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JP5578227B2 - Method for correcting molding mold, molding mold, antireflection article, image display device, and showcase - Google Patents

Method for correcting molding mold, molding mold, antireflection article, image display device, and showcase Download PDF

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JP5578227B2 JP2012267680A JP2012267680A JP5578227B2 JP 5578227 B2 JP5578227 B2 JP 5578227B2 JP 2012267680 A JP2012267680 A JP 2012267680A JP 2012267680 A JP2012267680 A JP 2012267680A JP 5578227 B2 JP5578227 B2 JP 5578227B2
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実 山本
達也 大江
祐一 宮崎
洋一郎 大橋
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Description

本発明は、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下の間隔で多数の微小突起を密接配置して反射防止を図る反射防止物品に関するものである。   The present invention relates to an antireflection article for preventing reflection by closely arranging a large number of minute protrusions at intervals equal to or shorter than the shortest wavelength of an electromagnetic wave wavelength band for preventing reflection.

近年、フィルム形状の反射防止物品である反射防止フィルムに関して、透明基材(透明フィルム)の表面に多数の微小突起を密接して配置することにより、反射防止を図る方法が提案されている(特許文献1〜3参照)。この方法は、いわゆるモスアイ(moth eye(蛾の目))構造の原理を利用したものであり、入射光に対する屈折率を基板の厚み方向に連続的に変化させ、これにより屈折率の不連続界面を消失させて反射防止を図るものである。   In recent years, regarding an antireflection film, which is a film-shaped antireflection article, there has been proposed a method for preventing reflection by arranging a large number of microprotrusions closely on the surface of a transparent substrate (transparent film) (patent) References 1-3). This method utilizes the principle of a so-called moth-eye structure, and the refractive index for incident light is continuously changed in the thickness direction of the substrate, whereby a discontinuous interface of refractive index is obtained. Is eliminated to prevent reflection.

このモスアイ構造に係る反射防止物品では、隣接する微小突起の間隔dが、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長Λmin以下(d≦Λmin)となるよう、微小突起が密接して配置される。また各微小突起は、透明基材に植立するように、さらに透明基材より先端側に向かうに従って徐々に断面積が小さくなるように(先細りとなるように)作製される。   In the antireflection article according to this moth-eye structure, the microprojections are closely arranged so that the interval d between adjacent microprojections is equal to or less than the shortest wavelength Λmin (d ≦ Λmin) of the wavelength band of the electromagnetic wave to prevent reflection. . Moreover, each microprotrusion is produced so that a cross-sectional area may become small gradually toward the front end side from a transparent base material so that it may be planted on a transparent base material.

かかる反射防止物品には各種用途が提案されている。例えば、各種画像表示裝置の出光面上に配置して画面における日光等の外光反射を低減して画像視認性を向上させたり、シート又は板状の透明基材上に該微小突起群を形成し、更に該微小突起群上にITO(酸化インジウム錫)等の透明導電膜を形成した電極を用いてタッチパネルを構成することにより、該タッチパネル電極とこれと隣接する各種部材との間の光反射を防止して、干渉縞、ゴースト像等の発生を低減させること等が提案されている。   Various uses have been proposed for such antireflection articles. For example, it can be placed on the light exit surface of various image display devices to reduce external light reflection such as sunlight on the screen to improve image visibility, or to form the microprojections on a sheet or plate-like transparent substrate Furthermore, by constructing a touch panel using an electrode in which a transparent conductive film such as ITO (indium tin oxide) is formed on the microprojection group, light reflection between the touch panel electrode and various adjacent members is performed. It has been proposed to reduce the occurrence of interference fringes, ghost images, and the like.

このような反射防止物品に設けられた微小突起は、紫外線硬化性樹脂に微細な凹凸形状を有した賦型用金型を加圧押圧することにより形成される。この微小突起を形成する賦型用金型は、表面が研磨された母材の研磨面に、密着層を介して微細な凹凸形状を有した賦型層が形成されることによって製造されるが、その製造環境等の影響によって、賦型層の表面に繊維素(セルロース)等の異物が付着する場合がある。この賦型層の表面には、上述したように、微細な凹凸形状が形成されており、それが非常に脆いため、異物が付着してしまうとその除去が困難となる。仮に、この異物が付着した賦型用金型により反射防止物品が製造された場合、その反射防止物品は、異物に対応する位置に微小突起が適正に形成されず、反射防止機能が局所的に劣化したり、外観不良が生じたりする場合があった。   The fine protrusions provided on such an antireflection article are formed by pressing and pressing an shaping mold having a fine uneven shape on an ultraviolet curable resin. The mold for forming the fine protrusions is manufactured by forming a molding layer having a fine uneven shape on the polished surface of the base material whose surface is polished via an adhesion layer. Depending on the production environment and the like, foreign substances such as fibrin (cellulose) may adhere to the surface of the shaping layer. As described above, a fine uneven shape is formed on the surface of the shaping layer, which is very brittle. Therefore, if foreign matter adheres to the surface, it is difficult to remove it. If an anti-reflective article is manufactured using the molding die to which the foreign matter adheres, the anti-reflective article has a minute projection not properly formed at a position corresponding to the foreign matter, and the anti-reflective function is locally provided. In some cases, it deteriorates or an appearance defect occurs.

特開昭50−70040号公報Japanese Patent Laid-Open No. 50-70040 特表2003−531962号公報Special Table 2003-531962 特許第4632589号公報Japanese Patent No. 4632589

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、反射防止物品のモスアイ構造に係る微小突起の反射防止機能の劣化や、外観不良の要因となる賦型用金型に付着した異物を除去することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and the foreign matter attached to the molding die that causes deterioration of the antireflection function of the microprotrusions related to the moth-eye structure of the antireflection article and the appearance defect is removed. The purpose is to remove.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、反射防止物品のモスアイ構造に係る微小突起の反射防止機能の劣化や、外観不良の要因となる賦型用金型に付着した異物を、レーザ光を照射して除去する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。   The present inventor has made extensive studies to solve the above-mentioned problems, and the foreign matter adhered to the molding die that causes deterioration of the antireflection function of the microprojections related to the moth-eye structure of the antireflection article and the appearance defect. The idea of removing the film by irradiating it with a laser beam has been reached, and the present invention has been completed.

具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する     Specifically, the present invention provides the following.

(1) 微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の前記微小突起を賦型する賦型用金型の修正方法であって、前記賦型用金型は、前記反射防止物品の表面に前記微小突起を賦型する微細な凹凸形状が形成された賦型層を備え、当該賦型用金型の修正方法は、前記賦型層の表面に付着した異物を検出する異物検出工程と、前記異物検出工程によって検出された前記異物をレーザ光の照射により除去する異物除去工程とを備えること、を特徴とする賦型用金型の修正方法。   (1) Molding metal for shaping the microprojections of an antireflective article in which the microprojections are closely arranged and the interval between adjacent microprojections is equal to or less than the shortest wavelength of the wavelength band of the electromagnetic wave for preventing reflection A method for correcting a mold, wherein the mold for molding includes a mold layer in which a fine concavo-convex shape for molding the fine protrusions is formed on the surface of the antireflection article, and the mold for molding The correction method comprises a foreign matter detection step of detecting foreign matter attached to the surface of the shaping layer, and a foreign matter removal step of removing the foreign matter detected by the foreign matter detection step by laser light irradiation. A method for correcting a characteristic mold for molding.

(2) 前記異物除去工程は、波長が532nm又は1064nmのレーザ光によって、前記異物を除去すること、を特徴とする(1)の賦型用金型の修正方法。   (2) The method for correcting a molding die according to (1), wherein the foreign matter removing step removes the foreign matter with a laser beam having a wavelength of 532 nm or 1064 nm.

(3) 前記異物除去工程は、前記異物の大部分を除去する第1除去工程と、前記第1除去工程で除去しきれなかった前記異物を除去する第2除去工程とを備えること、を特徴とする(1)又は(2)の賦型用金型の修正方法。   (3) The foreign matter removing step includes a first removing step that removes most of the foreign matter and a second removing step that removes the foreign matter that could not be removed in the first removing step. (1) or (2) the method for correcting the molding die.

(4) 前記第2除去工程は、レーザ光の出力が、前記第1除去工程におけるレーザ光の出力よりも小さいこと、を特徴とする(3)の賦型用金型の修正方法。   (4) The method for correcting a molding die according to (3), wherein the second removal step is such that an output of the laser beam is smaller than an output of the laser beam in the first removal step.

(5) 前記第2除去工程は、レーザ光の照射範囲が、前記第1除去工程におけるレーザ光の照射範囲よりも狭いこと、を特徴とする(3)又は(4)の賦型用金型の修正方法。   (5) The mold for molding according to (3) or (4), wherein in the second removal step, a laser light irradiation range is narrower than a laser light irradiation range in the first removal step. How to fix.

(6) (1)から(5)までのいずれかの賦型用金型の修正方法によって修正された賦型用金型であって、前記賦型層の微細な凹凸形状は、前記修正方法によって修正された部位の頂部が、他の周辺部位に比べて低くなること、を特徴とする賦型用金型。   (6) A mold for molding modified by any of the mold mold correcting methods of (1) to (5), wherein the fine uneven shape of the mold layer is the correction method The mold for shaping is characterized in that the top of the part corrected by the step is lower than other peripheral parts.

(7) (6)の賦型用金型により形成された反射防止物品であって、前記微小突起の基部は、前記賦型層の修正された部位に対応する部位が、他の周辺部位に比べ高くなること、を特徴とする反射防止物品。   (7) In the antireflection article formed by the molding die according to (6), the base portion of the microprojection has a portion corresponding to the modified portion of the molding layer in another peripheral portion. An anti-reflective article characterized by being higher in comparison.

(8) (7)の反射防止物品を画像表示パネルに備える画像表示装置。   (8) An image display device provided with the antireflection article of (7) in an image display panel.

(9) 展示物を収納して、前記展示物の展示に供するショーケースにおいて、(7)の反射防止物品が設けられたショーケース。   (9) A showcase in which an anti-reflective article according to (7) is provided in a showcase that houses an exhibit and provides the exhibit for display.

反射防止物品のモスアイ構造に係る微小突起の反射防止機能の劣化や、外観不良の要因となる賦型用金型に付着した異物を除去することができる。   It is possible to remove foreign matter adhering to the molding die, which causes deterioration of the antireflection function of the microprojections related to the moth-eye structure of the antireflection article and causes the appearance to be defective.

本発明の第1実施形態に係る反射防止物品を示す概念斜視図である。1 is a conceptual perspective view showing an antireflection article according to a first embodiment of the present invention. 隣接突起の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of an adjacent protrusion. 極大点の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the maximum point. ドロネー図を示す図である。It is a figure which shows a Delaunay figure. 隣接突起間距離の計測に供する度数分布図である。It is a frequency distribution diagram used for measurement of the distance between adjacent protrusions. 微小高さの説明に供する度数分布図である。It is a frequency distribution figure with which it uses for description of minute height. 図1の反射防止物品の製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of the antireflection article | item of FIG. 図1の反射防止物品に係るロール版を示す図である。It is a figure which shows the roll plate which concerns on the reflection preventing article of FIG. 図9のロール版の製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of the roll plate of FIG. 賦型層13cの表面に異物Fが付着したロール版13の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the roll plate 13 in which the foreign material F adhered to the surface of the shaping layer 13c. ロール版13に付着した異物Fを検出し、除去する修正装置50の正面図及び側面図である。It is the front view and side view of the correction apparatus 50 which detects and removes the foreign material F adhering to the roll plate. 異物Fが除去されたロール版13と、そのロール版13により製造された反射防止物品の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the anti-reflective article manufactured by the roll plate 13 from which the foreign material F was removed, and the roll plate 13.

〔第1実施形態〕
図1は、本発明の第1実施形態に係る反射防止物品を示す図(概念斜視図)である。この反射防止物品1は、全体形状がフィルム形状により形成された反射防止フィルムである。この実施形態に係る画像表示装置では、この反射防止物品1が画像表示パネルの表側面に貼り付けられて保持され、この反射防止物品1により日光、電燈光等の外来光の画面における反射を低減して視認性を向上する。なお反射防止物品は、その形状を平坦なフィルム形状とする場合に限らず、平坦なシート形状、平板形状(相対的に厚みの薄い順に、フィルム、シート、板と呼称する)とすることもでき、また平坦な形状に代えて、湾曲形状、立体形状を呈したフィルム形状、シート形状、板形状とすることもでき、さらには各種レンズ、各種プリズム等の立体形状のものを用途に応じて適宜採用することができる。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a diagram (conceptual perspective view) showing an antireflection article according to a first embodiment of the present invention. This antireflection article 1 is an antireflection film whose overall shape is formed by a film shape. In the image display apparatus according to this embodiment, the antireflection article 1 is held by being attached to the front side surface of the image display panel, and the reflection of external light such as sunlight and electric light on the screen is reduced by the antireflection article 1. And improve visibility. The antireflection article is not limited to a flat film shape, but may be a flat sheet shape or a flat plate shape (referred to as a film, a sheet, or a plate in order of relatively small thickness). In addition, instead of a flat shape, a curved shape, a three-dimensional film shape, a sheet shape, or a plate shape can be used, and various lenses, prisms, and other three-dimensional shapes are appropriately used depending on the application. Can be adopted.

ここで反射防止物品1は、透明フィルムによる基材2の表面に多数の微小突起を密接配置して作製される。尚、密接配置された複数の微小突起を総称して微小突起群とも呼称する。ここで基材2は、例えばTAC(Triacetylcellulose)等のセルロース(纖維素)系樹脂、PMMA(ポリメチルメタクリレート)等のアクリル系樹脂、PET(Polyethylene terephthalate)等のポリエステル系樹脂、PP(ポリプロピレン)等のポリオレフィン系樹脂、PVC(ポリ塩化ビニル)等のビニル系樹脂、PC(Polycarbonate)等の各種透明樹脂フィルムを適用することができる。本実施形態では、反射防止物品1は、画像表示装置の液晶表示パネル、電場発光表示パネル、プラズマ表示パネル等の各種画像表示パネルの表面に配置されることによって、これらの表示パネルの表面で反射する反射光を低減し、視認性を向上させる。
なお上述したように反射防止物品の形状はフィルム形状に限らず、種々の形状を採用可能であることにより、基材2は、反射防止物品の形状に応じて、これらの材料の他に、例えばソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、PLZT等のセラミックス、石英、螢石等の各種透明無機材料等を適用することができる。
Here, the antireflection article 1 is produced by closely arranging a large number of minute protrusions on the surface of the substrate 2 made of a transparent film. A plurality of closely arranged microprotrusions is collectively referred to as a microprotrusion group. Here, the base material 2 is, for example, a cellulose resin such as TAC (Triacetylcellulose), an acrylic resin such as PMMA (polymethyl methacrylate), a polyester resin such as PET (Polyethylene terephthalate), PP (polypropylene), or the like. Polyolefin resins, vinyl resins such as PVC (polyvinyl chloride), and various transparent resin films such as PC (polycarbonate) can be applied. In the present embodiment, the antireflection article 1 is arranged on the surface of various image display panels such as a liquid crystal display panel, an electroluminescent display panel, and a plasma display panel of the image display device, thereby reflecting on the surfaces of these display panels. Reduces the reflected light to improve visibility.
As described above, the shape of the antireflection article is not limited to the film shape, and various shapes can be adopted, so that the base material 2 can be used in addition to these materials, for example, according to the shape of the antireflection article. Various transparent inorganic materials such as glass such as soda glass, potash glass, lead glass, ceramics such as PLZT, quartz, and meteorite can be applied.

