JP2011249493A - 半導体記憶装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ヒューズ素子の実装密度を向上させる。
【解決手段】半導体記憶装置の救済アドレス制御部116は、ヒューズ格納部118と救済回路120を含む。ヒューズ格納部118は、レーザービームの照射により切断可能な複数のヒューズ素子122と、複数のヒューズ素子122の直上にレーザービームを通過させるための開口部130が設けられた保護膜とを含む。救済回路120は、ヒューズ素子122の切断状態から、救済アドレスを特定する。開口部130は、ヒューズ格納部118の長辺方向においては一体形状を有する。また、救済回路120は、ヒューズ格納部118の短辺側の端部に隣接配置される。
【選択図】図2
【解決手段】半導体記憶装置の救済アドレス制御部116は、ヒューズ格納部118と救済回路120を含む。ヒューズ格納部118は、レーザービームの照射により切断可能な複数のヒューズ素子122と、複数のヒューズ素子122の直上にレーザービームを通過させるための開口部130が設けられた保護膜とを含む。救済回路120は、ヒューズ素子122の切断状態から、救済アドレスを特定する。開口部130は、ヒューズ格納部118の長辺方向においては一体形状を有する。また、救済回路120は、ヒューズ格納部118の短辺側の端部に隣接配置される。
【選択図】図2
Description
本発明は半導体記憶装置に関し、特に、救済アドレスへのアクセス制御機能を備える半導体記憶装置に関する。
DRAM(Dynamic Random Access Memory)などの半導体記憶装置においては、記憶容量の増加にともなって良好に動作しないメモリセル(以下、「不良セル」とよぶ)の数も増大している。そこで、半導体記憶装置には、「冗長セル」とよばれる予備のメモリセルがあらかじめ用意される。不良セルへのアクセスを冗長セルへのアクセスに置換することにより、不良セルのメモリアドレスが救済される。以下、救済されるべき不良セルのアドレスのことを「救済アドレス」とよぶ。不良セルの検出および冗長セルへの置換は、半導体記憶装置の製造時においてウェハ状態で行われる。具体的には、ウェハ状態で行われる動作テストによって不良セルを検出し、その救済アドレスを半導体記憶装置に設けられる救済アドレス記憶領域に記録する。アクセス先が救済アドレスであるときには、その救済アドレスに対応づけられた冗長セルが実際のアクセス先となる。
救済アドレスを記憶する素子として不揮発性記憶素子であるヒューズ素子を用いることが多い。ヒューズ素子は、初期状態では電気的に導通状態であり、レーザービームの照射による経路遮断により非導通状態(絶縁状態)に変化する。ヒューズ素子の導通・非導通により1ビット分の情報を表現できる。したがって、複数のヒューズ素子に選択的にレーザービームを照射すれば、所望の救済アドレスを不揮発的に記録できる。救済アドレスの記録処理は、通常「トリミング」または「プログラミング」とよばれる。
半導体チップの主面は、配線工程完了後、パッシベーション膜とよばれる保護膜により被膜される。被膜後、動作テストによって不良セルが検出され、トリミングが実行される。トリミングを容易にするため、ヒューズ素子の直上に位置するパッシベーション膜には、あらかじめ開口部が設けられる。レーザービームは、この開口部からヒューズ素子に照射される。ヒューズ素子群に隣接配置される救済回路は、ヒューズ素子の状態(ビット)を読み出すことにより救済アドレスを特定する。
複数の開口部を設ける場合、開口と開口の間にある程度のマージンを確保しなければならない。このマージン部分が大きくなると、単位面積あたりに搭載できるヒューズ素子の数(以下、「実装密度」とよぶ)が小さくなってしまう。したがって、小さな開口を多数個設けるよりも、大きな開口を少数個だけ設ける方が、実装効率が高くなるため望ましい。
また、救済アドレスは、救済回路によってヒューズ素子から読み出され、救済アドレス信号としてメモリバンクに供給される。救済アドレス信号の伝達速度を高速にするためには、救済アドレス信号の信号経路をシンプルに保つことも同様に重要である。
本発明に係る半導体記憶装置は、ヒューズ格納部と救済回路を含む。ヒューズ格納部は、レーザービームの照射により切断可能な複数のヒューズ素子と、複数のヒューズ素子の直上にレーザービームを通過させるための開口部が設けられた保護膜とを含む。救済回路は、ヒューズ素子に保持された救済アドレスへのアクセスが要求された場合に活性化するヒット信号を処理する。救済回路は、ヒューズ格納部の短辺側の端部に隣接配置され、救済回路から見てヒューズ格納部の反対側には、救済回路に対応するヒューズ格納部が配置されていない。
