distribution than the normal distribution or has a plurality of maximum values of the frequency distribution, A sufficiently low reflectivity and a low haze are realized in the front direction where the angle with respect to the normal of the formation region 4 is 70 to 75 degrees or less, and the emissivity is obtained in the side direction where the angle with respect to the normal exceeds 70 to 75 degrees. It is possible to obtain a viewing angle characteristic in which prevention and haze rise. Due to such a limitation of viewing angle characteristics, it is observed as a part that does not cause good reflection or reflection with reduced external light reflection in the direction of the observer in fittings in the presence of external light. It is possible to expect the effect of being recognized as a part that is easily reflected and reflected visually due to an increase in reflectance and haze. In addition, the scratch resistance of the multimodal microprotrusions can be improved efficiently.
That is, with the above-described configuration, the formation region 4 has a small ratio of multi-peak microprojections distributed in microprojections having a high height (180 nm or more) and a large ratio of single-peak microprojections 3a. Even if another object comes into frictional contact with the microprotrusions, the high unimodal microprotrusions 3a come into contact first, and the multimodal microprotrusions 3b, 3c, which mainly improve the antireflection function.・ It is possible to suppress contact with.

なお、これら多峰性微小突起3b、3c、・・・の特徴は、賦型用金型の対応する形状を備えた微細孔により作製される多峰性微小突起3b、3c、・・・の固有の特徴であり、特開2012−037670号公報に開示の樹脂の充填不良により生じる多峰性微小突起によっては得ることができない特徴である。すなわち樹脂の充填不良による多峰性微小突起は、本来、単峰性微小突起3aとして作製される微細孔に十分に樹脂が充填されないことにより作製されるものであるので、頂点間の間隔が極めて微小であり、これにより耐擦傷性を十分に向上することが困難であり、また上述したような光学特性の向上も困難である。   The characteristics of these multimodal microprotrusions 3b, 3c,... Are that of the multimodal microprotrusions 3b, 3c,. This is a unique feature and cannot be obtained by the multi-modal microprotrusions caused by the resin filling failure disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-037670. That is, the multi-peak microprotrusions due to poor filling of the resin are produced by not sufficiently filling the micropores that are originally produced as the single-peak microprotrusions 3a. Therefore, it is difficult to sufficiently improve the scratch resistance, and it is also difficult to improve the optical characteristics as described above.

また、充填不良による多峰性微小突起にあっては、再現性が乏しく、これにより均一な製品を量産できない欠点もあり、これに対して、この実施形態に係る多峰性微小突起3b、3c、・・・は、いわゆる金型により高い再現性を確保することができる。また、上述の実施例について詳述するように、多峰性微小突起3b、3c、・・・の高さ分布について制御できるのに対し、充填不良の多峰性微小突起については、このような制御が困難である。   Further, the multi-peak microprotrusions due to poor filling have a drawback that the reproducibility is poor, and this makes it impossible to mass-produce a uniform product. On the other hand, the multi-peak microprotrusions 3b, 3c according to this embodiment. ,... Can ensure high reproducibility by a so-called mold. Further, as described in detail for the above-described embodiment, the height distribution of the multimodal microprotrusions 3b, 3c,... It is difficult to control.

図13は、この頂点を複数有する多峰性微小突起3b、3c、・・の説明に供する断面図(図13(a))、斜視図(図13(b))、平面図(図13(c))である。なおこの図13は、理解を容易にするために模式的に示す図であり、図13(a)は、連続する微小突起の頂点を結ぶ折れ線により断面を取って示す図である。この図13(b)及び(c)において、XY方向は、基材2の面内方向、即ち透明基材2の一方の表面2s、他方の面2r、或いはこれらと平行な仮想的平面内に於ける各方向であり、Z方向は該面内方向(XY平面乃至これと平行な平面内の方向)と直交する方向、即ち微小突起3の高さ方向である。透明体1において、多くの微小突起3は、透明基材2より離れて頂点に向かうに従って徐々に断面積(高さ方向に直交する面(図13においてXY平面と平行な面)で切断した場合の断面積)が小さくなって、頂点が1つにより作製される。しかしながら中には、複数の微小突起3が結合したかのように、先端部分に溝gが形成され、頂点が2つになったもの(3b)、頂点が3つになったもの(3c)、さらには頂点が4つ以上のもの(図14(c))が存在する。なお単峰性微小突起3aの形状は、概略、回転放物面の様な頂部の丸い形状、或いは円錐の様な頂点の尖った形状で近似することができる。一方、多峰性微小突起3b、3c・・・形状は、概略、単峰性微小突起3aの頂部近傍に溝状の凹部を切り込んで、頂部を複数の峰に分割したような形状で近似される。多峰性微小突起3b、3c・・・の形状は、或いは、複数の峰を含み高さ方向(図13ではZ軸方向)を含む仮想的切断面で切断した場合の縦断面形状が、極大点を複数個含み各極大点近傍が上に凸の曲線になる代数曲線Z=a22+a44+・・+a2N2N+・・で近似されるような形状である。尚、此処で、Nは自然数である。 13 is a cross-sectional view (FIG. 13 (a)), a perspective view (FIG. 13 (b)), and a plan view (FIG. c)). Note that FIG. 13 is a diagram schematically showing for easy understanding, and FIG. 13A is a diagram showing a cross section by a broken line connecting the vertices of continuous microprotrusions. In FIGS. 13B and 13C, the XY direction is in the in-plane direction of the substrate 2, that is, one surface 2s of the transparent substrate 2, the other surface 2r, or a virtual plane parallel thereto. The Z direction is a direction perpendicular to the in-plane direction (XY plane or a direction parallel to the XY plane), that is, the height direction of the microprojections 3. In the transparent body 1, many microprotrusions 3 are gradually cut in a cross-sectional area (a plane perpendicular to the height direction (a plane parallel to the XY plane in FIG. 13)) toward the apex away from the transparent substrate 2. The cross-sectional area) is reduced, and one vertex is produced. However, in some cases, as if a plurality of microprotrusions 3 were combined, a groove g was formed at the tip, and the apex was two (3b), and the apex was three (3c) In addition, there are those having four or more vertices (FIG. 14C). The shape of the unimodal microprotrusions 3a can be approximated by a round shape at the top, such as a paraboloid of revolution, or a sharp shape at the apex, such as a cone. On the other hand, the shape of the multi-peak microprojections 3b, 3c,. The The shape of the multi-peak microprotrusions 3b, 3c,... Or the longitudinal cross-sectional shape when cutting along a virtual cut surface including a plurality of peaks and including the height direction (Z-axis direction in FIG. 13) is maximal. The shape is approximated by an algebraic curve Z = a 2 X 2 + a 4 X 4 +... + A 2N X 2N +. Here, N is a natural number.

このような頂点を複数有する多峰性微小突起3b、3c、・・は、単峰性微小突起3aに比して、反射防止機能に相関する頂点間の距離は同一であっても、頂点近傍の寸法に対する裾の部分の太さが相対的に太くなる。これにより、多峰性微小突起3b、3c、・・は、単峰性微小突起3aに比して、同じ反射防止性能を発現して而かも、機械的強度が優れていると言える。これにより頂点を複数有する多峰性微小突起3b、3c、・・が存在する場合、透明体1では、単峰性微小突起3aのみによる場合に比して耐擦傷性が向上するものと考えられる。さらに、具体的に透明体1に外力が加わった場合、単峰性微小突起3aのみの場合に比して、外力をより多くの頂点で分散して受ける為、各頂点に加わる外力を低減し、微小突起が損傷し難いようにすることができ、これにより反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。また仮に微小突起3が損傷した場合でも、その損傷個所の面積を低減することができる。更に、多峰性微小突起3b、3c、・・の多くは、最高峰高さ(麓が同じ微小突起に属する最も高い峰の高さ)が平均突起高さHAVG以上の微小突起に生じる為、外力を先ず各峰部分が受止めて犠牲的に損傷することによって、該微小突起の峰より低い本体部分、及び該多峰性微小突起3b、3c、・・よりも高さの低い微小突起の損耗を防ぐ。これによっても反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。 The multi-peak microprotrusions 3b, 3c,... Having a plurality of such vertices are near the vertices even if the distance between the vertices correlated with the antireflection function is the same as that of the single-peak microprotrusions 3a. The thickness of the hem portion with respect to the dimension is relatively thick. Thus, it can be said that the multimodal microprotrusions 3b, 3c,... Exhibit the same antireflection performance as compared with the single-peak microprotrusions 3a, and have excellent mechanical strength. Thereby, when the multimodal microprotrusions 3b, 3c,... Having a plurality of vertices are present, the transparent body 1 is considered to have improved scratch resistance as compared with the case of using only the single-peak microprotrusions 3a. . Furthermore, when an external force is applied to the transparent body 1 specifically, since the external force is distributed and received at more vertices than when only the single-peaked microprojection 3a is received, the external force applied to each vertex is reduced. Thus, it is possible to make the microprotrusions less likely to be damaged, thereby reducing local deterioration of the antireflection function, and further reducing the appearance defects. Even if the microprojection 3 is damaged, the area of the damaged portion can be reduced. Moreover, multimodal microprojections 3b, 3c, many ..., highest peak height (foot height of the highest peaks belonging to the same microprojections) is to produce an average projection height H AVG or more microprojections , Each ridge portion first receives external force and is sacrificially damaged, so that the body portion lower than the ridges of the microprojections and the microprojections with a lower height than the multimodal microprojections 3b, 3c,. Prevent wear and tear. This also reduces local deterioration of the antireflection function and further reduces the occurrence of appearance defects.

