[go: up one dir, main page]

JP2009246338A - 配線基板およびその製造方法 - Google Patents

配線基板およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2009246338A
JP2009246338A JP2008331661A JP2008331661A JP2009246338A JP 2009246338 A JP2009246338 A JP 2009246338A JP 2008331661 A JP2008331661 A JP 2008331661A JP 2008331661 A JP2008331661 A JP 2008331661A JP 2009246338 A JP2009246338 A JP 2009246338A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
wiring board
hollow portion
hole
view
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008331661A
Other languages
English (en)
Inventor
Muneyuki Iwata
宗之 岩田
Takatoshi Tojo
孝俊 東條
Masayuki Deguchi
雅之 出口
Naohito Nakagawa
尚人 中川
Satoshi Hirano
聡 平野
Yutaka Toyama
豊 外山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Niterra Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Spark Plug Co Ltd filed Critical NGK Spark Plug Co Ltd
Priority to JP2008331661A priority Critical patent/JP2009246338A/ja
Publication of JP2009246338A publication Critical patent/JP2009246338A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

【課題】複数のセラミック層を積層してなり、内部に中空部、その底面に形成した単一の導体層、および該中空部と表面または外壁面などとの間を貫通する貫通孔を有し、形状・寸法精度に優れた配線基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】複数のセラミック層s1〜s6を積層してなり、平面視が矩形の表面3、裏面4、およびこれらの間に位置する4つの外壁面5a,5bを有する基板本体2と、該基板本体2の内部に形成され、且つ上記複数のセラミック層s1〜s6のうち、最上層と最下層のセラミック層s1,s6および下層側のセラミック層s5を除いた中層のセラミック層s2〜s4の内側に形成された中空部6と、該中空部6の床面7を形成する下層側のセラミック層s5の表面に平面形状に形成された単一の導体層10と、中空部6の天井面9と基板本体2の表面3との間を貫通する複数の貫通孔h1と、を含む、配線基板1a。
【選択図】図1

Description

本発明は、複数のセラミック層を積層してなり、基板本体の内部に中空部およびその底面に単一の導体層を有し、且つ該中空部と基板本体の表面あるいは外壁面との間に貫通孔を有する配線基板およびその製造方法に関する。
複数のセラミック層を積層した多層セラミック基板を製造するに際し、厚みのあるグリーンシートを使用した場合、該グリーンシートに含まれる樹脂バインダの樹脂成分が脱脂工程で十分に抜けきらず、かかるグリーンシートを含む複数のグリーンシートの積層体を焼成する工程において、剥離(デラミネーション)や割れ(破裂)に至る場合がある。
前記のような剥離や割れを防ぐため、複数の内部電極(導体層)が形成されるグリーンシートの切断線上に、貫通孔を形成して、脱脂工程でガス抜きの作用せしめるセラミック積層品の製造方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開平9−183112号公報 (第1〜4頁、図1〜3)
一方、複数のセラミック層と、これらの間に配置すべきベタ状で且つ広い面積の導体層とを積層してなるセラミック基板も提案されている(例えば、特許文献2参照)。
特開2003−298462号公報 (図12,14)
前記特許文献2のようなセラミック基板においては、広い面積の導体層を有する複数のグリーンシートの積層体を脱脂する際にも、樹脂バインダが十分に抜け出ないため、セラミック層と導体層との境界やセラミック層同士の境界に、残留した樹脂成分の膨張による変形(通称フクレ)を生じることがある。更に、グリーンシート間に広い面積の導体層が位置するため、広い面積の導体層に隣接するセラミック層同士や、セラミック層と導体層とが剥離(デラミネーション)してしまう場合もあった。
本発明は、背景技術において説明した問題点を解決し、複数のセラミック層を積層してなり、内部に中空部、その底面に形成した単一の導体層、および該中空部と表面あるいは外壁面との間を連通する貫通孔を有し、形状および寸法精度に優れた配線基板およびその製造方法を提供する、ことを課題とする。
課題を解決するための手段および発明の効果
本発明は、前記課題を解決するため、複数のセラミック層が積層された基板本体の表面あるいは外壁面と、該基板本体の内部に形成された中空部の天井面あるいは内壁面との間に、貫通孔を形成する、ことに着層して成されたものである。
即ち、本発明の配線基板(請求項1)は、複数のセラミック層を積層してなり、平面視が矩形の表面、裏面、およびこれらの間に位置する4つの外壁面を有する基板本体と、かかる基板本体の内部に形成され、且つ上記複数のセラミック層のうち、少なくとも最上層と最下層のセラミック層を除いた少なくとも1層からなる中層のセラミック層の内側に形成された中空部と、かかる中空部の床面を形成する上記下層側のセラミック層の表面に平面形状に形成された単一の導体層と、を含み、上記中空部の天井面と上記基板本体の表面との間、上記中空部の内壁面と上記基板本体の表面との間、および上記中空部の内壁面と上記基板本体の外壁面との間のうち、少なくとも1つに貫通孔が貫通している、ことを特徴とする。
