JP2010052135A - Micropump device - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、光照射を受けてガスを発生させるガス発生材料に光を照射してガスを発生させて、当該ガスによって例えば検体、試薬、希釈液等の液体を搬送するマイクロポンプと、その制御装置とを備えているマイクロポンプ装置に関する。 The present invention relates to a micropump that generates light by irradiating light to a gas generating material that generates gas upon receiving light irradiation, and transports a liquid such as a specimen, a reagent, or a diluent by the gas, and its control The present invention relates to a micropump device including the device.
光照射を受けてガスを発生させるガス発生材料に光を照射してガスを発生させて、当該ガスをマイクロ流路に供給して、当該ガスによってマイクロ流路内の液体を搬送するマイクロポンプが従来から提案されている(例えば特許文献1、2参照)。
A micropump that generates light by irradiating light to a gas generating material that generates gas upon receiving light irradiation, supplies the gas to the microchannel, and transports the liquid in the microchannel by the gas. Conventionally, it has been proposed (see, for example,
ガス発生材料からガスが発生するのは、簡単に言えば、光照射を受けてガス発生材料の分解反応(化学反応の一種)が生じ、それによってガスが発生するからである。 In short, the gas is generated from the gas generating material because a decomposition reaction (a kind of chemical reaction) of the gas generating material occurs upon receiving light irradiation, thereby generating a gas.
上記マイクロポンプを使用する上で、そのガス発生材料からのガス発生量ひいてはマイクロポンプの送液量を制御することが重要であるけれども、その制御手段は、上記特許文献1、2には記載されていない。
In using the micropump, it is important to control the amount of gas generated from the gas generating material, and thus the amount of liquid delivered by the micropump. However, the control means is described in
上記制御手段としては、通常、次の手段が考えられる。
(1)ガス発生材料に照射する光の強度を強弱に変える。
(2)ガス発生材料に照射する光の照射時間を長短に変える。
As the above control means, the following means are usually considered.
(1) Change the intensity of light applied to the gas generating material to be strong or weak.
(2) Change the irradiation time of light applied to the gas generating material to be longer or shorter.
しかしながらこれらには次の課題がある。 However, these have the following problems.
上記(1)の場合、ガス発生材料の照射光強度に対する分解速度特性が、例えば図1中の特性A、C等のように、必ずしも特性Bのようにリニヤでないために、照射光強度の単なる強弱ではガス発生量の制御が難しい。つまり、照射光強度を少し強くすると、ガス発生材料の分解速度が急増してガス発生量が急増する場合がある。照射光強度を少し強くしたのでは、ガス発生材料の分解速度がなかなか増大せず、ガス発生量がなかなか増大しない場合もある。従って、ガス発生量の制御ひいては送液量の制御が難しい。 In the case of the above (1), since the decomposition rate characteristic of the gas generating material with respect to the irradiation light intensity is not necessarily linear like the characteristic B, such as the characteristics A and C in FIG. It is difficult to control the amount of gas generated with strength. That is, when the irradiation light intensity is slightly increased, the decomposition rate of the gas generating material increases rapidly, and the gas generation amount may increase rapidly. If the irradiation light intensity is slightly increased, the decomposition rate of the gas generating material does not increase easily, and the gas generation amount may not increase easily. Therefore, it is difficult to control the amount of gas generated and thus the amount of liquid delivered.
上記(2)の場合、光照射時間の単なる長短では、中間段階のガス発生量を精度良く実現するのが難しい。これは、少しの光照射時間の誤差が、ガス発生量に大きく影響するからである。従って、この場合も、ガス発生量の制御ひいては送液量の制御が難しい。 In the case of the above (2), it is difficult to realize the gas generation amount at an intermediate stage with high accuracy if the light irradiation time is simply long or short. This is because a slight error in the light irradiation time greatly affects the gas generation amount. Accordingly, in this case as well, it is difficult to control the amount of gas generated, and hence the amount of liquid delivered.
そこでこの発明は、ガス発生材料からのガス発生量ひいてはマイクロポンプの送液量の制御性の良いマイクロポンプ装置を提供することを主たる目的としている。 In view of this, the main object of the present invention is to provide a micropump device with good controllability of the amount of gas generated from the gas generating material, and hence the amount of liquid delivered by the micropump.
この発明に係るマイクロポンプ装置の一つは、(a)液体の流路であるマイクロ流路と、光の照射を受けてガスを発生して当該ガスを前記マイクロ流路に供給するガス発生材料と、前記ガス発生材料に光を照射する光源とを有するマイクロポンプと、(b)各ビットが前記光源を点灯させる第1レベルと消灯させる第2レベルの2状態を取ることができる一定数の複数ビットから成るパルス列パターンを繰り返すことによって、前記光源を2値状態で明滅させる制御パルス信号を前記光源に供給する制御装置とを備えていることを特徴としている。 One of the micropump devices according to the present invention includes: (a) a microchannel that is a liquid channel; and a gas generating material that generates a gas upon receiving light irradiation and supplies the gas to the microchannel. And a micropump having a light source that irradiates light to the gas generating material, and (b) a certain number of bits that can take two states: a first level at which the light source is turned on and a second level at which the light source is turned off. And a control device for supplying the light source with a control pulse signal for blinking the light source in a binary state by repeating a pulse train pattern composed of a plurality of bits.
このマイクロポンプ装置においては、制御装置から光源に供給する制御パルス信号の第1レベルのビット時に、光源が点灯してガス発生材料の分解反応が始まり、ガスが発生する。制御パルス信号の第2レベルのビット時に、光源が消灯してガス発生材料の分解反応が停止して、ガス発生は停止する。即ち、制御パルス信号に含まれる第1レベルのビット数に応じて、ガス発生材料の分解反応の持続時間が決まる。 In this micropump device, at the time of the first level bit of the control pulse signal supplied from the control device to the light source, the light source is turned on, the decomposition reaction of the gas generating material starts, and gas is generated. At the time of the second level bit of the control pulse signal, the light source is turned off, the decomposition reaction of the gas generating material is stopped, and the gas generation is stopped. That is, the duration of the decomposition reaction of the gas generating material is determined according to the number of first level bits included in the control pulse signal.
従って、制御パルス信号のパルス列パターンを構成する第1レベルのビットと第2レベルのビットとの組み合わせで、一定時間内のガス発生材料の分解量の総量(以下、「ガス発生材料みかけ分解速度」と言う。)を制御することができる。分解反応によって発生したガスは、ガス発生材料内で拡散して、マイクロ流路に湧出する。このマイクロ流路に湧出するガスの体積分だけ、マイクロ流路内の液体が搬送される。 Therefore, the total amount of decomposition of the gas generating material within a predetermined time (hereinafter referred to as “gas generating material apparent decomposition rate”) by combining the first level bits and the second level bits constituting the pulse train pattern of the control pulse signal. Can be controlled). The gas generated by the decomposition reaction diffuses in the gas generating material and flows out to the microchannel. The liquid in the microchannel is transported by the volume of the gas that flows into the microchannel.
上記のような作用によって、制御パルス信号のパルス列パターンを構成する第1レベルのビットと第2レベルのビットとの組み合わせで、ガス発生材料からのガス発生量ひいてはマイクロポンプの送液量を、中間段階を含む複数段階に精度良く制御することができる。 By the above-described operation, the combination of the first level bit and the second level bit constituting the pulse train pattern of the control pulse signal allows the amount of gas generated from the gas generating material, and hence the amount of liquid delivered by the micropump, to be intermediate. It is possible to accurately control a plurality of stages including stages.
しかも、上記制御パルス信号は光源を2値状態で明滅させるものであるので、上記ガス発生材料の照射光強度に対する分解速度特性上の一定の動作点を利用することができる。従って、上記分解速度特性がリニヤでなくても、上記ガス発生材料みかけ分解速度をほぼリニヤに制御することができる。その結果、ガス発生量の制御が容易になり、ガス発生量の制御性が良くなる。 In addition, since the control pulse signal blinks the light source in a binary state, a constant operating point on the decomposition rate characteristic with respect to the irradiation light intensity of the gas generating material can be used. Therefore, even if the decomposition rate characteristic is not linear, the apparent decomposition rate of the gas generating material can be controlled almost linearly. As a result, the control of the gas generation amount becomes easy and the controllability of the gas generation amount is improved.
この発明に係るマイクロポンプ装置が複数の前記マイクロポンプを備えていて、前記制御装置は、複数の前記マイクロポンプの各光源に、複数の前記制御パルス信号を別々に供給するものである、という構成を採用しても良い。 The micropump device according to the present invention includes a plurality of the micropumps, and the control device supplies a plurality of the control pulse signals to each light source of the plurality of micropumps separately. May be adopted.
請求項1〜5に記載の発明によれば、制御装置から光源に供給する制御パルス信号は光源を2値状態で明滅させるものであり、それによってガス発生材料の照射光強度に対する分解速度特性上の一定の動作点を利用することができるので、ガス発生材料からのガス発生量の制御性が良くなり、ひいてはマイクロポンプの送液量の制御性が良くなる。 According to the first to fifth aspects of the present invention, the control pulse signal supplied from the control device to the light source causes the light source to blink in a binary state, whereby the decomposition rate characteristic with respect to the irradiation light intensity of the gas generating material. Thus, the controllability of the gas generation amount from the gas generating material is improved, and the controllability of the liquid feed amount of the micropump is improved.