反射防止物品1は、基材2上に、微小突起群からなる微細な凹凸形状の受容層となる未硬化状態の樹脂層(以下、適宜、受容層と呼ぶ)4を形成し、該受容層4を賦型処理して硬化せしめ、これにより基材2の表面に微小突起が密接して配置される。この実施形態では、この受容層4に、賦型処理に供する賦型用樹脂の1つであるアクリレート系紫外線硬化性樹脂が適用され、基材2上に紫外線硬化性樹脂層4が形成される。反射防止物品1は、この微小突起による凹凸形状により厚み方向に徐々に屈折率が変化するように作製され、モスアイ構造の原理により広い波長範囲で入射光の反射を低減する。   The anti-reflective article 1 forms an uncured resin layer 4 (hereinafter referred to as a receiving layer as appropriate) 4 which forms a fine uneven receiving layer composed of a group of minute protrusions on a base material 2. 4 is subjected to a molding treatment and hardened, whereby the fine protrusions are placed in close contact with the surface of the substrate 2. In this embodiment, an acrylate-based ultraviolet curable resin, which is one of the molding resins used for the molding process, is applied to the receiving layer 4 to form the ultraviolet curable resin layer 4 on the substrate 2. . The antireflection article 1 is manufactured so that the refractive index gradually changes in the thickness direction due to the uneven shape by the microprotrusions, and reduces the reflection of incident light in a wide wavelength range by the principle of the moth-eye structure.

なおこれにより反射防止物品1に作製される微小突起は、隣接する微小突起の間隔dが、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長Λmin以下(d≦Λmin)となるよう密接して配置される。この実施形態では、画像表示パネルに配置して視認性を向上させることを主目的とするため、この最短波長は、個人差、視聴条件を加味した可視光領域の最短波長(380nm)に設定され、間隔dは、ばらつきを考慮して100〜300nmとされる。またこの間隔dに係る隣接する微小突起は、いわゆる隣り合う微小突起であり、基材2側の付け根部分である微小突起の裾の部分が接している突起である。反射防止物品1では微小突起が密接して配置されることにより、微小突起間の谷の部位を順次辿るようにして線分を作成すると、平面視において各微小突起を囲む多角形状領域を多数連結してなる網目状の模様が作製されることになる。間隔dに係る隣接する微小突起は、この網目状の模様を構成する一部の線分を共有する突起である。   In this way, the microprotrusions produced in the antireflection article 1 are closely arranged so that the distance d between adjacent microprotrusions is equal to or less than the shortest wavelength Λmin (d ≦ Λmin) of the wavelength band of the electromagnetic wave to prevent reflection. The In this embodiment, since the main purpose is to improve visibility by arranging the image display panel, the shortest wavelength is set to the shortest wavelength (380 nm) in the visible light region in consideration of individual differences and viewing conditions. The distance d is set to 100 to 300 nm in consideration of variation. The adjacent minute protrusions related to the distance d are so-called adjacent minute protrusions, which are in contact with the hem portions of the minute protrusions, which are the base portions on the base 2 side. In the anti-reflective article 1, the minute projections are closely arranged so that when a line segment is created so as to sequentially follow the valleys between the minute projections, a large number of polygonal regions surrounding each minute projection are connected in plan view. Thus, a mesh-like pattern is produced. The adjacent minute protrusions related to the distance d are protrusions that share a part of the line segments constituting the mesh pattern.

なお微小突起に関しては、より詳細には以下のように定義される。モスアイ構造による反射防止では、透明基材表面とこれに隣接する媒質との界面における有効屈折率を、厚み方向に連続的に変化させて反射防止を図るものであることから、微小突起に関しては一定の条件を満足することが必要である。この条件のうちの1つである突起の間隔に関して、例えば特開昭50−70040号公報、特許第4632589号公報等に開示のように、微小突起が一定周期で規則正しく配置されている場合、隣接する微小突起の間隔dは、突起配列の周期P(d=P)となる。これにより可視光線帯域の最長波長をλmax、最短波長をλminとした場合に、最低限、可視光線帯域の最長波長において反射防止効果を奏し得る必要最小限の条件は、Λmin=λmaxであるため、P≦λmaxとなり、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得る必要十分の条件は、Λmin=λminであるため、P≦λminとなる。   The minute protrusions are defined in more detail as follows. In the antireflection by the moth-eye structure, the effective refractive index at the interface between the transparent substrate surface and the adjacent medium is continuously changed in the thickness direction to prevent reflection. It is necessary to satisfy the following conditions. With respect to the protrusion interval, which is one of these conditions, when the minute protrusions are regularly arranged at a constant period as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-70040 and Japanese Patent No. 4632589, the adjacent spaces are adjacent to each other. The interval d between the minute projections to be performed is the projection arrangement period P (d = P). Thus, when the longest wavelength in the visible light band is λmax and the shortest wavelength is λmin, the minimum necessary condition that can exhibit the antireflection effect at the longest wavelength in the visible light band is Λmin = λmax. P ≦ λmax, and the necessary and sufficient condition that can exhibit the antireflection effect for all wavelengths in the visible light band is Λmin = λmin, and therefore P ≦ λmin.

なお波長λmax、λminは、観察条件、光の強度(輝度)、個人差等にも依存して多少幅を持ち得るが、標準的には、λmax=780nm及びλmin=380nmとされる。これらにより可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、d≦300nmであり、より好ましい条件は、d≦200nmとなる。なお反射防止効果の発現及び反射率の等方性(低角度依存性)の確保等の理由から、周期dの下限値は、通常、d≧50nm、好ましくは、d≧100nmとされる。これに対して突起の高さHは、十分な反射防止効果を発現させる観点より、H≧0.2×λmax=156nm(λmax=780nmとして)とされる。   The wavelengths λmax and λmin may have some width depending on observation conditions, light intensity (luminance), individual differences, and the like, but are typically λmax = 780 nm and λmin = 380 nm. A preferable condition that can more reliably exhibit an antireflection effect for all wavelengths in the visible light band is d ≦ 300 nm, and a more preferable condition is d ≦ 200 nm. Note that the lower limit value of the period d is usually d ≧ 50 nm, preferably d ≧ 100 nm, for reasons such as the expression of the antireflection effect and the securing of the isotropic (low angle dependency) of the reflectance. On the other hand, the height H of the protrusion is set to H ≧ 0.2 × λmax = 156 nm (assuming λmax = 780 nm) from the viewpoint of exhibiting a sufficient antireflection effect.

しかしながらこの実施形態のように、微小突起が不規則に配置されている場合には、隣接する微小突起間の間隔dはばらつきを有することになる。より具体的には、図2に示すように、基材の表面又は裏面の法線方向から見て平面視した場合に、微小突起が一定周期で規則正しく配列されていない場合、突起の繰り返し周期Pによっては隣接突起間の間隔dは規定し得ず、また隣接突起の概念すら疑念が生じることになる。そこでこのような場合、以下のように算定される。   However, when the minute protrusions are irregularly arranged as in this embodiment, the distance d between the adjacent minute protrusions varies. More specifically, as shown in FIG. 2, when viewed from the normal direction of the front or back surface of the substrate, when the microprojections are not regularly arranged at a constant period, the repetition period P of the protrusions In some cases, the distance d between adjacent protrusions cannot be defined, and even the concept of adjacent protrusions is suspicious. Therefore, in such a case, it is calculated as follows.

(1)すなわち先ず、原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope;AFM)又は走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope:SEM)を用いて突起の面内配列(突起配列の平面視形状)を検出する。なお図2は、実際に原子間力顕微鏡により求められた拡大写真である。   (1) That is, first, an in-plane arrangement of projections (planar shape of projection arrangement) is detected using an atomic force microscope (AFM) or a scanning electron microscope (SEM). FIG. 2 is an enlarged photograph actually obtained by an atomic force microscope.

(2)続いてこの求められた面内配列から各突起の高さの極大点(以下、単に極大点と呼ぶ)を検出する。なお極大点を求める方法としては、平面視形状と対応する断面形状の拡大写真とを逐次対比して極大点を求める方法、平面視拡大写真の画像処理によって極大点を求める方法等、種々の手法を適用することができる。図3は、図2に示した拡大写真に係る画像データの処理による極大点の検出結果を示す図であり、この図において黒点により示す個所がそれぞれ各突起の極大点である。なおこの処理では4.5×4.5画素のガウシアン特性によるローパスフィルタにより事前に画像データを処理し、これによりノイズによる極大点の誤検出を防止した。また8画素×8画素による最大値検出用のフィルタを順次スキャンすることにより1nm(=1画素)単位で極大点を求めた。   (2) Subsequently, the maximum point of the height of each protrusion (hereinafter simply referred to as the maximum point) is detected from the obtained in-plane arrangement. There are various methods for obtaining the maximum point, such as a method of sequentially comparing the planar view shape and the enlarged photograph of the corresponding cross-sectional shape to obtain the maximum point, and a method of obtaining the maximum point by image processing of the plan view enlarged photo. Can be applied. FIG. 3 is a diagram showing the detection result of the maximum point by the processing of the image data relating to the enlarged photograph shown in FIG. 2, and the portions indicated by black dots in this figure are the maximum points of the respective protrusions. In this process, image data is processed in advance by a low-pass filter having a Gaussian characteristic of 4.5 × 4.5 pixels, thereby preventing erroneous detection of the maximum point due to noise. Further, a maximum point was obtained in units of 1 nm (= 1 pixel) by sequentially scanning a filter for detecting a maximum value of 8 pixels × 8 pixels.

(3)次に検出した極大点を母点とするドロネー図(Delaunary Diagram)を作成する。ここでドロネー図とは、各極大点を母点としてボロノイ分割を行った場合に、ボロノイ領域が隣接する母点同士を隣接母点と定義し、各隣接母点同士を線分で結んで得られる3角形の集合体からなる網状図形である。各3角形は、ドロネー3角形と呼ばれ、各3角形の辺(隣接母点同士を結ぶ線分)は、ドロネー線と呼ばれる。図4は、図3から求められるドロネー図(白色の線分により表される図である)を図3による原画像と重ね合わせた図である。ドロネー図は、ボロノイ図(Voronoi diagram)と双対の関係に有る。またボロノイ分割とは、各隣接母点間を結ぶ線分(ドロネー線)の垂直2等分線同士によって画成される閉多角形の集合体からなる網状図形で平面を分割することを言う。ボロノイ分割により得られる網状図形がボロノイ図であり、各閉領域がボロノイ領域である。   (3) Next, a Delaunay diagram with the detected maximum point as a generating point is created. Here, Delaunay diagram is obtained by dividing the Voronoi region adjacent to the Voronoi region when the Voronoi division is performed with each local maximum as the generating point, and connecting the adjacent generating points with line segments. This is a net-like figure made up of triangular aggregates. Each triangle is called a Delaunay triangle, and a side of each triangle (a line segment connecting adjacent generating points) is called a Delaunay line. FIG. 4 is a diagram in which the Delaunay diagram (represented by white line segments) obtained from FIG. 3 is superimposed on the original image of FIG. The Delaunay diagram has a dual relationship with the Voronoi diagram. Voronoi division means that a plane is divided by a net-like figure made up of a closed polygon aggregate defined by perpendicular bisectors of line segments (Droney lines) connecting between adjacent generating points. A network figure obtained by Voronoi division is a Voronoi diagram, and each closed region is a Voronoi region.

(4)次に、各ドロネー線の線分長の度数分布、すなわち隣接する極大点間の距離(以下、隣接突起間距離と呼ぶ)の度数分布を求める。図5は、図4のドロネー図から作成した度数分布のヒストグラムである。なお図2、図10に示すように、突起の頂部に溝状等の凹部が存在したり、あるいは頂部が複数の峰に分裂している場合は、求めた度数分布から、このような突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に分裂している微細構造に起因するデータを除去し、突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を作成する。   (4) Next, the frequency distribution of the line segment length of each Delaunay line, that is, the frequency distribution of the distance between adjacent maximum points (hereinafter referred to as the distance between adjacent protrusions) is obtained. FIG. 5 is a histogram of the frequency distribution created from the Delaunay diagram of FIG. As shown in FIGS. 2 and 10, when there is a groove or the like at the top of the protrusion, or when the top is divided into a plurality of peaks, from the obtained frequency distribution, A frequency distribution is created by removing data resulting from a fine structure having a concave portion at the top and a fine structure in which the top is split into a plurality of peaks, and selecting only the data of the projection body itself.

具体的には、突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に分裂している多峰性の微小突起に係る微細構造においては、このような微細構造を備えてい無い単峰性の微小突起の場合の数値範囲から、隣接極大点間距離が明らかに大きく異なることになる。これによりこの特徴を利用して対応するデータを除去することにより突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を検出する。より具体的には、例えば図2に示すような微小突起(群)の平面視の拡大写真から、5〜20個程度の互いに隣接する単峰性微小突起を選んで、その隣接極大点間距離の値を標本抽出し、この標本抽出して求められる数値範囲から明らかに外れる値(通常、標本抽出して求められる隣接極大点間距離平均値に対して、値が1/2以下のデータ)を除外して度数分布を検出する。図5の例では、隣接極大点間距離が56nm以下のデータ(矢印Aにより示す左端の小山)を除外する。なお図5は、このような除外する処理を行う前の度数分布を示すものである。因みに上述の極大点検用のフィルタの設定により、このような除外する処理を実行してもよい。   Specifically, in a fine structure in which a concave portion exists at the top of the protrusion, or a fine structure related to a multi-modal micro protrusion in which the top is divided into a plurality of peaks, a single peak that does not have such a fine structure. The distance between adjacent local maximum points is clearly different from the numerical value range in the case of a sexual microprojection. Thus, by removing the corresponding data using this feature, only the data of the projection body itself is selected and the frequency distribution is detected. More specifically, for example, about 5 to 20 adjacent single-peaked microprojections are selected from an enlarged photograph of a microprojection (group) in plan view as shown in FIG. 2, and the distance between adjacent maximum points is selected. The value of is sampled and the value clearly deviates from the numerical range obtained by sampling (usually data whose value is ½ or less of the average distance between adjacent maximum points obtained by sampling) To detect the frequency distribution. In the example of FIG. 5, data having a distance between adjacent maximal points of 56 nm or less (the leftmost small mountain indicated by the arrow A) is excluded. FIG. 5 shows a frequency distribution before performing such exclusion processing. Incidentally, such exclusion processing may be executed by setting the above-described maximum inspection filter.