また、本発明の他の側面による半導体記憶装置は、それぞれの長辺が互いに隣接するよう並べて配置された第1及び第2のヒューズ格納部と、前記第1及び第2のヒューズ格納部の長辺方向における一方の端部に配置された第1の救済回路と、前記第1及び第2のヒューズ格納部の長辺方向における他方の端部に配置された第2の救済回路と、を備え、前記第1及び第2のヒューズ格納部のそれぞれは、レーザービームの照射により切断可能な複数のヒューズ素子と、前記複数のヒューズ素子の直上に前記レーザービームを通過させるための単一の開口部が設けられた保護膜とを含み、前記第1及び第2の救済回路のそれぞれは、前記ヒューズ素子に保持された救済アドレスへのアクセスが要求された場合に活性化するヒット信号を処理することを特徴とする。
本発明によれば、ヒューズ素子の実装密度を向上させ、かつ、救済アドレス信号の伝送速度を高めやすくなる。
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明する。
図1は、半導体記憶装置100の平面レイアウト図である。本実施形態における半導体記憶装置100はDDR(Double-Data-Rate)型のSDRAM(Synchronous Dynamic Random Access Memory)である。紙面右方向にx軸、紙面上方向にy軸、紙面から手前に向かう方向にz軸を設定する。
図1では、メモリバンク102a〜102dの4つのメモリバンクを図示している。各メモリバンク102内においては、複数のワード線WL(y方向)と複数のビット線BL(x方向)が交差しており、その交点にはメモリセルMCが配置されている。メモリバンク102aのx辺側にはロウデコーダ104aが配置される。メモリバンク102b、102c、102dのx辺側にもそれぞれロウデコーダ104b、104c、104dが配置される。メモリバンク102のy辺側にはカラムデコーダ106aが配置される。メモリバンク102b、102c、102dのy辺側にもそれぞれカラムデコーダ106b、106c、106dが配置される。
ロウデコーダ104a、104bの間には、x方向にカラム制御回路110aとロウ制御回路108aが並置される。カラム制御回路110aとロウ制御回路108aは、メモリバンク102a、102bの両方に対応する。同様に、ロウデコーダ104cとロウデコーダ104dの間には、x方向にカラム制御回路110bとロウ制御回路108bが並置される。カラム制御回路110bとロウ制御回路108bは、メモリバンク102c、102dの両方に対応する。
メモリバンク102a、102bのy辺側には信号端子エリア112、メモリバンク102c、102dのy辺側にはデータ端子エリア113がそれぞれ配置される。信号端子エリア112には、アドレス端子やコマンド端子等が配置される。データ端子エリア113には、データ入出力端子等が配置される。
更に、カラムデコーダ106a、106cの間にはリードライトバッファ114a、カラムデコーダ106b、106dの間にはリードライトバッファ114bが配置される。リードライトバッファ114aは、メモリバンク102a、102cに割り当てられる。リードライトバッファ114bは、メモリバンク102b、102dに割り当てられる。
以下、メモリバンク102a、102bの制御を中心として説明するが、メモリバンク102c、102dの制御についても基本的に同様である。
信号端子エリア112には、アドレスやコマンド等の各種信号が入力される。これらの信号は、信号端子エリア112の近傍に設けられたメインコントローラ(図示せず)で処理された後、ロウ制御回路108aやカラム制御回路110aに転送される。アドレス信号のうち、ロウアドレスはロウ制御回路108a、108bおよびロウデコーダ104a、〜104dに供給され、カラムアドレスはカラム制御回路110a、110bおよびカラムデコーダ106a〜106dに供給される。また、アドレス信号には、メモリバンク102a〜102dのいずれをアクセス対象とするかを指定する情報も含まれる。
ロウデコーダ104aは、ロウ制御回路108aにより制御され、メモリバンク102aに含まれるいずれかのワード線をロウアドレスにしたがって選択する。ロウデコーダ104bは、ロウ制御回路108aにより制御され、メモリバンク102bに含まれるいずれかのワード線をロウアドレスにしたがって選択する。