しかも、上記制御パルス信号のパルス列パターンを構成する第1レベルのビットと第2レベルのビットとの組み合わせで、ガス発生材料からのガス発生量ひいてはマイクロポンプの送液量を、中間段階を含む複数段階に精度良く制御することができる。従ってこの観点からも制御性が良い。 In addition, the combination of the first level bit and the second level bit constituting the pulse train pattern of the control pulse signal allows the amount of gas generated from the gas generating material and hence the amount of liquid delivered by the micropump to include a plurality of intermediate stages. It can be accurately controlled in stages. Therefore, controllability is also good from this viewpoint.
請求項3に記載の発明によれば次の更なる効果を奏する。即ち、マイクロポンプはガス発生室がなくてもポンプとして働くので、マイクロポンプをより小型化かつ薄型化することができる。その結果例えば、複数のマイクロポンプが大規模に集積されたマイクロポンプ装置を構成することがより容易になる。
According to invention of
請求項4に記載の発明によれば次の更なる効果を奏する。即ち、制御パルス信号は、固定長のパルス列パターンを一定周期で繰り返すものであるので、長さおよび周期が任意に変化するパルス列パターンを繰り返す場合に比べて、制御パルス信号の生成が遥かに容易になる。その結果、制御装置の構成を簡素化することができる。この効果は、マイクロポンプの数が多くなるほど顕著になる。
According to invention of
請求項5に記載の発明によれば次の更なる効果を奏する。即ち、複数のマイクロポンプを備えており、かつ制御装置は、複数のマイクロポンプの各光源に制御パルス信号を別々に供給するものであるので、一つの制御装置で複数のマイクロポンプを別々に制御することができる。従って、マイクロポンプ数の多いマイクロポンプ装置を構成することが容易になる。
According to invention of
(1)第1の実施形態
図2は、この発明に係るマイクロポンプ装置の一実施形態を示す図である。
(1) First Embodiment FIG. 2 is a diagram showing an embodiment of a micropump device according to the present invention.
このマイクロポンプ装置は、液体の流路であるマイクロ流路22と、光の照射を受けてガスを発生して当該ガスをマイクロ流路22に供給するガス発生材料34と、ガス発生材料34に光44を照射する光源42とを有するマイクロポンプ10を備えている。更に、マイクロポンプ10の光源42に、当該光源42を2値状態で明滅(即ち点灯および消灯)させる制御パルス信号CSを供給する制御装置50を備えている。
The micropump device includes a microchannel 22 that is a liquid channel, a
マイクロポンプ10は、ガス発生材料34から発生したガスをマイクロ流路22に供給することによって、供給したガスの体積分だけマイクロ流路22内の液体を搬送することができる。即ちポンプの働きをする。
The
マイクロポンプ10は、この実施形態では、マイクロ流路22に連通しているガス発生室32を更に有しており、ガス発生材料34はこのガス発生室32内に配置されている。従ってガス発生材料34は、光44の照射を受けて発生したガスをガス発生室32からマイクロ流路22に湧出させる。
In this embodiment, the
制御装置50から光源42に供給する制御パルス信号CSの一例を図3に示す。制御パルス信号CSは、図3(A)に示すように、各ビットが光源42を点灯させる実質的に一定の第1レベル(例えば高レベル)Hと、光源42を消灯させる実質的に一定の第2レベル(例えば0レベルまたは低レベル)Lの2状態を取ることができる一定数の複数ビット(図3の例は8ビット)から成るパルス列パターンPPを繰り返すことによって、図3(B)に示すように、光源42を2値状態で明滅させるものである。従って、制御パルス信号CSと、光源42の明滅パターンとは互いに同期していて、同じパターンになる。なお、図3(B)中の1は点灯状態を示し、0は消灯状態を示す(図6、図7においても同様)。
An example of the control pulse signal CS supplied from the
制御パルス信号CSの各パルス幅τは例えば10ms(ミリ秒)であり、従って光源42は高速で明滅を繰り返す。
Each pulse width τ of the control pulse signal CS is, for example, 10 ms (milliseconds). Therefore, the
制御装置50の構成は後で説明することにして、まずマイクロポンプ10の構成について詳細に説明する。
The configuration of the
図2に示すように、この実施形態では、マイクロポンプ10を構成するマイクロ流路22は流路基板20内に形成されており、ガス発生室32はポンプ基板30内に形成されている。両基板20、30は、例えば、熱融着や図示しない接着層によって互いに接着されている。但し、マイクロ流路22とガス発生室32を同一の基板内に形成しても良い。
As shown in FIG. 2, in this embodiment, the
マイクロ流路22は、例えば、50μm〜2mm程度の幅を持つ微小な流路である。このマイクロ流路22の構造、長さ等は任意である。例えば、一つのマイクロ流路22が単独で存在していても良いし、複数に分岐していても良いし、他のマイクロ流路22等と連通していても良い。
The
マイクロ流路22内を図示しない液体が流れる。液体は、例えば、水、油、生化学的緩衝液、血液、リンパ液、尿、土壌抽出水、水耕水等である。マイクロ流路22が上記のように微小であるから、上記液体は例えば液滴である。
A liquid (not shown) flows through the
マイクロ流路22は、ガス発生室32に連通する連通部24を有している。この連通部24は、例えば、幅が0.2μm〜20μm程度の1本以上の微細流路、最大孔径が5μm程度の多孔質体、または幅が50μm程度以下の撥水性の流路等である。
The
ガス発生室32の大きさは、例えば、総体積が1cm3 程度以下である。このガス発生室32は、例えば、単一の円筒状空間や多面体状空間でも良いし、複数に分岐する短い流路の集合体等でも良い。ガス発生室32の内壁には、ピラー形状や溝形状、格子形状等の凹凸が設けられていても良い。
The size of the
ガス発生材料34は、例えば光照射でガスを発生する化合物をバインダー樹脂に分散または相溶させた材料である。光照射でガスを発生する化合物は、光照射によりガスを発生する役目を果たす。バインダー樹脂は、光照射でガスを発生する化合物を固定したり、ガス発生材料に種々の機能を付加する役目を果たす。
The
光照射でガスを発生する化合物としては、光源42からの光44を受けてガスを発生させるものであれば、種類は特に限定されない。
The compound that generates a gas upon irradiation with light is not particularly limited as long as it generates light upon receiving light 44 from the
上記光照射でガスを発生する化合物としては、光分解反応によりガスを発生する化合物(A)、光酸発生剤と酸刺激ガス発生剤の混合物(B)、光塩基発生剤と塩基増殖剤の混合物(C)等を挙げることができる。これらのより具体例は後で詳述する。 Examples of the compound that generates a gas upon photoirradiation include a compound (A) that generates a gas by a photolysis reaction, a mixture (B) of a photoacid generator and an acid-stimulated gas generator, a photobase generator and a base proliferating agent. A mixture (C) etc. can be mentioned. More specific examples of these will be described later.
ガス発生材料34をガス発生室32内に配置する態様には様々なものが採り得る。例えば図示例のように、ガス発生室32の蓋をする透光性板36を設けておいて、その内面にガス発生材料34を取り付けても良い。
Various modes can be adopted for arranging the
透光性板36は、光44を透過させるものであり、例えば、(メタ)アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート(略称PET)、シクロオレフィンポリマー(略称COP)、ガラス等から成る。ポンプ基板30を透光性基板として、ポンプ基板30と透光性板36とを一体で形成しても良い。
The
あるいは、ガス発生材料34は、錠剤としてガス発生室32内に置かれても良いし、ガス発生室32の内壁に塗りつけられたり、貼りつけられたりしていても良い。不織布や織布その他の多孔質体に含浸させたガス発生材料34がガス発生室32に嵌め込まれていても良い。また、ガス発生室32の壁面を構成する部材がガス発生材料34を兼ねていても良い。
Alternatively, the
光源42としては様々なものが採り得る。制御パルス信号CSによって光源42を直接制御しても良いし、光源用制御回路(後述する光源用制御回路45参照)等を介して制御しても良い。いずれにするかは、光源42の特性等に応じて決めれば良い。
Various
光源42から発する光44の波長は、ガス発生材料34の分解反応(即ちガス発生反応)を生じさせることができるものであれば良く、特定の波長に限定されない。紫外光や近紫外光でも良い。また、単一波長でも良いし、広い発光バンド幅を有していても良い。もっとも、ガス発生材料34の分解反応を生じさせるのに都合が良い波長周辺の半値幅が10nm程度の発光バンド幅のものが好ましく、その方が効率が良い。
The wavelength of the light 44 emitted from the
光源42は、この実施形態では発光ダイオード(略称LED)であり、光源基板40上に設けられている。トランジスタ46、ダイオード48等を有する光源用制御回路45も光源基板40上に設けられている。光源基板40はポンプ基板30に実質的に対向させて配置している。光源基板40とポンプ基板30との間には、レンズや光導波路等の光学系が介在していても良い。
In this embodiment, the
光源42は、光源用制御回路45を介して、制御パルス信号CSによって制御されて、2値状態で、しかも高速で明滅を繰り返す。即ち、制御パルス信号CSが第1レベルHのときにダイオード48に順電流が流れてダイオード48の両端に実質的に一定値の順電圧が発生し、この順電圧によってトランジスタ46がオンし、それによって電源Vccから光源42に実質的に一定値の電流が流れて光源42が実質的に一定の強度で発光する。制御パルス信号CSが第2レベルLのときはトランジスタ46がオフし、光源42は消灯する。このような動作か繰り返される。これによって、前述したように、光源42は制御パルス信号CSと同じパターンで明滅を繰り返す。
The
光源用制御回路45は、上記のように光源42の特性等に応じて、必要がある場合に設けられるものであり、機能上は光源42の一部を構成している。
The light
電源Vccは定電流制御されている方が好ましく、そのようにすれば、光源42の発光強度をより一定に近付けることができる。トランジスタ46のベースに印加する電圧を高くするために、複数のダイオード48を互いに直列接続しても良い。
The power source Vcc is preferably controlled at a constant current, and by doing so, the light emission intensity of the
発光ダイオードは、応答速度が速い、高効率、低消費電力、発熱が少ない、小型で高密度実装が可能等の利点を有しており、光源42に好適である。
The light emitting diode has advantages such as high response speed, high efficiency, low power consumption, little heat generation, small size and high density mounting, and is suitable for the
より具体的には、光源42用の発光ダイオードとして、例えば、波長が330nm〜410nm程度の紫外光から紫の光44を発するもので、発光出力が10mW〜400mW程度の紫外発光ダイオードを選んでも良い。このような特性の光44は、ガス発生材料34の温度を殆ど上昇させずに済む。
More specifically, as the light emitting diode for the