これによれば、前記中空部および何れかの前記貫通孔によって、単一の前記導体層が形成されるセラミック層やこれに隣接するセラミック層となる各グリーンシートなどに含まれていた樹脂バインダを脱脂時に、前記中空部および貫通孔を通じて、容易且つ十分に外部に放出させている。そのため、上記導体層とこれに隣接するセラミック層との境界、あるいは該セラミック層同士の境界に、前記破裂による変形や剥離などが形成されておらず、形状および寸法精度に優れた配線基板とすることが可能となる。
尚、前記セラミックには、アルミナなどを主成分とする高温焼成セラミックや、あるいはセラミック以外にガラス成分を含有するガラス−セラミックなどの低温焼成セラミックが含まれる。
また、前記中空部は、少なくとも最上層と最下層のセラミック層を除いた1層または複数層の中層のセラミック層の内側に形成され、底面、内壁面(側面または円周面)、および天井面を有している。最下層のセラミック層の真上に更に下層側のセラミック層が形成され、かかるセラミック層の表面が上記床面となる形態も含まれる。
更に、前記導体層は、中空部の床面を形成する前記セラミック層の表面において、例えば、平面視でベタ状などにして形成された単一の導体層であり、中空部の床面積の50%以上を占める。
また、前記導体層は、セラミック層が前記高温焼成セラミックの場合には、WまたはMoあるいはWまたはMo合金などが用いられ、前記低温焼成セラミックの場合には、AgまたはCuなどが用いられる。
更に、同じ形態の前記貫通孔は、1つの中空部に対し、1個または複数個が形成される。
加えて、2つの異なる形態の前記貫通孔は、1つの中空部に対し、これら2つの形態を併用しても良い。
また、本発明には、前記貫通孔の平面視あるいは側面視における断面積は、前記中空部の平面視あるいは側面視における断面積よりも小さい、配線基板(請求項2)も含まれる。
これによれば、前記中空部の平面視あるいは側面視における断面積に対して、前記貫通孔の平面視あるいは側面視における断面積が小さいので、貫通孔に対し平面視あるいは側面視で大きな中空部となる。その結果、前記導体層が形成されるセラミック層などとなるグリーンシートなどに含まれていた樹脂バインダを脱脂時に、前記中空部および何れかの貫通孔を通じて、容易且つ十分に外部に放出できるため、前記変形や剥離などが生じていないと共に、前記中空部の天井面が凹むような変形が抑制された配線基板となる。
更に、本発明には、前記貫通孔の内径は、0.06〜0.5mmである、配線基板(請求項3)も含まれる。
これによれば、貫通孔の内径が小径であることで、相対的に中空部の平面視あるいは側面視における面積が大きくなるため、前記樹脂バインダの抜き出しが十分行われ、中空部の天井面が凹むような変形が抑制された配線基板となる。
尚、前記貫通孔の内径が0.06mm未満になると、実用的なパンチングなどの孔明け加工による穿孔が困難となり、且つ前記樹脂バインダの放出が不十分となる。一方、前記内径が0.5mmを越えると、かかる貫通孔の周囲に位置する前記中空部の天井面が凹むおそれが生じ易くなる。これらのため、貫通孔の内径を前記範囲としたものである。
また、本発明には、複数の前記貫通孔の平面視あるいは側面視における総断面積は、前記中空部の平面視あるいは側面視における面積の0.5〜3%である、配線基板(請求項4)も含まれる。
これによれば、複数の貫通孔の平面視あるいは側面視における総断面積が、1つの中空部に対して前記範囲に規制されるため、前記樹脂バインダの放出が十分に行われ、且つ各貫通孔の周囲における前記中空部の天井面が凹むおそれが抑制された配線基板となる。
尚、複数の貫通孔の総断面積が、前記中空部の前記面積の0.5%未満になると、樹脂バインダの放出が不十分となり、一方、上記総断面積が3%を越えると、前記中空部の天井面における貫通孔の付近が凹むおそれが生じ易くなる。これらのため、複数の貫通孔の総断面積を前記範囲としたものである。
更に、本発明には、前記単一の導体層の平面視における面積は、前記中空部の床面を形成する前記下層側のセラミック層の表面の平面視における面積よりも小さい、配線基板(請求項5)も含まれる。
これによれば、前記導体層の外側または周囲に中空部の床面を形成する前記下層側のセラミック層の表面が位置するため、かかるセラミック層とこれに隣接するセラミック層との境界における前記剥離を皆無とした配線基板となる。
また、本発明には、前記基板本体の表面と前記中空部の内壁面との間を貫通する貫通孔は、平面視で上記中空部の外側に位置する基板本体の表面に開口し、且つ側面視で全体がほぼL字形を呈するものである、配線基板(請求項6)も含まれる。
これによれば、上記貫通孔は、一端が平面視で上記中空部の外側に位置する基板本体の表面に開口し、他端が中空部の内壁面に開口すると共に、側面視で全体がほぼL字形を呈するように形成されている。そのため、製造時の積層・圧着工程や焼成工程などにおいて、最上層のセラミック層となるグリーンシートが中空部側に垂れ下がる(凹形状の)変形を生じていないので、中空部の天井面に比較的広く平坦な単一の導体層を形成した配線基板とすることができる。
更に、本発明には、前記中空部は、前記中層のセラミック層に形成された仕切り壁によって、複数個に分割され、それぞれが平面視で六角形を呈し、且つ全体がハニカムコア状に配列されている、配線基板(請求項7)も含まれる。
これによれば、中空部が複数の六角形からなり、且つこれらがハニカムコア状に配列されているため、前記各セラミック層となる複数のグリーンシートを積層した後、圧着する際にその圧力に十分に対抗できる。しかも、個々の中空部の天井面に貫通孔が形成されているため、製造時の圧着・脱脂・焼成工程において、樹脂バインダが各中空部から貫通孔を通じて十分抜き出され、且つ各中空部の天井面が凹まず、前記変形や剥離のない配線基板となる。
また、本発明には、前記中空部は、前記中層のセラミック層に形成された仕切り壁によって、互いに平行な平面視で複数の長方形に分割されているか、あるいは、それぞれが平面視で複数の円形に分割されている、配線基板(請求項8)も含まれる。
これによれば、中空部が互いに平行な複数の長方形に分割されているか、複数の円形に分割されているため、前記圧着時の圧力に十分に対抗できる。しかも、個々の中空部の天井面に貫通孔が形成されていると共に、単一の導体層が個々の中空部の床面に形成され、且つ仕切り壁の内部には進入しないため、前記有機バインダの樹脂抜きが確実に行われ、前記変形や剥離のなく、且つ各中空部の天井面が凹んでいない配線基板となる。