カラムデコーダ106aは、カラム制御回路110aにより制御され、メモリバンク102aに含まれるいずれかのビット線BLをカラムアドレスにしたがって選択する。選択されたビット線BLはセンスアンプSAを介してリードライトバッファ114aと接続される。これにより、アクセス対象となるメモリセルMCのデータはデータ端子エリア113内のデータ入出力端子を介してアクセス可能となる。同様に、カラムデコーダ106bは、カラム制御回路110aにより制御され、メモリバンク102bに含まれるいずれかのビット線BLをカラムアドレスにしたがって選択する。選択されたビット線BLはセンスアンプSAを介してリードライトバッファ114bと接続される。リードライトバッファ114bにより増幅されたデータ信号は、データ端子エリア113からアクセス可能となる。
詳細は後述するが、ロウ制御回路108a、108b、カラム制御回路110a、110bには、救済アドレスが記録されている。たとえば、ロウ制御回路108aは、入力されたロウアドレスが救済アドレス(不良セルのアドレス)に一致するときには、救済アドレス信号をロウデコーダ104aやロウデコーダ104bに送信する。ロウデコーダ104a、104bは、救済アドレス信号を受信したときには、不良セルへのアクセスを冗長セルへのアクセスに変更する。ロウ制御回路108b、カラム制御回路110a、110bについても同様であるため、以下においては、ロウ制御回路108aの制御を中心として説明する。
図2は、本実施形態における救済アドレス制御部116の平面レイアウト図である。図2に示す救済アドレス制御部116は、ロウ制御回路108aに含まれる回路である。救済アドレス制御部116には、x方向に延伸するヒューズ格納部118a、118bが含まれる。ヒューズ格納部118a、118bは、レーザービームの照射により切断可能な複数のヒューズ素子122を含む。より具体的には、第1ヒューズ列124に属する複数のヒューズ素子122と第2ヒューズ列126に属する複数のヒューズ素子122がグランド線128に接続される形で格納されている。ヒューズ格納部118a、118bの長辺側には内部回路121が配置される。各ヒューズ素子122の一端は、グランド線128に接続され、他端は内部回路121に含まれるラッチ回路138(後述)に接続される。ヒューズ素子122とヒューズ素子122の間隔は、レーザービームの精度に依存する。
z軸負方向にレーザービームを照射することにより、所望のヒューズ素子122を切断する。ヒューズ素子122は、1個あたり1ビットに対応する。図2の場合、ヒューズ格納部118aは第1ヒューズ列124、第2ヒューズ列126がそれぞれ12個のヒューズ素子122を含んでいる。したがって、ヒューズ格納部118aに属するヒューズ素子122により24ビットの情報を記憶可能である。ヒューズ格納部118a、118bをあわせれば、合計48ビットである。
ヒューズ格納部118aの上部はパッシベーション膜(後述)で被膜されるが、ヒューズ素子122の直上部分にはレーザービームを通過させるために開口部130が設けられる。また、ヒューズ素子122はガードリング132によって囲まれる。ヒューズ格納部118の短辺(y辺)側の端部には、救済回路120a、120bが隣接配置される。ヒューズ格納部118a、118bの面積は、救済回路120a、120bの面積に比べると格段に大きいが、図2ではわかりやすさのため、救済回路120a、120bを比較的大きく描いている。
ヒューズ格納部118の長辺方向(x方向)、すなわち、紙面横向きには、1つのヒューズ格納部118のみが存在する。このため、紙面横向きには、1つの開口部130しか存在しない。ヒューズ格納部118の短辺方向(y方向)、すなわち、紙面縦向きには、2つのヒューズ格納部118が存在する。このため、紙面縦向きには、2つの開口部130が存在する。すなわち、ヒューズ格納部118の個数は、(x,y)=(1個,2個)となっている。
内部回路121は、各ヒューズ素子122の切断状態を検出する。救済回路120a、120bは、救済アドレスが入力されたロウアドレスと一致するとき、救済アドレス信号をロウデコーダ104a、104bに送信する。救済回路120aはロウデコーダ104aとメモリバンク102aに対応し、救済回路120bはロウデコーダ104bとメモリバンク102bに対応する。
救済回路120a、120bそれぞれへのヒューズ素子122の担当割り当ては任意である。たとえば、救済回路120aはヒューズ格納部118aに属するヒューズ素子122を担当し、救済回路120bはヒューズ格納部118bに属するヒューズ素子122を担当するとしてもよい。あるいは、ヒューズ格納部118a、118bに属する合計48個のヒューズ素子122のうち、救済回路120aは同図右側の24個のヒューズ素子122を担当し、救済回路120bは同図左側の24個のヒューズ素子を担当するとしてもよい。また、救済回路120aが担当するヒューズ素子122の数と、救済回路120bが担当するヒューズ素子122の数は同数である必要はない。
図3は、ヒューズ格納部118aの側断面図である。ヒューズ格納部118aの内部には、上述のように複数のヒューズ素子122が格納される。外部のラッチ回路138aはヒューズ素子122aを介してグランド線128と接続される。同様に、ラッチ回路138bはヒューズ素子122bを介してグランド線128と接続される。ラッチ回路138a、138bは、ヒューズ素子122a、122bの導通・非導通を検出し、2値の電気信号を出力する。
ヒューズ素子122の上部はシリコン酸化膜134で被膜され、更に、その上部はパッシベーション膜136で被膜される。ただし、ヒューズ素子122の直上部のパッシベーション膜136には開口部130が設けられる。これは、レーザービームLBを照射するとき、レーザービームLBのエネルギーがパッシベーション膜によって減衰されないようにするためである。また、パッシベーション膜136の開口部130は、ガードリング132からある程度の距離を保つ必要がある。これは、パッシベーション膜136を形成した後、パッシベーション膜136が硬化収縮しても、パッシベーション膜136がガードリング132を確実にカバーするためである。
この開口部130からレーザービームLBをヒューズ素子122aに照射すると、レーザービームLBはシリコン酸化膜134を貫通し、ヒューズ素子122aを溶断する。ヒューズ格納部118aの側面をガードリング132により包囲することにより、ラッチ回路138等の隣接する回路がレーザービームLBによって破壊されるのを防止している。
図4は、救済アドレス1つ分の判定部分の回路図である。図2は、内部回路121に含まれるラッチ回路138とヒューズ格納部118に含まれるヒューズ素子122の関係を示す。内部回路121およびヒューズ格納部118は、より具体的には、複数のビット判定回路140と1つのイネーブル回路142を含む。ビット判定回路140は、ヒューズ素子122、ラッチ回路138およびXOR回路144を含む。ビット判定回路140は、ロウアドレス1ビット分に対応する。複数のビット判定回路140により、1個分の救済アドレスのロウアドレス部分(以下、「救済ロウアドレス」とよぶ)が記憶される。
ラッチ回路138は同期信号Sに同期して、ヒューズ素子122の状態を検出する。ヒューズ素子122が切断されているときにはラッチ回路138はHIGH(高電位)、切断されていないときにはLOW(グランド電位)を出力する。ラッチ回路138の出力はXOR回路144に入力される。XOR回路144には、nビットのロウアドレスXも供給される。XOR回路144は、ロウアドレスXの1ビット分の情報とヒューズ素子122の状態により示される1ビット分の情報の排他的論理和をAND回路146に出力する。ヒューズ素子122が切れていないとき(LOW)、XOR回路144はロウアドレスビット=1(HIGH)でHIGHを出力する。ヒューズ素子122が切れているときには(HIGH)、XOR回路144はロウアドレスビット=0(LOW)でHIGHを出力する。
イネーブル回路142に含まれるヒューズ素子122が切断されていなければ(LOW)、AND回路146はビット判定回路140の判定結果に関わらずLOWを出力する。すなわち、全ビット判定回路140に記録されている救済ロウアドレスと、供給されたロウアドレスが完全に一致し、かつ、イネーブル回路142のヒューズ素子122が切断されているとき、AND回路146はHIGHのHIT信号を出力する。このようにして、ロウ制御回路108aは、外部から供給されたロウアドレスが救済ロウアドレスに一致するか否かを判定する。内部回路121には、このような回路が複数アドレス分設けられている。