光源42は、発光ダイオードに限られるものではなく、前記明滅を繰り返すことができるものであれば、その他の光源でも良い。例えば、エレクトロルミネッセンス素子(略称EL素子)、プラズマ発光素子等でも良い。更に光源42には、(a)外部電極形蛍光ランプ(EEFL)、マイクロハロゲンランプ等の連続発光の光源と光シャッターとの組み合わせによって、取り出す光を明滅させることができる光源、(b)連続発光の光源、光ファイバーおよび光セレクタの組み合わせによって、取り出す光を明滅させることができる光源、等を用いることもできる。上記光シャッター、光セレクタを制御パルス信号CSで制御すれば良い。
The
次に、制御装置50について説明する。
Next, the
制御装置50は、図2に示す実施形態では、マイクロポンプ10の出力レベルを指令するポンプ出力指令値を記憶するポンプ出力指令値記憶部52と、このポンプ出力指令値記憶部52内のポンプ出力指令値を前記制御パルス信号CSの前記パルス列パターンPPに対応するビットパターンに変換して出力するビットパターン変換部54と、このビットパターン変換部54からのビットパターンに基づいて前記制御パルス信号CSを生成する制御パルス信号生成部56とを備えている。制御パルス信号生成部56は、ビットパターン変換部54から供給されたビットパターンを記憶しておく記憶手段(例えば、メモリ、レジスタ等)を有している。
In the embodiment shown in FIG. 2, the
図4に、上記ポンプ出力指令値、ビットパターンおよび光44の照射エネルギーの対応関係の一例を示す。図3では、図示の簡略化のためにパルス列パターンPPが8ビットの例を示したが、この図4の例は、ビットパターンは20ビットであり、従ってそれに対応するパルス列パターンPPも20ビットになる。即ち、このビットパターン中の論理値1のビットがパルス列パターンPP中の第1レベルHのビットに対応し、論理値0のビットが第2レベルLのビットに対応している。換言すれば、パルス列パターンPPは、このビットパターンの1をHに、0をLに読み替えたような構造をしている。
FIG. 4 shows an example of the correspondence relationship between the pump output command value, the bit pattern, and the irradiation energy of the light 44. FIG. 3 shows an example in which the pulse train pattern PP is 8 bits for simplification of illustration, but in this example of FIG. 4, the bit pattern is 20 bits, so the corresponding pulse train pattern PP is also 20 bits. Become. That is, a bit having a
ポンプ出力指令値は、マイクロポンプ10の出力レベルを0から最大までの複数レベル(段階)に指令するものである。図4に示す例では、0〜15までの16段階である。
The pump output command value commands the output level of the
この各ポンプ出力指令値がビットパターン変換部54によって各ビットパターンに変換され、各ビットパターンが制御パルス信号生成部56によってパルス列パターンPPに変換され、かつ当該パルス列パターンPPを繰り返して出力することによって制御パルス信号CSが生成される。この制御パルス信号CSを光源42に供給することによって、光源42を前述したように明滅させて、ガス発生材料34に照射する光44の各照射エネルギーを実現することができる。
Each pump output command value is converted into each bit pattern by the
より具体的には、各ビットパターンは、各ポンプ出力指令値にそれぞれ対応するものであり、ポンプ出力指令値が大きくなるほど、論理値1のビットの数が増えている。制御パルス信号生成部56は、このビットパターン中の1を所定のパルス幅τ(図3参照)で上記第1レベルHのパルスに変換し、0を所定のパルス幅τで上記第2レベルLのパルスに変換してパルス列パターンPPを生成し、かつこのパルス列パターンPPを繰り返して出力して、上記制御パルス信号CSを生成して出力する。
More specifically, each bit pattern corresponds to each pump output command value, and as the pump output command value increases, the number of bits of
この実施形態では、制御パルス信号CSの各ビットのパルス幅τは互いに等しくかつ一定であり、パルス列パターンPPは一定周期で繰り返される。即ち、制御パルス信号CSは、固定長のパルス列パターンPPを一定周期で繰り返すものである。パルス幅τは例えば10ms(ミリ秒)であり、従って光源42は高速で明滅を繰り返す。但し、パルス幅τは10msに限られるものではなく、10ms以下でも良いし、10ms以上でも良い。例えば100ms程度でも良い。
In this embodiment, the pulse width τ of each bit of the control pulse signal CS is equal and constant, and the pulse train pattern PP is repeated at a constant period. That is, the control pulse signal CS repeats a fixed-length pulse train pattern PP at a constant period. The pulse width τ is, for example, 10 ms (milliseconds), and thus the
上記照射エネルギーは、単位時間当たりの照射エネルギーのことであり、その単位の次元はW/m2 、この実施形態ではmW/cm2 である(図5も参照)。 The irradiation energy is that the irradiation energy per unit time, the dimension of the unit is W / m 2, in this embodiment is mW / cm 2 (see also FIG. 5).
上記ポンプ出力指令値、照射エネルギーおよびマイクロポンプ10の出力(即ち流量または送液量)の間には、それぞれ、図5に示す例のように、光源42およびガス発生材料34の特性等に応じて、実質的に一定の対応関係がある。この各対応関係は、必ずしもリニヤである必要はない。実質的に一定の関係があれば良い。この対応関係を利用することによって、ポンプ出力指令値によって、所望の流量を実現することができる。 Between the pump output command value, the irradiation energy, and the output of the micro pump 10 (that is, the flow rate or the liquid delivery amount), as shown in the example shown in FIG. Thus, there is a substantially constant correspondence. Each of these correspondences is not necessarily linear. It is sufficient if there is a substantially constant relationship. By utilizing this correspondence, a desired flow rate can be realized by the pump output command value.
上記ビットパターンおよびパルス列パターンPPのビット数は上記8ビットや20ビットに限られるものではなく、一定数の複数ビットであれば上記例以外のビット数でも良い。例えば、4ビッド、16ビット、32ビット等でも良い。ビット数が多い方が、ガス発生材料34からのガス発生量ひいてはマイクロポンプ10の送液量を、より多くの段階に制御することができる。
The number of bits of the bit pattern and the pulse train pattern PP is not limited to the above 8 bits or 20 bits, and may be other than the above example as long as it is a fixed number of bits. For example, 4 bits, 16 bits, 32 bits, etc. may be used. When the number of bits is larger, the amount of gas generated from the
制御装置50の全部または一部を、例えばマイクロコンピュータまたはパーソナルコンピュータによって実現しても良い。後述する他の実施形態における制御装置50も同様である。
All or part of the
この実施形態のマイクロポンプ装置においては、制御装置50から光源42に供給する制御パルス信号CSの第1レベルHのビット時に、光源42が点灯してガス発生材料34の分解反応が始まり、ガスが発生する。制御パルス信号CSの第2レベルLのビット時に、光源42が消灯してガス発生材料34の分解反応が停止して、ガス発生は停止する。即ち、制御パルス信号CSに含まれる第1レベルHのビット数に応じて、ガス発生材料34の分解反応の持続時間が決まる。
In the micropump device of this embodiment, at the time of the first level H bit of the control pulse signal CS supplied from the
従って、制御パルス信号CSのパルス列パターンPPを構成する第1レベルHのビットと第2レベルLのビットとの組み合わせで、一定時間内のガス発生材料34の分解量の総量、即ち前述したガス発生材料みかけ分解速度を制御することができる。分解反応によって発生したガスは、ガス発生材料34内で拡散して、前述したようにマイクロ流路22に湧出する。このマイクロ流路22に湧出するガスの体積分だけ、マイクロ流路22内の液体が搬送される。
Therefore, the combination of the first level H bit and the second level L bit constituting the pulse train pattern PP of the control pulse signal CS, the total amount of decomposition of the
上記のような作用によって、制御パルス信号CSのパルス列パターンPPを構成する第1レベルHのビットと第2レベル間のビットとの組み合わせで、ガス発生材料34からのガス発生量ひいてはマイクロポンプ10の送液量を、中間段階を含む複数段階に精度良く制御することができる。
By the above-described action, the amount of gas generated from the
しかも、上記制御パルス信号CSは光源42を2値状態で明滅させるものであるので、前述した(図1参照)ガス発生材料34の照射光強度に対する分解速度特性上の一定の動作点を利用することができる。例えば、図1中の線12との交点における動作点を利用することができる。従って、上記分解速度特性がリニヤでなくても、上記ガス発生材料みかけ分解速度をほぼリニヤに制御することができる。その結果、ガス発生量の制御が容易になり、ガス発生量の制御性が良くなる。
Moreover, since the control pulse signal CS blinks the
なお、上記ビットパターンは、図4に示す例のように、ポンプ出力指令値が0以外のときは、即ちマイクロポンプ10の出力を0にするとき以外は、0のビットが4ビット以上連続しないようにしても良い。パルス列パターンPPで言えば、マイクロポンプ10の出力を0にするとき以外は、第2レベルLのビットが4ビット以上連続しないようにしても良い。そのようにすると、ガス発生材料34から発生するガスのリップルを少なくすることができる。
In the above bit pattern, as shown in the example of FIG. 4, when the pump output command value is other than 0, that is, when the output of the
図5は、図4に示したビットパターンに基づいて生成した制御パルス信号CSによってマイクロポンプ10を(より具体的にはその光源42を)制御したときの特性を測定した結果の一例を示すものである。 FIG. 5 shows an example of the result of measuring the characteristics when the micropump 10 (more specifically, the light source 42) is controlled by the control pulse signal CS generated based on the bit pattern shown in FIG. It is.
