JP2009120405A

JP2009120405A - 紫外光用ガラス組成物及びそれを用いた光学装置

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Publication number: JP2009120405A
Application number: JP2007292527A
Authority: JP
Inventors: Tomohiro Watanabe; 智大渡邊; Taihei Mukaide; 大平向出
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 2007-11-09
Filing date: 2007-11-09
Publication date: 2009-06-04
Also published as: EP2099720A1; WO2009060984A1; US7935947B2; US20100072406A1

Abstract

【課題】真性複屈折による悪影響を抑えた紫外光用ガラス組成物及びそれを用いた光学装置を提供する。
【解決手段】Ｌｕ、Ｓｉ及びＯを合計で９９．９９重量％以上含有し、かつＬｕとＳｉの含有割合を陽イオンパーセントで表した場合に、Ｌｕが２６％以上３９％以下、Ｓｉが６１％以上７４％以下である紫外光用ガラス組成物及びそれを用いた光学装置。前記Ｌｕ、Ｓｉ及びＯは、Ｌｕ_２Ｏ_３とＳｉＯ_２からなることが好ましい。そして、前記Ｌｕ_２Ｏ_３とＳｉＯ_２の含有割合が、陽イオンパーセントでＬｕが２６％以上３９％以下、Ｓｉが６１％以上７４％以下であることが好ましい。
【選択図】図１

Description

本発明は紫外光用ガラス組成物及びそれを用いた光学装置に関し、特に光学装置に用いられる光学部材などに適している酸化物ガラス組成物及びそれを用いた光学装置に関するものである。

光学部材はカメラ、望遠鏡など幅広い分野で利用されている。光学部材は結晶を原材料とするものとガラスを原材料とするものと大きく２つに分けることができる。その中で結晶光学部材はその結晶系において用途が分かれる。結像光学系などにレンズとして用いられるものは立方晶系の結晶である。光学的に等方である立方晶の結晶を用いることにより、光学的な異方性を起因とする複屈折などを低減させるができる。

一方、半導体集積回路の高集積化に伴い、超微細パターン形成への要求がますます高まっている。そして、微細パターンをウエハ上に転写するステップ・アンド・リピート方式の縮小投影型露光装置（ステッパー）の高性能化が行われ、露光用の光源の波長が短波長へと移行している。その中で注目されている光学部材は、紫外領域の透過率が高い立方晶系のフッ化カルシウム単結晶である。さらに近年、より高い解像力を得るために光学部材の高屈折率化を目指し、Ｓｉよりも屈折能の高い、Ｌｕ、ＡｌおよびＭｇなどを用いた光学部材の開発が試みられている。立方晶系のルテチウムアルミニウムガーネット単結晶（Ｌｕ_３Ａｌ_５Ｏ_１２）、酸化マグネシウム単結晶（ＭｇＯ）、マグネシウムスピネル単結晶（ＭｇＡｌ_２Ｏ_４）などの開発が積極的に行われている。特にルテチウムアルミニウムガーネット単結晶に関しては屈折率が高く、今後の開発が期待されている。例えば、ルテチウムアルミニウムガーネット単結晶の波長１９３ｎｍにおける屈折率は、２．１、石英ガラスの波長１９３ｎｍにおける屈折率は、１．５６、フッ化カルシウム単結晶の波長１９３ｎｍにおける屈折率は、１．５０である。

単結晶材料の場合、紫外光領域では真性複屈折（ＩＢＲ；ｉｎｔｒｉｎｓｉｃｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）が発生する問題がある。ＭｇＯやＭｇＡｌ_２Ｏ_４では真性複屈折率の大きさが７０ｎｍ／ｃｍ（外挿値）、５２ｎｍ／ｃｍ（外挿値）であり、ＣａＦ_２の３．４ｎｍ／ｃｍに比べてはるかに大きい（非特許文献１）。