図5は、第1比較例における救済アドレス制御部148の平面レイアウト図である。第1比較例において、救済アドレス制御部148には、x方向に延伸するヒューズ格納部118a、118b、118c、118dが含まれる。なお、図5においては、ヒューズ格納部118と救済回路120の関係を明確にするため、内部回路121を描いていない。図6についても同様である。第1比較例の場合、ヒューズ格納部118aは第1ヒューズ列124、第2ヒューズ列126がそれぞれ6個のヒューズ素子122を含む。したがって、ヒューズ格納部118aに属するヒューズ素子122により12ビットの情報を記憶可能である。4つのヒューズ格納部118により合計48ビットの情報を記憶可能である。
ヒューズ格納部118aの上部はパッシベーション膜で被膜され、ヒューズ素子122の直上部にはレーザービームを通過させるために開口部130が設けられる。また、ヒューズ素子122はガードリング132によって包囲される。第1比較例の場合、x方向に並ぶヒューズ格納部118aとヒューズ格納部118bの間には救済回路120aが配置される。同様に、ヒューズ格納部118cとヒューズ格納部118dの間に救済回路120bが配置される。救済回路120aはヒューズ格納部118a、118bを担当し、救済回路120bはヒューズ格納部118c、118dを担当する。
第1比較例においては、x軸、すなわち、救済アドレス制御部148の長辺方向に2つのヒューズ格納部118a、118bが並ぶ点において本実施形態と相違する。いいかえれば、第1比較例においては、長辺方向にヒューズ格納部118aの開口部130とヒューズ格納部118bの開口部130が並んでいる。開口部130が救済回路120aの存在により2つに分断されているともいえる。これに対し、図2に示したように、本実施形態における救済アドレス制御部116では、長辺方向に見たときの開口部130は一体形状となっており分断されていない。
上述の通り、開口部130と開口部130の間には、ある程度のマージンを確保する必要がある。また、開口部130とガードリング132の間にもある程度のマージンが必要である。このため、第1比較例のレイアウトの場合、本実施形態に比べて長辺方向(x方向)の幅が長くなりやすい。第1比較例に比べると、本実施形態の方が同じ実装密度を高めやすいというメリットがある。
図6は、第2比較例における救済アドレス制御部150の平面レイアウト図である。第2比較例において、救済アドレス制御部150には、x方向に延伸するヒューズ格納部118a、118bが含まれる。第2比較例の場合、ヒューズ格納部118aは第1ヒューズ列124、第2ヒューズ列126がそれぞれ12個のヒューズ素子122を含む。したがって、ヒューズ格納部118aに属するヒューズ素子122により24ビットの情報を記憶可能である。ヒューズ格納部118a、118bにより合計48ビットの情報を記憶可能である。
第2比較例においては、x方向に並ぶヒューズ格納部118aとヒューズ格納部118bの長辺側端部それぞれに救済回路120a−1、120a−2、120b−1、120b−2が配置される。救済回路120a−1はヒューズ格納部118aのうち第1ヒューズ列124に属するヒューズ素子122を担当し、救済回路120a−2はヒューズ格納部118aのうち第2ヒューズ列126に属するヒューズ素子122を担当する。
第2比較例においては、x軸、すなわち、救済アドレス制御部150の長辺方向に1つのヒューズ格納部118aが設置される点において本実施形態のレイアウトと共通する。このため、長辺方向に見たときの開口部130は一体形状となっている。この結果、第2比較例においては、本実施形態と同程度の実装密度を実現できる。
しかし、1つのメモリバンク102aに対して2つの救済回路120a−1、120a−2が対応するレイアウトとなっているため、分離された救済回路120a−1と救済回路120a−2が互いに信号を授受するための経路が長くなる。この結果、信号配線が複雑化するだけでなく、救済アドレス信号の伝達速度も低下しやすくなる。これに対して、本実施形態のレイアウトの場合には、信号伝達経路がシンプルであり、救済アドレス信号の伝達速度を高速に保ちやすくなる。信号配線については次の図7に関連して詳述する。
図7は、ヒューズ格納部118と救済回路120の配線レイアウト図である。ヒューズ格納部118および内部回路121は、複数の救済アドレス判定部152を含む。救済アドレス判定部152は、図4に示したように1つの救済ロウアドレス部分とイネーブルビットを記録し、ロウアドレスが救済ロウアドレスと一致するか否かを判定する回路である。ヒューズ素子群154は、グランド線128、第1ヒューズ列124、第2ヒューズ列126に対応する。図7に示すヒューズ格納部118aは、上下8個ずつ、合計16個の救済アドレス判定部152を含んでいる。いいかえれば、16個の救済ロウアドレスを記憶する。
