[go: up one dir, main page]

JP2011148751A - 含窒素縮合複素環化合物の製造方法 - Google Patents

含窒素縮合複素環化合物の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2011148751A
JP2011148751A JP2010012926A JP2010012926A JP2011148751A JP 2011148751 A JP2011148751 A JP 2011148751A JP 2010012926 A JP2010012926 A JP 2010012926A JP 2010012926 A JP2010012926 A JP 2010012926A JP 2011148751 A JP2011148751 A JP 2011148751A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ring
general formula
nitrogen
compound
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010012926A
Other languages
English (en)
Inventor
Shuichi Sugita
修一 杉田
Eisaku Kato
栄作 加藤
Rie Fujisawa
理枝 藤澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP2010012926A priority Critical patent/JP2011148751A/ja
Priority to US13/009,989 priority patent/US8633316B2/en
Publication of JP2011148751A publication Critical patent/JP2011148751A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D471/00Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00
    • C07D471/02Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D471/00Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00
    • C07D471/12Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains three hetero rings

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

【課題】臭化物を原料として用いた場合においても低触媒量、高収率で得られる含窒素縮合複素環化合物の製造方法の提供。
【解決手段】二級窒素原子を有する含窒素縮合複素環化合物と含酸素複素環残基または含窒素複素環残基等を有する臭素化合物を銅または銅イオンおよび配位子の存在下で反応させ、脱臭化水素化することによる、対応する含窒素縮合複素環化合物と含酸素複素環残基または含窒素複素環残基等を有する化合物が結合した、含窒素縮合複素環化合物の製造方法。
【選択図】なし