この測定に用いたマイクロポンプ10は、上記光分解反応によりガスを発生する化合物(A)系の化合物を用いたガス発生材料34を、直径8mm、深さ2mmのガス発生室32内に配置した構造のものである。光源42には、ピーク波長365nm、発光出力100mW、指向性100度の紫外発光ダイオードを用いた。
In the
光源42から発する光44の照射エネルギーは、ガス発生材料34に代えて、光パワーメータを置いて測定した値である。流量は、深さ50μm、幅200μmの矩形断面を持つ直線状のマイクロ流路22に水滴を導入してマイクロポンプ10で送液を行い、ビデオ画像の分析から求めた。
The irradiation energy of the light 44 emitted from the
この図5からも分かるように、ポンプ出力指令値に従って、マイクロポンプ10の流量を、中間段階を含む多段階に精度良く制御することができた。
As can be seen from FIG. 5, according to the pump output command value, the flow rate of the
なお、制御パルス信号CSは、前述したように固定長のパルス列パターンPPを一定周期で繰り返すものが好ましく、それによって、長さおよび周期が任意に変化するパルス列パターンを繰り返す場合に比べて、制御パルス信号CSの生成が遥かに容易になる。その結果、制御装置50の構成を簡素化することができる。この効果は、マイクロポンプ10の数が多くなるほど顕著になる。
As described above, the control pulse signal CS is preferably a signal having a fixed-length pulse train pattern PP that repeats at a constant cycle, so that the control pulse signal CS can be compared with a case in which a pulse train pattern whose length and cycle are arbitrarily changed is repeated. The generation of the signal CS is much easier. As a result, the configuration of the
例えば、マイクロポンプ10の数が多くなると、パルス列パターンPPの長さおよび周期を任意に許した場合、各マイクロポンプ用の制御パルス信号CSの生成が面倒になり、制御装置50が複雑になるけれども、上記のような制御パルス信号CSを用いればそのような不都合を防止することができる。従って、大規模に集積されたマイクロポンプ装置を構成する場合にも有利になる。
For example, when the number of
また、ガス発生材料34は、光源42の点灯による光照射によって開始された当該ガス発生材料34の分解反応が、光源42の消灯時から制御パルス信号CSの各ビットのパルス幅τ以下の時間内に終結するものが好ましい。このようなガス発生材料34の例は後述する。このような、いわゆる応答性の良いガス発生材料34を用いると、光源42の消灯時に速やかにガス発生材料34の分解反応を停止させることができるので、分解反応の不所望な蓄積を抑えて、所望のガス発生量を正確に実現することが容易になる。ひいては、マイクロポンプ10の所望の送液量を正確に実現することが容易になる。
In addition, the
光源42の消灯時に速やかに分解反応が停止するガス発生材料34の応答性の一例を図6に示し、それよりも応答性の悪い例を図7に示す。両図は概略図であり、かつ図示を簡略化するために、光源42の明滅パターンの1周期を3ビットにしている(図6(A)、図7(A)参照)。
FIG. 6 shows an example of the response of the
図6(B)に示すように、ガス発生材料34の分解反応が光源42の消灯時から上記パルス幅τ以下の時間内に終結する場合は、光源42の明滅パターンを繰り返しても、ガス発生材料34の分解反応の不所望な蓄積を抑えることができるので、所望のガス発生量G1 を正確に実現することが容易になる(図6(C)参照)。
As shown in FIG. 6B, when the decomposition reaction of the
一方、図7(B)に示すように、ガス発生材料34の分解反応が光源42の消灯時から上記パルス幅τ以下の時間内に終結しない場合は、光源42の明滅パターンを繰り返すと、ガス発生材料34の分解反応が徐々に蓄積され、それに伴ってガス発生量が徐々に増えるので、所望のガス発生量G1 を正確に実現することが難しくなる(図7(C)参照)。
On the other hand, as shown in FIG. 7B, when the decomposition reaction of the
制御装置50のポンプ出力指令値記憶部52は、それに記憶している前記ポンプ出力指令値を、マイクロポンプ10の動作中または動作前に書き替え可能なものであっても良い。この書き替えは、例えば、ディップスイッチのような直接的な手段によって行うようにしても良いし、ソフトウエアによって行うようにしても良い。
The pump output command
ポンプ出力指令値記憶部52を上記のように書き替え可能にものにすることによって、ポンプ出力指令値の変更を速やかにマイクロポンプ10の出力レベルに反映させて、マイクロポンプ10の出力を速やかに変更することができる。
By making the pump output command
(2)ガス発生材料34の例
前述したように、ガス発生材料34は、例えば光照射でガスを発生する化合物をバインダー樹脂に分散または相溶させた材料である。光照射でガスを発生する化合物は、光照射によりガスを発生する役目を果たす。バインダー樹脂は、光照射でガスを発生する化合物を固定したり、ガス発生材料に種々の機能を付加する役目を果たす。
(2) Examples of the
光照射でガスを発生する化合物としては、光分解反応によりガスを発生する化合物(A)、光酸発生剤と酸刺激ガス発生剤の混合物(B)、光塩基発生剤と塩基増殖剤の混合物(C)等を挙げることができる。 Compounds that generate gas upon photoirradiation include compounds (A) that generate gas by photolysis reaction, mixtures of photoacid generators and acid-stimulated gas generators (B), and mixtures of photobase generators and base proliferators. (C) etc. can be mentioned.
光分解反応によりガスを発生する化合物(A)の具体例としては、例えば、2,2’−アゾビス−(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)などのアゾ化合物や、3−アジドメチル−3−メチルオキセタンなどのアジド化合物、酸素原子含有量が15〜55重量%のポリオキシアルキレン樹脂などが挙げられる。 Specific examples of the compound (A) that generates gas by a photolysis reaction include, for example, azo compounds such as 2,2′-azobis- (N-butyl-2-methylpropionamide), 3-azidomethyl-3- Examples thereof include azide compounds such as methyl oxetane, and polyoxyalkylene resins having an oxygen atom content of 15 to 55% by weight.
光酸発生剤と酸刺激ガス発生剤の混合物(B)の具体例としては、(a)光照射により効率的に分解し、強酸を発生させる従来公知の光酸発生剤、例えば、キノンジアジド化合物、オニウム塩、スルホン酸エステル類及び有機ハロゲン化合物からなる群から選ばれた少なくとも1種、より好ましくは、スルホン酸オニウム塩、ベンジルスルホン酸エステル、ハロゲン化イソシアヌレート及びビスアリールスルホニルジアゾメタンからなる群から選ばれた少なくとも1種と、(b)酸の刺激すなわち酸の作用によりガスを発生する酸刺激ガス発生剤、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、セスキ炭酸ナトリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸カルシウム、水素化ホウ素ナトリウム等との組み合わせが挙げられる。 Specific examples of the mixture (B) of the photoacid generator and the acid stimulating gas generator include (a) a conventionally known photoacid generator that decomposes efficiently by light irradiation and generates a strong acid, such as a quinonediazide compound, At least one selected from the group consisting of onium salts, sulfonic acid esters and organic halogen compounds, more preferably selected from the group consisting of sulfonic acid onium salts, benzyl sulfonic acid esters, halogenated isocyanurates and bisarylsulfonyldiazomethanes. And (b) an acid stimulating gas generating agent that generates gas by the action of an acid, that is, the action of an acid, such as sodium bicarbonate, sodium carbonate, sodium sesquicarbonate, magnesium carbonate, potassium carbonate, potassium bicarbonate , Calcium carbonate, sodium borohydride, etc. It is.
光塩基発生剤と塩基増殖剤の混合物(C)の具体例としては、(a)光照射により分解し、ガス状の塩基を発生させる光塩基発生剤、例えば、コバルトアミン系錯体、カルバミン酸o−ニトロベンゼン、オキシウムエステル、カルバモイルオキシイミノ基含有化合物と、(b)塩基ガスと反応することによって、塩基ガスを発生する塩基増殖剤、例えば、9−フルオレニルカルバメート誘導体との組み合わせが挙げられる。 Specific examples of the mixture (C) of the photobase generator and the base proliferator include (a) a photobase generator that decomposes by light irradiation to generate a gaseous base, such as a cobaltamine complex, carbamate o -A combination of a nitrobenzene, oxinium ester, carbamoyloxyimino group-containing compound and (b) a base proliferating agent that generates a base gas by reacting with the base gas, for example, a 9-fluorenyl carbamate derivative. .