そのため、真性複屈折が生じることのない材料の開発が要求されている。紫外領域での透過性の高い高屈折率光学部材の開発例として石英ガラスに圧力を加えることによって起こる石英ガラスの永久高密度化によって屈折率を上げる試みがされている（非特許文献２）。しかしながら、圧力印加による屈折率変動は小さいため実用化には至っていない。
ＪｏｈｎＨ．Ｂｕｒｎｅｔｔ，ＳｉｍｏｎＧ．Ｋａｐｌａｎ，ＥｒｉｃＬ．Ｓｈｉｒｌｅｙ，ＰａｕｌＪ．Ｔｏｍｐｋｉｎｓ，ａｎｄＪａｍｅｓＥ．Ｗｅｂｂ，"Ｈｉｇｈ−ＩｎｄｅｘＭａｔｅｒｉａｌｓｆｏｒ１９３ｎｍＩｍｍｅｒｓｉｏｎＬｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ，"ＰｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓＳＰＩＥ５７５４−５７（２００５年）Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｇｌａｓｓｅｓ１０（１９６９）１１７

要するに、石英ガラスの屈折率を上げることは難しく、ルテチウムアルミニウムガーネット単結晶のような結晶は真性複屈折が発生する。
また、光学装置としての液浸式露光装置に用いるには、各種特性の点で今だ十分ではなかった。

本発明は、この様な背景技術に鑑みてなされたものであり、真性複屈折率による課題が発生しない新規な組成の紫外光用ガラス組成物を提供するものである。
本発明の別の目的は、液浸式露光装置の最終レンズに好適な、屈折率が高く、透過率が高く、真性複屈折が低いかあるいは存在せず、又、応力複屈折（ＳＢＲ；ｓｔｒｅｓｓｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）が低いかあるいは存在しないところの、紫外光用ガラス組成物及びそれを用いた光学装置を提供することにある。

さらに、本発明のほかの目的は、光源の光に対する耐久性があり、使用する液体に対する耐久性がある紫外光用ガラス組成物及びそれを用いた光学装置を提供することにある。

本発明の第１の骨子による紫外光用ガラス組成物は、Ｌｕ、Ｓｉ及びＯを合計で９９．９９重量％以上含有し、かつＬｕとＳｉの含有割合を陽イオンパーセントで表した場合に、Ｌｕが２６％以上３９％以下、Ｓｉが６１％以上７４％以下であることを特徴とする。

本発明の第２の骨子による光学装置は、紫外光を発生する光源と、前記光源からの前記紫外光を対象物に照射する光学系とを有する光学装置において、前記光学系は光学部材を備え、前記光学部材が、Ｌｕ、Ｓｉ及びＯを合計で９９．９９重量％以上含有し、かつＬｕとＳｉの含有割合を陽イオンパーセントで表した場合に、Ｌｕが２６％以上３９％以下、Ｓｉが６１％以上７４％以下である紫外光用ガラス組成物からなる、基材及び／又は光学薄膜を含むことを特徴とする。

本発明の第３の骨子による光学装置は、紫外光を発生する光源と、前記光源からの前記紫外光を対象物に照射する光学系とを有する光学装置において、前記光学系は、第１の光学部材と、該第１の光学部材より屈折率が高い第２の光学部材とを備え、前記第２の光学部材が、Ｌｕ、Ｓｉ及びＯを合計で９９．９９重量％以上含有し、かつＬｕとＳｉの含有割合を陽イオンパーセントで表した場合に、Ｌｕが２６％以上３９％以下、Ｓｉが６１％以上７４％以下である紫外光用ガラス組成物からなる基材を含むことを特徴とする。

本発明者らは、真性複屈折のないガラス材料について新規ガラス材料を探索し、その結果Ｌｕ、Ｓｉ、Ｏの組成比を上記の特定の範囲にすると、その組成物が結晶化せず、ガラス化（非晶質化）することを発見した。Ｌｕの酸化物は単独ではほとんどガラス化しないが、Ｓｉの酸化物（波長５８７．６ｎｍにおいて屈折率は１．４５８）に比べて高い屈折率（波長５８７．６ｎｍにおいて屈折率は１．９３３）を有している。特定の範囲のＬｕの酸化物とＳｉの酸化物からなる組成物はガラス化し、高い屈折率を有するガラス組成物となる。