Description

本発明は、有機合成化合物の中間体および有機エレクトロルミネッセンス用材料として有用な含窒素縮合複素環化合物の製造方法に関する。
アリールハライドとアミン化合物からC−N結合を形成する合成法として、Pd触媒存在下で行う方法が広く知られている(特許文献1参照)。また、配位子として高活性なP(tBu)を用いる方法が知られている(特許文献2参照)。しかしながらPd触媒を被毒してしまうような化合物、例えば含窒素縮合複素環化合物を用いた場合には、反応が進行しなかったり、過剰に触媒が必要であったりという問題点があった。また、C−N結合を形成する方法としてUllmann反応が知られているが芳香族臭化物を用いた場合反応性が低く適用が困難である。C−N結合を形成する別の方法として銅もしくは銅イオンおよび配位子の存在下で反応を行う方法が記載されているが本発明のような含窒素縮合複素環化合物を反応基質として用いた記載はない(特許文献3、4、非特許文献1、2参照)。
米国特許第5576460号明細書 特許第3161360号公報 米国特許第6759554号明細書 米国特許第6867298号明細書
D.A.K.Vezzu et al.,Org.Lett.,11巻、4310ページ(2009年) A.Shafir et al.,J.Am.Chem.Soc.,128巻、8742ページ(2006年)
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、本発明の目的は、臭化物を原料として用いた場合においても低触媒量、高収率で得られる含窒素縮合複素環化合物の製造方法を提供することにある。
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
1.下記一般式[1a]または一般式[1b]で表される化合物と一般式[2]で表される化合物を銅または銅イオンおよび配位子の存在下で反応することにより下記一般式[3a]または一般式[3b]で表される含窒素縮合複素環化合物を製造することを特徴とする含窒素縮合複素環化合物の製造方法。
Figure 2011148751
(式中、Aは芳香族炭化水素環基もしくは芳香族複素環を表す。Zは芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、Zは芳香族炭化水素環もしくは芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。Zは単なる結合手もしくは2価の連結基を表す。nは1〜4の整数を表す。)
2.下記一般式[4a]または一般式[4b]で表される化合物と一般式[2]で表される化合物を反応することにより下記一般式[5a]または一般式[5b]で表される含窒素縮合複素環化合物を製造することを特徴とする前記1に記載の含窒素縮合複素環化合物の製造方法。
Figure 2011148751
(式中、Aは芳香族炭化水素環もしくは芳香族複素環を表す。Zは芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、Zは芳香族炭化水素環もしくは芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。nは1〜4の整数を表す。)
3.前記配位子がピリジン類またはβ−ジケトン類であることを特徴とする前記1または2に記載の含窒素縮合複素環化合物の製造方法。
4.更に、塩基の存在下で反応することを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載の含窒素縮合複素環化合物の製造方法。
本発明によれば、臭化物を原料として用いた場合においても低触媒量、高収率で得られる含窒素縮合複素環化合物の製造方法を提供することができる。
有機合成化合物の中間体および有機エレクトロルミネッセンス用材料として有用な含窒素縮合複素環化合物が、本発明の製造方法により低触媒量、高収率で得られ、本発明の製造方法は優れた効果を有する。
以下、本発明を実施するための形態について説明するが、本発明はこれらに限定されない。
以下、本発明を更に詳細に述べる。
前記一般式[1a]、[1b]及び一般式[3a]、[3b]において、Z及びZは芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、該芳香族複素環としては、例えば、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、ベンゾイミダゾール環、オキサジアゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、インドール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノキサリン環、キナゾリン環、フタラジン環、オキサゾール環等が挙げられる。これらのうちで好ましいものはピリジン環である。
また、一般式[1a]及び一般式[3a]において、Zは芳香族炭化水素環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、アズレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環、トリフェニレン環、o−テルフェニル環、m−テルフェニル環、p−テルフェニル環、アセナフテン環、コロネン環、フルオレン環、フルオラントレン環、ナフタセン環、ペンタセン環、ペリレン環、ペンタフェン環、ピセン環、ピラントレン環、アンスラアントレン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾジオフェン環、カルバゾール環等が挙げられる。これらのうちで好ましいものはベンゼン環である。
は単なる結合手または2価の連結基を表す。Zが表す2価の連結基としては、アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、アリーレンなどの炭化水素基の他、ヘテロ原子を含むものであってもよく、またチオフェン−2,5−ジイル基やピラジン−2,3−ジイル基のような芳香族複素環を有する化合物(ヘテロ芳香族化合物ともいう)に由来する2価の連結基であってもよいし、酸素や硫黄などのカルコゲン原子であってもよい。また、アルキルイミノ基、ジアルキルシランジイル基やジアリールゲルマンジイル基のようなヘテロ原子を介して連結する基でもよい。Zが表す単なる結合手とは、連結する置換基同士を直接結合する単なる結合手である。Zが表すこれらのうちで好ましいものは単なる結合手である。
一般式[2]及び一般式[3a]、[3b]において、Aで表される芳香族炭化水素環としては、上記Z及びZで記載された芳香族炭化水素環と同義の芳香族炭化水素環を表す。これらのうちで好ましいものはベンゼン環である。
一般式[2]及び一般式[3a]、[3b]において、Aで表される芳香族複素環としては、上記Z及びZで記載された芳香族複素環と同義の芳香族複素環を表す。これらのうちで好ましいものはジベンゾフラン環、ジベンゾジオフェン環、カルバゾール環の各基である。
nは1もしくは2が好ましい。
上記の環や基はいずれもさらに置換基によって置換されていてもよく置換基として例えば、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アリール、アシルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、アリールチオ、ハロゲン原子、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイド、スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、カルボキシル、2−(2−ピリジル)フェニル等の各基が挙げられる。
上記Z及びZは置換基によって置換されている場合、置換基として好ましいものは2−(2−ピリジル)フェニル基である。
前記一般式[4a]、[4b]、[2]または[5a]、[5b]、中における、Aで表される芳香族炭化水素環または芳香族複素環、Zで表される芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原子群、Zで表される芳香族炭化水素環または芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原子群、nで表される1〜4の整数は、前記一般式[1a]、[1b]、[2]または一般式[3a]、[3b]、中における、Aで表される芳香族炭化水素環または芳香族複素環、Zで表される芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原子群、Zで表される芳香族炭化水素環または芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原子群、nで表される1〜4の整数、とそれぞれ同義である。