バインダー樹脂は、光照射でガスを発生する化合物を固定したり、ガス発生材料34に種々の機能を付加するために添加されるものである。
The binder resin is added to fix a compound that generates a gas upon light irradiation or to add various functions to the
光照射でガスを発生させる化合物を固定するバインダー樹脂としては、アクリル系、エポキシ系の樹脂が好適に用いられる。しかしながら、光照射でガスを発生する化合物を分散または相溶させるという目的に合致するものであれば、これらに限定されるものではない。バインダー樹脂そのものが、光刺激によるガス発生能を有していてもよい。例えば、酸素原子を15〜55重量%含むポリオキシアルキレン樹脂は、光照射により自ら分解しつつガスを発生する。 As a binder resin for fixing a compound that generates a gas upon irradiation with light, an acrylic resin or an epoxy resin is preferably used. However, it is not limited to these as long as it meets the purpose of dispersing or compatibilizing a compound that generates a gas upon irradiation with light. The binder resin itself may have a gas generating ability by light stimulation. For example, a polyoxyalkylene resin containing 15 to 55% by weight of oxygen atoms generates gas while being decomposed by light irradiation.
ガス発生材料34は、支持部材に付着されていても良い。支持部材は、例えば不織布により形成されている。不織布の表面に、上記ガス発生材料を付着させて用いることにより、ガス発生室32内にガス発生材料34のみを充填させた場合に比べて、ガス発生材料の単位体積当りの表面積を増加させ、それによって、ガスの発生効率を高めることができる。すなわち、繊維状部材である不織布では、多数の繊維が集合されて絡み合っており、繊維間の隙間から発生したガスが速やかに外部に放出される。上記不織布の各繊維の表面に上記ガス発生材料が付着されるように、ガス発生材料が不織布に含浸されて付着されている。この場合、支持部材を構成している不織布に、ガス発生材料が付着した段階においても、不織布の繊維間の隙間が残存する程度にガス発生材料が付着されている。そのため、光の照射によりガスが発生すると、ガスが上記隙間から速やかに外部に放出されることとなる。
The
支持部材として、例えば不織布が用いられているが、不織布以外の、他の繊維状部材を用いてもよい。すなわち、綿、ガラス繊維、ポリエチレンテレフタレートやアクリルなどの合成繊維、パルプ繊維、金属繊維などが集合し、絡み合っている適宜の繊維状部材を支持部材として用いることができる。 For example, a nonwoven fabric is used as the support member, but other fibrous members other than the nonwoven fabric may be used. That is, an appropriate fibrous member in which synthetic fibers such as cotton, glass fiber, polyethylene terephthalate and acrylic, pulp fiber, and metal fiber are gathered and intertwined can be used as the support member.
また、繊維状部材に限らず、発生したガスが外部に速やかに放出され得る限り、繊維状部材だけでなく、繊維状部材を含む様々な多孔性部材を支持部材として用いることができる。ここで、多孔性部材とは、外表面に連なった多数の孔を有する部材を広く含むものとし、上記不織布などのように、繊維間の隙間が外部に連なっている部材もまた多孔性部材に含めることとする。 In addition to the fibrous member, various porous members including not only the fibrous member but also the fibrous member can be used as the support member as long as the generated gas can be quickly released to the outside. Here, the porous member widely includes a member having a large number of holes connected to the outer surface, and a member having a gap between fibers connected to the outside, such as the above-mentioned nonwoven fabric, is also included in the porous member. I will do it.
従って、上記繊維状部材以外に、内部から外表面に連なる多数の孔が形成されている、例えば、スポンジ、破泡処理発泡体、多孔質ゲル、粒子融着体、ガス圧補助拡厚成形体、ハニカム構造体、筒状ビーズ、波折チップスなどの多孔性材料も上記支持部材を構成する多孔性部材として好適に用いることができる。また、ピラー等の表面積を大きくする工夫も好ましく施される。 Therefore, in addition to the above fibrous member, a large number of holes are formed from the inside to the outer surface. For example, sponges, foam-breaking foams, porous gels, particle fusion bodies, gas pressure-assisted thickening moldings Porous materials such as honeycomb structures, cylindrical beads, and folded chips can also be suitably used as the porous member constituting the support member. Moreover, the device which enlarges surface areas, such as a pillar, is also preferably given.
また、上記支持部材の材質は、特に限定されず、様々な無機材料または有機材料を用いることができる。このような無機材料としては、ガラス、セラミック、金属、または金属酸化物、有機材料としては、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリエステル、ナイロン、セルロース、アセタール樹脂、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、またはポリイミドなどを用いることができる。 The material of the support member is not particularly limited, and various inorganic materials or organic materials can be used. As such an inorganic material, glass, ceramic, metal, or metal oxide, and as an organic material, polyolefin, polyurethane, polyester, nylon, cellulose, acetal resin, acrylic, polyethylene terephthalate, polyamide, polyimide, or the like is used. Can do.
バインダー樹脂の含有により、ガス発生材料34を所望の形状に加工することが容易となる。例えば、フィルム状などの固形のガス発生材料34を容易に得ることができる。従って、図15を参照して後で説明するマイクロポンプ10のように、フィルム状、テープ状のような薄いガス発生材料34を用いる場合にも適している。
By containing the binder resin, the
バインダー樹脂は、粘着性を付与するために、例えば、粘接着剤樹脂を含むものであってもよい。ガス発生材料34にバインダーとして粘接着剤樹脂を含有させることにより、ガス発生材料34と基板(例えば図15中の基板21。以下同様)との粘着性、接着性を高めることができる。
The binder resin may include, for example, an adhesive resin in order to impart tackiness. By making the
なお、上記粘接着剤樹脂は、光照射で粘着性が低下しないものが好ましい。これによって、ガス発生材料34に対する光照射が開始された後もガス発生材料34と基板との高い粘接着性を維持することができるからである。また上記粘接着剤樹脂は、例えば、光照射によって架橋されないものであることが好ましい。
In addition, as said adhesive agent resin, what does not reduce adhesiveness by light irradiation is preferable. This is because high adhesiveness between the
上記粘接着剤樹脂の具体例としては、例えば、ゴム系粘接着剤樹脂、(メタ)アクリル系粘接着剤樹脂、シリコーン系粘接着剤樹脂、ウレタン系粘接着剤樹脂、スチレン−イソプレン−スチレン共重合体系粘接着剤樹脂、スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体粘接着剤樹脂、エポキシ系粘接着剤樹脂、イソシアネート系粘接着剤樹脂等が挙げられる。 Specific examples of the above adhesive resin include, for example, rubber-based adhesive resin, (meth) acrylic adhesive resin, silicone-based adhesive resin, urethane-based adhesive resin, and styrene. -Isoprene-styrene copolymer-based adhesive resin, styrene-butadiene-styrene copolymer adhesive resin, epoxy-based adhesive resin, isocyanate-based adhesive resin, and the like.
ガス発生材料34には、光照射でガスを発生する化合物とバインダー樹脂の他に、光増感剤が添加されてもよい。光増感剤の具体例としては、例えばチオキサントン、ベンゾフェノン、アセトフェノン類、ポルフィリンなど既知の増感剤が挙げられる。
A photosensitizer may be added to the
ガス発生材料34は、光照射でガスを発生する化合物とバインダー樹脂の他に、必要に応じて、従来知られている種々の添加剤を更に含んでいてもよい。そのような添加剤としては、例えば、カップリング剤、可塑剤、界面活性剤、安定剤等を挙げることができる。また、多孔質体、フィラー、金属箔、マイクロカプセルその他の粒子と複合化されていてもよい。ガス発生材料34に分散された多孔質体、フィラー、金属箔、マイクロカプセルその他の粒子は、ガスの拡散を見かけ上早くするのに役立つ。
The
上に挙げたガス発生材料34は、いずれも、光源42の消灯と共に速やかにガス発生反応が停止する。即ち、前述した応答性の良いガス発生材料34として適している。
In any of the
上記ガス発生材料34には、必要に応じて、更に連鎖反応抑制剤が配合されてもよい。
If necessary, the
連鎖反応抑制剤としては、t−ブチルカテコール、ヒロドキノン、メチルエーテル、カタラーゼ、グルタチオンペルオキシダーゼ、スーパーオキシドディスムターゼ系酵素ビタミンC、ビタミンE、ポリフェノール類、リノレイン酸等の既知のラジカルスカベンジャーが挙げられるが、これに限られるわけではなく、連鎖反応を抑制する効果があるものであれば、何でもよい。 Examples of the chain reaction inhibitor include known radical scavengers such as t-butylcatechol, hydroquinone, methyl ether, catalase, glutathione peroxidase, superoxide dismutase enzyme vitamin C, vitamin E, polyphenols, and linolenic acid. However, the present invention is not limited to this, and may be anything as long as it has an effect of suppressing the chain reaction.
なお、連鎖反応抑制剤は、連鎖反応における連鎖成長段階を部分的に抑制するものであって、連鎖開始段階を抑制するものではない。
The chain reaction inhibitor partially suppresses the chain growth stage in the chain reaction and does not suppress the chain initiation stage.
(3)マイクロポンプ装置の他の実施形態に共通の説明
図8〜図12に示す各実施形態の説明においては、先に説明した実施形態(例えば図2に示す実施形態)と同一または相当する部分には同一符号を付し、先に説明した実施形態との相違点を主体に説明する。
(3) Description Common to Other Embodiments of Micropump Device In the description of each embodiment shown in FIGS. 8 to 12, it is the same as or corresponds to the above-described embodiment (for example, the embodiment shown in FIG. 2). The same reference numerals are given to the portions, and differences from the above-described embodiment will be mainly described.
