JP2010123063A - Automatic wiring shaping method and computer program therefor - Google Patents
Automatic wiring shaping method and computer program therefor Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010123063A JP2010123063A JP2008298361A JP2008298361A JP2010123063A JP 2010123063 A JP2010123063 A JP 2010123063A JP 2008298361 A JP2008298361 A JP 2008298361A JP 2008298361 A JP2008298361 A JP 2008298361A JP 2010123063 A JP2010123063 A JP 2010123063A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring
- auxiliary line
- reference via
- setting
- virtual circle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 title claims abstract description 68
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 238000004590 computer program Methods 0.000 title claims description 13
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 26
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 16
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 6
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
Images
Abstract
Description
半導体パッケージの基板面上に相当する仮想平面上において、基板上の配線の経路を、配線に隣接するビアおよび他の配線に対して少なくとも所定のクリアランスを確保するように整形する自動配線整形方法およびこの自動配線整形処理をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラムに関する。 An automatic wiring shaping method for shaping a wiring path on a substrate on a virtual plane corresponding to a substrate surface of a semiconductor package so as to ensure at least a predetermined clearance with respect to a via and another wiring adjacent to the wiring, and The present invention relates to a computer program for causing a computer to execute this automatic wiring shaping process.
PBGAやEBGAなどの半導体パッケージにおいては、半導体チップの電極端子と電気的に接続されるパッド(例えばボンディングパッド、フリップチップパッド)とその周囲に設けられたビア(ランド)との間あるいはビア部どうしの間を、配線パターンによりそれぞれ接続するよう設計する。半導体パッケージにおける配線は、配線間や配線とビアもしくは障害物との間における所定のクリアランス(ライン&スペース)を確保し、かつ、不必要な配線交差(クロス)がないようにするといった設計ルールを最低限満足する必要がある。設計者は例えばCADシステムを用いて仮想平面上で半導体パッケージの配線ルートを試行錯誤しながら設計するのが一般的である。 In a semiconductor package such as PBGA or EBGA, a pad (for example, a bonding pad or a flip chip pad) electrically connected to an electrode terminal of a semiconductor chip and a via (land) provided around the pad or between via portions. Are designed to be connected by wiring patterns. Wiring in semiconductor packages has a design rule that ensures a certain clearance (line & space) between wirings and between wirings and vias or obstacles, and that there is no unnecessary wiring crossing. It is necessary to satisfy at least. For example, a designer generally designs a wiring route of a semiconductor package on a virtual plane by trial and error using a CAD system.
コンピュータを用いて半導体パッケージの基板面上に相当する仮想平面上における配線およびビアの配置を図形認識し、全ての配線およびビアについていわゆる総当り方式で演算処理すると、演算量が膨大なため、設計に時間がかかる。また、半導体パッケージにおいては高密度化、多ピン化が今後より一層進むことが考えられ、設計時間を短縮することが困難になりつつある。 If the computer recognizes the figure of the layout of wiring and vias on the virtual plane corresponding to the substrate surface of the semiconductor package, and all the wirings and vias are arithmetically processed by the so-called brute force method, the calculation amount is enormous. Takes time. In addition, in the semiconductor package, it is considered that the density and the number of pins will further increase in the future, and it is becoming difficult to shorten the design time.
コンピュータの演算処理量の低減および設計時間の短縮を目的として、配線パターンの設計方法一例として、ラフ配線工程により配線の経路についてのみを先行して決めておき、次いで配線成形工程により実際の設計ルールに照らし合わせて、クリアランスを見ながら、配線の位置を確定する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。この方法では、コンピュータの演算処理により、配線およびビアが形成される半導体パッケージの基板面上に相当する仮想平面上において、ビア、ボンディングパッド、障害物等の要素間を結ぶ仮想的な補助線を複数設定し、この補助線と配線との交差関係を当該補助線ごとに調べ、この交差結果に基づき、配線の位置を、補助線上においては配線とビアとの間および配線間で少なくとも所定のクリアランスを確保するよう決定する。 For the purpose of reducing the amount of computer processing and shortening the design time, as an example of the wiring pattern design method, only the wiring route is determined in advance by the rough wiring process, and then the actual design rule is determined by the wiring forming process. In view of the above, there has been proposed a method of determining the position of the wiring while checking the clearance (see, for example, Patent Document 1). In this method, a virtual auxiliary line connecting elements such as vias, bonding pads, and obstacles is formed on a virtual plane corresponding to the substrate surface of the semiconductor package on which wiring and vias are formed by computer processing. A plurality of lines are set, and the crossing relationship between the auxiliary line and the wiring is checked for each auxiliary line. Based on the result of the crossing, the position of the wiring is set at least a predetermined clearance between the wiring and the via and between the wirings Decide to secure
補助線を用いて配線整形を行う上記特許文献1(すなわち特開2002−92061号公報)に記載された発明は、従来の総当り方式でする演算処理に比べて、演算処理量の低減および設計時間の短縮の点で一定の効果がある。 The invention described in Patent Document 1 (that is, Japanese Patent Laid-Open No. 2002-92061) that performs wiring shaping using an auxiliary line reduces the amount of calculation processing and designs compared to the conventional calculation processing using a brute force method. There is a certain effect in terms of time reduction.
しかしながら、設定する補助線の数を増やせば増やすほど、より適切な配線整形を実現することができるが、補助線の数に比例して演算処理量が増大してしまう欠点。配線密度が高い箇所における補助線の設定は配線整形処理の時間短縮に有効であるものの、配線密度がそれほど高くない箇所にまで補助線を設定しても配線整形処理の時間短縮はあまり効果が見込まれず、むしろ演算量が増加することもあり得る。設計者自身が、自らの技量や経験や勘を頼りに、CADシステムを用いて手動で仮想平面上に補助線を設定しているが、補助線の設定の仕方によっては、配線整形処理の時間短縮の効果があまり得られない。また、このような補助線の設定作業自体も、結局のところ手動でしなければならないことから、設計者にとっては煩雑な作業といえる。また、設定された補助線を用いて配線を整形したにもかかわらず、所望の整形結果が得られない場合は、補助線を改めて設定し直さなければならない。 However, as the number of auxiliary lines to be set is increased, more appropriate wiring shaping can be realized, but the calculation processing amount increases in proportion to the number of auxiliary lines. Setting auxiliary lines at locations with high wiring density is effective in reducing wiring shaping processing time, but even if auxiliary lines are set up at locations where wiring density is not so high, reducing the time of wiring shaping processing is expected to be less effective. Rather, the amount of computation may increase. The designer himself uses the CAD system to manually set the auxiliary line on the virtual plane, depending on his skill, experience and intuition, but depending on how the auxiliary line is set, the time for wiring shaping processing The effect of shortening is not obtained so much. In addition, since the auxiliary line setting operation itself must be manually performed after all, it can be said to be a complicated operation for the designer. If the desired shaping result is not obtained even though the wiring is shaped using the set auxiliary line, the auxiliary line must be set again.
従って本発明の目的は、上記問題に鑑み、半導体パッケージの基板面上に相当する仮想平面上において、基板上の配線の経路を、配線に隣接するビアおよび他の配線に対して少なくとも所定のクリアランスを確保するように計算効率よく整形する自動配線整形方法およびこの自動配線整形処理をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラムを提供することにある。 Therefore, in view of the above problems, an object of the present invention is to provide a wiring path on a substrate on a virtual plane corresponding to the substrate surface of the semiconductor package with at least a predetermined clearance with respect to vias and other wires adjacent to the wiring. It is an object to provide an automatic wiring shaping method for shaping with high computational efficiency so as to ensure the above and a computer program for causing a computer to execute this automatic wiring shaping process.