前記銅イオンとして特に限定はされないが、CuCl、CuCl、CuBr、CuBr、CuI、CuI、CuO、CuO、CuSO、CuSO、CuOCOCH、Cu(OCOCH等が挙げられる。これらのうちで好ましいものはCuIおよびCuOである。
前記配位子としては、アリールアルコール類(例えば2−フェニルフェノール、1−ナフトール、2,6−ジメチルフェノール、サリチルアルドキシム、N,N−ジエチルサリチルアミド、8−ヒドロキシキノリン等);アルキルアミン類(例えば、2−(ジメチルアミノ)エタノール、2−(ジメチルアミノ)グリシン等);脂環式アミン類(例えば、L−プロリン、DBU等);ジアミン類(例えば、1,2−シクロヘキサンジアミン、N,N′−ジメチルエチレンジアミン、N,N,N′,N′−テトラメチルエチレンジアミン等);ジオール類(グリコール類)(例えば、エチレングリコール、エチレングリコールジメチルエーテル等);イミダゾリウムカルベン類(例えば、1,3−ビス(2,6−ジイソプロピルフェニル)−4,5−ジヒドロイミダゾリウムテロラフルオロボレート、1,3−ビス(2,6−ジメチルフェニル)−4,5−ジヒドロイミダゾリウムテロラフルオロボレート等);ピリジン類(例えば、ピコリン酸、3−メチルピコリン酸、3−ヒドロキシピコリンアミド、5−メチルピコリン酸、5−ブチルピコリン酸、6−メチルピコリン酸、2−アミノメチルピリジン、4−(ジメチルアミノ)ピリジン等);β−ジケトン類(アセチルアセトン、ジピバロイルメタン、ジベンゾイルメタン等);もしくはフェナントロリン類(例えば、1,10−フェナントロリン、4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン、4,7−ジメチル−1,10−フェナントロリン、3,4,7,8−テトラメチル−1,10−フェナントロリン等)より少なくとも一種選択される。
これらのうちで好ましいものは、ピコリン酸、3−メチルピコリン酸、6−メチルピコリン酸、5−ブチルピコリン酸およびジピバロイルメタンであり、さらに好ましくはピコリン酸、5−ブチルピコリン酸、ジピバロイルメタンである。
以下に、本発明の一般式[1a]または[1b](好ましくは[4a]、[4b])で表される化合物の代表的具体例を示すが、本発明はこれらに限定されものではない。
Figure 2011148751
以下に、本発明の一般式[2]で表される化合物の代表的具体例を示すが、本発明はこれらに限定されものではない。
Figure 2011148751
以下に、本発明の一般式[3a]または一般式[3b](好ましくは[5a]または一般式[5b])で表される含窒素縮合複素環化合物の代表的具体例を示すが、本発明はこれらに限定されものではない。
Figure 2011148751
Figure 2011148751
Figure 2011148751
上記反応には塩基を併用するのが好ましい。塩基としては、例えば、アルカリ金属塩(炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウム、フッ化セシウム、燐酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムt−ブトキサイド等)、アミン誘導体(トリエチルアミン、テトラメチルグアニジン等)等が挙げられる。これらのうちで好ましいものは炭酸カリウム、燐酸カリウムであり、さらに好ましくは燐酸カリウムである。
上記銅もしくは銅イオンは一般式[2]で表される化合物1molに対して0.01〜1molの範囲で用いることが好ましいが、0.1〜0.5molの範囲で用いることが特に好ましい。
上記配位子は一般式[2]で表される化合物1molに対して0.02〜1molの範囲で用いることが好ましいが、0.2〜0.8molの範囲で用いることが特に好ましい。
用いられる反応溶媒としては、非プロトン性溶媒(例えば、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルスルホオキシド(DMSO)、N−メチルピロリドン(NMP)等)、芳香族炭化水素系溶媒(例えば、キシレン、ジクロロベンゼン等)、エーテル系溶媒(例えば、エチレングリコールジメチルエーテル等)が挙げられる。これらのうちで好ましいものはDMSOである。
反応温度は通常80〜200℃で行われるのが好ましく、140〜180℃で行われるのが特に好ましい。
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。尚、特に断りない限り、実施例中の「部」あるいは「%」の表示は、「質量部」あるいは「質量%」を表す。
実施例1
《比較の合成例1》
比較の合成例1(Cu粉(触媒)を使用。本発明の配位子を使用せず。)として、下記のように合成を行った。
<例示化合物3−20の合成>
(合成経路)
Figure 2011148751
窒素気流下、例示化合物1−13 3.3g(0.0102mol)、例示化合物2−12 5.0g(×1.0mol)、燐酸カリウム3.9g(×1.8mol)、DMSO 50ml、Cu粉 1.3g(×2.0mol)を投入し、150〜160℃で8時間攪拌した。次に、飽和食塩水、THFを投入し不溶物を除去した後、有機層を減圧濃縮した。次にカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、トルエン/THF)にて精製し、得られた淡褐色アメ状物をアセトニトリルで再結し例示化合物3−20 0.90g(収率12%)を得た。
《本発明の合成例1》
本発明の合成例1(CuO(触媒)、および、ジピバロイルメタン(本発明の配位子)を使用。)として、下記のように合成を行った。
<例示化合物3−20の合成>
(合成経路)
Figure 2011148751
窒素気流下、例示化合物1−13 3.3g(0.0102mol)、例示化合物2−12 5.0g(×1.0mol)、燐酸カリウム3.9g(×1.8mol)、DMSO 50ml、CuO 0.29g(×0.20mol)、本発明の配位子としてジピバロイルメタン 0.76g(×0.40mol)を投入し、150〜160℃で8時間攪拌した。次に、飽和食塩水、THFを投入し不溶物を除去した後、有機層を減圧濃縮した。次にカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、トルエン/THF)にて精製し、得られた淡褐色アメ状物をアセトニトリルで再結し例示化合物3−20 5.2g(収率70%)を得た。
《本発明の合成例2》
本発明の合成例2(CuO(触媒)、および、5−ブチルピコリン酸(本発明の配位子)を使用。)として、下記のように合成を行った。
<例示化合物3−20の合成>
(合成経路)
Figure 2011148751
窒素気流下、例示化合物1−13 3.3g(0.0102mol)、例示化合物2−12 5.0g(×1.0mol)、燐酸カリウム3.9g(×1.8mol)、DMSO 50ml、CuO 0.29g(×0.20mol)、本発明の配位子として5−ブチルピコリン酸 0.73g(×0.40mol)を投入し、150〜160℃で8時間攪拌した。次に、飽和食塩水、THFを投入し不溶物を除去した後、有機層を減圧濃縮した。次にカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、トルエン/THF)にて精製し、得られた淡褐色アメ状物をアセトニトリルで再結し例示化合物3−20 5.3g(収率71%)を得た。
得られた化合物(例示化合物3−20)のH NMRを下記に示す。
H NMR(400MHz,CDCl):δ=8.79(d,1H),8.67〜8.63(m,3H),8.54(d,1H),8.41(d,1H),8.14(t,1H),7.85(td,2H),7.75(t,2H),7.68〜7.49(m,13H),7.36(tt,3H),7.15(dd,2H),7.07(t,1H),6.98(d,1H).
実施例中の各化合物の同定はMASSおよびNMRスペクトルで行い、それぞれ目的化合物であることを確認した。その他の例示化合物も上記の方法に準じて合成することができる。
上記、比較の合成例1、本発明の合成例1および本発明の合成例2の結果から明らかなように、本発明の場合には、臭化物を原料として用いた場合においても低触媒量、高収率で得られる含窒素縮合複素環化合物の製造方法を提供できることがわかる。
有機合成化合物の中間体および有機エレクトロルミネッセンス用材料として有用な含窒素縮合複素環化合物が、本発明の製造方法により低触媒量、高収率で得られ、本発明の製造方法は優れた効果を有することがわかる。

