JP2011023303A - リチウムイオン電池集電体用銅箔 - Google Patents
リチウムイオン電池集電体用銅箔 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011023303A JP2011023303A JP2009169269A JP2009169269A JP2011023303A JP 2011023303 A JP2011023303 A JP 2011023303A JP 2009169269 A JP2009169269 A JP 2009169269A JP 2009169269 A JP2009169269 A JP 2009169269A JP 2011023303 A JP2011023303 A JP 2011023303A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper foil
- silane coupling
- current collector
- lithium ion
- coupling agent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/10—Energy storage using batteries
Landscapes
- Cell Electrode Carriers And Collectors (AREA)
Abstract
【解決手段】表面の少なくとも一部がシランカップリング処理されたリチウムイオン電池集電体用銅箔であって、XPSによる深さ方向分析でSiを検出し、かつC検出量がバックグラウンドレベルよりも大きい深さ範囲(以下、「有機皮膜厚み」という。)の平均値が1.0〜5.0nmであるリチウムイオン電池集電体用銅箔。
【選択図】なし
Description
そして、このような表面形態は、電解銅箔(段落0044)、圧延銅箔の表面に電解法により銅を析出させて表面を粗面化すること(段落0045)、及びエメリー紙で研磨処理すること(段落0205)で得られることが記載されている。
本発明において、銅箔は電解銅箔及び圧延銅箔のいずれでもよい。また、「銅箔」には銅合金箔も含まれるものとする。銅箔の材料としては、特に制限はなく、用途や要求特性に応じて適宜選択すればよい。例えば、限定的ではないが、圧延銅箔の場合、高純度の銅(無酸素銅やタフピッチ銅等)の他、Sn入り銅、Ag入り銅、Ni、Si等を添加したCu−Ni−Si系銅合金、Cr、Zr等を添加したCu−Cr−Zr系銅合金のような銅合金が挙げられる。
シランカップリング処理は、銅箔の上下面のうち負極活物質との密着性が要求される少なくとも一面にシランカップリング剤を浸漬、塗布及び噴霧などによって接触させ、その後、乾燥時の熱によりシランカップリング剤を銅箔表面の銅と反応させ、銅箔表面に固定することで行う事ができる。シランカップリング剤は銅箔と負極活物質の間の接着剤としての役割のほか、防錆性を高める役割も果たす。
エポキシシラン系化合物としては、以下の一般式:
で示されるエポキシシランカップリング剤(例えば3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン)が特に好ましい。アゾール系化合物としては、ベンゾイミダゾール、イミダゾールが特に好ましい。アゾール系化合物とエポキシシラン系化合物との反応は、特開平6−256358号公報に説示されている条件で行うことができる。例えば、80〜200℃でアゾール系化合物1モルに対して0.1〜10モルのエポキシシラン系化合物を滴下して5分〜2時間反応させる。その際、溶媒は特に不要であるが、クロロホルム、ジオキサン、メタノール、エタノール等の有機溶媒を用いてもよい。
このような負極活物質との密着性にほとんど寄与せず、特性向上に寄与しない銅と未反応の有機皮膜の厚みが厚くなるのは超音波溶接性の劣化につながるだけである。同じ膜厚であれば、銅箔表面に残存する未反応のシランカップリング剤が少ない方が密着性は向上する。
好ましい一実施形態においては、シランカップリング処理を施す前の表面性状が以下の条件を満たす。具体的には、銅箔の上下面の圧延平行方向における表面粗さについて、0.01μm≦Ra≦0.10μmを満たし、好ましくは、5μm≦RSm≦20μmも満たす。Raは粗さ曲線を中心線から折り返し、その粗さ曲線と中心線によって得られた面積を長さLで割った値であり、RSmは粗さ曲線が平均線と交差する交点から求めた山谷−周期の間隔の平均値である。何れもJIS B0601:2001に準拠して測定される。
一方、電解銅箔については、電流密度を調整することで所定の表面粗さRaにすることが可能である。
例1(シランカップリング処理が特性に与える影響の検討)
[圧延銅箔の製造]
厚さ200mm、幅600mmのタフピッチ銅のインゴットを製造し、熱間圧延により10mmまで圧延した。
次に、焼鈍と冷間圧延を繰り返し、最後に冷間圧延で、ワークロール径60mm、ワークロール表面粗さRaを0.03μmとし、最終パスの圧延速度400m/分、加工度20%として厚さ10μmに仕上げた。圧延油の粘度は9.0cSt(25℃)であった。得られた圧延銅箔はRaが0.11μm、RSmが29μm、RSm/Raが264であった。