更に、本発明には、前記複数の中空部のうち、隣接する2つの中空部を分割する仕切り壁には、該2つの中空部を連通する通気孔が貫通している、配線基板(請求項9)も含まれる。
これによれば、製造時の圧着・脱脂・焼成工程において、樹脂バインダが各中空部から通気孔および前記何れかの貫通孔を通じて十分に抜き出され易くなるので、各中空部の天井面が凹まず、前記変形や剥離が生じにくくなっている。そのため、中空部ごとの天井面および単一の導体層が形成された床面が互いに平行であり、且つこれらに対し内壁面が垂直に形成された所定形状の配線基板となる。
加えて、本発明には、前記中空部の天井面と前記基板本体の表面との間を貫通する貫通孔は、平面視で前記中空部における何れかの内壁面側近傍の天井面に開口している、配線基板(請求項10)も含まれる。
これによれば、平面視で前記中空部において、その内壁面側に近接した天井面に貫通孔が開口しているため、前記圧着時や焼成時に中空部の天井面が凹むような変形が容易且つ確実に阻止され、形状および寸法精度に優れた配線基板となる。
尚、前記「何れかの内壁面側近傍」とは、平面視が六角形の中空部では、何れかの内壁面に近接した天井面の位置を、平面視が円形の中空部では、その円周面(内壁面)の一部に近接した天井面の位置を、平面視が長方形の中空部では、例えば、その長手方向の一端または両端付近で且つ何れかの内壁面に近接する天井面の位置を指している。
一方、本発明による配線基板の製造方法(請求項11)は、追って最上層のセラミック層となるグリーンシートに貫通孔を形成する工程と、少なくとも追って最上層と最下層のセラミック層を除く1層以上の中層のセラミック層となる1層以上のグリーンシートに透孔を形成する工程と、追って最下層またはその上方に積層される下層側のセラミック層となるグリーンシートの表面に平面形状で且つ単一の導体層を形成する工程と、少なくとも、上記貫通孔が形成されたグリーンシート、上記透孔が形成された1層以上のグリーンシート、および上記単一の導体層が形成されたグリーンシートを厚み方向に沿って積層する工程と、を含む、ことを特徴とする。
これによれば、前記導体層が形成されるセラミック層やこれに隣接するセラミック層となる各グリーンシートなどに含まれていた有機バインダの樹脂を、前記積層工程の直後に行う脱脂時に、前記透孔から形成される前記中空部および貫通孔を通じて、容易且つ十分に外部に放出できる。その結果、前記導体層とこれに隣接するセラミック層との境界、あるいは該セラミック層とこれに隣接するセラミック層との境界などにおいて、前記破裂による変形や、剥離などを阻止できるため、形状および寸法精度に優れた配線基板を確実に製造可能となる。
また、本発明には、追って最上層のセラミック層となるグリーンシートに形成される前記貫通孔は、平面視で前記透孔の外側に位置し、追って最上層の下方に積層される前記中層のセラミック層となるグリーンシートには、前記透孔を形成する工程において、更に該透孔に一端が開口し且つ他端が前記貫通孔の下端に連通する切り欠きを形成する工程が行われる、配線基板の製造方法(請求項12)も含まれる。
これによれば、前記積層工程で形成される未焼成の積層体において、上記貫通孔と切り欠きとは、側面視がほぼL字形を呈し、平面視において上記積層体の表面における前記透孔の外側と、中空部の内壁面上部とに両端が開口した単一の貫通孔となる。そのため、積層・圧着工程および脱脂・焼成工程において、上記積層体および基板本体の中空部の天井面が床面側に凹む変形を確実に阻止できる。
更に、本発明による異なる配線基板の製造方法(請求項13)は、少なくとも追って最上層と最下層のセラミック層を除く1層以上の中層のセラミック層となる1層以上のグリーンシートに透孔を形成し、且つ何れか1層の上記グリーンシートに上記透孔と外壁面との間を貫通する切り欠きを形成する工程と、追って最下層またはその上方に積層される下層側のセラミック層となるグリーンシートの表面に平面形状で且つ単一の導体層を形成する工程と、少なくとも、上記透孔が形成された1層以上のグリーンシート、および上記単一の導体層が形成されたグリーンシートを厚み方向に沿って積層する工程と、を含む、ことを特徴とする。
これによれば、未焼成の積層体における中空部の内壁面と基板本体の外壁面との間を貫通する貫通孔を通じて、樹脂バインダの樹脂を、前記積層工程の直後に行う脱脂時に、前記透孔から形成される前記中空部および貫通孔を通じて、容易に外部に放出できる。底面に単一の導体層が形成された中空部と上記貫通孔を有し、形状および寸法精度に優れた配線基板を、確実に製造することが可能となる。
尚、中空部の内壁面と基板本体の外壁面との間を貫通する貫通孔と共に、中空部の天井面と基板本体の表面との間を貫通する貫通孔を併せて形成しても良い。
前記透孔を形成する工程と前記積層工程との間に、前記一層または複数層のグリーンシートの透孔に、昇華性樹脂、あるいは熱可塑性樹脂からなる充填材を充填する工程を有する配線基板の製造方法(請求項14)も含まれる。
これによれば、一層または複数層のグリーンシートの透孔に、昇華性あるいは熱可塑性樹脂などからなる充填材が充填されているため、積層工程時の圧着を受けても、上記透孔によって形成される中空部の天井面が凹むような変形を確実に阻止できる。その結果、所定の形状を有する中空部が形成されるので、前記樹脂抜きが十分に行われ、且つ前記破裂や変形などを抑制することが可能となる。
尚、前記昇華性樹脂には、例えば、テオブロミンが挙げられ、前記熱可塑性樹脂には、例えば、エチルセルロース、ブチラール樹脂、アクリル樹脂などが挙げられる。
更に、本発明には、前記積層工程の後に、前記複数のグリーンシートを積層した未焼成の積層体を焼成する工程、あるいは脱脂し更に焼成する工程を有する、配線基板の製造方法(請求項15)も含まれる。
これによれば、前記中空部および何れかの前記貫通孔を通じて、前記樹脂抜きが十分に行われ、且つ前記破裂や変形などが抑制されており、形状および寸法精度に優れた配線基板を提供することが可能となる。
以下において、本発明を実施するための最良の形態について説明する。
図1は、本発明による一形態の配線基板1aを示す垂直断面図、図2は、その水平断面図である。