本発明によれば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍのような波長を有する紫外光において、真性複屈折率による課題が発生しない新規な紫外光用ガラス組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、応力複屈折が低く、使用する紫外光や液体に対する耐久性がある紫外光用ガラス組成物及びそれを用いた光学装置を提供することができる。

以下に本発明を実施するための最良の形態を示す。ただし、この実施形態に記載されている内容は、特定的な記載がない限りは、発明の範囲を限定する趣旨のものではない。

（実施形態１）
本発明の実施形態１に係るガラス組成物は、Ｌｕ、Ｓｉ及びＯを合計で９９．９９重量％以上含有し、かつＬｕとＳｉの含有割合を陽イオンパーセントで表した場合に、Ｌｕが２６％以上３９％以下、Ｓｉが６１％以上７４％以下であることを特徴とする。

酸化物ガラス組成物においてガラスの主成分としてＬｕ、Ｓｉ、Ｏからなり、その含有量によりガラス化できる範囲が決まる。ガラス化は、目的の組成物の融液をつくりそれを急冷することやＣＶＤ法等の気相合成法によって行う。

前記ガラス組成物において、Ｌｕ、Ｓｉ及びＯを合計で９９．９９重量％以上、好ましくは１００重量％に限りなく近い方が望ましい。
前記ガラス組成物において、ＬｕとＳｉの含有割合が陽イオンパーセントでＬｕが２６％以上３９％以下、好ましくは２７％以上３７％以下であり、Ｓｉが６１％以上７４％以下、好ましくは６３％以上７３％以下であるのが望ましい。ＬｕとＳｉの含有割合が上記の範囲であると非晶質化が起こり、真性複屈折率による課題が発生しないので好ましい。

なお、ここでいう、Ｌｕの陽イオンパーセントとは、ＬｕとＳｉの両方の陽イオン数の合計に対するＬｕ陽イオンの数の割合である。Ｓｉの陽イオンパーセントとはＬｕとＳｉの両方の陽イオン数の合計に対するＳｉ陽イオンの数の割合である。

前記Ｌｕ、Ｓｉ及びＯは、Ｌｕ_２Ｏ_３とＳｉＯ_２からなることが好ましい。そして、前記Ｌｕ_２Ｏ_３とＳｉＯ_２の含有割合が、陽イオンパーセントでＬｕが２６％以上３９％以下、Ｓｉが６１％以上７４％以下であることが好ましい。

また、不純物はガラス化の阻害、欠陥の生成などに寄与することが多いため１００ｐｐｍ以下に制御することが適当である。一方、必要に応じて、硼素（Ｂ）を添加してもよい。

上述した実施形態によるガラス組成物は、そのものをレンズの基材（レンズの硝材）として利用できる他、スパッタリングターゲットとして用いて光学薄膜の形成に利用することもできる。

そして、これらのレンズや光学薄膜は、波長が３６５ｎｍ以下、より好ましくは２４８ｎｍ以下、更には１９３ｎｍ以下の紫外光を透過する光学部材として好適に用いられる。

（実施形態２）
本発明の実施形態２による光学装置としての露光装置では、波長２００ｎｍ以下の真空紫外領域の光（たとえば、ＡｒＦエキシマレーザー；発振波長１９３ｎｍ、Ｆ_２エキシマレーザー；発振波長１５７ｎｍなど）を発生する光源を使用する。これは、露光波長が小さくレンズの開口数が大きいほど、解像線幅を小さくして解像度を向上できるからである。

さらに、露光基板と露光装置の最終レンズとの間に液体を充填することにより、露光基板面における光の波長を実質的に短くして解像度を向上させる液浸式露光装置となっている。