電解液として、硫酸銅(CuSO4・5H2O)300g/L、硫酸120g/L、塩化物イオン濃度0.5mg/L、ニカワ濃度0.5mg/Lとした硫酸酸性硫酸銅溶液を用い、電解液温度約55℃、電流密度100A/dm2で電解して10μmの電解銅箔を製造した。得られた電解銅箔はRaが0.12μm、RSmが19.7μm、RSm/Raが164であった。
上記の通り製造した板厚10μmの圧延銅箔又は電解銅箔につき、表1に記載の濃度のN−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランに3秒間浸漬し乾燥機にて表1に記載の雰囲気温度で3分間乾燥した。その後、以下の通り、活物質の密着性、防錆性、超音波溶接性を評価した。結果を表1に示す。
(1)平均径9μmの人工黒鉛とポリビニリデンフルオライドを重量比1:9で混合し、これを溶剤N−メチル−2−ピロリドンに分散させる。
(2)銅箔の表面に上記の活物質を塗布する。
(3)活物質を塗布した銅箔を乾燥機にて90℃×30分間加熱する。なお、このときにはシランカップリング剤は銅表面にOH基が結合していないため、未反応のシランカップリング剤との脱水反応により銅表面と反応することはほとんどない。
(4)乾燥後、20mm角に切り出し、1.5トン/mm2×20秒間の荷重をかける。
(5)上記サンプルをカッターにて碁盤目状に切り傷を形成し、市販の粘着テープ(セロテープ(登録商標))を貼り、重さ2kgのローラーを置いて1往復させて粘着テープを圧着する。
(6)粘着テープを剥がし、銅箔上に残存した活物質は、表面の画像をPCに取り込み、二値化によって銅表面の金属光沢部分と活物質が残存する黒色部分を区別し、活物質の残存率を算出。残存率は、各サンプル3つの平均値とした。活物質密着性の判定は、残存率50%未満を「×」、50%以上70%未満を「△」、70%以上90%未満を「○」、90%以上を「◎」とした。
(1)銅箔を50mm×100mmの大きさに切り出し、3枚重ね粘着テープで固定し、ビニールの袋に入れて中の空気を追い出しながらテープで封印する。
(2)試料(1)を湿潤試験機(50℃×90%RH)に入れ、168時間保持する。
(3)試料を(2)の試験機から取り出し、銅箔が重なっていた部分の表面の色調を確認する。
(4)試験後の銅箔表面の色調が試験前と同じものを「◎」、試験前と比較して、僅かに変色したものを「○」、薄い赤褐色に変色したものを「△」、表面全体が赤黒色に変色したものを「×」とした。
(1)銅箔を100mm×150mmの大きさに切り出し、30枚重ねる。
(2)ブランソン社製のアクチュエータ(型番:Ultraweld L20E)にホーン(ピッチ0.8mm、高さ0.4mm)を取り付ける。アンビルは0.2mmピッチを使用した。
(3)溶接条件は、圧力40psi、振幅60μm、振動数20kHz、溶接時間は0.1秒とした。
(4)上記条件で溶接した後、銅箔を1枚ずつ剥離したときに、21枚以上の銅箔が溶接部分で破れた場合を「◎」、11〜20枚の銅箔が溶接部分で破れた場合を「○」、1〜10枚の銅箔が溶接部分で破れた場合を「△」、一枚も銅箔が破れなかった場合を「×」とした。なお、銅箔を剥離する前に、ホーンに接触していた最表層の銅箔の溶接部分を実態顕微鏡にて20倍で拡大観察し、クラックが発生していないことを確認してから剥離試験を実施した。
有機皮膜の厚みは、アルゴンスパッタしながらXPS装置で銅箔の深さ方向について元素分析し、Siを検出し、かつC検出量がバックグラウンドレベルよりも大きな深さ範囲(SiO2換算)を有機皮膜厚みとし、任意の5カ所の平均値を有機皮膜厚みの平均値とした。
・装置:XPS装置(アルバックファイ社、型式5600MC)
・真空度:5.7×10-7Pa
・X線:単色AlKα、X線出力210W、入射角45°、取り出し角45°
・イオン線:イオン種Ar+、加速電圧3kV、掃引面積3mm×3mm、スパッタリングレート2.3nm/min(SiO2換算)
比較例1−10は、シランカップリング処理未実施のため、活物質密着性及び防錆性が劣る。
比較例1−11は、シランカップリング剤濃度が低かった。そのため、有機皮膜厚が1.0nm未満と薄く、活物質密着性及び防錆性が劣った。
比較例1−12は、シランカップリング剤濃度が高く、有機皮膜厚が5.0nmを超えており、超音波溶接性が劣った。
例1と同様の方法で銅箔を製造し、活物質との密着性、防錆性、超音波溶接性を評価した。
なお、シランカップリング処理、乾燥後に、蒸留水中に10秒間浸漬して銅箔表面を洗浄し、これを用いてD1を測定した。
[有機皮膜の厚み]
有機皮膜の厚みにつき、分析装置と条件は例1と同様とした。ここでの測定は、シランカップリング処理後に、蒸留水中に10秒間浸漬して銅箔表面を洗浄する前と洗浄した後に行い、洗浄前の有機皮膜厚みの平均値をD0とし、洗浄後の有機皮膜厚みの平均値をD1とした。
比較例2−10は、乾燥温度は適度であるものの、シランカップリング剤濃度が低かった。そのため、有機皮膜厚D0が1.0nm未満と薄く、活物質密着性及び防錆性が劣った。
比較例2−11は、シランカップリング剤濃度が低かった。そのため、有機皮膜厚D0が1.0nm以上であっても、D1が1.0未満、D1/D0が0.6未満となり、防錆性が劣った。