配線基板1aは、図1,図2に示すように、複数のセラミック層s1〜s6を積層してなり、平面視が長方形(矩形)の表面3、裏面4、およびこれらの間に位置する4つの外壁面5a,5bを有する基板本体2と、該基板本体2の内部に形成された中空部6と、該中空部6の床面7を形成するセラミック層s5の表面に形成された単一の導体層10と、上記中空部6の天井面9と基板本体2の表面3との間を貫通する6個(複数)の貫通孔h1と、を備えている。尚、図2は、セラミック層s4の表面における水平断面図である。
前記セラミック層s1〜s6は、例えば、アルミナを主成分としている。
また、前記中空部6は、図1に示すように、最上層のセラミック層s1と、最下層およびその表面上に積層されたセラミック層s5,s6を除く3つの中層のセラミック層s2〜s4の内側に平面視が長方形(矩形)を呈して形成されている。因みに、セラミック層s1〜s6の厚みは、それぞれ約30〜300μmであり、中空部5の平面視における寸法は、約20×約30mmである。
更に、前記複数の貫通孔h1は、最上層のセラミック層s1の表・裏面を貫通し、且つ図2に示すように、中空部6における一対の長い内壁面8に近接する(近傍)天井面9に下端が開口するように形成されている。各貫通孔h1の内径dは、0.06〜0.5mmであり、1つの該貫通孔h1の平面視における断面積(da)は、中空部6の平面視における面積sa、即ち、天井面9や床面7の面積よりも小さい。そして、6個の貫通孔h1の平面視における総断面積は、中空部6の平面視における面積saの0.5〜3%の範囲にある。
加えて、前記導体層10は、WまたはMoからなり、中空部6の床面7を形成する前記セラミック層s5の表面において、平面視がほぼ長方形で且つベタ状(平面形状)に形成された単一の導体層であり、且つセラミック層s5の表面(床面7)の平面視おける面積(as)よりも小さい。そのため、図2に示すように、該導体層10の周囲には、セラミック層s5の表面が露出している。
図1に示すように、最上層のセラミック層s1の表面3の周辺側には、複数の表面側端子14が形成され、最下層およびその表面上に積層されたセラミック層s5,s6間には、所定のパターンを有する配線層13が形成されると共に、基板本体2の裏面4には、複数の裏面側端子12が形成されている。上記表面側端子14、配線層13、および裏面側端子12は、何れもWまたはMoからなり、セラミック層s1〜s6の何れかを貫通するビア導体vdを介して、互いに導通可能とされている。尚、図1においては、セラミック層s1〜s5を貫通するビア導体vdの一部または全部を省略している。
以上のような配線基板1aによれば、前記中空部6および複数の貫通孔h1によって、単一の前記導体層10が形成されるセラミック層s5やこれに隣接するセラミック層s4,s6となる各グリーンシートなどに含まれていた樹脂バインダを脱脂時に、中空部6および複数の貫通孔9を通じて、容易且つ十分に外部に放出されている。しかも、各貫通孔h1の内径daが小径で、且つその断面積および6個の貫通孔h1の総断面積が、中空部6の前記面積asよりも小さく且つ0.5〜3%の範囲であり、中空部6の内壁面8の近傍に形成されているので、上記樹脂抜きに加え、中空部6の天井面9が下向きに凹むような変形を有していないか、極く僅かに抑制されている。そのため、前記導体層10とこれに隣接するセラミック層s5との境界、あるいはセラミック層s2〜s5の境界に、前述した破裂による変形や、剥離などがなく、形状および寸法精度に優れた配線基板1aとなっている。
ここで、本発明による前記配線基板1aの製造方法について説明する。
予め、アルミナ粉末、所要の有機バインダ、および溶剤などを、所要量ずつ秤量・混合してセラミックスラリを製作し、これをドクターブレード法によって、シート状を呈する6層(複数)のグリーンシートに成形した。
次に、図3に示すように、追って最上層のセラミック層s1となるグリーンシートg1における所定の位置ごとに、打ち抜き加工を施し、複数の貫通孔h1を形成した。また、追って最下層およびその表面上に積層されるセラミック層s5,s6を除く3つの中層のセラミック層s2〜s4となるグリーンシートg2〜g4に対し、平面視が長方形の透孔Ha〜Hcを、パンチングによって形成した。更に、前記セラミック層s1〜s6となる6層のグリーンシートg1〜g6における所定の位置ごとに打ち抜き加工を施し、それぞれビアホールvhを形成した。
次いで、図4に示すように、前記ビアホールvhごとに、W粉末を含む導電性ペーストを充填し、未焼成のビア導体vdを個別に形成した。また、最上層のグリーンシートg1、最下層およびその表面上に積層されるグリーンシートg5,g6の表面および裏面の少なくとも一方に、前記同様の導電性ペーストをスクリーン印刷などして、未焼成の導体層10、表・裏面端子14,12を形成した。
尚、中層のグリーンシートg2〜g4における図示しないビアホールvhにも、未焼成のビア導体vd(図示せず)を上記同様に形成した。また、上記導電性ペーストには、Mo粉末を含むものを用いても良い。
更に、図5に示すように、最上層のグリーンシートg1を除く、5層のグリーンシートg2〜g6を厚み方向に沿って積層して、箱形状のグリーンシート積層体Sを形成した。該積層体Sの内側には、中層のグリーンシートg2〜g4ごとに形成された前記透孔Ha〜Hcが垂直方向に沿って連通した4つの内壁面8と、それらの底面側にグリーンシートg5の表面である床面7と、該床面7に周辺を囲まれた前記導体層10と、が形成されていた。
次いで、図6に示すように、グリーンシート積層体Sにおける4つの内壁面8と床面7とに囲まれた凹部の内側に、例えば、前記グリーンシートに含まれる有機バインダと同じブチラール樹脂からなり、予め所定の形状とされていた樹脂(充填剤)Jaを、充填した。
次に、図6中の矢印で示すように、上記樹脂Jaが充填されたグリーンシート積層体Sの上方に、複数の前記貫通孔h1が形成された最上層のグリーンシートg1を積層した後、これらをその厚み方向に沿って圧着した。
その結果、図7に示すように、グリーンシートg1〜g6を積層してなり、表面3、裏面4、および外壁面5a,5bを有する未焼成の基板本体2、および、該基板本体2の内部で且つ中層のグリーンシートg2〜g4を貫通する中空部6が形成された。該中空部6の床面7には、未焼成で単一の導体層10が位置し、上記中空部6の天井面9と基板本体2の表面3との間を複数の貫通孔h1が貫通していた。
前記圧着において、中空部6には、ほぼ相似形の樹脂Jaを充填していたので、該中空部6の天井面9の中央付近が下向きに凹む変形を確実に阻止できた。
