[go: up one dir, main page]

JP2014095731A - Optical film, polarizing plate and liquid crystal display device - Google Patents

Optical film, polarizing plate and liquid crystal display device Download PDF

Info

Publication number
JP2014095731A
JP2014095731A JP2012234185A JP2012234185A JP2014095731A JP 2014095731 A JP2014095731 A JP 2014095731A JP 2012234185 A JP2012234185 A JP 2012234185A JP 2012234185 A JP2012234185 A JP 2012234185A JP 2014095731 A JP2014095731 A JP 2014095731A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
hard coat
coat layer
film
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2012234185A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2014095731A5 (en
Inventor
Miho Asahi
美帆 朝日
Kenichi Fukuda
謙一 福田
Daiki Wakizaka
大樹 脇阪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2012234185A priority Critical patent/JP2014095731A/en
Publication of JP2014095731A publication Critical patent/JP2014095731A/en
Publication of JP2014095731A5 publication Critical patent/JP2014095731A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

【課題】アクリル樹脂からなる熱可塑性基材上にハードコート層を形成した光学フィルムにおいて、透湿性が低く、高湿環境に晒した後でも画像の表示ムラが起こり難く、表面硬度が高い光学フィルムを提供すること。
【解決手段】アクリル樹脂からなる熱可塑性基材上に、ハードコート層形成用塗布組成物から形成されたハードコート層を有する光学フィルムであって、該熱可塑性基材と該ハードコート層との間に、ハードコート層形成用組成物に含まれるバインダーと基材のアクリル樹脂とを含む浸透層を形成する。
【選択図】なし
An optical film in which a hard coat layer is formed on a thermoplastic substrate made of an acrylic resin has low moisture permeability, hardly causes image unevenness even after exposure to a high humidity environment, and has a high surface hardness. To provide.
An optical film having a hard coat layer formed from a coating composition for forming a hard coat layer on a thermoplastic substrate made of an acrylic resin, comprising: the thermoplastic substrate and the hard coat layer; In the meantime, a permeation layer containing the binder contained in the hard coat layer forming composition and the acrylic resin of the base material is formed.
[Selection figure] None

Description

本発明は、光学フィルム、偏光板ならびに液晶表示装置に関する。   The present invention relates to an optical film, a polarizing plate, and a liquid crystal display device.

近年、液晶表示装置は、液晶テレビや、パソコン、携帯電話、デジタルカメラなどの液晶パネル等の用途で広く用いられている。通常、液晶表示装置は、液晶セルの両側に偏光板を設けた液晶パネル部材を有し、バックライト部材からの光を液晶パネル部材で制御することにより表示が行われている。ここで、偏光板は偏光子とその両側の保護フィルムとからなり、一般的な偏光子は延伸されたポリビニルアルコール(PVA)系フィルムをヨウ素又は二色性色素で染色することにより得られ、保護フィルムとしてはセルロールエステルフィルムなどが用いられている。   In recent years, liquid crystal display devices have been widely used for liquid crystal panels such as liquid crystal televisions, personal computers, mobile phones, and digital cameras. Usually, a liquid crystal display device has a liquid crystal panel member provided with polarizing plates on both sides of a liquid crystal cell, and display is performed by controlling light from the backlight member with the liquid crystal panel member. Here, the polarizing plate is composed of a polarizer and protective films on both sides thereof, and a general polarizer is obtained by dyeing a stretched polyvinyl alcohol (PVA) film with iodine or a dichroic dye to protect it. A cellulose ester film or the like is used as the film.

最近の液晶表示装置は、高品質化とともに、用途も多様化し、耐久性への要求が厳しくなってきている。例えば、屋外用途での使用においては環境変化に対する安定性が求められ、液晶表示装置に用いられる上記の偏光板用保護フィルムや光学補償フィルムなどの光学フィルムについても温度や湿度変化に対する寸法や光学特性の変化を抑えることが求められる。高温高湿の環境下に晒される液晶表示装置の問題としては、液晶表示装置の液晶セルの反りや表示ムラの発生があるが、これは偏光板およびそれを構成する光学フィルムが吸湿、放湿する際に、液晶表示装置の液晶セルの前面および背面の偏光板の収縮のバランスに差が生じて液晶セルが反り、液晶セルの四隅や四辺が筐体や背面側の部材と接触して表示ムラが生じることが原因と考えられている。このため、偏光板の保護フィルムや光学補償フィルムなどに対しては、湿度依存性や湿熱耐久性の改善が求められてきたが、抜本的な改良のためには、偏光板の最表面の光学フィルムには、水分を通しにくい性能、すなわち低透湿性が求められる。
例えば、特許文献1には、セルロースエステルにポリメチルメタクリレート(PMMA)などのアクリル樹脂を多量添加した光学フィルムが開示されている。
Recent liquid crystal display devices are becoming more and more demanding, and the demands for durability are becoming stricter as the quality of the liquid crystal display devices increases. For example, when used in outdoor applications, stability against environmental changes is required, and optical films such as the above-described polarizing plate protective film and optical compensation film used in liquid crystal display devices also have dimensions and optical characteristics with respect to temperature and humidity changes. It is required to suppress changes in Problems with liquid crystal display devices exposed to high temperature and high humidity include the occurrence of warpage and display unevenness in the liquid crystal cell of the liquid crystal display device. This is because the polarizing plate and the optical film that composes it absorb and absorb moisture. When this occurs, the balance between the shrinkage of the polarizing plates on the front and back of the liquid crystal cell of the liquid crystal display device causes a difference in the warpage of the liquid crystal cell, and the four corners and four sides of the liquid crystal cell come into contact with the casing and the back side members The cause is considered to be unevenness. For this reason, improvements in humidity dependency and wet heat durability have been sought for protective films and optical compensation films for polarizing plates. The film is required to have a performance that prevents moisture from passing through, that is, low moisture permeability.
For example, Patent Document 1 discloses an optical film obtained by adding a large amount of acrylic resin such as polymethyl methacrylate (PMMA) to cellulose ester.

偏光板を液晶セルの全面に用いる場合には、画面の最外側に配されるため、表示面への傷付きや埃等の付着による汚れの防止が求められる。傷付きに対して、従来は、表面にガラスやプラスチックからなるカバープレートを装着し、液晶セル表面に貼付している偏光板への傷付き防止を図ってきた。しかし、カバープレートを設けることは、コスト、厚さの面で不利であるため、偏光板表面にハードコート処理を行うことが検討されている(特許文献2、3)。   In the case where the polarizing plate is used on the entire surface of the liquid crystal cell, it is disposed on the outermost side of the screen, so that it is required to prevent the display surface from being scratched or contaminated with dust or the like. Conventionally, a cover plate made of glass or plastic has been attached to the surface to prevent damage, and the polarizing plate attached to the surface of the liquid crystal cell has been prevented from being damaged. However, providing the cover plate is disadvantageous in terms of cost and thickness, and therefore, it has been studied to perform a hard coat treatment on the polarizing plate surface (Patent Documents 2 and 3).

また、埃等の付着による汚れを防止するためには、光学フィルムに帯電防止性を付与することが知られている。例えば、帯電防止性とハードコート性とを有する光学フィルムを得るために、透明基材上に、帯電防止剤である導電性を有する化合物(例えば導電性ポリマー)と、バインダーとなる重合性基を有する化合物と、溶媒とを含有する塗布組成物を用いて帯電防止性ハードコート層を形成することが知られている(特許文献4)。ところが、低透湿性、ハードコート性、帯電防止性をすべて満足する技術については、未だ検討がなされてこなかった。さらに、導電性ポリマーなどの素材は価格が高いため、安価に帯電防止性を付与するためには、少量の導電性ポリマーで、より高い帯電防止性を発現させることが求められる。   It is also known to impart antistatic properties to an optical film in order to prevent contamination due to adhesion of dust or the like. For example, in order to obtain an optical film having antistatic properties and hard coat properties, a conductive compound as an antistatic agent (for example, a conductive polymer) and a polymerizable group serving as a binder are formed on a transparent substrate. It is known to form an antistatic hard coat layer using a coating composition containing a compound having a solvent and a solvent (Patent Document 4). However, a technique that satisfies all of the low moisture permeability, hard coat properties, and antistatic properties has not yet been studied. Furthermore, since materials such as conductive polymers are expensive, in order to impart antistatic properties at low cost, it is required to develop higher antistatic properties with a small amount of conductive polymers.

国際公開第2009/047924号公報International Publication No. 2009/047924 特開2008−247938公報JP 2008-247938 A 特開2009−185258公報JP 2009-185258 A 特許第4600605号公報Japanese Patent No. 46006065

本発明の目的は、低透湿性、ハードコート性を両立することである。更には、これらの性能に加え帯電防止性すべてを満足する光学フィルムを安価に提供することである。
本発明の別の目的は、該光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板、及び該光学フィルム又は偏光板を有する画像表示装置を提供することである。
The object of the present invention is to achieve both low moisture permeability and hard coat properties. Furthermore, it is to provide an optical film satisfying all of the antistatic properties in addition to these performances at a low cost.
Another object of the present invention is to provide a polarizing plate using the optical film as a protective film for a polarizing plate, and an image display device having the optical film or the polarizing plate.

本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討し、前記課題を解決し得ることを見出した。即ち、透湿性が低いアクリル樹脂からなる基材にハードコート層を形成する際に、バインダーと導電性ポリマーを含むハードコート層形成用塗布組成物を基材に塗布したあと、モノマーの一部のみを選択的に基材に浸透した浸透層を形成することである。ハードコート層中では導電性ポリマーを濃縮することが出来、少ない量で優れた帯電防止性を付与することができることを見出し、本発明に至った。
さらには、上記の課題を解消すべく鋭意検討する中で、導電性ポリマー以外のポリマー成分であっても浸透層を形成することにより優れた効果が得られることがわかった。即ち、ハードコート層には脆性、硬度などの膜の改質を目的として種々のポリマー成分を添加することがあるが、上記の導電性ポリマーの場合と同様に、ハードコート層形成用塗布組成物を塗布した後、モノマーの一部のみを選択的に浸透させると、ハードコート内で機能性のポリマー成分が濃縮されるため、効果的に機能を発現させられることがわかった。
本発明が解決しようとする課題は、下記の手段である本発明により解決することができる。
The present inventors have intensively studied to solve the above problems and found that the problems can be solved. That is, when a hard coat layer is formed on a substrate made of an acrylic resin having low moisture permeability, after applying a hard coat layer forming coating composition containing a binder and a conductive polymer to the substrate, only a part of the monomer Is to form a permeation layer that permeates the base material selectively. The present inventors have found that the conductive polymer can be concentrated in the hard coat layer, and that excellent antistatic properties can be imparted with a small amount, leading to the present invention.
Furthermore, in earnest study to solve the above problems, it has been found that excellent effects can be obtained by forming a permeation layer even for polymer components other than the conductive polymer. That is, various polymer components may be added to the hard coat layer for the purpose of modifying the film such as brittleness and hardness. As in the case of the conductive polymer, a coating composition for forming a hard coat layer may be used. It was found that when only a part of the monomer is selectively infiltrated after coating, the functional polymer component is concentrated in the hard coat, so that the function can be effectively expressed.
The problem to be solved by the present invention can be solved by the present invention which is the following means.

[1] アクリル樹脂からなる熱可塑性基材上に、ハードコート層を有する光学フィルムであって、該熱可塑性基材と該ハードコート層との間に、ハードコート層形成用組成物に含まれるバインダーと基材のアクリル樹脂とを含む浸透層が設けられたことを特徴とする光学フィルム。
[2] 上記ハードコート層の膜厚が1μm以上であり、且つ、ハードコート層と浸透層の膜厚の合計に対するハードコート層の膜厚が、10%以上90%以下であることを特徴とする[1]に記載の光学フィルム。
[3] 上記ハードコート層を形成するためのハードコート層形成用組成物が、(a)ポリマー成分を含んでいることを特徴とする[1]または[2]に記載の光学フィルム。
[4] 上記(a)ポリマー成分が、導電性ポリマーであることを特徴とする[1]〜[3]のいずれかに記載の光学フィルム。
[5] 上記ハードコート層形成用組成物は、さらに(b)同一分子内に2個以上の不飽和二重結合を有するモノマー、(c)光重合開始剤、(d)有機溶剤を含有することを特徴とする[1]〜[4]のいずれかに記載の光学フィルム。
[6] 上記(b)同一分子内に2個以上の重合性基を有するモノマーのSP値が17〜30であることを特徴とする[1]〜[5]のいずれかに記載の光学フィルム。
[7] 上記熱可塑性基材のアクリル樹脂が、下記式(101)で表されるラクトン環単位、
[1] An optical film having a hard coat layer on a thermoplastic substrate made of an acrylic resin, and is included in the composition for forming a hard coat layer between the thermoplastic substrate and the hard coat layer. An optical film provided with a permeation layer containing a binder and an acrylic resin as a base material.
[2] The film thickness of the hard coat layer is 1 μm or more, and the film thickness of the hard coat layer with respect to the total film thickness of the hard coat layer and the permeation layer is 10% or more and 90% or less. The optical film according to [1].
[3] The optical film as described in [1] or [2], wherein the composition for forming a hard coat layer for forming the hard coat layer contains (a) a polymer component.
[4] The optical film as described in any one of [1] to [3], wherein the polymer component (a) is a conductive polymer.
[5] The hard coat layer forming composition further contains (b) a monomer having two or more unsaturated double bonds in the same molecule, (c) a photopolymerization initiator, and (d) an organic solvent. The optical film according to any one of [1] to [4], wherein
[6] The optical film as described in any one of [1] to [5], wherein the monomer (b) having two or more polymerizable groups in the same molecule (b) has an SP value of 17 to 30. .
[7] The thermoplastic resin acrylic resin is a lactone ring unit represented by the following formula (101),

Figure 2014095731
Figure 2014095731

(式中、R111、R112、R113は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜20の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。)
または、下記式(102)で表されるグルタル酸無水物単位構造
(Wherein R 111 , R 112 and R 113 each independently represents a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms. The organic residue may contain an oxygen atom.)
Or a glutaric anhydride unit structure represented by the following formula (102)

Figure 2014095731
Figure 2014095731

(式中、R31、R32は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜20の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。)
を含むことを特徴とする[1]〜[6]のいずれかに記載の光学フィルム。
[8]
偏光子と、該偏光子の保護フィルムとして[1]〜[7]のいずれかに記載の光学フィルムとを少なくとも1枚含むことを特徴とする偏光板。
[9]
液晶セルと、該液晶セルの少なくとも一方に配置された[8]に記載の偏光板とを含み、前記光学フィルムが最表層となるように配置されたことを特徴とする液晶表示装置。
[10]
アクリル樹脂からなる熱可塑性基材上に、ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法であって、前記熱可塑性基材上にハードコート層形成用組成物を塗布することにより、該熱可塑性基材と該ハードコート層との間に、ハードコート層形成用組成物に含まれるバインダーと基材のアクリル樹脂とを含む浸透層形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
(In the formula, R 31 and R 32 each independently represent a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms. The organic residue may contain an oxygen atom.)
The optical film as described in any one of [1] to [6], comprising:
[8]
A polarizing plate comprising a polarizer and at least one optical film according to any one of [1] to [7] as a protective film for the polarizer.
[9]
A liquid crystal display device comprising: a liquid crystal cell; and the polarizing plate according to [8] disposed in at least one of the liquid crystal cells, wherein the optical film is disposed as an outermost layer.
[10]
A method for producing an optical film having a hard coat layer on a thermoplastic substrate made of an acrylic resin, wherein the thermoplastic substrate is formed by applying a composition for forming a hard coat layer on the thermoplastic substrate. A penetrating layer containing a binder contained in the composition for forming a hard coat layer and a base acrylic resin is formed between the hard coat layer and the hard coat layer.

本発明によれば、アクリル樹脂からなる熱可塑性基材上にハードコート層を形成した光学フィルムにおいて、低透湿性が高く、高湿環境に晒した後でも画像の表示ムラが起こり難く、表面硬度と帯電防止性に優れる光学フィルムを提供することができる。本発明の光学フィルムを用いることで、高温高湿環境経時後の黒表示ムラ発生が抑えられた液晶表示装置を提供することができる。   According to the present invention, in an optical film in which a hard coat layer is formed on a thermoplastic substrate made of an acrylic resin, low moisture permeability is high, and even when exposed to a high humidity environment, image display unevenness hardly occurs, and surface hardness. And an optical film excellent in antistatic properties can be provided. By using the optical film of the present invention, it is possible to provide a liquid crystal display device in which the occurrence of black display unevenness after a high temperature and high humidity environment has been suppressed.

以下において、本発明の光学フィルムや偏光板、その製造方法、それに用いる添加剤などについて詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
「アクリル樹脂」とはメタクリル酸又はアクリル酸の誘導体を重合して得られる樹脂、及びその誘導体を含有する樹脂を意味するものとする。また、特に限定しない場合には、「(メタ)アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートを表し、「(メタ)アクリル」はアクリル及びメタクリルを表す。
Below, the optical film of this invention, a polarizing plate, its manufacturing method, the additive used for it, etc. are demonstrated in detail.
The description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments. In the present specification, a numerical range represented by using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
“Acrylic resin” means a resin obtained by polymerizing methacrylic acid or a derivative of acrylic acid, and a resin containing the derivative. Further, when not particularly limited, “(meth) acrylate” represents acrylate and methacrylate, and “(meth) acryl” represents acryl and methacryl.

<光学フィルム>
以下、本発明の光学フィルムについて説明する。
<Optical film>
Hereinafter, the optical film of the present invention will be described.

本発明の光学フィルムは、アクリル樹脂からなる熱可塑性基材上に、ハードコート層を有する光学フィルムであって、該熱可塑性基材と該ハードコート層との間に、ハードコート層形成用組成物に含まれるバインダーと基材のアクリル樹脂とを含む浸透層が形成されていることを特徴とする。前記ハードコート層及び浸透層は、基材にハードコート層形成用塗布組成物を塗布することで形成することができる。   The optical film of the present invention is an optical film having a hard coat layer on a thermoplastic substrate made of an acrylic resin, and a composition for forming a hard coat layer between the thermoplastic substrate and the hard coat layer. The penetration layer containing the binder contained in the product and the acrylic resin of the base material is formed. The hard coat layer and the osmotic layer can be formed by applying a coating composition for forming a hard coat layer on a substrate.

{ハードコート層形成用塗布組成物}
(a)ポリマー成分、(b)同一分子内に2個以上の不飽和二重結合を有するモノマー、(c)光重合開始剤、(d)有機溶剤を含んでいることが好ましい。(a)ポリマー成分とアクリル樹脂からなる熱可塑性基材との相溶性が乏しいことにより、(b)同一分子内に2個以上の不飽和二重結合を有するモノマーのみが選択的に基材に浸入して浸透層を形成させることができる。
{Coating composition for forming hard coat layer}
It preferably contains (a) a polymer component, (b) a monomer having two or more unsaturated double bonds in the same molecule, (c) a photopolymerization initiator, and (d) an organic solvent. (A) Due to poor compatibility between the polymer component and the thermoplastic base material made of acrylic resin, (b) only the monomer having two or more unsaturated double bonds in the same molecule is selectively used as the base material. It can penetrate to form a permeation layer.

(a)ポリマー成分
本発明のハードコート層形成用組成物に含有されるポリマー成分について説明する。ポリマー成分は、様々な機能を持たせるために添加されるが、例えば、ハードコート層形成用塗布組成物の粘度、表面張力などの液物性の調整、ハードコート層の脆性や硬度等の膜の改質、反射率等の見た目の変更、帯電防止性の付与などが挙げられる。特に、帯電防止性の付与を目的として、ポリマー成分として導電性ポリマーが好適に用いられる。導電性ポリマーは、イオン伝導性化合物と電子伝導性化合物とに大別でき、それぞれ以下に説明する。
(A) Polymer component The polymer component contained in the composition for forming a hard coat layer of the present invention will be described. The polymer component is added to give various functions. For example, adjustment of liquid physical properties such as viscosity and surface tension of the coating composition for forming a hard coat layer, and brittleness and hardness of the hard coat layer are required. Examples thereof include modification, change in appearance such as reflectance, and imparting antistatic properties. In particular, for the purpose of imparting antistatic properties, a conductive polymer is preferably used as the polymer component. Conductive polymers can be broadly classified into ion conductive compounds and electron conductive compounds, which will be described below.

(イオン伝導性化合物)
イオン伝導性化合物は、親水性が高く、後述するアクリル樹脂からなる熱可塑性基材との相溶性が著しく低い。この特性を利用して、基材にハードコート層形成用塗布組成物を塗布した際に、後述する不飽和二重結合を有する化合物のみを選択的に基材に浸入させ、ハードコート層内においてイオン伝導性ポリマーを濃縮し、帯電防止性を高めることが出来る。このような効果は、後述する電子伝導性化合物でも同様な効果が得られるものと考えられるが、イオン伝導性化合物の方が極性がより大きいために、基材との不相溶の効果がより大きく得られる可能性がある。
本発明に用いられる(a)イオン伝導性化合物としては、カチオン性、アニオン性、両性等のイオン導電性化合物が挙げられる。
これらの中では、本発明の効果が得られ易いカチオン性、ノニオン性の化合物が好ましく、特に化合物の帯電防止性能が高い観点から4級アンモニウム塩基を有する化合物(カチオン性化合物)が好適である。
(Ion conductive compound)
The ion conductive compound has high hydrophilicity and extremely low compatibility with a thermoplastic base material made of an acrylic resin described later. Utilizing this property, when the hard coat layer forming coating composition is applied to the substrate, only the compound having an unsaturated double bond described later is allowed to enter the substrate selectively, It is possible to concentrate the ion conductive polymer and improve the antistatic property. Such an effect is considered to be obtained by the electron conductive compound described later, but since the ion conductive compound is more polar, the effect of incompatibility with the base material is more. There is a possibility that it can be obtained greatly.
Examples of the (a) ion conductive compound used in the present invention include cationic, anionic and amphoteric ion conductive compounds.
Among these, cationic and nonionic compounds that can easily obtain the effects of the present invention are preferable, and a compound having a quaternary ammonium base (cationic compound) is particularly preferable from the viewpoint of high antistatic performance of the compound.

4級アンモニウム塩基を有する化合物としては、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型カチオン系帯電防止剤がより好ましく用いられる。
高分子型の4級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができるが、イオン伝導性が高い観点から、4級アンモニウム塩基含有ポリマーであることが好ましく、下記一般式(I)〜(III)で現される構造単位の少なくとも1つの単位を有するポリマーが好ましい。
As the compound having a quaternary ammonium base, a polymer cationic antistatic agent is more preferably used because there is no fluctuation in antistatic properties due to bleeding out or the like.
As the cationic compound having a polymer type quaternary ammonium base, it can be appropriately selected from known compounds, but is preferably a quaternary ammonium base-containing polymer from the viewpoint of high ion conductivity. A polymer having at least one unit of structural units represented by the following general formulas (I) to (III) is preferable.

Figure 2014095731
Figure 2014095731

一般式(I)中、Rは水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−CHCOOを表す。Yは水素原子又は−COOを表す。Mはプロトン又はカチオンを表す。Lは−CONH−、−COO−、−CO−又は−O−を表す。Jはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基を表す。Qは下記群Aから選ばれる基を表す。 In the general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom or -CH 2 COO - represents an M +. Y represents a hydrogen atom or -COO - M + . M + represents a proton or a cation. L represents -CONH-, -COO-, -CO- or -O-. J represents an alkylene group, an arylene group, or a group formed by combining these. Q represents a group selected from the following group A.

Figure 2014095731
Figure 2014095731

式中、R、R’及びR’’は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Jはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基を表す。Xはアニオンを表す。p及びqは、それぞれ独立に、0又は1を表す。 In the formula, R 2 , R 2 ′ and R 2 ″ each independently represents an alkyl group. J represents an alkylene group, an arylene group, or a group formed by combining these. X represents an anion. p and q each independently represents 0 or 1.

Figure 2014095731
Figure 2014095731

Figure 2014095731
Figure 2014095731

一般式(II)、(III)中、R、R、R及びRは、それぞれ独立に、アルキル基を表し、RとR及びRとRはそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。
A、B及びDは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−RCOR−、−RCOOR10OCOR11−、−R12OCR13COOR14−、−R15−(OR16−、−R17CONHR18NHCOR19−、−R20OCONHR21NHCOR22−又は―R23NHCONHR24NHCONHR25−を表す。Eは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−RCOR−、−RCOOR10OCOR11−、−R12OCR13COOR14−、−R15−(OR16−、−R17CONHR18NHCOR19−、−R20OCONHR21NHCOR22−又は―R23NHCONHR24NHCONHR25−又は−NHCOR26CONH−を表す。R、R、R、R11、R12、R14、R15、R16、R17、R19、R20、R22、R23、R25及びR26はアルキレン基を表す。R10、R13、R18、R21及びR24は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。mは1〜4の正の整数を表す。Xはアニオンを表す。
、Zは−N=C−基とともに5員又は6員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡N[X]−なる4級塩の形でEに連結してもよい。
nは5〜300の整数を表す。
In the general formulas (II) and (III), R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represent an alkyl group, and R 3 and R 4 and R 5 and R 6 are bonded to each other. A nitrogen-containing heterocycle may be formed.
A, B and D are each independently an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, an arylenealkylene group, -R 7 COR 8 -, - R 9 COOR 10 OCOR 11 -, - R 12 OCR 13 COOR 14 -, - R 15 - (oR 16) m -, - R 17 CONHR 18 NHCOR 19 -, - R 20 OCONHR 21 NHCOR 22 - or -R 23 NHCONHR 24 NHCONHR 25 - represents a. E represents a single bond, an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, an arylene alkylene group, —R 7 COR 8 —, —R 9 COOR 10 OCOR 11 —, —R 12 OCR 13 COOR 14 —, —R 15 — (OR 16 ) m -, - R 17 CONHR 18 NHCOR 19 -, - R 20 OCONHR 21 NHCOR 22 - or -R 23 NHCONHR 24 NHCONHR 25 - or an -NHCOR 26 CONH-. R 7 , R 8 , R 9 , R 11 , R 12 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 19 , R 20 , R 22 , R 23 , R 25 and R 26 represent an alkylene group. R 10 , R 13 , R 18 , R 21 and R 24 each independently represent a linking group selected from an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, an arylene alkylene group and an alkylene arylene group. m represents a positive integer of 1 to 4. X represents an anion.
Z 1 and Z 2 represent a group of nonmetallic atoms necessary to form a 5-membered or 6-membered ring together with —N═C— group, and are represented by E in the form of a quaternary salt of ≡N + [X ] —. You may connect.
n represents an integer of 5 to 300.

一般式(I)〜(III)の基について説明する。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
アルキル基は、炭素数1〜4の分岐又は直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。
アルキレン基は、炭素数1〜12のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基がより好ましく、エチレン基が特に好ましい。
アリーレン基は、炭素数6〜15のアリーレン基が好ましく、フェニレン、ジフェニレン、フェニルメチレン基、フェニルジメチレン基、ナフチレン基がより好ましく、フェニルメチレン基が特に好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
アルケニレン基は、炭素数2〜10のアルキレン基が好ましく、アリーレンアルキレン基は、炭素数6〜12のアリーレンアルキレン基が好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
各基に置換してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
The groups of general formulas (I) to (III) will be described.
Examples of the halogen atom include a chlorine atom and a bromine atom, and a chlorine atom is preferable.
The alkyl group is preferably a branched or straight chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably a methyl group, an ethyl group, or a propyl group.
The alkylene group is preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably a methylene group, an ethylene group or a propylene group, and particularly preferably an ethylene group.
The arylene group is preferably an arylene group having 6 to 15 carbon atoms, more preferably phenylene, diphenylene, phenylmethylene group, phenyldimethylene group, or naphthylene group, and particularly preferably phenylmethylene group. These groups have a substituent. It may be.
The alkenylene group is preferably an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and the arylene alkylene group is preferably an arylene alkylene group having 6 to 12 carbon atoms, and these groups may have a substituent.
Examples of the substituent that may be substituted for each group include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group.

一般式(I)において、Rは水素原子が好ましい。
Yは、好ましくは水素原子である。
Jは、好ましくはフェニルメチレン基である。
Qは、好ましくは群Aから選ばれる下記一般式(VI)であり、R、R’及びR’’は各々メチル基である。
は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
p及びqは、好ましくは0又は1であり、より好ましくはp=0、q=1である。
In general formula (I), R 1 is preferably a hydrogen atom.
Y is preferably a hydrogen atom.
J is preferably a phenylmethylene group.
Q is preferably the following general formula (VI) selected from group A, and R 2 , R 2 ′ and R 2 ″ are each a methyl group.
X includes a halogen ion, a sulfonate anion, a carboxylate anion and the like, preferably a halogen ion, and more preferably a chlorine ion.
p and q are preferably 0 or 1, more preferably p = 0 and q = 1.

Figure 2014095731
Figure 2014095731

一般式(II)及び(III)において、R、R、R及びRは、好ましくは炭素数1〜4の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
A、B及びDは、好ましくはそれぞれ独立に、炭素数2〜10の置換又は無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表し、好ましくはフェニルジメチレン基である。
は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
Eは、好ましくはEは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表す。
、Zが、−N=C−基とともに形成する5員又は6員環としては、ジアゾニアビシクロオクタン環等を例示することができる。
In general formulas (II) and (III), R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group. A methyl group is particularly preferred.
A, B and D preferably each independently represent a substituted or unsubstituted alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, an arylene group, an alkenylene group or an arylene alkylene group, preferably a phenyldimethylene group.
X includes a halogen ion, a sulfonate anion, a carboxylate anion and the like, preferably a halogen ion, and more preferably a chlorine ion.
E is preferably E represents a single bond, an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group or an arylene alkylene group.
Examples of the 5-membered or 6-membered ring formed by Z 1 and Z 2 together with the —N═C— group include a diazoniabicyclooctane ring.

以下に、一般式(I)〜(III)で表される構造のユニットを有する化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例における添え字(m、x、y、r及び実際の数値)の内、mは各ユニットの繰り返し単位数を表し、x、y、rは各々のユニットのモル比を表す。   Specific examples of the compound having units having structures represented by the general formulas (I) to (III) are shown below, but the present invention is not limited thereto. Of the subscripts (m, x, y, r and actual numerical values) in the following specific examples, m represents the number of repeating units of each unit, and x, y, r represents the molar ratio of each unit. .