Claims (4)

  1. 下記一般式[1a]または一般式[1b]で表される化合物と一般式[2]で表される化合物を銅または銅イオンおよび配位子の存在下で反応することにより下記一般式[3a]または一般式[3b]で表される含窒素縮合複素環化合物を製造することを特徴とする含窒素縮合複素環化合物の製造方法。
    Figure 2011148751
    (式中、Aは芳香族炭化水素環基もしくは芳香族複素環を表す。Zは芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、Zは芳香族炭化水素環もしくは芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。Zは単なる結合手もしくは2価の連結基を表す。nは1〜4の整数を表す。)
  2. 下記一般式[4a]または一般式[4b]で表される化合物と一般式[2]で表される化合物を反応することにより下記一般式[5a]または一般式[5b]で表される含窒素縮合複素環化合物を製造することを特徴とする請求項1に記載の含窒素縮合複素環化合物の製造方法。
    Figure 2011148751
    (式中、Aは芳香族炭化水素環もしくは芳香族複素環を表す。Zは芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、Zは芳香族炭化水素環もしくは芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。nは1〜4の整数を表す。)
  3. 前記配位子がピリジン類またはβ−ジケトン類であることを特徴とする請求項1または2に記載の含窒素縮合複素環化合物の製造方法。
  4. 更に、塩基の存在下で反応することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の含窒素縮合複素環化合物の製造方法。
JP2010012926A 2010-01-25 2010-01-25 含窒素縮合複素環化合物の製造方法 Pending JP2011148751A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010012926A JP2011148751A (ja) 2010-01-25 2010-01-25 含窒素縮合複素環化合物の製造方法
US13/009,989 US8633316B2 (en) 2010-01-25 2011-01-20 Producing method of nitrogen containing condensed heterocyclic compound