なお上述した図8〜図12に係る測定結果は、本実施形態に係る透明体1の測定結果であり、図11のdに示す度数分布においては、隣接突起間距離d(横軸の値)について、20nm及び40nmの短距離の極大値と120nm及び164nmの長距離の極大値との2種類の極大値が存在する。これらの極大値のうちの長距離の極大値は、微小突起本体(頂部よりも下の中腹から麓にかけての部分)の配列に対応し、一方、短距離の極大値は頂部近傍に存在する複数の頂点(峰)に対応する。これにより極大点間距離の度数分布によっても、多峰性微小突起3b、3c、・・の存在を見て取ることができる。   The measurement results according to FIGS. 8 to 12 described above are the measurement results of the transparent body 1 according to this embodiment, and in the frequency distribution shown in d of FIG. 11, the distance d between adjacent protrusions (value on the horizontal axis). There are two types of local maximum values: short-range maximum values of 20 nm and 40 nm and long-range maximum values of 120 nm and 164 nm. Among these maximum values, the maximum value of the long distance corresponds to the arrangement of the microprojection bodies (the part from the middle to the heel below the top part), while the maximum value of the short distance exists in the vicinity of the top part. Corresponds to the apex (peak) of. Thereby, the presence of the multimodal microprotrusions 3b, 3c,... Can also be seen from the frequency distribution of the distance between the maximum points.

なお多峰性微小突起3b、3c、・・は、その存在により耐擦傷性を向上できるものの、充分に存在しない場合には、この耐擦傷性を向上する効果を十分に発揮できないことは言うまでもない。係る観点より、本願発明においては、表面に存在する全微小突起中における多峰性微小突起3b、3c、・・の個数の比率は10%以上とする。特に多峰性微小突起3b、3c、・・による耐擦傷性を向上する効果を十分に奏する為には、該多峰性微小突起3b、3c、・・の比率は30%以上、好ましくは50%以上とする。又、該多峰性微小突起3b、3c、・・の比率が或る程度以上増えると、多峰性微小突起による效果も飽和すると共に、斯かる微小突起群の安定生産も難しくなってくる。其の点も考慮すると、該多峰性微小突起の比率の上限は、好ましくは90%以下、更に好ましくは80%以下とする。   Needless to say, the multimodal microprotrusions 3b, 3c,... Can improve the scratch resistance due to their presence, but if they do not exist sufficiently, the effect of improving the scratch resistance cannot be fully exhibited. . From such a viewpoint, in the present invention, the ratio of the number of the multimodal microprotrusions 3b, 3c,. In particular, in order to sufficiently exhibit the effect of improving the scratch resistance due to the multimodal microprotrusions 3b, 3c,..., The ratio of the multimodal microprotrusions 3b, 3c,. % Or more. Further, when the ratio of the multimodal microprotrusions 3b, 3c,... Increases to some extent, the effect of the multimodal microprotrusions is saturated and stable production of such microprotrusions becomes difficult. Considering this point, the upper limit of the ratio of the multimodal microprotrusions is preferably 90% or less, more preferably 80% or less.

さらにこのような多峰性微小突起3b、3c、・・を含む微小突起群(3、3a、3b、3c、・・)を有する透明体1を詳細に検討したところ、各微小突起3の高さが種々に異なることが判った(図12、図13(a)参照)。なおここで各微小突起の高さとは、上述したように、麓(付け根)部を共有するある特定の微小突起3について、その頂部に存在する最高高さを有する峰(最高峰)の高さを言う。図13(a)の微小突起3の如くの単峰性微小突起3aの場合は、頂部における唯一の峰(極大点)の高さが該微小突起の突起高さとなる。また図13(a)の微小突起3b、3cのような多峰性微小突起の場合は、頂部に在る麓部を共有する複数の峰のうちの最高峰の高さをもって該微小突起3の高さとする。又、全峰の高さが同一の場合は全峰共通の高さを以って該微小突起3の高さする。このように微小突起3の高さが種々に異なる場合には、例えば物体の接触により高さの高い微小突起3の形状が損なわれた場合でも、高さの低い微小突起3においては、形状が維持されることになる。これによっても透明体1では、反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらには外観不良の発生を低減することができ、その結果、耐擦傷性を向上することができる。   Further, when the transparent body 1 having such a microprojection group (3, 3a, 3b, 3c,...) Including the multimodal microprojections 3b, 3c,. It was found that the lengths were different (see FIGS. 12 and 13A). Here, as described above, the height of each microprotrusion is the height of the peak (highest peak) having the highest height at the top of a specific microprotrusion 3 sharing the ridge (base) portion. Say. In the case of a single-peak microprojection 3a such as the microprojection 3 in FIG. 13A, the height of the only peak (maximum point) at the top is the projection height of the microprojection. Further, in the case of a multi-peak microprojection such as the microprojections 3b and 3c in FIG. 13A, the height of the microprojections 3 is the highest peak among the plurality of peaks sharing the ridge at the top. The height. Further, when the heights of all the peaks are the same, the height of the minute protrusion 3 is set to a height common to all the peaks. In this way, when the heights of the microprojections 3 are variously different, for example, even when the shape of the microprojections 3 having a high height is damaged due to contact with an object, the shape of the microprojections 3 having a low height is reduced. Will be maintained. Also by this, in the transparent body 1, local deterioration of the antireflection function can be reduced, and the occurrence of poor appearance can be reduced, and as a result, the scratch resistance can be improved.

また透明体1表面の微小突起群と物体との間に塵埃が付着すると、当該物品が透明体1に対して相対的に摺動した際に、該塵埃が研磨剤として機能して微小突起(群)の磨耗、損傷が促進されることになる。この場合に、微小突起群を構成する各微小突起間に高低差が有ると、塵埃は高さの高い微小突起に強く接触し、これが犠牲的に損傷を引き受ける。一方で高さの低い微小突起との接触は弱まり、損傷が軽減され、無傷ないしは軽微な傷で残存した高さの低い微小突起によって反射防止性能が維持される。   Further, when dust adheres between the microprojections on the surface of the transparent body 1 and the object, when the article slides relative to the transparent body 1, the dust functions as an abrasive to form microprojections ( Group) wear and damage are promoted. In this case, if there is a height difference between the microprotrusions constituting the microprotrusion group, the dust strongly contacts the microprotrusions with a high height, and this sacrifices damage. On the other hand, the contact with the microprojections having a low height is weakened, the damage is reduced, and the antireflection performance is maintained by the microprojections having a low height remaining without being damaged or slightly damaged.

またこれに加えて、各微小突起3の高さに分布(高低差)の有る微小突起群は、反射防止性能が広帯域化され、白色光のような多波長の混在する光、あるいは広帯域スペクトルを持つ光に対して、全スペクトル帯域で低反射率を実現するのに有利である。これは、かかる微小突起群によって良好な反射防止性能を発現し得る波長帯域が、隣接突起間距離dの他に、突起高さにも依存する為である。   In addition to this, the microprotrusion group having a distribution (height difference) in the height of each microprotrusion 3 has a broad antireflection performance, and has a multi-wavelength light such as white light or a wideband spectrum. It is advantageous for realizing low reflectivity in the entire spectral band for the light possessed. This is because the wavelength band in which good antireflection performance can be exhibited by such a microprojection group depends not only on the distance d between adjacent projections but also on the projection height.

