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JP2009224364A - Container of semiconductor chip, and process for manufacturing semiconductor device - Google Patents

Container of semiconductor chip, and process for manufacturing semiconductor device Download PDF

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JP2009224364A
JP2009224364A JP2008063979A JP2008063979A JP2009224364A JP 2009224364 A JP2009224364 A JP 2009224364A JP 2008063979 A JP2008063979 A JP 2008063979A JP 2008063979 A JP2008063979 A JP 2008063979A JP 2009224364 A JP2009224364 A JP 2009224364A
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JP
Japan
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plate
semiconductor chip
recess
buffer material
storage container
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Application number
JP2008063979A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Suzuki
彰 鈴木
Katsuyuki Seki
克行 関
Wasarin Jungsuwadee
ジュンスワディー ワーサリン
Masurao Yoshii
益良男 吉井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanto Sanyo Semiconductors Co Ltd
Sanyo Electric Co Ltd
System Solutions Co Ltd
On Semiconductor Niigata Co Ltd
Original Assignee
Kanto Sanyo Semiconductors Co Ltd
Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Semiconductor Co Ltd
Sanyo Semiconductor Manufacturing Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

【課題】半導体チップの輸送時に半導体チップの破損を低減することができる半導体チップの収納容器、その収納容器を用いた半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】チップトレイ10では、第1の板11に形成された第1の凹部11Aに第1の緩衝材12が設けられ、第1の凹部11Aと対向した第2の板13の面には第2の緩衝材14が設けられている。半導体チップ15は、第1の板11と第2の板13が重ね合わされると、第1の凹部11Aの空間11Cにおいて、第1の緩衝材12と第2の緩衝材14との間に収納される。これにより、チップトレイ10の輸送時における衝撃は、半導体チップ15に加わりにくくなり、半導体チップ15の破損を防ぐことができる。また、第1の緩衝材12、第2の緩衝材14の少なくともいずれか一方は導電性材料からなるため、静電気による半導体チップ15の破損や損傷を防ぐことができる。
【選択図】図2
A semiconductor chip storage container capable of reducing breakage of a semiconductor chip during transportation of the semiconductor chip, and a semiconductor device manufacturing method using the storage container.
In a chip tray 10, a first cushioning material 12 is provided in a first recess 11A formed on a first plate 11, and the surface of a second plate 13 facing the first recess 11A is provided. Is provided with a second cushioning material 14. When the first plate 11 and the second plate 13 are overlaid, the semiconductor chip 15 is stored between the first buffer material 12 and the second buffer material 14 in the space 11C of the first recess 11A. Is done. Thereby, an impact during transportation of the chip tray 10 is less likely to be applied to the semiconductor chip 15, and damage to the semiconductor chip 15 can be prevented. In addition, since at least one of the first buffer material 12 and the second buffer material 14 is made of a conductive material, the semiconductor chip 15 can be prevented from being damaged or damaged by static electricity.
[Selection] Figure 2

Description

本発明は、半導体チップを収納する収納容器、その収納容器を用いた半導体装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a storage container for storing a semiconductor chip and a method for manufacturing a semiconductor device using the storage container.

従来より、複数の半導体チップを効率よく輸送する際の収納容器の一つとして、平板状のチップトレイやテープ状のチップ収納体が知られている。例えば図8に示すように、チップトレイ111の表面には、複数の凹部111Aが配置され、その凹部111A内に半導体チップ115が載置される。半導体チップ115は、チップトレイ111上で保持されながら輸送される。   Conventionally, a flat chip tray or a tape-shaped chip storage body is known as one of storage containers for efficiently transporting a plurality of semiconductor chips. For example, as shown in FIG. 8, a plurality of recesses 111A are arranged on the surface of the chip tray 111, and the semiconductor chip 115 is placed in the recesses 111A. The semiconductor chip 115 is transported while being held on the chip tray 111.

なお、チップトレイについては、特許文献1に記載されている。
特開2001−97349号公報
The chip tray is described in Patent Document 1.
JP 2001-97349 A

しかしながら、チップトレイ111の凹部111Aに載置される半導体チップ115には、チップトレイ111の輸送時の衝撃によって加わる機械的応力により破損が生じる場合があった。   However, the semiconductor chip 115 placed in the recess 111 </ b> A of the chip tray 111 may be damaged due to mechanical stress applied by an impact during transportation of the chip tray 111.

本発明の半導体チップの収納容器は、上記課題に鑑みて為されたものであり、表面に第1の凹部が形成された第1の板と、第1の凹部の中に設けられた第1の緩衝材と、第1の板の表面に重ね合わせ可能な第2の板と、第1の凹部と対向した第2の板の表面に設けられた第2の緩衝材と、を備え、第1の緩衝材と第2の緩衝材との間に半導体チップを収納することを特徴とする。   The semiconductor chip storage container of the present invention has been made in view of the above problems, and includes a first plate having a first recess formed on the surface and a first plate provided in the first recess. A second cushioning material, a second plate that can be superimposed on the surface of the first plate, and a second cushioning material provided on the surface of the second plate facing the first recess, A semiconductor chip is housed between the first buffer material and the second buffer material.

また、本発明の半導体チップの収納容器は、上記構成において、第2の板の表面に、第1の凹部に対向した第2の凹部が形成され、第2の緩衝材は第2の凹部の中に設けられていることを特徴とする。   Further, in the semiconductor chip storage container of the present invention, in the above configuration, the second recess is formed on the surface of the second plate so as to face the first recess, and the second cushioning material is the second recess. It is provided inside.