上記目的を実現するために、本発明においては、配線およびビアが形成される半導体パッケージの基板面上に相当する仮想平面上において、ビア同士を結ぶように設定された補助線と配線との交差関係に基づき、配線の位置を、補助線上においては配線とビアとの間および配線間で少なくとも所定のクリアランスを確保するよう決定する自動配線整形方法は、複数のビアの中から第1の基準ビアを設定する第1の設定ステップと、第1の基準ビアに対してビア列方向もしくはこれに直交する方向に予め設定された補助線である第1の補助線上に位置する、第1の基準ビアに隣接するビアを、第2の基準ビアとして設定する第2の設定ステップと、第2の基準ビアに対して、第1の補助線と略直交する方向に予め設定された補助線である第2の補助線上に位置する、第2の基準ビアに隣接するビアを、第3の基準ビアとして設定する第3の設定ステップと、第1の基準ビアと第2の基準ビアとの間における第1の補助線と交差し、かついずれかのビアに接続される配線であるビア接続配線を検出する検出ステップと、ビア接続配線、および第1の補助線とビア接続配線よりも第1の基準ビア側の位置で交差する配線を、第1の基準ビア側から順次、各配線間において少なくとも所定のクリアランスを確保する位置に仮配置する第1の仮配置ステップと、第1の仮配置ステップにおいて仮配置されたビア接続配線の第1の補助線上における位置と、第1の基準ビアと、の間の距離を半径とし、第1の基準ビアを中心とする第1の仮想円を設定する第1の仮想円設定ステップと、ビア接続配線、および第3の基準ビアに対して予め設定された第1の補助線と並行な第3の補助線とビア接続配線よりも第3の基準ビア側の位置で交差する配線を、第3の基準ビア側から順次、各配線間において少なくとも所定のクリアランスを確保する位置に仮配置する第2の仮配置ステップと、第2の仮配置ステップにおいて仮配置されたビア接続配線の第3の補助線上における位置と、第3の基準ビアと、の間の距離を半径とし、第3の基準ビアを中心とする第2の仮想円を設定する第2の仮想円設定ステップと、第1の仮想円と第2の仮想円とが交差するか否かを判定する判定ステップと、第1の仮想円と第2の仮想円が交差すると判定ステップにおいて判定された場合、第1の基準ビアと第3の基準ビアとを結ぶ直線を、第1の基準ビアと第3の基準ビアとの間にある配線の位置を各配線間で少なくとも所定のクリアランスを確保するよう決定するために用いられる補助線として追加設定する補助線設定ステップと、を備える。 In order to achieve the above object, in the present invention, the intersection of the auxiliary line and the wiring set to connect the vias on a virtual plane corresponding to the substrate surface of the semiconductor package on which the wiring and vias are formed. Based on the relationship, the automatic wiring shaping method for determining the position of the wiring so as to secure at least a predetermined clearance between the wiring and the via on the auxiliary line and between the wiring is the first reference via among the plurality of vias. And a first reference via located on a first auxiliary line which is an auxiliary line set in advance in a via row direction or a direction orthogonal to the first reference via. A second setting step of setting a via adjacent to the second reference via as a second reference via, and a second auxiliary line preset in a direction substantially orthogonal to the first auxiliary line with respect to the second reference via 2 A third setting step of setting a via adjacent to the second reference via located on the auxiliary line as a third reference via; and a first setting between the first reference via and the second reference via. A detection step for detecting a via connection wiring that intersects with the auxiliary line and is connected to one of the vias; the via connection wiring; and the first reference via side with respect to the first auxiliary line and the via connection wiring First provisional placement step of temporarily placing wirings intersecting at the first reference via side at a position that secures at least a predetermined clearance between the respective wirings in order from the first reference via side, and provisional placement in the first temporary placement step A first virtual circle centered on the first reference via is set with a distance between the position of the via connection wiring on the first auxiliary line and the first reference via as a radius. Virtual circle setting step and via connection And a third auxiliary line parallel to the first auxiliary line set in advance with respect to the third reference via and a wiring intersecting at a position closer to the third reference via than the via connection wiring, Sequentially from the reference via side, a second temporary placement step for temporarily placing at least a predetermined clearance between the wirings, and a third auxiliary for the via connection wiring temporarily placed in the second temporary placement step A second virtual circle setting step for setting a second virtual circle centered on the third reference via, the distance between the position on the line and the third reference via being a radius, and a first virtual When it is determined in the determination step that determines whether or not the circle and the second virtual circle intersect, and in the determination step that the first virtual circle and the second virtual circle intersect, the first reference via and the first virtual circle A straight line connecting the three reference vias, the first reference via and the first reference via And an auxiliary line setting step of additionally setting the position of the wiring between the three reference vias as an auxiliary line used for determining at least a predetermined clearance between the wirings.
本発明による自動配線整形方法は、複数のビアそれぞれを第1の設定ステップにおいて第1の基準ビアに設定して、第2の設定ステップ、第3の設定ステップ、検出ステップ、第1の仮配置ステップ、第1の仮想円設定ステップ、第2の仮配置ステップ、第2の仮想円設定ステップ、判定ステップ、および補助線設定ステップを実行する。 An automatic wiring shaping method according to the present invention sets each of a plurality of vias as a first reference via in a first setting step, a second setting step, a third setting step, a detection step, and a first provisional arrangement. A step, a first virtual circle setting step, a second temporary placement step, a second virtual circle setting step, a determination step, and an auxiliary line setting step are executed.
上記一連の処理は、コンピュータ等の演算処理装置が実行することができるコンピュータプログラムの形式で実現できる。また、このコンピュータプログラムを記録媒体に格納するという事項も当業者には自明である。このように、本発明による自動配線整形方法は、ビアの列方向およびこれに直交する方向については各ビア間に補助線を予め設定しておき、特に配線密度が高いビア間については、上記予め設定した補助線に加えて、コンピュータが実行する上記一連のステップによって生成された補助線を追加設定するものである。 The series of processes can be realized in the form of a computer program that can be executed by an arithmetic processing unit such as a computer. Further, it is obvious to those skilled in the art that the computer program is stored in a recording medium. As described above, in the automatic wiring shaping method according to the present invention, auxiliary lines are set in advance between vias in the column direction of vias and the direction orthogonal thereto. In addition to the set auxiliary line, the auxiliary line generated by the series of steps executed by the computer is additionally set.