液浸式露光装置は、少なくとも、光源と、照明光学系と、光学マスク（レチクル）と、投影光学系と、液体の供給回収装置とを備えた装置である。そして、投影光学系の露光基板側の先端に設けられたレンズ（最終レンズ）と、感光性膜を有する露光基板との間に、液体を充填した状態で露光が行われる。

このような液浸式露光装置の最終レンズには、光源の光の波長における屈折率および透過率が高いことが要求される。また、真性複屈折や応力複屈折が低いかあるいは存在しないことが要求される。さらには、光源の光に対する耐久性があること、使用する液体に対する耐久性があることが要求される。このため、本実施形態２では、前述した実施形態１のガラス組成物からなるレンズを最終レンズとして用いる。投影光学系の残りのレンズは、石英ガラスからなるレンズを用いる。

これらのレンズには必要に応じて反射防止用の光学薄膜が形成される。
図１は液浸式露光装置の模式図である。
図１中、液浸式露光装置１１は、マスク（レチクル）１４を境にした照明光学系１３と投影光学系１５と、さらに液体の供給回収装置１７，１８と、露光基板を移動させ得るステージ２５と、レーザー光源２６とを備えている。

投影光学系１５は、相対的に屈折率の低い第１の光学部材として、石英ガラス製のレンズ群と、露光基板側の先端に設けられた相対的に屈折率の高い第二の光学部材として最終レンズ１９とを有する。投影光学系１５は、この最終レンズ１９と、感光性膜を有する露光基板２１との間に、液体２３を充填した状態で、対象物としての感光性膜を有する露光基板２１に紫外光を照射する露光を行う。

この露光によって、光学マスク（レチクル）１４のパターンを縮小して、露光基板２１上に転写することができる。なお、図示した例では、最終レンズ１９と基板２１との間のみに液体２３が保持されているが、これに限定されるものではなく、露光基板２１全体を液体２３に浸す態様であってもよい。液体２３としては、波長１９３ｎｍの光に対する屈折率（２０℃）が１．４４である純水や、フッ素系有機溶媒などを用いることができる。

本実施形態２による発明の液浸式露光装置は、光源として、波長２００ｎｍ以下のレーザー光源を備えていることが好ましく、より具体的には、ＡｒＦエキシマレーザー発振器またはＦ_２エキシマレーザー発振器を備えていることが好ましい。このような短波長の光を光源として用いることにより、露光装置の解像度を向上させることができる。

そして、本実施形態の光学部材は、波長が１９３ｎｍ、１５７ｎｍの真空紫外光を透過する露光装置用光学部材として好適に用いられる。

（実施形態３）
本発明の実施形態３による光学装置は、紫外光を発生する光源と、前記光源からの前記紫外光を対象物に照射する光学系とを有する光学装置において、前記光学系は光学部材を備え、前記光学部材が、Ｌｕ、Ｓｉ及びＯを合計で９９．９９重量％以上含有し、かつＬｕとＳｉの含有割合を陽イオンパーセントで表した場合に、Ｌｕが２６％以上３９％以下、Ｓｉが６１％以上７４％以下である紫外光用ガラス組成物からなる、基材及び／又は光学薄膜を含むことを特徴とする。

すなわち、上述した紫外光用ガラス組成物そのものを基材としてレンズを作製する。
あるいは、上記紫外光用ガラス組成物をターゲットとして、スパッタリングを行い、シリコンウエハや石英ガラスなどからなる基材表面上に高屈折率の光学薄膜を形成し、レンズやミラーなどの光学部材レンズを作製する。上記光学薄膜は、Ｌｕ、Ｓｉ及びＯを合計で９９．９９重量％以上含有し、かつＬｕとＳｉの含有割合を陽イオンパーセントで表した場合に、Ｌｕが２６％以上３９％以下、Ｓｉが６１％以上７４％以下であることを特徴とする。

そして、本実施形態の光学部材は、波長が３６５ｎｍ以下、より好ましくは２４８ｎｍ以下、更には１９３ｎｍ以下の紫外光を透過する光学装置用光学部材として好適に用いられる。

以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。
実施例１
ガラス合成の出発材料としてＬｕ_２Ｏ_３（純度９９．９９重量％）、ＳｉＯ_２（純度９９．９９５重量％）を用いた。これらの出発材料を、ガラス組成においてＬｕ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２それぞれが陽イオンパーセントでＬｕが３０％、Ｓｉが７０％となるように秤量した。Ｌｕ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２それぞれの量論値は、質量比でＬｕ_２Ｏ_３：ＳｉＯ_２が２．８４：１であるが、融解時にＳｉＯ_２が昇華し、減少するため、出発材料に占めるＳｉＯ_２の割合を適宜調整した。これらの出発材料を乳鉢中で十分に混合した。その後、この混合物、約１００ｍｇを炭酸ガスレーザ照射で部分的に融解し、レーザの出力を弱めて球状の多結晶集合体を作成した。

この多結晶集合体を図２に示すガスジェット浮遊装置の銅製ノズル２上にセットし乾燥空気３を用いて試料１の多結晶集合体を浮遊させた状態で再度、炭酸ガスレーザ４により加熱し多結晶集合体を完全に融解させた。その状態でレーザの出力を遮断し急冷することにより透明な球体を得た。この過程を輻射温度計にて温度をモニタしたが結晶化による発熱反応は見られなかった。

この透明球体をＸ線回折法によって結晶の有無を調べた。図３は、この透明球体のＸ線散乱強度曲線を示している。横軸はＱ（＝４πｓｉｎθ／λ）、縦軸Ｉ（Ｑ）は散乱強度である。光源としては、１１３．４ｋｅＶに単色化したＸ線を用いた。３個から４個の球状試料（直径２〜３ｍｍ）をＳｉＯ_２ガラス製キャピラリーに入れるか、あるいはカプトンテープに挟み、その試料からの散乱Ｘ線をＧｅ固体検出器により測定した。図３の散乱パターンからも、結晶性を示す回折パターンは見られず、ガラスに特徴的なハローパターンとなっており、本透明球体がガラス（非晶質）であることが確認できた。

実施例２
ガラス合成の出発材料としてＬｕ_２Ｏ_３（純度９９．９９重量％）、ＳｉＯ_２（純度９９．９９５重量％）を用いた。これらの出発材料を、ガラス組成においてＬｕ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２それぞれが陽イオンパーセントでＬｕが２６％、Ｓｉが７４％となるように秤量した。Ｌｕ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２それぞれの量論値は、質量比でＬｕ_２Ｏ_３：ＳｉＯ_２が２．３３：１であるが、融解時にＳｉＯ_２が昇華し、減少するため、出発材料に占めるＳｉＯ_２の割合を適宜調整した。これらの出発材料を乳鉢中で十分に混合した。その後、この混合物、約１００ｍｇを炭酸ガスレーザ照射で部分的に融解し、レーザの出力を弱めて球状の多結晶集合体を作成した。

この多結晶集合体をガスジェット浮遊装置にセットし乾燥空気を用いて浮遊させた状態で再度、炭酸ガスレーザにより加熱し多結晶集合体を完全に融解させた。その状態でレーザの出力を遮断し急冷することにより球状のガラスを得ることができた。

実施例３
ガラス合成の出発材料としてＬｕ_２Ｏ_３（純度９９．９９重量％）、ＳｉＯ_２（純度９９．９９５重量％）を用いた。これらの出発材料を、ガラス組成においてＬｕ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２それぞれが陽イオンパーセントでＬｕが３４％、Ｓｉが６６％なるように秤量した。Ｌｕ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２それぞれの量論値は、質量比でＬｕ_２Ｏ_３：ＳｉＯ_２が３．４１：１であるが、融解時にＳｉＯ_２が昇華し、減少するため、出発材料に占めるＳｉＯ_２の割合を適宜調整した。これらの出発材料を乳鉢中で十分に混合した。その後、この混合物、約１００ｍｇを炭酸ガスレーザ照射で部分的に融解し、レーザの出力を弱めて球状の多結晶集合体を作成した。