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010012926A JP2011148751A (ja) 2010-01-25 2010-01-25 含窒素縮合複素環化合物の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011148751A true JP2011148751A (ja) 2011-08-04

Family

ID=44309449

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010012926A Pending JP2011148751A (ja) 2010-01-25 2010-01-25 含窒素縮合複素環化合物の製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8633316B2 (ja)
JP (1) JP2011148751A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013060396A (ja) * 2011-09-13 2013-04-04 Konica Minolta Holdings Inc 縮合複素環化合物の製造方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7043734B2 (ja) * 2017-03-23 2022-03-30 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 後処理装置

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006527220A (ja) * 2003-06-12 2006-11-30 サノフィ−アベンティス・ドイチュラント・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング 3−(グアニジノカルボニル)複素環誘導体、その製造方法及びこの方法の中間体、医薬品としてのそれらの使用及びそれらを含む医薬組成物
JP2006347964A (ja) * 2005-06-16 2006-12-28 Fujifilm Finechemicals Co Ltd アリールアミンの製造方法
JP2007504238A (ja) * 2003-09-04 2007-03-01 アベンティス・ファーマスーティカルズ・インコーポレイテツド ポリ(adp−リボース)ポリメラーゼ(parp)の阻害剤としての置換インドール
JP2007522241A (ja) * 2004-02-14 2007-08-09 アイアールエム・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー タンパク質キナーゼ阻害剤としての化合物および組成物
CN101091923A (zh) * 2007-07-13 2007-12-26 浙江大学 N-杂环官能团化1,3-二酮和卤化亚铜构成的碳氮偶联反应催化剂及制备方法
WO2008004117A1 (en) * 2006-07-06 2008-01-10 Pfizer Products Inc. Selective azole pde10a inhibitor compounds
WO2008114690A1 (ja) * 2007-03-15 2008-09-25 Hodogaya Chemical Co., Ltd. 置換されたビピリジル基とピリドインドール環構造がフェニレン基を介して連結した化合物および有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2009526855A (ja) * 2006-02-16 2009-07-23 ミレニアム・ファーマシューティカルズ・インコーポレイテッド アルファカルボリンおよびその使用
WO2009102016A1 (ja) * 2008-02-14 2009-08-20 Hodogaya Chemical Co., Ltd. 置換されたピリジル基が連結したピリドインドール環構造を有する化合物および有機エレクトロルミネッセンス素子
WO2009139475A1 (ja) * 2008-05-16 2009-11-19 保土谷化学工業株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2010235575A (ja) * 2009-03-09 2010-10-21 Konica Minolta Holdings Inc 含窒素縮合複素環化合物の製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5576460A (en) * 1994-07-27 1996-11-19 Massachusetts Institute Of Technology Preparation of arylamines
JP3515302B2 (ja) 1996-12-27 2004-04-05 愛知電機株式会社 鉄心材料の積層方法及び積層装置
DK2275395T3 (en) * 2001-04-24 2017-02-20 Massachusetts Inst Of Tech (Mit) Copper-catalyzed provision of carbon-carbon compounds.