(5)このようにして求めた隣接突起間距離dの度数分布から平均値dAVG及び標準偏差σを求める。ここでこのようにして得られる度数分布を正規分布とみなして平均値dAVG及び標準偏差σを求めると、図5の例では、平均値dAVG=158nm、標準偏差σ=38nmとなった。これにより隣接突起間距離dの最大値を、dmax=dAVG+2σとし、この例ではdmax=234nmとなる。 (5) The average value d AVG and the standard deviation σ are obtained from the frequency distribution of the distance d between adjacent protrusions thus obtained. Here, when the frequency distribution obtained in this way is regarded as a normal distribution and the average value d AVG and the standard deviation σ are obtained, the average value d AVG = 158 nm and the standard deviation σ = 38 nm are obtained in the example of FIG. As a result, the maximum value of the distance d between adjacent protrusions is set to dmax = d AVG + 2σ, and in this example, dmax = 234 nm.

なお同様の手法を適用して突起の高さを定義する。この場合、上述の(2)により求められる極大点から、特定の基準位置からの各極大点位置の相対的な高さの差を取得してヒストグラム化する。図6は、このようにして求められる突起付け根位置を基準(高さ0)とした突起高さHの度数分布のヒストグラムを示す図である。このヒストグラムによる度数分布から突起高さの平均値HAVG、標準偏差σを求める。ここでこの図6の例では、平均値HAVG=178nm、標準偏差σ=30nmである。これによりこの例では、突起の高さは、平均値HAVG=178nmとなる。なお図6に示す突起高さHのヒストグラムにおいて、多峰性の微小突起の場合は、頂点を複数有していることにより、1つの突起に対してこれら複数のデータが混在することになる。そこでこの場合は麓部が同一の微小突起に属するそれぞれ複数の頂点の中から高さの最も高い頂点を、当該微小突起の突起高さとして採用して度数分布を求める。 The same method is applied to define the height of the protrusion. In this case, a relative height difference of each local maximum point position from a specific reference position is acquired from the local maximum point obtained by the above (2), and is histogrammed. FIG. 6 is a diagram showing a histogram of the frequency distribution of the protrusion height H with the protrusion root position obtained in this way as a reference (height 0). The average value HAVG of the protrusion height and the standard deviation σ are obtained from the frequency distribution based on the histogram. Here in the example of FIG. 6, the mean value H AVG = 178 nm, the standard deviation sigma = 30 nm. Thus in this example, the height of the projections is an average value H AVG = 178 nm. In the histogram of the projection height H shown in FIG. 6, in the case of a multi-peak microprojection, the plurality of data are mixed for one projection because it has a plurality of vertices. Therefore, in this case, the frequency distribution is obtained by adopting the vertex having the highest height from among the plurality of vertices belonging to the same microprotrusion as the protuberance.

なお上述した突起の高さを測る際の基準位置は、隣接する微小突起の間の谷底(高さの極小点)を高さ0の基準とする。但し、係る谷底の高さ自体が場所によって異なる場合は、(1)先ず、基材2の表面又は裏面から測った各谷底の高さの平均値を、該平均値が收束するに足る面積の中で算出する。(2)次いで、該平均値の高さを持ち、基材2の表面又は裏面と平行な面を基準面として考える。(3)その後、該基準面を改めて高さ0として、該基準面からの各微小突起の高さを算出する。   In addition, the reference position when measuring the height of the protrusion described above is based on the valley bottom (minimum point of height) between the adjacent minute protrusions as a reference of height 0. However, when the height of the valley bottom itself varies depending on the location, (1) First, an area sufficient for the average value to collect the average value of the heights of the valley bottoms measured from the front surface or the back surface of the substrate 2. Calculate in (2) Next, a surface having the height of the average value and parallel to the front surface or the back surface of the substrate 2 is considered as a reference surface. (3) Then, the height of each microprotrusion from the reference surface is calculated by setting the reference surface to a height of 0 again.

突起が不規則に配置されている場合には、このようにして求められる隣接突起間距離の最大値dmax=dAVG+2σ、突起の高さの平均値HAVGが、規則正しく配置されている場合の上述の条件を満足することが必要であることが判った。具体的には、反射防止効果を発現する微小突起間距離の条件は、dmax≦Λminとなる。最低限、可視光線帯域の最長波長において反射防止効果を奏し得る必要最短限の条件は、Λmin=λmaxであるため、dmax≦λmaxとなり、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得る必要十分の条件は、Λmin=λminであるため、dmax≦λminとなる。そして、可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、dmax≦300nmであり、更に好ましい条件は、dmax≦200nmである。また反射防止効果の発現及び反射率の等方性(低角度依存性)の確保等の理由から、通常、dmax≧50nmであり、好ましくは、dmax≧100nmとされる。また突起高さについては、十分な反射防止効果を発現する為には、HAVG≧0.2×λmax=156nm(λmax=780nmとして)とされる。 If the protrusions are irregularly arranged, when this way the maximum value of the adjacent protrusions distance obtained by dmax = d AVG + 2σ, average H AVG height of projections are arranged regularly It has been found necessary to satisfy the above conditions. Specifically, the condition of the distance between the microprotrusions that exhibits the antireflection effect is dmax ≦ Λmin. The minimum necessary condition that can exhibit the antireflection effect at the longest wavelength in the visible light band is Λmin = λmax, and therefore dmax ≦ λmax, and the antireflection effect can be achieved for all wavelengths in the visible light band. The necessary and sufficient condition is Λmin = λmin, and therefore dmax ≦ λmin. A preferable condition that can more reliably exhibit the antireflection effect for all wavelengths in the visible light band is dmax ≦ 300 nm, and a more preferable condition is dmax ≦ 200 nm. Also, dmax ≧ 50 nm is usually satisfied and dmax ≧ 100 nm is preferable because of the antireflection effect and ensuring the isotropic (low angle dependency) of the reflectance. The height of the protrusion is set to HAVG ≧ 0.2 × λmax = 156 nm (assuming λmax = 780 nm) in order to exhibit a sufficient antireflection effect.

因みに、図2〜図6の例により説明するとdmax=234nm≦λmax=780nmとなり、dmax≦λmaxの条件を満足して十分に反射防止効果を奏し得ることが判る。また可視光線帯域の最短波長λminが380nmであることから、可視光線の全波長帯域において反射防止効果を発現する十分条件dmax≦λminも満たすことが判る。また平均突起高さHAVG=178nmであることにより、平均突起高さHAVG≧0.2×λmax=156nmとなり(可視光波長帯域の最長波長λmax=780nmとして)、十分な反射防止効果を実現するための突起の高さに関する条件も満足していることが判る。なお標準偏差σ=30nmであることから、HAVG−σ=148nm<0.2×λmax=156nmとの関係式が成立することから、統計学上、全突起の50%以上、84%以下が、突起の高さに係る条件(178nm以上)の条件を満足していることが判る。なおAFM及びSEMによる観察結果、並びに微小突起の高さ分布の解析結果から、多峰性の微小突起は相対的に高さの低い微小突起よりも高さの高い微小突起でより多く生じる傾向にあることが判明した。 2 to 6, dmax = 234 nm ≦ λmax = 780 nm, and it can be seen that the antireflection effect can be sufficiently achieved by satisfying the condition of dmax ≦ λmax. In addition, since the shortest wavelength λmin in the visible light band is 380 nm, it can be seen that the sufficient condition dmax ≦ λmin for exhibiting the antireflection effect in all visible light wavelength bands is also satisfied. When the average protrusion the height H AVG = 178 nm Also, the average projection height H AVG ≧ 0.2 × λmax = 156nm becomes (as the longest wavelength .lambda.max = 780 nm in the visible light wavelength band), realizing a sufficient antireflection effect It can be seen that the conditions regarding the height of the protrusions to satisfy are also satisfied. Note since the standard deviation sigma = 30 nm, since the relationship between the H AVG -σ = 148nm <0.2 × λmax = 156nm is satisfied, statistically, more than 50% of the total protrusions, 84% or less It can be seen that the condition of the height of the protrusion (178 nm or more) is satisfied. From the observation results by AFM and SEM, and the analysis result of the height distribution of the microprojections, the multi-peak microprojections tend to occur more frequently with the microprojections with a higher height than the microprojections with a relatively low height. It turned out to be.

図7は、この反射防止物品1の製造工程を示す図である。この製造工程10は、樹脂供給工程において、ダイ12により帯状フィルム形態の基材2に微小突起形状の受容層を構成する未硬化で液状の紫外線硬化性樹脂を塗布する。なお紫外線硬化性樹脂の塗布については、ダイ12による場合に限らず、各種の手法を適用することができる。続いてこの製造工程10は、押圧ローラ14により、反射防止物品の賦型用金型であるロール版13(賦型用金型)の周側面に基材2を加圧押圧し、これにより基材2に未硬化状態で液状のアクリレート系紫外線硬化性樹脂を密着させると共に、ロール版13の周側面に作製された微細な凹凸形状の凹部に紫外線硬化性樹脂を充分に充填する。この製造工程は、この状態で、紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂を硬化させ、これにより基材2の表面に微小突起群を作製する。この製造工程は、続いて剥離ローラ15を介してロール版13から、硬化した紫外線硬化性樹脂と一体に基材2を剥離する。製造工程10は、必要に応じてこの基材2に粘着層等を作製した後、所望の大きさに切断して反射防止物品1を作製する。これにより反射防止物品1は、ロール材による長尺の基材2に、賦型用金型であるロール版13の周側面に作製された微細形状を順次賦型して、効率良く大量生産される。   FIG. 7 is a diagram illustrating a manufacturing process of the antireflection article 1. In the manufacturing process 10, in the resin supply process, an uncured and liquid ultraviolet curable resin that forms a microprojection-shaped receiving layer is applied to the base material 2 in the form of a belt-shaped film by the die 12. In addition, about application | coating of an ultraviolet curable resin, not only the case by the die | dye 12 but various methods are applicable. Subsequently, in the manufacturing process 10, the pressing roller 14 presses and presses the substrate 2 against the peripheral side surface of the roll plate 13 (molding mold) which is a mold for molding the antireflection article, thereby A liquid acrylate-based ultraviolet curable resin is brought into close contact with the material 2 in an uncured state, and the ultraviolet curable resin is sufficiently filled in the concave portions having fine irregularities formed on the peripheral side surface of the roll plate 13. In this state, in this manufacturing process, the ultraviolet curable resin is cured by irradiation with ultraviolet rays, and thereby a microprojection group is produced on the surface of the substrate 2. In this manufacturing process, the substrate 2 is peeled off from the roll plate 13 through the peeling roller 15 together with the cured ultraviolet curable resin. In the production process 10, an anti-reflection article 1 is produced by producing an adhesive layer or the like on the substrate 2 as necessary, and then cutting it into a desired size. Accordingly, the antireflection article 1 is mass-produced efficiently by sequentially molding the fine shape produced on the peripheral side surface of the roll plate 13 which is a mold for molding on the long base material 2 made of a roll material. The

図8は、ロール版13の構成を示す図である。図8(a)は、ロール版13の全体構成を示す斜視図である。図8(b)は、図8(a)のb部詳細であり、ロール版13の構成を説明する拡大図である。図8(c)及び図8(d)は、ロール版13の他の構成を説明する図8(b)に対応する拡大図である。なお、図8(b)〜図8(d)は、理解を容易にするために、密着層13b及び賦型層13cの厚みを誇張して記載している。   FIG. 8 is a diagram showing the configuration of the roll plate 13. FIG. 8A is a perspective view showing the entire configuration of the roll plate 13. FIG. 8B is an enlarged view illustrating the configuration of the roll plate 13 in detail in the portion b of FIG. FIGS. 8C and 8D are enlarged views corresponding to FIG. 8B for explaining another configuration of the roll plate 13. 8B to 8D exaggerate the thicknesses of the adhesion layer 13b and the shaping layer 13c for easy understanding.

ロール版13は、円筒形状の金属材料である母材の周側面に、陽極酸化処理、エッチング処理の繰り返しにより、微細な凹凸形状が作製され、この微細な凹凸形状が上述したように基材2に賦型される。このため母材は、少なくとも周側面に純度の高いアルミニウムが設けられた円柱形状又は円筒形状の部材が適用される。
具体的には、図8(b)に示すように、ロール版13の一の形態は、その母材13aに純度の高いアルミニウムのパイプを適用し、その母材13aの周側面に、微細な凹凸形状からなる賦型部13cが設けられる。
また、ロール版13の他の形態は、図8(c)に示すように、母材13aに中空のステンレスパイプが適用され、その母材13aの周側面に直接、純度の高いアルミニウムからなる賦型層(賦型部)13cが設けられる。なお、ステンレスパイプに代えて、銅やアルミニウム、又は、樹脂等のパイプ材等を適用してもよい。
The roll plate 13 has a fine concavo-convex shape formed on the peripheral side surface of the base material, which is a cylindrical metal material, by repeating anodizing treatment and etching treatment, and the fine concavo-convex shape is formed on the substrate 2 as described above. It is shaped. For this reason, a columnar or cylindrical member in which high-purity aluminum is provided at least on the peripheral side surface is used as the base material.
Specifically, as shown in FIG. 8B, in one form of the roll plate 13, a high-purity aluminum pipe is applied to the base material 13a, and a fine surface is formed on the peripheral side surface of the base material 13a. The shaping part 13c which consists of uneven | corrugated shape is provided.
Further, as shown in FIG. 8C, in another form of the roll plate 13, a hollow stainless steel pipe is applied to the base material 13a, and an application made of high-purity aluminum is directly applied to the peripheral side surface of the base material 13a. A mold layer (molding part) 13c is provided. In place of the stainless steel pipe, pipe material such as copper, aluminum, or resin may be applied.