更に、前記中空部6、導体層10、および複数の貫通孔h1などを有する未焼成の基板本体2を、図示しない焼成炉に挿入した後、約250〜260℃に加熱して脱脂した。
その結果、図8中の矢印で示すように、中空部6に充填されていた前記樹脂Jaが気体(ガス)となって、内径daである複数の貫通孔h1から基板本体2の外部に十分に放出できた。引き続いて、グリーンシートg1〜g5に含まれていた前記有機バインダの樹脂成分の殆んどあるいは大半も、中空部6を経て、複数の貫通孔9から十分に抜き出すことができた。尚、最上層と最下層のグリーンシートg1,g6に含まれていた前記有機バインダの樹脂成分は、基板本体2の表面3から直に、あるいは、基板本体2の外壁面5a,5bから抜き出された。
そして、脱脂した前記基板本体2を、更に加熱し、所定の温度域で焼成した。かかる焼成工程でも、前記中空部6の天井面9の中央付近が下向きに凹む変形は、生じなかった。
その結果、図9に示すように、前記グリーンシートg1〜g6が焼成され、且つ互いに一体に積層されたセラミック層s1〜s6となり、前記中空部6、および複数の貫通孔h1を有し、焼成された導体層10、配線層13、表・裏面端子14,12、およびビア導体vdを有する配線基板1aを製造することができた。
尚、焼成後の配線基板1aにおいて、表・裏面端子14,12の表層には、Niメッキ層とAuメッキ層とを各々電解メッキにより順次所要の厚みで被覆した。
以上のような配線基板1aの製造方法によれば、単一の前記導体層10が形成されるセラミック層s5やこれに隣接するセラミック層s4,s6を含む各グリーンシートg1〜g6に含まれていた有機バインダの樹脂成分を、前記積層工程の直後で行う脱脂時に、前記複数の透孔Ha〜Hcから形成された中空部6および複数の貫通孔h1を通じて、容易且つ十分に外部に放出することができた。その結果、前記導体層10とこれに隣接するセラミック層s5との境界、あるいはセラミック層s4,s5同士の境界などにおいて、有機バインダの樹脂成分による破裂による変形や、あるいは剥離などを阻止できた。従って、形状および寸法精度に優れた配線基板1aを確実に製造することができた。
尚、配線基板1aは、縦横に複数個が縦横に連続し、これらの周囲に捨て代となる耳部を有する多数個取り基板の形態によって、製造することも可能である。
図10は、異なる形態の配線基板1bを示す前記と同様な垂直断面図である。
配線基板1bは、図10に示すように、前記同様の基板本体2、中空部6、導体層10、配線層13、表・裏面端子14,12、およびビア導体vdを備えている。該配線基板1bが前記配線基板1aと相違するのは、基板本体2の表面3と中空部6の内壁面8の上端部との間を貫通する側面視がほぼL字形の貫通孔h2を、複数個有していることである。該貫通孔h2は、平面視において中空部6よりも外側に位置する基板本体2の表面3に開口している。
図11は、上記配線基板1bの一製造工程を示し、前記同様に形成されたグリーンシートg1〜g6のうち、追って最上層のセラミック層s1となるグリーンシートg1において、最上層の真下に積層される中層のセラミック層s2となるグリーンシートg2に形成した前記同様の透孔Haよりも外側の位置に、複数の貫通孔h2aを形成した。また、グリーンシートg2を上下2層の単位グリーンシートg2b,g2aに分割し、このうち、上層側の単位グリーンシートg2bに対し、図11とその一点鎖線部分で示すように、透孔Haに一端が開口し、且つ他端が上記貫通孔h2aの下端に連通する切り欠きh2bを複数個形成した。
更に、前記と同様なグリーンシートg1〜g6の積層・圧着時において、上記貫通孔h2aと切り欠きh2bとが連通して、側面視がほぼL字形の貫通孔h2が形成され、その後、前記脱脂・焼成工程およびメッキの各工程を施すことで、前記配線基板1bが製造された。上記グリーンシートg1〜g6の積層・圧着工程、および脱脂・焼成工程において、側面視がほぼL字形の貫通孔h2は、中空部6よりも外側の表面3に開口していたので、基板本体2の中空部6の天井面9が床面7側に凹む変形を確実に阻止できた。その結果、中空部6およびその床面7の導体層10を有し、形状・寸法精度に優れた配線基板1bとなった。
図12は、更に異なる形態の配線基板1cを示す前記同様な垂直断面図である。
配線基板1cは、図12に示すように、前記同様の基板本体2、中空部6、導体層10、配線層13、表・裏面端子14,12、およびビア導体vdを備えている。該配線基板1cが前記配線基板1aと相違するのは、中空部6の内壁面8の下端部と基板本体2の外壁面5b(5a)との間を貫通する貫通孔h3を、複数個有していることである。
図13は、配線基板1cの一製造工程を示し、前記同様に形成されたグリーンシートg1〜g6のうち、追って中層のセラミック層s4となるグリーンシートg4を上下2層の単位グリーンシートg4b,g4aに分割した。このうち、下層側の単位グリーンシートg4aに対し、図13とその一点鎖線部分とで示すように、透孔Hcに一端が開口し、且つ他端が外壁面に開口する切り欠きh3aを複数個形成した。
更に、前記同様の導体10の形成、グリーンシートg1〜g6の積層・圧着時に、前記切り欠きh3aは、グリーンシートg4,g5間に位置し、且つ中空部6の内壁面8と基板本体2の外壁面5b(5a)との間を水平に貫通する貫通孔h3となった。その後、前記同様の脱脂・焼成工程およびメッキの各工程を施すことで、前記配線基板1cが製造できた。
尚、図12中の破線で示すように、複数の貫通孔h3を有する配線基板1cに対し、更に複数の前記貫通孔h1を併せて形成しても良い。
図14は、前記各形態とは異なる形態の配線基板1dの概略を示す垂直断面図、図15は、該配線基板1dの概略を示す前記図2と同様な水平断面図である。
配線基板1dは、前記同様の基板本体2、および導体層10などを有しており、前記配線基板1a〜1cと相違するのは、複数の中空部16を有することである。該中空部16は、図14,図15に示すように、前記同様の中層のセラミック層s2〜s4に直線状に形成された複数の仕切り壁20によって、互いに平行に隣接して複数個に分割され、それぞれが平面視で細長い長方形を呈している。各中空部16における長手方向の両端に位置する内壁面18近傍の天井面19には、前記同様の貫通孔h1が一対形成されている。尚、前記導体層10は、中空部16ごとの床面17の両端部などの一部を除いたほぼ全面に形成されている。