すなわち、配線およびビアが形成される半導体パッケージの基板面上に相当する仮想平面上において、ビア同士を結ぶように設定された補助線と配線との交差関係に基づき、配線の位置を、補助線上においては配線とビアとの間および配線間で少なくとも所定のクリアランスを確保するよう決定する自動配線整形処理をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラムは、複数のビアの中から第1の基準ビアを設定する第1の設定ステップと、第1の基準ビアに対してビア列方向もしくはこれに直交する方向に予め設定された補助線である第1の補助線上に位置する、第1の基準ビアに隣接するビアを、第2の基準ビアとして設定する第2の設定ステップと、第2の基準ビアに対して、第1の補助線と略直交する方向に予め設定された補助線である第2の補助線上に位置する、第2の基準ビアに隣接するビアを、第3の基準ビアとして設定する第3の設定ステップと、第1の基準ビアと第2の基準ビアとの間における第1の補助線と交差し、かついずれかのビアに接続される配線であるビア接続配線を検出する検出ステップと、ビア接続配線、および第1の補助線とビア接続配線よりも第1の基準ビア側の位置で交差する配線を、第1の基準ビア側から順次、各配線間において少なくとも所定のクリアランスを確保する位置に仮配置する第1の仮配置ステップと、第1の仮配置ステップにおいて仮配置されたビア接続配線の第1の補助線上における位置と、第1の基準ビアと、の間の距離を半径とし、第1の基準ビアを中心とする第1の仮想円を設定する第1の仮想円設定ステップと、ビア接続配線、および第3の基準ビアに対して予め設定された第1の補助線と並行な第3の補助線とビア接続配線よりも第3の基準ビア側の位置で交差する配線を、第3の基準ビア側から順次、各配線間において少なくとも所定のクリアランスを確保する位置に仮配置する第2の仮配置ステップと、第2の仮配置ステップにおいて仮配置されたビア接続配線の第3の補助線上における位置と、第3の基準ビアと、の間の距離を半径とし、第3の基準ビアを中心とする第2の仮想円を設定する第2の仮想円設定ステップと、第1の仮想円と第2の仮想円とが交差するか否かを判定する判定ステップと、第1の仮想円と第2の仮想円が交差すると判定ステップにおいて判定された場合、第1の基準ビアと第3の基準ビアとを結ぶ直線を、第1の基準ビアと第3の基準ビアとの間にある配線の位置を各配線間で少なくとも所定のクリアランスを確保するよう決定するために用いられる補助線として追加設定する補助線設定ステップと、を備える。 That is, on the virtual plane corresponding to the substrate surface of the semiconductor package on which the wiring and via are formed, the position of the wiring is set on the auxiliary line based on the crossing relationship between the wiring and the auxiliary line set to connect the vias. The computer program for causing the computer to execute automatic wiring shaping processing for determining at least a predetermined clearance between wirings and vias sets a first reference via from among a plurality of vias Adjacent to the first reference via, which is located on the first auxiliary line which is an auxiliary line set in advance in the via row direction or the direction orthogonal to the first reference via. A second setting step for setting the via to be used as the second reference via, and the second reference via is set in advance in a direction substantially orthogonal to the first auxiliary line with respect to the second reference via. A third setting step of setting, as a third reference via, a via adjacent to the second reference via located on the second auxiliary line, which is an auxiliary line, and the first reference via and the second reference via A detection step of detecting a via connection wiring that intersects with the first auxiliary line and connected to any via, via connection wiring, and the first auxiliary line and via connection wiring A first temporary placement step of temporarily placing wirings that intersect at a position on the first reference via side in order from the first reference via side at a position that secures at least a predetermined clearance between the wirings; A first virtual line centered on the first reference via, the radius being the distance between the position on the first auxiliary line of the via connection wiring temporarily arranged in the temporary placement step and the first reference via. First virtual circle setting to set a circle The top, the via connection wiring, and the third auxiliary line parallel to the first auxiliary line set in advance with respect to the third reference via intersect at a position closer to the third reference via than the via connection wiring. A second temporary placement step in which wiring is provisionally arranged in order from the third reference via side at a position that secures at least a predetermined clearance between the wirings; and the via connection wiring temporarily arranged in the second temporary placement step A second virtual circle setting step of setting a second virtual circle centered on the third reference via, with a distance between the position on the third auxiliary line and the third reference via as a radius, and When it is determined in the determination step that determines whether or not the first virtual circle and the second virtual circle intersect, and in the determination step that the first virtual circle and the second virtual circle intersect, the first A straight line connecting the reference via and the third reference via An auxiliary line setting step for additionally setting the position of the wiring between the first reference via and the third reference via as an auxiliary line used to determine at least a predetermined clearance between the wirings; .
本発明による自動配線整形処理をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラムは、複数のビアそれぞれを第1の設定ステップにおいて第1の基準ビアに設定して、第2の設定ステップ、第3の設定ステップ、検出ステップ、第1の仮配置ステップ、第1の仮想円設定ステップ、第2の仮配置ステップ、第2の仮想円設定ステップ、判定ステップ、および補助線設定ステップを実行する。 A computer program for causing a computer to execute automatic wiring shaping processing according to the present invention sets a plurality of vias as first reference vias in a first setting step, a second setting step, and a third setting step. The detection step, the first temporary placement step, the first virtual circle setting step, the second temporary placement step, the second virtual circle setting step, the determination step, and the auxiliary line setting step are executed.
本発明によれば、配線およびビアが形成される半導体パッケージの基板面上に相当する仮想平面上において、ビア同士を結ぶように設定された補助線と配線との交差関係に基づき、配線の位置を、補助線上においては配線とビアとの間および配線間で少なくとも所定のクリアランスを確保するよう決定する自動配線整形処理において、補助線の設定を、コンピュータによる演算処理により自動化することができる。したがって、従来のように設計者自らの技量、経験、勘などに左右されることなく、安定した品質の配線整形を短時間で容易に実現することができる。また、本発明によれば、ビアの列方向およびこれに直交する方向については各ビア間に補助線を予め設定しておき、特に配線密度が高いビア間については、上記予め設定した補助線に加え、コンピュータが実行する上記一連のステップによって生成された補助線を追加設定するものであるので、無駄な補助線を設定せず、したがって、上記特許文献1(すなわち特開2002−92061号公報)に記載された発明に比べて演算処理量を低減することができる。また、従来のような試行錯誤しながらの手動による設計を行わずに済むので、要求される配線の内容が複雑になったとしても、効率的かつ的確に配線を整形することができる。このような設計時間の短縮および設計者の負担の軽減の結果、半導体パッケージの製造コストも低減することができる。 According to the present invention, on the virtual plane corresponding to the substrate surface of the semiconductor package in which the wiring and the via are formed, the position of the wiring is based on the intersection relationship between the auxiliary line and the wiring set to connect the vias. In the automatic wiring shaping process for determining at least a predetermined clearance between the wiring and the via and between the wirings on the auxiliary line, the setting of the auxiliary line can be automated by a calculation process by a computer. Accordingly, it is possible to easily realize stable quality wiring shaping in a short time without being influenced by the designer's own skill, experience, intuition, and the like as in the prior art. In addition, according to the present invention, auxiliary lines are set in advance between the vias in the row direction of the vias and the direction perpendicular thereto, and the vias having a high wiring density are set to the previously set auxiliary lines. In addition, since the auxiliary line generated by the series of steps executed by the computer is additionally set, useless auxiliary lines are not set. Therefore, the above-mentioned Patent Document 1 (that is, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-92061). The amount of calculation processing can be reduced as compared with the invention described in. Further, since it is not necessary to perform manual design through trial and error as in the prior art, the wiring can be shaped efficiently and accurately even if the content of the required wiring becomes complicated. As a result of shortening the design time and reducing the burden on the designer, the manufacturing cost of the semiconductor package can also be reduced.
図1は、本発明の実施例による自動配線整形方法の動作フローを示すフローチャートである。また、図2〜5は、本発明の実施例による自動配線整形方法を適用する半導体パッケージの基板面に相当する仮想平面上におけるビアおよび配線の関係の一の具体例を示す図である。なお、図2〜5において、図中の二重丸「◎」印は仮想平面上のビアを示し、各ビアには参照符号V1〜V4が付される。また、図中、白抜きの太線は仮想平面上の配線を示す。また、図中、太い実線は、ビア間に予め設定された仮想の補助線を示す。 FIG. 1 is a flowchart showing an operation flow of an automatic wiring shaping method according to an embodiment of the present invention. 2 to 5 are diagrams showing one specific example of the relationship between vias and wirings on a virtual plane corresponding to the substrate surface of the semiconductor package to which the automatic wiring shaping method according to the embodiment of the present invention is applied. 2 to 5, double circles “◎” in the drawings indicate vias on a virtual plane, and reference signs V1 to V4 are assigned to the vias. Further, in the drawing, a white bold line indicates wiring on a virtual plane. In the drawing, a thick solid line indicates a virtual auxiliary line preset between vias.