また、本発明の半導体チップの収納容器は、互いに重ね合わせて積み上げ可能な複数の板と、板の表面に形成された第1の凹部と、第1の凹部の中に設けられた第1の緩衝材と、第1の凹部と重畳して板の裏面に設けられた第2の緩衝材と、を備え、互いに重ねられる2枚の板において、下層の板の第1の緩衝材と、その上層の板の第2の緩衝材との間に半導体チップを収納することを特徴とする。   The semiconductor chip storage container of the present invention includes a plurality of plates that can be stacked on top of each other, a first recess formed on the surface of the plate, and a first recess provided in the first recess. A cushioning material and a second cushioning material provided on the back surface of the plate so as to overlap the first recess, and in the two plates stacked on each other, the first cushioning material of the lower layer plate, A semiconductor chip is housed between the second buffer material of the upper layer plate.

また、本発明の半導体チップの収納容器は、上記構成において、第1の凹部と重畳して板の裏面に第2の凹部が形成され、第2の緩衝材は第2の凹部の中に設けられていることを特徴とする。   In the semiconductor chip storage container of the present invention, in the above configuration, the second recess is formed on the back surface of the plate so as to overlap the first recess, and the second cushioning material is provided in the second recess. It is characterized by being.

また、本発明の半導体チップの収納容器は、半導体チップの収納部を有した収納部材と、収納部の中に設けられた第1の緩衝材と、表面に第2の緩衝材が接着され、収納部を覆って収納部材に貼り付け可能なテープ基材と、を備え、第1の緩衝材と第2の緩衝材との間に半導体チップを収納するようにしたことを特徴とする。   The semiconductor chip storage container of the present invention has a storage member having a semiconductor chip storage portion, a first buffer material provided in the storage portion, and a second buffer material bonded to the surface. And a tape base material that covers the storage portion and can be attached to the storage member. The semiconductor chip is stored between the first buffer material and the second buffer material.

また、本発明の半導体チップの収納容器は、上記いずれかの構成において、第1の緩衝材、第2の緩衝材の少なくとも一方は、例えば、有機樹脂を含む基材にカーボン粒子を添加してなる導電性材料からなることを特徴とする。   In the semiconductor chip storage container of the present invention, in any one of the above-described configurations, at least one of the first buffer material and the second buffer material is obtained by adding carbon particles to a base material containing an organic resin, for example. It consists of the electroconductive material which becomes.

また、本発明の半導体装置の製造方法は、半導体ウエハをバックグラインドする第1の工程と、バックグラインドされた半導体ウエハをダイシングして複数の半導体チップに分割する第2の工程と、半導体チップを次の工程へ輸送する第3の工程と、を備え、第3の工程は、凹部が形成され、この凹部の中に第1の緩衝材が設けられた第1の板と、表面に第2の緩衝材が設けられた第2の板とを準備し、第1の板と第2の板とを重ね合わせ、第1の緩衝材と第2の緩衝材との間に半導体チップを収納して輸送することを特徴とする。   The semiconductor device manufacturing method of the present invention includes a first step of back grinding a semiconductor wafer, a second step of dicing the back ground semiconductor wafer into a plurality of semiconductor chips, and a semiconductor chip. A third step of transporting to the next step, wherein the third step includes a first plate in which a recess is formed and a first cushioning material is provided in the recess, and a second plate on the surface. And a second plate provided with the buffer material, the first plate and the second plate are overlapped, and the semiconductor chip is accommodated between the first buffer material and the second buffer material. It is characterized by being transported.

本発明の半導体チップの収納容器、その収納容器を用いた半導体装置の製造方法によれば、半導体チップの輸送時に、その衝撃等による半導体チップの破損を低減することができる。   According to the semiconductor chip storage container and the semiconductor device manufacturing method using the storage container of the present invention, damage to the semiconductor chip due to impact or the like can be reduced during transport of the semiconductor chip.

[第1の実施形態]
本発明の第1の実施形態では、半導体チップの収納容器がチップトレイである場合について図面を参照して説明する。図1は本実施形態による半導体チップの収納容器を示す平面図であり、後述する第1の板11とその第1の凹部Aの平面構成のみを示し、その他の構成要素については図示を省略している。また、図2は、図1のX−X線に沿った断面図であり、図2(A)は、後述する第1の板11と第2の板13が重ね合わされる前の状態を示し、図2(B)は第1の板11と第2の板13が重ね合わされた時の状態を示している。図3は、本実施形態による半導体チップの収納容器において、後述する第3の板17を含む場合を示す断面図であり、図1のX−X線に沿った断面に対応している。
[First Embodiment]
In the first embodiment of the present invention, a case where a semiconductor chip storage container is a chip tray will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing a semiconductor chip storage container according to the present embodiment, showing only a planar configuration of a first plate 11 and its first recess A, which will be described later, and omitting the other components. ing. 2 is a cross-sectional view taken along the line XX of FIG. 1, and FIG. 2A shows a state before a first plate 11 and a second plate 13 described later are overlapped. FIG. 2B shows a state when the first plate 11 and the second plate 13 are overlapped. FIG. 3 is a cross-sectional view showing a case in which the semiconductor chip storage container according to the present embodiment includes a third plate 17 to be described later, and corresponds to a cross section taken along line XX in FIG.