Figure 2014095731
Figure 2014095731

本発明のイオン伝導性化合物として好適に用いられる4級アンモニウム塩基含有ポリマーは、上記一般式(I)〜(III)で現される構造単位(イオン性構造単位)の他に、これ以外の重合単位を有していて良い。イオン伝導性化合物がイオン性構造単位以外の重合単位を持つことにより、ポリエチレンオキシド化合物との相溶性をさらに高めて優れた導電性を発現することが期待され、さらには、組成物を作成する際に溶媒への溶解性、不飽和二重結合を有する化合物や光重合開始剤との相溶性を高めることができる。   The quaternary ammonium base-containing polymer suitably used as the ion conductive compound of the present invention is a polymer other than the structural units (ionic structural units) represented by the general formulas (I) to (III). May have units. By having polymerized units other than ionic structural units in the ion conductive compound, it is expected that the compatibility with the polyethylene oxide compound will be further enhanced and excellent conductivity will be exhibited. In addition, solubility in a solvent and compatibility with a compound having an unsaturated double bond and a photopolymerization initiator can be enhanced.

イオン性構造単位以外の重合単位として用いることができる単量体の例としては、次の化合物が挙げられる。   The following compounds are mentioned as an example of the monomer which can be used as superposition | polymerization units other than an ionic structural unit.

<アルキレンオキサイド鎖を有する化合物(a−2)>
アルキレンオキサイド鎖を有する化合物(a−2)は、下記一般式(2)で表され、例えば、エチレンオキシドのアルキルアルコールによる開環重合後、(メタ)アクリル酸メチルとのエステル交換反応、もしくは(メタ)アクリル酸クロライドとの反応により得ることができる。
CH=C(R)COO(AO) (2)
(式中、RはHまたはCH、Rは水素または炭素数が1〜22の炭化水素基、nは2〜200の整数、Aは炭素数が2〜4のアルキレン基を表す。)
<Compound (a-2) having an alkylene oxide chain>
The compound (a-2) having an alkylene oxide chain is represented by the following general formula (2). For example, after ring-opening polymerization of ethylene oxide with an alkyl alcohol, transesterification with methyl (meth) acrylate, or (meta ) It can be obtained by reaction with acrylic acid chloride.
CH 2 = C (R 5) COO (AO) n R 6 (2)
(In the formula, R 5 represents H or CH 3 , R 6 represents hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, n represents an integer of 2 to 200, and A represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms. )

前記一般式(2)において、アルキレンオキサイド基(AO)は、炭素数2〜4のアルキレンオキサイド基であり、例えば、エチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基、ブチレンオキサイド基が挙げられる。また、同一モノマー内に、炭素数が異なるアルキレンオキサイド基が存在していてもよい。
アルキレンオキサイド基数(n)は2〜200の整数であり、好ましくは10〜100の整数である。2以下、または101以上の場合は、後述する、不飽和二重結合を有する化合物との十分な相溶性が得られない場合がある。
は水素または炭素数1〜22の炭化水素基である。炭素数23以上では、原料が高価であるため実用的ではない。
炭素数1〜22の炭化水素基としては、置換又は無置換のものが選択でき、無置換のものが好ましく、無置換のアルキル基が好ましい。無置換のアルキル基としては、分岐を有するもの、有しないもの、いずれをも使うことができる。これらは、2種類以上を併用しても良い。
In the general formula (2), the alkylene oxide group (AO) is an alkylene oxide group having 2 to 4 carbon atoms, and examples thereof include an ethylene oxide group, a propylene oxide group, and a butylene oxide group. Moreover, the alkylene oxide group from which carbon number differs may exist in the same monomer.
The number (n) of alkylene oxide groups is an integer of 2 to 200, preferably an integer of 10 to 100. In the case of 2 or less, or 101 or more, sufficient compatibility with a compound having an unsaturated double bond described later may not be obtained.
R 6 is hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms. A carbon number of 23 or more is not practical because the raw material is expensive.
As the hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, a substituted or unsubstituted group can be selected, an unsubstituted group is preferable, and an unsubstituted alkyl group is preferable. As the unsubstituted alkyl group, any having or not having a branch can be used. Two or more of these may be used in combination.

アルキレンオキサイド鎖を有する化合物(a−2)としては、具体的には例えば、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)モノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール−テトラメチレングリコール)モノ(メタ)アクリレート、ポリ(プロピレングリコール−テトラメチレングリコール)モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノブチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノオクチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノベンジルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノドデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノテトラデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノヘキサデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノオクタデシルエーテルポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)モノ(メタ)アクリレートオクチルエーテル、ポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)モノ(メタ)アクリレートオクタデシルエーテル、ポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)モノ(メタ)アクリレートノニルフェニルエーテル等が挙げられる。   Specific examples of the compound (a-2) having an alkylene oxide chain include, for example, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polybutylene glycol mono (meth) acrylate, poly (ethylene glycol- Propylene glycol) mono (meth) acrylate, poly (ethylene glycol-tetramethylene glycol) mono (meth) acrylate, poly (propylene glycol-tetramethylene glycol) mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate monomethyl ether, polyethylene Glycol mono (meth) acrylate monobutyl ether, polyethylene glycol mono (meth) acrylate monooctyl ether, polyethylene glycol Cole mono (meth) acrylate monobenzyl ether, polyethylene glycol mono (meth) acrylate monophenyl ether, polyethylene glycol mono (meth) acrylate monodecyl ether, polyethylene glycol mono (meth) acrylate monododecyl ether, polyethylene glycol mono (meth) acrylate Monotetradecyl ether, polyethylene glycol mono (meth) acrylate monohexadecyl ether, polyethylene glycol mono (meth) acrylate monooctadecyl ether poly (ethylene glycol-propylene glycol) mono (meth) acrylate octyl ether, poly (ethylene glycol-propylene glycol) ) Mono (meth) acrylate octadecyl ether, poly (ethylene) Glycol - propylene glycol) mono (meth) acrylate nonylphenyl ether.

<(a−2)と共重合可能な化合物(a−3)>
さらに必要に応じて任意に前記(a−2)と共重合可能な化合物(a−3)をラジカル共重合してもよい。
(a−2)と共重合可能な化合物(a−3)は、1つのエチレン性不飽和基を有する化合物であればよく、特に限定されるものでないが、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート;ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、シアノエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等の各種(メタ)アクリレートやスチレン、メチルスチレン等が挙げられる。
<Compound (a-3) copolymerizable with (a-2)>
Furthermore, you may radically copolymerize the compound (a-3) copolymerizable with the said (a-2) as needed.
The compound (a-3) copolymerizable with (a-2) is not particularly limited as long as it is a compound having one ethylenically unsaturated group. For example, methyl (meth) acrylate, ethyl Alkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate; hydroxyethyl (meth) acrylate , Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as hydroxypropyl (meth) acrylate and hydroxybutyl (meth) acrylate; benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) Various types (meth) such as acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, cyanoethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, etc. ) Acrylate, styrene, methylstyrene and the like.

Figure 2014095731
Figure 2014095731

Figure 2014095731
Figure 2014095731

Figure 2014095731
Figure 2014095731

Figure 2014095731
Figure 2014095731

上記で例示した導電性化合物は、単独で用いてもよいし、2種以上の化合物を併用して用いることもできる。また、帯電防止剤の分子内に重合性基を有する帯電防止化合物は、帯電防止層の耐擦傷性(膜強度)も高めることができるので、より好ましい。   The conductive compounds exemplified above may be used alone, or two or more compounds may be used in combination. In addition, an antistatic compound having a polymerizable group in the molecule of the antistatic agent is more preferable because it can improve the scratch resistance (film strength) of the antistatic layer.

(a)イオン伝導性化合物としては、市販品を用いることもでき、例えば、製品名「リオデュラスLAS−1211」(東洋インキ製造(株)製)、製品名「紫光UV−AS−102」(日本合成化薬(株)製)、「NKオリゴU−601、201」(新中村化学(株)製)などが挙げられる。   (A) As an ion conductive compound, a commercial item can also be used, for example, a product name "Rioduras LAS-1211" (made by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.), a product name "purple UV-AS-102" (Japan) Synthetic Drugs Co., Ltd.), “NK Oligo U-601, 201” (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and the like.

(電子伝導性化合物)
本発明のポリマー成分としては、電子伝導性化合物も好適に用いることが出来る。電子伝導性化合物は、好ましくは芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である。非共役高分子又は共役高分子における前記芳香族炭素環としては、例えばベンゼン環が挙げられ、更に縮環を形成してもよい。非共役高分子又は共役高分子における前記芳香族ヘテロ環としては、例えばピリジン環、ビラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、インドール環、カルバゾール環、ペンゾイミダゾール環、イミダゾピリジン環などが挙げられ、更に縮環を形成してもよく、置換基を有してもよい。
(Electron conductive compound)
As the polymer component of the present invention, an electron conductive compound can also be suitably used. The electron conductive compound is preferably a non-conjugated polymer or a conjugated polymer in which aromatic carbocycles or aromatic heterocycles are connected by a single bond or a divalent or higher linking group. Examples of the aromatic carbocyclic ring in the non-conjugated polymer or conjugated polymer include a benzene ring, and may further form a condensed ring. Examples of the aromatic heterocycle in the non-conjugated polymer or conjugated polymer include a pyridine ring, a birazine ring, a pyrimidine ring, a pyridazine ring, a triazine ring, an oxazole ring, a thiazole ring, an imidazole ring, an oxadiazole ring, a thiadiazole ring, Examples include triazole ring, tetrazole ring, furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, indole ring, carbazole ring, benzimidazole ring, imidazopyridine ring, etc. Also good.

また、非共役高分子又は共役高分子における前記二価以上の連結基としては、炭素原子、珪素原子、窒素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子、金属、金属イオンなどで形成される連結基が挙げられる。好ましくは、炭素原子、窒素原子、珪素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子及びこれらの組み合わせから形成される基であり、組み合わせにより形成される基としては、置換若しくは無置換のメチレン基、カルボニル基、イミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、エステル基、アミド基、シリル基などが挙げられる。   The divalent or higher linking group in the non-conjugated polymer or conjugated polymer includes a linking group formed of a carbon atom, a silicon atom, a nitrogen atom, a boron atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a metal, a metal ion, or the like. Is mentioned. Preferably, it is a group formed from a carbon atom, a nitrogen atom, a silicon atom, a boron atom, an oxygen atom, a sulfur atom and a combination thereof, and the group formed by the combination includes a substituted or unsubstituted methylene group, carbonyl Group, imino group, sulfonyl group, sulfinyl group, ester group, amide group, silyl group and the like.

電子伝導性化合物としては、具体的には、置換又は非置換の導電性ポリアニリン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリフラン、ポリピロール、ポリセレノフェン、ポリイソチアナフテン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアセチレン、ポリピリジルビニレン、ポリアジン、又はこれらの誘導体等が挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、また、目的に応じて2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Specific examples of the electron conductive compound include substituted or unsubstituted conductive polyaniline, polyparaphenylene, polyparaphenylene vinylene, polythiophene, polyfuran, polypyrrole, polyselenophene, polyisothianaphthene, polyphenylene sulfide, polyacetylene, Examples thereof include polypyridyl vinylene, polyazine, and derivatives thereof. These may use only 1 type and may use it in combination of 2 or more type according to the objective.

また、所望の導電性を達成できる範囲であれば、導電性を有しない他のポリマーとの混合物として用いることもでき、導電性ポリマーを構成し得るモノマーと導電性を有しない他のモノマーとのコポリマーも用いることができる。   Moreover, as long as desired conductivity can be achieved, it can also be used as a mixture with other polymers that do not have conductivity, and a monomer that can form a conductive polymer and other monomers that do not have conductivity. Copolymers can also be used.

電子伝導性化合物としては、共役高分子であることが更に好ましい。共役高分子の例としては、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ(パラフェニレン)、ポリフルオレン、ポリアズレン、ポリ(パラフェニレンサルファイド)、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、ポリアニリン、ポリ(パラフェニレンビニレン)、ポリ(2,5−チエニレンビニレン)、複鎖型共役系高分子(ポリペリナフタレンなど)、金属フタロシアニン系高分子、その他共役系高分子(ポリ(パラキシリレン)、ポリ[α−(5,5’−ビチオフェンジイル)ベンジリデン]など)、又はこれらの誘導体等が挙げられる。
好ましくはポリ(パラフェニレン)、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ(パラフェニレンビニレン)、ポリ(2,5−チエニレンビニレン)が挙げられ、より好ましくはポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール又はこれらの誘導体、更に好ましくはポリチオフェン及びその誘導体の少なくともいずれかが挙げられる。
これら共役高分子は置換基を有していてもよい。これらの共役高分子が有する置換基としては、後述の一般式(IV)においてR71として説明する置換基を挙げることができる。
The electron conductive compound is more preferably a conjugated polymer. Examples of conjugated polymers include polyacetylene, polydiacetylene, poly (paraphenylene), polyfluorene, polyazulene, poly (paraphenylene sulfide), polypyrrole, polythiophene, polyisothianaphthene, polyaniline, poly (paraphenylene vinylene), poly (2,5-thienylene vinylene), double chain conjugated polymers (such as polyperinaphthalene), metal phthalocyanine polymers, other conjugated polymers (poly (paraxylylene), poly [α- (5,5 ' -Bithiophenediyl) benzylidene], etc.), or derivatives thereof.
Preferred examples include poly (paraphenylene), polypyrrole, polythiophene, polyaniline, poly (paraphenylene vinylene), and poly (2,5-thienylene vinylene), more preferred are polythiophene, polyaniline, polypyrrole, and derivatives thereof, and more preferred. Includes at least one of polythiophene and derivatives thereof.
These conjugated polymers may have a substituent. Examples of the substituent which these conjugated polymer has, can be exemplified by the substituents described as R 71 in the general formula (IV) below.

特に、電子伝導性化合物が下記一般式(IV)で表される部分構造を有すること(即ちポリチオフェン及びその誘導体であること)が、高い透明性と帯電防止性を両立した光学フィルムを得るという観点から好ましい。   In particular, the viewpoint that an electron conductive compound having a partial structure represented by the following general formula (IV) (that is, polythiophene and its derivatives) obtains an optical film having both high transparency and antistatic properties. To preferred.

Figure 2014095731
Figure 2014095731

一般式(IV)中、R71は置換基を表し、m11は0〜2の整数を表す。m11が2を表すとき、複数のR71は互いに同一であっても異なってもよく、互いに連結して環を形成してもよい。n11は1以上の整数を表す。 In the general formula (IV), R 71 represents a substituent, and m11 represents an integer of 0 to 2. When m11 represents 2, the plurality of R 71 may be the same as or different from each other, and may be connected to each other to form a ring. n11 represents an integer of 1 or more.

71で表される置換基としては、アルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、更に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばメチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニル、2−ヘキセニル、3−ヘキセニル、4−ヘキセニル、2−オクテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えばプロパルギル、3−ペンチニルなどが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニル、p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノなどが挙げられる。)、 Examples of the substituent represented by R 71 include an alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, still more preferably 1 to 8 carbon atoms, such as methyl, ethyl, iso-propyl, etc. , Tert-butyl, n-octyl, n-decyl, n-hexadecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.), an alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, Particularly preferred are those having 2 to 8 carbon atoms, such as vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, 2-hexenyl, 3-hexenyl, 4-hexenyl, 2-octenyl and the like, and alkynyl groups (preferably). Has 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, such as propargyl , 3-pentynyl, etc.), an aryl group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyl, p-methylphenyl, Naphthyl and the like), an amino group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 10 carbon atoms, particularly preferably 0 to 6 carbon atoms, such as amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, Dibenzylamino, diphenylamino, etc.),

アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルオキシ、2−ナフチルオキシなどが挙げられる。)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜10であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。)、 An alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, butoxy, hexyloxy, octyloxy, etc.), An aryloxy group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyloxy and 2-naphthyloxy), an acyl group ( Preferably it has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl and the like, and an alkoxycarbonyl group (preferably carbon). 2-20, more preferably 2-16 carbon atoms, particularly preferably 2-12 carbon atoms, for example methoxy And aryloxycarbonyl groups (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably having 7 to 16 carbon atoms, and particularly preferably having 7 to 10 carbon atoms, such as phenyloxycarbonyl). ),

アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜16、特に好ましくは炭素数0〜12であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。)、 An acyloxy group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, such as acetoxy and benzoyloxy), an acylamino group (preferably having a carbon number) 2 to 20, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, such as acetylamino, benzoylamino, etc.), an alkoxycarbonylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, More preferably, it has 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, and examples thereof include methoxycarbonylamino and the like, an aryloxycarbonylamino group (preferably 7 to 20 carbon atoms, more preferably carbon atoms). 7 to 16, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, for example phenyloxycarbonylamino ), A sulfonylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino, etc. ), A sulfamoyl group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 16 carbon atoms, particularly preferably 0 to 12 carbon atoms, such as sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfuryl). Famoyl etc.),

カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。)、 A carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include carbamoyl, methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl and the like), alkylthio. A group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methylthio and ethylthio), an arylthio group (preferably having 6 to 6 carbon atoms). 20, More preferably, it is C6-C16, Most preferably, it is C6-C12, for example, phenylthio etc. are mentioned, A sulfonyl group (Preferably C1-C20, More preferably C1-C16 , Particularly preferably having 1 to 12 carbon atoms, such as mesyl and tosyl). Rufinyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methanesulfinyl, benzenesulfinyl, etc.), ureido group (preferably carbon 1 to 20, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as ureido, methylureido, phenylureido, etc.), phosphoric acid amide group (preferably having 1 carbon atom) -20, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as diethyl phosphoric acid amide and phenyl phosphoric acid amide).

ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12で、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子が挙げられる。具体的には、例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルフォリン、チオフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。)、シリル基(好ましくは炭素数3〜40、より好ましくは3〜30、特に好ましくは3〜24であり、例えばトリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる。)などが挙げられる。 Hydroxy group, mercapto group, halogen atom (eg fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group, hydroxamic acid group, sulfino group, hydrazino group, imino group, heterocyclic ring Group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples of the hetero atom include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. Specifically, for example, pyrrolidine, piperidine, piperazine, Morpholine, thiophene, furan, pyrrole, imidazole, pyrazole, pyridine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, indole, indazole, purine, thiazoline, thiazole, thiadiazole, oxazoline, oxazole, oxadiazole, quinoline, isoquinoline, phthala , Naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, pteridine, acridine, phenanthroline, phenazine, tetrazole, benzimidazole, benzoxazole, benzthiazole, benzotriazole, tetrazaindene, etc.), silyl group (preferably having 3 carbon atoms) -40, more preferably 3-30, particularly preferably 3-24, and examples thereof include trimethylsilyl, triphenylsilyl, and the like.

上記R71で表される置換基は、更に置換されていてもよい。また、置換基を複数有する場合、それらの置換基は互いに同じでも異なっていてもよく、また可能な場合は連結して環を形成してもよい。形成される環としては例えば、シクロアルキル環、ベンゼン環、チオフェン環、ジオキサン環、ジチアン環等が挙げられる。 The substituent represented by R 71 may be further substituted. Moreover, when it has two or more substituents, those substituents may mutually be the same or different, and if possible, they may be connected to form a ring. Examples of the ring formed include a cycloalkyl ring, a benzene ring, a thiophene ring, a dioxane ring, and a dithiane ring.

上記R71で表される置換基として、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基であり、更に好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基である。特に好ましくは、m11が2のとき、2つのR71が環を形成したアルコキシ基、アルキルチオ基であり、ジオキサン環、ジチアン環を形成することが好適である。 The substituent represented by R 71 is preferably an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, or an alkylthio group, and more preferably an alkyl group, an alkoxy group, or an alkylthio group. Particularly preferably, when m11 is 2, it is preferable that two R 71s are an alkoxy group or an alkylthio group in which a ring is formed to form a dioxane ring or a dithiane ring.

一般式(IV)においてm11が1のとき、R71はアルキル基であることが好ましく、炭素数2〜8のアルキル基がより好ましい。
n11としては1以上の整数である限り特に制限はないが、1〜1000の整数であることが好ましい。
また、R71が、アルキル基であるポリ(3−アルキルチオフェン)であるとき、隣り合ったチオフェン環との連結様式はすべて2−5’で連結した立体規則的なものと、2−2’、5−5’連結が含まれる立体不規則的なものがあるが、立体的不規則なものが好ましい。
In the general formula (IV), when m11 is 1, R 71 is preferably an alkyl group, and more preferably an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms.
n11 is not particularly limited as long as it is an integer of 1 or more, but is preferably an integer of 1 to 1000.
Further, when R 71 is poly (3-alkylthiophene) which is an alkyl group, the connection modes with adjacent thiophene rings are all stereoregular connected by 2-5 ′, and 2-2 ′. , 5-5 'linkages are included, but sterically irregular ones are preferred.

本発明では、電子伝導性化合物としては、親水性が比較的高いために基材との相溶性が低く、浸透層とハードコート層の形成性に優れることと、導電性に優れるという観点から、ポリ(3,4−エチレンジオキシ)チオフェン(下記具体例化合物(6)、PEDOT)を主成分として含むことが特に好ましい。   In the present invention, as the electron conductive compound, since the hydrophilicity is relatively high, the compatibility with the base material is low, the formability of the permeation layer and the hard coat layer is excellent, and from the viewpoint of excellent conductivity, It is particularly preferable that poly (3,4-ethylenedioxy) thiophene (the following specific example compound (6), PEDOT) is contained as a main component.

一般式(IV)で表されるポリチオフェン及びその誘導体は、J.Mater.Chem.,2005,15,2077−2088.及びAdvanced Materials 2000,12(7),page 481など公知の方法によって作製することができる。また、市販品として、Denatron P502(ナガセケムテック社製)、3,4−ethylenedioxythiophene(BAYTRON(登録商標)M V2)、3,4−polyethylenedioxythiopene/polystyrenesulfonate(BAYTRON(登録商標)P)、BAYTRON(登録商標)C)、BAYTRON(登録商標)F E、BAYTRON(登録商標) M V2、BAYTRON(登録商標) P、BAYTRON(登録商標) P AG、BAYTRON(登録商標) P HC V4、BAYTRON(登録商標) P HS、BAYTRON(登録商標) PH、BAYTRON(登録商標) PH 500、BAYTRON(登録商標) PH 510(以上、シュタルク社製)などを入手することができる。
ポリアニリン及びその誘導体としては、ポリアニリン(アルドリッチ社製)、ポリアニリン(エレラルダイン塩)(アルドリッチ社製)などを入手することができる。
ポリピロール及びその誘導体としては、ポリピロール(アルドリッチ社製)などを入手することができる。
Polythiophene represented by the general formula (IV) and derivatives thereof are described in J. Org. Mater. Chem. 2005, 15, 2077-2088. And Advanced Materials 2000, 12 (7), page 481, and the like. Further, as commercially available products, Denatron P502 (manufactured by Nagase Chemtech), 3,4-ethylenedioxythiophene (BAYTRON (registered trademark) MV2), 3,4-polyethylenedithiothiopene / polystyrenesulfate (BAYTRON (registered trademark), BAYTRON (registered trademark)) (Trademark) C), BAYTRON (registered trademark) FE, BAYTRON (registered trademark) M V2, BAYTRON (registered trademark) P, BAYTRON (registered trademark) P AG, BAYTRON (registered trademark) PHC V4, BAYTRON (registered trademark) PH, BAYTRON (registered trademark) PH, BAYTRON (registered trademark) PH 500, BAYTRON (registered trademark) PH 510 (above, Stark ) Can be obtained and the like.
Polyaniline (manufactured by Aldrich), polyaniline (eleraldine salt) (manufactured by Aldrich) and the like can be obtained as polyaniline and derivatives thereof.
Polypyrrole (manufactured by Aldrich) and the like can be obtained as polypyrrole and derivatives thereof.

以下に、導電性ポリマーの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、これらの他にも、国際公開第98/01909号記載の化合物等が挙げられる。
下記式中、x、yは、各々独立して、1以上の整数を表す。
Although the specific example of a conductive polymer is shown below, this invention is not limited to these. In addition to these, compounds described in International Publication No. 98/01909 and the like can be mentioned.
In the following formulae, x and y each independently represents an integer of 1 or more.

Figure 2014095731
Figure 2014095731

Figure 2014095731
Figure 2014095731

本発明で用いる(a)ポリマー成分の重量平均分子量は、3,000〜1,000,000が好ましく、より好ましくは10,000〜500,000であり、更に好ましくは10,000〜100,000である。ここで重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより測定されるポリスチレン換算重量平均分子量である。   The weight average molecular weight of the polymer component (a) used in the present invention is preferably 3,000 to 1,000,000, more preferably 10,000 to 500,000, still more preferably 10,000 to 100,000. It is. Here, the weight average molecular weight is a polystyrene-converted weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography.

本発明のハードコート層形成用組成物中の(a)ポリマー成分の含有量は、帯電防止性を付与するのに十分な量でかつ膜硬度を減損しにくいという観点から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して1質量%〜30質量%が好ましく、3質量%〜20質量%がより好ましく、5質量%〜15質量%が更に好ましい。   From the viewpoint that the content of the polymer component (a) in the composition for forming a hard coat layer of the present invention is an amount sufficient to impart antistatic properties and the film hardness is difficult to deteriorate, 1 mass%-30 mass% are preferable with respect to the total solid in a composition, 3 mass%-20 mass% are more preferable, and 5 mass%-15 mass% are still more preferable.

(不飽和二重結合を有する化合物)
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される不飽和二重結合を有する化合物について説明する。
不飽和二重結合を有する化合物はバインダーとして機能することができ、(b)同一分子内に2個以上の不飽和二重結合を有するモノマーであることが好ましい。該同一分子内に2個以上の不飽和二重結合を有するモノマーは、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。重合性不飽和基は3つ以上であることがより好ましい。
(Compound having an unsaturated double bond)
Next, the compound which has the unsaturated double bond contained in the composition for hard-coat layer formation of this invention is demonstrated.
The compound having an unsaturated double bond can function as a binder, and (b) is preferably a monomer having two or more unsaturated double bonds in the same molecule. The monomer having two or more unsaturated double bonds in the same molecule can function as a curing agent, and can improve the strength and scratch resistance of the coating film. The number of polymerizable unsaturated groups is more preferably 3 or more.

(b)同一分子内に2個以上の不飽和二重結合を有するモノマーとしては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基及び−C(O)OCH=CHが好ましい。特に好ましくは下記の1分子内に3つ以上の(メタ)アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。 (B) Examples of the monomer having two or more unsaturated double bonds in the same molecule include compounds having a polymerizable functional group such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. , (Meth) acryloyl groups and —C (O) OCH═CH 2 are preferred. Particularly preferably, a compound containing three or more (meth) acryloyl groups in one molecule described below can be used.

重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類、エポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類等を挙げることができる。   Specific examples of the compound having a polymerizable unsaturated bond include (meth) acrylic acid diesters of alkylene glycol, (meth) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycol, and (meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohol. , (Meth) acrylic acid diesters of ethylene oxide or propylene oxide adducts, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates, and the like.

中でも、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性リン酸トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。   Among these, esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable. For example, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate , Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, PO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO modified Tri (meth) acrylate phosphate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate Rate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate, caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate, etc. Can be mentioned.

(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、日本化薬(株)製KAYARAD DPHA、同PET−30、新中村化学工業(株)NKエステル A−TMMT、同A−TMPT等を挙げることができる。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開2009−98658号公報の段落[0114]〜[0122]に記載されており、本発明においても同様である。
Commercially available polyfunctional acrylate compounds having a (meth) acryloyl group can be used, such as KAYARAD DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., PET-30, Shin Nakamura Chemical Co., Ltd., NK Ester A -TMMT, A-TMPT, etc. can be mentioned.
Non-fluorinated polyfunctional monomers are described in paragraphs [0114] to [0122] of JP-A-2009-98658, and the same applies to the present invention.

本発明のハードコート層形成用組成物中の不飽和二重結合を有する化合物は、基材に浸透しやすくなる観点から、SP値は17〜30が好ましく、19〜25がより好ましく、20〜23がさらに好ましい。
なお、本発明におけるSP値(溶解性パラメーター)は、Hoy法によって算出した値であり、Hoy法は、POLYMER HANDBOOK FOURTH EDITIONに記載がある。
The compound having an unsaturated double bond in the composition for forming a hard coat layer of the present invention has an SP value of preferably 17 to 30, more preferably 19 to 25, from the viewpoint of easy penetration into the substrate. 23 is more preferable.
The SP value (solubility parameter) in the present invention is a value calculated by the Hoy method, and the Hoy method is described in POLYMER HANDBOOK FOURTH EDITION.

本発明のハードコート層形成用組成物中の不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、帯電防止性ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、40〜98質量%が好ましく、60〜95質量がより好ましい。   The content of the compound having an unsaturated double bond in the composition for forming a hard coat layer of the present invention provides a sufficient polymerization rate and imparts hardness and the like, so in the composition for forming an antistatic hard coat layer. 40-98 mass% is preferable with respect to the total solid of, and 60-95 mass is more preferable.

(重合開始剤)
本発明に用いられるハードコート層形成用組成物(以下、組成物といもいう)には、重合開始剤を含むことが好ましいが、重合開始剤としては(c)光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開2009−098658号公報の段落[0133]〜[0151]に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
(Polymerization initiator)
The composition for forming a hard coat layer (hereinafter also referred to as composition) used in the present invention preferably contains a polymerization initiator, and (c) a photopolymerization initiator is preferred as the polymerization initiator.
As photopolymerization initiators, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, Examples include fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, lophine dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes, and coumarins. Specific examples, preferred embodiments, commercially available products, and the like of the photopolymerization initiator are described in paragraphs [0133] to [0151] of JP-A-2009-098658, and can be suitably used in the present invention as well. it can.