本発明の実施例による自動配線整形処理が適用される設計データは、半導体パッケージの基板面上において、ビアの位置については決定されているが、配線については、その経路(ルート)がどのビア間を通るかについてのみ決定されている設計データである。このような設計データに対して、本発明の実施例による自動配線整形処理を適用することにより、経路のみが決定されていた配線について、配置すべき位置、すなわちビアからどれくらい離れた位置に配置すべきかを決定することができる。この自動配線整形処理は、補助線を用いて配線整形を行う上記特許文献1(すなわち特開2002−92061号公報)に記載された発明に基づくものである。すなわち、配線およびビアが形成される半導体パッケージの基板面上に相当する仮想平面上において、ビア同士を結ぶように設定された補助線と配線との交差関係に基づき、配線の位置を、補助線上においては配線とビアとの間および配線間で少なくとも所定のクリアランスを確保するよう決定する。 In the design data to which the automatic wiring shaping process according to the embodiment of the present invention is applied, the position of the via is determined on the substrate surface of the semiconductor package. The design data is determined only about whether or not to pass. By applying the automatic wiring shaping process according to the embodiment of the present invention to such design data, the wiring for which only the route has been determined should be arranged at the position to be arranged, that is, how far away from the via. Can decide. This automatic wiring shaping process is based on the invention described in Patent Document 1 (that is, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-92061) that performs wiring shaping using an auxiliary line. That is, on the virtual plane corresponding to the substrate surface of the semiconductor package on which the wiring and via are formed, the position of the wiring is set on the auxiliary line based on the crossing relationship between the wiring and the auxiliary line set to connect the vias. Is determined to ensure at least a predetermined clearance between the wiring and the via and between the wiring.
本発明の実施例は、ビアの列方向およびこれに直交する方向については各ビア間に補助線を予め設定しておいた場合において、特に配線密度が高いビア間については、上記予め設定した補助線に加え、コンピュータが実行する図1のステップS101〜S112によって生成された補助線を追加設定するものである。例えば、図2に示す具体例においては、ビア列方向に補助線H1およびH3が、ビア列方向に直交する方向に補助線H2が、予め設定されてあるものとする。補助線H1〜H3は、図中、太い実線で示される。 In the embodiment of the present invention, when the auxiliary line is set in advance between the vias in the row direction of the vias and the direction perpendicular thereto, the above-described auxiliary auxiliary is particularly set between the vias having a high wiring density. In addition to the lines, auxiliary lines generated by steps S101 to S112 in FIG. 1 executed by the computer are additionally set. For example, in the specific example shown in FIG. 2, it is assumed that the auxiliary lines H1 and H3 are set in advance in the via row direction and the auxiliary line H2 is set in a direction orthogonal to the via row direction. The auxiliary lines H1 to H3 are indicated by thick solid lines in the figure.
図1のステップS101〜S112は、コンピュータ等の演算処理装置により、半導体パッケージの基板面に相当する仮想平面上において実行される。したがって、ステップS101を実行する前に、設計データ、クリアランスに関するルール、各ビアの座標、形状、大きさおよび向き、基板情報、ビアの列方向およびこれに直交する方向については各ビア間に補助線を予め設定される補助線、などに関するデータを、本発明の実施例による自動配線整形処理を実行するコンピュータに予め入力する。 Steps S101 to S112 in FIG. 1 are executed on a virtual plane corresponding to the substrate surface of the semiconductor package by an arithmetic processing unit such as a computer. Therefore, before executing step S101, design data, rules relating to clearance, coordinates of each via, shape, size and orientation, board information, via column direction, and auxiliary lines between vias are orthogonal to each other. Is input in advance to a computer that executes automatic wiring shaping processing according to an embodiment of the present invention.
まず、図1のステップS101において、コンピュータは、半導体パッケージの基板面に相当する仮想平面上において、複数のビアの中から第1の基準ビアを設定(選択)する。図2に示す具体例においては、コンピュータは、ビアV1を第1の基準ビアに設定する。 First, in step S101 in FIG. 1, the computer sets (selects) a first reference via from among a plurality of vias on a virtual plane corresponding to the substrate surface of the semiconductor package. In the specific example shown in FIG. 2, the computer sets the via V1 as the first reference via.
次いで、ステップS102において、コンピュータは、第1の基準ビアに対してビア列方向もしくはこれに直交する方向に予め設定された補助線である第1の補助線上に位置する、第1の基準ビアに隣接するビアを、第2の基準ビアとして設定する。図2に示す具体例においては、コンピュータは、第1の基準ビアV1に対してビア列方向に予め設定された補助線H1上に位置する、第1の基準ビアV1に隣接するビアV2を、第2の基準ビアとして設定する。 Next, in step S102, the computer sets the first reference via located on the first auxiliary line, which is an auxiliary line set in advance in the via row direction or the direction orthogonal to the first reference via. An adjacent via is set as a second reference via. In the specific example shown in FIG. 2, the computer selects a via V2 adjacent to the first reference via V1 located on the auxiliary line H1 set in advance in the via row direction with respect to the first reference via V1. Set as second reference via.
次いで、ステップS103において、コンピュータは、第2の基準ビアに対して、第1の補助線と略直交する方向に予め設定された補助線である第2の補助線上に位置する、第2の基準ビアに隣接するビアを、第3の基準ビアとして設定する。図2に示す具体例においては、コンピュータは、第2の基準ビアV2に対して、第1の補助線H1と略直交する方向に予め設定された補助線H2上に位置する、第2の基準ビアV2に隣接するビアV3を、第3の基準ビアとして設定する。 Next, in step S103, the computer sets the second reference line that is located on the second auxiliary line that is an auxiliary line set in advance in a direction substantially orthogonal to the first auxiliary line with respect to the second reference via. A via adjacent to the via is set as a third reference via. In the specific example shown in FIG. 2, the computer has a second reference located on the auxiliary line H2 set in advance in a direction substantially orthogonal to the first auxiliary line H1 with respect to the second reference via V2. A via V3 adjacent to the via V2 is set as a third reference via.
次いで、ステップS104において、コンピュータは、第1の基準ビアと第2の基準ビアとの間における第1の補助線と交差し、かついずれかのビアに接続される配線であるビア接続配線を検出する。図2に示す具体例においては、コンピュータは、第1の基準ビアV1と第2の基準ビアV2との間における補助線H1と交差し、かつビアV4に接続される配線Xを、ビア接続配線として検出する。 Next, in step S104, the computer detects a via connection wiring that intersects with the first auxiliary line between the first reference via and the second reference via and is connected to one of the vias. To do. In the specific example shown in FIG. 2, the computer replaces the wiring X that intersects the auxiliary line H1 between the first reference via V1 and the second reference via V2 and is connected to the via V4 with the via connection wiring. Detect as.