またこの場合には、多数の微小突起3のうちの高さの高い微小突起3のみが、例えば透明体1と対向するように配置された各種の部材表面と接触することになる。これにより高さが同一の微小突起のみによる場合に比して格段的に滑りを良くすることができ、製造工程等における透明体1の取り扱いを容易とすることができる。なおこのように滑りを良くする観点から、ばらつきは、標準偏差σにより規定した場合に、10nm以上必要であるものの、50nmより大きくなると、このばらつきによる表面のざらつき感が感じられるようになる。従ってこの高さのばらつきは、10nm以上、50nm以下であることが好ましい。   In this case, only the high microprojections 3 among the many microprojections 3 come into contact with the surface of various members arranged to face the transparent body 1, for example. Thereby, compared with the case where it uses only the microprotrusions with the same height, the slipping can be remarkably improved, and the handling of the transparent body 1 in the manufacturing process can be facilitated. From the viewpoint of improving the slip as described above, the variation needs to be 10 nm or more when defined by the standard deviation σ. However, when the variation is larger than 50 nm, a feeling of surface roughness due to the variation can be felt. Therefore, the height variation is preferably 10 nm or more and 50 nm or less.

またこのように多峰性微小突起3b、3c、・・が混在する場合には、単峰性微小突起3aのみによる場合に比して反射防止の性能を向上することができる。すなわち図8、図13、及び図14等に示すような多峰性微小突起3b、3c等は、隣接突起間距離が同じ場合であっても、また突起高さが同じ場合であっても、単峰性微小突起3aと比べて、より光の反射率が低減することになる。その理由は、多峰性微小突起3b、3c等は、頂部より下(中腹及び麓)の形状が同じ単峰性微小突起3aよりも、頂部近傍における有効屈折率の高さ方向の変化率が小さくなる為である。     In addition, when the multimodal microprotrusions 3b, 3c,... Are mixed in this way, the antireflection performance can be improved as compared with the case of using only the single-peak microprotrusions 3a. That is, the multimodal microprotrusions 3b, 3c, etc. as shown in FIG. 8, FIG. 13 and FIG. 14, etc., even when the distance between adjacent protrusions is the same or when the protrusion height is the same, Compared with the unimodal microprotrusions 3a, the light reflectance is further reduced. The reason for this is that the multi-modal microprotrusions 3b, 3c, etc. have a higher rate of change in the effective refractive index in the vicinity of the apex than the single-peak microprotrusions 3a having the same shape below the top (the middle and the heel). This is because it becomes smaller.

すなわち図13において、z=0を高さH=0とおき、高さ方向(Z軸方向)に直交する仮想的切断面Z=zで微小突起3a、3b等を切断したと仮定した場合の面Z=zにおける微小突起と周辺の媒質(通常は空気)との屈折率の平均値として得られる有効屈折率nefは、切断面Z=zにおける周辺媒質(ここでは空気とする)の屈折率をnA=1、微小突起3a、3b、・・の構成材料の屈折率をnM>1とし、又周辺媒質(空気)の断面積の合計値をSA(z)、微小突起3a、3b、・・の断面積の合計値をSM(z)としたとき、
ef(z)=1×SA(z)/(SA(z)+SM(z))+nM×SM(z)/(SA(z)+SM(z))(式1)
で表される。これは、周辺媒質の屈折率nA及び微小突起構成材料の屈折率nMを、各々周辺媒質の合計断面積SA(z)及び微小突起の合計断面積の合計値SM(z)で比例配分した値となる。
That is, in FIG. 13, assuming that z = 0 is set to height H = 0, and it is assumed that the minute protrusions 3a, 3b, etc. are cut at a virtual cutting plane Z = z orthogonal to the height direction (Z-axis direction). The effective refractive index n ef obtained as an average value of the refractive indexes of the minute protrusions on the surface Z = z and the surrounding medium (usually air) is the refraction of the surrounding medium (here, air) on the cut surface Z = z. The refractive index of the constituent material of n A = 1, the minute protrusions 3a, 3b,..., N M > 1, and the total value of the sectional area of the surrounding medium (air) is S A (z), the minute protrusion 3a. When the total value of the cross-sectional areas of 3b,... Is S M (z),
n ef (z) = 1 × S A (z) / (S A (z) + S M (z)) + n M × S M (z) / (S A (z) + S M (z)) (Formula 1 )
It is represented by This is because the refractive index n A of the peripheral medium and the refractive index n M of the constituent material of the microprojections are respectively the total sectional area S A (z) of the peripheral medium and the total value S M (z) of the total sectional area of the microprojections. Proportionally distributed value.

ここで、単峰性微小突起3aを基準にして考えたときに、多峰性微小突起3b、3c、・・は、頂部近傍が複数の峰に分裂している。そのため、頂部近傍を切断する仮想的切断面Z=zにおいて、多峰性微小突起3b、3c、・・は、単峰性微小突起3a、・・に比べて相対的に低屈折率である周辺媒質の合計断面積SA(z)の比率が、相対的に高屈折率である微小突起の合計断面積SM(z)の比率に比べて、より増大することになる。 Here, when considered on the basis of the monomodal microprotrusions 3a, the multimodal microprotrusions 3b, 3c,... Are split into a plurality of peaks near the top. Therefore, in the virtual cutting plane Z = z that cuts the vicinity of the top, the multimodal microprotrusions 3b, 3c,... Have a relatively lower refractive index than the single-peak microprotrusions 3a,. The ratio of the total cross-sectional area S A (z) of the medium is further increased as compared with the ratio of the total cross-sectional area S M (z) of the microprojections having a relatively high refractive index.

その結果、仮想的切断面Z=zにおける有効屈折率nef(z)は、多峰性微小突起3b、3c、・・の方が単峰性微小突起3a、・・に比べて、より周辺媒質の屈折率nAに近くなる。面Z=zにおける多峰性微小突起の有効屈折率と周辺媒質の屈折率との差を|nef(z)−nA(z)|multi、単峰性微小突起3aの有効屈折率と周辺媒質の屈折率との差を|nef(z)−nA(z)|monoとすると、頂点近傍に於いては、
|nef(z)−nA(z)|multi<|nef(z)−nA(z)|mono(式2)
となる。ここでnA(z)=1とすると、
|nef(z)−1|multi<|nef(z)−1|mono(式2A)
となる。
As a result, the effective refractive index n ef (z) at the virtual cut surface Z = z is more peripheral in the multimodal microprotrusions 3b, 3c,. It is close to the refractive index n A of the medium. The difference between the refractive index of the effective refractive index and the surrounding medium multimodal microprotrusions in the plane Z = z | and multi, the effective refractive index of the unimodal microprojection 3a | n ef (z) -n A (z) If the difference from the refractive index of the surrounding medium is | n ef (z) −n A (z) | mono ,
| N ef (z) −n A (z) | multi <| n ef (z) −n A (z) | mono (Formula 2)
It becomes. If n A (z) = 1,
| N ef (z) -1 | multi <| n ef (z) -1 | mono (Formula 2A)
It becomes.

これにより頂部近傍において、3b、3c、・・の多峰性微小突起を含む微小突起群(各微小突起間に周辺媒質を含む)については、単峰性微小突起3aのみからなる微小突起群に比べて、その有効屈折率と周辺媒質(空気)の屈折率との差、より詳細に言えば、微小突起の高さ方向の単位距離当たりの屈折率の変化率をより低減化すること、換言すれば、屈折率の高さ方向変化の連続性をより高めること)が可能になることが判る。   As a result, in the vicinity of the top, a microprojection group including multi-peak microprojections 3b, 3c,... (Including a peripheral medium between the microprojections) is a microprojection group composed of only the single-peak microprojections 3a. In comparison, the difference between the effective refractive index and the refractive index of the surrounding medium (air), more specifically, the rate of change of the refractive index per unit distance in the height direction of the microprojections is further reduced. As a result, it is possible to further increase the continuity of the refractive index in the height direction.