図8〜図12に示す各マイクロポンプ装置は、それぞれ、前述したようなマイクロポンプ10を複数備えている。但し、各マイクロポンプ10等の図示を簡略化している。各マイクロポンプ10等の詳細は、各図よりも前の実施形態の説明、例えば図2に示す実施形態の説明を参照するものとする。
Each of the micropump devices shown in FIGS. 8 to 12 includes a plurality of
複数のマイクロポンプ10をそれぞれ構成する各マイクロ流路22は、一つの流路基板20に設けられていても良いし、別々の部材に設けられていても良い。各ガス発生室32も、一つのポンプ基板30に設けられていても良いし、別々の部材に設けられていても良い。各光源42も、一つの光源基板40に設けられていても良いし、別々に設けられていても良い。
Each
マイクロポンプ10の数は、図8〜図12に示す例では、図示の簡略化のために比較的少ない数で図示しているが、これらの例のものに限らない。複数のマイクロポンプ10の各マイクロ流路22(図2参照)は、互いに独立していても良いし、一部または全部が互いに連通していても良い。また、複数のマイクロポンプ10は、1次元に配列されていても良いし、2次元に配列されていても良い。
In the example shown in FIGS. 8 to 12, the number of the
図8〜図12に示す各制御装置50は、それぞれ、複数のマイクロポンプ10の各光源42に、複数の制御パルス信号CS1 〜CS4 (またはCS1 〜CS8 等)を別々に供給するものである。各制御パルス信号CS1 〜CS4 (またはCS1 〜CS8 等)は、前記制御パルス信号CSと同様のものである。従って、一つの制御装置50で複数のマイクロポンプ10を別々に制御することができる。その結果、マイクロポンプ数の多いマイクロポンプ装置を構成することが容易になる。
Each of the
(4)第2の実施形態
図8に示す実施形態では、制御装置50は、各マイクロポンプ10の出力レベルをそれぞれ指令する複数のポンプ出力指令値を記憶するポンプ出力指令値記憶部52aと、このポンプ出力指令値記憶部52a内の各ポンプ出力指令値を各マイクロポンプ10用の制御パルス信号CS1 〜CS4 の前記パルス列パターンPPにそれぞれ対応する複数のビットパターンにそれぞれ変換して出力するビットパターン変換部54aと、このビットパターン変換部54aからの各ビットパターンに基づいて各マイクロポンプ10用の制御パルス信号CS1 〜CS4 をそれぞれ生成して、当該制御パルス信号CS1 〜CS4 をパラレルに出力する制御パルス信号生成部56aとを備えている。この各制御パルス信号CS1 〜CS4 が、各光源42にそれぞれ供給される。
(4) Second Embodiment In the embodiment shown in FIG. 8, the
制御パルス信号生成部56aは、ビットパターン変換部54aから供給された複数のビットパターンを記憶しておく記憶手段(例えば、メモリ、レジスタ等)を有している。
The control pulse
所望のマイクロポンプ10を停止させるには、当該マイクロポンプ10用のポンプ出力指令値を0にすれば良い。後述する他の実施形態においても同様である。
In order to stop the desired
ポンプ出力指令値記憶部52aは、それに記憶している複数のポンプ出力指令値を、マイクロポンプ10の動作中または動作前に書き替え可能なものであっても良い。ポンプ出力指令値記憶部52aを上記のように書き替え可能にものにすることによって、ポンプ出力指令値の変更を速やかに、対応するマイクロポンプ10の出力レベルに反映させて、対応するマイクロポンプ10の出力を速やかに変更することができる。以上のことは、図9〜図12に示すポンプ出力指令値記憶部52aについても言える。
The pump output command
(5)第3の実施形態
図9に示す実施形態では、制御装置50は、図8で説明したようなポンプ出力指令値記憶部52aおよびビットパターン変換部54aと、当該ビットパターン変換部54aからの各マイクロポンプ10用の各ビットパターンを構成するビット情報をシリアルに出力するシリアルデータ生成部58と、このシリアルデータ生成部58からの前記ビット情報に基づいて各マイクロポンプ10用の制御パルス信号CS1 〜CS4 ・・・をパラレルに生成して、当該制御パルス信号CS1 〜CS4 ・・・をパラレルに出力する制御パルス信号生成部56bとを備えている。この各制御パルス信号CS1 〜CS4 ・・・が、各光源42にそれぞれ供給される。
(5) Third Embodiment In the embodiment shown in FIG. 9, the
シリアルデータ生成部58から制御パルス信号生成部56bへの信号は、伝送路64を用いて伝送される。伝送路64は、例えば有線、無線、赤外線等のいずれでも良いし、インターネットを経由しても良い。
A signal from the serial
制御パルス信号生成部56bは、この実施形態では、光源基板40に搭載している。制御パルス信号CS1 〜CS4 ・・・の信号線をできるだけ短くするためである。この制御パルス信号生成部56bは、配置上はシリアルデータ生成部58等と離れているけれども、機能上は制御装置50の一部を構成している。図10に示す制御パルス信号生成部56cも同様である。
The control
シリアルデータ生成部58は、例えば、ビットパターン変換部54aから供給される複数のビットパターンを記憶するビットパターン記憶部(例えばメモリ、レジスタ等)と、このビットパターン記憶部からパラレルに取り出したビット情報を1ビットずつシリアルに出力する並直列データ変換器とを有している。この並直列データ変換器は、例えばシフトレジスタである。
The serial
制御パルス信号生成部56bは、シリアルデータ生成部58からシリアルに送られて来るビット情報を、各マイクロポンプ10用のビットパターンに並び替えてパラレルに出力する直並列データ変換器を有している。この直並列データ変換器は、例えばシフトレジスタである。
The control pulse
後の説明を簡略化するために、上記ビットパターン変換部54aおよびシリアルデータ生成部58を含む回路を、変換回路60と呼ぶことにする。
In order to simplify the following description, a circuit including the bit
この実施形態では、シリアルデータ生成部58から制御パルス信号生成部56bへ、複数のマイクロポンプ10用の各ビットパターンを構成するビット情報をシリアルに伝送することができるので、伝送路64の数を少なくすることができる。しかもマイクロポンプ10の数がいくら増えても、必要な伝送路64の数は変らない。
In this embodiment, since the bit information constituting each bit pattern for the plurality of
例えば、ビット情報を伝送する伝送路64は1本で済む。これに加えて補助信号(例えば図10に示すクロック信号CLKおよびラッチ信号LCHに相当するもの)を伝送するとしても、伝送路64の数は3本程度で済む。しかもマイクロポンプ10の数をいくら増やしても、伝送路64の数は上記本数で変らない。
For example, only one
その結果、制御パルス信号生成部56bを複数のマイクロポンプ10の光源42に近付けて配置し、それらと分離して、制御装置50の残りの構成要素(即ちポンプ出力指令値記憶部52aおよび変換回路60)を配置することが容易になるので、配線処理が簡単になると共に、装置構成の自由度が大幅に増大する。以上の効果は、マイクロポンプの数が多くなるほど顕著になる。
As a result, the control pulse
例えばこの実施形態のように、制御パルス信号生成部56bは光源42と同じ光源基板40に搭載し、制御装置50の残りの構成要素は光源基板40と離して任意の位置に配置することができる。
For example, as in this embodiment, the control
しかも、マイクロポンプ数の増大にも容易に対応することができる。例えば、マイクロポンプ10の数が40〜200程度、あるいはそれ以上に増えると、図8に示した実施形態では、制御装置50と光源基板40との間の制御パルス信号CS1 ・・・の信号線の数もマイクロポンプ10と同数になり、従ってその配線処理が面倒になる。これに対して、この実施形態では、制御パルス信号生成部56bを各光源42に近付けて配置することができるので、例えば制御パルス信号生成部56bを光源42と同じ光源基板40に搭載することができるので、制御パルス信号CS1 ・・・の信号線の配線は非常に短くて済み、従ってその配線処理が容易になる。マイクロポンプ10の数がいくら増えても、伝送路60の数は上述したように変らない。従ってマイクロポンプ数の増大にも容易に対応することができるので、大規模に集積されたマイクロポンプ装置を構成することが容易になる。
Moreover, it is possible to easily cope with an increase in the number of micropumps. For example, the number of about 40 to 200
(6)第4の実施形態
図10に示す実施形態では、制御装置50は、各マイクロポンプ10の出力レベルをそれぞれ指令する複数のポンプ出力指令値を記憶するポンプ出力指令値記憶部52aと、シリアルのビット情報の伝送を同期させるクロック信号CLKを生成するクロック信号生成部76と、当該クロック信号CLKをマイクロポンプ10の数だけカウントしてラッチ信号LCHを生成するラッチ信号生成部78とを備えている。
(6) Fourth Embodiment In the embodiment shown in FIG. 10, the
ポンプ出力指令値記憶部52aは、例えば、図8、図9に示したポンプ出力指令値記憶部52aと同様のものである。但しこの実施形態では、このポンプ出力指令値記憶部52aからは、次に述べるビットパターン変換部54bによって、ポンプ出力指令値は一つずつ取り出される。
The pump output command
クロック信号生成部76は、所定の周期で、例えば0.25ms周期で、クロック信号CLKを出力する。
The
ラッチ信号生成部78は、クロック信号CLKをマイクロポンプ10の数だけカウントする度に1パルスを出力する。これがラッチ信号LCHである。例えば、クロック信号CLKの周期が0.25ms、マイクロポンプ10の数が40の場合、0.25×40=10msごとに1パルスが出力される。即ち、ラッチ信号LCHの周期はこの例では10msである。