次いで、ステップS105において、コンピュータは、ビア接続配線、および第1の補助線とビア接続配線よりも第1の基準ビア側の位置で交差する配線を、第1の基準ビア側から順次、各配線間において少なくとも所定のクリアランスを確保する位置に仮配置する。第1の補助線とビア接続配線よりも第1の基準ビア側の位置で交差する配線とは、換言すれば、ビア接続配線と第1の基準ビアとの間にその経路(ルート)を有する配線のことである。図2に示す具体例においては、補助線H1とビア接続配線Xよりも第1の基準ビアV1側の位置で交差する配線とは、ビア接続配線Xと第1の基準ビアV1との間にその経路(ルート)を有する配線W1〜W3のことである。コンピュータは、ビア接続配線X、および補助線とH1ビア接続配線Xよりも第1の基準ビアV1側の位置で交差する配線W1〜W3を、第1の基準ビアV1側から順次、各配線間において少なくとも所定のクリアランスを確保する位置に仮配置する。 Next, in step S105, the computer sequentially connects the via connection wiring and the wiring that intersects the first auxiliary line at a position closer to the first reference via than the via connection wiring from the first reference via side. Temporarily arrange at a position that secures at least a predetermined clearance. In other words, the wiring that intersects the first auxiliary line at a position closer to the first reference via than the via connection wiring has a path (route) between the via connection wiring and the first reference via. It is wiring. In the specific example shown in FIG. 2, the wiring that intersects the auxiliary line H1 at a position closer to the first reference via V1 than the via connection wiring X is between the via connection wiring X and the first reference via V1. The wirings W1 to W3 having the route (route). The computer sequentially connects the via connection wiring X and the wirings W1 to W3 that intersect the auxiliary line and the H1 via connection wiring X on the first reference via V1 side from the first reference via V1 side. Are temporarily arranged at positions where at least a predetermined clearance is secured.
次いで、ステップS106において、コンピュータは、ステップS105において仮配置されたビア接続配線の第1の補助線上における位置と、第1の基準ビアと、の間の距離を半径とし、第1の基準ビアを中心とする第1の仮想円を設定する。ステップS105およびS106によって生成される第1の仮想円は、第1の基準ビアとビア接続配線の第1の補助線上における位置との間を通過する配線について各配線間を所定のクリアランスを確保することができる、ビア接続配線の最も第1の基準ビア寄りの位置の限界線を示すものである。図3に示す具体例においては、仮配置されたビア接続配線Xの補助線H1上における位置と、第1の基準ビアV1と、の間の距離を半径とし、第1の基準ビアVを中心とする第1の仮想円P1を設定する。 Next, in step S106, the computer uses the distance between the position of the via connection wiring temporarily placed in step S105 on the first auxiliary line and the first reference via as a radius, and sets the first reference via as the radius. A first virtual circle as the center is set. The first virtual circle generated in steps S105 and S106 ensures a predetermined clearance between the wirings that pass between the first reference via and the position of the via connection wiring on the first auxiliary line. The limit line at the position closest to the first reference via of the via connection wiring is shown. In the specific example shown in FIG. 3, the distance between the position of the temporarily arranged via connection wiring X on the auxiliary line H1 and the first reference via V1 is a radius, and the first reference via V is the center. A first virtual circle P1 is set.
次いで、ステップS107において、コンピュータは、ビア接続配線、および第3の基準ビアに対して予め設定された第1の補助線と並行な第3の補助線とビア接続配線よりも第3の基準ビア側の位置で交差する配線を、第3の基準ビア側から順次、各配線間において少なくとも所定のクリアランスを確保する位置に仮配置する。図2に示す具体例においては、補助線H1と並行な補助線はH3で示される。また、第3の基準ビアV3に対して予め設定された補助線H3とビア接続配線Xよりも第3の基準ビアV3側の位置で交差する配線とは、ビア接続配線Xと第3の基準ビアV3との間にその経路(ルート)を有する配線Z1〜Z4のことである。コンピュータは、第3の基準ビアV3に対して予め設定された補助線H3とビア接続配線Xよりも第3の基準ビアV3側の位置で交差する配線Z1〜Z4を、第3の基準ビアV3側から順次、各配線間において少なくとも所定のクリアランスを確保する位置に仮配置する。 Next, in step S107, the computer uses the third reference via than the via connection wiring and the third auxiliary line and via connection wiring parallel to the first auxiliary line set in advance for the third reference via. Wirings that intersect at the position on the side are provisionally arranged sequentially from the third reference via side at a position that secures at least a predetermined clearance between the respective wirings. In the specific example shown in FIG. 2, the auxiliary line parallel to the auxiliary line H1 is indicated by H3. In addition, the auxiliary line H3 set in advance with respect to the third reference via V3 and the wiring intersecting at a position closer to the third reference via V3 than the via connection wiring X are the via connection wiring X and the third reference via. The wirings Z1 to Z4 having the path (route) between the via V3. The computer replaces the auxiliary lines H3 set in advance with respect to the third reference via V3 and the wirings Z1 to Z4 that intersect at the third reference via V3 side of the via connection wiring X with the third reference via V3. In order from the side, the wires are provisionally arranged at positions where at least a predetermined clearance is secured between the wirings.
次いで、ステップS108において、コンピュータは、ステップS107において仮配置されたビア接続配線の第3の補助線上における位置と、第3の基準ビアと、の間の距離を半径とし、第3の基準ビアを中心とする第2の仮想円を設定する。ステップS107およびS108によって生成される第2の仮想円は、第3の基準ビアとビア接続配線の第3の補助線上における位置との間を通過する配線について各配線間を所定のクリアランスを確保することができる、ビア接続配線の最も第3の基準ビア寄りの位置の限界線を示すものである。図4に示す具体例においては、仮配置されたビア接続配線Xの補助線H3上における位置と、第3の基準ビアV3と、の間の距離を半径とし、第3の基準ビアV3を中心とする第2の仮想円P2を設定する。 Next, in step S108, the computer uses the distance between the position of the via connection wiring temporarily arranged in step S107 on the third auxiliary line and the third reference via as a radius, and sets the third reference via as the radius. A second virtual circle is set as the center. The second virtual circle generated in steps S107 and S108 secures a predetermined clearance between the wirings that pass between the third reference via and the position of the via connection wiring on the third auxiliary line. The limit line at the position closest to the third reference via of the via connection wiring is shown. In the specific example shown in FIG. 4, the distance between the position of the temporarily arranged via connection wiring X on the auxiliary line H3 and the third reference via V3 is a radius, and the third reference via V3 is the center. A second virtual circle P2 is set.
なお、上述のステップS105およびS106の処理とステップS107およびS108の処理とについては、互いに入れ替えて実行されても良い。 Note that the processes in steps S105 and S106 described above and the processes in steps S107 and S108 may be executed interchangeably.
次いで、ステップS109において、コンピュータは、第1の仮想円と第2の仮想円とが交差するか否かを判定する。第1の仮想円と第2の仮想円とが交差すると判定された場合はステップS110へ進み、第1の仮想円と第2の仮想円とが交差しないと判定された場合はステップS101へ戻る。図4に示す具体例においては、仮想円P1と仮想円P2とが交差しているので、処理はステップS110へ進むことになる。 Next, in step S109, the computer determines whether or not the first virtual circle and the second virtual circle intersect. If it is determined that the first virtual circle and the second virtual circle intersect, the process proceeds to step S110. If it is determined that the first virtual circle and the second virtual circle do not intersect, the process returns to step S101. . In the specific example shown in FIG. 4, since the virtual circle P1 and the virtual circle P2 intersect, the process proceeds to step S110.