図16は、前記配線基板1dの応用形態である配線基板1eの概略を示す垂直断面図である。該配線基板1eは、図16に示すように、前記同様の基板本体2、複数の中空部16、および導体層10など有している。更に、基板本体2の外壁面5b(5a)と中空部16の内壁面18との間を貫通する複数の貫通孔h3と、隣接する中空部16,16間ごとの仕切り壁20に通気孔thを形成している。
以上のような配線基板1d,1eによれば、中層のセラミック層s2〜s4の内側に仕切り壁20によって、複数の中空部16が形成され、各中空部16ごとの少なくとも1つの貫通孔h1,h3が天井面あるいは内壁面に形成されている。更に、配線基板1eでは。隣接する中空部16,16間に通気孔thが形成されている。このため、前記製造方法における複数のグリーンシートの圧着・積層時において、充填材の前記樹脂Jaを用いることなく、有機バインダの脱脂を確実に行うことが可能である。しかも、単一の導体層10は、仕切り壁20の内部に進入していないため、セラミック層s4,s5間の剥離を確実に防止できる。従って、前記破裂、変形、および剥離がなく、形状および寸法精度に優れた配線基板1d,1eを提供することが可能となる。
図17は、更に異なる形態の中空部22を有する配線基板1fの概略を示す前記図15と同様な水平断面図である。
配線基板1fは、図17に示すように、前記同様の基板本体2および導体層10(図示せず)などを備え、更に前記同様の中層のセラミック層sn(s2〜s4)に形成された複数のジグザグ状の仕切り壁23によって、縦横に隣接して複数個に分割され、それぞれが平面視で六角形を呈し、且つ全体がハニカムコア状に配列された複数の中空部22を有している。各中空部22には、前記同様の1つずつの貫通孔h1が何れかの内壁面近傍の天井面に形成されている。
尚、導体層10は、中空部22ごとの床面全体、あるいは中空部22ごとの床面の一部に形成される。また、図17中の破線示すように、一対の外壁面5aに近接する各中空部22に、外壁面5aとの間を貫通する貫通孔h3を形成したり、あるいは隣接する中空部22,22間の仕切り壁23に、通気孔thを形成しても良い。
図18は、別の異なる形態の中空部24を有する配線基板1gの概略を示す前記同様の水平断面図である。
配線基板1gも、前記同様の基板本体2および導体層10(図示せず)などを有しており、前記配線基板1aなどと相違するのは、複数の中空部24を有することである。該中空部19は、図18に示すように、前記同様の中層のセラミック層sn(s2〜s4)に異形状に形成された複数の仕切り壁25によって、互いに離間して複数個に分割され、それぞれが平面視で円形を呈している。各中空部19の円周面(内壁面)の近傍の天井面には、前記同様の1つの貫通孔h1が形成されている。尚、前記導体層10は、中空部24ごとの床面全体、あるいは中空部24ごとの床面の一部に形成される。
尚、図18中の破線示すように、一対の外壁面5aに近接する各中空部24に、外壁面5aとの間を貫通する貫通孔h3を形成したり、あるいは隣接する中空部24,24間の仕切り壁25に、通気孔thを形成しても良い。
また、配線基板1d〜1gは、複数の中空部16,22,24となる透孔を形成する工程のほかは、前記配線基板1aなどと同様な方法によって製造される。
以上のような配線基板1f,1gによっても、前記配線基板1d,1eと同様な効果を奏することができる。従って、前記破裂、変形、および剥離がなく、形状および寸法精度に優れた配線基板1f,1gとなる。
本発明は、以上において説明した各形態に限定されるものではない。
例えば、前記セラミック層は、ガラスーセラミック(例えばアルミナ)などの低温焼成セラミックからなるものとし、前記単一の導体層などの導体をAgまたはCuからなるものとしても良い。
また、前記中空部は、1層のセラミック層の内側にのみ形成しても良い。
更に、前記中空部の床面は、最下層のセラミック層の表面とし、かかる表面に前記単一の導体層を形成した形態としても良い。
また、前記平面視が複数の長方形を呈する中空部は、該中空部の長方形ごとの長手方向が、平面視で長方形を呈する基板本体の長辺に沿って形成しても良い。
加えて、前記基板本体は、平面視で正方形ないしほぼ正方形を呈する形態としても良い。
本発明による一形態の配線基板を示す垂直断面図。 上記配線基板の水平断面図。 上記配線基板の一製造工程を示す概略図。 図3に続く製造工程を示す概略図。 図4に続く製造工程を示す概略図。 図5に続く製造工程を示す概略図。 図6に続く製造工程を示す概略図。 図7に続く製造工程を示す概略図。 以上の製造工程によって得られた上記配線基板を示す概略図。 異なる形態の配線基板を示す垂直断面図。 上記配線基板の一製造工程を示す概略図。 更に異なる形態の配線基板を示す垂直断面図。 上記配線基板の一製造工程を示す概略図。 異なる形態の中空部を有する配線基板の概略を示す垂直断面図。 上記配線基板の概略を示す水平断面図。 上記配線基板の応用形態の概略を示す垂直断面図。 更に異なる形態の中空部を有する配線基板の概略を示す水平断面図。 別の異なる形態の中空部を有する配線基板の概略を示す水平断面図。
符号の説明
1a〜1g………………配線基板
2…………………………基板本体
3…………………………表面
4…………………………裏面
5a,5b………………外壁面
6,16,22,24…中空部
7…………………………床面
8…………………………内壁面
9…………………………天井面
10………………………導体層
20,23,25………仕切り壁
h1〜h3………………貫通孔
s1〜s6………………セラミック層
g1〜g6………………グリーンシート
Ha〜Hc………………透孔
h2b,h3a…………切り欠き
Ja………………………樹脂(充填材)
da………………………貫通孔の内径
sa………………………中空部の面積

Claims (15)

  1. 複数のセラミック層を積層してなり、平面視が矩形の表面、裏面、およびこれらの間に位置する4つの外壁面を有する基板本体と、
    上記基板本体の内部に形成され、且つ上記複数のセラミック層のうち、少なくとも最上層と最下層のセラミック層を除いた少なくとも1層からなる中層のセラミック層の内側に形成された中空部と、
    上記中空部の床面を形成する上記下層側のセラミック層の表面に平面形状に形成された単一の導体層と、を含み、
    上記中空部の天井面と上記基板本体の表面との間、上記中空部の内壁面と上記基板本体の表面との間、および上記中空部の内壁面と上記基板本体の外壁面との間のうち、少なくとも1つに貫通孔が貫通している、
    ことを特徴とする配線基板。
  2. 前記貫通孔の平面視あるいは側面視における断面積は、前記中空部の平面視あるいは側面視における断面積よりも小さい、
    ことを特徴とする請求項1に記載の配線基板。
  3. 前記貫通孔の内径は、0.06〜0.5mmである、
    ことを特徴とする請求項1または2に記載の配線基板。
  4. 複数の前記貫通孔の平面視あるいは側面視における総断面積は、前記中空部の平面視あるいは側面視における面積の0.5〜3%である、
    ことを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の配線基板。
  5. 前記単一の導体層の平面視における面積は、前記中空部の床面を形成する前記下層側のセラミック層の表面の平面視における面積よりも小さい、
    ことを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の配線基板。
  6. 前記基板本体の表面と前記中空部の内壁面との間を貫通する貫通孔は、平面視で上記中空部の外側に位置する基板本体の表面に開口し、且つ側面視で全体がほぼL字形を呈するものである、
    ことを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載の配線基板。
  7. 前記中空部は、前記中層のセラミック層に形成された仕切り壁によって、複数個に分割され、それぞれが平面視で六角形を呈し、且つ全体がハニカムコア状に配列されている、
    ことを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項に記載の配線基板。
  8. 前記中空部は、前記中層のセラミック層に形成された仕切り壁によって、互いに平行な平面視で複数の長方形に分割されているか、あるいは、それぞれが平面視で複数の円形に分割されている、
    ことを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項に記載の配線基板。
  9. 前記複数の中空部のうち、隣接する2つの中空部を分割する仕切り壁には、該2つの中空部を連通する通気孔が貫通している、
    ことを特徴とする請求項7または8に記載の配線基板。
  10. 前記中空部の天井面と前記基板本体の表面との間を貫通する貫通孔は、平面視で前記中空部における何れかの内壁面側近傍の天井面に開口している、
    ことを特徴とする請求項1乃至7の何れか一項に記載の配線基板。
  11. 追って最上層のセラミック層となるグリーンシートに貫通孔を形成する工程と、
    少なくとも追って最上層と最下層のセラミック層を除く1層以上の中層のセラミック層となる1層以上のグリーンシートに透孔を形成する工程と、
    追って最下層またはその上方に積層される下層側のセラミック層となるグリーンシートの表面に平面形状で且つ単一の導体層を形成する工程と、
    少なくとも、上記貫通孔が形成されたグリーンシート、上記透孔が形成された1層以上のグリーンシート、および上記単一の導体層が形成されたグリーンシートを厚み方向に沿って積層する工程と、を含む、
    ことを特徴とする配線基板の製造方法。
  12. 追って最上層のセラミック層となるグリーンシートに形成される前記貫通孔は、平面視で前記透孔の外側に位置し、
    追って最上層の下方に積層される前記中層のセラミック層となるグリーンシートには、前記透孔を形成する工程において、更に該透孔に一端が開口し且つ他端が前記貫通孔の下端に連通する切り欠きを形成する工程が行われる、
    ことを特徴とする請求項11に記載の配線基板の製造方法。
  13. 少なくとも追って最上層と最下層のセラミック層を除く1層以上の中層のセラミック層となる1層以上のグリーンシートに透孔を形成し、且つ何れか1層の上記グリーンシートに上記透孔と外壁面との間を貫通する切り欠きを形成する工程と、
    追って最下層またはその上方に積層される下層側のセラミック層となるグリーンシートの表面に平面形状で且つ単一の導体層を形成する工程と、
    少なくとも、上記透孔が形成された1層以上のグリーンシート、および上記単一の導体層が形成されたグリーンシートを厚み方向に沿って積層する工程と、を含む、
    ことを特徴とする配線基板の製造方法。
  14. 前記透孔を形成する工程と前記積層工程との間に、前記一層または複数層のグリーンシートの透孔に、昇華性樹脂、あるいは熱可塑性樹脂からなる充填材を充填する工程を有する、
    ことを特徴とする請求項11〜13の何れか一項に記載の配線基板の製造方法。
  15. 前記積層工程の後に、前記複数のグリーンシートを積層した未焼成の積層体を焼成する工程、あるいは脱脂し更に焼成する工程を有する、
    ことを特徴とする請求項11〜14の何れか一項に記載の配線基板の製造方法。
JP2008331661A 2008-03-11 2008-12-26 配線基板およびその製造方法 Pending JP2009246338A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008331661A JP2009246338A (ja) 2008-03-11 2008-12-26 配線基板およびその製造方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008061206 2008-03-11
JP2008331661A JP2009246338A (ja) 2008-03-11 2008-12-26 配線基板およびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009246338A true JP2009246338A (ja) 2009-10-22

Family