The
制御装置50は、更に、ポンプ出力指令値記憶部52a内の各ポンプ出力指令値を、一つのポンプ出力指令値ずつクロック信号CLKのタイミングで順次取り出して、マイクロポンプ10用の前記制御パルス信号CSの前記パルス列パターンPPに対応するビットパターンに変換して出力するビットパターン変換部54bと、このビットパターン変換部54bから出力される一つのポンプ出力指令値のビットパターンを記憶するビットパターンレジスタ72と、このビットパターンレジスタ72内のビットパターンからクロック信号CLKのタイミングごとに1ビットのビット情報を取り出し、かつ当該ビット情報を取り出す位置をラッチ信号LCHに従って一つずつシフトすることによって、複数のマイクロポンプ10用の複数のビットパターンの同一桁のビット情報をシリアルビットパターンSBとして出力するビットセレクタ74とを備えている。
The
ビットパターン変換部54bは、この実施形態では、ポンプ出力指令値記憶部52a内の各ポンプ出力指令値を、一つのポンプ出力指令値ずつクロック信号CLKのタイミングで巡回しながら順次取り出して出力する巡回セレクタ70と、この巡回セレクタ70から一つのポンプ出力指令値が出力される度にそれをビットパターンに変換して出力する変換部71とを備えている。この変換部71は、例えば、図2に示したビットパターン変換部54と実質的に同じ機能を有している。
In this embodiment, the bit
ビットパターンレジスタ72は、変換部71から一つのビットパターンが出力される度に、最新の一つのビットパターンを記憶する。
The bit pattern register 72 stores the latest one bit pattern each time one bit pattern is output from the
ビットセレクタ74の動作を、図14を参照しながら説明する。この図14は、理解を容易にするために、便宜的に、複数のビットパターンを桁を揃えて並べたものであり、複数のビットパターンが実際に図14に示すようにマトリクス状に配列されているわけではない。また、この図14では、説明を簡略化するために、ポンプが四つ、各ビットパターンが8ビットの場合を例示しているが、これに限られるものではない。
The operation of the
ビットパターンレジスタ72には、クロック信号CLKのタイミング(例えば0.25ms)ごとに、例えば、初めはポンプ番号1のビットパターン、次はポンプ番号2のビットパターン、・・・というように、一つのビットパターンが順次上書きされて行く。ビットパターンレジスタ72に記憶されるのは、あくまでも一つのビットパターンである。
In the bit pattern register 72, for each timing of the clock signal CLK (for example, 0.25 ms), for example, a bit pattern of
ビットセレクタ74は、ビットパターンレジスタ72内のビットパターンからクロック信号CLKのタイミングごとに1ビットのビット情報を取り出す。ところが、上記のようにビットパターンレジスタ72内のビットパターンはクロック信号CLKのタイミングごとに上書きされて行くので、結局、ビットセレクタ74は、図14に示す例えば第1桁のビット情報を、クロック信号CLKのタイミングごとに1ビットずつ順次取り出して出力することになる。これが、上述した、複数のビットパターンの同一桁のビット情報をシリアルビットパターンSBとして出力することである。そして、ビットセレクタ74は、ラッチ信号LCHの変化のタイミング(例えば立下り。以下同様)ごとに、ビット情報を取り出す桁を一つずつシフトする。例えば第2桁、第3桁、・・・とシフトする。
The
以上のような動作によって、ビットセレクタ74からは、例えば、ポンプ番号1〜4の第1桁の各1ビットがシリアルになった(換言すれば時系列になった)シリアルビットパターンSBが出力され、次いでポンプ番号1〜4の第2桁のシリアルビットパターンSBが出力され、以下同様にしてポンプ番号1〜4の第8桁のシリアルビットパターンSBが出力され、以降は上記と同様の動作が繰り返される。
By the operation as described above, the
制御装置50は、更に、ビットセレクタ74からの前記シリアルビットパターンSB、クロック信号生成部76からのクロック信号CLKおよびラッチ信号生成部78からのラッチ信号LCHをそれぞれ伝送する3本の伝送路65〜67と、この伝送路65〜67からのシリアルビットパターンSB、クロック信号CLKおよびラッチ信号LCHを取り込むシフトレジスタ57を有していて、シリアルビットパターンSBに基づいて、各マイクロポンプ10用の前記制御パルス信号CS1 〜CS8 をパラレルに生成して、当該制御パルス信号CS1 〜CS8 をパラレルに出力する制御パルス信号生成部56cとを備えている。この各制御パルス信号CS1 〜CS8 が、各光源42にそれぞれ供給される。
The
伝送路65〜67は、例えば、有線、無線、赤外線等のいずれでも良いし、インターネットを経由しても良い。
For example, the
制御パルス信号生成部56cは、図10に示す例では、互いに直列接続された二つのシフトレジスタ57を有しているが、これに限られるものではなく、シフトレジスタ57の数は、そのビット数(出力端子数)とマイクロポンプ10の数との関係で決めれば良い。即ち、マイクロポンプ10の数に一つのシフトレジスタ57のビット数が不足していれば、不足を解消することができる数のシフトレジスタ57を互いに直列接続すれば良い。図10中の符号SBIはシリアルビットパターンSBの入力端子、符号SBOは溢れたシリアルビットパターンSBの出力端子である。
In the example shown in FIG. 10, the control
各シフトレジスタ57は、公知のシフトレジスタであり、上記ビットセレクタ74における動作とほぼ反対の動作によって、取り込んだシリアルビットパターンSBのビット情報を、クロック信号CLKのタイミングごとに各マイクロポンプ10用に振り分け、ラッチ信号LCHのタイミングごとにパラレルに出力する。ラッチ信号LCHのタイミング間(例えば上記10ms)は、直前の状態を保持している。このような動作によって、二つのシフトレジスタ57から、即ち制御パルス信号生成部56cから、上記制御パルス信号CS1 〜CS8 をパラレルに出力することができる。
Each
後の説明を簡略化するために、上記ビットパターン変換部54b、ビットパターンレジスタ72、ビットセレクタ74、クロック信号生成部76およびラッチ信号生成部78を含む回路を、変換回路60aと呼ぶことにする。
In order to simplify the following description, a circuit including the bit
この実施形態では、ビットパターンレジスタ72は一つのポンプ出力指令値のビットパターンを記憶することができるものであれば良いので、マイクロポンプ10の数が増大しても、ビットパターンレジスタ72の容量を増大させる必要がない。つまり、制御装置50に必要とする記憶部の容量を小さく抑えることができる。従って、制御装置50の小型化かつ低コスト化を図ることができると共に、マイクロポンプ数の多い大規模なマイクロポンプ装置を構成することがより容易になる。
In this embodiment, the bit pattern register 72 only needs to be able to store the bit pattern of one pump output command value. Therefore, even if the number of
それに加えて、各マイクロポンプ10用のビットパターンを構成するビット情報をシリアルに伝送する方式であるので、図9に示した実施形態の効果と同様の効果を奏することができる。
In addition, since the bit information constituting the bit pattern for each
即ち、マイクロポンプ10の数に依らずに、伝送路65〜67の数を3本にすることができる。また、制御パルス信号生成部56cを複数のマイクロポンプ10の光源42に近付けて配置し、例えば光源基板40に搭載し、それと分離して、制御装置50の残りの構成要素を配置することが容易になるので、配線処理が簡単になると共に、装置構成の自由度が増大する。従ってマイクロポンプ数の増大にも容易に対応することができるので、大規模に集積されたマイクロポンプ装置を構成することが容易になる。
That is, the number of
(7)第5の実施形態
図11に示す実施形態では、制御装置50は、図10に示したポンプ出力指令値記憶部52aおよび変換回路60aに加えて、外部から与えられるコマンド列COMを解釈して、ポンプ出力指令値記憶部52a内の複数のポンプ出力指令値を、マイクロポンプ10の動作中または動作前に書き替えるコマンドインタープリタ86を備えている。このコマンドインタープリタ86は、図12に示すコマンドインタープリタ86aと違って、ポンプ出力指令値記憶部52a内のポンプ出力指令値を書き替える動作を、コマンド列COMに応答してすぐに実行する。
(7) Fifth Embodiment In the embodiment shown in FIG. 11, the
光源基板40の構成は図10に示す実施形態と同様のものであるので、ここでは図示を簡略化している。図12に示す実施形態においても同様である。
Since the configuration of the
コマンド列COMは、例えば、複数のマイクロポンプ10のポンプ番号、ポンプ出力指令値、ポンプの起動、ポンプの停止等を指令するコマンドを含んでいる。
The command sequence COM includes, for example, commands for instructing pump numbers, pump output command values, pump activation, pump stop, and the like of the plurality of
コマンド列COMは、例えば、ASCII(アスキー。American Standard Code for Information Interchangeの略称)文字による対話的なコマンド列である。 The command sequence COM is, for example, an interactive command sequence using ASCII (ASCII, abbreviation for American Standard Code for Information Interchange) characters.