「最新UV硬化技術」{(株)技術情報協会}(1991年)、p.159、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著(平成元年、総合技術センター発行)、p.65〜148にも種々の例が記載されており本発明に有用である。   “Latest UV Curing Technology” {Technical Information Association, Inc.} (1991), p. 159, and “UV Curing System” written by Kiyomi Kato (published by the General Technology Center in 1989), p. Various examples are also described in 65-148 and are useful in the present invention.

市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製の「イルガキュア651」、「イルガキュア184」、「イルガキュア819」、「イルガキュア907」、「イルガキュア1870」(CGI−403/イルガキュア184=7/3混合開始剤)、「イルガキュア500」、「イルガキュア369」、「イルガキュア1173」、「イルガキュア2959」、「イルガキュア4265」、「イルガキュア4263」、「イルガキュア127」、“OXE01”等;日本化薬(株)製の「カヤキュアーDETX−S」、「カヤキュアーBP−100」、「カヤキュアーBDMK」、「カヤキュアーCTX」、「カヤキュアーBMS」、「カヤキュアー2−EAQ」、「カヤキュアーABQ」、「カヤキュアーCPTX」、「カヤキュアーEPD」、「カヤキュアーITX」、「カヤキュアーQTX」、「カヤキュアーBTC」、「カヤキュアーMCA」など;サートマー社製の“Esacure(KIP100F,KB1,EB3,BP,X33,KTO46,KT37,KIP150,TZT)”等、及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。   Commercially available photocleavable photoradical polymerization initiators include “Irgacure 651”, “Irgacure 184”, “Irgacure 819”, “Irgacure 907”, “Irgacure 1870” (CGI) manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. -403 / Irgacure 184 = 7/3 mixing initiator), "Irgacure 500", "Irgacure 369", "Irgacure 1173", "Irgacure 2959", "Irgacure 4265", "Irgacure 4263", "Irgacure 127", " OXE01 ”, etc .;“ Kayacure DETX-S ”,“ Kayacure BP-100 ”,“ Kayacure BDK ”,“ Kayacure CTX ”,“ Kayacure BMS ”,“ Kayacure 2-EAQ ”,“ Cayacure ”manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. "ABQ", " “Yacure CPTX”, “Kayacure EPD”, “Kayacure ITX”, “Kayacure QTX”, “Kayacure BTC”, “Kayacure MCA”, etc .; , KIP150, TZT) ", etc., and combinations thereof are preferred examples.

本発明に用いられる光重合開始剤の含有量は、前記組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させ、かつ開始点が増えすぎないように設定するという理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、0.5〜8質量%が好ましく、1〜5質量%がより好ましい。   The content of the photopolymerization initiator used in the present invention is set so that the polymerizable compound contained in the composition is polymerized and the starting point is set so as not to increase too much. 0.5-8 mass% is preferable with respect to the total solid content in it, and 1-5 mass% is more preferable.

(溶剤)
本発明に用いられる組成物には、溶剤を含むことが好ましい。溶剤としては、モノマーの溶解性、塗工時の乾燥性、透光性粒子の分散性等を考慮し、各種溶剤を用いることができるが、ハードコート層形成用塗布組成物中のモノマーが基材に浸入して浸透層を形成し易くために、アクリル樹脂からなる熱可塑性基材を溶解し得る溶媒を含有することが好ましい。係る有機溶剤炭酸としては、例えば、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、シクロペンタノン、シクロヘキサノン酢酸メチル、酢酸エチル等が挙げられるが、基材を溶解しうるものであればこれによらない。また、用いることが可能な各種有機溶剤としては、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、1,3,5−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、2−メトキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸エチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、1,2−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン(MIBK)、2−オクタノン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
(solvent)
The composition used in the present invention preferably contains a solvent. As the solvent, various solvents can be used in consideration of the solubility of the monomer, the drying property at the time of coating, the dispersibility of the translucent particles, etc., but the monomer in the coating composition for forming the hard coat layer is based on the solvent. In order to easily enter the material and form a permeation layer, it is preferable to contain a solvent that can dissolve the thermoplastic base material made of acrylic resin. Examples of the organic solvent carbonic acid include dimethyl carbonate, methyl ethyl carbonate, diethyl carbonate, acetone, methyl ethyl ketone (MEK), cyclopentanone, cyclohexanone methyl acetate, and ethyl acetate. It doesn't depend on this. Examples of various organic solvents that can be used include dibutyl ether, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, 1,3,5-trioxane, tetrahydrofuran, and anisole. , Phenetole, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, methylcyclohexanone, ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, propyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, γ-ptyrolactone, methyl 2-methoxyacetate, 2-ethoxyacetic acid Methyl, ethyl 2-ethoxyacetate, ethyl 2-ethoxypropionate, 2-methoxyethanol, 2-propoxyethanol, 2-butoxyethanol, 1,2-diacetoxyacetone, acetylacetone, diacetate Methyl alcohol such as alcohol, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, cyclohexyl alcohol, isobutyl acetate, methyl isobutyl ketone (MIBK), 2-octanone, 2-pentanone, 2-hexanone, ethylene Glycol ethyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, ethylene glycol butyl ether, propylene glycol methyl ether, ethyl carbitol, butyl carbitol, hexane, heptane, octane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, benzene, toluene, xylene, etc. These can be used singly or in combination of two or more.

本発明に用いられる組成物の固形分の濃度は20〜80質量%の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは30〜75質量%であり、更に好ましくは40〜70質量%である。   It is preferable to use a solvent so that the solid content of the composition used in the present invention is in the range of 20 to 80% by mass, more preferably 30 to 75% by mass, and still more preferably 40 to 70% by mass. It is.

(界面活性剤)
本発明のハードコート層形成用組成物には各種の界面活性剤を使用することも好適である。一般的に界面活性剤は乾燥風の局所的な分布による乾燥バラツキに起因する膜厚ムラ等を抑制したり、表面凹凸や塗布物のハジキを改良できることがある。更には、導電性ポリマーの分散性を向上させることで、より安定で高い導電性を発現できる場合があり好適である。
(Surfactant)
It is also suitable to use various surfactants in the composition for forming a hard coat layer of the present invention. In general, a surfactant may suppress unevenness in film thickness due to variation in drying due to local distribution of drying air, and may improve surface unevenness and repellency of a coated material. Furthermore, by improving the dispersibility of the conductive polymer, it may be more stable and high conductivity may be expressed, which is preferable.

界面活性剤としては、具体的にはフッ素系界面活性剤、又はシリコーン系界面活性剤が好ましい。また、界面活性剤は、低分子化合物よりもオリゴマーやポリマーであることが好ましい。   Specifically, the surfactant is preferably a fluorine-based surfactant or a silicone-based surfactant. Further, the surfactant is preferably an oligomer or a polymer rather than a low molecular compound.

界面活性剤を添加すると、塗布された液膜の表面に界面活性剤が速やかに移動して偏在化し、膜乾燥後も界面活性剤がそのまま表面に偏在することになるので、界面活性剤を添加したハードコート層の表面エネルギーは、界面活性剤によって低下する。帯電防止層の膜厚不均一性やハジキ、ムラを防止するという観点からは、膜の表面エネルギーが低いことが好ましい。   When a surfactant is added, the surfactant quickly moves to the surface of the applied liquid film and becomes unevenly distributed, and the surfactant is unevenly distributed on the surface even after the film is dried. The surface energy of the hard coat layer is lowered by the surfactant. From the viewpoint of preventing non-uniformity in film thickness, repellency, and unevenness of the antistatic layer, the surface energy of the film is preferably low.

フッ素系界面活性剤の好ましい態様、及び具体例は、特開2007−102206号公報の段落番号[0023]〜[0080]に記載されており、本発明においても同様である。   Preferred embodiments and specific examples of the fluorosurfactant are described in paragraph numbers [0023] to [0080] of JP-A-2007-102206, and the same applies to the present invention.

シリコーン系界面活性剤の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む、化合物鎖の末端及び/又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはポリエーテル基、アルキル基、アリール基、アリールオキシ基、アリール基、シンナモイル基、オキセタニル基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、などを含む基が挙げられる。   Preferable examples of the silicone surfactant include those having a substituent at the end of the compound chain and / or the side chain, containing a plurality of dimethylsilyloxy units as repeating units. The compound chain containing dimethylsilyloxy as a repeating unit may contain a structural unit other than dimethylsilyloxy. The substituents may be the same or different, and a plurality of substituents are preferable. Examples of preferred substituents include groups containing a polyether group, an alkyl group, an aryl group, an aryloxy group, an aryl group, a cinnamoyl group, an oxetanyl group, a fluoroalkyl group, a polyoxyalkylene group, and the like.

分子量に特に制限はないが、数平均分子量10万以下であることが好ましく、5万以下であることがより好ましく、1000〜30000であることが特に好ましく、1000〜20000であることが最も好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular in molecular weight, It is preferable that it is number average molecular weight 100,000 or less, It is more preferable that it is 50,000 or less, It is especially preferable that it is 1000-30000, It is most preferable that it is 1000-20000.

好ましいシリコーン系化合物の例としては、信越化学工業(株)製の“X−22−174DX”、“X−22−2426”、““X22−164C”、“X−22−176D”、(以上商品名);チッソ(株)製の、“FM−7725”、“FM−5521”、“FM−6621”、(以上商品名);Gelest製の“DMS−U22”、“RMS−033”(以上商品名);東レ・ダウコーニング(株)製の“SH200”、“DC11PA”、 “ST80PA”、 “L7604”、“FZ−2105”、 “L−7604”、“Y−7006”、“SS−2801”、(以上商品名);モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製の“TSF400” (商品名);などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
前記界面活性剤は、帯電防止性ハードコート層形成用塗布組成物の全固形分中に0.01〜0.5質量%含有されることが好ましく、0.01〜0.3質量%がより好ましい。
Examples of preferable silicone compounds include “X-22-174DX”, “X-22-2426”, “X22-164C”, “X-22-176D” (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) (Trade name); “FM-7725”, “FM-5521”, “FM-6621”, (product name) manufactured by Chisso Corporation; “DMS-U22”, “RMS-033” (manufactured by Gelest) Product name); “SH200”, “DC11PA”, “ST80PA”, “L7604”, “FZ-2105”, “L-7604”, “Y-7006”, “SS” manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. -2801 "(above product name);" TSF400 "(product name); manufactured by Momentive Performance Materials Japan, but is not limited thereto.
The surfactant is preferably contained in the total solid content of the coating composition for forming an antistatic hard coat layer in an amount of 0.01 to 0.5% by mass, more preferably 0.01 to 0.3% by mass. preferable.

(透光性樹脂粒子)
本発明の光学フィルムには、防眩性(表面散乱性)や内部散乱性を付与するため、各種の透光性樹脂粒子を用いることができる。透光性樹脂粒子は基材に浸入することができないため、ハードコート層に存在する。
(Translucent resin particles)
Various optically transparent resin particles can be used for the optical film of the present invention in order to impart antiglare properties (surface scattering properties) and internal scattering properties. Since the translucent resin particles cannot penetrate into the base material, they exist in the hard coat layer.

透光性樹脂粒子は、粒径にばらつきがないほど、散乱特性にばらつきが少なくなり、ヘイズ値の設計が容易となる。透光性粒子としては、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が高く、バインダーとの屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子(屈折率1.49)、架橋ポリ(アクリル−スチレン)共重合体粒子(屈折率1.54)、メラミン樹脂粒子(屈折率1.57)、ポリカーボネート粒子(屈折率1.57)、ポリスチレン粒子(屈折率1.60)、架橋ポリスチレン粒子(屈折率1.61)、ポリ塩化ビニル粒子(屈折率1.60)、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子(屈折率1.68)等が用いられる。
As the translucent resin particles have no variation in particle size, the scattering characteristics are less varied and the design of the haze value becomes easier. As the translucent particles, plastic beads are preferable, and those having particularly high transparency and a difference in refractive index with the binder are preferable.
As organic particles, polymethyl methacrylate particles (refractive index 1.49), crosslinked poly (acryl-styrene) copolymer particles (refractive index 1.54), melamine resin particles (refractive index 1.57), polycarbonate particles ( Refractive index 1.57), polystyrene particles (refractive index 1.60), crosslinked polystyrene particles (refractive index 1.61), polyvinyl chloride particles (refractive index 1.60), benzoguanamine-melamine formaldehyde particles (refractive index 1. 68) etc. are used.

なかでも架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ((メタ)アクリレート)粒子、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせてバインダーの屈折率を調整することにより、本発明の内部ヘイズ、表面ヘイズ、中心線平均粗さを達成することができる。   Of these, cross-linked polystyrene particles, cross-linked poly ((meth) acrylate) particles, and cross-linked poly (acryl-styrene) particles are preferably used, and a binder is selected according to the refractive index of each light-transmitting particle selected from these particles. By adjusting the refractive index, the internal haze, surface haze, and centerline average roughness of the present invention can be achieved.

本発明のハードコート層と透光性樹脂粒子との屈折率の差(透光性粒子の屈折率−ハードコート層の屈折率)は、絶対値として好ましくは0.001〜0.030である。屈折率の差がこの範囲であるとフィルム文字ボケ、暗室コントラストの低下、表面の白濁等の問題が生じない。   The difference in refractive index between the hard coat layer of the present invention and the translucent resin particles (the refractive index of the translucent particles−the refractive index of the hard coat layer) is preferably 0.001 to 0.030 as an absolute value. . When the difference in refractive index is within this range, problems such as film character blurring, dark room contrast reduction, and surface turbidity do not occur.

透光性樹脂粒子の平均粒子径(体積基準)は0.5〜20μmが好ましい。平均粒径がこの範囲であると、光の散乱角度分布が広角になりすぎなないためディスプレイの文字ボケがない。   The average particle diameter (volume basis) of the translucent resin particles is preferably 0.5 to 20 μm. When the average particle diameter is within this range, the light scattering angle distribution does not become too wide, and there is no character blur on the display.

また、粒子径の異なる2種以上の透光性樹脂粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径の透光性樹脂粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で表面のザラツキ感を低減することが可能である。   Moreover, you may use together and use 2 or more types of translucent resin particles from which a particle diameter differs. It is possible to impart an antiglare property with a light-transmitting resin particle having a larger particle diameter, and to reduce surface roughness with a light-transmitting particle having a smaller particle diameter.

前記透光性粒子を配合する際は、帯電防止性ハードコート層全固形分中に3〜30質量%含有されるように配合されることが好ましい。含有量がこの範囲であると、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題も防止でき、帯電防止性も損なわれない。   When blending the translucent particles, it is preferably blended so as to be contained in an amount of 3 to 30% by mass in the total solid content of the antistatic hard coat layer. When the content is within this range, problems such as image blur, surface turbidity and glare can be prevented, and antistatic properties are not impaired.

{アクリル樹脂からなる熱可塑性基材}
アクリル樹脂からなる熱可塑性基材(以下、基材フィルムともいう)は、(メタ)アクリル系重合体を主成分とする。なお、本願で基材フィルムが、(メタ)アクリル系重合体を主成分とするとは、基材フィルムに(メタ)アクリル系重合体を50質量%以上含有することを意味する。
{Thermoplastic substrate made of acrylic resin}
A thermoplastic base material made of an acrylic resin (hereinafter also referred to as a base film) has a (meth) acrylic polymer as a main component. In the present application, that the base film is mainly composed of a (meth) acrylic polymer means that the base film contains 50% by mass or more of the (meth) acrylic polymer.

なお、(メタ)アクリル系重合体は、メタクリル系重合体とアクリル系重合体の両方を含む概念である。また、(メタ)アクリル系重合体には、アクリレート/メタクリレートの誘導体、特にアクリレートエステル/メタクリレートエステルの(共)重合体も含まれる。   The (meth) acrylic polymer is a concept including both a methacrylic polymer and an acrylic polymer. The (meth) acrylic polymer also includes acrylate / methacrylate derivatives, in particular, acrylate ester / methacrylate ester (co) polymers.

((メタ)アクリル系重合体)
前記(メタ)アクリル酸系重合体は、繰り返し構造単位として(メタ)アクリル酸エステル単量体由来の繰り返し構造単位を有することが好ましい。
((Meth) acrylic polymer)
The (meth) acrylic acid polymer preferably has a repeating structural unit derived from a (meth) acrylic acid ester monomer as a repeating structural unit.

前記(メタ)アクリル酸系重合体は、繰り返し構造単位として、更に、水酸基含有単量体、不飽和カルボン酸及び下記一般式(201)で表される単量体から選ばれる少なくとも1種を重合して構築される繰り返し構造単位を含んでいてもよい。   The (meth) acrylic acid polymer further polymerizes at least one selected from a hydroxyl group-containing monomer, an unsaturated carboxylic acid, and a monomer represented by the following general formula (201) as a repeating structural unit. It may contain a repeating structural unit constructed as described above.

一般式(201)
CH2=C(X)R201
Formula (201)
CH 2 = C (X) R 201

(式中、R201は水素原子又はメチル基を表し、Xは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、−CN基、−CO−R202基、又は−O−CO−R203基を表し、R202及びR203は水素原子又は炭素数1〜20の有機残基を表す。) (In the formula, R 201 represents a hydrogen atom or a methyl group, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, a —CN group, a —CO—R 202 group, or —O—CO—R. 203 represents a group, and R 202 and R 203 represent a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms.)

前記(メタ)アクリル酸エステルとしては、特に限定されないが、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル;などが挙げられ、これらは1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、耐熱性、透明性が優れる点から、メタクリル酸メチルが好ましい。
前記(メタ)アクリル酸エステルを用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは10〜100質量%、より好ましくは10〜100質量%、更に好ましくは40〜100質量%、特に好ましくは50〜100質量%である。
The (meth) acrylic acid ester is not particularly limited, and examples thereof include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, and benzyl acrylate. Acrylic acid esters; methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, methacrylic acid esters such as benzyl methacrylate; These may be used alone or in combination of two or more. Among these, methyl methacrylate is particularly preferable from the viewpoint of excellent heat resistance and transparency.
When the (meth) acrylic acid ester is used, the content ratio in the monomer component to be subjected to the polymerization step is preferably 10 to 100% by mass, more preferably 10 in order to sufficiently exhibit the effects of the present invention. -100 mass%, More preferably, it is 40-100 mass%, Most preferably, it is 50-100 mass%.

前記水酸基含有単量体としては、特に限定されないが、例えば、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸メチルなどの2−(ヒドロキシアルキル)アクリル酸エステル;2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸などの2−(ヒドロキシアルキル)アクリル酸;などが挙げられ、これらは1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記水酸基含有単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは0〜30質量%、より好ましくは0〜20質量%、更に好ましくは0〜15質量%、特に好ましくは0〜10質量%である。
The hydroxyl group-containing monomer is not particularly limited. For example, 2- (hydroxyalkyl) acrylic acid ester such as α-hydroxymethylstyrene, α-hydroxyethylstyrene, methyl 2- (hydroxyethyl) acrylate; 2 2- (hydroxyalkyl) acrylic acid such as-(hydroxyethyl) acrylic acid; and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
In the case of using the hydroxyl group-containing monomer, the content ratio in the monomer component to be subjected to the polymerization step is preferably 0 to 30% by mass, more preferably 0 to 0% in order to sufficiently exhibit the effects of the present invention. 20 mass%, More preferably, it is 0-15 mass%, Most preferably, it is 0-10 mass%.

前記不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−置換アクリル酸、α−置換メタクリル酸などが挙げられ、これらは1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、アクリル酸、メタクリル酸が好ましい。
前記不飽和カルボン酸を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは0〜30質量%、より好ましくは0〜20質量%、更に好ましくは0〜15質量%、特に好ましくは0〜10質量%である。
Examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-substituted acrylic acid, α-substituted methacrylic acid and the like. These may be used alone or in combination of two or more. You may use together. Among these, acrylic acid and methacrylic acid are preferable in that the effects of the present invention are sufficiently exhibited.
When the unsaturated carboxylic acid is used, the content ratio in the monomer component to be subjected to the polymerization step is preferably 0 to 30% by mass, more preferably 0 to 20%, in order to sufficiently exhibit the effects of the present invention. It is 0 mass%, More preferably, it is 0-15 mass%, Most preferably, it is 0-10 mass%.

前記一般式(201)で表される単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニルなどが挙げられ、これらは1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、スチレン、α−メチルスチレンが好ましい。
前記一般式(201)で表される単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは0〜30質量%、より好ましくは0〜20質量%、更に好ましくは0〜15質量%、特に好ましくは0〜10質量%である。
Examples of the monomer represented by the general formula (201) include styrene, vinyl toluene, α-methyl styrene, acrylonitrile, methyl vinyl ketone, ethylene, propylene, vinyl acetate, and the like. You may use, and may use 2 or more types together. Among these, styrene and α-methylstyrene are particularly preferable in that the effects of the present invention are sufficiently exhibited.
When using the monomer represented by the general formula (201), the content ratio in the monomer component to be subjected to the polymerization step is preferably 0 to 30 mass in order to sufficiently exhibit the effects of the present invention. %, More preferably 0 to 20% by mass, still more preferably 0 to 15% by mass, and particularly preferably 0 to 10% by mass.

[主鎖に環構造を有する(メタ)アクリル系重合体]
(メタ)アクリル系重合体の中でも主鎖に環構造を有するものが好ましい。主鎖に環構造を導入することで、主鎖の剛直性を高め、耐熱性を向上することができる。
本発明では主鎖に環構造を有する(メタ)アクリル系重合体の中でも主鎖にラクトン環構造を含有する重合体、主鎖に無水グルタル酸環構造を有する重合体、主鎖にグルタルイミド環構造を有する重合体のいずれかであることが好ましい。中でも主鎖にラクトン環構造を含有する重合体であることがより好ましい。
以下のこれらの主鎖に環構造を有する重合体について順に説明する。
[(Meth) acrylic polymer having a ring structure in the main chain]
Among (meth) acrylic polymers, those having a ring structure in the main chain are preferred. By introducing a ring structure into the main chain, the rigidity of the main chain can be improved and the heat resistance can be improved.
In the present invention, among (meth) acrylic polymers having a ring structure in the main chain, a polymer having a lactone ring structure in the main chain, a polymer having a glutaric anhydride ring structure in the main chain, and a glutarimide ring in the main chain It is preferably any of polymers having a structure. Among these, a polymer containing a lactone ring structure in the main chain is more preferable.
The following polymers having a ring structure in these main chains will be described in order.

(主鎖にラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系重合体)
主鎖にラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系重合体(以降ラクトン環含有重合体とも称す)は、主鎖にラクトン環を有する(メタ)アクリル系重合体であれば特に限定されないが、好ましくは下記一般式(101)で示されるラクトン環構造を有する。
((Meth) acrylic polymer with lactone ring structure in the main chain)
The (meth) acrylic polymer having a lactone ring structure in the main chain (hereinafter also referred to as a lactone ring-containing polymer) is not particularly limited as long as it is a (meth) acrylic polymer having a lactone ring in the main chain, but preferably Has a lactone ring structure represented by the following general formula (101).

Figure 2014095731
Figure 2014095731

一般式(401)中、R111、R112及びR113は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素
原子数1〜20の有機残基を表し、有機残基は酸素原子を含有していてもよい。ここで、炭素原子数1〜20の有機残基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基などが好ましい。
In formula (401), R 111 , R 112 and R 113 each independently represent a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms, and the organic residue may contain an oxygen atom. . Here, the organic residue having 1 to 20 carbon atoms is preferably a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, or the like.

ラクトン環含有重合体の構造中における上記一般式(101)で示されるラクトン環構造の含有割合は、好ましくは5〜90質量%、より好ましくは10〜70質量%、さらに好ましくは10〜60質量%、特に好ましくは10〜50質量%である。ラクトン環構造の含有割合を5質量%以上とすることにより、得られた重合体の耐熱性、及び表面硬度が向上する傾向にあり、ラクトン環構造の含有割合を90質量%以下とすることにより、得られた重合体の成形加工性が向上する傾向にある。   The content ratio of the lactone ring structure represented by the general formula (101) in the structure of the lactone ring-containing polymer is preferably 5 to 90% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, and still more preferably 10 to 60% by mass. %, Particularly preferably 10 to 50% by mass. By setting the content ratio of the lactone ring structure to 5% by mass or more, the heat resistance and surface hardness of the obtained polymer tend to be improved, and by setting the content ratio of the lactone ring structure to 90% by mass or less. The moldability of the obtained polymer tends to be improved.

ラクトン環含有重合体の製造方法については、特に限定はされないが、好ましくは、重合工程によって分子鎖中に水酸基とエステル基とを有する重合体(p)を得た後に、得られた重合体(p)を加熱処理することによりラクトン環構造を重合体に導入するラクトン環化縮合工程を行うことによって得られる。   The method for producing the lactone ring-containing polymer is not particularly limited, but preferably, after obtaining a polymer (p) having a hydroxyl group and an ester group in the molecular chain by a polymerization step, the obtained polymer ( It is obtained by carrying out a lactone cyclization condensation step for introducing a lactone ring structure into the polymer by heat-treating p).

ラクトン環含有重合体の質量平均分子量は、好ましくは1,000〜2,000,000、より好ましくは5,000〜1,000,000、さらに好ましくは10,000〜500,000、特に好ましくは50,000〜500,000である。   The mass average molecular weight of the lactone ring-containing polymer is preferably 1,000 to 2,000,000, more preferably 5,000 to 1,000,000, still more preferably 10,000 to 500,000, particularly preferably. 50,000 to 500,000.

ラクトン環含有重合体は、ダイナミックTG測定における150〜300℃の範囲内での質量減少率が、好ましくは1%以下、より好ましくは0.5%以下、さらに好ましくは0.3%以下であるのがよい。ダイナミックTGの測定方法については、特開2002−138106号公報に記載の方法を用いることができる。   The lactone ring-containing polymer has a mass reduction rate within a range of 150 to 300 ° C. in dynamic TG measurement, preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, and still more preferably 0.3% or less. It is good. As a method for measuring dynamic TG, the method described in JP-A-2002-138106 can be used.

ラクトン環含有重合体は、環化縮合反応率が高いので、成型品の製造過程で脱アルコール反応が少なく、該アルコールを原因とした成形後の成形品中に泡や銀条(シルバーストリーク)が入るという欠点が回避できる。さらに、高い環化縮合反応率によって、ラクトン環構造が重合体に充分に導入されるので、得られたラクトン環含有重合体は高い耐熱性を有する。   Since the lactone ring-containing polymer has a high cyclization condensation reaction rate, there is little dealcoholization reaction in the production process of the molded product, and bubbles and silver stripes (silver streaks) are formed in the molded product after molding due to the alcohol. The disadvantage of entering can be avoided. Furthermore, since the lactone ring structure is sufficiently introduced into the polymer due to a high cyclization condensation reaction rate, the obtained lactone ring-containing polymer has high heat resistance.

ラクトン環含有重合体は、濃度15質量%のクロロホルム溶液にした場合、その着色度(YI)が、好ましくは6以下、より好ましくは3以下、さらに好ましくは2以下、特に好ましくは1以下である。着色度(YI)が6以下であれば、着色により透明性が損なわれるなどの不具合が生じにくいので、本発明において好ましく使用することができる。   The lactone ring-containing polymer has a coloring degree (YI) of preferably 6 or less, more preferably 3 or less, still more preferably 2 or less, and particularly preferably 1 or less when a chloroform solution having a concentration of 15% by mass is used. . If the degree of coloring (YI) is 6 or less, problems such as loss of transparency due to coloring are unlikely to occur, and therefore, it can be preferably used in the present invention.

ラクトン環含有重合体は、熱質量分析(TG)における5%質量減少温度が、好ましくは330℃以上、より好ましくは350℃以上、さらに好ましくは360℃以上である。熱質量分析(TG)における5%質量減少温度は、熱安定性の指標であり、これを330℃以上とすることにより、充分な熱安定性が発揮されやすい傾向にある。熱質量分析は、上記ダイナミックTGの測定の装置を使用することができる。   The lactone ring-containing polymer has a 5% mass reduction temperature in thermal mass spectrometry (TG) of preferably 330 ° C. or higher, more preferably 350 ° C. or higher, and still more preferably 360 ° C. or higher. The 5% mass reduction temperature in thermal mass spectrometry (TG) is an indicator of thermal stability, and by setting it to 330 ° C. or higher, sufficient thermal stability tends to be exhibited. The thermal mass spectrometry can use the apparatus for measuring the dynamic TG.

ラクトン環含有重合体は、ガラス転移温度(Tg)が、好ましくは115℃以上、より好ましくは125℃以上、さらに好ましくは130℃以上、特に好ましくは135℃以上、最も好ましくは140℃以上である。   The lactone ring-containing polymer has a glass transition temperature (Tg) of preferably 115 ° C. or higher, more preferably 125 ° C. or higher, further preferably 130 ° C. or higher, particularly preferably 135 ° C. or higher, and most preferably 140 ° C. or higher. .

ラクトン環含有重合体は、それに含まれる残存揮発分の総量が、好ましくは5,000ppm以下、より好ましくは2,000ppm以下、さらに好ましくは1,500ppm、特に好ましくは1,000ppmである。残存揮発分の総量が5,000ppm以下であれば、成形時の変質などによって着色したり、発泡したり、シルバーストリークなどの成形不良が起こりにくくなるので好ましい。   The total amount of residual volatile components contained in the lactone ring-containing polymer is preferably 5,000 ppm or less, more preferably 2,000 ppm or less, still more preferably 1,500 ppm, and particularly preferably 1,000 ppm. If the total amount of residual volatile components is 5,000 ppm or less, it is preferable because coloring defects due to alteration during molding, foaming, and molding defects such as silver streak are unlikely to occur.

ラクトン環含有重合体は、射出成形により得られる成形品に対するASTM−D−1003に準拠した方法で測定された全光線透過率が、好ましくは85%以上、より好ましくは88%以上、さらに好ましくは90%以上である。全光線透過率は、透明性の指標であり、これを85%以上とすると、透明性が向上する傾向にある。   The lactone ring-containing polymer has a total light transmittance of 85% or more, more preferably 88% or more, and still more preferably measured by a method based on ASTM-D-1003 for a molded product obtained by injection molding. 90% or more. The total light transmittance is an index of transparency, and when it is 85% or more, the transparency tends to be improved.