上述のように第1の仮想円は、第1の基準ビアとビア接続配線の第1の補助線上における位置との間を通過する配線について各配線間を所定のクリアランスを確保することができる、ビア接続配線の最も第1の基準ビア寄りの位置の限界線を示すものである。また、第2の仮想円は、第3の基準ビアとビア接続配線の第3の補助線上における位置との間を通過する配線について各配線間を所定のクリアランスを確保することができる、ビア接続配線の最も第3の基準ビア寄りの位置の限界線を示すものである。つまり、ステップS110において第1の仮想円と第2の仮想円とが交差するということは、各配線間において所定のクリアランスを確保するのが難しいほど、第1の仮想円の中心である第1の基準ビアと第2の仮想円の中心である第3の基準ビアとの間における配線密度が高いことを意味する。このような場合は、第1の基準ビアと第3の基準ビアとの間に、補助線を追加設定する。そして予め設定しておいた補助線および上記追加設定された補助線を用いて、上記特許文献1(すなわち特開2002−92061号公報)に記載された発明を実行し、各配線間で少なくとも所定のクリアランスを確保するよう配線の位置を決定する。 As described above, the first virtual circle can secure a predetermined clearance between the wirings for the wiring that passes between the first reference via and the position of the via connection wiring on the first auxiliary line. The limit line of the position near the first reference via of the via connection wiring is shown. In addition, the second virtual circle can secure a predetermined clearance between the wirings that pass between the third reference via and the position of the via connection wiring on the third auxiliary line. The limit line of the position closest to the third reference via of the wiring is shown. That is, the intersection of the first virtual circle and the second virtual circle in step S110 means that the first virtual circle is the center of the first virtual circle so that it is difficult to secure a predetermined clearance between the wirings. This means that the wiring density between the reference via and the third reference via which is the center of the second virtual circle is high. In such a case, an auxiliary line is additionally set between the first reference via and the third reference via. Then, the invention described in Patent Document 1 (that is, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-92061) is executed using the preset auxiliary line and the additionally set auxiliary line, and at least predetermined between each wiring The position of the wiring is determined so as to ensure the clearance.
すなわち、ステップS110では、コンピュータは、第1の基準ビアと第3の基準ビアとを結ぶ直線を、第1の基準ビアと第3の基準ビアとの間にある配線の位置を各配線間で少なくとも所定のクリアランスを確保するよう決定するために用いられる補助線として追加設定する。ステップS110において追加設定された補助線に関するデータがコンピュータ内の記憶装置に記憶される。上述のように本発明の実施例による自動配線生計処理を実行する前に、ビアの列方向およびこれに直交する方向については各ビア間に補助線を予め設定しておくが、特に配線密度が高いビア間については、上記予め設定した補助線に加え、コンピュータが実行する図1のステップS101〜S112によって生成された補助線が追加設定されることになる。図4に示す具体例において仮想円P1と仮想円P2とが交差していたので、図5に示すように、補助線H4が新たに追加設定されることになる。 That is, in step S110, the computer sets a straight line connecting the first reference via and the third reference via, and sets the position of the wiring between the first reference via and the third reference via between the wirings. It is additionally set as an auxiliary line used for determining to ensure at least a predetermined clearance. Data regarding the auxiliary line additionally set in step S110 is stored in a storage device in the computer. As described above, before the automatic wiring livelihood processing according to the embodiment of the present invention is performed, auxiliary lines are set in advance between the vias in the row direction of the vias and the direction perpendicular thereto. For high vias, in addition to the preset auxiliary lines, auxiliary lines generated by steps S101 to S112 in FIG. 1 executed by the computer are additionally set. Since the virtual circle P1 and the virtual circle P2 intersect in the specific example shown in FIG. 4, the auxiliary line H4 is newly set as shown in FIG.
上述のステップS101〜S110における処理は、半導体パッケージの基板上に相当する仮想平面上にあるビア全てに対して実行される。すなわち、ステップS111では、コンピュータは、半導体パッケージの基板上に相当する仮想平面上にあるビア全てにステップS101〜S110における処理が実行されたか否かを判定する。 The processing in steps S101 to S110 described above is executed for all vias on a virtual plane corresponding to the substrate of the semiconductor package. That is, in step S111, the computer determines whether or not the processing in steps S101 to S110 has been performed on all vias on a virtual plane corresponding to the substrate of the semiconductor package.
全てのビアについてステップS101〜S110における処理が実行されてはいないと判定された場合は、ステップS101へ戻り、新たなる第1の基準ビアを設定する。新たなる第1の基準ビアは、半導体パッケージの基板上に相当する仮想平面上にあるビアのうち、未だ第1の基準ビアとしてされていないビアであればよく、例えば、第1の基準ビアに設定されていたビアに対してビア列方向もしくはこれに直行する方向に隣接するビアを、新たなる第1のビアに設定してもよい。 If it is determined that the processing in steps S101 to S110 has not been executed for all the vias, the process returns to step S101 to set a new first reference via. The new first reference via may be a via that is not yet used as the first reference via among the vias on the virtual plane corresponding to the substrate of the semiconductor package. For example, the first reference via may be the first reference via. A via that is adjacent to the set via in the via row direction or in a direction perpendicular thereto may be set as a new first via.
半導体パッケージの基板上に相当する仮想平面上にあるビア全てについてステップS101〜S110における処理が実行されると、ステップS112へ進む。ステップS112では、コンピュータは、ビア列方向もしくはこれに直交する方向に予め設定された補助線、および補助線設定ステップにおいて追加設定された補助線、を用いて、配線間において少なくとも所定のクリアランスを確保する位置に配線の位置を決定する。すなわち、上記特許文献1(すなわち特開2002−92061号公報)に記載された発明を実行して各配線間で少なくとも所定のクリアランスを確保するよう配線の位置を決定する。ステップS112において決定された配線の位置に関するデータは、コンピュータ内の記憶装置に記憶される。 When the processing in steps S101 to S110 is executed for all the vias on the virtual plane corresponding to the substrate of the semiconductor package, the process proceeds to step S112. In step S112, the computer secures at least a predetermined clearance between the wirings using the auxiliary line set in advance in the via row direction or a direction orthogonal thereto and the auxiliary line additionally set in the auxiliary line setting step. The position of the wiring is determined at the position to be performed. That is, the invention described in Patent Document 1 (that is, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-92061) is executed to determine the position of the wiring so as to ensure at least a predetermined clearance between the wirings. Data on the position of the wiring determined in step S112 is stored in a storage device in the computer.
上述した本実施例による自動配線整形装置は、コンピュータを用いて実現される。図6は、記録媒体に格納されたプログラムにより動作する本発明の実施例による自動配線整形装置の構成を示すブロック図である。 The automatic wiring shaping apparatus according to this embodiment described above is realized using a computer. FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of an automatic wiring shaping apparatus according to an embodiment of the present invention that operates according to a program stored in a recording medium.
本発明による自動配線整形をコンピュータに実行させるプログラムは、図6に示すように、記憶媒体(フレキシブルディスク、CD−ROM等の外部記憶媒体)110に格納されており、例えば、次に説明するような構成によるコンピュータにインストールされて自動配線整形装置として動作する。 A program for causing a computer to execute automatic wiring shaping according to the present invention is stored in a storage medium (external storage medium such as a flexible disk or a CD-ROM) 110 as shown in FIG. It is installed in a computer having a simple configuration and operates as an automatic wiring shaping device.