ID=41307873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008331661A Pending JP2009246338A (ja) 2008-03-11 2008-12-26 配線基板およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009246338A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023120354A1 (ja) * 2021-12-24 2023-06-29 京セラ株式会社 セラミック基板、セラミック基板の製造方法、配線基板、パッケージ、マイク装置、ガスセンサ装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05167259A (ja) * 1991-12-13 1993-07-02 Fujitsu Ltd 回路基板とその製造方法
JPH0745956A (ja) * 1993-07-29 1995-02-14 Ibiden Co Ltd 多層セラミックス基板の製造方法
JPH0985894A (ja) * 1995-07-18 1997-03-31 Denso Corp セラミック積層体の製造方法
JP2002310987A (ja) * 2001-02-08 2002-10-23 Nippon Soken Inc ガスセンサ素子
JP2004247334A (ja) * 2003-02-10 2004-09-02 Murata Mfg Co Ltd 積層型セラミック電子部品およびその製造方法ならびにセラミックグリーンシート積層構造物
JP2007062186A (ja) * 2005-08-31 2007-03-15 Kyocera Corp セラミック構造体の製造方法
JP2007128987A (ja) * 2005-11-01 2007-05-24 Sharp Corp 半導体パッケージおよびこれを用いた半導体装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05167259A (ja) * 1991-12-13 1993-07-02 Fujitsu Ltd 回路基板とその製造方法
JPH0745956A (ja) * 1993-07-29 1995-02-14 Ibiden Co Ltd 多層セラミックス基板の製造方法
JPH0985894A (ja) * 1995-07-18 1997-03-31 Denso Corp セラミック積層体の製造方法
JP2002310987A (ja) * 2001-02-08 2002-10-23 Nippon Soken Inc ガスセンサ素子
JP2004247334A (ja) * 2003-02-10 2004-09-02 Murata Mfg Co Ltd 積層型セラミック電子部品およびその製造方法ならびにセラミックグリーンシート積層構造物
JP2007062186A (ja) * 2005-08-31 2007-03-15 Kyocera Corp セラミック構造体の製造方法
JP2007128987A (ja) * 2005-11-01 2007-05-24 Sharp Corp 半導体パッケージおよびこれを用いた半導体装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023120354A1 (ja) * 2021-12-24 2023-06-29 京セラ株式会社 セラミック基板、セラミック基板の製造方法、配線基板、パッケージ、マイク装置、ガスセンサ装置
JPWO2023120354A1 (ja) * 2021-12-24 2023-06-29
JP7692058B2 (ja) 2021-12-24 2025-06-12 京セラ株式会社 セラミック基板、セラミック基板の製造方法、配線基板、パッケージ、マイク装置、ガスセンサ装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5772970B2 (ja) 多層配線基板、プローブカード及び多層配線基板の製造方法
JPH10270282A (ja) 積層セラミックコンデンサ
CN107637185A (zh) 多层陶瓷基板以及多层陶瓷基板的制造方法
JP2006216764A (ja) 発光素子実装用配線基板
JP2021176181A (ja) セラミック電子部品およびセラミック電子部品の製造方法
JP5086862B2 (ja) 発光素子実装用配線基板の製造方法
JP2009246338A (ja) 配線基板およびその製造方法
JP5297164B2 (ja) 配線基板
JP4190555B2 (ja) 多数個取り配線基板およびその製造方法
JP6118170B2 (ja) 多層セラミック基板およびその製造方法
JP2014160694A (ja) セラミック配線基板とバリスタ内蔵セラミック配線基板
JP5180788B2 (ja) 配線基板およびその製造方法
JP2007284264A (ja) 積層セラミック基板
JP4107437B2 (ja) 多層セラミックス基板及びその製造方法
JP2005116938A (ja) キャビティ付き多層セラミック基板およびその製造方法
JP3922257B2 (ja) セラミック積層体の製造方法
JP2008159725A (ja) セラミック多層基板およびその製造方法
JP5184924B2 (ja) 多層セラミック基板及びその製造方法
JP2008071843A (ja) 多層セラミック基板及びその製造方法
JP2005129612A (ja) 積層型セラミック電子部品の製造方法
JP2009181987A (ja) セラミック多層基板の製造方法
JP2009194000A (ja) 多数個取り配線基板
JP2017017081A (ja) 多数個取り配線基板
JP5166890B2 (ja) 配線基板およびその製造方法
JP4311090B2 (ja) 多層セラミック基板およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110625

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120821

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120911

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121109

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20121218