溶剤を用いた重合形態の場合、重合溶剤は特に限定されず、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤;テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤;などが挙げられ、これらの1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、本発明の製造方法の第一の態様では、(メタ)アクリル系樹脂を有機溶媒に溶解させて溶液流延を行って形成するため、(メタ)アクリル系樹脂の合成時における有機溶媒は、溶融製膜を行う場合よりも限定されず、沸点が高い有機溶媒を用いて合成してもよい。
In the case of a polymerization form using a solvent, the polymerization solvent is not particularly limited. For example, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, and ethylbenzene; ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; ether solvents such as tetrahydrofuran Etc., and only one of these may be used, or two or more may be used in combination.
In the first aspect of the production method of the present invention, the (meth) acrylic resin is dissolved in an organic solvent and cast by solution casting. Therefore, the organic solvent at the time of synthesizing the (meth) acrylic resin is There is no limitation as compared with the case of performing melt film formation, and synthesis may be performed using an organic solvent having a high boiling point.

重合反応時には、必要に応じて、重合開始剤を添加してもよい。重合開始剤としては特に限定されないが、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエートなどの有機過酸化物;2,2´−アゾビス(イソブチロニトリル)、1,1´−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)、2,2´−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)などのアゾ化合物;などが挙げられ、これらは1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。重合開始剤の使用量は、用いる単量体の組み合わせや反応条件などに応じて適宜設定すればよく、特に限定されない。
重合開始剤の量の調整により、重合体の重量平均分子量を調整することができる。
During the polymerization reaction, a polymerization initiator may be added as necessary. Although it does not specifically limit as a polymerization initiator, For example, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, t-butylperoxyisopropyl carbonate, t-amyl Organic peroxides such as peroxy-2-ethylhexanoate; 2,2′-azobis (isobutyronitrile), 1,1′-azobis (cyclohexanecarbonitrile), 2,2′-azobis (2, Azo compounds such as 4-dimethylvaleronitrile), and the like. These may be used alone or in combination of two or more. The amount of the polymerization initiator used is not particularly limited as long as it is appropriately set according to the combination of the monomers used and the reaction conditions.
The weight average molecular weight of the polymer can be adjusted by adjusting the amount of the polymerization initiator.

重合を行う際には、反応液のゲル化を抑止するために、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が50質量%以下となるように制御することが好ましい。具体的には、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が50質量%を超える場合には、重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加して50質量%以下となるように制御することが好ましい。重合反応混合物中の生成した重合体の濃度は、より好ましくは45質量%以下、更に好ましくは40質量%以下である。   When performing the polymerization, it is preferable to control the concentration of the produced polymer in the polymerization reaction mixture to be 50% by mass or less in order to suppress gelation of the reaction solution. Specifically, when the concentration of the produced polymer in the polymerization reaction mixture exceeds 50% by mass, it is preferable that the polymerization solvent is appropriately added to the polymerization reaction mixture and controlled to be 50% by mass or less. . The concentration of the produced polymer in the polymerization reaction mixture is more preferably 45% by mass or less, still more preferably 40% by mass or less.

重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加する形態としては、特に限定されず、連続的に重合溶剤を添加してもよいし、間欠的に重合溶剤を添加してもよい。このように重合反応混合物中の生成した重合体の濃度を制御することによって、反応液のゲル化をより十分に抑止することができる。添加する重合溶剤としては、重合反応の初期仕込み時に用いた溶剤と同じ種類の溶剤であってもよいし、異なる種類の溶剤であってもよいが、重合反応の初期仕込み時に用いた溶剤と同じ種類の溶剤を用いることが好ましい。また、添加する重合溶剤は、1種のみの溶剤であってもよいし、2種以上の混合溶剤であってもよい。   The form in which the polymerization solvent is appropriately added to the polymerization reaction mixture is not particularly limited, and the polymerization solvent may be added continuously or intermittently. By controlling the concentration of the produced polymer in the polymerization reaction mixture in this way, the gelation of the reaction solution can be more sufficiently suppressed. The polymerization solvent to be added may be the same type of solvent used during the initial charging of the polymerization reaction or may be a different type of solvent, but is the same as the solvent used during the initial charging of the polymerization reaction. It is preferable to use different types of solvents. Further, the polymerization solvent to be added may be only one type of solvent or a mixed solvent of two or more types.

(主鎖に無水グルタル酸環構造を有する重合体)
主鎖に無水グルタル酸環構造を有する重合体とは、グルタル酸無水物単位を有する重合体を表す。
(Polymer having glutaric anhydride ring structure in the main chain)
The polymer having a glutaric anhydride ring structure in the main chain represents a polymer having glutaric anhydride units.

グルタル酸無水物単位を有する重合体は、下記一般式(102)で表されるグルタル酸無水物単位(以下、グルタル酸無水物単位と呼ぶ)を有することが好ましい。   The polymer having a glutaric anhydride unit preferably has a glutaric anhydride unit represented by the following general formula (102) (hereinafter referred to as a glutaric anhydride unit).

一般式(102):   Formula (102):

Figure 2014095731
Figure 2014095731

一般式(102)中、R31、R32は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜20の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。R31、R32は、特に好ましくは、同一又は相異なる、水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表す。 In the general formula (102), R 31, R 32 each independently represent a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms. The organic residue may contain an oxygen atom. R 31 and R 32 particularly preferably represent the same or different hydrogen atoms or alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms.

グルタル酸無水物単位を有する重合体は、グルタル酸無水物単位を含有する(メタ)アクリル系重合体であることが好ましい。(メタ)アクリル系重合体としては、耐熱性の点から120℃以上のガラス転移温度(Tg)を有することが好ましい。   The polymer having a glutaric anhydride unit is preferably a (meth) acrylic polymer containing a glutaric anhydride unit. The (meth) acrylic polymer preferably has a glass transition temperature (Tg) of 120 ° C. or higher from the viewpoint of heat resistance.

(メタ)アクリル系重合体に対するグルタル酸無水物単位の含有量としては、5〜50質量%が好ましく、より好ましくは10〜45質量%である。5質量%以上、より好ましくは10質量%以上とすることにより、耐熱性向上の効果を得ることができ、さらには耐候性向上の効果を得ることもできる。   As content of the glutaric anhydride unit with respect to a (meth) acrylic-type polymer, 5-50 mass% is preferable, More preferably, it is 10-45 mass%. When the content is 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, an effect of improving heat resistance can be obtained, and further an effect of improving weather resistance can be obtained.

また、上記の(メタ)アクリル系共重合体は、さらに不飽和カルボン酸アルキルエステルに基づく繰り返し単位を含むことが好ましい。不飽和カルボン酸アルキルエステルに基づく繰り返し単位として、例えば、下記一般式(103)で表されるものが好ましい。
一般式(103):−[CH2−C(R41)(COOR42)]−
Moreover, it is preferable that said (meth) acrylic-type copolymer contains the repeating unit based on unsaturated carboxylic-acid alkylester further. As the repeating unit based on the unsaturated carboxylic acid alkyl ester, for example, those represented by the following general formula (103) are preferred.
Formula (103): - [CH 2 -C (R 41) (COOR 42)] -

一般式(103)中、R41は水素又は炭素数1〜5のアルキル基を表し、R42)は炭素数1〜6の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基、又は1個以上炭素数以下の数の水酸基もしくはハロゲンで置換された炭素数1〜6の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基を表す。 In General Formula (103), R 41 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 42 ) represents an aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or one or more carbon atoms inclusive. Represents an aliphatic or alicyclic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms substituted by the number of hydroxyl groups or halogen.

一般式(103)で表される繰り返し単位に対応する単量体は下記一般式(104)で表される。
一般式(104):CH2=C(R41)(COOR42
The monomer corresponding to the repeating unit represented by the general formula (103) is represented by the following general formula (104).
Formula (104): CH 2 = C (R 41) (COOR 42)

このような単量体の好ましい具体例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸n−へキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸クロロメチル、(メタ)アクリル酸2−クロロエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2,3,4,5,6−ペンタヒドロキシヘキシル及び(メタ)アクリル酸2,3,4,5−テトラヒドロキシペンチルなどが挙げられ、中でもメタクリル酸メチルが最も好ましく用いられる。これらはその1種を単独で用いてもよいし、又は2種以上を併用してもよい。   Preferred examples of such monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid. t-butyl, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, chloromethyl (meth) acrylate, 2-chloroethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth ) 3-hydroxypropyl acrylate, 2,3,4,5,6-pentahydroxyhexyl (meth) acrylate and 2,3,4,5-tetrahydroxypentyl (meth) acrylate, among others, methacryl Methyl acid is most preferably used. These may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

上記の(メタ)アクリル系重合体に対する不飽和カルボン酸アルキルエステル単位の含有量は、50〜95質量%が好ましく、より好ましくは55〜90質量%である。グルタル酸無水物単位と不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位とを有する(メタ)アクリル系重合体は、例えば、不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位と不飽和カルボン酸単位とを有する共重合体を重合環化させることにより得ることができる。   The content of the unsaturated carboxylic acid alkyl ester unit relative to the (meth) acrylic polymer is preferably 50 to 95% by mass, more preferably 55 to 90% by mass. A (meth) acrylic polymer having a glutaric anhydride unit and an unsaturated carboxylic acid alkyl ester unit is obtained by polymerizing a copolymer having an unsaturated carboxylic acid alkyl ester unit and an unsaturated carboxylic acid unit, for example. It can be obtained by cyclization.

不飽和カルボン酸単位としては、例えば、下記一般式(105)で表されるものが好ましい。
一般式(105):−[CH2―C(R51)(COOH)]−
ここでR51は水素又は炭素数1〜5のアルキル基を表す。
As an unsaturated carboxylic acid unit, what is represented, for example by the following general formula (105) is preferable.
Formula (105): - [CH 2 -C (R 51) (COOH)] -
Here, R 51 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

不飽和カルボン酸単位を誘導する単量体の好ましい具体例としては、一般式(105)で表される繰り返し単位に対応する単量体である下記一般式(106)で表される化合物、ならびにマレイン酸、及び更には無水マレイン酸の加水分解物などが挙げられるが、熱安定性が優れる点でアクリル酸、メタクリル酸が好ましく、より好ましくはメタクリル酸である。
一般式(106):CH2=C(R51)(COOH)
Preferable specific examples of the monomer for deriving the unsaturated carboxylic acid unit include a compound represented by the following general formula (106) which is a monomer corresponding to the repeating unit represented by the general formula (105), and Examples thereof include maleic acid and a hydrolyzate of maleic anhydride, and acrylic acid and methacrylic acid are preferable, and methacrylic acid is more preferable in terms of excellent thermal stability.
Formula (106): CH 2 = C (R 51) (COOH)

これらはその1種を単独で用いてもよいし、又は2種以上を併用してもよい。上記のように、グルタル酸無水物単位と不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位とを有するアクリル系熱可塑性共重合体は、例えば不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位と不飽和カルボン酸単位とを有する共重合体を重合環化させることにより得ることができるものであるから、その構成単位中に不飽和カルボン酸単位を残して有していてもよい。   These may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together. As described above, an acrylic thermoplastic copolymer having a glutaric anhydride unit and an unsaturated carboxylic acid alkyl ester-based unit is, for example, a copolymer having an unsaturated carboxylic acid alkyl ester-based unit and an unsaturated carboxylic acid unit. Since the polymer can be obtained by cyclization of the polymer, it may have an unsaturated carboxylic acid unit in its constituent unit.

上記の(メタ)アクリル系重合体に対する不飽和カルボン酸単位の含有量としては10質量%以下が好ましく、より好ましくは5質量%以下である。10質量%以下とすることで、無色透明性、滞留安定性の低下を防ぐことができる。   As content of the unsaturated carboxylic acid unit with respect to said (meth) acrylic-type polymer, 10 mass% or less is preferable, More preferably, it is 5 mass% or less. By setting the content to 10% by mass or less, it is possible to prevent a decrease in colorless transparency and retention stability.

また、前記(メタ)アクリル系重合体には、本発明の効果を損なわない範囲で、芳香環を含まないその他のビニル系単量体単位を有していてもよい。芳香環を含まないその他のビニル系単量体単位の具体例としては、対応する単量体でいうと、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリルなどのシアン化ビニル系単量体;アリルグリシジルエーテル;無水マレイン酸、無水イタコン酸;N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、ブトキシメチルアクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミド;アクリル酸アミノエチル、アクリル酸プロピルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸エチルアミノプロピル、メタクリル酸シクロヘキシルアミノエチル;N−ビニルジエチルアミン、N−アセチルビニルアミン、アリルアミン、メタアリルアミン、N−メチルアリルアミン;2−イソプロペニル−オキサゾリン、2−ビニル−オキサゾリン、2−アクロイル−オキサゾリンなどを挙げることができる。これらはその1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   Moreover, the said (meth) acrylic-type polymer may have the other vinyl-type monomer unit which does not contain an aromatic ring in the range which does not impair the effect of this invention. Specific examples of other vinyl monomer units that do not contain an aromatic ring include the corresponding monomers: vinyl cyanide monomers such as acrylonitrile, methacrylonitrile, ethacrylonitrile; allyl glycidyl ether Maleic anhydride, itaconic anhydride; N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, acrylamide, methacrylamide, N-methylacrylamide, butoxymethylacrylamide, N-propylmethacrylamide; aminoethyl acrylate, acrylic Propylaminoethyl acid, dimethylaminoethyl methacrylate, ethylaminopropyl methacrylate, cyclohexylaminoethyl methacrylate; N-vinyldiethylamine, N-acetylvinylamine, allylamine, methallylamino , N- methyl-allyl amine; 2-isopropenyl - oxazoline, 2-vinyl - oxazoline, 2-acryloyl - oxazoline, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

上記の(メタ)アクリル系重合体に対する、芳香環を含まないその他のビニル系単量体単位の含有量としては、35質量%以下が好ましい。   As content of the other vinyl-type monomer unit which does not contain an aromatic ring with respect to said (meth) acrylic-type polymer, 35 mass% or less is preferable.

なお、芳香環を含むビニル系単量体単位(N−フェニルマレイミド、メタクリル酸フェニルアミノエチル、p−グリシジルスチレン、p−アミノスチレン、2−スチリル−オキサゾリンなど)ついては、耐擦傷性、耐候性を低下させる傾向にあるため、前記の(メタ)アクリル系重合体に対する含有量としては1質量%以下にとどめるのが好ましい。   For vinyl monomer units containing an aromatic ring (N-phenylmaleimide, phenylaminoethyl methacrylate, p-glycidylstyrene, p-aminostyrene, 2-styryl-oxazoline, etc.), they have scratch resistance and weather resistance. Since there exists a tendency to reduce, it is preferable to keep it as 1 mass% or less as content with respect to the said (meth) acrylic-type polymer.

(主鎖にグルタルイミド環構造を有する(メタ)アクリル系重合体)
前記主鎖にグルタルイミド環構造を有する(メタ)アクリル系重合体(以降グルタルイミド系樹脂とも称す)は、主鎖にグルタルイミド環構造を有することによって光学特性や耐熱性などの点で好ましい特性バランスを発現できる。前記、主鎖にグルタルイミド環構造を有する(メタ)アクリル系重合体は、少なくとも下記一般式(107):
((Meth) acrylic polymer with glutarimide ring structure in the main chain)
The (meth) acrylic polymer having a glutarimide ring structure in the main chain (hereinafter also referred to as a glutarimide resin) has preferable characteristics in terms of optical properties and heat resistance by having a glutarimide ring structure in the main chain. Balance can be expressed. The (meth) acrylic polymer having a glutarimide ring structure in the main chain is at least the following general formula (107):

Figure 2014095731
Figure 2014095731

で表されるグルタルイミド単位(但し、式中、R301、R302、R303は独立に水素または
炭素数1〜12個の非置換のまたは置換のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基である。)を20質量%以上有するグルタルイミド樹脂を含有することが好ましい。
Wherein R 301 , R 302 and R 303 are independently hydrogen or an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group or an aryl group. It is preferable to contain a glutarimide resin having 20% by mass or more.

本発明に用いられるグルタルイミド系樹脂を構成する好ましいグルタルイミド単位としては、R301、R302が水素またはメチル基であり、R303がメチル基またはシクロヘキシル基である。該グルタルイミド単位は、単一の種類でもよく、R301、R302、R303が異なる複数の種類を含んでいてもかまわない。 As preferred glutarimide units constituting the glutarimide resin used in the present invention, R 301 and R 302 are hydrogen or a methyl group, and R 303 is a methyl group or a cyclohexyl group. The glutarimide unit may be a single type, or may include a plurality of types in which R 301 , R 302 , and R 303 are different.

本発明に用いられる、グルタルイミド系樹脂を構成する好ましい第二の構成単位としては、アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルからなる単位である。好ましいアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステル構成単位としてはアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸メチル等が挙げられる。また、別の好ましいイミド化可能な単位として、N−メチルメタクリルアミドや、N−エチルメタクリルアミドのような、N−アルキルメタクリルアミドが挙げられる。これら第二の構成単位は単独の種類でもよく、複数の種類を含んでいてもかまわない。   A preferred second structural unit constituting the glutarimide resin used in the present invention is a unit composed of an acrylate ester or a methacrylate ester. Preferable acrylic acid ester or methacrylic acid ester structural unit includes methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, methyl methacrylate and the like. Another preferred imidizable unit includes N-alkyl methacrylamide such as N-methyl methacrylamide and N-ethyl methacrylamide. These second structural units may be of a single type or may include a plurality of types.

グルタルイミド系樹脂の、一般式(107)で表されるグルタルイミド単位の含有量は、グルタルイミド系樹脂の総繰り返し単位を基準として、20質量%以上である。グルタルイミド単位の、好ましい含有量は、20質量%から95質量%であり、より好ましくは50〜90質量%、さらに好ましくは、60〜80質量%である。グルタルイミド単位がこの範囲より小さい場合、得られるフィルムの耐熱性が不足したり透明性が損なわれることがある。また、この範囲を超えると不必要に耐熱性が上がりフィルム化しにくくなる他、得られるフィルムの機械的強度は極端に脆くなり、また、透明性が損なわれることがある。   The content of the glutarimide unit represented by the general formula (107) in the glutarimide resin is 20% by mass or more based on the total repeating unit of the glutarimide resin. The preferable content of the glutarimide unit is 20% by mass to 95% by mass, more preferably 50 to 90% by mass, and still more preferably 60 to 80% by mass. When a glutarimide unit is smaller than this range, the heat resistance of the film obtained may be insufficient or transparency may be impaired. On the other hand, if it exceeds this range, the heat resistance is unnecessarily increased and it becomes difficult to form a film, the mechanical strength of the resulting film becomes extremely brittle, and the transparency may be impaired.

グルタルイミド系樹脂は、必要に応じ、更に、第三の構成単位が共重合されていてもかまわない。好ましい第三の構成単位の例としては、スチレン、置換スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン系単量体、ブチルアクリレートなどのアクリル系単量体、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のニトリル系単量体、マレイミド、N−メチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミドなどのマレイミド系単量体を共重合してなる構成単位を用いることができる。これらはグルタルイミド系樹脂中に、該グルタルイミド単位とイミド化可能な単位と直接共重合してあっても良く、また、該グルタルイミド単位とイミド化可能な単位を有する樹脂に対してグラフト共重合してあってもかまわない。第3成分は、これを添加する場合は、グルタルイミド系樹脂中の含有率は、グルタルイミド系樹脂中の総繰り返し単位を基準として5モル%以上、30モル%以下であることが好ましい。   The glutarimide-based resin may be further copolymerized with a third structural unit as necessary. Preferred examples of the third structural unit include styrene monomers such as styrene, substituted styrene and α-methylstyrene, acrylic monomers such as butyl acrylate, and nitrile monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile. , A structural unit obtained by copolymerizing maleimide monomers such as maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide can be used. These may be directly copolymerized with the glutarimide unit and the imidizable unit in the glutarimide resin, and graft copolymerized with the resin having the glutarimide unit and the imidizable unit. It may be polymerized. When the third component is added, the content in the glutarimide resin is preferably 5 mol% or more and 30 mol% or less based on the total repeating units in the glutarimide resin.

グルタルイミド系樹脂は、米国特許3284425号、米国特許4246374号、特開平2−153904号公報等に記載されており、イミド化可能な単位を有する樹脂としてメタクリル酸メチルエステルなどを主原料として得られる樹脂を用い、該イミド化可能な単位を有する樹脂をアンモニアまたは置換アミンを用いてイミド化することにより得ることができる。グルタルイミド系樹脂を得る際に、反応副生成物としてアクリル酸やメタクリル酸、あるいはその無水物から構成される単位がグルタルイミド系樹脂中に導入される場合がある。このような構成単位、特に酸無水物の存在は、得られる本発明フィルムの全光線透過率やヘーズを低下させるため、好ましくない。アクリル酸やメタクリル酸含量として、樹脂1g当たり0.5ミリ当量以下、好ましくは0.3ミリ当量以下、より好ましくは0.1ミリ当量以下とすることが望ましい。また、特開平02−153904号公報にみられるように、主としてN−メチルアクリルアミドとメタクリル酸メチルエステルから成る樹脂を用いてイミド化することにより、グルタルイミド系樹脂を得ることも可能である。   The glutarimide resin is described in US Pat. No. 3,284,425, US Pat. No. 4,246,374, JP-A-2-153904, and the like, and is obtained by using methyl methacrylate as a main raw material as a resin having an imidizable unit. It can be obtained by using a resin and imidizing the resin having an imidizable unit with ammonia or a substituted amine. When obtaining a glutarimide resin, a unit composed of acrylic acid, methacrylic acid, or an anhydride thereof may be introduced into the glutarimide resin as a reaction by-product. The presence of such a structural unit, particularly an acid anhydride, is not preferable because it reduces the total light transmittance and haze of the obtained film of the present invention. The acrylic acid or methacrylic acid content is 0.5 milliequivalent or less per gram of resin, preferably 0.3 milliequivalent or less, more preferably 0.1 milliequivalent or less. In addition, as seen in JP-A No. 02-153904, it is also possible to obtain a glutarimide resin by imidization using a resin mainly composed of N-methylacrylamide and methacrylic acid methyl ester.

また、グルタルイミド系樹脂は、1×104ないし5×105の重量平均分子量を有することが好ましい。 The glutarimide resin preferably has a weight average molecular weight of 1 × 10 4 to 5 × 10 5 .

<紫外線吸収剤>
前記基材フィルムに好ましく使用される紫外線吸収剤について説明する。前記基材フィルムを含む本発明の光学フィルムは、偏光板または液晶表示用部材等に使用されるが、偏光板または液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。紫外線吸収剤は1種のみ用いても良いし、2種以上を併用しても良い。例えば、特開2001−72782号公報や特表2002−543265号公報に記載の紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。
<Ultraviolet absorber>
The ultraviolet absorber preferably used for the base film will be described. The optical film of the present invention including the base film is used for a polarizing plate, a liquid crystal display member, or the like. From the viewpoint of preventing deterioration of the polarizing plate or the liquid crystal, an ultraviolet absorber is preferably used. As the ultraviolet absorber, those excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties. Only one type of ultraviolet absorber may be used, or two or more types may be used in combination. For example, the ultraviolet absorber as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-72782 and Special Table 2002-543265 is mentioned. Specific examples of the ultraviolet absorber include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, and the like.

その中でも、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン、ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)、(2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2(2’−ヒドロキシ−3’,5‘−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール、(2(2’−ヒドロキシ−3’,5‘−ジ−tert−アミルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイトなどが挙げられる。特に(2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2(2’−ヒドロキシ−3’,5‘−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール、(2(2’−ヒドロキシ−3’,5‘−ジ−tert−アミルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕が好ましい。また例えば、N,N′−ビス〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕ヒドラジンなどのヒドラジン系の金属不活性剤やトリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)フォスファイトなどの燐系加工安定剤を併用してもよい。   Among them, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2′- Hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2 '-Hydroxy-3'-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole, 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3 -Tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol), 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methyl) Enyl) -5-chlorobenzotriazole, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, bis (2-methoxy-4-hydroxy) -5-benzoylphenylmethane), (2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-tert-butylanilino) -1,3,5-triazine, 2 (2 '-Hydroxy-3', 5'-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, (2 (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-amylphenyl) -5-chlorobenzo Triazole, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-tert-butylanilino) -1 , 3,5-triazine, 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-tert- Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N′-hexamethylenebis (3,5-di-tert-butyl-4- Hydroxy-hydrocinnamide), 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tris- (3,5-di-tert-butyl) -4-hydroxybenzyl) -isocyanurate and the like. In particular, (2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-tert-butylanilino) -1,3,5-triazine, 2 (2′-hydroxy-3 ′, 5'-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, (2 (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-amylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2,6-di -Tert-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl -5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], for example, N, N'-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4 Hydroxyphenyl) may be used in combination with phosphorus-based processing stabilizer such as metal hydrazine systems such as propionyl] hydrazine deactivator and tris (2,4-di -tert- butylphenyl) phosphite.

紫外線吸収剤は、紫外線吸収能を有する構成単位として樹脂に導入することもできる。例えば、重合性基を導入したベンゾトリアゾール誘導体、トリアジン誘導体またはベンゾフェノン誘導体である。導入する重合性基は、樹脂が有する構成単位に応じて、適宜選択できる。   An ultraviolet absorber can also be introduce | transduced into resin as a structural unit which has an ultraviolet absorptivity. For example, a benzotriazole derivative, a triazine derivative or a benzophenone derivative into which a polymerizable group is introduced. The polymerizable group to be introduced can be appropriately selected according to the structural unit of the resin.

紫外線吸収能を有する単量体の具体例は、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロイルオキシ)エチルフェニル−2H−ベンゾトリアゾール(大塚化学製、商品名RUVA−93)、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロイルオキシ)フェニル−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メタクリロイルオキシ)フェニル−2H−ベンゾトリアゾールである。   Specific examples of the monomer having ultraviolet absorbing ability include 2- (2′-hydroxy-5′-methacryloyloxy) ethylphenyl-2H-benzotriazole (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., trade name RUVA-93), 2- (2 '-Hydroxy-5'-methacryloyloxy) phenyl-2H-benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methacryloyloxy) phenyl-2H-benzotriazole.

(その他の添加剤)
前記基材フィルムには、マット剤、レターデーション発現剤、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外線吸収剤、波長分散調整剤、透湿度低減化合物などの添加剤を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば20℃以下と20℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開2001−151901号などに記載されている。更にまた、赤外吸収染料としては例えば特開2001−194522号に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、光学フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開2001−151902号などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報(公技番号2001−1745、2001年3月15日発行、発明協会)にて16頁〜22頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
(Other additives)
Additives such as a matting agent, a retardation developer, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a deterioration preventing agent, a release agent, an infrared absorber, a wavelength dispersion adjusting agent, and a moisture permeability reducing compound may be added to the base film. They can be solid or oily. That is, the melting point and boiling point are not particularly limited. For example, mixing of ultraviolet absorbing material at 20 ° C. or lower and 20 ° C. or higher, and similarly mixing of a plasticizer is described in, for example, JP-A-2001-151901. Furthermore, infrared absorbing dyes are described in, for example, JP-A No. 2001-194522. Moreover, the addition time may be added at any time in the dope preparation step, but may be added by adding an additive to the final preparation step of the dope preparation step. Furthermore, the amount of each material added is not particularly limited as long as the function is manifested. Moreover, when an optical film is formed from a multilayer, the kind and addition amount of the additive of each layer may differ. For example, it is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-151902, and these are conventionally known techniques. For these details, materials described in detail on pages 16 to 22 in the Japan Institute of Invention Disclosure Technical Bulletin (Public Technical No. 2001-1745, published on March 15, 2001, Japan Institute of Invention) are preferably used.

<透湿度低減化合物>
その他の添加剤のうち、透湿度低減化合物について下記に詳細に述べる。前記基材フィルムは、透湿度低減化合物を含むことも好ましい。ポリマー単独で低透湿なポリマーは溶剤への溶解性が低く製造プロセスでの問題が多い。ポリマーと透湿度低減化合物の複合による透湿度を下げる事により、低透湿と溶解性(製造適性)の両立が可能となり、透湿度低減化合物を含むことが好ましい。
<Moisture permeability reducing compound>
Of the other additives, the moisture permeability reducing compound is described in detail below. It is also preferable that the base film contains a moisture permeability reducing compound. A polymer having low moisture permeability due to the polymer alone has a low solubility in a solvent and has many problems in the production process. By reducing the moisture permeability by combining the polymer and the moisture permeability reducing compound, it becomes possible to achieve both low moisture permeability and solubility (manufacturability), and it is preferable to include a moisture permeability reducing compound.

上記の透湿度低減化合物は、芳香族環を1つ以上含む構造であってもよい。芳香族環によって、疎水的な性質をフィルムに付与でき、水分の透過、脱着を抑制できる。   The moisture permeability reducing compound may have a structure including one or more aromatic rings. Hydrophobic properties can be imparted to the film by the aromatic ring, and moisture permeation and desorption can be suppressed.

前記基材フィルムが含む透湿度低減化合物として、下記一般式(A)で表される化合物を好ましく用いることができる。   As the moisture permeability reducing compound contained in the base film, a compound represented by the following general formula (A) can be preferably used.

Figure 2014095731
Figure 2014095731

(一般式(A)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9はそれぞれ独立
に水素原子または置換基を表す。)
(In general formula (A), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represents a hydrogen atom or a substituent.)

前記一般式(A)中のR1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9はそれぞれ
独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Tが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
In the general formula (A), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. The aforementioned substituent T can be applied. Further, these substituents may be further substituted with another substituent, and the substituents may be condensed to form a ring structure.

前記一般式(A)中のR1、R3、R4、R5、R6、R8およびR9として好ましくは水素
原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜12のアルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
R 1 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 8 and R 9 in the general formula (A) are preferably hydrogen atoms, alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, substituted or unsubstituted An amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, a hydroxy group and a halogen atom, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkyloxy group, an aryloxy group and a halogen atom, still more preferably a hydrogen atom, An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group, and most preferably a hydrogen atom.

前記一般式(A)中のR2として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数0〜20の置換または無置換のアミノ基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは炭素数1〜20のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数1〜12のアルコキシ基である。 R 2 in the general formula (A) is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, a hydroxy group, a halogen atom, or more. Preferred are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted amino group having 0 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, and a hydroxy group. More preferably, it is a C1-C20 alkoxy group, Most preferably, it is a C1-C12 alkoxy group.

前記一般式(A)中のR7として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数0〜20の置換または無置換のアミノ基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくはメチル基)であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。 R 7 in the general formula (A) is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, a hydroxy group, a halogen atom, or more. Preferably, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted amino group having 0 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, and a hydroxy group More preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (preferably 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably a methyl group), particularly preferably a methyl group or a hydrogen atom. Is an atom.

以下に前記一般式(A)で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。   Although the preferable example of a compound represented by the said general formula (A) below is shown below, this invention is not limited to these specific examples.

Figure 2014095731
Figure 2014095731

前記基材フィルムが含む透湿度低減化合物として、下記一般式(B)で表される化合物を好ましく用いることができる。
一般式(B)
As the moisture permeability reducing compound contained in the base film, a compound represented by the following general formula (B) can be preferably used.
General formula (B)

Figure 2014095731
Figure 2014095731

一般式(B)中、R12、R13、R14、R15、R16、R21、R23、R24、R25、R32、R33、R34、R35、R36は、それぞれ、水素原子または置換基を表し、置換基としては後述の置換基Tが適用できる。さらに、一般式(B)中、のR12、R13、R14、R15、R16、R21、R23、R24、R25、R32、R33、R34、R35およびR36のうち少なくとも1つはアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基である。 In the general formula (B), R 12, R 13, R 14, R 15, R 16, R 21, R 23, R 24, R 25, R 32, R 33, R 34, R 35, R 36 are, Each represents a hydrogen atom or a substituent, and the substituent T described below can be applied as the substituent. Further, in the general formula (B), R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 21 , R 23 , R 24 , R 25 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 and R At least one of 36 is an amino group, an acylamino group, an alkoxycarbonylamino group, an aryloxycarbonylamino group, a sulfonylamino group, a hydroxy group, a mercapto group, or a carboxyl group.

置換基Tとしては例えばアルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えばビニル基、アリル基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基などが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えばプロパルギル基、3−ペンチニル基などが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルオキシ基、2−ナフチルオキシ基などが挙げられる。)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜10であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜16、特に好ましくは炭素数0〜12であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは1〜12であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。)、シリル基(好ましくは、炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは、炭素数3〜24であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる)などが挙げられる。中でも、より好ましくはアルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基である。
これらの置換基は更に置換基Tで置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
Examples of the substituent T include an alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, and tert-butyl. Group, n-octyl group, n-decyl group, n-hexadecyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 carbon atoms). To 12, particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, such as vinyl group, allyl group, 2-butenyl group, and 3-pentenyl group), alkynyl group (preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably Has 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, and examples thereof include a propargyl group and a 3-pentynyl group.), Aryl (Preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group, a p-methylphenyl group, and a naphthyl group.), An amino group (Preferably has 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 10 carbon atoms, and particularly preferably 0 to 6 carbon atoms. For example, amino group, methylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, dibenzylamino group, etc. And an alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, and a butoxy group. ), An aryloxy group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyl A xy group, a 2-naphthyloxy group, etc.), an acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as an acetyl group, A benzoyl group, a formyl group, a pivaloyl group, etc.), an alkoxycarbonyl group (preferably having a carbon number of 2 to 20, more preferably a carbon number of 2 to 16, particularly preferably a carbon number of 2 to 12, such as methoxycarbonyl Group, an ethoxycarbonyl group, etc.), an aryloxycarbonyl group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably having 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 7 to 10 carbon atoms, such as a phenyloxycarbonyl group. An acyloxy group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, especially Preferably it is C2-C10, for example, an acetoxy group, a benzoyloxy group, etc. are mentioned. ), An acylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include an acetylamino group and a benzoylamino group), alkoxycarbonyl. An amino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as a methoxycarbonylamino group), an aryloxycarbonylamino group (preferably Has 7 to 20 carbon atoms, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as a phenyloxycarbonylamino group, and a sulfonylamino group (preferably 1 to 1 carbon atom). 20, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms. Nylamino group, benzenesulfonylamino group, etc.), sulfamoyl group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 16 carbon atoms, particularly preferably 0 to 12 carbon atoms, such as sulfamoyl group, methyl A sulfamoyl group, a dimethylsulfamoyl group, a phenylsulfamoyl group, etc.), a carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to carbon atoms). 12 and examples thereof include a carbamoyl group, a methylcarbamoyl group, a diethylcarbamoyl group, a phenylcarbamoyl group, etc.), an alkylthio group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably carbon atoms). Examples thereof include methylthio group and ethylthio group. ), An arylthio group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as a phenylthio group), a sulfonyl group (preferably C1-C20, More preferably, it is C1-C16, Most preferably, it is C1-C12, For example, a mesyl group, a tosyl group, etc. are mentioned), a sulfinyl group (preferably C1-C20, More preferably, it is C1-C16, Most preferably, it is C1-C12, for example, a methanesulfinyl group, a benzenesulfinyl group, etc.), a ureido group (preferably C1-C20, more preferably carbon) The number is 1 to 16, particularly preferably 1 to 12, and examples thereof include a ureido group, a methylureido group, and a phenylureido group. ), A phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as a diethylphosphoric acid amide group and a phenylphosphoric acid amide group. Hydroxy group, mercapto group, halogen atom (eg fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group, hydroxamic acid group, sulfino group, hydrazino group, imino group Group, heterocyclic group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples of the hetero atom include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom, specifically, for example, an imidazolyl group, a pyridyl group, and a quinolyl group. Group, furyl group, piperidyl group, morpholino group, benzoxazolyl group, benzimidazolyl group, benzthiazolyl group, etc. ), A silyl group (preferably having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably 3 to 24 carbon atoms, and examples thereof include a trimethylsilyl group and a triphenylsilyl group. For example). Among these, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, an alkoxy group, and an aryloxy group are more preferable, and an alkyl group, an aryl group, and an alkoxy group are more preferable.
These substituents may be further substituted with a substituent T. Moreover, when there are two or more substituents, they may be the same or different. If possible, they may be linked together to form a ring.

また、一般式(B)中、R12、R13、R14、R15、R16、R21、R23、R24、R25、R32、R33、R34、R35、R36のうち少なくとも1つはアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基であり、より好ましくはアミノ基、ヒドロキシ基であり、特に好ましくはヒドロキシ基である。また、これらの基は置換基によって置換されていてもよい。この場合の置換基として、上述の置換基Tが適用でき、好ましい範囲も同様である。 Further, in the general formula (B), R 12, R 13, R 14, R 15, R 16, R 21, R 23, R 24, R 25, R 32, R 33, R 34, R 35, R 36 At least one of them is an amino group, an acylamino group, an alkoxycarbonylamino group, an aryloxycarbonylamino group, a sulfonylamino group, a hydroxy group, a mercapto group, or a carboxyl group, more preferably an amino group or a hydroxy group. A hydroxy group is preferred. These groups may be substituted with a substituent. As the substituent in this case, the above-described substituent T can be applied, and the preferred range is also the same.

以下に前記一般式(B)で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。   Preferred examples of the compound represented by the general formula (B) are shown below, but the present invention is not limited to these specific examples.

Figure 2014095731
Figure 2014095731

Figure 2014095731
Figure 2014095731

前記基材フィルムが含む透湿度低減化合物として、ノボラック系化合物も好ましく用いることができる。
本発明に用いられるノボラック型フェノール樹脂としては特に限定しないが、一般に酸性物質を触媒として、フェノール類とアルデヒド類を反応させたものが好ましく用いられる。ノボラック型フェノール樹脂の原料となるフェノール類としては特に限定しないが、例えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール等のクレゾール、2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノール等のキシレノール、o−エチルフェノール、m−エチルフェノール、p−エチルフェノール等のエチルフェノール、イソプロピルフェノール、ブチルフェノール、p−tert−ブチルフェノール等のブチルフェノール、p−tert−アミルフェノール、p−オクチルフェノール、p−ノニルフェノール、p−クミルフェノール等のアルキルフェノール、フルオロフェノール、クロロフェノール、ブロモフェノール、ヨードフェノール等のハロゲン化フェノール、p−フェニルフェノール、アミノフェノール、ニトロフェノール、ジニトロフェノール、トリニトロフェノール等の1価フェノール置換体、および1−ナフトール、2−ナフトール等の1価のフェノール類、レゾルシン、アルキルレゾルシン、ピロガロール、カテコール、アルキルカテコール、ハイドロキノン、アルキルハイドロキノン、フロログルシン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ジヒドロキシナフタリン等の多価フェノール類などが挙げられる。これらを単独または2種類以上組み合わせて使用することができるが、通常、フェノール、クレゾールが多く用いられる。
As the moisture permeability reducing compound contained in the base film, a novolac compound can also be preferably used.
Although it does not specifically limit as a novolak type phenol resin used for this invention, Generally what reacted phenols and aldehydes using an acidic substance as a catalyst is used preferably. Although it does not specifically limit as phenols used as the raw material of a novolak-type phenol resin, For example, cresol, such as phenol, o-cresol, m-cresol, and p-cresol, 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2, 5-xylenol, 2,6-xylenol, 3,4-xylenol, xylenol such as 3,5-xylenol, ethylphenol such as o-ethylphenol, m-ethylphenol, p-ethylphenol, isopropylphenol, butylphenol, p -Alkylphenols such as butylphenol such as tert-butylphenol, p-tert-amylphenol, p-octylphenol, p-nonylphenol, p-cumylphenol, fluorophenol, chlorophenol, bromophenol, Halogenated phenols such as dephenol, monovalent phenol substitutes such as p-phenylphenol, aminophenol, nitrophenol, dinitrophenol and trinitrophenol, and monovalent phenols such as 1-naphthol and 2-naphthol, resorcin And polyhydric phenols such as alkylresorcin, pyrogallol, catechol, alkylcatechol, hydroquinone, alkylhydroquinone, phloroglucin, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, and dihydroxynaphthalene. Although these can be used individually or in combination of 2 or more types, generally phenol and cresol are often used.

上記の透湿度低減化合物は、前記基材フィルムにおいて、前記熱可塑性樹脂の質量に対し、10質量%以上100質量%以下の量で含むことが好ましい。より好ましくは15質量%以上90質量%以下であり、20質量%以上80質量%以下が更に好ましい。   The moisture permeability reducing compound is preferably included in the base film in an amount of 10% by mass to 100% by mass with respect to the mass of the thermoplastic resin. More preferably, they are 15 mass% or more and 90 mass% or less, and 20 mass% or more and 80 mass% or less are still more preferable.

また前記基材フィルムには、ゴム状粒子を含有しても良い。たとえば、軟質アクリル系樹脂、アクリルゴム、および、ゴム−アクリル系グラフト型コアシェルポリマーなどアクリル粒子、またはスチレン-エラストマー共重合体があげられる。さらに、特公昭60-17406、特公平3−39095号公報等に記載の、耐衝撃性、耐応力白化性が改善する添加剤も好ましく用いられる。   The base film may contain rubber-like particles. Examples thereof include acrylic particles such as soft acrylic resin, acrylic rubber, and rubber-acrylic graft type core-shell polymer, or styrene-elastomer copolymer. Furthermore, additives that improve impact resistance and stress whitening resistance described in JP-B-60-17406, JP-B-3-39095 and the like are also preferably used.

前記基材フィルムにおいては、これらの添加剤を添加する場合、添加剤の総量は、基材フィルムに対して50質量%以下であることが好ましく、30質量%以下であることが好ましい。
これらの添加剤により、フィルムの脆性が改良され、フィルムの耐折試験(180度折り曲げ時の割れ評価など)が大幅に改善する。
また、低ヘイズを達成するためには、上記添加物の屈折率は基材ポリマーと略同一の屈折率を持つ事が好ましく、屈折率差は0.5以下が好ましく、0.3以下がより好ましい。
In the said base film, when adding these additives, it is preferable that the total amount of an additive is 50 mass% or less with respect to a base film, and it is preferable that it is 30 mass% or less.
These additives improve the brittleness of the film and greatly improve the folding resistance test of the film (e.g., crack evaluation when bent 180 degrees).
In order to achieve low haze, the refractive index of the additive preferably has substantially the same refractive index as the base polymer, and the refractive index difference is preferably 0.5 or less, more preferably 0.3 or less. preferable.

(基材フィルムの厚さ)
前記基材フィルムの膜厚は、5〜100μmが好ましく、10〜80μmがより好ましく、15〜70μmが特に好ましく、20〜60μmがより特に好ましい。膜厚を前記の範囲に制御することで低透湿層を積層した後に液晶表示装置の置かれる環境、すなわち温湿度変化に伴うパネルのムラ小さくすることができる。
(Base film thickness)
The film thickness of the substrate film is preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 80 μm, particularly preferably 15 to 70 μm, and particularly preferably 20 to 60 μm. By controlling the film thickness within the above range, it is possible to reduce the unevenness of the panel due to the environment where the liquid crystal display device is placed after laminating the low moisture permeable layer, that is, the temperature and humidity change.

(基材フィルムの透湿度)
前記基材フィルムの透湿度は、JIS Z−0208をもとに、40℃、相対湿度90%の条件において測定される。
前記基材フィルムの透湿度は、300g/m2/day以下であることが好ましく、250g/m2/day以下であることがより好ましく、200g/m2/day以下であることが更に好ましく、150g/m2/day以下であることが特に好ましい。基材フィルムの透湿度を前記範囲に制御することで、低透湿層を積層した光学フィルム(本発明の光学フィルム)を搭載した液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の、液晶セルの反りや、黒表示時の表示ムラを抑制できる。
(Water vapor permeability of base film)
The moisture permeability of the base film is measured under the conditions of 40 ° C. and 90% relative humidity based on JIS Z-0208.
The moisture permeability of the base film is preferably 300 g / m 2 / day or less, more preferably 250 g / m 2 / day or less, still more preferably 200 g / m 2 / day or less, It is particularly preferably 150 g / m 2 / day or less. By controlling the moisture permeability of the base film within the above range, the liquid crystal display device equipped with the optical film (the optical film of the present invention) on which the low moisture permeable layer is mounted is subjected to normal temperature, high humidity, and high temperature and high humidity environment over time. In addition, warping of the liquid crystal cell and display unevenness during black display can be suppressed.

(基材フィルムの酸素透過係数)
透湿度を低減するためには、フィルム中の水の拡散を抑える事が好ましく、すなわちフィルムの自由体積を下げる事が好ましい。一般的にフィルムの自由体積はフィルムの酸素透過係数と相関する。
前記基材フィルムの酸素透過係数は、100cc・mm/(m2・day・atm)以下が好ましく、30cc・mm/(m2・day・atm)以下がより好ましい。
尚、基材フィルムの酸素透過係数は以下の方法によって測定することができる。
(Oxygen permeability coefficient of base film)
In order to reduce moisture permeability, it is preferable to suppress the diffusion of water in the film, that is, it is preferable to reduce the free volume of the film. In general, the free volume of the film correlates with the oxygen permeability coefficient of the film.
The oxygen permeability coefficient of the base film is preferably 100 cc · mm / (m 2 · day · atm) or less, and more preferably 30 cc · mm / (m 2 · day · atm) or less.
The oxygen permeability coefficient of the base film can be measured by the following method.

<酸素透過係数の測定方法>
フィルムの酸素透過量測定は、酸素電極(オービスフェア・ラボラトリーズ社製MODEL3600、PFA)に薄く塗布したシリコングリスを介して直径1.5cmに裁断した試験片を貼り付け、定常状態での酸素還元電流出力値より、酸素透過量を求めた。
出力電流値の酸素透過量への換算は、透過量既知のサンプルを用いて検量線を作成することにより求めた。測定は、25℃50%RH環境下で行った。
<Measurement method of oxygen permeability coefficient>
The oxygen permeation amount of the film is measured by attaching a test piece cut to a diameter of 1.5 cm through silicon grease thinly applied to an oxygen electrode (MODEL 3600, PFA manufactured by Orbis Fair Laboratories), and outputting oxygen reduction current in a steady state. The oxygen permeation amount was determined from the value.
Conversion of the output current value to the oxygen permeation amount was obtained by creating a calibration curve using a sample with a known permeation amount. The measurement was performed in an environment of 25 ° C. and 50% RH.

(基材フィルムのヘイズ)
前記基材フィルムは、全ヘイズ値が2.00%以下であることが好ましい。全ヘイズ値が2.00%以下であると、フィルムの透明性が高く、液晶表示装置のコントラスト比や輝度向上に効果がある。全ヘイズ値は、1.00%以下がより好ましく、0.50%以下であることが更に好ましく、0.30%以下が特に好ましく、0.20%以下が最も好ましい。全ヘイズ値は低いほど光学的性能が優れるが原料選択や製造管理やロールフィルムのハンドリング性も考慮すると0.01%以上であることが好ましい。
前記基材フィルムの内部ヘイズ値は、1.00%以下であることが好ましい。内部ヘイズ値を1.00%以下とすることで、液晶表示装置のコントラスト比を向上させ、優れた表示特性を実現することができる。内部ヘイズ値は、0.50%以下がより好ましく、0.20%以下が更に好ましく、0.10%以下が特に好ましく、0.05%以下が最も好ましい。原料選択や製造管理等の観点からは0.01%以上であることが好ましい。
前記基材フィルムとしては、特に、全ヘイズ値が0.30%以下であり、内部ヘイズ値が0.10%以下であることが好ましい。
全ヘイズ値及び内部ヘイズ値は、フィルム材料の種類や添加量、添加剤の選択(特に、マット剤粒子の粒径、屈折率、添加量)や、更にはフィルム製造条件(延伸時の温度や延伸倍率など)により調整することができる。
なおヘイズの測定は、フィルム試料40mm×80mmを、25℃、相対湿度60%で、ヘイズメーター(HGM−2DP、スガ試験機)で、JIS K−6714に従って測定することができる。
(Haze of base film)
The base film preferably has a total haze value of 2.00% or less. When the total haze value is 2.00% or less, the transparency of the film is high, and the contrast ratio and brightness of the liquid crystal display device are improved. The total haze value is more preferably 1.00% or less, further preferably 0.50% or less, particularly preferably 0.30% or less, and most preferably 0.20% or less. The lower the total haze value, the better the optical performance, but it is preferably 0.01% or more considering raw material selection, production control, and roll film handling.
The internal haze value of the substrate film is preferably 1.00% or less. By setting the internal haze value to 1.00% or less, the contrast ratio of the liquid crystal display device can be improved and excellent display characteristics can be realized. The internal haze value is more preferably 0.50% or less, further preferably 0.20% or less, particularly preferably 0.10% or less, and most preferably 0.05% or less. From the viewpoint of raw material selection, production control, etc., 0.01% or more is preferable.
In particular, the base film preferably has a total haze value of 0.30% or less and an internal haze value of 0.10% or less.
The total haze value and internal haze value are the types and addition amounts of film materials, selection of additives (particularly the particle size, refractive index, addition amount of matting agent particles), and further film production conditions (temperature at stretching, The stretching ratio can be adjusted.
In addition, the measurement of a haze can be measured according to JISK-6714 with a haze meter (HGM-2DP, Suga test machine) at 25 degreeC and 60% of relative humidity for the film sample 40 mm x 80 mm.

(基材フィルムの弾性率)
前記基材フィルムの弾性率は、幅方向(TD方向)で1800〜7000MPaであることが好ましい。
本発明において、TD方向の弾性率が上記範囲とすることにより、高湿及び高温高湿環境経時後の黒表示時の表示ムラやフィルム作製時の搬送性、端部スリット性や破断のし難さ等の製造適性の観点で好ましい。TD弾性率が小さすぎると高湿及び高温高湿環境経時後の黒表示時の表示ムラが発生し易くなり、また製造適性に問題が生じ、大きすぎるとフィルム加工性に劣る為、TD方向の弾性率は、1800〜5000MPaがより好ましく、1800〜4000MPaであることが更に好ましい。
また、前記基材フィルムの、搬送方向の(MD方向)の弾性率は、1800〜4000MPaが好ましく、1800〜3000MPaであることがより好ましい。
ここで、フィルムの搬送方向(長手方向)とは、フィルム作製時の搬送方向(MD方向)であり、幅方向とはフィルム作製時の搬送方向に対して垂直な方向(TD方向)である。
フィルムの弾性率は、前記基材フィルム材料の熱可塑性樹脂の種類や添加量、添加剤の選択(特に、マット剤粒子の粒径、屈折率、添加量)や、更にはフィルム製造条件(延伸倍率など)により調整することができる。
弾性率は、例えば、東洋ボールドウィン(株)製万能引っ張り試験機“STM T50BP”を用い、23℃、70RH%雰囲気中、引張速度10%/分で0.5%伸びにおける応力を測定して求めることができる。
(Elastic modulus of base film)
The elastic modulus of the base film is preferably 1800 to 7000 MPa in the width direction (TD direction).
In the present invention, when the elastic modulus in the TD direction is within the above range, display unevenness at the time of black display after high humidity and high temperature and high humidity environment aging, transportability at the time of film production, end slit property and difficulty in breaking. It is preferable from the viewpoint of manufacturing suitability. If the TD elastic modulus is too small, display unevenness at the time of black display after high humidity and high temperature and high humidity environment is likely to occur, and there is a problem in manufacturing suitability. The elastic modulus is more preferably 1800 to 5000 MPa, and further preferably 1800 to 4000 MPa.
Moreover, 1800-4000 MPa is preferable and, as for the elasticity modulus of the conveyance direction (MD direction) of the said base film, it is more preferable that it is 1800-3000 MPa.
Here, the conveyance direction (longitudinal direction) of the film is the conveyance direction (MD direction) during film production, and the width direction is the direction (TD direction) perpendicular to the conveyance direction during film production.
The elastic modulus of the film depends on the type and amount of the thermoplastic resin used in the base film material, selection of additives (particularly, the particle size, refractive index, and amount of addition of the matting agent particles), and film production conditions (stretching). The magnification can be adjusted.
The elastic modulus is obtained, for example, by measuring a stress at 0.5% elongation at a tensile rate of 10% / min in an atmosphere of 23 ° C. and 70 RH% using a universal tensile tester “STM T50BP” manufactured by Toyo Baldwin Co., Ltd. be able to.

(基材フィルムのガラス転移温度Tg)
前記基材フィルムのガラス転移温度Tgは製造適性と耐熱性の観点より、100℃以上200℃以下が好ましく、更に100℃以上150℃以下が好ましい。
ガラス転移温度は、示差走査型熱量計(DSC)を用いて昇温速度10℃/分で測定したときにフィルムのガラス転移に由来するベースラインが変化しはじめる温度と再びベースラインに戻る温度との平均値として求めることができる。
また、ガラス転移温度の測定は、以下の動的粘弾性測定装置を用いて求めることもできる。フィルム試料(未延伸)5mm×30mmを、25℃60%RHで2時間以上調湿した後に動的粘弾性測定装置(バイブロン:DVA−225(アイティー計測制御(株)製))で、つかみ間距離20mm、昇温速度2℃/分、測定温度範囲30℃〜250℃、周波数1Hzで測定し、縦軸に対数軸で貯蔵弾性率、横軸に線形軸で温度(℃)をとった時に、貯蔵弾性率が固体領域からガラス転移領域へ移行する際に見受けられる貯蔵弾性率の急激な減少を固体領域で直線1を引き、ガラス転移領域で直線2を引いたときの直線1と直線2の交点を、昇温時に貯蔵弾性率が急激に減少しフィルムが軟化し始める温度であり、ガラス転移領域に移行し始める温度であるため、ガラス転移温度Tg(動的粘弾性)とする。
(Glass transition temperature Tg of base film)
The glass transition temperature Tg of the base film is preferably 100 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 100 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, from the viewpoints of production suitability and heat resistance.
The glass transition temperature is a temperature at which the base line derived from the glass transition of the film starts to change and a temperature at which it returns to the base line again when measured at a heating rate of 10 ° C./min using a differential scanning calorimeter (DSC). It can be calculated as an average value.
Moreover, the measurement of a glass transition temperature can also be calculated | required using the following dynamic viscoelasticity measuring apparatuses. A film sample (unstretched) 5 mm × 30 mm was conditioned at 25 ° C. and 60% RH for 2 hours or more, and then grasped with a dynamic viscoelasticity measuring device (Vibron: DVA-225 (produced by IT Measurement Control Co., Ltd.)) Measured at a distance of 20 mm, a temperature increase rate of 2 ° C./min, a measurement temperature range of 30 ° C. to 250 ° C., and a frequency of 1 Hz. The straight line 1 and the straight line when a straight line 1 is drawn in the solid region and a straight line 2 is drawn in the glass transition region, when the storage elastic modulus sometimes shifts from the solid region to the glass transition region. The intersection of 2 is the temperature at which the storage elastic modulus suddenly decreases and the film begins to soften when the temperature rises, and is the temperature at which the film begins to move to the glass transition region.

(基材フィルムのヌープ硬度)
最表面に用いる偏光板保護膜では、表面硬度が高い事が好ましく、その場合、基材フィルムの特性としては、ヌープ硬度が高い事が好ましい。ヌープ硬度は、100N/mm2以上が好ましく、150N/mm2以上が更に好ましく用いられる。
尚、基材フィルムのヌープ硬度は以下の方法によって測定することができる。
(Knoop hardness of the base film)
The polarizing plate protective film used for the outermost surface preferably has a high surface hardness. In that case, as a characteristic of the base film, it is preferable that the Knoop hardness is high. The Knoop hardness is preferably 100 N / mm 2 or more, more preferably 150 N / mm 2 or more.
The Knoop hardness of the base film can be measured by the following method.

<表面硬度の測定>
フィッシャーインスツルメンツ(株)社製“フッシャースコープH100Vp型硬度計”を用い、圧子の短軸の向きをセルロースアシレートフィルム製膜時の搬送方向(長手方向;鉛筆硬度試験での試験方向)に対して平行に配置したヌープ圧子により、ガラス基板に固定したサンプル表面を負荷時間10sec、クリープ時間5sec、除荷時間10sec、最大荷重100mNの条件で測定した。押し込み深さから求められる圧子とサンプルとの接触面積と最大荷重の関係より硬度を算出し、この5点の平均値を表面硬度とした。
<Measurement of surface hardness>
Using the “Fuscherscope H100Vp hardness tester” manufactured by Fischer Instruments Co., Ltd., the direction of the minor axis of the indenter is relative to the transport direction (longitudinal direction; test direction in the pencil hardness test) when the cellulose acylate film is formed. The surface of the sample fixed to the glass substrate was measured with a Knoop indenter arranged in parallel under a load time of 10 sec, a creep time of 5 sec, an unload time of 10 sec, and a maximum load of 100 mN. The hardness was calculated from the relationship between the contact area between the indenter and the sample obtained from the indentation depth and the maximum load, and the average value of these five points was defined as the surface hardness.

(基材フィルムの平衡含水率)
前記基材フィルムの含水率(平衡含水率)は、偏光板の保護フィルムとして用いる際、ポリビニルアルコールなどの水溶性熱可塑性との接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、25℃、相対湿度80%における含水率が、0〜4質量%であることが好ましい。0〜2.5質量%であることがより好ましく、0〜1.5質量%であることが更に好ましい。平衡含水率が4質量%以下であれば、レターデーションの湿度変化による依存性が大きくなり過ぎず、液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の黒表示時の表示ムラを抑止の点からも好ましい。
含水率の測定法は、フィルム試料7mm×35mmを水分測定器、試料乾燥装置“CA−03”及び“VA−05”{共に三菱化学(株)製}にてカールフィッシャー法で測定した。水分量(g)を試料質量(g)で除して算出できる。
(Equilibrium moisture content of base film)
The water content (equilibrium water content) of the base film is 25, regardless of the film thickness, so as not to impair the adhesiveness with water-soluble thermoplastics such as polyvinyl alcohol when used as a protective film for a polarizing plate. It is preferable that the moisture content in 0 degreeC and 80% of relative humidity is 0-4 mass%. It is more preferably 0 to 2.5% by mass, and still more preferably 0 to 1.5% by mass. If the equilibrium moisture content is 4% by mass or less, the dependence of retardation on humidity changes does not become too large, and the display unevenness of the liquid crystal display device during black display after normal temperature, high humidity, and high temperature and high humidity environments is suppressed. This is also preferable.
The moisture content was measured by measuring a film sample 7 mm × 35 mm by a Karl Fischer method using a moisture measuring device and sample drying apparatuses “CA-03” and “VA-05” (both manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). It can be calculated by dividing the amount of water (g) by the sample mass (g).

(基材フィルムの寸度変化)
前記基材フィルムの寸度安定性は、60℃、相対湿度90%の条件下に24時間静置した場合(高湿)の寸度変化率、及び80℃、DRY環境(相対湿度5%以下)の条件下に24時間静置した場合(高温)の寸度変化率が、いずれも0.5%以下であることが好ましい。より好ましくは0.3%以下であり、更に好ましくは0.15%以下である。
(Dimensional change of base film)
The dimensional stability of the base film is as follows: dimensional change rate after standing for 24 hours under conditions of 60 ° C. and 90% relative humidity (high humidity), and 80 ° C., DRY environment (relative humidity 5% or less) ) When it is allowed to stand for 24 hours under the above conditions (high temperature), it is preferable that the dimensional change rate is 0.5% or less. More preferably, it is 0.3% or less, More preferably, it is 0.15% or less.

(基材フィルムの光弾性係数)
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして使用した場合には、偏光子の収縮による応力などにより複屈折(Re、Rth)が変化する場合がある。このような応力に伴う複屈折の変化は光弾性係数として測定できるが、基材フィルムの弾性率は、15Br以下であることが好ましく、−3〜12Brであることがより好ましく、0〜11Brであることが更に好ましい。
(Photoelastic coefficient of base film)
When the optical film of the present invention is used as a protective film for a polarizing plate, birefringence (Re, Rth) may change due to stress caused by the contraction of the polarizer. Although the change in birefringence accompanying such stress can be measured as a photoelastic coefficient, the elastic modulus of the base film is preferably 15 Br or less, more preferably −3 to 12 Br, and more preferably 0 to 11 Br. More preferably it is.