比較例2−12は、シランカップリング剤濃度が適度で有機皮膜厚D0が適当であるものの、乾燥温度が低いために未反応のシランカップリング剤が残存し、D1が1.0未満、D1/D0が0.6未満となり、防錆性が劣った。
種々の圧延銅箔及び電解銅箔について、負極活物質との密着性を評価した。
[圧延銅箔の製造]
厚さ200mm、幅600mmのタフピッチ銅のインゴットを製造し、熱間圧延により10mmまで圧延した。次に、焼鈍と冷間圧延を繰り返し、最後に冷間圧延で、ワークロール径60mm、ワークロール表面粗さRa0.01〜0.09μmとし、最終パスでは圧延速度100〜400m/分及び圧下率20%として厚さ10μmに仕上げた。圧延油の粘度は9.0cSt(25℃)であった。
[電解銅箔の製造]
例1の電解銅箔の製造方法に対して、電流密度を調整することで表3に示す表面粗さの電解銅箔を得た。
[表面粗さ測定]
銅箔をガラス板上に乗せて固定し、レーザーテック社のコンフォーカル顕微鏡HD100Dを用いて、圧延銅箔は圧延平行方向、電解銅箔は製品の長手方向の表面粗さを測定した。圧延銅箔については、上下面のうち一方の面についての測定結果を記載したが、両面とも同様の表面性状であった。Ra及びRSmはJIS B0601:2001に準拠してレーザーテック社製HD100Dを使用して測定した。
[シランカップリング処理]
上記の通り製造した板厚10μmの圧延銅箔及び電解銅箔を濃度0.2質量%のN−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランに3秒間浸漬した後、80℃の温度の乾燥機内にて5分間乾燥した後、以下の通り、活物質の塗布及び密着性評価を行った。
[その他の特性]
例1と同様の方法で密着性、防錆性、有機皮膜の厚み及び超音波溶接性を評価した。
また、Raが0.01〜0.1μmの範囲にある場合、RSmが20μm以下にある場合、及びRSm/Raが400以下の場合には、同程度の有機皮膜厚みであっても、特性が向上していることが分かる。具体的には、No.3−1はNo.3−2、No.3−3、No.3−9及びNo.3−11に比べて密着性が高く、No.3−4はNo.3−5、No.3−6、No.3−10及びNo.3−12に比べて超音波溶接性が高い。また、No.3−2、No.3−3は、No.3−9、No.3−11に比べ、密着性が高く、No.3−5、No.3−6は、No.3−10、No.3−12に比べて超音波溶接性が高い。No.3−7及びNo.3−8はNo.3−13やNo.3−14に比べて密着性又は超音波溶接性が高い。例1と比べてもこの傾向が窺える。
Claims (10)
- 表面の少なくとも一部がシランカップリング処理されたリチウムイオン電池集電体用銅箔であって、XPSによる深さ方向分析でSiを検出し、かつC検出量がバックグラウンドレベルよりも大きい深さ範囲(以下、「有機皮膜厚み」という。)の平均値D0が1.0〜5.0nmであるリチウムイオン電池集電体用銅箔。
- 純水に10秒間浸漬する洗浄操作後の有機皮膜厚みの平均値D1が1.0nm以上である請求項1記載の銅箔。
- 洗浄操作前の有機皮膜厚みの平均値D0に対する、純水に10秒間浸漬する洗浄操作後の有機皮膜厚みの平均値D1の比率(D1/D0)が0.6以上である請求項1又は2記載の銅箔。
- 銅箔が圧延銅箔であり、上下面の圧延平行方向における表面粗さについて、どちらの面も0.01μm≦Ra≦0.10μmを満たす請求項1〜3何れか一項記載の銅箔。
- 銅箔が電解銅箔であり、S面、M面における表面粗さについて、どちらの面も0.01μm≦Ra≦0.10μmを満たす請求項1〜3何れか一項記載の銅箔。
- 銅箔が圧延銅箔であり、上下面の圧延平行方向における表面粗さについて、どちらの面もRSm≦20μmを満たし、且つ、RSm/Ra≦400である請求項1〜4何れか一項記載の銅箔。
- リチウムイオン二次電池負極集電体用である請求項1〜6何れか一項記載の銅箔。
- 請求項1〜7何れか一項記載の銅箔を集電体として用いたリチウムイオン電池。
- 銅箔表面の少なくとも一部を0.1〜1.0質量%のシランカップリング剤溶液と接触させる工程と、次いでシランカップリング剤を銅箔表面の銅と反応させる工程とを含み、前記反応は50℃以上の雰囲気中で加熱処理を行うことで実施するリチウムイオン電池集電体用銅箔の製造方法。
- 前記反応後に、未反応のシランカップリング剤を銅箔表面から除去する工程を更に含む請求項9記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009169269A JP5219952B2 (ja) | 2009-07-17 | 2009-07-17 | リチウムイオン電池集電体用銅箔 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009169269A JP5219952B2 (ja) | 2009-07-17 | 2009-07-17 | リチウムイオン電池集電体用銅箔 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011023303A true JP2011023303A (ja) | 2011-02-03 |