更に、ロール版13の別な形態は、図8(d)に示すように、母材13aの周側面に、密着層13bを介して微細な凹凸形状が形成された賦型層(賦型部)13cが設けられる。母材13aには、一例として中空のアルミニウム材のパイプが適用され、密着層13bには、二酸化珪素(SiO)が適用され、賦型層13cには、純度の高いアルミニウムが適用される。ここで、密着層13bは、その層厚みが約100nmであり、また、賦型層13cは、その層厚みが約400nmである。なおアルミニウムのパイプに代えて、銅やステンレス、又は、樹脂等のパイプ材等を適用してもよい。また、密着層13bは、二酸化珪素に限らず他の材料、例えば、一酸化ケイ素(SiO)、一酸化ケイ素と二酸化ケイ素の混合物、酸化タンタル(Ta)、酸化チタン(TiO、Ti)、酸化錫(SnO)、酸化アルミニウム(Al)、酸化クロム(Cr)、チタン酸バリウム(BaTiO)、酸化インジウム(In)、酸化亜鉛(ZnO、ZnO)のような金属酸化物や、TiC、SiC、BC、WCのような炭化物や、TiN、SiN、CrN、BN、AIN、CN、ZrNのような窒化物や、フッ化バリウム(BaF)、フッ化マグネシウム(MgF)、酸化マグネシウム(MgO)、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)、グラッシーカーボン等を使用することもできる。 Further, as shown in FIG. 8D, another form of the roll plate 13 is a shaping layer (molding portion) in which fine irregularities are formed on the peripheral side surface of the base material 13a via the adhesion layer 13b. ) 13c is provided. As an example, a hollow aluminum pipe is applied to the base material 13a, silicon dioxide (SiO 2 ) is applied to the adhesion layer 13b, and high-purity aluminum is applied to the shaping layer 13c. Here, the adhesion layer 13b has a layer thickness of about 100 nm, and the shaping layer 13c has a layer thickness of about 400 nm. In place of the aluminum pipe, pipe material such as copper, stainless steel, or resin may be applied. The adhesion layer 13b is not limited to silicon dioxide, but other materials such as silicon monoxide (SiO), a mixture of silicon monoxide and silicon dioxide, tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), titanium oxide (TiO 2 , Ti 3 O 5), tin oxide (SnO 2), aluminum oxide (Al 2 0 3), chromium oxide (Cr 2 O 3), barium titanate (BaTiO 3), indium oxide (In 2 O 3), zinc oxide ( ZnO, ZnO 2 ), metal oxides such as TiC, SiC, BC, WC, nitrides such as TiN, SiN, CrN, BN, AIN, CN, ZrN, and barium fluoride ( BaF 2), magnesium fluoride (MgF 2), magnesium oxide (MgO), diamond-like carbon (DLC), child using glassy carbon or the like It can also be.

ロール版13は、陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、賦型部(賦型層)13cの周側面に微細穴が密に作製され、この微細穴を掘り進めると共に、開口部に近づくに従ってより大きな径となるようにこの微細穴の穴径を徐々に拡大して凹凸形状が作製される。これによりロール版13は、深さ方向に徐々に穴径が小さくなる微細穴が密に作製され、反射防止物品1には、この微細穴に対応して、頂部に近づくに従って徐々に径が小さくなる多数の微小突起により微細な凹凸形状が作製される。その際に、賦型層13c(アルミニウム層)の純度(不純物量)や結晶粒径、陽極酸化処理及び/又はエッチング処理等の諸条件を適宜調整することによって、本発明特有の微小突起形状とする。   In the roll plate 13, fine holes are densely formed on the peripheral side surface of the shaping portion (molding layer) 13 c by repeating the anodizing treatment and the etching treatment. The concavo-convex shape is produced by gradually increasing the diameter of the fine holes so as to have a larger diameter. As a result, the roll plate 13 is densely formed with fine holes whose diameter gradually decreases in the depth direction, and the antireflection article 1 has a diameter that gradually decreases as it approaches the top corresponding to the fine holes. A fine concavo-convex shape is produced by a large number of fine protrusions. At that time, by appropriately adjusting various conditions such as purity (amount of impurities), crystal grain size, anodizing treatment and / or etching treatment of the shaping layer 13c (aluminum layer), To do.

〔ロール版の製造工程〕
図9は、ロール版13の製造工程を示す図である。
この製造工程は、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって母材13aの周側面を超鏡面化する(電解研磨)。それから、母材13aの周側面に二酸化珪素を塗布して密着層13bを形成する。続いてこの工程は、母材13aの周側面に、密着層13bを介してアルミニウムを蒸着や、スパッタリングして、純度の高いアルミニウム層(賦型層13c)を作製する。続いてこの工程は、陽極酸化工程A1、…、AN、エッチング工程E1、…、ENを交互に繰り返して賦型層13cを処理し、ロール版13を作製する。
[Roll plate manufacturing process]
FIG. 9 is a diagram illustrating a manufacturing process of the roll plate 13.
In this manufacturing process, the peripheral side surface of the base material 13a is made into a super mirror surface by an electrolytic composite polishing method in which electrolytic elution action and abrasion action by abrasive grains are combined (electropolishing). Then, silicon dioxide is applied to the peripheral side surface of the base material 13a to form the adhesion layer 13b. Subsequently, in this step, aluminum is vapor-deposited or sputtered on the peripheral side surface of the base material 13a via the adhesion layer 13b to produce a high-purity aluminum layer (molding layer 13c). Subsequently, in this step, the forming layer 13c is processed by alternately repeating the anodizing steps A1,..., AN, the etching steps E1,.

この製造工程において、陽極酸化工程A1、…、ANでは、陽極酸化法により賦型層13cの周側面に微細な穴を作製し、さらにこの作製した微細な穴を掘り進める。ここで陽極酸化工程では、例えば負極に炭素棒、ステンレス板材等を使用する場合のように、アルミニウムの陽極酸化に適用される各種の手法を広く適用することができる。また溶解液についても、中性、酸性の各種溶解液を使用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。この製造工程A1、…、ANは、液温、印加する電圧、陽極酸化に供する時間等の管理により、微細な穴をそれぞれ目的とする深さ及び微小突起形状に対応する形状に作製する。   In this manufacturing process, in the anodic oxidation process A1,..., AN, a fine hole is produced on the peripheral side surface of the shaping layer 13c by an anodic oxidation method, and the produced fine hole is further dug. Here, in the anodic oxidation step, various methods applied to the anodic oxidation of aluminum can be widely applied, for example, when a carbon rod, a stainless steel plate, or the like is used for the negative electrode. Further, as the solution, various neutral and acid solutions can be used. More specifically, for example, a sulfuric acid aqueous solution, an oxalic acid aqueous solution, a phosphoric acid aqueous solution and the like can be used. In the manufacturing steps A1,..., AN, the fine holes are formed in shapes corresponding to the target depth and the shape of the fine protrusions, respectively, by managing the liquid temperature, the applied voltage, the time for anodization, and the like.

続くエッチング工程E1、…、ENは、金型をエッチング液に浸漬し、陽極酸化工程A1、…、ANにより作製、掘り進めた微細な穴の穴径をエッチングにより拡大し、深さ方向に向かって滑らか、かつ徐々に穴径が小さくなるように、これら微細な穴を整形する。なおエッチング液については、この種の処理に適用される各種エッチング液を広く適用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。これらによりこの製造工程では、陽極酸化処理とエッチング処理とを交互にそれぞれ複数回(例えば、3〜5回)実行することにより、賦型に供する微細穴を母材の周側面に作製する。   In the subsequent etching process E1,..., EN, the mold is immersed in an etching solution, the hole diameter of the fine hole produced and dug in the anodizing process A1,. These fine holes are shaped so that the hole diameter becomes smaller and smoother. As the etching solution, various etching solutions that are applied to this type of treatment can be widely applied. More specifically, for example, a sulfuric acid aqueous solution, an oxalic acid aqueous solution, a phosphoric acid aqueous solution, or the like can be used. Thus, in this manufacturing process, the anodizing treatment and the etching treatment are alternately performed a plurality of times (for example, 3 to 5 times), thereby forming fine holes for forming on the peripheral side surface of the base material.

〔ロール版上の異物(セルロース)〕
図10は、賦型層13cの表面に異物Fが付着したロール版13の概略図であり、図8(b)に対応する図である。
上述の製造工程により適正に作製されたロール版13の表面には、図10に示すように、異物Fとして、作業者の着衣等が起因となるセルロース(繊維素)や、賦型層13cの形成時におけるスパッタリング等の工程により微細なアルミニウム粉が付着してしまう場合がある。ここで、ロール版13の最表面にある賦型層13cは、上述したように、表面に微細な凹凸形状が形成されており、非常に脆いため、付着した異物Fを作業者の手作業等で除去するのは困難である。仮に、この異物Fが付着したロール版13により反射防止物品が製造された場合、その反射防止物品は、異物Fに対応する位置に微小突起が適正に形成されず、反射防止機能が局所的に劣化したり、外観不良が生じたりする。
[Foreign matter on the roll plate (cellulose)]
FIG. 10 is a schematic view of the roll plate 13 in which the foreign matter F adheres to the surface of the shaping layer 13c, and corresponds to FIG. 8B.
As shown in FIG. 10, on the surface of the roll plate 13 appropriately produced by the above-described manufacturing process, as foreign matter F, cellulose (fibrin) caused by the operator's clothes and the like, and the shaping layer 13c In some cases, fine aluminum powder may be adhered by a process such as sputtering at the time of formation. Here, the shaping layer 13c on the outermost surface of the roll plate 13 has a fine uneven shape formed on the surface as described above, and is very brittle. It is difficult to remove with. If an anti-reflective article is manufactured with the roll plate 13 to which the foreign matter F is adhered, the anti-reflective article has a minute projection not properly formed at a position corresponding to the foreign matter F, and the anti-reflective function is locally provided. Deterioration or poor appearance may occur.

また、モスアイ構造の場合、特に、紫外線硬化性樹脂により微小突起を形成するときに、ロール版13と、ロール版13に加圧押圧される紫外線硬化性樹脂層4との離型性を向上させるために、ロール版13の表面に離型剤が塗布されている。そのため、異物Fがロール版13に付着していると、製造される反射防止物品1には、その付着した異物Fに対応する部位で歪んだり、気泡が生じたりする問題も発生する。
そのため、本実施形態では、以下に説明する異物除去装置50を使用することにより、ロール版13の異物Fを検出して除去する。
Further, in the case of the moth-eye structure, particularly when the fine protrusions are formed with the ultraviolet curable resin, the release property between the roll plate 13 and the ultraviolet curable resin layer 4 pressed and pressed against the roll plate 13 is improved. Therefore, a release agent is applied to the surface of the roll plate 13. Therefore, when the foreign matter F adheres to the roll plate 13, the manufactured antireflection article 1 also has a problem that the part corresponding to the attached foreign matter F is distorted or bubbles are generated.
Therefore, in this embodiment, the foreign matter F of the roll plate 13 is detected and removed by using the foreign matter removing device 50 described below.

〔ロール版の異物除去装置〕
図11は、ロール版13に付着した異物Fを検出して除去する異物除去装置50の正面図及び側面図である。
この異物除去装置50は、保持機構によりロール版13の母材13aの回転軸の両端を保持することにより、この回転軸がほぼ水平となり、この回転軸により回転可能に、さらに周側面が他の部位に接触しないように、ロール版13を保持する。異物除去装置50は、図示しないフットスイッチの操作により保持機構によって保持したロール版13をゆっくりとした速度で回転させる。
[Roll foreign material removal device]
FIG. 11 is a front view and a side view of the foreign matter removing apparatus 50 that detects and removes the foreign matter F adhering to the roll plate 13.
The foreign matter removing apparatus 50 holds both ends of the rotation shaft of the base material 13a of the roll plate 13 by a holding mechanism, so that the rotation shaft becomes substantially horizontal, and can be rotated by the rotation shaft. The roll plate 13 is held so as not to contact the part. The foreign matter removing apparatus 50 rotates the roll plate 13 held by the holding mechanism at a slow speed by operating a foot switch (not shown).

異物除去装置50は、このロール版13の回転軸と平行に、ねじ軸51が設けられる。ここでねじ軸51には、このねじ軸51と共にボールネジを構成するナット部53が設けられ、このナット部53にはロール版13(賦型層13c)の周側面を観察する顕微鏡54が設けられる。異物除去装置50は、ねじ軸51及びナット部53により顕微鏡54の可動機構を構成し、ネジ軸51の回転により顕微鏡54をロール版13の回転軸に沿った方向に移動させることができる。これにより、異物除去装置50を操作する作業者が、賦型層13cの周側面を顕微鏡54により観察し、その表面に付着した異物Fを検出することができる。   The foreign matter removing device 50 is provided with a screw shaft 51 in parallel with the rotation axis of the roll plate 13. Here, the screw shaft 51 is provided with a nut portion 53 constituting a ball screw together with the screw shaft 51, and the nut portion 53 is provided with a microscope 54 for observing the peripheral side surface of the roll plate 13 (molding layer 13c). . In the foreign matter removing device 50, the screw shaft 51 and the nut portion 53 constitute a movable mechanism of the microscope 54, and the microscope 54 can be moved in the direction along the rotation axis of the roll plate 13 by the rotation of the screw shaft 51. Thereby, the operator who operates the foreign material removal apparatus 50 can observe the surrounding side surface of the shaping layer 13c with the microscope 54, and can detect the foreign material F adhering to the surface.

また、異物除去装置50は、ロール版13を挟んで上述の顕微鏡54とは反対側の位置に、レーザ照射装置55が設けられる。異物除去装置50は、このロール版13の回転軸と平行に、ねじ軸52が設けられ、このねじ軸52と、レーザ照射装置55に設けられた不図示のナット部とが螺合しボールネジを構成することによって、レーザ照射装置55をロール版13の回転軸に沿った方向に移動させることができる。これにより、異物除去装置50は、ロール版13(賦型層13c)の周側面の特定の位置にレーザ光を照射することが可能となる。レーザ照射装置55は、波長が532nm、パルス周期が6nsecのレーザ光を照射するYAG(Yttrium Aluminum Garnet)レーザを備えている。   The foreign matter removing device 50 is provided with a laser irradiation device 55 at a position opposite to the above-described microscope 54 with the roll plate 13 interposed therebetween. The foreign matter removing device 50 is provided with a screw shaft 52 in parallel with the rotation axis of the roll plate 13, and the screw shaft 52 and a nut portion (not shown) provided in the laser irradiation device 55 are screwed together to fix the ball screw. By configuring, the laser irradiation device 55 can be moved in the direction along the rotation axis of the roll plate 13. Thereby, the foreign material removal apparatus 50 becomes possible to irradiate a laser beam to the specific position of the surrounding side surface of the roll plate 13 (molding layer 13c). The laser irradiation device 55 includes a YAG (Yttrium Aluminum Garnet) laser that irradiates laser light having a wavelength of 532 nm and a pulse period of 6 nsec.