<基材フィルムの製造方法>
以下、本発明に用いる(メタ)アクリル系重合体を主成分とする熱可塑性樹脂を製膜する製造方法について詳しく説明する。
(メタ)アクリル系重合体を主成分として用いて基材フィルムを製膜するには、例えば、オムニミキサーなど、従来公知の混合機でフィルム原料をプレブレンドした後、得られた混合物を押出混練する。この場合、押出混練に用いる混合機は、特に限定されるものではなく、例えば、単軸押出機、二軸押出機などの押出機や加圧ニーダーなど、従来公知の混合機を用いることができる。
<Method for producing base film>
Hereinafter, a manufacturing method for forming a thermoplastic resin film mainly composed of a (meth) acrylic polymer used in the present invention will be described in detail.
In order to form a base film using a (meth) acrylic polymer as a main component, for example, after pre-blending the film raw material with a conventionally known mixer such as an omni mixer, the resulting mixture is extrusion kneaded. To do. In this case, the mixer used for extrusion kneading is not particularly limited. For example, a conventionally known mixer such as an extruder such as a single screw extruder or a twin screw extruder or a pressure kneader can be used. .

フィルム成形の方法としては、例えば、溶液キャスト法(溶液流延法)、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法など、従来公知のフィルム成形法が挙げられる。これらのフィルム成形法のうち、溶融押出法が特に好適である。   Examples of the film forming method include conventionally known film forming methods such as a solution casting method (solution casting method), a melt extrusion method, a calendar method, and a compression molding method. Of these film forming methods, the melt extrusion method is particularly suitable.

溶融押出法としては、例えば、Tダイ法、インフレーション法などが挙げられ、その際の成形温度は、フィルム原料のガラス転移温度に応じて適宜調節すればよく、特に限定されるものではないが、例えば、好ましくは150℃〜350℃、より好ましくは200℃〜300℃である。   Examples of the melt extrusion method include a T-die method and an inflation method, and the molding temperature at that time may be appropriately adjusted according to the glass transition temperature of the film raw material, and is not particularly limited. For example, it is preferably 150 ° C to 350 ° C, more preferably 200 ° C to 300 ° C.

Tダイ法でフィルム成形する場合は、公知の単軸押出機や二軸押出機の先端部にTダイを取り付け、フィルム状に押出されたフィルムを巻き取って、ロール状のフィルムを得ることができる。この際、巻き取りロールの温度を適宜調整して、押出方向に延伸を加えることで、1軸延伸することも可能である。また、押出方向と垂直な方向にフィルムを延伸することにより、同時2軸延伸、逐次2軸延伸などを行うこともできる。   When forming a film by the T-die method, a roll-shaped film can be obtained by attaching a T-die to the tip of a known single-screw extruder or twin-screw extruder and winding the film extruded into a film. it can. At this time, it is possible to perform uniaxial stretching by appropriately adjusting the temperature of the take-up roll and adding stretching in the extrusion direction. Further, simultaneous biaxial stretching, sequential biaxial stretching, and the like can be performed by stretching the film in a direction perpendicular to the extrusion direction.

(メタ)アクリル系重合体主成分とする基材フィルムは、未延伸フィルムまたは延伸フィルムのいずれでもよい。延伸フィルムである場合は、1軸延伸フィルムまたは2軸延伸フィルムのいずれでもよい。2軸延伸フィルムである場合は、同時2軸延伸フィルムまたは逐次2軸延伸フィルムのいずれでもよい。2軸延伸した場合は、機械的強度が向上し、フィルム性能が向上する。(メタ)アクリル系重合体が、前記の主鎖に環状構造を有する(メタ)アクリル系重合体である場合は、その他の熱可塑性樹脂を混合することにより、延伸しても位相差の増大を抑制することができ、光学的等方性を保持したフィルムを得ることができる。   The base film having the (meth) acrylic polymer as the main component may be either an unstretched film or a stretched film. In the case of a stretched film, either a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film may be used. When it is a biaxially stretched film, either a simultaneous biaxially stretched film or a sequential biaxially stretched film may be used. In the case of biaxial stretching, the mechanical strength is improved and the film performance is improved. When the (meth) acrylic polymer is a (meth) acrylic polymer having a cyclic structure in the main chain, mixing with other thermoplastic resins increases the retardation even when stretched. It is possible to obtain a film that can be suppressed and retains optical isotropy.

延伸温度は、フィルム原料である(メタ)アクリル系重合体のガラス転移温度近傍であることが好ましく、具体的には、好ましくは(ガラス転移温度−30℃)〜(ガラス転移温度+100℃)、より好ましくは(ガラス転移温度−20℃)〜(ガラス転移温度+80℃)の範囲内である。延伸温度が(ガラス転移温度−30℃)未満であると、充分な延伸倍率が得られないことがある。逆に、延伸温度が(ガラス転移温度+100℃)超えると、(メタ)アクリル系重合体の流動(フロー)が起こり、安定な延伸が行えなくなることがある。   The stretching temperature is preferably in the vicinity of the glass transition temperature of the (meth) acrylic polymer that is the film raw material, specifically, preferably (glass transition temperature-30 ° C) to (glass transition temperature + 100 ° C), More preferably, it is within the range of (glass transition temperature−20 ° C.) to (glass transition temperature + 80 ° C.). If the stretching temperature is less than (glass transition temperature-30 ° C.), a sufficient stretching ratio may not be obtained. Conversely, when the stretching temperature exceeds (glass transition temperature + 100 ° C.), the flow of the (meth) acrylic polymer may occur, and stable stretching may not be performed.

延伸倍率は、面積比で好ましくは1.1〜25倍、より好ましくは5.0〜20倍の範囲内であり、8〜15倍が特に好ましい。延伸倍率が1.1倍未満であると、延伸に伴う靭性の向上につながらないことがある。逆に、延伸倍率が25倍を超えると、延伸倍率を上げるだけの効果が認められないことがある。また、延伸倍率が5倍以上であると、靭性の向上に加えて透湿度が低下することがあり、本発明ではより好ましい。   The draw ratio is preferably 1.1 to 25 times, more preferably 5.0 to 20 times in terms of area ratio, and particularly preferably 8 to 15 times. If the draw ratio is less than 1.1 times, the toughness accompanying the drawing may not be improved. On the other hand, when the draw ratio exceeds 25 times, the effect of increasing the draw ratio may not be recognized. Moreover, when the draw ratio is 5 times or more, moisture permeability may be lowered in addition to improvement of toughness, which is more preferable in the present invention.

延伸速度は、一方向で、好ましくは10〜20,000%/min、より好ましく100〜10,000%/minの範囲内である。延伸速度が10%/min未満であると、充分な延伸倍率を得るために時間がかかり、製造コストが高くなることがある。逆に、延伸速度が20,000%/minを超えると、延伸フィルムの破断などが起こることがある。   The stretching speed is unidirectional, preferably 10 to 20,000% / min, more preferably 100 to 10,000% / min. When the stretching speed is less than 10% / min, it takes time to obtain a sufficient stretching ratio, and the production cost may increase. On the contrary, when the stretching speed exceeds 20,000% / min, the stretched film may be broken.

なお、(メタ)アクリル系重合体を主成分として得られる基材フィルムは、その光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理(アニーリング)などを行うことができる。熱処理の条件は、従来公知の延伸フィルムに対して行われる熱処理の条件と同様に適宜選択すればよく、特に限定されるものではない。   In addition, the base film obtained by using the (meth) acrylic polymer as a main component can be subjected to a heat treatment (annealing) or the like after the stretching treatment in order to stabilize its optical isotropy and mechanical properties. . The conditions for the heat treatment may be appropriately selected similarly to the conditions for the heat treatment performed on a conventionally known stretched film, and are not particularly limited.

(メタ)アクリル系重合体を主成分として得られる基材フィルムは、その厚さが好ましくは5μm〜200μm、より好ましくは10μm〜100μmである。厚さが5μm未満であると、フィルムの強度が低下するだけでなく、他の部品に貼着して耐久性試験を行うと捲縮が大きくなることがある。逆に、厚さが200μmを超えると、フィルムの透明性が低下するだけでなく、透湿性が小さくなり、他の部品に貼着する際に水系接着剤を使用した場合、その溶剤である水の乾燥速度が遅くなることがある。   The thickness of the base film obtained with the (meth) acrylic polymer as a main component is preferably 5 μm to 200 μm, more preferably 10 μm to 100 μm. When the thickness is less than 5 μm, not only the strength of the film is lowered, but also when the durability test is performed by sticking to other parts, the crimp may be increased. On the other hand, when the thickness exceeds 200 μm, not only the transparency of the film is lowered, but also the moisture permeability is reduced, and when a water-based adhesive is used when sticking to other parts, water that is the solvent is used. The drying speed may be slow.

さらに、基材フィルムは、場合により表面処理を行うことによって、基材フィルムと低透湿層やそれ以外の層(例えば、偏光子、下塗層及びバック層)との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、10-3〜20Torrの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報(公技番号 2001−1745、2001年3月15日発行、発明協会)にて30頁〜32頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。 Furthermore, the base film achieves improved adhesion between the base film and the low moisture-permeable layer and other layers (for example, a polarizer, an undercoat layer, and a back layer) by optionally performing a surface treatment. be able to. For example, glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, flame treatment, acid or alkali treatment can be used. The glow discharge treatment here may be low-temperature plasma that occurs under a low pressure gas of 10 −3 to 20 Torr, and plasma treatment under atmospheric pressure is also preferred. A plasma-excitable gas is a gas that is plasma-excited under the above conditions, and includes chlorofluorocarbons such as argon, helium, neon, krypton, xenon, nitrogen, carbon dioxide, tetrafluoromethane, and mixtures thereof. It is done. Details of these are described in detail in pages 30 to 32 in the Japan Institute of Invention Disclosure Technical Bulletin (Public Technical Number 2001-1745, published on March 15, 2001, Japan Institute of Invention), and are preferably used in the present invention. be able to.

{機能層}
本発明の光学フィルムは、前記ハードコート層とハードコート層形成用組成物に含まれるバインダーと基材のアクリル樹脂とを含む前期浸透層とを有するが、さらに、少なくとも一方の表面に、機能層を積層してもよい。この機能層の種類は特に限定されないが、ハードコート層、反射防止層(低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層など屈折率を調整した層)、防眩層、帯電防止層、紫外線吸収層、光学異方性層などが挙げられる。
前記機能層は、1層であってもよいし、複数層設けてもよい。機能層は基材フィルムのハードコート層と浸透層を設けた面に積層しても良いし、その反対の面でも良い。前記機能層の積層方法は特に限定されず、ハードコート層と浸透層を形成後の光学フィルムにさらに他の機能層を塗設して設けても良いし、ハードコート層と機能層とが基材フィルムの別の面に配される場合には、機能層を形成後に基材フィルムの反対の面にハードコート層と浸透層を形成することも出来る。複数の機能層を積層する場合一つの機能層をハードコート層上に積層し、もう一つの機能層をハードコート層を形成していない面に積層することもできる。以下に、機能層の例を示す。
{Function layer}
The optical film of the present invention has a hard-coat layer and a pre-penetration layer containing a binder and a base acrylic resin contained in the hard-coat layer-forming composition, and further, on at least one surface, a functional layer May be laminated. The type of the functional layer is not particularly limited, but a hard coat layer, an antireflection layer (a layer having a adjusted refractive index such as a low refractive index layer, a medium refractive index layer, or a high refractive index layer), an antiglare layer, an antistatic layer, Examples thereof include an ultraviolet absorbing layer and an optically anisotropic layer.
The functional layer may be a single layer or a plurality of layers. The functional layer may be laminated on the surface of the base film provided with the hard coat layer and the osmotic layer, or may be the opposite surface. The method for laminating the functional layer is not particularly limited, and another functional layer may be provided on the optical film after the hard coat layer and the permeation layer are formed, or the hard coat layer and the functional layer are based. In the case of being arranged on another surface of the material film, a hard coat layer and a permeation layer can be formed on the opposite surface of the base film after forming the functional layer. When laminating a plurality of functional layers, one functional layer can be laminated on the hard coat layer, and the other functional layer can be laminated on the surface where the hard coat layer is not formed. Examples of functional layers are shown below.

(低屈折率層)
本発明の光学フィルムは、前記ハードコート層上に直接又は他の層を介して低屈折率層を設けても良い。この場合、本発明の光学フィルムは、反射防止フィルムとして機能することができる。
この場合、低屈折率層は、屈折率が1.30〜1.51であることが好ましい。1.30〜1.46であることが好ましく、1.32〜1.38が更に好ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。
(Low refractive index layer)
In the optical film of the present invention, a low refractive index layer may be provided on the hard coat layer directly or via another layer. In this case, the optical film of the present invention can function as an antireflection film.
In this case, the low refractive index layer preferably has a refractive index of 1.30 to 1.51. It is preferably 1.30 to 1.46, more preferably 1.32 to 1.38. Within the above range, the reflectance can be suppressed and the film strength can be maintained, which is preferable. The low refractive index layer can be formed by a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method, particularly a vacuum vapor deposition method or a sputtering method, which is a kind of physical vapor deposition method. It is preferable to use an all wet coating method using the composition for a low refractive index layer.

低屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分としては公知のものを用いることができ、具体的には特開2007−298974号公報に記載の含フッ素硬化性樹脂と無機微粒子を含有する組成物や、特開2002−317152号公報、特開2003−202406号公報、及び特開2003−292831号公報に記載の中空シリカ微粒子含有低屈折率コーティングを好適に用いることができる。   The low refractive index layer is not particularly limited as long as it is a layer having the above refractive index range, but a known component can be used as a constituent component. Specifically, the fluorine-containing curability described in JP-A-2007-298974 can be used. A composition containing a resin and inorganic fine particles and a hollow silica fine particle-containing low refractive index coating described in JP-A Nos. 2002-317152, 2003-202406, and 2003-292831 are preferably used. be able to.

(低透湿層)
低透湿層とは、熱可塑性樹脂を含む基材フィルム上に積層したとき、前記光学フィルム全体の透湿度が200g/m2/day以下で、式(1)を満たすようになるものを指す。
式(1) A/B≦0.9
(式(1)中、Aは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Bは低透湿層を積層する前の光学フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、JIS 0208の手法で、40℃、相対湿度90%で24時間経過後の値である。)
(Low moisture permeability layer)
The low moisture permeable layer refers to a layer that has a moisture permeability of 200 g / m 2 / day or less and satisfies the formula (1) when laminated on a base film containing a thermoplastic resin. .
Formula (1) A / B <= 0.9
(In Formula (1), A represents the moisture permeability of the optical film which laminated | stacked the said low moisture-permeable layer on the base film containing the said thermoplastic resin, B represents the permeability | transmittance of the optical film before laminating | stacking a low moisture-permeable layer. (However, the moisture permeability is the value after 24 hours at 40 ° C. and 90% relative humidity by the method of JIS 0208.)

本発明の光学フィルムは、前記ハードコート層上またはハードコート層と反対側の基材の上に、直接又は他の層を介して低透湿層を設けても良い。低透湿層は、1層であってもよいし、複数層設けてもよい。前記低透湿層の積層方法は特に限定されないが、前記低透湿層を基材フィルムとの共流延として作成すること、または、前記低透湿層を前記基材フィルム上に塗布で積層して設けることが好ましく、前記低透湿層を前記基材フィルム上に塗布で積層して設けることがより好ましい。すなわち、本発明の光学フィルムは、前記低透湿層が、前記基材フィルム上に塗布により積層されてなることがより好ましい。   In the optical film of the present invention, a low moisture permeable layer may be provided directly or via another layer on the hard coat layer or on the substrate opposite to the hard coat layer. The low moisture permeability layer may be a single layer or a plurality of layers. The method for laminating the low moisture permeable layer is not particularly limited, but the low moisture permeable layer is formed as a co-cast with the base film, or the low moisture permeable layer is laminated on the base film by coating. The low moisture-permeable layer is preferably provided by being laminated on the base film by coating. That is, in the optical film of the present invention, it is more preferable that the low moisture permeable layer is laminated on the base film by coating.

低透湿層は透湿性を下げるものである限り特に限定されないが、構成成分としては公知のものを用いることができ、具体的には特開2008−003580号広報に記載の材料などが挙げられる。   The low moisture-permeable layer is not particularly limited as long as it reduces moisture permeability, but known components can be used as the constituent components, and specific examples include materials described in JP-A-2008-003580. .

(光学異方性層)
本発明の光学フィルムに光学異方性層を設けることもできる。光学異方性層としては、一定の位相差を有する膜が面内均一に形成された光学異方性層であっても良いし、遅相軸の方向や位相差の大きさが互いに異なる、位相差領域が規則的に面内に配置されたパターンを形成した光学異方性層であっても良い。光学異方性層は基材フィルムのハードコート層と浸透層が形成されていない面に形成されていることが好ましい。
(Optically anisotropic layer)
An optically anisotropic layer can also be provided on the optical film of the present invention. The optically anisotropic layer may be an optically anisotropic layer in which a film having a constant retardation is uniformly formed in the plane, and the direction of the slow axis and the magnitude of the retardation are different from each other. It may be an optically anisotropic layer having a pattern in which retardation regions are regularly arranged in a plane. The optically anisotropic layer is preferably formed on the surface of the base film on which the hard coat layer and the permeation layer are not formed.

光学異方性層は各種用途に合わせ材料及び製造条件を選択することができるが、本発明では重合性液晶性化合物を用いた光学異方性層が好ましい。その場合、光学異方性層と基材フィルムの間に光学異方性層と接して配向膜が形成されていることも好ましい態様である。   The optically anisotropic layer can be selected from materials and production conditions according to various uses, but in the present invention, an optically anisotropic layer using a polymerizable liquid crystalline compound is preferable. In that case, it is also a preferred embodiment that an alignment film is formed between the optically anisotropic layer and the substrate film in contact with the optically anisotropic layer.

面内均一に形成された光学異方性層を有する好ましい例として、光学異方性層がλ/4膜である態様が挙げられ、特にアクティブ方式の3D液晶表示装置の部材として有用である。λ/4膜の学異方性層とハードコート層が、基材フィルムを介して反対の面に積層した態様として特開2012−098721号公報、特開2012−127982号公報に記載されており、本発明の光学フィルムで、このような態様を好ましく用いることができる。   A preferred example having an optically anisotropic layer formed uniformly in the plane is an embodiment in which the optically anisotropic layer is a λ / 4 film, and is particularly useful as a member of an active 3D liquid crystal display device. As an aspect in which a λ / 4 film's anisotropy layer and a hard coat layer are laminated on opposite surfaces via a base film, they are described in JP2012-098772A and JP20121277982A. Such an embodiment can be preferably used in the optical film of the present invention.

一方、パターンを形成した光学異方性層の好ましい例としては、パターン型のλ/4膜が挙げられ、特許4825934号公報、特許4887463号公報に記載された態様を、本発明の光学フィルムで好ましく用いることができる。   On the other hand, as a preferable example of the optically anisotropic layer in which a pattern is formed, a pattern type λ / 4 film is exemplified, and the embodiments described in Japanese Patent Nos. 4825934 and 4887463 are applied to the optical film of the present invention. It can be preferably used.

{光学フィルムの特性}
(光学フィルムの膜厚)
本発明の光学フィルムの膜厚(基材フィルムに浸透層とハードコート層を積層した後の総膜厚)は、5〜100μmが好ましく、10〜80μmがより好ましく、15〜75μmが特に好ましい。
{Characteristics of optical film}
(Optical film thickness)
5-100 micrometers is preferable, as for the film thickness (total film thickness after laminating a osmosis | permeation layer and a hard-coat layer on a base film) of the optical film of this invention, 10-80 micrometers is more preferable, and 15-75 micrometers is especially preferable.

(各層の膜厚)
ハードコート層の膜厚は、1μm以上であることが好ましく、1μm〜20μmがより好ましく、3μm〜15μmが更に好ましく、5μm〜10μmが最も好ましい。上記範囲とすることで表面硬度と帯電防止性を両立することができる。また、ハードコート層と浸透層の膜厚の合計に対するハードコート層膜厚の割合は、10%〜90%であることが好ましく、20%〜80%がより好ましい。
(Film thickness of each layer)
The thickness of the hard coat layer is preferably 1 μm or more, more preferably 1 μm to 20 μm, still more preferably 3 μm to 15 μm, and most preferably 5 μm to 10 μm. By setting it as the said range, surface hardness and antistatic property can be made compatible. Moreover, it is preferable that the ratio of the hard-coat layer film thickness with respect to the sum total of the film thickness of a hard-coat layer and a osmosis | permeation layer is 10%-90%, and 20%-80% are more preferable.

浸透層の膜厚は、1μm以上であることが好ましく、1μm〜20μmがより好ましく、3μm〜18μmが更に好ましく、5μm〜10μmが最も好ましい。上記範囲とすることで物理強度と帯電防止性を両立することができ、膜の白濁等の故障も抑制できる。   The thickness of the osmotic layer is preferably 1 μm or more, more preferably 1 μm to 20 μm, still more preferably 3 μm to 18 μm, and most preferably 5 μm to 10 μm. By setting it as the said range, physical strength and antistatic property can be made compatible, and failures, such as a cloudiness of a film | membrane, can also be suppressed.

各層の膜厚は、例えば断面SEMで測定することが出来る。光学フィルムをミクロトームで切削して断面を切り出し、四酸化オスミウムで染色したのち、再度表面を切り出して断面SEM観察すると、四級アンモニウム塩ポリマーを含むハードコート層は明るく染色され、これを含むことが出来ない浸透層は暗く観測される。さらに、浸透層に浸入したモノマーのうち、基材深くまで浸透したモノマーは拡散量が多くなく、基材のポリマー鎖に阻害されて完全には光重合反応を完結することができない場合多いため、これらのモノマーが染色されるために、浸透層と基材の界面は明るく観測される。
このようにコントラストが付き、ハードコート層/浸透層、浸透層/基材の界面が観察できることから、ハードコート層、浸透層各々の膜厚を測定することができる。
その他の方法としては、光学フィルムをミクロトームで切削して断面を切り出し、飛行時間型二次イオン質量分析装置(TOF−SIMS)で分析した時に、基材成分とハードコート層成分が共に検出される部分を浸透層、ハードコート層成分のみが検出される領域をハードコート層として検出することもできる。各層の膜厚の比率はTOF−SIMSの断面情報から測定することができ、フィルムの合計膜厚を同時に測定することにより、各層膜厚を知ることが出来る。
The film thickness of each layer can be measured, for example, by a cross-sectional SEM. When the optical film is cut with a microtome, the cross section is cut out and stained with osmium tetroxide, and then the surface is cut out again and the cross section SEM observation, the hard coat layer containing the quaternary ammonium salt polymer is brightly dyed and contains this The infiltration layer that cannot be observed is observed dark. Furthermore, among the monomers that have penetrated into the permeation layer, monomers that have penetrated deep into the base material do not have a large amount of diffusion, and are often blocked by the polymer chain of the base material and cannot completely complete the photopolymerization reaction. Since these monomers are dyed, the interface between the permeation layer and the substrate is observed brightly.
Thus, since contrast is given and the interface of the hard coat layer / penetrating layer and the penetrating layer / base material can be observed, the film thickness of each of the hard coat layer and the penetrating layer can be measured.
As another method, when the optical film is cut with a microtome, a cross section is cut out and analyzed with a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS), both the base material component and the hard coat layer component are detected. It is also possible to detect a portion as a penetrating layer and a region where only a hard coat layer component is detected as a hard coat layer. The ratio of the film thickness of each layer can be measured from the cross-sectional information of TOF-SIMS, and the film thickness of each layer can be known by simultaneously measuring the total film thickness of the film.

(光学フィルムの透湿度)
本発明の光学フィルムの透湿度は、JIS Z−0208をもとに、40℃、相対湿度90%の条件において測定される。
本発明の光学フィルムの透湿度は、200g/m/day以下であることが好ましく、120g/m/day以下であることがより好ましく、50g/m/day以下であることが更に好ましい。透湿度が200g/m/day以下であれば、液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の、液晶セルの反りや、黒表示時の表示ムラを抑制できる。
(Water vapor transmission rate of optical film)
The moisture permeability of the optical film of the present invention is measured under the conditions of 40 ° C. and 90% relative humidity based on JIS Z-0208.
The moisture permeability of the optical film of the present invention is preferably 200 g / m 2 / day or less, more preferably 120 g / m 2 / day or less, and even more preferably 50 g / m 2 / day or less. . If the water vapor transmission rate is 200 g / m 2 / day or less, warpage of the liquid crystal cell and display unevenness during black display after the normal temperature, high humidity, and high temperature and high humidity environment of the liquid crystal display device can be suppressed.

(光学フィルムの表面硬度)
本発明の光学フィルムの表面硬度は、JIS K5400記載の鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。更に、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
(Surface hardness of optical film)
The surface hardness of the optical film of the present invention is preferably H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more in the pencil hardness test described in JIS K5400. Furthermore, in the Taber test according to JIS K5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.

(光学フィルムの導電性)
本発明の光学フィルムの表面抵抗率SR(Ω/sq)の常用対数値(LogSR)は帯電防止性の観点から低いほど好ましく、25℃60%環境下で12以下であることが好ましく、より好ましくは5〜11以下であり、更に好ましくは6〜10である。表面抵抗率を上記範囲にすることで優れた防塵性を付与することが可能となる。
(Conductivity of optical film)
The common logarithm value (Log SR) of the surface resistivity SR (Ω / sq) of the optical film of the present invention is preferably as low as possible from the viewpoint of antistatic properties, and is preferably 12 or less in an environment of 25 ° C. and 60%. Is 5-11 or less, more preferably 6-10. By setting the surface resistivity within the above range, excellent dust resistance can be imparted.

本発明の光学フィルムの透過率は80%以上であることが好ましく、85%以上であることがより好ましく、90%以上であることが最も好ましい。   The transmittance of the optical film of the present invention is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and most preferably 90% or more.

<光学フィルムの製造方法>
本発明の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まず前述のハードコート層形成用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥、光照射してハードコート層形成用組成物から形成される層を硬化し、これによりハードコート層と浸透層とが同時に形成できる。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法(米国特許2681294号明細書、特開2006−122889号公報参照)がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
<Method for producing optical film>
The optical film of the present invention can be formed by the following method, but is not limited to this method.
First, the above-mentioned composition for forming a hard coat layer is prepared. Next, the composition is applied onto a transparent support by a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, a die coating method, etc. The layer formed from the composition for forming a hard coat layer is cured by irradiation, whereby the hard coat layer and the permeation layer can be formed simultaneously. A micro gravure coating method, a wire bar coating method, and a die coating method (see US Pat. No. 2,681,294 and JP-A-2006-122889) are more preferable, and a die coating method is particularly preferable.

このようにして本発明の光学フィルムが得られる。また必要に応じて前記したようなその他の層を設けることもできる。本発明の光学フィルムの製造方法において、複数の層を同時に塗布してもよいし、逐次塗布してもよい。   In this way, the optical film of the present invention is obtained. Further, other layers as described above can be provided as necessary. In the method for producing an optical film of the present invention, a plurality of layers may be applied simultaneously or sequentially.

[偏光板]
本発明の偏光板は、偏光子と、該偏光子の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを少なくとも1枚含むことを特徴とする。
本発明の光学フィルムは、偏光板用保護フィルムとして用いることができる。偏光板用保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られた光学フィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平6−94915号、特開平6−118232号に記載されているような易接着加工を施してもよい。また前記のような表面処理を行ってもよい。光学フィルムの偏光子との貼合面は低透湿層積層した面でも良いし、低透湿層を積層していない面であっても構わない。
保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
[Polarizer]
The polarizing plate of the present invention includes a polarizer and at least one optical film of the present invention as a protective film for the polarizer.
The optical film of the present invention can be used as a protective film for a polarizing plate. When using as a protective film for polarizing plates, the production method of a polarizing plate is not specifically limited, It can produce by a general method. There is a method in which the obtained optical film is treated with an alkali and bonded to both sides of a polarizer prepared by immersing and stretching a polyvinyl alcohol film in an iodine solution using a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution. Instead of alkali treatment, easy adhesion processing as described in JP-A-6-94915 and JP-A-6-118232 may be performed. Further, the surface treatment as described above may be performed. The bonding surface of the optical film with the polarizer may be a surface laminated with a low moisture permeable layer or a surface not laminated with a low moisture permeable layer.
Examples of the adhesive used to bond the protective film treated surface and the polarizer include polyvinyl alcohol adhesives such as polyvinyl alcohol and polyvinyl butyral, vinyl latexes such as butyl acrylate, and the like.
The polarizing plate is composed of a polarizer and a protective film that protects both surfaces of the polarizer, and further includes a protective film bonded to one surface of the polarizing plate and a separate film bonded to the other surface. The protective film and the separate film are used for the purpose of protecting the polarizing plate at the time of shipping the polarizing plate and at the time of product inspection. In this case, the protect film is bonded for the purpose of protecting the surface of the polarizing plate, and is used on the side opposite to the surface where the polarizing plate is bonded to the liquid crystal plate. Moreover, a separate film is used in order to cover the adhesive layer bonded to a liquid crystal plate, and is used for the surface side which bonds a polarizing plate to a liquid crystal plate.

[液晶表示装置]
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、該液晶セルの少なくとも一方に配置された本発明の偏光板とを含み、前記偏光板中に含まれる本発明の光学フィルムが最表層となるように配置されたことを特徴とする。
[Liquid Crystal Display]
The liquid crystal display device of the present invention includes a liquid crystal cell and the polarizing plate of the present invention disposed in at least one of the liquid crystal cells, so that the optical film of the present invention contained in the polarizing plate is the outermost layer. It is arranged.

(一般的な液晶表示装置の構成)
液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光板、及び必要に応じて該液晶セルと該偏光板との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、更にガスバリアー層、ハードコート層あるいは(透明電極層の接着に用いる)アンダーコート層(下塗り層)を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に50μm〜2mmの厚さを有する。
(General liquid crystal display device configuration)
The liquid crystal display device includes a liquid crystal cell having a liquid crystal supported between two electrode substrates, two polarizing plates disposed on both sides thereof, and, if necessary, between the liquid crystal cell and the polarizing plate. At least one optical compensation film is arranged.
The liquid crystal layer of the liquid crystal cell is usually formed by sealing liquid crystal in a space formed by sandwiching a spacer between two substrates. The transparent electrode layer is formed on the substrate as a transparent film containing a conductive substance. The liquid crystal cell may further be provided with a gas barrier layer, a hard coat layer, or an undercoat layer (undercoat layer) (used for adhesion of the transparent electrode layer). These layers are usually provided on the substrate. The substrate of the liquid crystal cell generally has a thickness of 50 μm to 2 mm.