CPU111は、自動配線整形装置全体を制御する。このCPU111に、バス112を介してROM113、RAM114、HD(ハードディスク装置)115、マウスやキーボード等の入力装置116、外部記憶媒体ドライブ装置117およびLCD、CRT、プラズマディスプレイ、有機EL等の表示装置118が接続されている。CPU111の制御プログラムはROM113に格納されている。
The
本発明による自動配線整形処理を実行するプログラム(自動配線整形処理プログラム)は、記憶媒体110からHD115にインストール(記憶)される。また、RAM114には、自動配線整形処理をCPU111が実行する際の作業領域や、自動配線整形処理を実行するプログラムの一部が記憶される領域が確保されている。また、HD115には、入力データ、最終データ、さらにOS(オペレーティングシステム)等が予め記憶される。
A program (automatic wiring shaping processing program) for executing automatic wiring shaping processing according to the present invention is installed (stored) in the
まず、コンピュータの電源を投入すると、CPU111がROM110から制御プログラムを読み出し、さらにHD115からOSを読み込み、OSを起動させる。これによりコンピュータは自動配線整形処理プログラムを記憶媒体110からインストール可能な状態となる。
First, when the computer is turned on, the
次に、記憶媒体110を外部記憶媒体ドライブ装置117に装着し、入力装置116から制御コマンドをCPU111に入力し、記憶媒体110に格納された自動配線整形処理プログラムを読み取ってHD115等に記憶する。つまり自動配線整形処理プログラムがコンピュータにインストールされる。
Next, the
その後は、自動配線整形処理プログラムを起動させると、コンピュータは自動配線整形装置として動作する。オペレータは、表示装置118に表示される対話形式による作業内容と手順に従って、入力装置116を操作することで、上述した自動配線整形処理を実行することができる。処理の結果得られた「配線の最適ルートに関するデータ」は、例えば、HD115に記憶しておいて後日利用できるようにしたり、あるいは、処理結果を表示装置118に視覚的に表示するのに用いてもよい。
Thereafter, when the automatic wiring shaping processing program is activated, the computer operates as an automatic wiring shaping device. The operator can execute the above-described automatic wiring shaping process by operating the
なお、図6のコンピュータでは、記憶媒体110に記憶されたプログラムをHD115にインストールするようにしたが、これに限らず、LAN等の情報伝送媒体を介して、コンピュータにインストールされてもよいし、コンピュータに内蔵のHD115に予めインストールされておいてもよい。
In the computer shown in FIG. 6, the program stored in the
本発明は、PBGAやEBGAなどの半導体パッケージの配線の整形処理に適用することができる。本発明を特開2002−92061号公報(すなわち、上記特許文献1)に記載された発明と組み合わせて実施すれば、より効率的な自動配線設計が実現できる。本発明によれば、基板上の配線の経路(ルート)を、整形対象となる配線部分に対向する隣接物に対して少なくとも所定のクリアランスを確保するように整形するいわゆる配線整形作業を容易にすることができる。 The present invention can be applied to shaping processing of wiring of a semiconductor package such as PBGA or EBGA. If the present invention is implemented in combination with the invention described in Japanese Patent Laid-Open No. 2002-92061 (that is, Patent Document 1), more efficient automatic wiring design can be realized. According to the present invention, a so-called wiring shaping operation for shaping a wiring route on a substrate so as to secure at least a predetermined clearance with respect to an adjacent object facing a wiring portion to be shaped is facilitated. be able to.
110 記録媒体
111 CPU
112 バス
113 ROM
114 RAM
115 ハードディスク装置
116 入力装置
117 外部記憶媒体ドライブ装置
118 表示装置
110 Recording medium 111 CPU
112
114 RAM
115
Claims (10)
複数のビアの中から第1の基準ビアを設定する第1の設定ステップと、
前記第1の基準ビアに対してビア列方向もしくはこれに直交する方向に予め設定された補助線である第1の補助線上に位置する、前記第1の基準ビアに隣接するビアを、第2の基準ビアとして設定する第2の設定ステップと、
前記第2の基準ビアに対して、前記第1の補助線と略直交する方向に予め設定された補助線である第2の補助線上に位置する、前記第2の基準ビアに隣接するビアを、第3の基準ビアとして設定する第3の設定ステップと、
前記第1の基準ビアと前記第2の基準ビアとの間における前記第1の補助線と交差し、かついずれかのビアに接続される配線であるビア接続配線を検出する検出ステップと、
前記ビア接続配線、および前記第1の補助線と前記ビア接続配線よりも前記第1の基準ビア側の位置で交差する配線を、前記第1の基準ビア側から順次、各配線間において少なくとも所定のクリアランスを確保する位置に仮配置する第1の仮配置ステップと、
前記第1の仮配置ステップにおいて仮配置された前記ビア接続配線の前記第1の補助線上における位置と、前記第1の基準ビアと、の間の距離を半径とし、前記第1の基準ビアを中心とする第1の仮想円を設定する第1の仮想円設定ステップと、
前記ビア接続配線、および前記第3の基準ビアに対して予め設定された前記第1の補助線と並行な第3の補助線と前記ビア接続配線よりも前記第3の基準ビア側の位置で交差する配線を、前記第3の基準ビア側から順次、各配線間において少なくとも所定のクリアランスを確保する位置に仮配置する第2の仮配置ステップと、
前記第2の仮配置ステップにおいて仮配置された前記ビア接続配線の前記第3の補助線上における位置と、前記第3の基準ビアと、の間の距離を半径とし、前記第3の基準ビアを中心とする第2の仮想円を設定する第2の仮想円設定ステップと、
前記第1の仮想円と前記第2の仮想円とが交差するか否かを判定する判定ステップと、
前記第1の仮想円と前記第2の仮想円が交差すると前記判定ステップにおいて判定された場合、前記第1の基準ビアと前記第3の基準ビアとを結ぶ直線を、前記第1の基準ビアと前記第3の基準ビアとの間にある配線の位置を各前記配線間で少なくとも所定のクリアランスを確保するよう決定するために用いられる前記補助線として追加設定する補助線設定ステップと、
を備えることを特徴とする自動配線整形方法。 On the virtual plane corresponding to the substrate surface of the semiconductor package in which the wiring and via are formed, the position of the wiring is determined based on the crossing relationship between the wiring and the auxiliary line set to connect the vias. In the automatic wiring shaping method for determining to ensure at least a predetermined clearance between the wiring and the via and between the wiring on the auxiliary line,
A first setting step for setting a first reference via from a plurality of vias;
A via adjacent to the first reference via, which is located on a first auxiliary line which is an auxiliary line set in advance in a via row direction or a direction orthogonal to the first reference via, A second setting step for setting as a reference via of
A via adjacent to the second reference via, which is located on a second auxiliary line that is a preset auxiliary line in a direction substantially orthogonal to the first auxiliary line with respect to the second reference via. A third setting step for setting as a third reference via;
Detecting a via connection wiring that is a wiring that intersects the first auxiliary line between the first reference via and the second reference via and is connected to any via;
The via connection wiring and the wiring that intersects the first auxiliary line at a position closer to the first reference via than the via connection wiring are sequentially provided at least between the respective wirings sequentially from the first reference via side. A first temporary placement step of temporarily placing the clearance in a position for securing the clearance;
A distance between the position of the via connection wiring temporarily arranged in the first temporary arrangement step on the first auxiliary line and the first reference via is a radius, and the first reference via is A first virtual circle setting step for setting a first virtual circle as a center;
The via connection wiring and a third auxiliary line parallel to the first auxiliary line preset for the third reference via and a position closer to the third reference via than the via connection wiring. A second temporary placement step of temporarily placing the intersecting wirings sequentially from the third reference via side at a position that secures at least a predetermined clearance between the wirings;
A distance between the position of the via connection wiring temporarily arranged in the second temporary arrangement step on the third auxiliary line and the third reference via is a radius, and the third reference via is A second virtual circle setting step for setting a second virtual circle as a center;
A determination step of determining whether or not the first virtual circle and the second virtual circle intersect;
When it is determined in the determination step that the first virtual circle and the second virtual circle intersect, a straight line connecting the first reference via and the third reference via is defined as the first reference via. And an auxiliary line setting step of additionally setting the position of the wiring between the wiring and the third reference via as the auxiliary line used to determine at least a predetermined clearance between the wirings;
An automatic wiring shaping method comprising:
複数のビアの中から第1の基準ビアを設定する第1の設定ステップと、
前記第1の基準ビアに対してビア列方向もしくはこれに直交する方向に予め設定された補助線である第1の補助線上に位置する、前記第1の基準ビアに隣接するビアを、第2の基準ビアとして設定する第2の設定ステップと、
前記第2の基準ビアに対して、前記第1の補助線と略直交する方向に予め設定された補助線である第2の補助線上に位置する、前記第2の基準ビアに隣接するビアを、第3の基準ビアとして設定する第3の設定ステップと、
前記第1の基準ビアと前記第2の基準ビアとの間における前記第1の補助線と交差し、かついずれかのビアに接続される配線であるビア接続配線を検出する検出ステップと、