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006527220A (ja) * 2003-06-12 2006-11-30 サノフィ−アベンティス・ドイチュラント・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング 3−(グアニジノカルボニル)複素環誘導体、その製造方法及びこの方法の中間体、医薬品としてのそれらの使用及びそれらを含む医薬組成物
JP2007504238A (ja) * 2003-09-04 2007-03-01 アベンティス・ファーマスーティカルズ・インコーポレイテツド ポリ(adp−リボース)ポリメラーゼ(parp)の阻害剤としての置換インドール
JP2007522241A (ja) * 2004-02-14 2007-08-09 アイアールエム・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー タンパク質キナーゼ阻害剤としての化合物および組成物
JP2006347964A (ja) * 2005-06-16 2006-12-28 Fujifilm Finechemicals Co Ltd アリールアミンの製造方法
JP2009526855A (ja) * 2006-02-16 2009-07-23 ミレニアム・ファーマシューティカルズ・インコーポレイテッド アルファカルボリンおよびその使用
WO2008004117A1 (en) * 2006-07-06 2008-01-10 Pfizer Products Inc. Selective azole pde10a inhibitor compounds
US20080090834A1 (en) * 2006-07-06 2008-04-17 Pfizer Inc Selective azole pde10a inhibitor compounds
WO2008114690A1 (ja) * 2007-03-15 2008-09-25 Hodogaya Chemical Co., Ltd. 置換されたビピリジル基とピリドインドール環構造がフェニレン基を介して連結した化合物および有機エレクトロルミネッセンス素子
CN101091923A (zh) * 2007-07-13 2007-12-26 浙江大学 N-杂环官能团化1,3-二酮和卤化亚铜构成的碳氮偶联反应催化剂及制备方法
WO2009102016A1 (ja) * 2008-02-14 2009-08-20 Hodogaya Chemical Co., Ltd. 置換されたピリジル基が連結したピリドインドール環構造を有する化合物および有機エレクトロルミネッセンス素子
WO2009139475A1 (ja) * 2008-05-16 2009-11-19 保土谷化学工業株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2010235575A (ja) * 2009-03-09 2010-10-21 Konica Minolta Holdings Inc 含窒素縮合複素環化合物の製造方法

Non-Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ORGANIC LETTERS, vol. 11(19), JPN6014011006, 2009, pages 4310 - 4313, ISSN: 0002768400 *
SYNTHESIS, vol. (11), JPN6013062601, 2008, pages 1707 - 1716, ISSN: 0002708403 *
TETRAHEDRON LETTERS, vol. 48, JPN6013062596, 2007, pages 4831 - 4833, ISSN: 0002708401 *
TETRAHEDRON LETTERS, vol. 49, JPN6013062603, 2008, pages 4386 - 4389, ISSN: 0002708404 *
TETRAHEDRON, vol. 64, JPN6013062599, 2008, pages 4254 - 4259, ISSN: 0002708402 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013060396A (ja) * 2011-09-13 2013-04-04 Konica Minolta Holdings Inc 縮合複素環化合物の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20110184176A1 (en) 2011-07-28
US8633316B2 (en) 2014-01-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6994724B2 (ja) ジシアノピラジン化合物、発光材料、およびそれを用いた発光素子
JP5381718B2 (ja) ハロ多環芳香族化合物及びその製造方法
JP2010235575A (ja) 含窒素縮合複素環化合物の製造方法
JP6765482B2 (ja) 5,5−ジブロモ−5−フェニル吉草酸メチルエステル
JP2011148751A (ja) 含窒素縮合複素環化合物の製造方法
JP5741091B2 (ja) 含窒素縮合複素環化合物の製造方法
JP7179614B2 (ja) 含窒素複素環化合物の製造方法
JP6705458B2 (ja) トリアゾール化合物の製造方法
JP5114901B2 (ja) 含窒素多環複素環化合物の製造方法
JP2009046408A (ja) ジハロ多環芳香族化合物、ピロリル多環芳香族化合物、及びそれらの製造方法
JP6407645B2 (ja) 芳香族化合物のパーフルオロアルキル化反応
JP5396997B2 (ja) 含窒素縮合複素環化合物の製造方法
JP2015137239A (ja) フルオロシリル基を有する化合物及びその製造方法
JP2017218381A (ja) チオフェン環縮合芳香族化合物及びその製造方法
JP5598533B2 (ja) ヨウ素化芳香族化合物の製造方法
TW201718588A (zh) 製備苯并咪唑并[1,2-a]苯并咪唑之方法
JP5505450B2 (ja) 含窒素多環複素環化合物の製造方法
KR101580821B1 (ko) 디메틸설폭사이드 용매하에서 호기성 산화법을 이용한 퀴나졸리논 유도체의 제조방법
WO2018163818A1 (ja) トリアゾール化合物の製造方法
JP5900292B2 (ja) イミノクロライド誘導体の製造方法及びフェニルイミダゾール誘導体の製造方法
Raut et al. Microwave-assisted Sonogashira coupling of novel 2-[6-(arylethynyl) pyridin-3-yl]-1H-benzimidazole derivatives
JP6499606B2 (ja) 含硫黄環化化合物の製造方法
JP5900675B2 (ja) ピロリル多環芳香族化合物の製造方法
JP5968214B2 (ja) ジハロ多環芳香族化合物の製造方法
JP2006036678A (ja) 新規ピラジン誘導体

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120710

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20130218

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20131212

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131224

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140318

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140422

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20141014