尚、微小突起本体の部分についても、各微小突起の高さZ=zに於ける仮想的切断面の斷面積がzの減少函数となる(透明基材2から離れるに従って突起が先窄まりとなる)形状にした方が、微小突起の合計斷面積SM(z)もzの減少函数となる為、有效屈折率nef(z)の高さz方向の変化も連続的に減少する為、反射防止效果発現の上で好ましい。 In addition, for the microprojection main body portion, the crease area of the virtual cut surface at the height Z = z of each microprojection is a decreasing function of z (the projection becomes tapered as the distance from the transparent substrate 2 increases). Since the total ridge area SM (z) of the microprotrusions also becomes a decreasing function of z, the change in the effective refractive index n ef (z) in the height z direction continuously decreases. It is preferable in view of the antireflection effect.

一般に、隣接する屈折率n0の媒質と屈折率n1の媒質との界面に光が入射する場合に、該界面における光の反射率Rは、入射角=0として、
R=(n1−n02/(n1+n02(式3)
となる。この式より界面両側の媒質の屈折率差n1−n0が小さいほど界面での光の反射率Rは減少し、(n1−n0)が値0に近づけばRも値0に近づくことになる。
In general, when light is incident on an interface between an adjacent medium having a refractive index n 0 and a medium having a refractive index n 1 , the reflectance R of the light at the interface is set as an incident angle = 0.
R = (n 1 −n 0 ) 2 / (n 1 + n 0 ) 2 (Formula 3)
It becomes. From this equation, the smaller the refractive index difference n 1 −n 0 of the medium on both sides of the interface, the lower the light reflectivity R at the interface, and when (n 1 −n 0 ) approaches 0, R also approaches 0. It will be.

(式2)、(式2A)及び(式3)より、多峰性微小突起3b、3c、・・を含む微小突起群(各微小突起間に周辺媒質を含む)については、単峰性微小突起3aのみからなる突起群に比べて光の反射率が低減する。   From (Formula 2), (Formula 2A), and (Formula 3), for the microprojection group including the multimodal microprotrusions 3b, 3c,. The light reflectance is reduced as compared with the projection group consisting only of the projections 3a.

図8〜図12に示す微小突起を有する本実施形態の場合、可視光線反射率は透明体1と透明基材2の表面の法線方向(図13においてはZ(軸)方向)からの入射光に対して0.05〜0.08%の範囲である。   In the case of the present embodiment having the minute projections shown in FIGS. 8 to 12, the visible light reflectance is incident from the normal direction of the surfaces of the transparent body 1 and the transparent substrate 2 (Z (axis) direction in FIG. 13). It is 0.05 to 0.08% of range with respect to light.

又、単峰性微小突起3aのみからなる微小突起群を用いた場合は、隣接峰間の距離と隣接微小突起間距離とが同一となる為、隣接微小突起間が接触、一体複合化する現象(いわゆるスティッキング)が発生し易くなる。スティッキングを生じると、実質上の隣接突起間距離dは一体複合化した微小突起数の分だけ増加する。   In addition, when a microprojection group consisting of only single-peak microprojections 3a is used, the distance between adjacent microprojections and the distance between adjacent microprojections are the same, so that the adjacent microprotrusions come into contact with each other and are integrally combined. (So-called sticking) easily occurs. When sticking occurs, the substantial distance d between adjacent protrusions increases by the number of minute protrusions integrated together.

例えば、d=200nmの微小突起が4個スティッキングすると、実質上、スティッキングして一体化した突起の大きさは、d=4×200nm=800nm>可視光線帯域の最長波長(780nm)となり、これにより局所的に反射防止効果を損なうことになる。   For example, when four microprojections with d = 200 nm are stuck, the size of the stuck and integrated projection is substantially d = 4 × 200 nm = 800 nm> the longest wavelength in the visible light band (780 nm). The antireflection effect is locally impaired.

一方、多峰性微小突起3b、3c、・・からなる微小突起群の場合、頂部近傍の各峰間の隣接突起間距離dPEAKは、麓から中腹にかけての微小突起本体部の隣接突起間距離dBASEよりも小さくなり(dPEAK<dBASE)、通常、dPEAK=dBASE/4〜dBASE/2程度である。その為、各峰間の隣接突起間距離dPEAK≪λMINとすることで十分な反射防止性能を得ることができる。但し、多峰性微小突起3b、3c、・・の各峰部は、麓部の幅に対する峰部の高さの比が小さく、単峰性微小突起3aの麓部の幅に対する頂点の高さの比(アスペクト比とも呼称する)の1/2〜1/10程度である。従って、同じ外力に対して、多峰性微小突起3b、3c、・・の峰部は単峰性微小突起3aに比べての変形し難い。且つ、多峰性微小突起3b、3c、・・の本体部自体は峰部よりも隣接突起間距離は大であり、且つ強度も大である。その為、結局、多峰性微小突起3b、3c、・・からなる微小突起群は、単峰性微小突起3aからなる突起群に比べて、スティッキングの生じ難さと低反射率とを容易に両立させることができる。 On the other hand, in the case of a microprojection group consisting of multimodal microprojections 3b, 3c,..., The distance between adjacent projections d PEAK between the peaks near the top is the distance between adjacent projections of the microprojection main body from the heel to the middle. It becomes smaller than d BASE (d PEAK <d BASE ), and is usually about d PEAK = d BASE / 4 to d BASE / 2. Therefore, sufficient antireflection performance can be obtained by setting the distance d PEAK << λ MIN between adjacent protrusions between the peaks. However, the ratio of the height of the ridges to the width of the ridge is small in each ridge of the multimodal microprojections 3b, 3c,..., And the height of the apex to the width of the ridge of the single-peak microprojections 3a The ratio (also referred to as aspect ratio) is about 1/2 to 1/10. Therefore, for the same external force, the peaks of the multimodal microprotrusions 3b, 3c,... Are less likely to deform than the single-peak microprotrusions 3a. Moreover, the main body itself of the multimodal microprotrusions 3b, 3c,... Has a greater distance between adjacent protrusions and a higher strength than the ridges. Therefore, in the end, the microprojection group composed of the multimodal microprotrusions 3b, 3c,... Easily achieves both stickiness and low reflectance compared to the projection group composed of the single-peak microprojections 3a. Can be made.

なお可視光の反射防止用途の他の用途であっても、又は可視光環境下であっても、当該反射防止材料が設置、使用される環境条件に応じて、想定する反射防止波長に応じたモスアイ構造を形成し、高さ分布を持たせる事により、前記の通り、従来のものより耐擦性があり、かつ、プロセス要件などで低硬度の材料を使用した場合においても互いのスティッキングを防止し、光学的必要性能を合わせ持つ反射防止材料を作製する事が可能となる。例えば、380nm前後の紫外領域について反射防止性能を得たい場合はモスアイの高さが約50nmでも可能であり、同様に700nm前後の赤外領域については約150nm以上、実用上を考慮し400nmであれば可能である。なお、前記の通りモスアイの配置ピッチについては高さについて飽和するような製作条件を見出し、モスアイの反射率を効果的に操作する事が可能である。さらに、モスアイの頂部構造についても、従来の単峰から改良を加える事で高さと反射率を両立し、かつ物理的にスティッキングを起こしにくく、効果的に反射率を低減する事が可能となっている。   In addition, even if it is other uses for antireflection of visible light, or under a visible light environment, the antireflection material depends on the assumed antireflection wavelength depending on the environmental conditions where the antireflection material is installed and used. By forming a moth-eye structure and having a height distribution, as described above, even when using materials that are more resistant to abrasion than conventional products and have low hardness due to process requirements, etc., prevent sticking to each other In addition, it is possible to produce an antireflection material having both optically required performance. For example, when it is desired to obtain antireflection performance in the ultraviolet region around 380 nm, the height of the moth eye can be about 50 nm. Similarly, in the infrared region around 700 nm, about 150 nm or more, and 400 nm in consideration of practical use. Is possible. As described above, it is possible to find manufacturing conditions that saturate the height of the arrangement pitch of the moth-eye, and to effectively control the reflectance of the moth-eye. In addition, the top structure of the moth-eye can be improved from the conventional single peak to achieve both height and reflectivity, and it is difficult to cause physical sticking and can effectively reduce reflectivity. Yes.

ところでこのような微小突起の作製に供するロール版では、陽極酸化処理とエッチング処理との交互の繰り返しにより、孔径を拡大しながら微細孔を掘り進め、これにより微小突起の賦型に供する微細孔が作製される。多峰性微小突起3b、3c、・・は、係る構造の頂部に対応する形状の凹部を備えた微小孔により作成されるものであり、このような微小孔は、極めて近接して作製された微細孔が、エッチング処理により、一体化して作製されると考えられる。これにより多峰性微小突起3b、3c、・・と単峰性微小突起3aとを混在させるには、陽極酸化により作製される微細孔の間隔を大きくばらつかせることにより実現することができ、陽極酸化処理におけるばらつきを大きくすることにより実現することができる。   By the way, in the roll plate used for the production of such microprojections, by repeating the anodizing treatment and the etching treatment alternately, the micropores are dug while expanding the pore diameter, so that the micropores used for forming the microprojections are formed. Produced. The multimodal microprotrusions 3b, 3c,... Are created by micropores having a concave portion corresponding to the top of the structure, and such micropores were made very close to each other. It is considered that the fine holes are integrally formed by etching. Thereby, in order to mix the multimodal microprotrusions 3b, 3c,... And the monomodal microprotrusions 3a, it can be realized by greatly varying the interval between the micropores produced by anodization, This can be realized by increasing the variation in the anodizing treatment.

また微細孔の高さのばらつきは、ロール版に作製される微細孔の深さのばらつきによるものであり、このような微細孔の深さのばらつきについても、陽極酸化処理におけるばらつきに起因するものと言える。   In addition, the variation in the height of the fine holes is caused by the variation in the depth of the fine holes produced in the roll plate, and such a variation in the depth of the fine holes is also caused by the variation in the anodizing process. It can be said.

これらによりこの実施形態では、ばらつきが大きくなるように、陽極酸化処理における条件を設定し、単峰性微小突起と単峰性微小突起3aとが混在し、かつ微小突起3の高さがばらついた透明体1を生産する。 Accordingly, in this embodiment, the conditions in the anodizing process are set so that the variation is large, the single-peak microprojections and the single-peak microprojections 3a are mixed, and the height of the microprojections 3 varies. A transparent body 1 is produced.

ここで陽極酸化処理における印加電圧(化成電圧)と微細孔の間隔とは比例関係にあり、さらに一定範囲より印加電圧が逸脱するとばらつきが大きくなる。これにより濃度0.01M〜0.03Mの硫酸、シュウ酸、リン酸の水溶液を使用して、電圧15V(第1工程)〜35V(第2工程:第1工程に対して約2.3倍)の印加電圧により、多峰性微小突起3b、3c、・・と単峰性微小突起3aとが混在し、かつ微小突起の高さがばらついた透明体1生産用のロール版を作製することができる。なお印加電圧が変動すると、微細孔の間隔のばらつきが大きくなることにより、例えば直流電源によりバイアスした交流電源を使用して印加用電圧を生成する場合等、印加電圧を意図的に変動させてもよい。また電圧変動率の大きな電源を使用して陽極酸化処理を実行してもよい。   Here, the applied voltage (formation voltage) in the anodic oxidation treatment and the interval between the micropores are in a proportional relationship, and the variation increases when the applied voltage deviates from a certain range. As a result, using an aqueous solution of sulfuric acid, oxalic acid, and phosphoric acid having a concentration of 0.01M to 0.03M, a voltage of 15V (first step) to 35V (second step: about 2.3 times that of the first step) ) To produce a roll plate for producing transparent body 1 in which multi-peak microprojections 3b, 3c,... And monomodal microprojections 3a are mixed and the heights of the microprojections vary. Can do. If the applied voltage fluctuates, the variation in the spacing between the micropores increases, so that even if the applied voltage is intentionally varied, for example, when an applied voltage is generated using an alternating current power source biased by a direct current power source. Good. The anodizing treatment may be performed using a power source having a large voltage fluctuation rate.

図14は、頂点が複数の多峰性微小突起を示す写真であり、図14(a)は、AFMによるものであり、図14(b)及び(c)は、SEMによるものである。図14(a)では、溝g及び3つの頂点を有する微小突起、及び溝g及び2つの頂点を有する微小突起を見て取ることができ、図14(b)では、溝g及び4つの頂点を有する微小突起、及び溝g及び2つの頂点を有する微小突起を見て取ることができ、図14(c)では、溝g及び3つの頂点を有する微小突起、溝g及び2つの頂点を有する微小突起を見て取ることができる。なおこの図14は、水温20℃、濃度0.02Mのシュウ酸水溶液を適用し、印加電圧35Vにより120秒、陽極酸化処理を実行したものである。またエッチング処理には、第1工程に同上陽極酸化液、第2工程に水温20℃、濃度1.0Mのリン酸水溶液を適用した。陽極酸化処理とエッチング処理との回数は、それぞれ3(〜5)回である。   FIG. 14 is a photograph showing a multi-peak microprojection having a plurality of vertices. FIG. 14A is obtained by AFM, and FIGS. 14B and 14C are obtained by SEM. In FIG. 14 (a), a groove g and a microprojection having three vertices and a groove g and a microprojection having two vertices can be seen, and in FIG. 14 (b), the groove g and four vertices are present. A microprotrusion and a microprotrusion having a groove g and two vertices can be seen, and in FIG. 14C, a microprotrusion having a groove g and three vertices, a microprotrusion having a groove g and two vertices can be seen. be able to. In FIG. 14, an oxalic acid aqueous solution having a water temperature of 20 ° C. and a concentration of 0.02 M is applied, and an anodic oxidation treatment is performed for 120 seconds with an applied voltage of 35V. In the etching process, an anodic oxidation solution was applied to the first step, and an aqueous phosphoric acid solution having a water temperature of 20 ° C. and a concentration of 1.0 M was applied to the second step. The number of times of anodizing treatment and etching treatment is 3 (~ 5) times.

以上の構成によれば、頂点が複数からなる多峰性微小突起3b、3c、・・と頂点が1つの単峰性微小突起3aとを混在させることにより、従来に比して耐擦傷性を向上することができる。   According to the above configuration, the multi-peak microprotrusions 3b, 3c having a plurality of vertices and the single-peak microprotrusion 3a having one vertices are mixed, so that the scratch resistance is improved as compared with the conventional case. Can be improved.

またさらに微小突起の高さに分布を持たせることにより、滑り性を向上することができる。   Furthermore, the slipperiness can be improved by giving a distribution to the heights of the microprotrusions.

〔他の実施形態〕 以上、本願発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本願発明は、本願発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更し、さらには従来構成と組み合わせることができる。   [Other Embodiments] The specific configuration suitable for the implementation of the present invention has been described in detail above. However, the present invention has various modifications to the configuration of the above-described embodiment without departing from the spirit of the present invention. Further, it can be combined with the conventional configuration.

すなわち上述の実施形態では、陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返し回数をそれぞれ3(〜5)回に設定する場合について述べたが、本願発明はこれに限らず、繰り返し回数をこれ以外の回数に設定してもよく、またこのように複数回処理を繰り返して、最後の処理を陽極酸化処理とする場合にも広く適用することができる。   That is, in the above-described embodiment, the case where the number of repetitions of the anodizing treatment and the etching treatment is set to 3 (~ 5) times has been described, but the present invention is not limited to this, and the number of repetitions is set to other times. In addition, the present invention can be widely applied to the case where the process is repeated a plurality of times and the final process is anodizing.

また上述の実施形態では、微小突起の受容層を構成する賦型用樹脂にアクリレート系の紫外線硬化性樹脂を適用する場合について述べたが、本願発明はこれに限らず、エポキシ系、ポリエステル系等の各種紫外線硬化性樹脂、或いはアクリレート系、エポキシ系、ポリエステル系等の電子線硬化性樹脂、ウレタン系、エポキシ系、ポリシロキサン系等の熱硬化性樹脂等の各種材料及び各種硬化形態の賦型用樹脂を使用する場合にも広く適用することができ、さらには例えば加熱溶融したポリオレフィン系、ポリカーボネート系等の熱可塑性の樹脂を押圧して賦型する場合等にも広く適用することができる。   In the above-described embodiment, the case where an acrylate-based ultraviolet curable resin is applied to the shaping resin constituting the microprojection receiving layer has been described. However, the present invention is not limited to this, and the epoxy-based, polyester-based, etc. Various UV curable resins, acrylate-based, epoxy-based, polyester-based and other electron beam-curable resins, urethane-based, epoxy-based and polysiloxane-based thermosetting resins, and various curing forms The present invention can also be widely applied to the case of using a resin for a resin, and further, for example, can be widely applied to a case where a thermoplastic resin such as polyolefin or polycarbonate that has been heated and melted is pressed to form.

また、上述の実施形態では、図13の如く透明基材2の一方の面上に受容層(紫外線硬化性樹脂層)14を積層してなる積層体の該受容層14上に微小突起群を賦形し、該受容層14を硬化せしめて透明体1を形成している。層構成としては2層の積層体となる。但し、本願発明は、かかる形態のみに限定される訳では無い。本願発明の透明体1は、図示は略すが、透明基材2の一方の面上に、他の層を介さずに直接、微小突起群(3、3a、3b、3c、・・)を賦形した単層構成であっても良い。或いは、透明基材2の一方の面に1層以上の中間層(層間の密着性、塗工適性、表面平滑性等の基材表面性能を向上させる層。プライマー層、アンカー層等とも呼称される。)を介して受容層14を形成し、該受容層表面に微小突起群を賦形した3層以上の積層体であっても良い。   Further, in the above-described embodiment, the microprojection group is formed on the receiving layer 14 of the laminate formed by stacking the receiving layer (ultraviolet curable resin layer) 14 on one surface of the transparent substrate 2 as shown in FIG. The transparent body 1 is formed by shaping and curing the receiving layer 14. The layer structure is a two-layer laminate. However, the present invention is not limited to such a form. Although the transparent body 1 of the present invention is not shown in the figure, a minute projection group (3, 3a, 3b, 3c,...) Is directly applied on one surface of the transparent substrate 2 without interposing another layer. It may be a single layer configuration. Alternatively, one or more intermediate layers (layers that improve substrate surface performance such as adhesion between layers, coating suitability, surface smoothness, etc. on one surface of the transparent substrate 2 are also called a primer layer, an anchor layer, etc. 3), the receiving layer 14 may be formed through the surface of the receiving layer, and a microprojection group may be formed on the surface of the receiving layer.

更に、上述の実施形態のうち、図2に図示の如き実施形態では、透明基材2の一方の表面2s上にのみ(直接或いは他の層を介して)微小突起群を形成しているが、本願発明はかかる形態には限定されない。図4に図示の如く透明基材2の一方の表面2s及び他方の表面2rの両面上に(直接或いは他の層を介して)各々微小突起群を形成した構成であっても良い。   Further, among the above-described embodiments, in the embodiment as illustrated in FIG. 2, the microprojection group is formed only on one surface 2 s of the transparent substrate 2 (directly or via another layer). The present invention is not limited to such a form. As shown in FIG. 4, a configuration in which microprojections are formed on both surfaces of the one surface 2 s and the other surface 2 r of the transparent substrate 2 (directly or via other layers) may be employed.

また、上述の実施形態では、図13(a)に示すように、各隣接微小突起間の谷底(高さの極小点)を連ねた面は高さが一定な平面であったが、本願発明はこれに限らず、図15に示すように、各微小突起3間の谷底を連ねた包絡面16が、可視光線帯域の最長波長λmax以上の周期D(すなわちD>λmaxである)でうねった構成としてもよい。又該周期的なうねりは、透明基材2の表裏面に平行なXY平面(図13、図15参照)における1方向(例えばX方向)のみでこれと直交する方向(例えばY方向)には一定高さであっても良いし、或いはXY平面における2方向(X方向及びY方向)共にうねりを有していても良い。D>λmaxを満たす周期Dでうねった凹凸面(微小突起群の各微小突起の谷底部の包絡面16に対応する)が多数の微小突起からなる微小突起群に重畳することによって、微小突起群で完全に反射防止し切れずに残った反射光を散乱し、殘留反射光、とくに鏡面反射光を更に視認し難くし、以って、反射防止効果を一段と向上させることができる。   Further, in the above-described embodiment, as shown in FIG. 13A, the surface connecting the valley bottoms (minimum points of height) between the adjacent minute protrusions is a flat surface having a constant height. However, as shown in FIG. 15, the envelope surface 16 connecting the valley bottoms between the microprotrusions 3 undulates with a period D (that is, D> λmax) equal to or longer than the longest wavelength λmax in the visible light band. It is good also as a structure. Further, the periodic undulation is only in one direction (for example, the X direction) on the XY plane (see FIGS. 13 and 15) parallel to the front and back surfaces of the transparent substrate 2 and in a direction (for example, the Y direction) perpendicular thereto. The height may be constant, or the two directions (X direction and Y direction) on the XY plane may have undulations. An uneven surface (corresponding to the envelope surface 16 at the bottom of each microprojection in the microprojection group) that undulates with a period D satisfying D> λmax is superimposed on the microprojection group composed of a large number of microprojections. Therefore, it is possible to scatter the reflected light remaining without being completely prevented from being reflected, and to make it more difficult to visually recognize the reflected light, particularly the specular reflected light, thereby further improving the antireflection effect.

尚、係る凹凸面乃至微小突起群の谷底部の包絡面16の周期Dが全面に渡って一定では無い分布を有する場合は、該凹凸面16について凸部間距離の度数分布を求め、その平均値をDAVG、標準偏差をΣとしたときの、DMIN=DAVG―2Σとして定義する最小隣接突起間距離を以って周期Dの代わりとして設計する。即ち、微小突起群の殘留反射光の散乱効果を十分奏し得る条件は、DMIN>λmaxである。通常、D又はDMINは1〜200μm、好ましくは10〜100μmとされる。 In addition, when the period D of the envelope surface 16 of the valley surface portion of the uneven surface or the microprojection group has a non-constant distribution over the entire surface, the frequency distribution of the distance between the protrusions is obtained for the uneven surface 16, and the average It is designed as a substitute for the period D with a minimum inter-protrusion distance defined as D MIN = D AVG −2Σ, where D AVG is the value and Σ is the standard deviation. That is, the condition that can sufficiently exhibit the scattering effect of the reflected light of the microprojections is D MIN > λmax. Usually, D or D MIN is 1 to 200 μm, preferably 10 to 100 μm.

又、斯かる凹凸面16の頂点と谷底との高低差は、JIS B0601(1994年)規定の10点平均粗さRzで0.5〜10μm程度、好ましくは1〜5μmとされる。尚、微小突起群の全微小突起3の谷底、即ち全極小点が同一の凹凸面上に位置するような適当な包絡面の当て嵌めが困難な場合は、例えば、最小二乗法等の適宜のデータ処理によって、問題とする全領域に於いて谷底(即ち極小点)からの距離の総和が最小となる凹凸面を以って包絡面とする。   Further, the height difference between the top and bottom of the uneven surface 16 is about 0.5 to 10 [mu] m, preferably 1 to 5 [mu] m in terms of the 10-point average roughness Rz defined in JIS B0601 (1994). If it is difficult to fit an appropriate envelope surface such that the bottoms of all the microprojections 3 of the microprojection group, that is, all the minimum points are located on the same uneven surface, an appropriate method such as a least square method is used. By the data processing, the envelope surface is formed by the uneven surface having the minimum sum of the distances from the valley bottom (that is, the minimum point) in the entire region in question.

各微小突起の谷底を連ねた包絡面16の形状が、D(又はDMIN)>λmax、なる凹凸面を呈する樣な微小突起群を形成する具体的な製造方法の一例を挙げると以下の通りである。即ち、ロール版の製造工程において、円筒(又は円柱)形状の母材の表面にサンドブラスト又はマット(艶消し)メッキによって包絡面16の凹凸形状に対応する凹凸形状を賦形する。次いで、該凹凸形状の面上に、直接或いは必要に応じて適宜の中間層を形成した後、アルミニウム層を積層する。その後、該凹凸形状表面に対応した表面形状を賦形されたアルミニウム層に上述の実施形態と同様にして陽極酸化処理及びエッチング処理を施して微小突起(3、3a、3b、3c)を含む微小突起群を形成する。 An example of a specific manufacturing method for forming a concavo-convex microprojection group having an uneven surface where the shape of the envelope surface 16 connecting the valley bottoms of each microprojection is D (or D MIN )> λmax is as follows. It is. That is, in the roll plate manufacturing process, a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex shape of the envelope surface 16 is formed on the surface of a cylindrical (or columnar) shaped base material by sandblasting or mat (matte) plating. Next, an appropriate intermediate layer is formed directly or if necessary on the uneven surface, and then an aluminum layer is laminated. After that, the aluminum layer formed with a surface shape corresponding to the uneven surface is subjected to anodizing treatment and etching treatment in the same manner as in the above-described embodiment to include minute protrusions (3, 3a, 3b, 3c). A projection group is formed.

また上述の実施形態では、ロール版を使用した賦型処理によりフィルム形状による透明体1を生産する場合について述べたが、本願発明はこれに限らず、透明体1の形状に係る透明基材2の形状に応じて、例えば平板、特定の曲面形状による賦型用金型を使用した枚葉の処理により透明体1を作成する場合等、賦型処理に係る工程、金型は、透明体1の形状に係る透明基材2の形状に応じて適宜変更することができる。   Moreover, in the above-mentioned embodiment, although the case where the transparent body 1 by a film shape was produced by the shaping process using a roll plate was described, this invention is not restricted to this, The transparent base material 2 which concerns on the shape of the transparent body 1 Depending on the shape of the mold, for example, when the transparent body 1 is created by processing a flat plate or a single wafer using a mold for molding with a specific curved surface shape, the process related to the molding process, the mold is the transparent body 1 It can change suitably according to the shape of the transparent base material 2 which concerns on the shape of this.

<建具などへの適用>
本願発明における透明体1は、住宅、店舗、事務所、学校、病院等の建築物の窓、扉、間仕切、壁面等のいわゆる建具を構成する透明基材2(窓硝子等)の表面(室内側、室外側、或いはその両側)に配置して、外界の視認性、あるいは採光効率を向上することができる。また、温室、農業用ビニールハウスの透明シートとして、ないしは透明板(窓材)に配置して、太陽光の採光効率を向上することができる。
<Application to joinery>
The transparent body 1 in the present invention is a surface (room) of a transparent base material 2 (window glass or the like) that constitutes so-called fittings such as windows, doors, partitions, and wall surfaces of buildings such as houses, stores, offices, schools, and hospitals. It is possible to improve the visibility of the outside world or the daylighting efficiency by arranging it on the inner side, the outdoor side, or both sides thereof. Moreover, it can arrange | position as a transparent sheet | seat of a greenhouse, an agricultural greenhouse, or a transparent board (window material), and can improve the sunlight lighting efficiency.

なお、特に建築物の住居空間の窓などについては、住居空間側に於いて屋外の風景を楽しみたい部位のみ(窓全面積中の一部分)に反射防止性微小突起の形成領域4を設けることにより、昼間は、外側が明るく、窓を形成する透明体1の外側の大部分の面は、映り込みが従来の窓ガラスと同様にあるため、外から居住空間を観察し難く、居住空間の側からは、映り込みもなく良好に風景などが観測できる。従って、居住空間からの風景の鑑賞と居住空間のプライバシー保護の両立が可能となるものである。   In particular, for windows in residential spaces of buildings, by providing the antireflection micro-projection formation region 4 only on the part of the residential space where you want to enjoy outdoor scenery (part of the total area of the window). In the daytime, the outside is bright, and most of the outside surface of the transparent body 1 forming the window is reflected in the same manner as the conventional window glass, so it is difficult to observe the living space from the outside. From there, you can observe landscapes without reflection. Therefore, it is possible to achieve both the appreciation of the scenery from the living space and the privacy protection of the living space.

図5にガラス扉21に本願発明の透明体1を適用した例を図示ずる。図5のガラス扉21において、扉本体は、主に反射防止性微小突起の形成領域4、及び反射防止性微小突起の非形成領域5を形成したガラス(透明体1)からなっており、取手22及び扉取付用の蝶番23が取り付けられ、周囲に框の無い構造とされている。扉に使用される透明体1は、透明基材2としてガラスが用いられており、子供の目線高さ(地面から約80cm)および大人の視線高さ(地面から約150cm)に断続的に非形成領域5が十字型パターンで内側及び外側に位置を合わせて設けられており、そのほかの部分は、形成領域4となっている。   FIG. 5 illustrates an example in which the transparent body 1 of the present invention is applied to the glass door 21. In the glass door 21 of FIG. 5, the door body is mainly made of glass (transparent body 1) in which an antireflection microprojection formation region 4 and an antireflection microprojection non-formation region 5 are formed. 22 and the hinge 23 for door attachment are attached, and it is set as the structure without a wrinkle around. The transparent body 1 used for the door is made of glass as the transparent base material 2 and is intermittently non-existent at the height of the eyes of the child (about 80 cm from the ground) and the height of the line of sight of the adult (about 150 cm from the ground). The formation region 5 is provided in a cross-shaped pattern so that the positions thereof are aligned inside and outside, and the other portion is the formation region 4.

このような扉とすることで、店内の採光に優れ明るい店内となるとともに、外からは、内部の店内が良く見通せるため客が入り易い店舗となる。また、視線の高さに反射防止性微小突起の非形成領域5が設けられているため、入店しようとする客は、非形成領域5の反射及び映り込みにより、扉の位置を認識することができるため、ガラス扉への衝突を回避できる。   By using such a door, the inside of the store is excellent in daylighting and is bright, and from the outside, the inside of the store can be seen well, so that the customer can easily enter. In addition, since the anti-reflective micro-projection non-formation region 5 is provided at the height of the line of sight, the customer who wants to enter the store recognizes the position of the door by reflection and reflection of the non-formation region 5. Can avoid collision with the glass door.

図7にアルミサッシ窓51に本願発明の透明体1を適用した例を図示する。図7のアルミサッシ窓51は、框52によって周囲を固定された透明体1から構成されるアルミサッシ窓51である。此のアルミサッシ窓51の室外側表面(一方の表面2s)及び室内側表面(他方の表面2r)の両面には、其の窓ガラス部の透明体1の子供の目線高さ(地面から約80cm)から大人の視線高さ(地面から約150cm)までが、反射防止性微小突起の非形成領域5となっており、子供の目線高さ(地面から約80cm)より下部及び大人の視線高さ(地面から約150cm)より上部の外側が反射防止性微小突起の形成領域4であり、また、内側は、全面射防止性微小突起の形成領域4となっている。   FIG. 7 shows an example in which the transparent body 1 of the present invention is applied to an aluminum sash window 51. The aluminum sash window 51 in FIG. 7 is an aluminum sash window 51 configured of the transparent body 1 whose periphery is fixed by a flange 52. On the both sides of the outdoor surface (one surface 2s) and the indoor surface (the other surface 2r) of the aluminum sash window 51, the height of the child's eye of the transparent body 1 of the window glass portion (about about the ground) From the height of 80 cm) to the adult's line of sight (about 150 cm from the ground) is the non-reflective area 5 of the anti-reflective microprojections. The outer side above (about 150 cm from the ground) is an antireflection microprojection formation region 4, and the inner side is a full-surface antireflection microprojection formation region 4.

従って、日中は相対的に暗い室内側からは、全面に亙って屋外が良く観察できる。一方、相対的に明るい室外側からは、視線の高さが、反射防止性微小突起の非形成領域5となっているため、反射や映り込みにより内部を覗う事を妨げる。さらに、子供の目線高さ(地面から約80cm)より下部及び大人の視線高さ(地面から約150cm)より上部は、両面が反射防止性微小突起の形成領域4となっているため、通常のアルミサッシ窓と比較して外部の光の取り込みに優れ室内を明るくすることができる。   Therefore, the outside can be observed well over the entire surface from the relatively dark indoor side during the daytime. On the other hand, from the relatively bright outdoor side, the height of the line of sight is the non-reflective microprojection formation region 5, which prevents the inside from being looked into by reflection or reflection. Furthermore, since both sides of the child's eye height (about 80 cm from the ground) and the adult's line of sight height (about 150 cm from the ground) are the antireflective microprojection formation regions 4, Compared to an aluminum sash window, it can take in external light and brighten the room.

さらに、本願発明における透明体1は、店舗のショウウィンドウや商品展示箱、美術館の展示物の展示窓や展示箱等に使用できる。反射防止性微小突起の形成領域4、及び反射防止性微小突起の非形成領域5は、硝子板などの透明基材2の表面(外界側)、或いは図4の如く表面及び裏面(商品又は展示物側面)の両面に配置するようにしても良い。特に、表面の形成領域4と裏面の面に形成された形成領域4が一致するように設けることが好適である。なおこの場合、形成領域4によって該硝子板表面の光反射防止による商品、美術品等の顧客や観客に対する視認性を向上することができるとともに、非形成領域5によってガラス板(透明体1)の視認性も向上でき顧客や観客が、衝突することが防止できる。また、形成領域4と、非形成領域5のデザインによって高級感のある意匠性を演出できる。   Furthermore, the transparent body 1 in the present invention can be used for a show window of a store, a product display box, a display window of a museum exhibit, a display box, or the like. The antireflection microprojection formation region 4 and the antireflection microprojection non-formation region 5 are the surface (external side) of the transparent substrate 2 such as a glass plate, or the front and back surfaces (product or display) as shown in FIG. It may be arranged on both sides of the object side. In particular, it is preferable to provide the formation region 4 on the front surface and the formation region 4 formed on the back surface. In this case, the formation region 4 can improve the visibility of products and artworks by preventing light reflection on the surface of the glass plate, and the non-formation region 5 can improve the visibility of the glass plate (transparent body 1). Visibility can be improved and customers and spectators can be prevented from colliding. Further, the design of the formation region 4 and the non-formation region 5 can produce a high-quality design.

図6にショウケース41(商品展示箱)に本願発明を適用した例を図示する。図6のショウケース41においては、垂直な4面は両面全面に反射防止性微小突起を形成したフィルムを貼り、表裏両面が反射防止性微小突起の形成領域4となったガラス板を用いている。また、上面は、観察者の衝突を避ける目的で縁取りするように平面視形状が小円状の反射防止性微小突起の非形成領域5を配列せしめ、それ以外の部位には反射防止性微小突起の形成領域4を設けたガラス(透明体1)を設けてある。   FIG. 6 shows an example in which the present invention is applied to a showcase 41 (product display box). In the showcase 41 of FIG. 6, a glass plate in which a film having antireflection microprotrusions formed on both surfaces is pasted on the four vertical surfaces, and the antireflection microprotrusion forming region 4 is formed on both front and back surfaces. . Further, the non-reflective microprojections 5 having a small circular shape in plan view are arranged on the upper surface so as to be edged for the purpose of avoiding the collision of the observer, and the antireflective microprotrusions are arranged at other portions. The glass (transparent body 1) provided with the formation region 4 is provided.

観察者は、遠目には、側面及び上面のガラスが、ほとんど映り込みや反射を生じないため、あたかも展示物がそのまま置いてあるように観察でき、また近づくに従って、上面の反射防止性微小突起の非形成領域5は照明が反射することにより光って目立つため、上面の反射防止性微小突起の非形成領域5が確実に認識され衝突が避けられる。しかしながら、近くで観察しても、非形成領域5以外は、反射や、映り込みがないため、又勿論、非形成領域5も普通の硝子板並みの透明性は有る為、展示物を充分に観察することができる。   The observer can observe as if the exhibits are left on the far side, because the glass on the side and top surface hardly reflects or reflects. Since the non-formation area 5 shines and becomes conspicuous by the reflection of the illumination, the non-formation area 5 of the antireflection minute protrusion on the upper surface is surely recognized and collision is avoided. However, even when observed nearby, there is no reflection or reflection in areas other than the non-formation area 5, and of course, the non-formation area 5 is also as transparent as a normal glass plate, so Can be observed.

さらに、底面や足、展示物を設置する台も反射防止性微小突起の形成領域4を設けたガラスで作成することにより、展示物が宙に展示してあるような意匠性の優れた、且つ、観察者が衝突を回避できる優れたショウケース41とすることができる。   In addition, the bottom, feet, and the stage on which the display is placed are made of glass provided with the formation region 4 of the anti-reflective micro-projections, so that the design is excellent as if the display is displayed in the air, and It is possible to provide an excellent showcase 41 that allows the observer to avoid collision.

図では、上から覗き込むタイプのショーケースを想定したため、反射防止性微小突起の非形成領域5は、上面のガラスのみに設けたが、横から見る背の高いショウケースや、長いショウケースなどの場合は、必要に応じて、反射防止性微小突起の非形成領域5を側面や、目線の高さなどに設けてもよい。   In the figure, since a showcase looking into from above is assumed, the non-reflective microprojection non-formation region 5 is provided only on the upper glass, but a tall showcase or a long showcase viewed from the side, etc. In this case, if necessary, the non-reflective anti-projection region 5 may be provided on the side surface, the height of the line of sight, or the like.

本願発明の透明体及び該透明体を用いた建具は、透明性、採光性に優れ、また、優れた反射防止、映り込みの防止効果を持ちながら、衝突防止、プライバシーの保護に優れ、さらに優れた意匠性を演出でき、ショウウィンドウやショウケース、建具などに効果的に用いることができるものである。その他、本発明の透明体1は、自動車、鉄道車輛、船舶、航空機等の乗物の窓や扉に用いることが出来る。   The transparent body of the present invention and the joinery using the transparent body are excellent in transparency and daylighting, and have excellent anti-collision and privacy protection while having excellent anti-reflection and anti-reflection effects. It can be used for show windows, show cases, joinery and the like. In addition, the transparent body 1 of the present invention can be used for windows and doors of vehicles such as automobiles, railway vehicles, ships, and aircraft.

1 透明体
2 透明基材
2s 一方の表面
2r 他方の表面
3 (反射防止性)微小突起
3a 単峰性微小突起
3b 多峰性微小突起
3c 多峰性微小突起
4 (反射防止性微小突起の)形成領域
5 (反射防止性微小突起の)非形成領域
14 紫外線硬化性樹脂層、受容層
16 包絡面
21 ガラス扉
22 取手
23 蝶番
41 ショウケース
51 アルミサッシ窓
52 框
g 溝
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent body 2 Transparent base material 2s One surface 2r The other surface 3 (Antireflection) Microprotrusion 3a Monomodal microprotrusion 3b Multimodal microprotrusion 3c Multimodal microprotrusion 4 (Antireflection microprotrusion) Forming region 5 Non-forming region (of anti-reflective microprojections) 14 UV curable resin layer, receiving layer 16 Enveloping surface 21 Glass door 22 Handle 23 Hinge 41 Showcase 51 Aluminum sash window 52 框 g Groove

Claims (4)

透明基材の少なくとも一方の表面に、反射防止性微小突起の形成領域と、反射防止性微小突起の非形成領域を有する透明体であって、前記反射防止性微小突起の形成領域は、前記微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下であることを特徴とする透明体。   A transparent body having an antireflective microprojection forming region and an antireflective microprojection non-forming region on at least one surface of the transparent substrate, wherein the antireflective microprojection forming region A transparent body in which protrusions are closely arranged, and an interval between adjacent minute protrusions is equal to or shorter than a shortest wavelength of an electromagnetic wave wavelength band for preventing reflection. 前記透明基材の両表面にそれぞれ前記反射防止性微小突起の形成領域と、前記反射防止性微小突起の非形成領域を有する透明体であり、一方の表面に形成された前記反射防止性微小突起の形成領域と他方の表面に形成された前記反射防止性微小突起の形成領域が、前記透明基材の法線方向で一致することを特徴とする請求項1に記載の透明体。   The antireflective microprotrusions formed on one surface of the transparent base material are transparent bodies each having a formation region of the antireflective microprotrusions and a non-formation region of the antireflective microprotrusions on both surfaces of the transparent substrate. 2. The transparent body according to claim 1, wherein the formation region of the antireflective microprojections formed on the other surface coincides with the normal direction of the transparent substrate. 前記微小突起の少なくとも一部が、頂点を複数有する微小突起であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の透明体。   The transparent body according to claim 1, wherein at least a part of the microprojections is a microprojection having a plurality of vertices. 請求項1〜請求項3のいずれかの記載の透明体を含んで構成されることを特徴とする建具。   A joinery comprising the transparent body according to any one of claims 1 to 3.
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