JP5219952B2 JP5219952B2 (ja) | 2013-06-26 |
Family
ID=43633182
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009169269A Active JP5219952B2 (ja) | 2009-07-17 | 2009-07-17 | リチウムイオン電池集電体用銅箔 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5219952B2 (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012243454A (ja) * | 2011-05-17 | 2012-12-10 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | 圧延銅箔、並びにこれを用いた負極集電体、負極板及び二次電池 |
WO2014017449A1 (ja) * | 2012-07-23 | 2014-01-30 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理銅箔とその製造方法、リチウムイオン二次電池用電極及びリチウムイオン二次電池 |
KR20140051278A (ko) * | 2011-08-04 | 2014-04-30 | 미쓰이금속광업주식회사 | 리튬 이온 이차 전지의 부극재 제조 방법 및 리튬 이온 이차 전지용 부극재 |
JP2014159606A (ja) * | 2013-02-19 | 2014-09-04 | Hitachi Metals Ltd | アルミニウム箔の製造方法、アルミニウム箔、及びそれを用いた電極、蓄電デバイス |
WO2014178327A1 (ja) * | 2013-04-30 | 2014-11-06 | 古河電気工業株式会社 | リチウムイオン二次電池負極集電体用銅箔 |
JP2016172275A (ja) * | 2015-03-18 | 2016-09-29 | Jx金属株式会社 | 圧延銅箔及びその製造方法、銅張積層板、並びにフレキシブルプリント基板及び電子機器 |
JP2019175802A (ja) * | 2018-03-29 | 2019-10-10 | Jx金属株式会社 | リチウムイオン電池集電体用圧延銅箔及びリチウムイオン電池 |
JP2020145002A (ja) * | 2019-03-04 | 2020-09-10 | ナミックス株式会社 | 銅箔並びにそれを含むリチウムイオン電池の負極集電体及びその製造方法 |
JP2020528207A (ja) * | 2017-07-25 | 2020-09-17 | シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイShell Internationale Research Maatschappij Besloten Vennootshap | 電気エネルギー貯蔵装置 |
CN113707885A (zh) * | 2021-08-30 | 2021-11-26 | 哈尔滨工业大学 | 一种无负极碱金属离子电池中负极集流体的改性方法 |
US12027707B2 (en) | 2019-01-25 | 2024-07-02 | Shell Usa, Inc. | Electric energy storage device |
WO2024261058A2 (en) | 2023-06-20 | 2024-12-26 | Chemetall Gmbh | Electrolytic treatment of substrates containing copper and/or alloys thereof |
US12304985B2 (en) | 2018-07-19 | 2025-05-20 | Shell Usa, Inc. | Process for preparing sulfur containing organosilane polymers |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07296802A (ja) * | 1994-04-26 | 1995-11-10 | Sumitomo Chem Co Ltd | リチウム二次電池用電極の製造方法とリチウム二次電池 |
JPH09237625A (ja) * | 1996-02-27 | 1997-09-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 非水電解液二次電池用電極板及びその製造方法 |
JPH1021928A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-23 | Furukawa Circuit Foil Kk | 二次電池用電極材料 |
-
2009