ヒューズ格納部118aの16個の救済アドレス判定部152のうち、右半分の8個(第1グループ)はメモリバンク102aに対応し、左半分の8個(第2グループ)はメモリバンク102bに対応する。ヒューズ格納部118bにおいても同様に第1グループと第2グループに分類される。このように、ヒューズ格納部118a、118bに含まれる合計32個の救済アドレス判定部152は、右半分の16個がメモリバンク102a、左半分の16個がメモリバンク102bに割り当てられている。メモリバンク102aを対象としたロウアドレスXAは右半分の16個の救済アドレス判定部152に供給され、メモリバンク102bを対象としたロウアドレスXBは左半分の16個の救済アドレス判定部152に供給される。
各救済アドレス判定部152は、自らが保持する救済ロウアドレスと信号端子エリア112aから供給されたロウアドレスが一致するとき、ハイレベルのHIT信号を発生させる。HIT信号群は、第1エンコーダ156、第2エンコーダ158に供給される。また、第1エンコーダ156に供給されたHIT信号群は第3エンコーダ160にて集約され、第2エンコーダ158に供給されたHIT信号群は第4エンコーダ162にて集約される。同図右側の第1エンコーダ156、第2エンコーダ158、第3エンコーダ160、第4エンコーダ162が、図2の救済回路120aに相当する。これらエンコーダは、図9に示すORゲート回路からなる。
第1エンコーダ156は、ロウアドレスの上位ビットが共通するHIT信号を集約する回路である。一例として、エンコーダ156a〜156dは、ロウアドレスの下位ビットにかかわらず、上位ビットが00,01,10,11である場合にそれぞれ出力を活性させる。これにより、ロウデコーダ104aのうちロウアドレスの上位ビットに基づいて動作する回路部分を制御することができる。
第2エンコーダ158は、ロウアドレスの下位ビットが共通するHIT信号を集約する回路である。一例として、エンコーダ158a〜158dは、ロウアドレスの上位ビットにかかわらず、下位ビットが00,01,10,11である場合にそれぞれ出力を活性させる。これにより、ロウデコーダ104aのうちロウアドレスの下位ビットに基づいて動作する回路部分を制御することができる。
また、ロウデコーダ104aのうち、いずれのアドレスであるにかかわらずヒットしたことを知る必要のある回路部分には、第3エンコーダ160の出力または第4エンコーダ162の出力が供給される。
このように、第3エンコーダ160に供給されるHIT信号群から該当救済ロウアドレスの上位ビット、第4エンコーダ162に供給されるHIT信号群から該当救済ロウアドレスの下位ビットが特定される。こうして、メモリバンク102aにおけるアクセス先が特定される。図7に示すように、救済回路120aにおいては、主にx方向(右方向)に進む信号を第1エンコーダ156及び第2エンコーダ158で処理し、これによって得られたエンコード信号を主にy方向(上方向)に進むようレイアウトされている。これに対し、救済回路120bにおいては、主にx方向(左方向)に進む信号を第1エンコーダ156及び第2エンコーダ158で処理し、これによって得られたエンコード信号を主にy方向(下方向)に進むようレイアウトされている。このように、信号の流れに無駄がなく、アクセスを高速化しやすい信号配線を実現できる。しかも、一方の救済回路120aを設計すれば、他方の救済回路120bを別途設計しなくても、救済回路120aの設計データを180度回転させれば済むことから、設計も容易となる。
図8は、本実施形態におけるメモリアクセスの経路を示す図である。救済回路120aが発生させる救済アドレス信号は、プリバッファ164aにてバッファリングされたあと、最終バッファ166aに供給され、第1送出位置P1からロウデコーダ104aに送出される。第1送出位置P1は、ヒューズ格納部118aの長辺中央部に設けられる。救済回路120b用にもプリバッファ164a、最終バッファ166bが設けられる。そして、最終バッファ166bに供給された救済アドレス信号は、第2送出位置P2からロウデコーダ104bに送出される。第2送出位置P2は、ヒューズ格納部118bの長辺中央部に設けられる。救済回路120a、120bから直接ロウデコーダ104a、104bに救済アドレス信号を供給するのではなく、第1送出位置P1、第2送出位置P2から救済アドレス信号を供給するように信号経路が変更されている。
ここで、メモリバンク102aにおいて救済回路120aからもっとも遠い位置にあるメモリセルM1をアクセスする場合について説明する。メモリバンク102bでいえばメモリセルM2が対応する。仮に、救済回路120aが第1送出位置P1を経由せずに救済アドレス信号を直接ロウデコーダ104aに送出するときの信号経路はアクセスルートR1aとなり、ロウデコーダ104a内の信号伝達経路は最長となる。つまり、ロウデコーダ104aの長辺方向におけるほぼ全幅にわたって設けられる配線の右側端部が入力端、左側端部が出力端となるため、信号の遅延量は最大となる。一方、救済回路120bが第2送出位置P2を経由せずに救済アドレス信号を送出するときの信号経路はアクセスルートR1bとなり、ロウデコーダ104b内における信号伝達経路はアクセスルートR1aに比べると短くなる。すなわち、メモリセルM1、M2は対称的な位置にありながら、メモリバンク102a、102bのいずれをアクセス対象とするかによってメモリアクセス時間が異なってしまう。
これに対し、救済回路120aが第1送出位置P1、救済回路120bが第2送出位置P2から救済アドレス信号を送出するときの信号経路であるアクセスルートR2a、R2bは、信号伝達経路の長さが同一となるため、メモリバンク102によって信号経路長がばらつくのを防ぐことができる。この場合、アクセスルートR1a、R1bを用いた場合と比べると、メモリバンク102aに対してはアクセスが高速化され、メモリバンク102bに対してはアクセスが低速化されることになるが、半導体記憶装置のスペックは最もアクセスの遅いケースによって定義されることから、ワーストケースの高速化によってスペックの向上を図ることが可能となる。
なお、第1送出位置P1、第2送出位置P2は、必ずしも、ヒューズ格納部118a、118bの長辺の中央にある必要はなく、ヒューズ格納部118a、118bの長辺方向(x方向)に対して対称となる位置に設定されればよい。
以上、実施形態に基づいて、半導体記憶装置100を説明した。本実施形態における半導体記憶装置100によれば、ヒューズ格納部118の長辺方向において開口部130を一体形成するレイアウトとなるため、ヒューズ素子122の実装密度を高めることができる。また、ヒューズ格納部118の短辺側端部に救済回路120を配置することにより、救済アドレス制御に関わる信号経路をシンプルにできるため、アクセスの高速性を維持しやすくなっている。更に、第1送出位置P1と第2送出位置P2がx軸に対して対称となるように設けられるため、メモリバンク102によってアクセス時間がばらつくのを防ぐことができる。
以上、本発明をいくつかの実施の形態をもとに説明した。これらの実施の形態は例示であり、いろいろな変形および変更が本発明の特許請求範囲内で可能なこと、またそうした変形例および変更も本発明の特許請求の範囲にあることは当業者に理解されるところである。従って、本明細書での記述および図面は限定的ではなく例証的に扱われるべきものである。
100 半導体記憶装置、102 メモリバンク、104 ロウデコーダ、106 カラムデコーダ、108 ロウ制御回路、110 カラム制御回路、112 信号端子エリア、113、データ端子エリア、114 アンプ群、116 救済アドレス制御部、118 ヒューズ格納部、120 救済回路、122 ヒューズ素子、124 第1ヒューズ列、126 第2ヒューズ列、128 グランド線、130 開口部、132 ガードリング、134 シリコン酸化膜、136 パッシベーション膜、138 ラッチ回路、140 ビット判定回路、142 イネーブル回路、144 XOR回路、146 AND回路、148 救済アドレス制御部、150 救済アドレス制御部、152 救済アドレス判定部、154 ヒューズ素子群、156 第1エンコーダ、158 第2エンコーダ、160 第3エンコーダ、162 第4エンコーダ、164 プリバッファ、166 最終バッファ、P1 第1送出位置、P2 第2送出位置、M1,M2 メモリセル、R1,R2 アクセスルート。
Claims (11)
- レーザービームの照射により切断可能な複数のヒューズ素子と、前記複数のヒューズ素子の直上に前記レーザービームを通過させるための開口部が設けられた保護膜とを含むヒューズ格納部と、
前記ヒューズ素子に保持された救済アドレスへのアクセスが要求された場合に活性化するヒット信号を処理する救済回路と、を備え、
前記救済回路は、前記ヒューズ格納部の短辺側の端部に隣接配置され、
前記救済回路から見て前記ヒューズ格納部の反対側には、前記救済回路に対応するヒューズ格納部が配置されていないことを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記ヒューズ格納部の短辺側の端部のうち、第1の短辺端部には第1の救済回路が隣接配置され、第2の短辺端部には第2の救済回路が隣接配置されることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
- 前記複数のヒューズ素子は前記第1の短辺端部に近い第1グループと、前記第2の短辺端部に近い第2グループに分類され、
前記第1の救済回路は前記第1グループに属するヒューズ素子に保持された救済アドレスへのアクセスが要求された場合に活性化するヒット信号を処理し、前記第2の救済回路は前記第2グループに属するヒューズ素子に保持された救済アドレスへのアクセスが要求された場合に活性化するヒット信号を処理することを特徴とする請求項2に記載の半導体記憶装置。 - 前記ヒューズ格納部の長辺側の端部のうち、第1の長辺端部側に第1のメモリバンクが設けられ、第2の長辺端部側には第2のメモリバンクが設けられ、
前記第1および第2の救済回路は、それぞれ前記第1および第2のメモリバンクに割り当てられていることを特徴とする請求項2または3に記載の半導体記憶装置。 - 前記第1の救済回路から前記第1のメモリバンクに送出される第1の救済アドレス信号は、前記ヒューズ格納部の前記第1の長辺端部側に設けられる第1送出位置から送出され、
前記第2の救済回路から前記第2のメモリバンクに送出される第2の救済アドレス信号は、前記ヒューズ格納部の前記第2の長辺端部側に設けられる第2送出位置から送出され、
前記第1送出位置と前記第2送出位置は、前記ヒューズ格納部の長辺方向に対して略対称となるように配置されることを特徴とする請求項4に記載の半導体記憶装置。 - それぞれの長辺が互いに隣接するよう並べて配置された第1及び第2のヒューズ格納部と、
前記第1及び第2のヒューズ格納部の長辺方向における一方の端部に配置された第1の救済回路と、
前記第1及び第2のヒューズ格納部の長辺方向における他方の端部に配置された第2の救済回路と、を備え、
前記第1及び第2のヒューズ格納部のそれぞれは、レーザービームの照射により切断可能な複数のヒューズ素子と、前記複数のヒューズ素子の直上に前記レーザービームを通過させるための単一の開口部が設けられた保護膜とを含み、
前記第1及び第2の救済回路のそれぞれは、前記ヒューズ素子に保持された救済アドレスへのアクセスが要求された場合に活性化するヒット信号を処理することを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記第1のヒューズ格納部に含まれる複数のヒューズ素子は、前記第1の救済回路に近い第1グループと、前記第2の救済回路に近い第2グループに分類され、
前記第2のヒューズ格納部に含まれる複数のヒューズ素子は、前記第1の救済回路に近い第3グループと、前記第2の救済回路に近い第4グループに分類され、
前記第1の救済回路は前記第1及び第3グループに属するヒューズ素子に割り当てられ、
前記第2の救済回路は前記第2及び第4グループに属するヒューズ素子に割り当てられることを特徴とする請求項6に記載の半導体記憶装置。 - 前記第1の救済回路は第1のヒューズ格納部に属するヒューズ素子に割り当てられ、
前記第2の救済回路は第2のヒューズ格納部に属するヒューズ素子に割り当てられることを特徴とする請求項6に記載の半導体記憶装置。 - 前記第1及び第2のヒューズ格納部を挟み込むように配置された第1及び第2のメモリバンクをさらに備え、
前記第1及び第2の救済回路の出力はそれぞれ前記第1及び第2のメモリバンクに供給されることを特徴とする請求項6乃至8のいずれか一項に記載の半導体記憶装置。 - 前記第1の救済回路から見て前記第1及び第2のヒューズ格納部の反対側には、前記第1の救済回路に対応するヒューズ格納部が配置されていないことを特徴とする請求項6乃至9のいずれか一項に記載の半導体記憶装置。
- 前記第2の救済回路から見て前記第1及び第2のヒューズ格納部の反対側には、前記第2の救済回路に対応するヒューズ格納部が配置されていないことを特徴とする請求項10に記載の半導体記憶装置。
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