液晶表示装置には通常2枚の偏光板の間に液晶セルを含む基板が配置されているが、本発明の光学フィルムを適用した偏光板用保護フィルムは、2枚の偏光板のいずれの保護フィルムとして用いることができるが、各偏光板の2枚の保護フィルムのうち、偏光子に対して液晶セルの外側に配置される保護フィルムとして用いられることが好ましい。
2枚の偏光板のうち、視認側偏光板の、視認側の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを配置することが特に好ましい。
また、2枚の偏光板のうち、視認側偏光板の、視認側の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを配置した上で、更にバックライト側偏光板のバックライト側保護フィルムにも本発明の光学フィルムを配置し、2枚の偏光板に含まれる偏光子の伸縮を抑止し、パネルの反りを防止することも好ましい態様である。
In a liquid crystal display device, a substrate including a liquid crystal cell is usually disposed between two polarizing plates. The protective film for polarizing plates to which the optical film of the present invention is applied is a protective film for any of the two polarizing plates. Although it can be used, it is preferable to use as a protective film arrange | positioned outside a liquid crystal cell with respect to a polarizer among two protective films of each polarizing plate.
Of the two polarizing plates, it is particularly preferable to dispose the optical film of the present invention as a viewing-side protective film of the viewing-side polarizing plate.
Moreover, after arranging the optical film of the present invention as the protective film on the viewing side of the viewing side polarizing plate of the two polarizing plates, the present invention is also applied to the backlight side protective film of the backlight side polarizing plate. It is also a preferable aspect to dispose an optical film, suppress expansion and contraction of the polarizer contained in the two polarizing plates, and prevent warping of the panel.

(液晶表示装置の種類)
本発明のフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。TN(Twisted Nematic)、IPS(In−Plane Switching)、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal)、AFLC(Anti−ferroelectric Liquid Crystal)、OCB(Optically Compensatory Bend)、STN(Super Twisted Nematic)、VA(Vertically Aligned)、ECB(Electrically Controlled Birefringence)、及びHAN(Hybrid Aligned Nematic)のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明の光学フィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。
(Types of liquid crystal display devices)
The film of the present invention can be used for liquid crystal cells in various display modes. TN (Twisted Nematic), IPS (In-Plane Switching), FLC (Ferroelectric Liquid Crystal), AFLC (Anti-Ferroly Liquid Liquid Crystal), OCB (Optically QuantNW). Various display modes such as ECB (Electrically Controlled Birefringence) and HAN (Hybrid Aligned Nematic) have been proposed. In addition, a display mode in which the above display mode is oriented and divided has been proposed. The optical film of the present invention is effective in any display mode liquid crystal display device. Further, it is effective in any of a transmissive type, a reflective type, and a transflective liquid crystal display device.

以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明は以下の実施例に限定され制限されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples. The materials, reagents, amounts and ratios of substances, operations, and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention. Therefore, the present invention is not limited to the following examples.

[製造例1]
<基材フィルム1の作製>
(主鎖にラクトン環単位構造を有するアクリル樹脂からなるフィルム)
攪拌装置、温度センサー、冷却管および窒素導入管を備えた内容積30Lの反応釜に、メタクリル酸メチル(MMA)8000g、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル(MHMA)2000gおよび重合溶媒としてトルエン10000gを仕込み、これに窒素を通じつつ、105℃まで昇温させた。昇温に伴う環流が始まったところで、重合開始剤としてt−アミルパーオキシイソノナノエート10.0gを添加するとともに、t−アミルパーオキシイソノナノエート20.0gとトルエン100gとからなる溶液を2時間かけて滴下しながら、約105〜110℃の環流下で溶液重合を進行させ、さらに4時間の熟成を行った。重合反応率は96.6%、得られた重合体におけるMHMAの含有率(質量比)は20.0%であった。
[Production Example 1]
<Preparation of base film 1>
(Film made of acrylic resin with lactone ring unit structure in the main chain)
In a reaction vessel having an internal volume of 30 L equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling pipe and a nitrogen introduction pipe, 8000 g of methyl methacrylate (MMA), 2000 g of methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate (MHMA) and 10000 g of toluene as a polymerization solvent Was heated up to 105 ° C. while passing nitrogen through it. When the reflux accompanying the temperature rise began, 10.0 g of t-amylperoxyisonononanoate was added as a polymerization initiator, and a solution comprising 20.0 g of t-amylperoxyisonononanoate and 100 g of toluene was added. While dropping over time, solution polymerization was allowed to proceed under reflux at about 105 to 110 ° C., and further aging was performed for 4 hours. The polymerization reaction rate was 96.6%, and the content (mass ratio) of MHMA in the obtained polymer was 20.0%.

次に、得られた重合溶液に、環化触媒として10gのリン酸ステアリル/リン酸ジステアリル混合物(堺化学工業製、Phoslex A-18)を加え、約80〜100℃の環流下において5時間、環化縮合反応を進行させた。   Next, 10 g of stearyl phosphate / distearyl phosphate mixture (Phoslex A-18, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) as a cyclization catalyst is added to the resulting polymerization solution, and the mixture is refluxed at about 80 to 100 ° C. for 5 hours. The cyclization condensation reaction was allowed to proceed.

次に、得られた重合溶液を、バレル温度260℃、回転速度100rpm、減圧度13.3〜400hPa(10〜300mmHg)、リアベント数1個およびフォアベント数4個のベントタイプスクリュー二軸押出機(φ=29.75mm、L/D=30)に、樹脂量換算で2.0kg/時の処理速度で導入し、押出機内で環化縮合反応および脱揮を行った。次に、脱揮完了後、押出機内に残された熱溶融状態にある樹脂を押出機の先端から排出し、ペレタイザーによりペレット化して、主鎖にラクトン環構造を有するアクリル樹脂からなる透明なペレットAを得た。この樹脂の重量平均分子量は148000、メルトフローレート(JIS K7120に準拠し、試験温度を240℃、荷重を10kgとして求めた。以降の製造例においても同じ)は11.0g/10分、ガラス転移温度は130℃であった。   Next, the obtained polymerization solution was subjected to a barrel type screw twin screw extruder having a barrel temperature of 260 ° C., a rotation speed of 100 rpm, a degree of vacuum of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), a rear vent number of 1, and a forevent number of 4. (Φ = 29.75 mm, L / D = 30) was introduced at a treatment rate of 2.0 kg / hour in terms of resin amount, and cyclization condensation reaction and devolatilization were performed in the extruder. Next, after completion of devolatilization, the resin in the molten state left in the extruder is discharged from the tip of the extruder, pelletized by a pelletizer, and transparent pellets made of an acrylic resin having a lactone ring structure in the main chain A was obtained. The weight average molecular weight of this resin is 148,000, the melt flow rate (based on JIS K7120, the test temperature is 240 ° C., the load is 10 kg, the same applies to the following production examples) is 11.0 g / 10 min, glass transition The temperature was 130 ° C.

次に、得られたペレットとAS樹脂(東洋スチレン製、商品名:トーヨーAS AS20)を、ペレット/AS樹脂=90/10の質量比で単軸押出機(φ=30mm)を用いて混錬することにより、ガラス転移温度が127℃の透明なペレットBを得た。   Next, the obtained pellets and AS resin (made by Toyo Styrene, trade name: Toyo AS AS20) are kneaded using a single screw extruder (φ = 30 mm) at a mass ratio of pellet / AS resin = 90/10. As a result, a transparent pellet B having a glass transition temperature of 127 ° C. was obtained.

上記で作製した樹脂組成物のペレットBを、二軸押出機を用いて、コートハンガー型Tダイから溶融押出し、厚さ約160μmの樹脂フィルムを作製した。   The resin composition pellet B produced above was melt extruded from a coat hanger type T die using a twin screw extruder to produce a resin film having a thickness of about 160 μm.

次に、得られた未延伸の樹脂フィルムを、縦方向に2.0倍、横方向に2.0倍(延伸倍率は面積比で4倍)に同時二軸延伸することにより、透明プラスチックフィルム基材を作製した。このようにして得た二軸延伸性フィルムの厚さは40μm、全光線透過率は92%であった。   Next, the obtained unstretched resin film is simultaneously biaxially stretched by 2.0 times in the longitudinal direction and 2.0 times in the transverse direction (stretching ratio is 4 times by area ratio), thereby forming a transparent plastic film. A substrate was prepared. The biaxially stretchable film thus obtained had a thickness of 40 μm and a total light transmittance of 92%.

[製造例2]
<基材フィルム2の作製>
(主鎖にグルタル酸無水物単位構造を有するアクリル樹脂からなるフィルム)
メタクリル酸メチル−スチレン共重合体(MS)樹脂(組成は80モル%:20モル%)100質量部を、イミド化剤としてモノメチルアミン(三菱ガス化学株式会社製)を20質量部用いて、イミド樹脂を製造した。
[Production Example 2]
<Preparation of base film 2>
(Film made of acrylic resin with glutaric anhydride unit structure in the main chain)
Using 100 parts by mass of methyl methacrylate-styrene copolymer (MS) resin (composition is 80 mol%: 20 mol%) and 20 parts by mass of monomethylamine (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) as an imidizing agent, A resin was produced.

使用した押出機はL/D=90、口径40mmの噛合い型同方向回転式二軸押出機である。ホッパーより不活性ガスである窒素を200ml/minの流量で押出機内にフローした。押出機の反応ゾーン(一級アミン添加口からベント口の間)の設定温度を270℃、スクリュー回転数は200rpmとした。ホッパーから110℃で8時間乾燥させた原料樹脂を20kg/hrで供給し、ニーディングブロックによって樹脂を溶融、充満させた後、ノズルから原料樹脂に対して20質量部のモノメチルアミン(4kg/hr)を注入した。反応ゾーンの末端(ベント口の手前)にはリバースフライトを入れて樹脂を充満させた。反応後の副生成物および過剰のモノメチルアミンをベント口の圧力を−0.092MPaに減圧して除去した。押出機出口に設けられたダイスからストランドとして出てきた樹脂は、水槽で冷却した後、ペレタイザでペレット化し、ペレットCを得た。   The used extruder is a meshing type co-rotating twin screw extruder having L / D = 90 and a diameter of 40 mm. Nitrogen, which is an inert gas, was flowed from the hopper into the extruder at a flow rate of 200 ml / min. The set temperature of the reaction zone of the extruder (between the primary amine addition port and the vent port) was 270 ° C., and the screw rotation speed was 200 rpm. A raw material resin dried at 110 ° C. for 8 hours from a hopper was supplied at 20 kg / hr. After the resin was melted and filled by a kneading block, 20 parts by mass of monomethylamine (4 kg / hr) was supplied from the nozzle to the raw material resin. ) Was injected. A reverse flight was placed at the end of the reaction zone (before the vent port) to fill the resin. By-products and excess monomethylamine after the reaction were removed by reducing the pressure at the vent port to -0.092 MPa. Resin that came out as a strand from a die provided at the exit of the extruder was cooled in a water tank and then pelletized with a pelletizer to obtain pellet C.

ペレットCを用いて、製造例1と同様の方法で透明プラスチックフィルム基材を作製した。このようにして得た二軸延伸性フィルムの厚さは40μm、全光線透過率は91%であった。   Using the pellet C, a transparent plastic film substrate was produced in the same manner as in Production Example 1. The biaxially stretchable film thus obtained had a thickness of 40 μm and a total light transmittance of 91%.

[製造例3]
<基材フィルム3の作製>
(主鎖にラクトン環単位構造を有するアクリル樹脂からなるフィルム)
攪拌装置、温度センサー、冷却管および窒素導入管を備えた内容積30Lの反応釜に、41.5部のメタクリル酸メチル(MMA)、6部の2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル(MHMA)、2.5部の2−〔2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロイルオキシ〕エチルフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール(大塚化学製、商品名:RUVA−93)、重合溶媒として50部のトルエン、0.025部の酸化防止剤(旭電化工業製、アデカスタブ2112)、および連鎖移動剤として0.025部のn−ドデシルメルカプタンを仕込み、これに窒素を通じつつ、105℃まで昇温させた。昇温に伴う還流が始まったところで、重合開始剤として0.05部のt−アミルパーオキシイソノナノエート(アルケマ吉富製、商品名:ルペロックス570)を添加するとともに、0.10部のt−アミルパーオキシイソノナノエートを3時間かけて滴下しながら、約105〜110℃の還流下で溶液重合を進行させ、さらに4時間の熟成を行った。
[Production Example 3]
<Preparation of base film 3>
(Film made of acrylic resin with lactone ring unit structure in the main chain)
In a reaction vessel having an internal volume of 30 L equipped with a stirrer, a temperature sensor, a cooling pipe and a nitrogen introduction pipe, 41.5 parts of methyl methacrylate (MMA) and 6 parts of methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate (MHMA) 2.5 parts of 2- [2′-hydroxy-5′-methacryloyloxy] ethylphenyl] -2H-benzotriazole (trade name: RUVA-93, manufactured by Otsuka Chemical), 50 parts of toluene as a polymerization solvent, 0 0.025 part of an antioxidant (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., Adeka Stub 2112) and 0.025 part of n-dodecyl mercaptan were charged as a chain transfer agent, and the temperature was raised to 105 ° C. through nitrogen. When the reflux with the temperature increase started, 0.05 part of t-amyl peroxyisononanoate (manufactured by Arkema Yoshitomi, trade name: Luperox 570) was added as a polymerization initiator, and 0.10 part of t- While amyl peroxy isononanoate was added dropwise over 3 hours, solution polymerization was allowed to proceed under reflux at about 105 to 110 ° C., followed by further aging for 4 hours.

次に、得られた重合溶液に、環化縮合反応の触媒(環化触媒)として0.05部のリン酸2−エチルヘキシル(堺化学工業製、Phoslex A-8)を加え、約90〜110℃の還流下において2時間、環化縮合反応を進行させた後、240℃のオートクレーブにより重合溶液を30分間加熱し、環化縮合反応をさらに進行させた。次に、反応進行後の重合溶液に、紫外線吸収剤としてCGL777MPA(チバスペシャリティケミカルズ製を0.94部混合した。   Next, 0.05 part of 2-ethylhexyl phosphate (manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., Phoslex A-8) is added to the resulting polymerization solution as a catalyst for the cyclization condensation reaction (cyclization catalyst). The cyclization condensation reaction was allowed to proceed for 2 hours under reflux at 0 ° C., and then the polymerization solution was heated for 30 minutes in an autoclave at 240 ° C. to further proceed the cyclization condensation reaction. Next, 0.94 parts of CGL777MPA (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) was mixed with the polymerization solution after the reaction proceeded as an ultraviolet absorber.

次に、得られた重合溶液を、バレル温度240℃、回転速度100rpm、減圧度13.3〜400hPa(10〜300mmHg)、リアベント数1個およびフォアベント数4個(上流側から第1、第2、第3、第4ベントと称する)、先端部にリーフディスク型のポリマーフィルタ(濾過精度5μ、濾過面積1.5m2)を配置したベントタイプスクリュー二軸押出機(Φ=50.0mm、L/D=30)に、樹脂量換算で45kg/時の処理速度で導入し、脱揮を行った。その際、別途準備しておいた酸化防止剤/環化触媒失活剤の混合溶液を0.68kg/時の投入速度で第1ベントの後ろから、イオン交換水を0.22kg/時の投入速度で第3ベントの後ろから、それぞれ投入した。   Next, the obtained polymerization solution was subjected to a barrel temperature of 240 ° C., a rotation speed of 100 rpm, a degree of vacuum of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), a rear vent number of 1 and a forevent number of 4 (first and Bent type screw twin screw extruder (Φ = 50.0mm, L) with leaf disk type polymer filter (filtration accuracy 5μ, filtration area 1.5m2) at the tip / D = 30) was introduced at a treatment rate of 45 kg / hr in terms of resin amount, and devolatilization was performed. At that time, a separately prepared mixed solution of antioxidant / cyclization catalyst deactivator was charged at a rate of 0.68 kg / hour from the back of the first vent, and ion-exchanged water was charged at 0.22 kg / hour. Each was fed from behind the third vent at a speed.

酸化防止剤/環化触媒失活剤の混合溶液には、50部の酸化防止剤(住友化学製スミライザーGS)と、失活剤として35部のオクチル酸亜鉛(日本化学産業製、ニッカオクチクス亜鉛3.6%)とを、トルエン200部に溶解させた溶液を用いた。   In the mixed solution of antioxidant / cyclization catalyst deactivator, 50 parts of antioxidant (Sumitizer GS manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and 35 parts of zinc octylate (manufactured by Nippon Kagaku Sangyo Co., Ltd., Nikka Octix) Zinc (3.6%) was dissolved in 200 parts of toluene.

次に、脱揮完了後、押出機内に残された熱溶融状態にある樹脂を押出機の先端からポリマーフィルタによる濾過を伴いながら排出し、ペレタイザーによりペレット化して、主鎖にラクトン環構造を有するアクリル樹脂と紫外線吸収剤とを含む透明な樹脂組成物のペレットDを得た。樹脂の重量平均分子量は145000、樹脂および樹脂組成物のガラス転移温度(Tg)は122℃であった。   Next, after completion of devolatilization, the resin in the hot melt state remaining in the extruder is discharged while being filtered through a polymer filter from the tip of the extruder, pelletized by a pelletizer, and has a lactone ring structure in the main chain A transparent resin composition pellet D containing an acrylic resin and an ultraviolet absorber was obtained. The weight average molecular weight of the resin was 145000, and the glass transition temperature (Tg) of the resin and the resin composition was 122 ° C.

ペレットDを、二軸押出機を用いて、コートハンガー型Tダイから溶融押出し、厚さ約160μmの樹脂フィルムを作製した。   The pellet D was melt-extruded from a coat hanger type T die using a twin screw extruder to produce a resin film having a thickness of about 160 μm.

次に、得られた未延伸の樹脂フィルムを、縦方向に2.0倍、横方向に2.0倍(延伸倍率は面積比で4倍)に同時二軸延伸することにより、透明プラスチックフィルム基材を作製した。
このようにして得た二軸延伸性の樹脂フィルムの物性を測定したところ、厚さは40mm、ヘイズ(濁度)は0.3%、ガラス転移温度は128℃、380nmの光に対する透過率は5.8%、500nmの光に対する透過率は92.2%であった。
Next, the obtained unstretched resin film is simultaneously biaxially stretched by 2.0 times in the longitudinal direction and 2.0 times in the transverse direction (stretching ratio is 4 times by area ratio), thereby forming a transparent plastic film. A substrate was prepared.
When the physical properties of the biaxially stretchable resin film thus obtained were measured, the thickness was 40 mm, the haze (turbidity) was 0.3%, the glass transition temperature was 128 ° C., and the transmittance for light at 380 nm was The transmittance for light of 5.8% and 500 nm was 92.2%.

[製造例4]
<基材フィルム4の作製>
(主鎖にラクトン環単位構造を有するアクリル樹脂からなる高延伸フィルム)
製造例1で作製したペレットBを、二軸押出機を用いて、コートハンガー型Tダイから溶融押出し、厚さ約500μmの樹脂フィルムを作製した。
[Production Example 4]
<Preparation of base film 4>
(Highly stretched film made of acrylic resin with lactone ring unit structure in the main chain)
The pellet B produced in Production Example 1 was melt-extruded from a coat hanger type T die using a twin screw extruder to produce a resin film having a thickness of about 500 μm.

次に、得られた未延伸の樹脂フィルムを、縦方向に3.4倍、横方向に3.6倍に二軸延伸することにより(延伸倍率は面積比で12.2倍)、透明プラスチックフィルム基材を作製した。このようにして得た二軸延伸性フィルムの厚さは40μm、全光線透過率は92%、ヘイズは0.3%、ガラス転移温度は127℃であった。   Next, the obtained unstretched resin film is biaxially stretched 3.4 times in the longitudinal direction and 3.6 times in the transverse direction (stretching ratio is 12.2 times in terms of area ratio). A film substrate was prepared. The biaxially stretchable film thus obtained had a thickness of 40 μm, a total light transmittance of 92%, a haze of 0.3%, and a glass transition temperature of 127 ° C.

[実施例1]
<光学フィルムの作製>
下記に示す通りに、帯電防止性ハードコート層形成用組成物(塗布液)を調製し、透明基材上に帯電防止性ハードコート層を形成して、光学フィルム試料No.1〜12を作製した。
[Example 1]
<Production of optical film>
As shown below, an antistatic hard coat layer forming composition (coating solution) was prepared, an antistatic hard coat layer was formed on a transparent substrate, and an optical film sample No. 1-12 were produced.

((a)イオン伝導性化合物IP−1の合成)
特許第4600605号公報の合成例2と同様に実施し、該特許文献の(A−2)に対応する化合物として、エチレンオキサイド鎖を有する4級アンモニウム塩基含有ポリマーであるIP−1(30質量%エタノール溶液)を合成した。
(Synthesis of (a) ion conductive compound IP-1)
IP-1 (30% by mass) which is the same as Synthesis Example 2 of Japanese Patent No. 4600655 and is a quaternary ammonium base-containing polymer having an ethylene oxide chain as a compound corresponding to (A-2) of the patent document. Ethanol solution) was synthesized.

(ハードコート層用塗布液の調製)
下記表1に記載のハードコート層用塗布液A−1の組成となるように各成分を添加し、得られた組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液A−1(不揮発分濃度60質量%)とした。
(Preparation of coating solution for hard coat layer)
Each component was added so that it might become the composition of the coating liquid A-1 for hard-coat layers of the following Table 1, The obtained composition was thrown into a mixing tank, it stirred, and the polypropylene filter with the hole diameter of 0.4 micrometer. To obtain a hard coat layer coating solution A-1 (non-volatile content: 60% by mass).

ハードコート層用塗布液A−1と同様の方法で、各成分を下記表1のように混合して溶剤に溶解して表1記載の組成比率になるように調整し、ハードコート層用塗布液A−2〜A−4を作製した。なお、上記表1において、溶媒以外の各成分の含有量は、塗布液の不揮発分に対する各成分の固形分の比率(質量%)で表した。   In the same manner as hard coat layer coating liquid A-1, the components are mixed as shown in Table 1 below, dissolved in a solvent and adjusted so that the composition ratios shown in Table 1 are obtained. Liquids A-2 to A-4 were prepared. In Table 1, the content of each component other than the solvent was expressed as the ratio (mass%) of the solid content of each component to the nonvolatile content of the coating solution.

Figure 2014095731
Figure 2014095731

(ハードコート層の作製)
製造例1で作製した透明基材の上に、前記ハードコート層用塗布液A−1をグラビアコーターを用いて塗布した。60℃で約2分間乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量150mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ10μmの帯電防止性ハードコート層A−1を形成し、光学フィルム試料No.1を作製した。
(Preparation of hard coat layer)
On the transparent base material produced in the manufacture example 1, the said coating liquid A-1 for hard-coat layers was apply | coated using the gravure coater. After drying at 60 ° C. for about 2 minutes, using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 1.0% by volume or less, the illuminance The coating layer is cured by irradiating with ultraviolet rays of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 150 mJ / cm 2 to form an antistatic hard coat layer A-1 having a thickness of 10 μm. 1 was produced.

同様の方法で、製造例1、2または3で作製した透明基材の上に帯電防止性ハードコート層用塗布液A−1〜A−6を用いて膜厚をそれぞれ調整して帯電防止性ハードコート層A−2〜A−12を作製し、光学フィルム試料No.2〜13を作製した。   In the same manner, the antistatic property is adjusted by using the coating liquids A-1 to A-6 for the antistatic hard coat layer on the transparent substrate prepared in Production Example 1, 2, or 3, respectively. Hard coat layers A-2 to A-12 were prepared, and optical film sample Nos. 2 to 13 were produced.

(光学フィルムの評価)
以下の方法により光学フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表2に示す。
(Evaluation of optical film)
Various characteristics of the optical film were evaluated by the following methods. The results are shown in Table 2.

(1)膜厚測定
作製した試料をミクロトームで切削して断面を切り出し、3%の四酸化オスミウム水溶液で一晩染色したのち、再度表面を切り出して断面SEM観察した。反射電子増において、基材側から順に、線状に明るく染色された部分から暗く観察される層の全体を浸透層、その上にある明るく観察される層をハードコート層として、それぞれ膜厚を測長した。
(1) Film thickness measurement The prepared sample was cut with a microtome, cut into a cross section, stained with a 3% osmium tetroxide aqueous solution overnight, and then the surface was cut out again and observed with a cross section SEM. In backscattered electron increase, in order from the substrate side, the entire layer observed dark from the linearly brightly stained part is the permeation layer, and the brightly observed layer above it is the hard coat layer, and the film thickness is respectively Measured length.

(2)表面抵抗値測定
20℃、15%RH条件下に試料を2時間置いた後に超絶縁抵抗/微小電流計TR8601((株)アドバンテスト製)を用いて測定し、表面抵抗値の常用対数(logSR)で示した。logSRがより低い方が帯電防止性が良好であり、本発明においては11.0未満であることが、偏光板保護フィルムとして使用した際に、ディスプレイへのごみ付きを抑制できる観点で好ましい。
(2) Measurement of surface resistance value After placing the sample for 2 hours at 20 ° C. and 15% RH, measurement was performed using a super insulation resistance / microammeter TR8601 (manufactured by Advantest Co., Ltd.). (Log SR). The lower the log SR, the better the antistatic property, and in the present invention, it is preferably less than 11.0 from the viewpoint of suppressing dust on the display when used as a polarizing plate protective film.

(3)ゴミ付き防止性
光学フィルムの透明支持体側をCRT表面に貼り付け、0.5μm以上の埃及びティッシュペーパー屑を、1ft(立法フィート)当たり100〜200万個有する部屋で24時間使用した。反射防止フィルム100cm当たり、付着した埃とティッシュペーパー屑の数を測定し、それぞれの結果の平均値で以下のように評価した。
A:20個未満で、ほとんど屑が付着しない
B:20個以上150個未満で、小量の屑が付着するが問題はない
C:150個以上200個未満で、中量の屑が付着するが顕著な問題はない
D:200個以上で、多量の屑が付着する
(3) Prevention of dust adhesion The transparent support side of the optical film is attached to the CRT surface, and used for 24 hours in a room having 1 to 2 million pieces of dust and tissue paper waste of 0.5 μm or more per 1 ft 3 (legislation foot). did. The number of adhering dust and tissue paper waste per 100 cm 2 of the antireflection film was measured, and the average value of each result was evaluated as follows.
A: Less than 20 and almost no dust adheres B: 20 to less than 150 and small amount of dust adheres, but no problem C: 150 to less than 200, medium amount of waste adheres There is no significant problem D: More than 200 pieces, a lot of scraps adhere

(4)鉛筆硬度評価
JIS K 5400に記載の鉛筆硬度評価を行った。光学フィルムを温度25℃、湿度60%RHで2時間調湿した後、JIS S 6006に規定する試験用鉛筆を用いて評価した。本発明においては、2H以上であることが好ましい。
(4) Pencil hardness evaluation The pencil hardness evaluation described in JIS K 5400 was performed. The optical film was conditioned at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH for 2 hours, and then evaluated using a test pencil specified in JIS S 6006. In the present invention, it is preferably 2H or more.

(4)透湿度(40℃90%相対湿度での透湿度)
透湿度の測定法は、「高分子の物性II」(高分子実験講座4 共立出版)の285頁〜294頁:蒸気透過量の測定(質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法)に記載の方法を適用した。
各実施例および比較例の光学フィルム試料70mmφを40℃、相対湿度90%でそれぞれ24時間調湿し、JIS Z−0208に従った透湿カップを用いて、透湿度=調湿後質量−調湿前質量で単位面積あたりの水分量(g/m)を算出し、以下のように評価した。吸湿剤の入れていないブランクのカップで透湿度の値を補正することは行わなかった。
A:50g/m以下
A’:50g/mより大きく、90g/m以下
B:90g/mより大きく、120g/m以下
C:120g/mより大きい
(4) Moisture permeability (moisture permeability at 40 ° C and 90% relative humidity)
The measurement method of moisture permeability is "Polymer Physical Properties II" (Polymer Experiment Course 4, Kyoritsu Shuppan), pages 285-294: Measurement of vapor permeation (mass method, thermometer method, vapor pressure method, adsorption amount method) The method described in is applied.
70 mmφ of optical film samples of each example and comparative example were conditioned at 40 ° C. and 90% relative humidity for 24 hours, respectively, and using a moisture permeable cup according to JIS Z-0208, moisture permeability = mass after humidity adjustment−control The amount of water per unit area (g / m 2 ) was calculated by the mass before wetting and evaluated as follows. The moisture permeability value was not corrected with a blank cup without a hygroscopic agent.
A: 50 g / m 2 or less A ′: greater than 50 g / m 2 and 90 g / m 2 or less B: greater than 90 g / m 2 and 120 g / m 2 or less C: greater than 120 g / m 2

Figure 2014095731
Figure 2014095731

上記表1において、溶媒以外の各成分の含有量は、塗布液の不揮発分に対する各成分の固形分の比率(質量%)で表した。
また、各溶媒の含有量は、全溶媒(揮発分)の全質量に対する各溶媒の質量の比率(質量%)で表した。
表1において、組成物A−15を用いた試料15では、塗膜が著しくはじき、ハードコート層が形成できなかった。
In the said Table 1, content of each component other than a solvent was represented by the ratio (mass%) of solid content of each component with respect to the non volatile matter of a coating liquid.
Moreover, content of each solvent was represented by the ratio (mass%) of the mass of each solvent with respect to the total mass of all the solvents (volatile matter).
In Table 1, in Sample 15 using the composition A-15, the coating film remarkably repelled and a hard coat layer could not be formed.