前記ビア接続配線、および前記第1の補助線と前記ビア接続配線よりも前記第1の基準ビア側の位置で交差する配線を、前記第1の基準ビア側から順次、各配線間において少なくとも所定のクリアランスを確保する位置に仮配置する第1の仮配置ステップと、
前記第1の仮配置ステップにおいて仮配置された前記ビア接続配線の前記第1の補助線上における位置と、前記第1の基準ビアと、の間の距離を半径とし、前記第1の基準ビアを中心とする第1の仮想円を設定する第1の仮想円設定ステップと、
前記ビア接続配線、および前記第3の基準ビアに対して予め設定された前記第1の補助線と並行な第3の補助線と前記ビア接続配線よりも前記第3の基準ビア側の位置で交差する配線を、前記第3の基準ビア側から順次、各配線間において少なくとも所定のクリアランスを確保する位置に仮配置する第2の仮配置ステップと、
前記第2の仮配置ステップにおいて仮配置された前記ビア接続配線の前記第3の補助線上における位置と、前記第3の基準ビアと、の間の距離を半径とし、前記第3の基準ビアを中心とする第2の仮想円を設定する第2の仮想円設定ステップと、
前記第1の仮想円と前記第2の仮想円が交差するか否かを判定する判定ステップと、
前記第1の仮想円と前記第2の仮想円とが交差すると前記判定ステップにおいて判定された場合、前記第1の基準ビアと前記第3の基準ビアとを結ぶ直線を、前記第1の基準ビアと前記第3の基準ビアとの間にある配線の位置を各前記配線間で少なくとも所定のクリアランスを確保するよう決定するために用いられる前記補助線として追加設定する補助線設定ステップと、
を備えることを特徴とする自動配線整形処理をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラム。 On the virtual plane corresponding to the substrate surface of the semiconductor package in which the wiring and via are formed, the position of the wiring is determined based on the crossing relationship between the wiring and the auxiliary line set to connect the vias. A computer program for causing a computer to execute automatic wiring shaping processing for determining at least a predetermined clearance between the wiring and the via and between the wiring on the auxiliary line,
A first setting step for setting a first reference via from a plurality of vias;
A via adjacent to the first reference via, which is located on a first auxiliary line which is an auxiliary line set in advance in a via row direction or a direction orthogonal to the first reference via, A second setting step for setting as a reference via of
A via adjacent to the second reference via, which is located on a second auxiliary line that is a preset auxiliary line in a direction substantially orthogonal to the first auxiliary line with respect to the second reference via. A third setting step for setting as a third reference via;
Detecting a via connection wiring that is a wiring that intersects the first auxiliary line between the first reference via and the second reference via and is connected to any via;
The via connection wiring and the wiring that intersects the first auxiliary line at a position closer to the first reference via than the via connection wiring are sequentially provided at least between the respective wirings sequentially from the first reference via side. A first temporary placement step of temporarily placing the clearance in a position for securing the clearance;
A distance between the position of the via connection wiring temporarily arranged in the first temporary arrangement step on the first auxiliary line and the first reference via is a radius, and the first reference via is A first virtual circle setting step for setting a first virtual circle as a center;
The via connection wiring and a third auxiliary line parallel to the first auxiliary line preset for the third reference via and a position closer to the third reference via than the via connection wiring. A second temporary placement step of temporarily placing the intersecting wirings sequentially from the third reference via side at a position that secures at least a predetermined clearance between the wirings;
A distance between the position of the via connection wiring temporarily arranged in the second temporary arrangement step on the third auxiliary line and the third reference via is a radius, and the third reference via is A second virtual circle setting step for setting a second virtual circle as a center;
A determination step of determining whether or not the first virtual circle and the second virtual circle intersect;
When it is determined in the determination step that the first virtual circle and the second virtual circle intersect, a straight line connecting the first reference via and the third reference via is defined as the first reference via. An auxiliary line setting step of additionally setting the position of the wiring between the via and the third reference via as the auxiliary line used for determining at least a predetermined clearance between the wirings;
A computer program for causing a computer to execute automatic wiring shaping processing characterized by comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008298361A JP2010123063A (en) | 2008-11-21 | 2008-11-21 | Automatic wiring shaping method and computer program therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008298361A JP2010123063A (en) | 2008-11-21 | 2008-11-21 | Automatic wiring shaping method and computer program therefor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010123063A true JP2010123063A (en) | 2010-06-03 |
Family
ID=42324330
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008298361A Pending JP2010123063A (en) | 2008-11-21 | 2008-11-21 | Automatic wiring shaping method and computer program therefor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010123063A (en) |
-
2008
- 2008-11-21 JP JP2008298361A patent/JP2010123063A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7673269B2 (en) | Automatic trace determination apparatus and method | |
US7469397B2 (en) | Automatic trace determination method and apparatus for automatically determining optimal trace positions on substrate using computation | |
JP3786398B2 (en) | Wiring method of semiconductor package | |
US20100037197A1 (en) | Method and apparatus for integrated circuit design | |
US7454736B2 (en) | Automatic trace determination apparatus and computer program thereof | |
JP4796817B2 (en) | Basic cell design method, layout design method, design apparatus, and program | |
US7543263B2 (en) | Automatic trace shaping method | |
US7546569B2 (en) | Automatic trace determination method | |
JP2009140397A (en) | Automatic wiring design method and computer program | |
JP2010123063A (en) | Automatic wiring shaping method and computer program therefor | |
US7627846B2 (en) | Method and apparatus for automatically shaping traces on surface of substrate of semiconductor package by using computation | |
JP4549094B2 (en) | Clearance inspection apparatus and method | |
US7607113B2 (en) | Wiring pattern determination method and computer program product thereof | |
JP2009252805A (en) | Semiconductor integrated circuit, its layout method and layout program | |
JP2009025969A (en) | Automatic wiring shaping method and computer program thereof | |
US20090007049A1 (en) | Automatic trace design method | |
US11901223B2 (en) | Stress analysis method and semiconductor device manufacturing method | |
JP3721304B2 (en) | Plating lead wire wiring method | |
JP2009151372A (en) | Automatic design method and computer program thereof | |
JP2010146406A (en) | Automatic design method and computer program thereof | |
JP2009288952A (en) | Automatic wiring design method and computer program | |
JP2006338607A (en) | Wiring shaping system, and computer program for making computer execute wiring shaping processing | |
JP2008306041A (en) | Bonding pad arrangement method | |
JP2007094511A (en) | Apparatus and method for lsi design support | |
JPH09260497A (en) | Guard ring design device |