コマンドインタープリタ86へは、例えば、外部装置80から、通信部82、84を介して、上記コマンド列COMが与えられる。外部装置80は、例えば、パーソナルコンピュータである。コマンド列COMを伝送する手段としては、有線方式、無線方式、赤外線方式、インターネット経由等の公知の手段が採り得る。
For example, the command sequence COM is given to the
この実施形態では、制御装置50が上記のようなコマンドインタープリタ86を備えているので、外部から与えられるコマンド列COMによって、個々のマイクロポンプ10の動作および出力を、任意のタイミングで動的に制御することができる。従って、各マイクロポンプ10の制御がより柔軟かつ容易になる。
In this embodiment, since the
(8)第6の実施形態
図12に示す実施形態では、制御装置50は、図11に示したコマンドインタープリタ86の代わりに、コマンドインタープリタ86a、イベント情報記憶部88、タイマー90、プリフェッチ部92およびイベントマネジメント部94を有している。
(8) Sixth Embodiment In the embodiment shown in FIG. 12, the
コマンドインタープリタ86aは、外部から与えられるコマンド列COMを解釈して、ポンプ番号、ポンプ出力指令値および実行予約時刻を組とするイベント情報(これはイベントクロージャーとも呼ばれる)を複数生成する。
The
一つのイベント情報の構成の一例を図13(A)に示す。実行予約時刻、ポンプ番号およびポンプ出力指令値が組になっている。このような複数のイベント情報から成るイベント情報列の一例を図13(B)に示す。この例では、実行予約時刻、ポンプ番号およびポンプ出力指令値は、いずれも、整数で表現されている。但しこれに限られるものではない。 An example of the configuration of one piece of event information is shown in FIG. Scheduled execution time, pump number, and pump output command value are a set. FIG. 13B shows an example of an event information sequence composed of such a plurality of event information. In this example, the execution reservation time, pump number, and pump output command value are all expressed as integers. However, it is not limited to this.
コマンドインタープリタ86aに与えられる上記コマンド列COMには、この実施形態では、上記実行予約時刻を指令するコマンドも含まれている。
In this embodiment, the command sequence COM given to the
イベント情報記憶部88は、コマンドインタープリタ86aからの複数の上記イベント情報を記憶する。具体的には、図13(B)に例示したようなイベント情報列を記憶する。
The event information storage unit 88 stores a plurality of the event information from the
タイマー90は、基準となる時刻を刻むものである。
The
プリフェッチ部92は、イベント情報記憶部88から複数のイベント情報をそれらの実行より先に取り出すものである。より具体的には、上記イベント情報列から実行予約時刻順にイベント情報を取り出す。
The
イベントマネジメント部94は、プリフェッチ部92内に取り出されたイベント情報内の実行予約時刻とタイマー90の時刻とを比較して、時刻が実行予約時刻に達しているイベント情報があれば、当該イベント情報内のポンプ番号のポンプ出力指令値をポンプ出力指令値記憶部52aに与えて、対応するポンプ番号のポンプ出力指令値を書き替える。これによって、対応するマイクロポンプ10の出力が変更される。
The
この実施形態では、制御装置50が上記のようなコマンドインタープリタ86a、イベント情報記憶部88、イベントマネジメント部94等を備えているので、外部から与えられるコマンド列COMに基づくイベント情報を記憶しておいて、個々のマイクロポンプ10をそれらの実行予約時刻にそれぞれ制御することができる。即ち、個々のマイクロポンプ10を、外部装置80の制御下から離れて、言わば自律的に制御することができる。しかも、制御装置50は外部から与えられるコマンド列COMに基づくイベント情報を記憶しておくので、制御装置50にコマンド列を常時与える必要はなく、従ってコマンド列COMの通信速度上の制約がなくなる。その結果、より大規模に集積されたマイクロポンプ装置にも対応することができる。
In this embodiment, since the
イベント情報記憶部88を不揮発性の記憶手段を用いて構成しても良く、そのようにすれば、外部装置80からコマンド列COMを与えた後に制御装置50の電源を切断し更に再起動しても、自律的に個々のマイクロポンプ10の出力を制御することができる。
The event information storage unit 88 may be configured by using a non-volatile storage unit. In such a case, after the command sequence COM is given from the
なお、図11に示すコマンドインタープリタ86等を用いる技術思想や、図12に示すコマンドインタープリタ86a、イベントマネジメント部94等を用いる技術思想を、図1、図8、図9に示す制御装置50に適用しても良い。
The technical idea using the
(9)マイクロポンプ10の他の例
マイクロポンプ10は、前記ガス発生室32を有していなくても良い。要は、光源42からの光44の照射を受けてガス発生材料34から発生したガスをマイクロ流路22に供給すれば良く、それによって前述したポンプの働きをするからである。即ち、ガス発生材料34から発生したガスをマイクロ流路22に供給することによって、供給したガスの体積分だけマイクロ流路22内の液体を搬送することができ、ポンプとして働く。
(9) Other examples of the
ガス発生室32を有していないマイクロポンプ10の一例を図15に示す。
An example of the
このマイクロポンプ10は、基板21内に形成されておりかつ当該基板21の主面に開いた開口25を有しているマイクロ流路22と、基板21の前記主面にマイクロ流路22の開口25を覆って配置されているガス発生材料34と、このガス発生材料34の、前記マイクロ流路22の開口25を覆う領域に光44を照射する光源42とを有している。
The
基板21とガス発生材料34とは、例えば、図示しない接着層によって接着されている。
The
上記光源42に、例えば図1に示す制御装置50から前記制御パルス信号CSが供給される。マイクロポンプ装置は、上記マイクロポンプ10を複数有していても良く、その場合は、各マイクロポンプ10の各光源42に、例えば図8〜図12に示す制御装置50から複数の前記制御パルス信号CS1 、CS2 、・・・が別々に供給される。
The control pulse signal CS is supplied to the
マイクロ流路22、ガス発生材料34、光源42、制御装置50等の説明は、これ以前の実施形態の説明を参照するものとし、ここでは重複説明を省略する。
For the description of the
ガス発生材料34の表面に、ガスを阻止するものであって透光性のガスバリア層37を配置しておいても良い。そのようにすれば、ガス発生材料34で発生したガスをより効率良くマイクロ流路22に供給することができるので、マイクロ流路22において高いガス圧を得ることが容易になる。
A light-transmitting
基板21、ガス発生材料34およびガスバリア層37は、例えば、フィルム状、テープ状等の形状をしていても良い。
The
上記のようなマイクロポンプ10によれば、マイクロポンプ10のより小型化、薄型化が可能になる。その結果、例えば、多数のマイクロポンプ10が大規模に集積されたマイクロポンプアレイを構成することも容易になる。
According to the
10 マイクロポンプ
20 流路基板
21 基板
22 マイクロ流路
25 開口
30 ポンプ基板
32 ガス発生室
34 ガス発生材料
40 光源基板
42 光源
44 光
50 制御装置
52 ポンプ出力指令値記憶部
52a ポンプ出力指令値記憶部
54、54a、54b ビットパターン変換部
56、56a、56b、56c 制御パルス信号生成部
58 シリアルデータ生成部
64〜67 伝送路
70 巡回セレクタ
71 変換部
72 ビットパターンレジスタ
74 ビットセレクタ
76 クロック信号生成部
78 ラッチ信号生成部
80 外部装置
86、86a コマンドインタープリタ
88 イベント情報記憶部
90 タイマー
92 プリフェッチ部
94 イベントマネジメント部
CS 制御パルス信号
PP パルス列パターン
SB シリアルビットパターン
CLK クロック信号
LCH ラッチ信号
COM コマンド列
DESCRIPTION OF
Claims (5)
(b)各ビットが前記光源を点灯させる第1レベルと消灯させる第2レベルの2状態を取ることができる一定数の複数ビットから成るパルス列パターンを繰り返すことによって、前記光源を2値状態で明滅させる制御パルス信号を前記光源に供給する制御装置とを備えているマイクロポンプ装置。 (A) a micro-channel that is a liquid channel, a gas generating material that receives light irradiation to generate a gas and supplies the gas to the micro-channel, and a light source that irradiates the gas generating material with light A micropump having:
(B) The light source is blinked in a binary state by repeating a pulse train pattern composed of a fixed number of a plurality of bits each bit can take two states of a first level for turning on the light source and a second level for turning off the light source. And a control device that supplies a control pulse signal to the light source.
(b)各ビットが前記光源を点灯させる第1レベルと消灯させる第2レベルの2状態を取ることができる一定数の複数ビットから成るパルス列パターンを繰り返すことによって、前記光源を2値状態で明滅させる制御パルス信号を前記光源に供給する制御装置とを備えているマイクロポンプ装置。 (A) a micro flow channel that is a liquid flow channel, a gas generation chamber that communicates with the micro flow channel, and a gas generation chamber that is disposed in the gas generation chamber and is irradiated with light to generate gas. A micropump having a gas generating material for causing a gas to flow from the gas generating chamber to the micro flow path, and a light source for irradiating the gas generating material with light;
(B) The light source is blinked in a binary state by repeating a pulse train pattern composed of a fixed number of a plurality of bits each bit can take two states of a first level for turning on the light source and a second level for turning off the light source. And a control device that supplies a control pulse signal to the light source.
(b)各ビットが前記光源を点灯させる第1レベルと消灯させる第2レベルの2状態を取ることができる一定数の複数ビットから成るパルス列パターンを繰り返すことによって、前記光源を2値状態で明滅させる制御パルス信号を前記光源に供給する制御装置とを備えているマイクロポンプ装置。 (A) a liquid channel, a micro channel formed in the substrate and having an opening opened in the main surface of the substrate; and the micro channel in the main surface of the substrate A micro-pump having a gas generating material disposed so as to cover the opening of the gas source, and a light source that irradiates light to a region of the gas generating material that covers the opening of the micro-channel,
(B) The light source is blinked in a binary state by repeating a pulse train pattern composed of a fixed number of a plurality of bits each bit can take two states of a first level for turning on the light source and a second level for turning off the light source. And a control device that supplies a control pulse signal to the light source.
前記制御装置は、複数の前記マイクロポンプの各光源に、複数の前記制御パルス信号を別々に供給するものである請求項1ないし4のいずれかに記載のマイクロポンプ装置。 The micropump device includes a plurality of the micropumps,
5. The micropump device according to claim 1, wherein the control device separately supplies a plurality of the control pulse signals to each light source of the plurality of micropumps. 6.
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