- 2009-07-17 JP JP2009169269A patent/JP5219952B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07296802A (ja) * | 1994-04-26 | 1995-11-10 | Sumitomo Chem Co Ltd | リチウム二次電池用電極の製造方法とリチウム二次電池 |
JPH09237625A (ja) * | 1996-02-27 | 1997-09-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 非水電解液二次電池用電極板及びその製造方法 |
JPH1021928A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-23 | Furukawa Circuit Foil Kk | 二次電池用電極材料 |
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012243454A (ja) * | 2011-05-17 | 2012-12-10 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | 圧延銅箔、並びにこれを用いた負極集電体、負極板及び二次電池 |
KR20140051278A (ko) * | 2011-08-04 | 2014-04-30 | 미쓰이금속광업주식회사 | 리튬 이온 이차 전지의 부극재 제조 방법 및 리튬 이온 이차 전지용 부극재 |
KR101916984B1 (ko) | 2011-08-04 | 2018-11-08 | 미쓰이금속광업주식회사 | 리튬 이온 이차 전지의 부극재 제조 방법 및 리튬 이온 이차 전지용 부극재 |
KR101579489B1 (ko) | 2012-07-23 | 2015-12-22 | 후루카와 덴키 고교 가부시키가이샤 | 표면 처리 동박과 그 제조방법, 리튬이온 이차전지용 전극 및 리튬이온 이차전지 |
WO2014017449A1 (ja) * | 2012-07-23 | 2014-01-30 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理銅箔とその製造方法、リチウムイオン二次電池用電極及びリチウムイオン二次電池 |
JP5554455B1 (ja) * | 2012-07-23 | 2014-07-23 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理銅箔とその製造方法、リチウムイオン二次電池用電極及びリチウムイオン二次電池 |
CN104204299A (zh) * | 2012-07-23 | 2014-12-10 | 古河电气工业株式会社 | 表面处理铜箔及其制造方法、锂离子二次电池用电极以及锂离子二次电池 |
KR20150035502A (ko) | 2012-07-23 | 2015-04-06 | 후루카와 덴키 고교 가부시키가이샤 | 표면 처리 동박과 그 제조방법, 리튬이온 이차전지용 전극 및 리튬이온 이차전지 |
JP2014159606A (ja) * | 2013-02-19 | 2014-09-04 | Hitachi Metals Ltd | アルミニウム箔の製造方法、アルミニウム箔、及びそれを用いた電極、蓄電デバイス |
WO2014178327A1 (ja) * | 2013-04-30 | 2014-11-06 | 古河電気工業株式会社 | リチウムイオン二次電池負極集電体用銅箔 |
CN104508878A (zh) * | 2013-04-30 | 2015-04-08 | 古河电气工业株式会社 | 锂离子二次电池负极集电体用铜箔 |
JP5625141B1 (ja) * | 2013-04-30 | 2014-11-12 | 古河電気工業株式会社 | リチウムイオン二次電池負極集電体用銅箔 |
JP2016172275A (ja) * | 2015-03-18 | 2016-09-29 | Jx金属株式会社 | 圧延銅箔及びその製造方法、銅張積層板、並びにフレキシブルプリント基板及び電子機器 |
JP2020528207A (ja) * | 2017-07-25 | 2020-09-17 | シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイShell Internationale Research Maatschappij Besloten Vennootshap | 電気エネルギー貯蔵装置 |
JP7193525B2 (ja) | 2017-07-25 | 2022-12-20 | シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ | 電気エネルギー貯蔵装置 |
JP2019175802A (ja) * | 2018-03-29 | 2019-10-10 | Jx金属株式会社 | リチウムイオン電池集電体用圧延銅箔及びリチウムイオン電池 |
US12304985B2 (en) | 2018-07-19 | 2025-05-20 | Shell Usa, Inc. | Process for preparing sulfur containing organosilane polymers |