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
IP−2:特開2011−31501号公報[0126](調整例4)のポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリ(スチレンスルホン酸)1.0%溶液。溶媒はMEK/アセトン/水(水は0.05%)
A−TMMT:ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)NKエステル)
A−TMM−3L:ペンタエリスリトールトリアクリレート(含有率55質量%)、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレートの混合物(新中村化学工業(株)NKエステル)
A−400:ポリエチレングリコールジアクリレート(エチレンオキシドの繰返し数9)(新中村化学工業(株)NKエステル)
Irg.184:光重合開始剤、イルガキュア184(チバ・ジャパン(株)製)
MEK:メチルエチルケトン(沸点79.5℃)
IP−1
The compounds used are shown below.
IP-2: A poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -poly (styrenesulfonic acid) 1.0% solution of JP 2011-31501 A [Adjustment Example 4]. Solvent is MEK / acetone / water (0.05% water)
A-TMMT: Pentaerythritol tetraacrylate (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. NK Ester)
A-TMM-3L: A mixture of pentaerythritol triacrylate (content 55% by mass), pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol monoacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester)
A-400: Polyethylene glycol diacrylate (repetition number of ethylene oxide 9) (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. NK ester)
Irg. 184: Photopolymerization initiator, Irgacure 184 (manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.)
MEK: methyl ethyl ketone (boiling point 79.5 ° C.)
IP-1

Figure 2014095731
Figure 2014095731

表2に示すように、本発明のハードコート層形形成用組成物を用いて形成したハードコート層を有する光学フィルムは、アクリル系基材とハードコート層との間に浸透層が形成されていることが確認できた。さらに、導電性ポリマーを含有する試料では、表面抵抗が低く良好な帯電防止性を示し、ゴミ付きが抑制されていることも確認できた。
実施例である試料1と、比較例である試料5との比較により、ハードコート層と浸透層の膜厚の合計が同じであっても、試料1の方が表面抵抗がより低く帯電防止性に優れていることがわかる。ハードコート層内で導電性ポリマーが濃縮されて、より帯電防止性が高められたと考えられる。さらに、実施例である試料1と、比較例である試料5との比較により、ハードコート層の膜厚が同じでも浸透層が形成されている方が鉛筆硬度を高められることがわかる。
また、実施例の試料では低透湿性に優れていることも確認できた。特に、試料14では、透湿度がAランクで、特に優れていた。
As shown in Table 2, the optical film having a hard coat layer formed using the composition for forming a hard coat layer according to the present invention has an osmotic layer formed between the acrylic base material and the hard coat layer. It was confirmed that Furthermore, it was confirmed that the sample containing the conductive polymer had low surface resistance and good antistatic properties, and that dust was suppressed.
Comparison of sample 1 as an example and sample 5 as a comparative example shows that even if the total thickness of the hard coat layer and the permeation layer is the same, sample 1 has a lower surface resistance and antistatic properties. It turns out that it is excellent in. It is thought that the conductive polymer was concentrated in the hard coat layer, and the antistatic property was further improved. Furthermore, comparison between Sample 1 as an example and Sample 5 as a comparative example shows that the pencil hardness can be increased when the penetration layer is formed even if the film thickness of the hard coat layer is the same.
It was also confirmed that the samples of the examples were excellent in low moisture permeability. In particular, the moisture permeability of Sample 14 was A rank, which was particularly excellent.

なお、上記ハードコート層形成用組成物に、レベリング剤として、下記化合物FP−13(フッ素系の界面活性剤で、メチルエチルケトン溶媒に固形分濃度40質量%で溶解しているもの)を、組成物の不揮発分に対して0.05質量%添加して、それ以外は同様にして光学フィルムを作製したところ、上記と同様の結果が得られた。   In addition, the following compound FP-13 (a fluorosurfactant dissolved in a methyl ethyl ketone solvent at a solid content concentration of 40% by mass) is used as a leveling agent in the composition for forming a hard coat layer. When an optical film was prepared in the same manner except that 0.05% by mass was added to the non-volatile content, the same result as above was obtained.

Figure 2014095731
Figure 2014095731

また、いずれの実施例の光学フィルムにおいても、ハードコート層と浸透層の合計の膜厚を2μm〜20μmまで変えても、本発明の実施例と同様の効果が得られた。   Moreover, in the optical film of any Example, even if the total film thickness of the hard coat layer and the osmotic layer was changed from 2 μm to 20 μm, the same effect as the Example of the present invention was obtained.

加えて、いずれの実施例の光学フィルムにおいても、基材として製造例1〜2のアクリル樹脂を含む基材の代わりに国際公開第2009/047924号公報の実施例のOptical Film No.1に記載の層厚60μmのフィルムを用いた場合にも、本発明の実施例と同様の効果が得られた。さらに、基材として製造例1〜2の延伸倍率を適宜調整して厚さ20μm〜100μmまで変更したフィルムを用いても、80μmより厚く調整した場合は透湿度のレベルがA、30μmより薄く調整した場合は透湿度のレベルがCであった以外は、同様の効果が得られた。   In addition, in any of the optical films of Examples, Optical Film No. in Examples of International Publication No. 2009/047924 is used instead of the substrate containing the acrylic resin of Production Examples 1 and 2 as a substrate. When the film having a layer thickness of 60 μm described in 1 was used, the same effect as in the example of the present invention was obtained. Furthermore, even when a film whose thickness is changed from 20 μm to 100 μm by appropriately adjusting the draw ratio of Production Examples 1 and 2 as a base material is adjusted to be thicker than 80 μm, the level of moisture permeability is adjusted to be thinner than 30 μm. In this case, the same effect was obtained except that the moisture permeability level was C.

更に、いずれの実施例の光学フィルムのハードコート層の上に、特開2012−072275の実施例試料No.29に記載の方法と同様に反射防止層を形成した試料、または特開2008−003580の実施例1に記載の被覆層と同様の方法で低透湿層を形成した試料においても、本発明の実施例と同様の効果が得られた。   Furthermore, on the hard coat layer of the optical film of any of Examples, Example Sample No. The sample in which the antireflection layer is formed in the same manner as the method described in 29, or the sample in which the low moisture-permeable layer is formed in the same method as the coating layer described in Example 1 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-003580 is used. The same effect as in the example was obtained.

更に、いずれの実施例の光学フィルムのハードコート層の上に、特開2012−072275の実施例試料No.29に記載の方法と同様に反射防止層を形成した試料、または特開2008−003580の実施例1に記載の被覆層と同様の方法で低透湿層を形成した試料、特開2008−249901の実施例2に記載の被覆層と同様の方法で低湿層を形成した試料においては、透湿度がそれぞれB、A、A’であった以外は、本発明の実施例と同様の効果が得られた。   Furthermore, on the hard coat layer of the optical film of any of Examples, Example Sample No. A sample in which an antireflection layer is formed in the same manner as the method described in No. 29, or a sample in which a low moisture-permeable layer is formed in the same manner as the coating layer described in Example 1 of JP-A-2008-003580, JP-A-2008-249901 In the sample in which the low-humidity layer was formed by the same method as the coating layer described in Example 2, the same effects as those of the example of the present invention were obtained except that the moisture permeability was B, A, and A ′, respectively. It was.

いずれの実施例の光学フィルムのハードコート層と反対側の基材の上に、特開2008−003580の実施例1に記載の被覆層と同様の方法で低透湿層を形成した試料、特開2008−249901の実施例2に記載の被覆層と同様の方法で低湿層を形成した試料においても、透湿度がそれぞれA、A’であった以外は、本発明の実施例と同様の効果が得られた。   A sample in which a low moisture-permeable layer is formed on the substrate opposite to the hard coat layer of the optical film of any example by the same method as the coating layer described in Example 1 of JP-A-2008-003580, Also in the sample in which the low-humidity layer was formed by the same method as the coating layer described in Example 2 of Kai 2008-249901, the same effects as in the example of the present invention except that the moisture permeability was A and A ′, respectively. was gotten.

(パネルの評価)
<偏光板の作製>
1)フィルムの鹸化
市販のセルロースアシレートフィルム(フジタック ZRD40、富士フイルム(株)製)と実施例で光学フィルム試料1および10を、55℃に保った1.5mol/LのNaOH水溶液(鹸化液)に2分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、25℃の0.05mol/Lの硫酸水溶液に30秒浸漬した後、更に水洗浴を30秒流水下に通して、フィルムを中性の状態にした。そして、エアナイフによる水切りを3回繰り返し、水を落とした後に70℃の乾燥ゾーンに15秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムを作製した。
(Panel evaluation)
<Preparation of polarizing plate>
1) Saponification of film Commercially available cellulose acylate film (Fujitack ZRD40, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) and optical film samples 1 and 10 in the examples were placed in a 1.5 mol / L NaOH aqueous solution (saponification solution) maintained at 55 ° C. 2), the film was washed with water, and then immersed in a 0.05 mol / L sulfuric acid aqueous solution at 25 ° C. for 30 seconds, and then passed through a washing bath for 30 seconds under running water. It was in a state. Then, draining with an air knife was repeated three times, and after dropping the water, the film was retained in a drying zone at 70 ° C. for 15 seconds and dried to produce a saponified film.

2)偏光子の作製
特開2001−141926号公報の実施例1に従い、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて膜厚20μmの偏光子を作製した。
2) Production of Polarizer According to Example 1 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-141926, iodine was adsorbed to a stretched polyvinyl alcohol film to produce a polarizer having a thickness of 20 μm.

3)貼り合わせ
(偏光板101、110、113の作製)
前記で作製した偏光子の片面に対して、アクリル接着剤を用いて、作製した光学フィルム試料1、10、13の低透湿層を積層していない面を、コロナ処理を施したのち、貼合した。前記で作製した偏光子のもう片側にポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記鹸化した市販のセルロースアシレートフィルムZRD40を貼り付け、70℃で10分以上乾燥して、偏光板101、110、113を作製した。
この際、作製した偏光子のロールの長手方向と光学フィルム102〜106の長手方向とが平行になるように配置した。また、偏光子のロールの長手方向と上記セルロールアシレートフィルムZRD40のロールの長手方向とが、平行になるように配置した。
3) Bonding (production of polarizing plates 101, 110, 113)
After applying the corona treatment to one side of the polarizer produced as described above, the surface of the produced optical film samples 1, 10 and 13 on which the low moisture permeable layer is not laminated is pasted using an acrylic adhesive. Combined. The saponified commercially available cellulose acylate film ZRD40 was attached to the other side of the polarizer prepared above using a polyvinyl alcohol-based adhesive, dried at 70 ° C. for 10 minutes or more, and polarizing plates 101, 110, 113. Was made.
Under the present circumstances, it arrange | positioned so that the longitudinal direction of the roll of the produced polarizer and the longitudinal direction of the optical films 102-106 may become parallel. Moreover, it arrange | positioned so that the longitudinal direction of the roll of a polarizer and the longitudinal direction of the roll of the said cell roll acylate film ZRD40 may become parallel.

<IPSパネルへの実装>
IPSモード液晶セル(LGD製 42LS5600)の上下の偏光板を剥し、上記各実施例および比較例の偏光板をZRD40が液晶セル側になるようにして貼りつけた。上側偏光板の透過軸が上下方向に、そして下側偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
得られた液晶表示装置を、各実施例および比較例の液晶表示装置とした。
なお、IPSパネルへの実装時における、各実施例および比較例の偏光板の構成を下記表2に記載した。
<Implementation to IPS panel>
The upper and lower polarizing plates of the IPS mode liquid crystal cell (manufactured by LGD, 42LS5600) were peeled off, and the polarizing plates of the above examples and comparative examples were attached so that the ZRD 40 was on the liquid crystal cell side. The crossed nicols were arranged so that the transmission axis of the upper polarizing plate was in the vertical direction and the transmission axis of the lower polarizing plate was in the horizontal direction.
The obtained liquid crystal display device was made into the liquid crystal display device of each Example and a comparative example.
In addition, the structure of the polarizing plate of each Example and a comparative example at the time of mounting to an IPS panel was described in following Table 2.

以上のようにして作製した液晶表示装置の高温高湿環境経時後の黒表示ムラを評価した。結果は下記表3に示す。   The liquid crystal display device produced as described above was evaluated for black display unevenness after a high temperature and high humidity environment. The results are shown in Table 3 below.

(高温高湿環境経時後の黒表示ムラ)
液晶表示装置を65℃、相対湿度90%で20時間経過させた後、25℃、相対湿度60%の環境下で2時間調湿した後で点灯をさせ、黒表示時の色ムラの程度を目視で観測し、以下の基準により3段階で評価した。
A:色ムラは観測されなかった。
B:表示面の1/2以下の面積で弱い色ムラが観測されたが問題ない。
C:表示面の1/2を超える面積で色ムラが観測され、問題である。
(Black display unevenness after high temperature and high humidity environment)
After the liquid crystal display device was passed for 20 hours at 65 ° C. and a relative humidity of 90%, it was lit for 2 hours in an environment of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, and then turned on to reduce the degree of color unevenness during black display. It observed visually and evaluated in three steps according to the following criteria.
A: Color unevenness was not observed.
B: Although weak color unevenness was observed in an area of 1/2 or less of the display surface, there is no problem.
C: Color unevenness is observed in an area exceeding 1/2 of the display surface, which is a problem.

Figure 2014095731
Figure 2014095731

表3に示すように、高温高湿環境経時後であってもパネルの黒表示ムラは弱く、良いレベルになっていることがわかる。   As shown in Table 3, it can be seen that the black display unevenness of the panel is weak and is at a good level even after the high temperature and high humidity environment.

Claims (10)

アクリル樹脂からなる熱可塑性基材上に、ハードコート層を有する光学フィルムであって、該熱可塑性基材と該ハードコート層との間に、ハードコート層形成用組成物に含まれるバインダーと基材のアクリル樹脂とを含む浸透層が設けられたことを特徴とする光学フィルム。   An optical film having a hard coat layer on a thermoplastic substrate made of an acrylic resin, the binder and the base contained in the composition for forming a hard coat layer between the thermoplastic substrate and the hard coat layer An optical film provided with a permeation layer containing an acrylic resin as a material. 上記ハードコート層の膜厚が1μm以上であり、且つ、ハードコート層と浸透層の膜厚の合計に対するハードコート層の膜厚が、10%以上90%以下であることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルム。   The film thickness of the hard coat layer is 1 μm or more, and the film thickness of the hard coat layer with respect to the total film thickness of the hard coat layer and the permeation layer is 10% or more and 90% or less. 1. The optical film as described in 1. 上記ハードコート層を形成するためのハードコート層形成用組成物が、(a)ポリマー成分を含んでいることを特徴とする請求項1または2に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1 or 2, wherein the composition for forming a hard coat layer for forming the hard coat layer contains (a) a polymer component. 上記(a)ポリマー成分が、導電性ポリマーであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the polymer component (a) is a conductive polymer. 上記ハードコート層形成用組成物は、さらに(b)同一分子内に2個以上の不飽和二重結合を有するモノマー、(c)光重合開始剤、(d)有機溶剤を含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学フィルム。   The composition for forming a hard coat layer further contains (b) a monomer having two or more unsaturated double bonds in the same molecule, (c) a photopolymerization initiator, and (d) an organic solvent. The optical film according to any one of claims 1 to 4. 上記(b)同一分子内に2個以上の重合性基を有するモノマーのSP値が17〜30であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学フィルム。   The optical film according to any one of claims 1 to 5, wherein the SP value of the monomer (b) having two or more polymerizable groups in the same molecule is 17 to 30. 上記熱可塑性基材のアクリル樹脂が、下記式(101)で表されるラクトン環単位、
Figure 2014095731

(式中、R111、R112、R113は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜20の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。)
または、下記式(102)で表されるグルタル酸無水物単位構造
Figure 2014095731

(式中、R31、R32は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜20の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。)
を含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学フィルム。
The acrylic resin of the thermoplastic substrate is a lactone ring unit represented by the following formula (101),
Figure 2014095731

(Wherein R 111 , R 112 and R 113 each independently represents a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms. The organic residue may contain an oxygen atom.)
Or a glutaric anhydride unit structure represented by the following formula (102)
Figure 2014095731

(In the formula, R 31 and R 32 each independently represent a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms. The organic residue may contain an oxygen atom.)
The optical film according to claim 1, comprising:
偏光子と、該偏光子の保護フィルムとして請求項1〜7のいずれか一項に記載の光学フィルムとを少なくとも1枚含むことを特徴とする偏光板。   A polarizing plate comprising at least one polarizer and the optical film according to any one of claims 1 to 7 as a protective film for the polarizer. 液晶セルと、該液晶セルの少なくとも一方に配置された請求項8に記載の偏光板とを含み、前記光学フィルムが最表層となるように配置されたことを特徴とする液晶表示装置。   A liquid crystal display device comprising: a liquid crystal cell; and the polarizing plate according to claim 8 disposed in at least one of the liquid crystal cells, wherein the optical film is disposed as an outermost layer. アクリル樹脂からなる熱可塑性基材上に、ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法であって、前記熱可塑性基材上にハードコート層形成用組成物を塗布することにより、該熱可塑性基材と該ハードコート層との間に、ハードコート層形成用組成物に含まれるバインダーと基材のアクリル樹脂とを含む浸透層形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。   A method for producing an optical film having a hard coat layer on a thermoplastic substrate made of an acrylic resin, wherein the thermoplastic substrate is formed by applying a composition for forming a hard coat layer on the thermoplastic substrate. A penetrating layer containing a binder contained in the composition for forming a hard coat layer and a base acrylic resin is formed between the hard coat layer and the hard coat layer.
JP2012234185A 2012-10-12 2012-10-23 Optical film, polarizing plate and liquid crystal display device Pending JP2014095731A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012234185A JP2014095731A (en) 2012-10-12 2012-10-23 Optical film, polarizing plate and liquid crystal display device

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012227513 2012-10-12
JP2012227513 2012-10-12
JP2012234185A JP2014095731A (en) 2012-10-12 2012-10-23 Optical film, polarizing plate and liquid crystal display device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014095731A true JP2014095731A (en) 2014-05-22
JP2014095731A5 JP2014095731A5 (en) 2015-07-16

Family

ID=50938859

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012234185A Pending JP2014095731A (en) 2012-10-12 2012-10-23 Optical film, polarizing plate and liquid crystal display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2014095731A (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016052579A1 (en) * 2014-09-30 2016-04-07 富士フイルム株式会社 Hard coat film, method for manufacturing hard coat film, polarizing plate and liquid crystal display device
WO2017086249A1 (en) * 2015-11-17 2017-05-26 住友化学株式会社 Pressure-sensitive-adhesive-coated resin film and optical laminate including same
WO2018034126A1 (en) * 2016-08-15 2018-02-22 富士フイルム株式会社 Antireflective film, antireflective article, polarizing plate, image display device, module, touch panel liquid crystal display device, and method for manufacturing antireflective film
JP2018132751A (en) * 2016-08-15 2018-08-23 富士フイルム株式会社 Antireflection film, antireflection article, polarizing plate, image display device, module, liquid crystal display device with touch panel, and production method of antireflection film
WO2018190175A1 (en) * 2017-04-10 2018-10-18 日東電工株式会社 Optical laminate, polarizing plate, and image display device
WO2018190174A1 (en) * 2017-04-10 2018-10-18 日東電工株式会社 Optical laminate, polarizing plate, and image display device
WO2019035398A1 (en) * 2017-08-15 2019-02-21 大日本印刷株式会社 Optical film, polarizing plate, and image display device
JP2020013154A (en) * 2015-11-16 2020-01-23 富士フイルム株式会社 Optical film, image display device, and method for producing optical film
JP2021124616A (en) * 2020-02-05 2021-08-30 日東電工株式会社 Anti-glare hard coat film, manufacturing method of anti-glare hard coat film, optical member and image display device

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006106714A (en) * 2004-09-13 2006-04-20 Fuji Photo Film Co Ltd Anti-reflection film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2006299221A (en) * 2004-09-29 2006-11-02 Dainippon Printing Co Ltd Optical laminate
WO2008020613A1 (en) * 2006-08-18 2008-02-21 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical laminate, polarizing plate, and image display apparatus
JP2009126879A (en) * 2007-11-20 2009-06-11 Fujifilm Corp Hard coat laminate
JP2010082860A (en) * 2008-09-30 2010-04-15 Dainippon Printing Co Ltd Hard coat film, and method of manufacturing hard coat film
JP2011189446A (en) * 2010-03-15 2011-09-29 Kato Koki Kk Tap holder
JP2012093002A (en) * 2010-10-25 2012-05-17 Babcock Hitachi Kk Boiler system and operation method therefor
JP2012095086A (en) * 2010-10-27 2012-05-17 Kazuo Ide Backload horn type speaker
JP2012093003A (en) * 2010-10-25 2012-05-17 Ibiden Co Ltd Thermal receiver and solar thermal power generation device
JP2012144690A (en) * 2010-12-24 2012-08-02 Nitto Denko Corp Active energy ray-curing adhesive agent composition, polarization plate, optical film and image display device
JP2012234164A (en) * 2011-04-22 2012-11-29 Nitto Denko Corp Optical laminate
JP2012234163A (en) * 2011-04-22 2012-11-29 Nitto Denko Corp Optical laminate
JP2013050641A (en) * 2011-08-31 2013-03-14 Dainippon Printing Co Ltd Hard coat film, polarizing plate, front plate and image display apparatus
JP2013222153A (en) * 2012-04-18 2013-10-28 Dainippon Printing Co Ltd Hard coat film, polarizing plate, front plate, and image display device

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006106714A (en) * 2004-09-13 2006-04-20 Fuji Photo Film Co Ltd Anti-reflection film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2006299221A (en) * 2004-09-29 2006-11-02 Dainippon Printing Co Ltd Optical laminate
WO2008020613A1 (en) * 2006-08-18 2008-02-21 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical laminate, polarizing plate, and image display apparatus
JP2009126879A (en) * 2007-11-20 2009-06-11 Fujifilm Corp Hard coat laminate
JP2010082860A (en) * 2008-09-30 2010-04-15 Dainippon Printing Co Ltd Hard coat film, and method of manufacturing hard coat film
JP2011189446A (en) * 2010-03-15 2011-09-29 Kato Koki Kk Tap holder
JP2012093002A (en) * 2010-10-25 2012-05-17 Babcock Hitachi Kk Boiler system and operation method therefor
JP2012093003A (en) * 2010-10-25 2012-05-17 Ibiden Co Ltd Thermal receiver and solar thermal power generation device
JP2012095086A (en) * 2010-10-27 2012-05-17 Kazuo Ide Backload horn type speaker
JP2012144690A (en) * 2010-12-24 2012-08-02 Nitto Denko Corp Active energy ray-curing adhesive agent composition, polarization plate, optical film and image display device
JP2012234164A (en) * 2011-04-22 2012-11-29 Nitto Denko Corp Optical laminate
JP2012234163A (en) * 2011-04-22 2012-11-29 Nitto Denko Corp Optical laminate
JP2013050641A (en) * 2011-08-31 2013-03-14 Dainippon Printing Co Ltd Hard coat film, polarizing plate, front plate and image display apparatus
JP2013222153A (en) * 2012-04-18 2013-10-28 Dainippon Printing Co Ltd Hard coat film, polarizing plate, front plate, and image display device

Cited By (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106795309B (en) * 2014-09-30 2019-11-01 富士胶片株式会社 Hard-coated film, the manufacturing method of hard-coated film, polarizing film and liquid crystal display device
JP2016068497A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 富士フイルム株式会社 Hard coat film, method for producing hard coat film, polarizing plate, and liquid crystal display device
CN106795309A (en) * 2014-09-30 2017-05-31 富士胶片株式会社 Hard-coated film, the manufacture method of hard-coated film, polarizer and liquid crystal display device
WO2016052579A1 (en) * 2014-09-30 2016-04-07 富士フイルム株式会社 Hard coat film, method for manufacturing hard coat film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2020013154A (en) * 2015-11-16 2020-01-23 富士フイルム株式会社 Optical film, image display device, and method for producing optical film
KR20180082482A (en) * 2015-11-17 2018-07-18 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 A pressure-sensitive adhesive resin film and an optical laminate
KR102653728B1 (en) * 2015-11-17 2024-04-01 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Adhesive-attached resin film and optical laminate containing the same
CN108350325A (en) * 2015-11-17 2018-07-31 住友化学株式会社 Resin film with adhesive and the optical laminate comprising it
JP2017095700A (en) * 2015-11-17 2017-06-01 住友化学株式会社 Resin film with adhesive and optical laminate comprising the same
TWI816637B (en) * 2015-11-17 2023-10-01 日商住友化學股份有限公司 Resin film with adhesive and optical laminate containing the same
JP7158126B2 (en) 2015-11-17 2022-10-21 住友化学株式会社 Resin film with adhesive and optical laminate containing the same
JP2022125327A (en) * 2015-11-17 2022-08-26 住友化学株式会社 Resin film with pressure-sensitive adhesive and optical laminate including the same
CN108350325B (en) * 2015-11-17 2021-08-10 住友化学株式会社 Adhesive-attached resin film and optical laminate comprising same
WO2017086249A1 (en) * 2015-11-17 2017-05-26 住友化学株式会社 Pressure-sensitive-adhesive-coated resin film and optical laminate including same
JP2018132751A (en) * 2016-08-15 2018-08-23 富士フイルム株式会社 Antireflection film, antireflection article, polarizing plate, image display device, module, liquid crystal display device with touch panel, and production method of antireflection film
KR102253371B1 (en) * 2016-08-15 2021-05-20 후지필름 가부시키가이샤 Antireflection film, antireflection article, polarizing plate, image display device, module, liquid crystal display device with touch panel, and manufacturing method of antireflection film
WO2018034126A1 (en) * 2016-08-15 2018-02-22 富士フイルム株式会社 Antireflective film, antireflective article, polarizing plate, image display device, module, touch panel liquid crystal display device, and method for manufacturing antireflective film
KR20190026022A (en) * 2016-08-15 2019-03-12 후지필름 가부시키가이샤 An antireflection film, an antireflection article, a polarizing plate, an image display device, a module, a liquid crystal display device with a touch panel, and a method of manufacturing an antireflection film
US10871596B2 (en) 2016-08-15 2020-12-22 Fujifilm Corporation Antireflection film, antireflection product, polarizing plate, image display device, module, liquid crystal display device with touch panel, and method of manufacturing antireflection film
CN109642963A (en) * 2016-08-15 2019-04-16 富士胶片株式会社 Antireflection film, reflection preventing article, polarizing film, image display device, module, the manufacturing method of the liquid crystal display device with touch panel and antireflection film
CN110520765B (en) * 2017-04-10 2021-12-10 日东电工株式会社 Optical laminate, polarizing plate, and image display device
KR102604388B1 (en) * 2017-04-10 2023-11-22 닛토덴코 가부시키가이샤 Optical laminates, polarizers, and image display devices
KR20190137805A (en) * 2017-04-10 2019-12-11 닛토덴코 가부시키가이샤 Optical laminated body, polarizing plate, and image display device
CN110494773A (en) * 2017-04-10 2019-11-22 日东电工株式会社 Optical laminate, polarizing film and image display device
KR20190137804A (en) * 2017-04-10 2019-12-11 닛토덴코 가부시키가이샤 Optical laminated body, polarizing plate, and image display device
CN110520765A (en) * 2017-04-10 2019-11-29 日东电工株式会社 Optical laminate, polarizing film and image display device
TWI771403B (en) * 2017-04-10 2022-07-21 日商日東電工股份有限公司 Optical laminate, polarizing plate, and image display device
JPWO2018190175A1 (en) * 2017-04-10 2020-02-20 日東電工株式会社 Optical laminate, polarizing plate, and image display device
JPWO2018190174A1 (en) * 2017-04-10 2020-02-20 日東電工株式会社 Optical laminate, polarizing plate, and image display device
WO2018190174A1 (en) * 2017-04-10 2018-10-18 日東電工株式会社 Optical laminate, polarizing plate, and image display device
KR102510766B1 (en) * 2017-04-10 2023-03-17 닛토덴코 가부시키가이샤 Optical laminate, polarizer, and image display device
WO2018190175A1 (en) * 2017-04-10 2018-10-18 日東電工株式会社 Optical laminate, polarizing plate, and image display device
WO2019035398A1 (en) * 2017-08-15 2019-02-21 大日本印刷株式会社 Optical film, polarizing plate, and image display device
JP2021124616A (en) * 2020-02-05 2021-08-30 日東電工株式会社 Anti-glare hard coat film, manufacturing method of anti-glare hard coat film, optical member and image display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2014095731A (en) Optical film, polarizing plate and liquid crystal display device
US9946110B2 (en) Liquid crystal display
JP6086629B2 (en) Optical film, optical film manufacturing method, polarizing plate, and image display device
KR101688437B1 (en) Optical film and method for manufacturing same, polarizing plate, and liquid crystal display device
US9989675B2 (en) Polarizing plate and image display device
JP5751249B2 (en) Hard coat film, method for producing the same, polarizing plate, and liquid crystal display device
JPWO2014119487A1 (en) Optical film and method for manufacturing the same, polarizing plate, and liquid crystal display device
JP6327289B2 (en) Polarizing plate protective film, production method thereof, polarizing plate and image display device
WO2017057255A1 (en) Polarizing plate protective film, method for manufacturing same, polarizing plate, and image display device
JP2014095890A (en) Hard coat film, manufacturing method therefor, anti-reflection film, polarizing plate, and image display device
JP2014170130A (en) Optical film and production method of the same, polarizing plate and liquid crystal display device
KR20240067278A (en) Polarizing plate and image display device
JP6053729B2 (en) Polarizing plate protective film, polarizing plate, liquid crystal display device, and manufacturing method of polarizing plate protective film
JP2014119539A (en) Polarizing plate protective film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP6267886B2 (en) Liquid crystal display
JP2014095730A (en) Optical film and method for producing the same, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2014102492A (en) Optical film and method for manufacturing the same, polarizing plate and liquid crystal display device
JPWO2014057950A1 (en) Manufacturing method of optical film
JP2016151696A (en) Liquid crystal display device and polarizing plate kit
JP2014199320A (en) Optical film and production method of the same, polarizing plate and liquid crystal display device
KR20140047548A (en) Optical film and method for producing the same, polarizing plate, and liquid crystal display device
JP2014119538A (en) Polarizing plate protective film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2014098893A (en) Optical film and production method of the same, polarizing plate and liquid crystal display device
WO2006035649A1 (en) Process for producing surface-roughened sheet, surface-roughened sheet, and antiglare sheet
JP2016088991A (en) Curable composition, film, optical film, method for producing optical film, polarizing plate, and image display device

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150527

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150527

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20150828

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160224

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160308

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160428

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20161004