なお、レーザ照射装置55は、異物Fがセルロースの場合、波長が1064nmのレーザ光を照射する装置であってもよいが、異物除去の効率から波長が532nmの装置を使用することが好ましい。また、波長が266nmや、355nmのレーザ光を照射する装置は、効率よく異物Fのみを除去することができないため、使用するのは適当ではない。これは、この装置により、異物Fを除去することができる程度にレーザ光を照射した場合、異物Fの除去だけでなく、母材13aや密着層13bをも傷つけてしまう場合があるからである。また、この装置により修正されたロール版で製造された反射防止物品は、母材13a等が傷つくことにより、修正した部位に対応する部位に適正な微小突起が形成されなくなるからである。   The laser irradiation device 55 may be a device that irradiates a laser beam having a wavelength of 1064 nm when the foreign substance F is cellulose, but it is preferable to use an apparatus having a wavelength of 532 nm because of the efficiency of removing the foreign substance. In addition, an apparatus that irradiates laser light having a wavelength of 266 nm or 355 nm is not suitable for use because it cannot efficiently remove only the foreign matter F. This is because when this apparatus irradiates the laser beam to such an extent that the foreign matter F can be removed, not only the foreign matter F but also the base material 13a and the adhesion layer 13b may be damaged. . In addition, the antireflection article manufactured with the roll plate corrected by this apparatus is because the base material 13a and the like are damaged, so that appropriate microprotrusions are not formed at the site corresponding to the corrected site.

また、異物Fが微細なアルミニウム粉の場合、異物除去の効率から波長が532nmの装置を使用することが好ましい。波長が266nmや、355nmのレーザ光を照射する装置は、一般に本修正対象の異物Fの大きさに対して適当でない。これは、異物Fを除去することができる程度にレーザ光を照射した場合、横方向に対して縦方向の加工しろが大きく、異物Fの除去効率が低いだけでなく、母材13aや密着層13bをも傷つけてしまう場合があるからである。また、この装置により修正されたロール版で製造された反射防止物品は、母材13a等が傷つくことにより、修正した部位に対応する部位に適正な微小突起が形成されなくなるからである。   Moreover, when the foreign material F is a fine aluminum powder, it is preferable to use an apparatus having a wavelength of 532 nm from the efficiency of foreign material removal. An apparatus that irradiates a laser beam having a wavelength of 266 nm or 355 nm is generally not appropriate for the size of the foreign matter F to be corrected. This is because when the laser beam is irradiated to such an extent that the foreign matter F can be removed, the machining margin in the vertical direction is large with respect to the horizontal direction and the removal efficiency of the foreign matter F is low, as well as the base material 13a and the adhesion layer This is because 13b may be damaged. In addition, the antireflection article manufactured with the roll plate corrected by this apparatus is because the base material 13a and the like are damaged, so that appropriate microprotrusions are not formed at the site corresponding to the corrected site.

本発明に用いるレーザ照射装置55のレーザ光は、紫外光、可視光または赤外光などを用いることができ、特に限定はされるものではない。また、光源としてYAGレーザ光だけでなく、COレーザ光や、エキシマレーザ光等を使用することができ、これらのレーザ光は、パルスレーザ光や、連続レーザ光を使用することができる。
例えば、YAGレーザは、上述のYAG第2高調波(波長532nm)だけでなく、レーザ出力(光量)等が十分に得られるのであれば、YAG基本波(波長1064nm)や、YAG第3高調波(波長355nm)、YAG第4高調波(波長266nm)、YAG第5高調波(波長213nm)等を使用することもできる。また、ArF、KrF、XeF、XeCl等の希ガスハロゲンのエキシマレーザ光の照射に代えて、電子ビーム、イオンビーム、X線などのエネルギービームも使用することができる。
The laser light of the laser irradiation device 55 used in the present invention can be ultraviolet light, visible light, infrared light, or the like, and is not particularly limited. Further, not only YAG laser light but also CO 2 laser light, excimer laser light, or the like can be used as the light source, and pulse laser light or continuous laser light can be used as these laser lights.
For example, if the YAG laser can obtain not only the above-mentioned YAG second harmonic (wavelength 532 nm) but also a laser output (light quantity) or the like, the YAG fundamental wave (wavelength 1064 nm) or the YAG third harmonic (Wavelength 355 nm), YAG fourth harmonic (wavelength 266 nm), YAG fifth harmonic (wavelength 213 nm), and the like can also be used. Further, instead of irradiation with excimer laser light of rare gas halogen such as ArF, KrF, XeF, or XeCl, an energy beam such as an electron beam, an ion beam, or an X-ray can be used.

〔ロール版の修正方法〕
図12は、異物Fが除去されたロール版13と、そのロール版13により製造された反射防止物品の概略を示す図である。図12(a)は、異物Fが除去された後のロール版13の拡大断面の図8(b)に対応する図である。図12(b)は、異物Fが除去されたロール版13により製造された反射防止物品の異物Fが除去された部位に対応する部位の微小突起の拡大断面図である。
[How to modify the roll version]
FIG. 12 is a diagram showing an outline of the roll plate 13 from which the foreign matter F has been removed and the antireflection article produced by the roll plate 13. FIG. 12A is a view corresponding to FIG. 8B of the enlarged cross section of the roll plate 13 after the foreign matter F is removed. FIG. 12B is an enlarged cross-sectional view of a minute protrusion at a site corresponding to the site where the foreign material F has been removed from the antireflection article manufactured by the roll plate 13 from which the foreign material F has been removed.

作業者は、上述の異物除去装置50にロール版13を設置し、顕微鏡54を使用して、ロール版13(賦型層13c)の表面から異物Fとなるセルロースを検出する(異物検出工程)。ここで、本実施形態の異物検出工程は、顕微鏡54を介して作業者の目視によって異物Fを検出するが、これに限定されるものではない。例えば、顕微鏡54を介してカメラ等で賦型層13cの表面を撮影し、撮影した画像に基づいて自動的に異物Fを検出するようにしてもよい。
賦型層13cの表面から異物Fが発見されたら、作業者は、レーザ照射装置55のレーザ光の照射位置と、発見されたロール版13上の異物Fの位置とを一致させ、レーザ光を異物Fに向けて照射して、アブレーション加工により異物Fを除去する(異物除去工程)。ここで、レーザ照射装置55には不図示のマスクが設けられており、レーザ光が、賦型層13cの表面の所定の範囲内のみを照射するように設定されている。また、マスクは、2種類設けられており、異物Fの除去具合に応じて、照射範囲を変更することができる。本実施形態では、レーザ光の照射範囲を150×150μmに制限するマスクM1と、50×50μmに制限するマスクM2とが設けられている。
An operator installs the roll plate 13 in the foreign matter removing apparatus 50 described above, and uses the microscope 54 to detect cellulose that becomes the foreign matter F from the surface of the roll plate 13 (molding layer 13c) (foreign matter detection step). . Here, the foreign substance detection step of the present embodiment detects the foreign substance F by visual observation of the operator through the microscope 54, but is not limited to this. For example, the surface of the shaping layer 13c may be photographed with a camera or the like through the microscope 54, and the foreign matter F may be automatically detected based on the photographed image.
When the foreign matter F is found from the surface of the shaping layer 13c, the operator matches the laser light irradiation position of the laser irradiation device 55 with the found position of the foreign matter F on the roll plate 13, and emits the laser light. Irradiation toward the foreign matter F is performed, and the foreign matter F is removed by ablation processing (foreign matter removing step). Here, the laser irradiation device 55 is provided with a mask (not shown), and the laser beam is set to irradiate only within a predetermined range of the surface of the shaping layer 13c. Also, two types of masks are provided, and the irradiation range can be changed according to the degree of removal of the foreign matter F. In the present embodiment, a mask M1 for limiting the laser light irradiation range to 150 × 150 μm and a mask M2 for limiting to 50 × 50 μm are provided.

一般に、ロール版13に付着する異物Fは、セルロースの場合、その長さ寸法が約1mmであり、その径寸法が数十〜100μmであり、微細なアルミニウム粉の場合、その高さ寸法が15〜20μmであり、その幅又は径寸法が40〜60μmである。
そのため、作業者は、まず、マスクM1を使用し、広範囲にレーザ光を照射して、賦型層13cに付着する異物Fの大部分を除去する(第1除去工程)。ここで、異物Fの長さがマスクの照射範囲よりも長い場合は、作業者は、レーザ照射装置55を移動させて、複数回にわたってレーザ光を異物Fに照射する。
In general, the foreign matter F adhering to the roll plate 13 has a length of about 1 mm in the case of cellulose, a diameter of several tens to 100 μm, and a height of 15 in the case of fine aluminum powder. ˜20 μm and its width or diameter is 40˜60 μm.
Therefore, the operator first uses the mask M1 to irradiate laser light over a wide range to remove most of the foreign matter F adhering to the shaping layer 13c (first removal step). Here, when the length of the foreign matter F is longer than the irradiation range of the mask, the operator moves the laser irradiation device 55 to irradiate the foreign matter F with the laser light a plurality of times.

次に、作業者は、異物Fの大部分が除去された部位を、顕微鏡54を使用して確認し、除去しきれなかった異物Fの残部や、レーザ光により飛び散った異物片等が賦型層13cの表面に存在しないかを確認する。そして、異物Fの残部等が存在する場合、作業者は、レーザ光の照射位置をその異物Fの残部等が存在する位置に移動し、マスクM2を使用してレーザ光を照射する(第2除去工程)。ここで、マスクM2は、上述したように、マスクM1よりも照射範囲を狭く制限するので、作業者は、微小になった異物Fの残部等に効率よくレーザ光を照射することができる。
また、このとき、マスクM1によるレーザ光照射の場合よりも、レーザ光の出力を低くして、異物Fの残部等の形状(大きさ)に応じて、レーザ光を照射してもよい。こうすることで、異物Fの下側に位置するロール版13の賦型層13cを必要以上に削ったり、母材13aや密着層13bを傷つけたりしてしまうのを抑制することができる。
なお、異物FがマスクM1の照射範囲に対して十分に小さい場合、例えば、異物Fが上述した微細なアルミニウム粉の場合、作業者は、最初からマスクM2を使用し、賦型層13cに付着する異物Fを除去するようにしてもよい。
Next, the operator confirms the site where most of the foreign matter F has been removed by using the microscope 54, and the remaining part of the foreign matter F that could not be removed, the foreign matter pieces scattered by the laser light, etc. are formed. It is confirmed whether it exists on the surface of the layer 13c. When there is a remaining part of the foreign matter F, the operator moves the irradiation position of the laser light to a position where the remaining part of the foreign matter F exists, and uses the mask M2 to irradiate the laser light (second). Removal step). Here, as described above, the mask M2 restricts the irradiation range to be narrower than that of the mask M1, so that the operator can efficiently irradiate the remaining part of the minute foreign matter F and the like with laser light.
At this time, the output of the laser beam may be made lower than in the case of the laser beam irradiation by the mask M1, and the laser beam may be irradiated according to the shape (size) of the remaining part of the foreign matter F or the like. By carrying out like this, it can suppress that the shaping layer 13c of the roll plate 13 located under the foreign material F is shaved more than necessary, or the base material 13a and the adhesion layer 13b are damaged.
When the foreign matter F is sufficiently small with respect to the irradiation range of the mask M1, for example, when the foreign matter F is the fine aluminum powder described above, the operator uses the mask M2 from the beginning and adheres to the shaping layer 13c. The foreign matter F to be removed may be removed.

以上の工程によって異物Fが除去されたロール版13の賦型層13cの表面の微細な凹凸形状は、図12(a)に示すように、異物Fが除去された部位の頂部が、他の周辺部位に比べて低くなる。
また、上述の修正方法により修正されたロール版13によって製造された反射防止物品の微小突起の基部(根元)は、図12(b)に示すように、賦型層13cの修正された部位に対応する部位が、他の周辺部位に比べ高くなるように形成されることとなる。しかし、その部位の反射防止物品の反射防止機能や、外観は、他の周辺部位と比べてほとんど差異のないものとなる。
As shown in FIG. 12 (a), the fine uneven shape on the surface of the shaping layer 13c of the roll plate 13 from which the foreign matter F has been removed by the above-described process is as follows. Lower than the surrounding area.
Moreover, the base part (root) of the microprojection of the antireflection article manufactured by the roll plate 13 modified by the above-described modification method is located in the modified part of the shaping layer 13c as shown in FIG. The corresponding part is formed to be higher than the other peripheral parts. However, the antireflection function and appearance of the antireflective article at that part are almost the same as those of other peripheral parts.

〔レーザの照射条件〕
次に、レーザ照射装置55によるレーザ光の照射条件に対するロール版13の賦型層13cに付着する異物除去の評価試験について説明する。
〔異物Fがセルロースの場合の評価試験〕
本評価試験は、セルロースが異物Fとして、3層構成のロール版13(図8(d)参照)の賦型層13cに付着した場合における異物除去結果について評価が行われる。
本評価試験の異物Fの除去に使用するレーザ照射装置55は、波長が532nm、パルス周期が6nsecのレーザ光を照射するYAGレーザ(HOYA CANDEO OPTRONICS(株)製、HSL−5000II FS)である。レーザ光の照射は、マスクM1により照射範囲を限定するスポット照射であり、その照射範囲は、150×150μmに設定される。なお、本試験では、マスクM1によるレーザ光の照射のみによる異物除去について評価する。
レーザ光の出力値及びレーザ光の照射回数に対する、賦型層13cに付着した異物除去の評価結果を以下の表1にまとめる。
[Laser irradiation conditions]
Next, an evaluation test for removing foreign matter attached to the shaping layer 13c of the roll plate 13 with respect to the irradiation condition of the laser beam by the laser irradiation device 55 will be described.
[Evaluation test when foreign matter F is cellulose]
In this evaluation test, the foreign matter removal result when cellulose adheres to the shaping layer 13c of the roll plate 13 having a three-layer structure (see FIG. 8D) as the foreign matter F is evaluated.
The laser irradiation device 55 used for removing the foreign substance F in this evaluation test is a YAG laser (HSL-5000II FS manufactured by HOYA CANDEO OPTRONICS Co., Ltd.) that irradiates laser light having a wavelength of 532 nm and a pulse period of 6 nsec. The laser beam irradiation is spot irradiation that limits the irradiation range by the mask M1, and the irradiation range is set to 150 × 150 μm. In this test, the removal of foreign matter only by laser light irradiation with the mask M1 is evaluated.
Table 1 below summarizes the evaluation results of the removal of foreign matter attached to the shaping layer 13c with respect to the output value of the laser beam and the number of times of laser beam irradiation.