US12027707B2 (en) | 2019-01-25 | 2024-07-02 | Shell Usa, Inc. | Electric energy storage device |
JP2020145002A (ja) * | 2019-03-04 | 2020-09-10 | ナミックス株式会社 | 銅箔並びにそれを含むリチウムイオン電池の負極集電体及びその製造方法 |
CN113707885A (zh) * | 2021-08-30 | 2021-11-26 | 哈尔滨工业大学 | 一种无负极碱金属离子电池中负极集流体的改性方法 |
CN113707885B (zh) * | 2021-08-30 | 2022-09-13 | 哈尔滨工业大学 | 一种无负极碱金属离子电池中负极集流体的改性方法 |
WO2024261058A2 (en) | 2023-06-20 | 2024-12-26 | Chemetall Gmbh | Electrolytic treatment of substrates containing copper and/or alloys thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5219952B2 (ja) | 2013-06-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5219952B2 (ja) | リチウムイオン電池集電体用銅箔 | |
JP5417436B2 (ja) | リチウムイオン電池集電体用銅箔 | |
JP5427752B2 (ja) | リチウムイオン電池集電体用銅箔 | |
TWI605627B (zh) | Lithium ion secondary battery, current collector constituting the negative electrode of the secondary battery, and electrolytic copper foil constituting the negative electrode current collector | |
CN108306022A (zh) | 电解铜箔、包含其的电极、二次电池及其制造方法 | |
JP5416037B2 (ja) | リチウム電池集電体用圧延銅箔 | |
JP5512585B2 (ja) | 銅箔及びそれを用いたリチウムイオン二次電池用負極集電体及び負極材、ならびにリチウムイオン二次電池 | |
TW201702434A (zh) | 電解銅箔、鋰離子二次電池用負極電極及鋰離子二次電池、印刷電路板及電磁波遮蔽材 | |
TW202120748A (zh) | 防止破裂及皺褶之電解銅箔、包含此電解銅箔之電極、包含此電極之二次電池及此電解銅箔之製造方法 | |
CN109997265B (zh) | 用于二次电池的铜箔及其制造方法以及包括该铜箔的二次电池 | |
JP2013211229A (ja) | 銅箔及びそれを用いたリチウムイオン二次電池用負極集電体及び負極材、ならびにリチウムイオン二次電池 | |
JP2021103697A (ja) | リチウムイオン電池集電体用圧延銅箔及びリチウムイオン電池 | |
KR102492813B1 (ko) | 핸들링성이 우수한 고용량 이차전지용 동박, 그것을 포함하는 전극, 그것을 포함하는 이차전지, 및 그것의 제조방법 | |
TW202017231A (zh) | 電解銅箔、包含其的電極、及包含其的鋰離子電池 | |
JP2013079419A (ja) | 銅箔及びそれを用いたリチウムイオン二次電池用負極集電体及び負極材、ならびにリチウムイオン二次電池 | |
KR102299094B1 (ko) | 리튬 이온 전지 집전체용 압연 구리박 및 리튬 이온 전지 | |
KR101414884B1 (ko) | 리튬 이온 전지 집전체용 동박 | |
TWI792449B (zh) | 電解銅箔、包含其的電極和覆銅積層板 | |
JP2025105531A (ja) | 銅箔、それを含む電極、それを含む二次電池、およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110328 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121106 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121113 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130108 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130305 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160315 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5219952 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |