[go: up one dir, main page]

JP2012114196A - Cutting apparatus - Google Patents

Cutting apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2012114196A
JP2012114196A JP2010261103A JP2010261103A JP2012114196A JP 2012114196 A JP2012114196 A JP 2012114196A JP 2010261103 A JP2010261103 A JP 2010261103A JP 2010261103 A JP2010261103 A JP 2010261103A JP 2012114196 A JP2012114196 A JP 2012114196A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cutting
chuck table
workpiece
spindle
storage chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010261103A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
shintaro Matsuoka
伸太郎 松岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2010261103A priority Critical patent/JP2012114196A/en
Publication of JP2012114196A publication Critical patent/JP2012114196A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Dicing (AREA)

Abstract

【課題】 切削屑が被加工物に付着する恐れを低減可能な切削装置を提供することである。
【解決手段】 被加工物を保持する保持面を有するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を切削する切削ブレードと該切削ブレードが装着されるスピンドルとを有する切削手段と、該チャックテーブルと該切削手段とを該保持面に平行な加工送り方向へ相対移動させる加工送り手段と、該チャックテーブルと該切削手段と該加工送り方向に直交する割り出し送り方向に相対移動させる割り出し送り手段と、を備えた切削装置であって、該切削手段は、該スピンドルの軸心が鉛直方向となるように配設され、該チャックテーブルは、該保持面が該スピンドルの軸心と平行になるように配設され、加工中の該チャックテーブルと該切削ブレードを収容する収容室と、該収容室に液体を供給して該チャックテーブルと該切削ブレードとを液体中に浸漬させる液体供給手段と、を具備したことを特徴とする。
【選択図】図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cutting device capable of reducing the fear that cutting waste adheres to a workpiece.
A chuck means having a holding surface for holding a workpiece, a cutting blade for cutting the workpiece held on the chuck table, and a spindle on which the cutting blade is mounted, A machining feed means for relatively moving the chuck table and the cutting means in a machining feed direction parallel to the holding surface, and an index feed for moving the chuck table, the cutting means and the cutting means relative to an index feed direction orthogonal to the machining feed direction. The cutting means is disposed such that an axis of the spindle is in a vertical direction, and the holding surface of the chuck table is parallel to the axis of the spindle. The chuck table being processed and a storage chamber for storing the cutting blade, and supplying the liquid to the storage chamber to supply the chuck table and the cutting table And a liquid supply means for immersing the blade in the liquid.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は切削屑が被加工物に付着する恐れを低減可能な切削装置に関する。   The present invention relates to a cutting apparatus that can reduce the risk of cutting waste adhering to a workpiece.

IC、LSI等の数多くのデバイスが表面に形成され、且つ個々のデバイスが分割予定ライン(ストリート)によって区画された半導体ウエーハは、研削装置によって裏面が研削されて所定の厚みに加工された後、切削装置(ダイシング装置)によって切削予定ラインを切削して個々のデバイスに分割され、分割されたデバイスは携帯電話、パソコン等の各種電気機器に広く利用されている。   A semiconductor wafer in which a number of devices such as IC and LSI are formed on the surface, and each device is partitioned by a line to be divided (street), the back surface is ground by a grinding machine and processed to a predetermined thickness. The cutting line is cut by a cutting device (dicing device) and divided into individual devices, and the divided devices are widely used in various electric devices such as mobile phones and personal computers.

切削装置は、ウエーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを切削する切削ブレードを回転可能に支持する切削手段と、チャックテーブルと切削手段とを相対的に加工送りする加工送り手段と、チャックテーブルと切削手段とを相対的に割り出し送りする割り出し送り手段とを少なくとも備えていて、ウエーハを高精度に個々のデバイスに分割することができる。   The cutting apparatus includes a chuck table that holds a wafer, a cutting means that rotatably supports a cutting blade that cuts the wafer held by the chuck table, and a machining feed that relatively feeds the chuck table and the cutting means. Means, and index feed means for relatively indexing and feeding the chuck table and the cutting means, so that the wafer can be divided into individual devices with high accuracy.

切削装置の切削ブレードで半導体ウエーハ等の被加工物を切削すると、切削屑が発生する。切削屑が被加工物に付着するのを防止するために、切削装置では加工中に切削水を被加工物へ供給しつつ切削を遂行している。   When a workpiece such as a semiconductor wafer is cut with a cutting blade of a cutting device, cutting waste is generated. In order to prevent cutting scraps from adhering to the workpiece, the cutting apparatus performs cutting while supplying cutting water to the workpiece during machining.

切削屑が被加工物の表面に付着した状態で乾燥すると、切削屑は被加工物に固着してしまい、後で洗浄しても固着した切削屑を被加工物上から除去することは非常に困難である。特に、切削溝間に入り込んだ切削屑がチップ側面に付着すると、除去が非常に困難である。   If the cutting waste dries while attached to the surface of the workpiece, the cutting waste adheres to the workpiece, and it is very difficult to remove the fixed cutting waste from the workpiece even after cleaning. Have difficulty. In particular, if the cutting waste that has entered between the cutting grooves adheres to the side surface of the chip, it is very difficult to remove.

本出願人は、洗浄水とエアとを混合した混合流体を加工中の被加工物に噴射するノズルを備えることで、切削屑の除去効果を高めた切削装置を特開2003−234308号公報で提案している。   Japanese Patent Laid-Open No. 2003-234308 discloses a cutting device that improves the effect of removing cutting waste by providing a nozzle that injects a fluid mixture obtained by mixing cleaning water and air onto a workpiece being processed. is suggesting.

特開2003−234308号公報JP 2003-234308 A

ところが、特許文献1に開示された切削装置をもっても被加工物に切削屑が付着することを完全に防止することは困難である。   However, even with the cutting device disclosed in Patent Document 1, it is difficult to completely prevent the chips from adhering to the workpiece.

本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、切削屑が被加工物に付着する恐れを低減可能な切削装置を提供することである。   This invention is made | formed in view of such a point, The place made into the objective is providing the cutting device which can reduce a fear that cutting waste adheres to a workpiece.

本発明によると、被加工物を保持する保持面を有するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を切削する切削ブレードと該切削ブレードが装着されるスピンドルとを有する切削手段と、該チャックテーブルと該切削手段とを該保持面に平行な加工送り方向へ相対移動させる加工送り手段と、該チャックテーブルと該切削手段と該加工送り方向に直交する割り出し送り方向に相対移動させる割り出し送り手段と、を備えた切削装置であって、該切削手段は、該スピンドルの軸心が鉛直方向となるように配設され、該チャックテーブルは、該保持面が該スピンドルの軸心と平行になるように配設され、加工中の該チャックテーブルと該切削ブレードを収容する収容室と、該収容室に液体を供給して該チャックテーブルと該切削ブレードとを液体中に浸漬させる液体供給手段と、を具備したことを特徴とする切削装置が提供される。   According to the present invention, a chuck table having a holding surface for holding a workpiece, a cutting blade having a cutting blade for cutting the workpiece held on the chuck table, and a spindle to which the cutting blade is mounted; A machining feed means for moving the chuck table and the cutting means relative to each other in a machining feed direction parallel to the holding surface, and an index for moving the chuck table, the cutting means and the cutting means relative to an index feed direction orthogonal to the machining feed direction. A cutting device including a feeding means, wherein the cutting means is disposed such that an axis of the spindle is in a vertical direction, and the holding surface of the chuck table is parallel to the axis of the spindle. The chuck table being processed and a storage chamber for storing the cutting blade, and supplying the liquid to the storage chamber to supply the chuck table and the chuck table Cutting device for the cutting blade, characterized by comprising a liquid supply means dipping into the liquid, it is provided.

本発明の切削装置によると、切削で発生した切削屑は自重で収容室下端へと集まり、被加工物に付着する恐れが低減できるとともに、被加工物は液体中に浸漬されているため、加工中に乾燥することがなく、切削屑が被加工物に固着する恐れを低減できる。   According to the cutting device of the present invention, the cutting waste generated by cutting gathers to the lower end of the storage chamber under its own weight, and the risk of adhering to the workpiece can be reduced, and the workpiece is immersed in the liquid. There is no drying inside, and the risk of cutting chips sticking to the workpiece can be reduced.

また、切削ブレードによる加工点も液体中に浸漬されているため、加工点の冷却効果が向上し、加工品質を向上することができる。更に、加工点周囲に配設されたブレード破損検出器や非接触セットアップセンサー等の光センサーに汚れが固着する恐れが低減され、清掃頻度を低減できる。   In addition, since the processing point by the cutting blade is also immersed in the liquid, the cooling effect of the processing point is improved and the processing quality can be improved. Furthermore, the risk of dirt sticking to a light sensor such as a blade breakage detector or a non-contact setup sensor disposed around the processing point is reduced, and the frequency of cleaning can be reduced.

本発明第1実施形態の切削装置の斜視図である。It is a perspective view of the cutting device of a 1st embodiment of the present invention. 図1に示した切削装置の一部断面側面図である。It is a partial cross section side view of the cutting device shown in FIG. ダイシングテープを介して環状フレームに支持された半導体ウエーハの斜視図である。It is a perspective view of the semiconductor wafer supported by the annular frame via the dicing tape. 本発明第2実施形態の切削装置の一部断面側面図である。It is a partial cross section side view of the cutting device of 2nd Embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、本発明第1実施形態の切削装置2の斜視図が示されている。図2は図1に示した切削装置2の一部断面側面図である。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Referring to FIG. 1, a perspective view of a cutting device 2 according to a first embodiment of the present invention is shown. FIG. 2 is a partial cross-sectional side view of the cutting apparatus 2 shown in FIG.

切削装置2の第1ベース4には互いに平行な一対のガイドレール6がX軸方向に伸長して固定されている。12はボールねじ8とパルスモータ10とから構成される加工送り手段であり、ボールねじ8がX軸移動ブロック14に固定された図示しないナットに螺合している。   A pair of guide rails 6 parallel to each other are fixed to the first base 4 of the cutting device 2 so as to extend in the X-axis direction. Reference numeral 12 denotes a machining feed means composed of a ball screw 8 and a pulse motor 10, and the ball screw 8 is screwed into a nut (not shown) fixed to the X-axis moving block 14.

加工送り手段12のパルスモータ10を駆動すると、ボールねじ8が回転されてガイドレール6に案内されてX軸移動ブロック14がX軸方向に移動される。X軸移動ブロック14は鉛直方向に伸長している。   When the pulse motor 10 of the processing feed means 12 is driven, the ball screw 8 is rotated and guided by the guide rail 6, and the X-axis moving block 14 is moved in the X-axis direction. The X-axis moving block 14 extends in the vertical direction.

X軸移動ブロック14には円筒状支持基台16を介してチャックテーブル18が回転可能に支持されている。チャックテーブル18の保持面18aは鉛直方向に伸長している。チャックテーブル18周りには4個のクランプ20が配設されている。   A chuck table 18 is rotatably supported on the X-axis moving block 14 via a cylindrical support base 16. The holding surface 18a of the chuck table 18 extends in the vertical direction. Four clamps 20 are disposed around the chuck table 18.

図3に示すように、被加工物の一種である半導体ウエーハWの表面においては、第1のストリートS1と第2のストリートS2とが直交して形成されており、第1のストリートS1と第2のストリートS2とによって区画された各領域にデバイスDが形成されている。   As shown in FIG. 3, the first street S1 and the second street S2 are formed orthogonally on the surface of the semiconductor wafer W which is a kind of workpiece, and the first street S1 and the first street S1 A device D is formed in each region partitioned by two streets S2.

ウエーハWの裏面は粘着テープであるダイシングテープTに貼着され、ダイシングテープTの外周部は環状フレームFに貼着されている。これにより、ウエーハWはダイシングテープTを介して環状フレームFに支持された形態となり、この形態でウエーハWはダイシングテープTを介してチャックテーブル18で吸引保持され、環状フレームFはクランプ20でクランプされて固定される。   The back surface of the wafer W is attached to a dicing tape T that is an adhesive tape, and the outer peripheral portion of the dicing tape T is attached to an annular frame F. As a result, the wafer W is supported by the annular frame F via the dicing tape T. In this configuration, the wafer W is sucked and held by the chuck table 18 via the dicing tape T, and the annular frame F is clamped by the clamp 20. To be fixed.

図1を再び参照すると、24は第2ベースであり、互いに平行な一対のガイドレール26がY軸方向(鉛直方向)に伸長するように第2ベース24に固定されている。32はボールねじ28とパルスモータ30とから構成される割り出し送り手段であり、ボールねじ28がY軸移動ブロック34に固定された図示しないナットに螺合している。   Referring again to FIG. 1, reference numeral 24 denotes a second base, and a pair of guide rails 26 parallel to each other are fixed to the second base 24 so as to extend in the Y-axis direction (vertical direction). Reference numeral 32 denotes an index feeding means composed of a ball screw 28 and a pulse motor 30, and the ball screw 28 is screwed to a nut (not shown) fixed to the Y-axis moving block 34.

割り出し送り手段32のパルスモータ30を駆動すると、ボールねじ28が回転されてY軸移動ブロック34が一対のガイドレール26に案内されて加工送り方向(X軸方向)と直交する割り出し送り方向(Y軸方向)に移動される。   When the pulse motor 30 of the index feed means 32 is driven, the ball screw 28 is rotated and the Y-axis moving block 34 is guided by the pair of guide rails 26, and the index feed direction (Y) perpendicular to the machining feed direction (X-axis direction). Moved in the axial direction).

Y軸移動ブロック34には互いに平行な一対のガイドレール36がZ軸方向に伸長して固定されている。42はボールねじ38とパルスモータ40とから構成される切り込み送り手段であり、ボールねじ38がZ軸移動ブロック44に固定された図示しないナットに螺合している。   A pair of guide rails 36 parallel to each other are fixed to the Y-axis moving block 34 by extending in the Z-axis direction. Reference numeral 42 denotes a cutting and feeding means composed of a ball screw 38 and a pulse motor 40, and the ball screw 38 is screwed into a nut (not shown) fixed to the Z-axis moving block 44.

切り込み送り手段42のパルスモータ40を駆動すると、ボールねじ38が回転されてZ軸移動ブロック44が切り込み送り方向(Z軸方向)に移動される。Z軸移動ブロック44にはスピンドルハウジング46が鉛直方向に伸長するように固定されており、スピンドルハウジング46の先端(下端)には切削手段48が配設されている。   When the pulse motor 40 of the cutting feed means 42 is driven, the ball screw 38 is rotated and the Z-axis moving block 44 is moved in the cutting feed direction (Z-axis direction). A spindle housing 46 is fixed to the Z-axis moving block 44 so as to extend in the vertical direction, and a cutting means 48 is disposed at the tip (lower end) of the spindle housing 46.

図2に示されるように、切削手段48はスピンドルハウジング46中に回転可能に収容されたスピンドル50と、スピンドル50の先端に装着された切削ブレード52とから構成される。スピンドル50の軸心50aは鉛直方向に伸長している。   As shown in FIG. 2, the cutting means 48 includes a spindle 50 that is rotatably accommodated in a spindle housing 46, and a cutting blade 52 that is attached to the tip of the spindle 50. An axis 50a of the spindle 50 extends in the vertical direction.

切削加工中にはスピンドル50はスピンドルハウジング46内に収容された図示しないモータにより高速で回転駆動される。チャックテーブル18は保持面18aがスピンドル50の軸心50aと平行となる様に配設されている。   During the cutting process, the spindle 50 is rotationally driven at a high speed by a motor (not shown) accommodated in the spindle housing 46. The chuck table 18 is disposed such that the holding surface 18 a is parallel to the axis 50 a of the spindle 50.

54は収容室であり、収容室54内には液体供給手段58から供給口56を介して純水等の液体が供給され、収容室54内は純水60で満たされる。図2に示されるように、チャックテーブル18及び切削手段48は純水60中に浸積している。収容室54内の純水は排水口62を介して排水される。   Reference numeral 54 denotes a storage chamber. A liquid such as pure water is supplied from the liquid supply means 58 through the supply port 56 into the storage chamber 54, and the storage chamber 54 is filled with pure water 60. As shown in FIG. 2, the chuck table 18 and the cutting means 48 are immersed in pure water 60. Pure water in the storage chamber 54 is drained through the drain port 62.

本実施形態の液体供給手段58は、図2に示すように、純水を供給する液体供給源64と、貯水タンク66と、送水ポンプ68とから構成される。貯水タンク66に液面センサーを設けて、液体供給源64から供給される入水を管理するようにするのが好ましい。排水口62に隣接して排水用バルブ63が配設されている。   As shown in FIG. 2, the liquid supply means 58 of this embodiment includes a liquid supply source 64 that supplies pure water, a water storage tank 66, and a water supply pump 68. It is preferable to provide a liquid level sensor in the water storage tank 66 so as to manage the incoming water supplied from the liquid supply source 64. A drainage valve 63 is disposed adjacent to the drainage port 62.

本実施形態の切削装置2では、被加工物を保持するチャックテーブル18及び切削ブレード52が純水60中に水没し、更に被加工物をチャックテーブル18で鉛直方向に保持した状態で切削加工を行うため、切削で発生した切削屑は自重で収容室54の下端へと集まり、被加工物に付着する恐れを低減できるとともに、加工中に乾燥することがなく、切削屑が被加工物に固着する恐れを低減できる。   In the cutting apparatus 2 of this embodiment, the chuck table 18 and the cutting blade 52 that hold the workpiece are submerged in the pure water 60, and further, the cutting is performed with the workpiece held in the vertical direction by the chuck table 18. Therefore, cutting waste generated by cutting gathers to the lower end of the storage chamber 54 due to its own weight, and can reduce the risk of adhering to the work piece, and does not dry during processing, and the cutting waste adheres to the work piece. The risk of doing so can be reduced.

また、加工点が水没した状態で切削加工が遂行されるため、加工点の冷却効果が向上し、加工品質を向上することができる。特に図示しないが、加工点周囲にはブレード破損検出機や非接触セットアップセンサー等の光センサーが配設されているが、これらの光センサーに汚れが固着する恐れが低減され、清掃頻度が低減できる。   Further, since the cutting process is performed in a state where the processing point is submerged, the cooling effect of the processing point is improved and the processing quality can be improved. Although not shown in the drawing, optical sensors such as a blade breakage detector and a non-contact set-up sensor are arranged around the processing point, but the risk of dirt sticking to these optical sensors is reduced, and the cleaning frequency can be reduced. .

図4を参照すると、本発明第2実施形態の切削装置2Aの一部断面側面図が示されている。本実施形態は、収容室54内の純水60を循環経路72に配設された送水ポンプ74により循環させている点が図1及び図2に示した第1実施形態と相違する。   Referring to FIG. 4, a partial cross-sectional side view of a cutting device 2A according to a second embodiment of the present invention is shown. This embodiment is different from the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2 in that the pure water 60 in the storage chamber 54 is circulated by a water pump 74 disposed in the circulation path 72.

収容室54の排出口62には濾過装置70が配設されている。収容室54内の純水60を循環させることで収容室54内に流れが形成され、切削屑を排水口62付近に集め濾過装置70で切削屑を捕獲して純水を濾過することができる。   A filtration device 70 is disposed at the discharge port 62 of the storage chamber 54. By circulating the pure water 60 in the storage chamber 54, a flow is formed in the storage chamber 54. The cutting waste is collected in the vicinity of the drain port 62, and the cutting waste can be captured by the filtering device 70 to filter the pure water. .

本発明の切削装置を適用するのに適した被加工物としては、切削屑の付着を嫌う光学素子ウエーハ又は切削で端材が生じるCSP基板等が挙げられる。   Examples of the workpiece suitable for applying the cutting apparatus of the present invention include an optical element wafer that does not like the attachment of cutting waste, or a CSP substrate on which cutting material is generated by cutting.

上述した実施形態では、チャックテーブル18が加工送り方向に移動される構成であるが、チャックテーブル18は固定で切削手段48を加工送り方向にも移動可能に構成してもよい。   In the embodiment described above, the chuck table 18 is moved in the machining feed direction. However, the chuck table 18 may be fixed and the cutting means 48 may be movable in the machining feed direction.

2,2A 切削装置
12 加工送り手段
18 チャックテーブル
32 割り出し送り手段
42 切り込み送り手段
48 切削手段
50 スピンドル
52 切削ブレード
54 収容室
60 純水
62 排出口
64 液体供給源
66 貯水タンク
68 送水ポンプ
70 濾過装置
72 循環経路
74 送水ポンプ
2,2A Cutting device 12 Processing feed means 18 Chuck table 32 Index feed means 42 Cutting feed means 48 Cutting means 50 Spindle 52 Cutting blade 54 Storage chamber 60 Pure water 62 Discharge port 64 Liquid supply source 66 Water storage tank 68 Water feed pump 70 Filtration device 72 Circulation path 74 Water supply pump

Claims (1)

被加工物を保持する保持面を有するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を切削する切削ブレードと該切削ブレードが装着されるスピンドルとを有する切削手段と、該チャックテーブルと該切削手段とを該保持面に平行な加工送り方向へ相対移動させる加工送り手段と、該チャックテーブルと該切削手段と該加工送り方向に直交する割り出し送り方向に相対移動させる割り出し送り手段と、を備えた切削装置であって、
該切削手段は、該スピンドルの軸心が鉛直方向となるように配設され、
該チャックテーブルは、該保持面が該スピンドルの軸心と平行になるように配設され、
加工中の該チャックテーブルと該切削ブレードを収容する収容室と、
該収容室に液体を供給して該チャックテーブルと該切削ブレードとを液体中に浸漬させる液体供給手段と、
を具備したことを特徴とする切削装置。
A chuck table having a holding surface for holding the workpiece; a cutting means for cutting the workpiece held on the chuck table; and a spindle on which the cutting blade is mounted; a chuck table; A machining feed means for relatively moving the cutting means in a machining feed direction parallel to the holding surface; and an index feed means for relatively moving the chuck table and the cutting means in an index feed direction perpendicular to the machining feed direction. A cutting device provided,
The cutting means is arranged so that the axis of the spindle is in a vertical direction,
The chuck table is disposed so that the holding surface is parallel to the axis of the spindle,
A storage chamber for storing the chuck table being processed and the cutting blade;
Liquid supply means for supplying liquid to the storage chamber and immersing the chuck table and the cutting blade in the liquid;
A cutting apparatus comprising:
JP2010261103A 2010-11-24 2010-11-24 Cutting apparatus Pending JP2012114196A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010261103A JP2012114196A (en) 2010-11-24 2010-11-24 Cutting apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010261103A JP2012114196A (en) 2010-11-24 2010-11-24 Cutting apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012114196A true JP2012114196A (en) 2012-06-14

Family

ID=46498097

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010261103A Pending JP2012114196A (en) 2010-11-24 2010-11-24 Cutting apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012114196A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018117091A (en) * 2017-01-20 2018-07-26 株式会社ディスコ Cutting apparatus
CN108962739A (en) * 2018-08-23 2018-12-07 重庆市嘉凌新科技有限公司 Chip cutting feed device

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59156753U (en) * 1983-04-02 1984-10-20 株式会社村田製作所 dicing saw
JPH01278310A (en) * 1988-04-28 1989-11-08 Nec Corp Dicing of semiconductor wafer
JPH0745562A (en) * 1993-07-30 1995-02-14 Sony Corp Dicing method and device of semiconductor wafer
JP2004273634A (en) * 2003-03-06 2004-09-30 Seiko Epson Corp IC wafer cutting apparatus and IC wafer cutting method
JP2007201180A (en) * 2006-01-26 2007-08-09 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing method
JP2007207865A (en) * 2006-01-31 2007-08-16 Seiko Instruments Inc Dicing method and equipment
JP2008053439A (en) * 2006-08-24 2008-03-06 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing apparatus and dicing method
JP2008084887A (en) * 2006-09-25 2008-04-10 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing apparatus and method

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59156753U (en) * 1983-04-02 1984-10-20 株式会社村田製作所 dicing saw
JPH01278310A (en) * 1988-04-28 1989-11-08 Nec Corp Dicing of semiconductor wafer
JPH0745562A (en) * 1993-07-30 1995-02-14 Sony Corp Dicing method and device of semiconductor wafer
JP2004273634A (en) * 2003-03-06 2004-09-30 Seiko Epson Corp IC wafer cutting apparatus and IC wafer cutting method
JP2007201180A (en) * 2006-01-26 2007-08-09 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing method
JP2007207865A (en) * 2006-01-31 2007-08-16 Seiko Instruments Inc Dicing method and equipment
JP2008053439A (en) * 2006-08-24 2008-03-06 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing apparatus and dicing method
JP2008084887A (en) * 2006-09-25 2008-04-10 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing apparatus and method

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018117091A (en) * 2017-01-20 2018-07-26 株式会社ディスコ Cutting apparatus
CN108962739A (en) * 2018-08-23 2018-12-07 重庆市嘉凌新科技有限公司 Chip cutting feed device
CN108962739B (en) * 2018-08-23 2021-08-27 重庆市嘉凌新科技有限公司 Chip cutting and feeding device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6976745B2 (en) Wafer generator
KR20180020888A (en) Polishing device
KR102084269B1 (en) Laser machining apparatus and method for coating protection film
CN110576522B (en) Cutting device
JP2014143322A (en) Cleaning device and cleaning method
JP2021115681A (en) Cutting equipment and cutting method
CN109427574B (en) Processing method
TWI669201B (en) Cutting device
JP2016198874A (en) Cleaning method of chuck table
JP2019181584A (en) Processing device
JP2012114196A (en) Cutting apparatus
TW202305923A (en) Processing apparatus
JP2021074825A (en) Holding surface cleaning device
JP2019118982A (en) Work-piece cutting method and chuck table of cutting device
KR20190091196A (en) Setup method of cutting apparatus
JP6774263B2 (en) Cutting equipment
JP2009027030A (en) Wafer cutting method
JP2008147344A (en) Processing equipment
JP2019186292A (en) Processing device and using method thereof
JP6029312B2 (en) Processing method of plate
JP2008053439A (en) Dicing apparatus and dicing method
JP2022092275A (en) Processing equipment
TWI730169B (en) Wafer processing method and cutting device
JP2020183017A (en) Spindle unit
JP6067404B2 (en) Method and apparatus for coating protective film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20131011

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140924

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140924

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20150210