表1において、○、×及び−は、異物除去の評価を示しており、○は、賦型層13cに付着した異物F(セルロース)を十分に除去することができたことを示す。また、×は、異物Fを十分に除去することができなかったことを示し、−は、異物Fを十分に除去することができたが、ロール版13の母材13aや密着層13bをも傷つけてしまったことを示す。
表1に示すように、照射するレーザ光の出力値が126〜144μJの場合、レーザ光の照射回数に関係なく、異物除去の評価は×となった。この場合、賦型層13cの表面には、除去しきれなかった異物Fの残部等が多数残存してしまった。これは、レーザ光の出力不足が要因と考えられる。
In Table 1, “◯”, “X”, and “−” indicate the evaluation of foreign matter removal, and “◯” indicates that the foreign matter F (cellulose) attached to the shaping layer 13c was sufficiently removed. Further, x indicates that the foreign matter F could not be sufficiently removed, and − indicates that the foreign matter F was sufficiently removed, but the base material 13a and the adhesion layer 13b of the roll plate 13 are also included. Indicates that it has been hurt.
As shown in Table 1, when the output value of the irradiated laser beam was 126 to 144 μJ, the evaluation of foreign matter removal was x regardless of the number of times of laser beam irradiation. In this case, the remainder of the foreign matter F that could not be removed remained on the surface of the shaping layer 13c. This is considered to be caused by insufficient output of the laser beam.

照射するレーザ光の出力値が174〜180μJの場合、レーザ光の照射回数に関係なく、異物除去の評価は−となった。また、レーザ光の照射出力が150〜156μJであり、照射回数が20回以上の場合と、レーザ光の照射出力が162〜168μJであり、照射回数が5回以上の場合も、異物除去の評価は−となった。
これらの場合は、賦型層13cの表面から異物Fを十分に除去することができたが、異物Fだけでなく、その下に位置するロール版13の賦型層13cを必要以上に削ったり、賦型層13cの下に位置する母材13aや密着層13bを傷つけてしまったりすることとなった。これは、レーザ光の出力が大きすぎることが要因と考えられる。賦型層13cが必要以上に削られたり、母材13a等が傷ついたりしたロール版で反射防止物品が製造された場合、その反射防止物品には、修正した部位に対応する部位に適正な微小突起が形成されなくなる。
When the output value of the laser beam to be irradiated was 174 to 180 μJ, the evaluation of the removal of foreign matters was −irrespective of the number of times of laser beam irradiation. Also, the evaluation of foreign matter removal is performed when the laser beam irradiation output is 150 to 156 μJ and the number of irradiation times is 20 times or more, and when the laser beam irradiation output is 162 to 168 μJ and the number of irradiation times is 5 or more. Became-.
In these cases, the foreign matter F could be sufficiently removed from the surface of the shaping layer 13c, but not only the foreign matter F but also the shaping layer 13c of the roll plate 13 located therebelow was shaved more than necessary. The base material 13a and the adhesion layer 13b located under the shaping layer 13c are damaged. This is considered to be because the output of the laser beam is too large. When the anti-reflective article is manufactured with a roll plate in which the molding layer 13c is cut more than necessary or the base material 13a is damaged, the anti-reflective article has a minute size appropriate for the part corresponding to the corrected part. No protrusion is formed.

これに対して、照射するレーザ光の出力値が150〜156μJであり、レーザの照射回数が1〜10回の場合と、照射するレーザ光の出力値が162〜168μJであり、レーザの照射回数が1回の場合は、異物除去の評価は○となり、賦型層13cの表面から異物F(セルロース)が十分に除去されることが確認された。特に、レーザ光の出力値を156μJで、10回の照射を行った場合は、賦型層13cを必要以上に削ったり、ロール版13の母材13a等を傷つけたりすることなく、最も効率よく賦型層13cから異物Fを除去することができることが確認された。   On the other hand, the output value of the laser beam to be irradiated is 150 to 156 μJ, the number of times of laser irradiation is 1 to 10 times, and the output value of the laser beam to be irradiated is 162 to 168 μJ, and the number of times of laser irradiation is In the case of once, the evaluation of the removal of the foreign matter was “good”, and it was confirmed that the foreign matter F (cellulose) was sufficiently removed from the surface of the shaping layer 13c. In particular, when the output value of the laser beam is 156 μJ and irradiation is performed 10 times, the laser beam is most efficiently obtained without scraping the shaping layer 13c more than necessary or damaging the base material 13a of the roll plate 13 or the like. It was confirmed that the foreign substance F can be removed from the shaping layer 13c.

〔異物Fが微細なアルミニウム粉の場合の評価試験〕
本評価試験は、微細なアルミニウム粉が異物Fとして、3層構成のロール版13(図8(d)参照)の賦型層13cに付着した場合における異物除去結果について評価が行われる。
本評価試験の異物Fの除去に使用するレーザ照射装置55は、波長が532nm、パルス周期が6nsecのレーザ光を照射するYAGレーザ(HOYA CANDEO OPTRONICS(株)製、HSL−5000II FS)である。ここで、上述したように、微細なアルミニウム粉は、その高さ寸法が15〜20μmであり、その幅又は径寸法が40〜60μmである。そのため、レーザ光の照射は、マスクM2(照射範囲が50×50μm)によるスポット照射を行う。
レーザ光の出力値及びレーザ光の照射回数に対する、賦型層13cに付着した異物除去の評価結果を以下の表2にまとめる。
[Evaluation test when foreign matter F is fine aluminum powder]
In this evaluation test, evaluation is performed on the result of removing foreign matter when fine aluminum powder adheres to the shaping layer 13c of the three-layered roll plate 13 (see FIG. 8D) as foreign matter F.
The laser irradiation device 55 used for removing the foreign substance F in this evaluation test is a YAG laser (HSL-5000II FS manufactured by HOYA CANDEO OPTRONICS Co., Ltd.) that irradiates laser light having a wavelength of 532 nm and a pulse period of 6 nsec. Here, as described above, the fine aluminum powder has a height of 15 to 20 μm and a width or diameter of 40 to 60 μm. Therefore, the laser beam irradiation is performed by spot irradiation using a mask M2 (irradiation range is 50 × 50 μm).
Table 2 below summarizes the evaluation results of the removal of foreign matter adhering to the shaping layer 13c with respect to the output value of the laser beam and the number of times of irradiation with the laser beam.

表2において、○及び×は、異物除去の評価を示しており、○は、賦型層13cに付着した異物F(微細なアルミニウム粉)を十分に除去することができたことを示す。また、×は、レーザ光の照射範囲内の異物Fが十分に除去されていない、若しくは、レーザ光の照射範囲の周辺に、レーザ光によって溶融した異物F(アルミニウム)が飛散したことを示す。   In Table 2, “◯” and “X” indicate the evaluation of foreign matter removal, and “◯” indicates that the foreign matter F (fine aluminum powder) adhering to the shaping layer 13c was sufficiently removed. Further, x indicates that the foreign matter F within the laser light irradiation range is not sufficiently removed, or the foreign matter F (aluminum) melted by the laser light is scattered around the laser light irradiation range.

照射するレーザ光の出力値が200〜220mJの場合、レーザ光の照射回数に関係なく、異物除去の評価は×となった。また、レーザ光の照射出力が240mJであり、照射回数が40回以下の場合と、レーザ光の照射出力が320〜400mJであり、照射回数が30回以下の場合と、レーザ光の照射出力が450〜510mJであり、照射回数が20回以下の場合も、異物除去の評価は×となった。
これらの場合、賦型層13cの表面には、除去しきれなかった異物Fの残部等が多数残存してしまった。これは、レーザ光の出力不足が要因と考えられる。
When the output value of the laser beam to be irradiated is 200 to 220 mJ, the evaluation of the removal of foreign matter is x regardless of the number of times of laser beam irradiation. In addition, when the laser beam irradiation output is 240 mJ and the number of irradiation times is 40 times or less, when the laser beam irradiation output is 320 to 400 mJ and the number of irradiation times is 30 times or less, the laser beam irradiation output is Even when the number of irradiations was 450 to 510 mJ and the number of irradiations was 20 times or less, the evaluation of foreign matter removal was x.
In these cases, the remainder of the foreign matter F that could not be removed remained on the surface of the shaping layer 13c. This is considered to be caused by insufficient output of the laser beam.

また、照射するレーザ光の出力値が570〜600mJの場合、レーザ光の照射回数に関係なく、異物除去の評価も×となり、レーザ光の照射出力が510〜540mJであり、照射回数が60回の場合も、異物除去の評価は×となった。
これらの場合は、レーザ光の照射範囲の周辺に、レーザ光によって溶融した異物F(アルミニウム)が飛散してしまったり、必要以上に賦型層13cを削ったり、母材13a等を傷つけてしまったりすることとなった。これは、レーザの出力が大きすぎることが要因と考えられる。
In addition, when the output value of the laser beam to be irradiated is 570 to 600 mJ, the evaluation of foreign matter removal is x regardless of the number of times of laser beam irradiation, the laser beam irradiation output is 510 to 540 mJ, and the number of irradiation times is 60 times. In the case of, the evaluation of foreign matter removal was x.
In these cases, the foreign matter F (aluminum) melted by the laser beam is scattered around the irradiation range of the laser beam, the shaping layer 13c is shaved more than necessary, or the base material 13a is damaged. I ended up getting lost. This is considered to be because the output of the laser is too large.

これに対して、照射するレーザ光の出力値が240mJであり、レーザの照射回数が50〜60回の場合と、レーザ光の出力値が320〜400mJであり、照射回数が40〜60回の場合と、レーザ光の出力値が450mJであり、照射回数が30〜60回の場合と、レーザ光の出力値が510mJであり、照射回数が30〜50回の場合と、レーザ光の出力値が540mJであり、照射回数が20〜50回の場合とは、異物除去の評価は○となり、賦型層13cの表面から異物F(微細なアルミニウム粉)が十分に除去されることが確認された。
また、本評価試験にて、一例として表2中の540mJで上記所定回数より少ない回数レーザ光を照射して、異物Fの高さを5μm程度残し、前記照射後に表2中の低出力の照射240mJを組み合わせ、目視調整しながら残った前記5μ程度の高さの異物Fを除去するようにしても良い。
On the other hand, the output value of the laser light to be irradiated is 240 mJ, the number of times of laser irradiation is 50 to 60 times, and the output value of the laser light is 320 to 400 mJ, and the number of times of irradiation is 40 to 60 times. The output value of the laser light is 450 mJ, the number of irradiation times is 30 to 60 times, the output value of the laser light is 510 mJ, the number of irradiation times is 30 to 50 times, and the output value of the laser light Is 540 mJ and the number of irradiations is 20 to 50 times, the evaluation of foreign matter removal is ○, and it is confirmed that the foreign matter F (fine aluminum powder) is sufficiently removed from the surface of the shaping layer 13c. It was.
Also, in this evaluation test, as an example, the laser beam is irradiated at a frequency less than the above predetermined number at 540 mJ in Table 2 to leave about 5 μm in height of the foreign substance F, and after the irradiation, the low output irradiation in Table 2 240 mJ may be combined, and the remaining foreign substance F having a height of about 5 μm may be removed while visually adjusting.

以上より本実施形態の発明は、以下の効果を奏することができる。
(1)ロール版13の修正方法は、異物検出工程において、ロール版13の賦型層13cの表面に付着した異物Fを検出し、異物検出工程において、検出された異物Fをレーザ光の照射によって除去する。これにより、ロール版13に異物Fが付着した場合であっても、製造した反射防止物品に、反射防止機能の劣化や、外観不良等の問題が生じるのを抑制することができる。
(2)異物検出工程は、波長が532nm又は1064nmのレーザ光を使用するので、賦型層13cに付着した異物Fの除去をより具体的に実現することができる。
(3)異物除去工程は、異物Fの大部分を除去する工程(第1除去工程)と、その工程で除去しきれなかった異物Fの残部等を除去する工程(第2除去工程)とを備えるので、賦型層13cから効率よく、迅速に異物Fを除去することができる。
(4)第2除去工程におけるレーザ光の出力が、第1除去工程におけるレーザ光の出力よりも小さいので、第1除去工程で除去しきれなかった異物Fの残部等を、第2除去工程において除去するときに、ロール版13の母材13aや密着層13bを傷つけてしまうのを抑制することができる。これにより、母材13a等が傷ついたロール版13を使用することによって微小突起が適正に形成されない反射防止物品が製造されてしまうのを抑制することができる。
(5)第2除去工程におけるレーザ光の照射範囲が、第1除去工程におけるレーザ光の照射範囲よりも狭いので、第1除去工程で除去しきれなかった異物Fの残部等を、その大きさに応じて効率よく賦型層13cから異物Fを除去することができる。また、異物Fの残部等が付着していない部位に対してレーザ光が照射されてしまうのを抑制することができる。
As described above, the invention of the present embodiment can achieve the following effects.
(1) The method for correcting the roll plate 13 is to detect foreign matter F adhering to the surface of the shaping layer 13c of the roll plate 13 in the foreign matter detection step, and irradiate the detected foreign matter F with laser light in the foreign matter detection step. Remove with. Thereby, even if it is a case where the foreign material F adheres to the roll plate 13, it can suppress that problems, such as deterioration of an anti-reflective function and an external appearance defect, arise in the manufactured anti-reflective article.
(2) Since the foreign substance detection step uses laser light having a wavelength of 532 nm or 1064 nm, the removal of the foreign substance F adhering to the shaping layer 13c can be realized more specifically.
(3) The foreign matter removing step includes a step of removing most of the foreign matter F (first removing step) and a step of removing the remainder of the foreign matter F that could not be removed in the step (second removing step). Since it comprises, the foreign material F can be efficiently and rapidly removed from the shaping layer 13c.
(4) Since the output of the laser beam in the second removal step is smaller than the output of the laser beam in the first removal step, the remaining part of the foreign matter F that could not be removed in the first removal step is removed in the second removal step. When removing, it can suppress that the base material 13a and the contact | adherence layer 13b of the roll plate 13 are damaged. Thereby, it can suppress that the anti-reflective article in which a microprotrusion is not formed appropriately by using the roll plate 13 with which the base material 13a etc. were damaged is manufactured.
(5) Since the irradiation range of the laser beam in the second removal step is narrower than the irradiation range of the laser beam in the first removal step, the size of the remaining part of the foreign matter F that could not be removed in the first removal step Accordingly, the foreign substance F can be efficiently removed from the shaping layer 13c. Moreover, it can suppress that a laser beam is irradiated with respect to the site | part to which the remainder of the foreign material F, etc. have not adhered.