本発明において、収納の対象となる半導体チップ15は、例えば、新しいパッケージ技術として注目されているCSP(Chip Size Package)型の半導体装置であり、半導体ウエハに対するバックグラインド工程と、そのバックグラインドされて薄くなった半導体ウエハに対するダイシング工程を経たものである。   In the present invention, the semiconductor chip 15 to be stored is, for example, a CSP (Chip Size Package) type semiconductor device that is attracting attention as a new packaging technology, and a back grinding process for a semiconductor wafer and the back grinding process. The dicing process is performed on the thinned semiconductor wafer.

ここで、CSPとは、半導体チップの外形と略同一サイズの外形を有する小型のパッケージをいい、実装密度を高めるために半導体チップの薄型化が求められ、半導体ウエハを薄くする必要がある。   Here, the CSP refers to a small package having an outer shape that is substantially the same size as the outer shape of the semiconductor chip. In order to increase the mounting density, the semiconductor chip needs to be thinned, and the semiconductor wafer needs to be thin.

上記バックグラインド工程では、半導体ウエハは、スタック用に極めて薄く、例えば50μm〜150μm程度に機械研磨されるため、残留応力による歪みが多く、非常に割れやすい。仮に、バックグラインド工程の後に、半導体ウエハのエッチング等を行うことで残留応力による歪みを取り除いたとしても、半導体ウエハは、その薄さ故に割れやすくなる。また、半導体ウエハの表面上に多くの膜が形成されているため、半導体ウエハの表面側と裏面側では、残留応力の差異が生じ、結果として半導体チップ15に反りが発生する。   In the back grinding process, the semiconductor wafer is extremely thin for stacking, and is mechanically polished to, for example, about 50 μm to 150 μm. Even if the distortion due to the residual stress is removed by performing etching or the like of the semiconductor wafer after the back grinding process, the semiconductor wafer is easily broken because of its thinness. Further, since many films are formed on the surface of the semiconductor wafer, a difference in residual stress occurs between the front surface side and the back surface side of the semiconductor wafer, resulting in warping of the semiconductor chip 15.

また、このような半導体ウエハ、半導体チップ15において、さらに貫通電極が形成されてもよい。貫通電極を採用する機種の半導体チップ15は、主に積層タイプ、即ちMCP(Multi Chip Package)であり、この場合においても、半導体ウエハは極限まで薄くされる。   Further, in such a semiconductor wafer or semiconductor chip 15, a through electrode may be further formed. The semiconductor chip 15 of a model that employs a through electrode is mainly a laminated type, that is, an MCP (Multi Chip Package). In this case as well, the semiconductor wafer is made as thin as possible.

これらの工程の後、次の工程(例えばバンプ電極の形成工程)を行うラインに半導体チップ15を輸送する工程において、以下に説明するチップトレイ10が用いられる。   After these steps, the chip tray 10 described below is used in the step of transporting the semiconductor chip 15 to the line where the next step (for example, bump electrode forming step) is performed.

図1及び図2(A)に示すように、このチップトレイ10では、例えばプラスチックからなる第1の板11の表面に、複数の第1の凹部11Aが設けられ、各第1の凹部11Aの中には、第1の緩衝材12が設けられている。第1の凹部12の底部及び開口部は例えば矩形状に形成される。第1の緩衝材12は、第1の凹部11Aの少なくとも底部を覆っており、必要に応じて、第1の凹部11Aの側壁に延びてもよい。そして、第1の板11の第1の凹部11Aと対向して、例えはプラスチックからなり、第1の板11の表面に重ね合わせ可能な第2の板13が配置される。第1の板11の第1の凹部11Aと対向する第2の板13の表面には、第2の緩衝材14が設けられている。第2の緩衝材14は、各第1の凹部11Aと嵌合するように、第1の凹部11A毎に分離して形成されることが好ましい。   As shown in FIGS. 1 and 2A, in the chip tray 10, a plurality of first recesses 11A are provided on the surface of a first plate 11 made of, for example, plastic, and each of the first recesses 11A is provided. A first cushioning material 12 is provided inside. The bottom part and opening part of the 1st recessed part 12 are formed in rectangular shape, for example. The first buffer material 12 covers at least the bottom of the first recess 11A, and may extend to the side wall of the first recess 11A as necessary. Then, facing the first recess 11A of the first plate 11, a second plate 13 made of, for example, plastic and superposed on the surface of the first plate 11 is disposed. A second cushioning material 14 is provided on the surface of the second plate 13 facing the first recess 11 </ b> A of the first plate 11. The second cushioning material 14 is preferably formed separately for each first recess 11A so as to be fitted to each first recess 11A.

第1の緩衝材12及び第2の緩衝材14の少なくともいずれか一方は、導電性材料からなり、例えばカーボン粒子を有機樹脂に添加した材料を含む。この場合の有機樹脂としては、ウレタン系樹脂などが用いられる。この導電性材料は、繊維状であってもよいし、微細な気泡を有したスポンジ状であってもよい。   At least one of the first buffer material 12 and the second buffer material 14 is made of a conductive material, and includes, for example, a material obtained by adding carbon particles to an organic resin. In this case, urethane resin or the like is used as the organic resin. The conductive material may be in the form of a fiber or a sponge having fine bubbles.

図2(B)に示すように、第1の緩衝材12上に載置された半導体チップ15は、第1の板11と第2の板13が重ね合わされると、第1の凹部11Aの空間11Cにおいて、第1の緩衝材12と第2の緩衝材14との間に収納される。半導体チップ15は、第1の緩衝材12と第2の緩衝材14に挟まれて固定されてもよいし、固定されなくてもよい。   As shown in FIG. 2B, when the first plate 11 and the second plate 13 are overlapped, the semiconductor chip 15 placed on the first cushioning material 12 has the first recess 11A. In the space 11 </ b> C, the space is stored between the first buffer material 12 and the second buffer material 14. The semiconductor chip 15 may be fixed by being sandwiched between the first buffer material 12 and the second buffer material 14, or may not be fixed.

第1の緩衝材12の厚さT1及び第2の緩衝材14の厚さT2は、両者が必ずしも一致する必要はない。チップトレイ10の輸送時における衝撃を吸収するために必要な厚さT1,T2は、第1の緩衝材12及び第2の緩衝材14の材質に依存する。例えば、第1の緩衝材12及び第2の緩衝材14の材質が、緩衝の役目を果たす複数の気泡を含んだ一般的なスポンジである場合、厚さT1,T2を、規定の衝撃を緩和できるような厚さにする必要がある。一方、第1の緩衝材12及び第2の緩衝材14の材質が、薄くても衝撃を吸収するような梱包材料である場合、厚さT1,T2を、その材質に合わせて規定の衝撃に耐えられるような厚さにする必要がある。   The thickness T1 of the first cushioning material 12 and the thickness T2 of the second cushioning material 14 do not necessarily match each other. Thicknesses T1 and T2 necessary for absorbing an impact during transportation of the chip tray 10 depend on the materials of the first buffer material 12 and the second buffer material 14. For example, when the material of the first cushioning material 12 and the second cushioning material 14 is a general sponge containing a plurality of bubbles that serve as cushioning, the thicknesses T1 and T2 are reduced to reduce the specified impact. It needs to be as thick as possible. On the other hand, when the material of the first cushioning material 12 and the second cushioning material 14 is a packing material that absorbs impact even if it is thin, the thicknesses T1 and T2 are adjusted to the prescribed impact according to the material. It must be thick enough to withstand.

また、チップトレイ10の輸送時において、第1の凹部11Aの空間11Cに収納された半導体チップ15が、空間11C内で第1の緩衝材12又は第2の緩衝材14から離れて振動することをできるだけ少なくする必要がある。そのため、第1の緩衝材12及び第2の緩衝材14の材質、及び厚さT1,T2は、半導体チップ15の厚さにも依存する。また、第1の板11と第2の板13が重ね合わされた時における第1の緩衝材12と第2の緩衝材14との間の距離D1も、半導体チップ15の厚さに依存する。   Further, when the chip tray 10 is transported, the semiconductor chip 15 accommodated in the space 11C of the first recess 11A vibrates away from the first buffer material 12 or the second buffer material 14 in the space 11C. Should be reduced as much as possible. Therefore, the materials of the first buffer material 12 and the second buffer material 14 and the thicknesses T1 and T2 also depend on the thickness of the semiconductor chip 15. In addition, the distance D1 between the first buffer material 12 and the second buffer material 14 when the first plate 11 and the second plate 13 are overlaid also depends on the thickness of the semiconductor chip 15.

好ましくは、第1の緩衝材12及び第2の緩衝材14の厚さT1,T2は、半導体チップ15の厚さの3分の1程度であり、第1の板11と第2の板13が重ね合わされた時における第1の緩衝材12と第2の緩衝材14との間の距離D1は、そのような第1の緩衝材12及び第2の緩衝材14の厚さT1,T2を反映した距離である。   Preferably, the thicknesses T1 and T2 of the first buffer material 12 and the second buffer material 14 are about one third of the thickness of the semiconductor chip 15, and the first plate 11 and the second plate 13 are the same. The distance D1 between the first cushioning material 12 and the second cushioning material 14 when the first cushioning material 12 and the second cushioning material 14 are overlapped is the thickness T1, T2 of the first cushioning material 12 and the second cushioning material 14. This is the reflected distance.

なお、図3に示すように、第1の板11と第2の板13との間に、複数の第3の板17が重ね合わされてもよい。図の例では、2枚の第3の板17が重ね合わされているが、さらに多くの第3の板17が重ね合わされてもよい。第3の板17の表面には、複数の第1の凹部17Aが形成され、各第1の凹部17Aの中には、第1の緩衝材12が設けられている。その第3の板17の裏面には、第1の凹部17Aと重畳して、第2の緩衝材14が設けられている。   As shown in FIG. 3, a plurality of third plates 17 may be overlapped between the first plate 11 and the second plate 13. In the example shown in the figure, two third plates 17 are overlaid, but more third plates 17 may be overlaid. A plurality of first recesses 17A are formed on the surface of the third plate 17, and the first cushioning material 12 is provided in each first recess 17A. A second cushioning material 14 is provided on the back surface of the third plate 17 so as to overlap the first recess 17A.

互いに重ね合わされる2枚の第3の板17では、下層の第3の板17の第1の緩衝材12と、上層の第3の板17の第2の緩衝材14との間に、半導体チップ15が収納される。最下層の第3の板17の裏面の第2の緩衝材14は、その下層に重ね合わされる第1の板11の第1の緩衝材12と対向し、最上層の第3の板17の表面の第1の緩衝材12は、その上層に重ね合わされる第2の板13の第2の緩衝材14と対向する。   In the two third plates 17 that are overlapped with each other, a semiconductor is interposed between the first buffer material 12 of the lower third plate 17 and the second buffer material 14 of the upper third plate 17. The chip 15 is stored. The second cushioning material 14 on the back surface of the lowermost third plate 17 opposes the first cushioning material 12 of the first plate 11 superimposed on the lower layer, and the uppermost third plate 17 The first cushioning material 12 on the surface is opposed to the second cushioning material 14 of the second plate 13 superimposed on the upper layer.

なお、互いに重ね合わされた複数の第3の板17は、第1の板11と第2の板13との間に形成されず、複数の第3の板17の積層体のみをチップトレイとしてもよい。あるいは、第1の板11と第2の板13との間に一枚の第3の板17が重ね合わされた積層体をチップトレイとしてもよい。   The plurality of third plates 17 overlapped with each other is not formed between the first plate 11 and the second plate 13, and only the stacked body of the plurality of third plates 17 may be used as a chip tray. Good. Alternatively, a stacked body in which one third plate 17 is overlapped between the first plate 11 and the second plate 13 may be used as a chip tray.

上記構成のチップトレイ10によれば、第1の緩衝材12と第2の緩衝材14との間に半導体チップ15が収納されるため、チップトレイ10の輸送時における衝撃は、半導体チップ15に加わりにくくなる。そのため、半導体チップ15に反りや歪みが生じていても、また、半導体チップ15が極めて薄い機種であったとしても、従来例のような半導体チップ15の破損を防ぐことができる。   According to the chip tray 10 configured as described above, since the semiconductor chip 15 is accommodated between the first buffer material 12 and the second buffer material 14, the impact during the transportation of the chip tray 10 is applied to the semiconductor chip 15. It becomes difficult to join. Therefore, even if the semiconductor chip 15 is warped or distorted, or even if the semiconductor chip 15 is a very thin model, the semiconductor chip 15 can be prevented from being damaged as in the conventional example.

さらに、第1の緩衝材12と第2の緩衝材14の少なくともいずれか一方が導電性材料からなるため、第1の緩衝材12又は第2の緩衝材14と、半導体チップ15との摩擦や、ピックアップ用の冶具と半導体チップ15との接触等による静電気の発生を抑止することができる。即ち、静電気による半導体チップ15の破壊や損傷を防ぐことができる。   Furthermore, since at least one of the first buffer material 12 and the second buffer material 14 is made of a conductive material, the friction between the first buffer material 12 or the second buffer material 14 and the semiconductor chip 15 The generation of static electricity due to contact between the pick-up jig and the semiconductor chip 15 or the like can be suppressed. That is, the destruction and damage of the semiconductor chip 15 due to static electricity can be prevented.

[第2の実施形態]
以下に、本発明の第2の実施形態として、第1の実施形態のチップトレイ10の変形例について図面を参照して説明する。図4は、本実施形態による半導体チップの収納容器、即ちチップトレイ30を示す断面図である。このチップトレイ30の平面構成は第1の実施形態における図1の平面構成と同様であり、図4は図1のX−X線に沿った断面に対応している。図4(A)は、第1の板11と第2の板33が重ね合わされる前の状態を示し、図4(B)は第1の板11と第2の板33が重ね合わされた時の状態を示している。また、図5は、本実施形態による半導体チップの収納容器において、第3の板37を含む場合を示す断面図であり、図1のX−X線に沿った断面に対応している。図4及び図5では、図1乃至図3に示したものと同様の構成要素については同一の符号を付して参照する。
[Second Embodiment]
Hereinafter, as a second embodiment of the present invention, a modification of the chip tray 10 of the first embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a cross-sectional view showing the semiconductor chip storage container, that is, the chip tray 30 according to the present embodiment. The planar configuration of the chip tray 30 is the same as the planar configuration of FIG. 1 in the first embodiment, and FIG. 4 corresponds to a cross section taken along line XX of FIG. FIG. 4A shows a state before the first plate 11 and the second plate 33 are overlaid, and FIG. 4B shows a state when the first plate 11 and the second plate 33 are overlaid. Shows the state. FIG. 5 is a cross-sectional view showing the case where the semiconductor chip storage container according to the present embodiment includes the third plate 37, and corresponds to a cross section taken along line XX of FIG. 4 and 5, the same components as those shown in FIGS. 1 to 3 are denoted by the same reference numerals.

図4(A)に示すように、チップトレイ30では、第1の板11の第1の凹部11Aと対向して、例えはプラスチックからなり、第1の板11の表面に重ね合わせ可能な第2の板33が配置される。そして、第2の板33の表面には、第1の板11に形成された第1の凹部11Aに対向して、複数の第2の凹部33Aが形成されている。第2の凹部33Aの底部及び開口部は、第1の凹部11Aに対応して、例えば矩形状に形成される。第2の凹部33Aの中には、第2の緩衝材34が設けられている。第2の緩衝材34は、第2の凹部33Aの少なくとも底部を覆っており、必要に応じて、第2の凹部33Aの側壁に延びてもよい。第1の緩衝材12及び第2の緩衝材14の少なくともいずれか一方は、第1の実施形態における第1の緩衝材12と同様の導電性材料からなる。   As shown in FIG. 4A, in the chip tray 30, the first plate 11 is opposed to the first concave portion 11A and is made of, for example, plastic and can be superimposed on the surface of the first plate 11. Two plates 33 are arranged. A plurality of second recesses 33 </ b> A are formed on the surface of the second plate 33 so as to face the first recesses 11 </ b> A formed on the first plate 11. The bottom and opening of the second recess 33A are formed in a rectangular shape, for example, corresponding to the first recess 11A. A second cushioning material 34 is provided in the second recess 33A. The second cushioning material 34 covers at least the bottom of the second recess 33A, and may extend to the side wall of the second recess 33A as necessary. At least one of the first buffer material 12 and the second buffer material 14 is made of the same conductive material as that of the first buffer material 12 in the first embodiment.

図4(B)に示すように、第1の緩衝材12上に載置された半導体チップ15は、第1の板11と第2の板33が重ね合わされると、第1の凹部11A及び第2の凹部33Aの空間33Cにおいて、第1の緩衝材12と第2の緩衝材34との間に収納される。半導体チップ15は、第1の緩衝材12と第2の緩衝材34に挟まれて固定されてもよいし、固定されなくてもよい。第1の板11と第2の板33が重ね合わされた時における第1の緩衝材12と第2の緩衝材34との間の距離D2は、第2の板33に第2の凹部33Aが形成されている分、第1の実施形態における第1の緩衝材12と第2の緩衝材14との間の距離D1に比して大きくすることができる。あるいは、第1の緩衝材12の厚さT1、又は第2の緩衝材34の厚さT2を、第1の実施形態に比して厚くすることができる。ただし、距離D2は、第1の実施形態における距離D1と同じであってもよく、また、厚さT1,T2は、第1の実施形態と同じであってもよい。   As shown in FIG. 4B, when the first plate 11 and the second plate 33 are overlapped with each other, the semiconductor chip 15 placed on the first buffer material 12 has the first recess 11A and In the space 33 </ b> C of the second recess 33 </ b> A, the space is accommodated between the first buffer material 12 and the second buffer material 34. The semiconductor chip 15 may be fixed between the first buffer material 12 and the second buffer material 34, or may not be fixed. The distance D2 between the first cushioning material 12 and the second cushioning material 34 when the first plate 11 and the second plate 33 are overlaid is such that the second recess 33A is formed on the second plate 33. The formed portion can be made larger than the distance D1 between the first buffer material 12 and the second buffer material 14 in the first embodiment. Or thickness T1 of the 1st shock absorbing material 12 or thickness T2 of the 2nd shock absorbing material 34 can be thickened compared with 1st Embodiment. However, the distance D2 may be the same as the distance D1 in the first embodiment, and the thicknesses T1 and T2 may be the same as in the first embodiment.

なお、図5に示すように、第1の板11と第2の板33との間に、複数の第3の板37が重ね合わされてもよい。図の例では、2枚の第3の板37が重ね合わされているが、さらに多くの第3の板37が重ね合わされてもよい。第3の板37の表面には、複数の第1の凹部37Aが形成され、各第1の凹部37Aの中には、第1の緩衝材32が設けられている。その第3の板37の裏面には、第1の凹部37Aと重畳して、複数の第2の凹部37Bが形成され、第2の凹部37Bの中には第2の緩衝材34が設けられている。第1の凹部37Aと第2の凹部37Bの底部及び開口部は、例えば矩形状に形成される。   As shown in FIG. 5, a plurality of third plates 37 may be overlapped between the first plate 11 and the second plate 33. In the example shown in the figure, two third plates 37 are overlapped, but more third plates 37 may be overlapped. A plurality of first recesses 37A are formed on the surface of the third plate 37, and a first cushioning material 32 is provided in each first recess 37A. A plurality of second recesses 37B are formed on the back surface of the third plate 37 so as to overlap the first recesses 37A, and a second cushioning material 34 is provided in the second recesses 37B. ing. The bottom and opening of the first recess 37A and the second recess 37B are formed in a rectangular shape, for example.

互いに重ね合わされる2枚の第3の板37では、下層の第3の板37の第1の緩衝材32と、上層の第3の板37の第2の緩衝材34との間に、半導体チップ15が収納される。最下層の第3の板37の第2の緩衝材34は、その下層に重ね合わされる第1の板11の第1の緩衝材12と対向し、最上層の第3の板37の第1の緩衝材32は、その上層に重ね合わされる第2の板33の第2の緩衝材34と対向する。   In the two third plates 37 that are overlapped with each other, a semiconductor is interposed between the first buffer member 32 of the lower third plate 37 and the second buffer member 34 of the upper third plate 37. The chip 15 is stored. The second cushioning material 34 of the lowermost third plate 37 faces the first cushioning material 12 of the first plate 11 superimposed on the lower layer, and the first of the uppermost third plate 37. The buffer material 32 is opposed to the second buffer material 34 of the second plate 33 superimposed on the upper layer.

なお、互いに重ね合わされた複数の第3の板37は、第1の板11と第2の板33との間に形成されず、複数の第3の板37の積層体のみをチップトレイとしてもよい。あるいは、第1の板11と第2の板33との間に一枚の第3の板37が重ね合わされた積層体をチップトレイとしてもよい。   Note that the plurality of third plates 37 stacked on each other are not formed between the first plate 11 and the second plate 33, and only a stack of the plurality of third plates 37 may be used as a chip tray. Good. Alternatively, a stacked body in which one third plate 37 is overlapped between the first plate 11 and the second plate 33 may be used as a chip tray.

上記構成のチップトレイ30においても、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。   Also in the chip tray 30 having the above configuration, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

[第3の実施形態]
以下に、本発明の第3の実施形態として、上記チップトレイ10,30の替わりに、半導体チップの収納容器がリールに巻きつけられるテープ状の様態である場合について、図面を参照して説明する。この収納容器を、以降、チップ収納テープと呼ぶことにする。図6は本実施形態による半導体チップの収納容器を示す平面図である。また、図7は、図6のY−Y線に沿った断面図である。なお、図6では、後述する収納部材51とその収納部51Aの平面構成のみを示し、その他の構成要素については図示を省略している。
[Third embodiment]
Hereinafter, as a third embodiment of the present invention, a case in which a semiconductor chip storage container is wound around a reel in place of the chip trays 10 and 30 will be described with reference to the drawings. . Hereinafter, this storage container is referred to as a chip storage tape. FIG. 6 is a plan view showing the semiconductor chip storage container according to the present embodiment. FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line YY of FIG. In FIG. 6, only a planar configuration of a storage member 51 and a storage portion 51 </ b> A, which will be described later, is shown, and the other components are not shown.

図6及び図7に示すように、このチップ収納テープ50では、プラスチック等の弾性を有した収納部材51に、ブロー成型等により、複数の収納部51Aが形成されている。収納部51Aの中には、少なくともその底部を覆って第1の緩衝材52が形成されている。収納部51A内に半導体チップ15が載置された後、収納部材51には、各収納部51Aの第1の緩衝材52と対向して、テープ基材53の表面上に接着された第2の緩衝材54が貼り付けられる。この貼り付けでは、第1の緩衝材52と第2の緩衝材54が対向するのであれば、第2の緩衝材54はテープ基材53の全体に接着されなくともよく、収納部材51とテープ基材53が接触して貼り付けられてもよい。これにより、半導体チップ15は、収納部51Aの空間51Cにおいて、第1の緩衝材52と第2の緩衝材54との間に収納される。半導体チップ15は、第1の緩衝材52と第2の緩衝材54に挟まれて固定されてもよいし、固定されなくてもよい。   As shown in FIGS. 6 and 7, in this chip storage tape 50, a plurality of storage portions 51A are formed on a storage member 51 having elasticity such as plastic by blow molding or the like. A first cushioning material 52 is formed in the accommodating portion 51A so as to cover at least the bottom portion thereof. After the semiconductor chip 15 is placed in the storage portion 51A, the storage member 51 is secondly bonded to the surface of the tape base material 53 so as to face the first buffer material 52 of each storage portion 51A. The buffer material 54 is affixed. In this pasting, as long as the first cushioning material 52 and the second cushioning material 54 face each other, the second cushioning material 54 does not have to be adhered to the entire tape base 53, and the storage member 51 and the tape The base material 53 may be stuck in contact. Thereby, the semiconductor chip 15 is accommodated between the first buffer material 52 and the second buffer material 54 in the space 51C of the storage part 51A. The semiconductor chip 15 may be fixed by being sandwiched between the first buffer material 52 and the second buffer material 54 or may not be fixed.

第1の緩衝材52と第2の緩衝材54の材質、厚さは、第1の実施形態における第1の緩衝材12及び第2の緩衝材14と同様である。また、第1の緩衝材52と第2の緩衝材54との間の距離D3は、第1の実施形態における距離D1と同様に、半導体チップ15の厚さに依存している。   The materials and thicknesses of the first buffer material 52 and the second buffer material 54 are the same as those of the first buffer material 12 and the second buffer material 14 in the first embodiment. Further, the distance D3 between the first buffer material 52 and the second buffer material 54 depends on the thickness of the semiconductor chip 15 as in the case of the distance D1 in the first embodiment.

上記構成のチップ収納テープ50においても、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。   Also in the chip storage tape 50 having the above configuration, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

なお、本発明は上記各実施形態に限定されることなく、その要旨を逸脱しない範囲で変更が可能であることは言うまでもない。例えば、第1の実施形態及び第2の実施形態では、第1の凹部11A,17A,37A、第2の凹部33A,37Bの形状は矩形状以外であってもよく、また、半導体チップ15のみならず、ダイシング工程が行われる前の半導体ウエハが収納されるものであってもよい。   Needless to say, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and modifications can be made without departing from the scope of the invention. For example, in the first embodiment and the second embodiment, the shapes of the first recesses 11A, 17A, and 37A and the second recesses 33A and 37B may be other than a rectangular shape, and only the semiconductor chip 15 is used. Instead, the semiconductor wafer before the dicing process is stored may be stored.

本発明の第1の実施形態による半導体チップの収納容器を示す平面図である。It is a top view which shows the storage container of the semiconductor chip by the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態による半導体チップの収納容器を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the storage container of the semiconductor chip by the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態による半導体チップの収納容器を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the storage container of the semiconductor chip by the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態による半導体チップの収納容器を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the storage container of the semiconductor chip by the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態による半導体チップの収納容器を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the storage container of the semiconductor chip by the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態による半導体チップの収納容器を示す平面図である。It is a top view which shows the storage container of the semiconductor chip by the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態による半導体チップの収納容器を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the storage container of the semiconductor chip by the 3rd Embodiment of this invention. 従来例による半導体チップの収納容器を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the storage container of the semiconductor chip by a prior art example.

符号の説明Explanation of symbols

10,111 チップトレイ 11 第1の板
11A,17A,37A,111A 第1の凹部
12,32,52 第1の緩衝材 13,33 第2の板
14,34,54 第2の緩衝材 15,115 半導体ウエハ
17,37 第3の板 33A,37B 第2の凹部
50 チップ収納テープ 51 収納部材
53 テープ基材
10, 111 Chip tray 11 First plate 11A, 17A, 37A, 111A First recess 12, 32, 52 First buffer material 13, 33 Second plate 14, 34, 54 Second buffer material 15, 115 Semiconductor wafers 17 and 37 Third plate 33A and 37B Second recess 50 Chip storage tape 51 Storage member 53 Tape base material

Claims (8)

表面に第1の凹部が形成された第1の板と、
前記第1の凹部の中に設けられた第1の緩衝材と、
前記第1の板の表面に重ね合わせ可能な第2の板と、
前記第1の凹部と対向した前記第2の板の表面に設けられた第2の緩衝材と、を備え、
前記第1の緩衝材と前記第2の緩衝材との間に半導体チップを収納することを特徴とする半導体チップの収納容器。
A first plate having a first recess formed on the surface;
A first cushioning material provided in the first recess;
A second plate that can be superimposed on the surface of the first plate;
A second cushioning material provided on the surface of the second plate facing the first recess,
A semiconductor chip storage container, wherein a semiconductor chip is stored between the first buffer material and the second buffer material.
前記第2の板の表面に、前記第1の凹部に対向した第2の凹部が形成され、前記第2の緩衝材は前記第2の凹部の中に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体チップの収納容器。 2. A second recess facing the first recess is formed on a surface of the second plate, and the second cushioning material is provided in the second recess. Item 14. A semiconductor chip storage container according to Item 1. 互いに重ね合わせて積み上げ可能な複数の板と、
前記板の表面に形成された第1の凹部と、
前記第1の凹部の中に設けられた第1の緩衝材と、
前記第1の凹部と重畳して前記板の裏面に設けられた第2の緩衝材と、を備え、
互いに重ねられる2枚の前記板において、下層の板の前記第1の緩衝材と、その上層の板の前記第2の緩衝材との間に半導体チップを収納することを特徴とする半導体チップの収納容器。
A plurality of plates that can be stacked on top of each other;
A first recess formed on the surface of the plate;
A first cushioning material provided in the first recess;
A second cushioning material provided on the back surface of the plate overlapping the first recess,
A semiconductor chip characterized in that a semiconductor chip is housed between the first buffer material of a lower-layer plate and the second buffer material of an upper-layer plate in the two plates stacked on each other. Storage container.
前記第1の凹部と重畳して前記板の裏面に第2の凹部が形成され、前記第2の緩衝材は前記第2の凹部の中に設けられていることを特徴とする請求項3に記載の半導体チップの収納容器。 The second recess is formed on the back surface of the plate so as to overlap the first recess, and the second cushioning material is provided in the second recess. A storage container for the semiconductor chip as described. 半導体チップの収納部を有した収納部材と、
前記収納部の中に設けられた第1の緩衝材と、
表面に第2の緩衝材が接着され、前記収納部を覆って前記収納部材に貼り付け可能なテープ基材と、を備え、前記第1の緩衝材と前記第2の緩衝材との間に半導体チップを収納するようにしたことを特徴とする半導体チップの収納容器。
A housing member having a semiconductor chip housing portion;
A first cushioning material provided in the storage portion;
A second base material, and a tape base material that covers the storage unit and can be attached to the storage member; and between the first buffer material and the second buffer material. A semiconductor chip storage container, wherein a semiconductor chip is stored.
前記第1の緩衝材、前記第2の緩衝材の少なくとも一方は、導電性材料からなることを特徴とする請求項1、2、3、4、5のいずれかに記載の半導体チップの収納容器。 6. The semiconductor chip storage container according to claim 1, wherein at least one of the first buffer material and the second buffer material is made of a conductive material. . 前記導電性材料は、有機樹脂を含む基材にカーボン粒子を添加してなることを特徴とする請求項6に記載の半導体チップの収納容器。 The semiconductor chip storage container according to claim 6, wherein the conductive material is formed by adding carbon particles to a base material containing an organic resin. 半導体ウエハをバックグラインドする第1の工程と、
バックグラインドされた前記半導体ウエハをダイシングして複数の半導体チップに分割する第2の工程と、
前記半導体チップを次の工程へ輸送する第3の工程と、を備え、
前記第3の工程は、凹部が形成され、この凹部の中に第1の緩衝材が設けられた第1の板と、表面に第2の緩衝材が設けられた第2の板とを準備し、
前記第1の板と前記第2の板とを重ね合わせ、前記第1の緩衝材と前記第2の緩衝材との間に半導体チップを収納して輸送することを特徴とする半導体装置の製造方法。
A first step of back grinding a semiconductor wafer;
A second step of dicing the back-ground semiconductor wafer into a plurality of semiconductor chips;
A third step of transporting the semiconductor chip to the next step, and
In the third step, a recess is formed, and a first plate having a first cushioning material provided in the recess and a second plate having a second cushioning material provided on the surface are prepared. And
Manufacturing the semiconductor device, wherein the first plate and the second plate are overlapped, and a semiconductor chip is accommodated and transported between the first buffer material and the second buffer material. Method.
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