〔第2実施形態〕
第2実施形態においては、第1実施形態と同様のロール版13の修正方法により修正されたロール版13によって製造された反射防止物品をショーケースに用いる。
なお、以下の説明において、前述した第1実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号又は末尾に同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
このショーケースは、宝石、美術品等の貴重品による展示物を収納して、この展示物の展示に供する直方体状のケースである。このショーケースは、内側に配置した展示物を上方及び周囲より鑑賞することができるように、外周面及び天井面による5つの面が、展示物の展示に供する展示用板材により構成される。また、この実施形態において、この展示用板材は、透明板材であるガラス板の片面又はその両面に、フィルム形状の反射防止物品1が貼り付けられて形成される。ここで、この反射防止物品1は、モスアイ構造による反射防止フィルムであるので、これにより、このショーケースは、照明の映り込み、屋外の風景等の映り込みを充分に防止して、従来に比して格段的に高い臨場感により展示物品を鑑賞することができる。
[Second Embodiment]
In the second embodiment, an antireflection article manufactured by the roll plate 13 modified by the same method of correcting the roll plate 13 as in the first embodiment is used for a showcase.
In the following description, parts that perform the same functions as those of the first embodiment described above are given the same reference numerals or the same reference numerals at the end, and redundant descriptions are omitted as appropriate.
This showcase is a rectangular parallelepiped case for storing exhibits made of precious items such as jewelry and artworks, and providing them for display. In this showcase, five surfaces including an outer peripheral surface and a ceiling surface are configured by display plates for display of the exhibit so that the exhibit placed inside can be viewed from above and around. In this embodiment, the display plate is formed by attaching the film-shaped antireflection article 1 to one side or both sides of a glass plate which is a transparent plate. Here, since this antireflection article 1 is an antireflection film having a moth-eye structure, this showcase sufficiently prevents the reflection of illumination and the reflection of outdoor scenery, etc. As a result, it is possible to appreciate the exhibits with a remarkably high presence.

ショーケースは、外周面及び天井面の5面に展示用板材を設ける場合に限らず、例えば、背面を除く4面に展示用板材を設ける場合等、種々の構成を広く適用することができる。また、ショーケースは、直方体に限らず、立方体や、多角柱、円柱状等の形状で形成されたものを適用することもできる。更に、背面側の透明板材のみ、片面のみに反射防止物品1を配置する場合等、特定の透明板材については片面のみに配置するようにしてもよい。   The showcase is not limited to the case where the display plate material is provided on the outer peripheral surface and the ceiling surface, and various configurations can be widely applied, for example, when the display plate material is provided on the four surfaces except the back surface. In addition, the showcase is not limited to a rectangular parallelepiped, and a cube, a polygonal column, a columnar shape, or the like can be applied. Furthermore, a specific transparent plate material may be arranged only on one side, such as when the antireflection article 1 is arranged on only one side of the back side transparent plate material.

なお、モスアイ構造による反射防止物品1は、薄膜多層構造による反射防止フィルム等に比して、極めて高い透明性を確保することができることにより、展示物を保護するガラス等の板材が配置されていないかのような錯覚を鑑賞者に与える恐れもある。そこでガラス板の全面に反射防止物品1を配置する代わりに、反射防止物品1の両面への貼り付けを部分的に中止したり、ガラス板の表面と裏面とで貼り付ける位置をシフトさせたり、ガラス板の表面と裏面とで貼り付ける領域を異ならせたりしても良い。またこのように貼り付ける位置をシフトさせたり、領域を異ならせたり、部分的に貼り付けたりすることにより、装飾的な効果を付与するようにしてもよい。   In addition, the antireflection article 1 having the moth-eye structure can ensure extremely high transparency as compared with the antireflection film having the thin film multilayer structure, so that a plate material such as glass for protecting the exhibit is not disposed. There is also the danger of giving such an illusion to the viewer. Therefore, instead of disposing the antireflection article 1 over the entire surface of the glass plate, the attachment of the antireflection article 1 to both surfaces is partially stopped, the position of attachment between the front and back surfaces of the glass plate is shifted, The areas to be attached may be different between the front and back surfaces of the glass plate. In addition, a decorative effect may be imparted by shifting the position to be pasted in this way, changing the region, or partially pasting.

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更し、さらには従来構成と組み合わせることができる。
Other Embodiment
The specific configuration suitable for the implementation of the present invention has been described in detail above. However, the present invention can be variously modified from the configuration of the above-described embodiment without departing from the spirit of the present invention, and further the conventional configuration. Can be combined.

すなわち上述の実施形態では、陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返し回数をそれぞれ3〜5回に設定する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、繰り返し回数をこれ以外の回数に設定してもよく、またこのように複数回処理を繰り返して、最後の処理を陽極酸化処理とする場合にも広く適用することができる。   That is, in the above-described embodiment, the case where the number of repetitions of the anodizing treatment and the etching treatment is set to 3 to 5 has been described, but the present invention is not limited to this, and the number of repetitions is set to other numbers. In addition, the present invention can be widely applied to the case where the treatment is repeated a plurality of times and the final treatment is anodized.

また上述の第1実施形態では、反射防止物品を液晶表示パネル、電場発光表示パネル、プラズマ表示パネル等の各種画像表示パネルの表側面に配置して視認性を向上する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば液晶表示パネルの裏面側に配置してバックライトから液晶表示パネルへの入射光の反射損失を低減させる場合(入射光利用効率を増大させる場合)にも広く適用することができる。尚、ここで画像表示パネルの表面側とは、該画像表示パネルの画像光の出光面であり、画像観察者側の面でもある。又、画像表示パネルの裏面側とは、該画像表示パネルの表面の反対側面であり、バックライト(背面光源)を用いる透過型画像表示裝置の場合は、該バックライトからの照明光の入光面でもある。   In the first embodiment described above, the case where the antireflection article is arranged on the front side of various image display panels such as a liquid crystal display panel, an electroluminescent display panel, a plasma display panel, etc. has been described. The invention is not limited to this, and is widely applied to, for example, a case where the reflection loss of incident light from the backlight to the liquid crystal display panel is reduced by reducing the reflection loss of incident light from the backlight (increasing incident light utilization efficiency) be able to. Here, the surface side of the image display panel is a light output surface of the image display panel and also a surface on the image observer side. The back side of the image display panel is the opposite side of the surface of the image display panel. In the case of a transmissive image display apparatus using a backlight (back light source), the incident light from the backlight is incident. It is also a surface.

また上述の実施形態では、ロール版を使用した賦型処理によりフィルム形状による反射防止物品を生産する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、反射防止物品の形状に係る透明基材の形状に応じて、例えば平板、特定の曲面形状による賦型用金型を使用した枚葉の処理により反射防止物品を作成する場合等、賦型処理に係る工程、金型は、反射防止物品の形状に係る透明基材の形状に応じて適宜変更することができる。   Moreover, although the above-mentioned embodiment described the case where the anti-reflective article by a film shape was produced by the shaping process using a roll plate, this invention is not limited to this, The transparent base material which concerns on the shape of an anti-reflective article Depending on the shape, for example, when creating an antireflection article by processing a sheet using a shaping mold with a specific curved shape, such as a flat plate, the process related to the shaping process, the mold is the antireflection article It can change suitably according to the shape of the transparent base material which concerns on a shape.

上述の実施形態では、賦型用樹脂にアクリレート系の紫外線硬化性樹脂を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、エポキシ系、ポリエステル系等の各種紫外線硬化性樹脂、或いはアクリレート系、エポキシ系、ポリエステル系等の電子線硬化性樹脂、ウレタン系、エポキシ系、ポリシロキサン系等の熱硬化性樹脂等の各種材料及び各種硬化形態の賦型用樹脂を使用する場合にも広く適用することができ、さらには例えば加熱した熱可塑性の樹脂を押圧して賦型する場合等にも広く適用することができる。   In the above-described embodiment, the case where an acrylate-based ultraviolet curable resin is applied to the shaping resin has been described. However, the present invention is not limited to this, and various ultraviolet-curable resins such as epoxy-based and polyester-based resins, or acrylates. Wide range when using various materials such as electron beam curable resins such as epoxy, epoxy and polyester, thermosetting resins such as urethane, epoxy, and polysiloxane, and molding resins in various curing forms The present invention can be applied, and further, for example, it can be widely applied to a case where a heated thermoplastic resin is pressed and shaped.

また、上述の実施形態では、図1に図示の如く、基材2の一方の面上に受容層(紫外線硬化性樹脂層)4を積層してなる積層体の該受容層4上に微小突起群5、5A、5B、・・を賦形し、該受容層4を硬化せしめて反射防止物品1を形成している。層構成としては2層の積層体となる。但し、本発明は、かかる形態のみに限定される訳では無い。本発明の反射防止物品1は、図示は略すが、基材2の一方の面上に、他の層を介さずに直接、微小突起群5、5A、5B、・・を賦形した単層構成であっても良い。或いは、基材2の一方の面に1層以上の中間層(層間の密着性、塗工適性、表面平滑性等の基材表面性能を向上させる層。プライマー層、アンカー層等とも呼称される。)を介して受容層4を形成し、該受容層表面に微小突起群5、5A、5B、・・を賦形した3層以上の積層体であっても良い。   Further, in the above-described embodiment, as shown in FIG. 1, microprojections are formed on the receiving layer 4 of the laminate formed by laminating the receiving layer (ultraviolet curable resin layer) 4 on one surface of the substrate 2. The groups 5, 5A, 5B,... Are shaped and the receiving layer 4 is cured to form the antireflection article 1. The layer structure is a two-layer laminate. However, the present invention is not limited to such a form. Although not shown, the antireflection article 1 of the present invention is a single layer in which the microprojections 5, 5A, 5B,... Are directly formed on one surface of the substrate 2 without interposing another layer. It may be a configuration. Alternatively, one or more intermediate layers on one surface of the substrate 2 (layers that improve substrate surface performance such as interlayer adhesion, coating suitability, surface smoothness, etc. Also referred to as primer layer, anchor layer, etc. .) May be formed, and a laminate of three or more layers in which the microprotrusions 5, 5A, 5B,... Are formed on the surface of the receptor layer may be used.

更に、上述の実施形態では、図1にも図示の如く、基材2の一方の面上にのみ(直接或いは他の層を介して)微小突起群5、5A、5B、・・を形成しているが、本発明はかかる形態には限定されない。基材2の両面上に(直接或いは他の層を介して)各々微小突起群5、5A、5B、・・を形成した構成であっても良い。
また、図示は略すが、図1等に図示の如き本発明の反射防止物品1において、基材2の微小突起群形成面とは反対側の面(図1においては基材2の下側面)に各種接着剤層を形成し、更に該接着剤層表面に離型フィルム(離型紙)を剥離可能に積層してなる接着加工品の形態とすることも出来る。かかる形態においては、離型フィルムを剥離除去して接着剤層を露出せしめ、該接着剤層により所望の物品の所望の表面上に本発明の反射防止物品1を貼り合わせ、積層することが出来、簡便に所望の物品に反射防止性能を付与することが出来る。接着剤としては、粘着剤(感圧接着剤)、2液硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、熱熔融型接着剤等の公知の接着形態のものが各種使用出来る。
Further, in the above-described embodiment, as shown in FIG. 1, the microprojections 5, 5A, 5B,... Are formed only on one surface of the base material 2 (directly or via another layer). However, the present invention is not limited to such a form. The microprojection groups 5, 5A, 5B,... May be formed on both surfaces of the substrate 2 (directly or via other layers).
Although not shown, in the antireflection article 1 of the present invention as shown in FIG. 1 and the like, the surface opposite to the surface on which the microprojections are formed of the substrate 2 (the lower surface of the substrate 2 in FIG. 1). Various adhesive layers are formed on the adhesive layer, and a release film (release paper) is laminated on the surface of the adhesive layer so as to be peelable. In such a form, the release film is peeled and removed to expose the adhesive layer, and the antireflection article 1 of the present invention can be laminated and laminated on the desired surface of the desired article by the adhesive layer. The antireflection performance can be easily imparted to a desired article. As the adhesive, various types of known adhesive forms such as a pressure-sensitive adhesive (pressure-sensitive adhesive), a two-component curable adhesive, an ultraviolet curable adhesive, a thermosetting adhesive, and a hot melt adhesive can be used. .

また、図示は略すが、図1等に図示の如き本発明の反射防止物品1において、微小突起群5、5A、5B、・・形成面上に剥離可能な保護フィルムを仮接着した状態で保管、搬送、売買、後加工乃至施工を行い、しかる後に適時、該保護フィルムを剥離除去する形態とすることも出来る。かかる形態においては、保管、搬送等の間に微小突起群が損傷乃至は汚染して反射防止性能が低下することを防止することが出来る。   Although not shown, in the antireflection article 1 of the present invention as shown in FIG. 1 etc., the microprojections 5, 5 A, 5 B,... The protective film may be peeled and removed at an appropriate time after carrying, carrying, buying and selling, post-processing or construction. In such a form, it is possible to prevent the antireflection performance from being deteriorated due to damage or contamination of the microprojection group during storage, transportation and the like.

また上述の実施形態では、画像表示パネルの表側面、或いは照明光の入射面にフィルム形状による反射防止物品を配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、種々の用途に適用することができる。具体的には、画像表示パネルの画面上に間隙を介して設置されるタッチパネル、各種の窓材、各種光学フィルタ等による表面側部材の裏面(画像表示パネル側)に配置する用途に適用することができる。なおこの場合には、画像表示パネルと表面側部材との間の光の干渉によるニュートンリング等の干渉縞の発生の防止、画像表示パネルの出光面と表面側部材の入光面側との間の多重反射によるゴースト像の防止、さらには画面から出光されてこれら表面側部材に入光する画像光について、反射損失の低減等の効果を奏することができる。   In the above-described embodiment, the case where the antireflection article with the film shape is arranged on the front side surface of the image display panel or the incident surface of the illumination light has been described. However, the present invention is not limited to this and is applied to various applications. be able to. Specifically, it should be applied to applications that are placed on the back surface (image display panel side) of the surface side member such as a touch panel, various window materials, various optical filters, etc. installed on the screen of the image display panel through a gap. Can do. In this case, it is possible to prevent interference fringes such as Newton rings due to light interference between the image display panel and the surface side member, and between the light emission surface of the image display panel and the light incident surface side of the surface side member. Thus, it is possible to prevent ghost images due to multiple reflections, and to achieve effects such as reduction of reflection loss with respect to image light emitted from the screen and entering these surface side members.

或いは、タッチパネルを構成する透明電極を、フィルム或いは板状の透明基材上に本発明特定の微小突起群を形成し、更に該微小突起群上にITO(酸化インジウム錫)等の透明導電膜を形成したものを用いることが出来る。この場合には、該タッチパネル電極とこれと隣接する対向電極又は各種部材との間での光反射を防止して、干渉縞、ゴースト像等の発生を低減させる効果を奏することが出来る。   Alternatively, a transparent electrode constituting the touch panel is formed on a film or plate-like transparent substrate with a group of microprojections specific to the present invention, and a transparent conductive film such as ITO (indium tin oxide) is further formed on the group of microprojections. The formed one can be used. In this case, it is possible to prevent light reflection between the touch panel electrode and the counter electrode or various members adjacent to the touch panel electrode, thereby reducing the occurrence of interference fringes, ghost images, and the like.

また店舗のショウウインドウに使用する硝子板表面(外界側)、或いは表面及び裏面(商品又は展示物側面)の両面に配置するようにしても良い。なおこの場合、該硝子板表面の光反射防止による商品、美術品等の顧客や観客に対する視認性を向上することができる。   Moreover, you may make it arrange | position on both surfaces of the glass plate surface (external side) used for a show window of a store, or the surface and the back surface (product or exhibition side). In this case, it is possible to improve the visibility for customers and spectators of products, artworks, etc. by preventing light reflection on the surface of the glass plate.

また眼鏡、望遠鏡、写真機、ビデオカメラ、銃砲の照準鏡(狙撃用スコープ)、双眼鏡、潜望鏡等の各種光学機器に用いるレンズ又はプリズムの表面に配置する場合にも広く適用することができる。この場合、レンズ又はプリズム表面の光反射防止による視認性を向上することができる。またさらに書籍の印刷部(文字、写真、図等)表面に配置する場合にも適用して、文字等の表面の光反射を防止し、文字等の視認性を向上することができる。また看板、ポスター、其の他各種店頭、街頭、外壁等における各種表示(道案内、地図、或いは禁煙、入口、非常口、立入禁止等)の表面に配置して、これらの視認性を向上することができる。またさらに白熱電球、発光ダイオード、螢光燈、水銀燈、EL(電場発光)等を用いた照明器具の窓材(場合によっては、拡散板、集光レンズ、光学フィルタ等も兼ねる)の入光面側に配置するようにして、窓材入光面の光反射を防止し、光源光の反射損失を低減し、光の利用効率を向上することができる。またさらに時計、其の他各種計測機器の表示窓表面(表示観察者側)に配置して、これら表示窓表面の光反射を防止し、視認性を向上することができる。   Further, the present invention can be widely applied to the case where the lens or prism is used on various optical devices such as glasses, a telescope, a camera, a video camera, a gun sighting mirror (sniper scope), binoculars, a periscope, and the like. In this case, the visibility by preventing light reflection on the lens or prism surface can be improved. Furthermore, the present invention can also be applied to the case where the book is placed on the surface of a printed portion (characters, photos, drawings, etc.), and can prevent light reflection on the surface of the characters and improve the visibility of the characters. In addition, it should be placed on the surface of signs (posters, posters, various other stores, streets, exterior walls, etc.) (road guidance, maps, smoking cessation, entrances, emergency exits, no entry, etc.) to improve visibility. Can do. In addition, a light entrance surface of a window material for a lighting fixture using incandescent bulbs, light emitting diodes, fluorescent lamps, mercury lamps, EL (electroluminescence), etc. (in some cases, it also serves as a diffuser plate, condenser lens, optical filter, etc.) By arranging it on the side, it is possible to prevent light reflection on the light incident surface of the window material, reduce the reflection loss of the light source light, and improve the light utilization efficiency. Furthermore, it can arrange | position on the display window surface (display observer side) of a timepiece and other various measuring devices, the light reflection of these display window surfaces can be prevented, and visibility can be improved.

またさらに、自動車、鉄道車両、船舶、航空機等の乗物の操縦室(運転室、操舵室)の窓の室内側、室外側、あるいはその両側の表面に配置して窓における室内外光を反射防止して、操縦者(運転者、操舵者)の外界視認性を向上することができる。またさらに、防犯等の監視、銃砲の照準、天体観測等に用いる暗視装置のレンズないしは窓材表面に配置して、夜間、暗闇での視認性を向上することができる。   Furthermore, it is placed on the inside, outside, or both sides of the windows of the cockpits (driver's cabs, wheelhouses) of vehicles such as automobiles, railway vehicles, ships, and aircraft to prevent reflection of indoor and outdoor light from the windows. Thus, it is possible to improve the visibility of the outside world of the driver (driver, driver). Furthermore, it can be arranged on the surface of a night vision device lens or window material used for crime prevention monitoring, gun sighting, astronomical observation, etc. to improve visibility at night and in the dark.

またさらに、住宅、店舗、事務所、学校、病院等の建築物の窓、扉、間仕切、壁面等を構成する透明基板(窓硝子等)の表面(室内側、室外側、あいはその両側)の表面に配置して、外界の視認性、あるいは採光効率を向上することができる。またさらに、温室、農業用ビニールハウスの透明シート、ないしは透明板(窓材)の表面に配置して、太陽光の採光効率を向上することができる。さらにまた、太陽電池表面に配置して、太陽光の利用効率(発電効率)を向上することができる。   Furthermore, the surface of the transparent substrate (window glass, etc.) that forms windows, doors, partitions, wall surfaces, etc. of buildings such as houses, stores, offices, schools, hospitals, etc. (inside, outside, or both sides) It is possible to improve the visibility of the outside world or the daylighting efficiency. Furthermore, it can arrange | position on the surface of a greenhouse, the transparent sheet | seat of an agricultural greenhouse, or a transparent board (window material), and can improve the sunlight lighting efficiency. Furthermore, it can arrange | position on the solar cell surface and can improve the utilization efficiency (power generation efficiency) of sunlight.

またさらに、上述の実施形態においては、反射防止を図る電磁波の波長帯域を、専ら、可視光線帯域(の全域又は一部帯域)としたが、本発明はこれに限らず、反射防止を図る電磁波の波長帯域を赤外線、紫外線等の可視光線以外の波長帯域に設定しても良い。その場合は前記の各条件式中において、電磁波の波長帯域の最短波長Λminを、それぞれ、赤外線、紫外線等の波長帯域における反射防止効果を希望する最短波長に設定すれば良い。例えば、最短波長Λminが850nmの赤外線帯域の反射防止を希望する場合は、隣接突起間距離d(乃至は其の最大値dmax)を850nm以下、例えば、d(dmax)=800nmと設計すれば良い。尚、この場合は、可視光線帯域(380〜780nm)に於いては反射防止効果は期待し得ず、專ら波長850nm以上の赤外線に対しての反射防止効果を奏する反射防止物品が得られる。   Furthermore, in the above-described embodiment, the wavelength band of the electromagnetic wave for preventing reflection is exclusively the visible light band (all or part of the visible light band), but the present invention is not limited to this, and the electromagnetic wave for preventing reflection. May be set to a wavelength band other than visible light rays such as infrared rays and ultraviolet rays. In that case, the shortest wavelength Λmin in the wavelength band of the electromagnetic wave may be set to the shortest wavelength in which the antireflection effect in the wavelength band of infrared rays, ultraviolet rays, etc. is desired in each conditional expression. For example, when it is desired to prevent reflection in the infrared band where the shortest wavelength Λmin is 850 nm, the distance d between adjacent protrusions (or its maximum value dmax) may be designed to be 850 nm or less, for example, d (dmax) = 800 nm. . In this case, an antireflection effect cannot be expected in the visible light band (380 to 780 nm), and an antireflection article exhibiting an antireflection effect for infrared rays having a wavelength of 850 nm or more can be obtained.

以上例示の各種実施形態において、硝子板等の透明基板の表面、裏面、或いは表裏両面に本発明のフィルム状の反射防止物品を配置する場合、該透明基板の全面に亙って配置、被覆する以外に、一部分の領域にのみ配置することも出来る。かかる例としては、例えば、1枚の窓硝子について、其の中央部分の正方形領域において、室内側表面にのみフィルム状の反射防止物品を粘着剤で貼着し、その他領域には反射防止物品を貼着し無い場合を挙げることが出来る。透明基板の一部分の領域にのみ反射防止物品を配置する形態の場合は、特別な表示や衝突防止柵等の設置無しでも、該透明基板の存在を視認し易くして、人が該透明基板に衝突、負傷する危険性を低減する効果、及び室内(屋内)の覗き見防止と該透明基板の(該反射防止物品の配置領域における)透視性とが両立出来ると言う効果を奏し得る。   In the various exemplary embodiments described above, when the film-shaped antireflection article of the present invention is disposed on the front surface, back surface, or both front and back surfaces of a transparent substrate such as a glass plate, it is disposed and covered over the entire surface of the transparent substrate. In addition, it can be arranged only in a partial area. As an example of this, for example, for a single window glass, a film-shaped antireflection article is attached to the indoor side surface only with an adhesive in a square area at the center, and an antireflection article is provided in the other areas. The case where it does not stick can be mentioned. In the case where the antireflection article is arranged only in a partial area of the transparent substrate, it is easy to visually recognize the presence of the transparent substrate without special display or a collision prevention fence, etc. The effect of reducing the risk of collision and injury, and the effect that both the prevention of peeping indoors (indoors) and the transparency of the transparent substrate (in the region where the antireflection article is disposed) can be achieved.

1 反射防止物品
2 基材
4 紫外線硬化性樹脂層、受容層
5、5A、5B 微小突起
6 凹凸面
10 製造工程
12 ダイ
13 ロール版
13a 母材
13b 密着層
13c 賦型層
14、15 ローラ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Antireflection article 2 Base material 4 Ultraviolet curable resin layer, receiving layer 5, 5A, 5B Microprotrusion 6 Uneven surface 10 Manufacturing process 12 Die 13 Roll plate 13a Base material 13b Adhesive layer 13c Molding layer 14, 15 Roller

Claims (9)

微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品の前記微小突起を賦型する賦型用金型の修正方法であって、
前記賦型用金型は、前記反射防止物品の表面に前記微小突起を賦型する微細な凹凸形状が形成された賦型層を備え、
当該賦型用金型の修正方法は、
前記賦型層の表面に付着した異物を検出する異物検出工程と、
前記異物検出工程によって検出された前記異物をレーザ光の照射により除去する異物除去工程とを備えること、
を特徴とする賦型用金型の修正方法。
Modification of the molding die for molding the microprojections of the antireflection article in which the microprojections are closely arranged and the interval between the adjacent microprojections is equal to or less than the shortest wavelength of the wavelength band of the electromagnetic wave for preventing reflection A method,
The mold for molding includes a molding layer in which a fine concavo-convex shape for molding the microprotrusions is formed on the surface of the antireflection article,
The method for modifying the mold for molding is as follows:
A foreign matter detection step of detecting foreign matter attached to the surface of the shaping layer;
A foreign matter removing step of removing the foreign matter detected by the foreign matter detecting step by irradiating a laser beam,
A method for correcting a molding die characterized by the above.
前記異物除去工程は、波長が532nm又は1064nmのレーザ光によって、前記異物を除去すること、
を特徴とする請求項1に記載の賦型用金型の修正方法。
The foreign matter removing step removes the foreign matter with a laser beam having a wavelength of 532 nm or 1064 nm;
The method for correcting a molding die according to claim 1.
前記異物除去工程は、前記異物の大部分を除去する第1除去工程と、前記第1除去工程で除去しきれなかった前記異物を除去する第2除去工程とを備えること、
を特徴とする請求項1又は請求項2に記載の賦型用金型の修正方法。
The foreign matter removing step includes a first removing step that removes most of the foreign matter, and a second removing step that removes the foreign matter that could not be removed in the first removing step.
The method for correcting a molding die according to claim 1 or 2, characterized in that:
前記第2除去工程は、レーザ光の出力が、前記第1除去工程におけるレーザ光の出力よりも小さいこと、
を特徴とする請求項3に記載の賦型用金型の修正方法。
In the second removal step, the output of the laser beam is smaller than the output of the laser beam in the first removal step.
The method for correcting a molding die according to claim 3.
前記第2除去工程は、レーザ光の照射範囲が、前記第1除去工程におけるレーザ光の照射範囲よりも狭いこと、
を特徴とする請求項3又は請求項4に記載の賦型用金型の修正方法。
In the second removal step, the laser light irradiation range is narrower than the laser light irradiation range in the first removal step;
The method for correcting a mold for molding according to claim 3 or 4, wherein:
請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載の賦型用金型の修正方法によって修正された賦型用金型であって、
前記賦型層の微細な凹凸形状は、前記修正方法によって修正された部位の頂部が、他の周辺部位に比べて低くなること、
を特徴とする賦型用金型。
A mold for molding modified by the method for modifying a mold for molding according to any one of claims 1 to 5,
The fine uneven shape of the shaping layer is such that the top of the part corrected by the correction method is lower than other peripheral parts,
Molding mold characterized by.
請求項6に記載の賦型用金型により形成された反射防止物品であって、
前記微小突起の基部は、前記賦型層の修正された部位に対応する部位が、他の周辺部位に比べ高くなること、
を特徴とする反射防止物品。
An antireflective article formed by the mold for molding according to claim 6,
The base of the microprojection is such that the part corresponding to the modified part of the shaping layer is higher than other peripheral parts,
An antireflection article characterized by
請求項7に記載の反射防止物品を画像表示パネルに備える画像表示装置。   An image display device comprising the antireflection article according to claim 7 on an image display panel. 展示物を収納して、前記展示物の展示に供するショーケースにおいて、
請求項7に記載の反射防止物品が設けられたショーケース。
In a showcase that houses exhibits and serves for the exhibition,
A showcase provided with the antireflection article according to claim 7.
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