実施例４
ガラス合成の出発材料としてＬｕ_２Ｏ_３（純度９９．９９重量％）、ＳｉＯ_２（純度９９．９９５重量％）を用いた。これらの出発材料を、ガラス組成においてＬｕ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２のそれぞれが陽イオンパーセントでＬｕが３９％、Ｓｉが６１％なるように秤量した。Ｌｕ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２それぞれの量論値は、質量比でＬｕ_２Ｏ_３：ＳｉＯ_２が４．２３：１であるが、融解時にＳｉＯ_２が昇華し、減少するため、出発材料に占めるＳｉＯ_２の割合を適宜調整した。これらの出発材料を乳鉢中で十分に混合した。その後、この混合物、約１００ｍｇを炭酸ガスレーザ照射で部分的に融解し、レーザの出力を弱めて球状の多結晶集合体を作成した。

この多結晶集合体をガスジェット浮遊装置にセットし乾燥空気を用いて浮遊させた状態で再度、炭酸ガスレーザにより加熱し、多結晶集合体を完全に融解させた。その状態でレーザの出力を遮断し、急冷することにより球状のガラスを得ることができた。

比較例１
ガラス合成の出発材料としてＬｕ_２Ｏ_３（純度９９．９９重量％）、ＳｉＯ_２（純度９９．９９５重量％）を用いた。これらの出発材料を、ガラス組成においてＬｕ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２それぞれが陽イオンパーセントでＬｕが２５％、Ｓｉが７５％なるように秤量した。Ｌｕ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２それぞれの量論値は、質量比でＬｕ_２Ｏ_３：ＳｉＯ_２が２．２１：１であるが、融解時にＳｉＯ_２が昇華し、減少するため、出発材料に占めるＳｉＯ_２の割合を適宜調整した。これらの出発材料を乳鉢中で十分に混合した。その後、この混合物、約１００ｍｇを炭酸ガスレーザ照射で部分的に融解し、レーザの出力を弱めて球状の多結晶集合体を作成した。

この多結晶集合体をガスジェット浮遊装置にセットし乾燥空気を用いて浮遊させた状態で再度、炭酸ガスレーザにより加熱し多結晶集合体を完全に融解させた。その状態でレーザの出力を切り急冷したが、回収した試料は白濁し、多結晶状態であることがわかった。

比較例２
ガラス合成の出発材料としてＬｕ_２Ｏ_３（純度９９．９９重量％）、ＳｉＯ_２（純度９９．９９５重量％）を用いた。これらの出発材料をガラス組成においてＬｕ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２それぞれが陽イオンパーセントでＬｕが４１％、Ｓｉが５９％なるように秤量した。Ｌｕ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２それぞれの量論値は、質量比でＬｕ_２Ｏ_３：ＳｉＯ_２が４．６０：１であるが、融解時にＳｉＯ_２が昇華し、減少するため、出発材料に占めるＳｉＯ_２の割合を適宜調整した。これらの出発材料を乳鉢中で十分に混合した。その後、この混合物、約１００ｍｇを炭酸ガスレーザ照射で部分的に融解し、レーザの出力を弱めて球状の多結晶集合体を作成した。

この多結晶集合体をガスジェット浮遊装置にセットし乾燥空気を用いて浮遊させた状態で再度、炭酸ガスレーザにより加熱し多結晶集合体を完全に融解させた。その状態でレーザの出力を切り急冷したが回収した試料は白濁し、多結晶状態であることがわかった。

上記の実施例および比較例の結果をまとめて下記の表１に示す。

本発明の紫外光用ガラス組成物は、真性複屈折により悪影響が抑えられているので、可視光用のレンズだけでなく、紫外光用のレンズなどの光学部品の材料として利用することができる。

本発明の一実施形態による光学装置を示す模式図である。ガスジェット浮遊装置を示す模式図である。本発明の実施例１で得られたガラスのＸ線散乱パターンを示す図である。

符号の説明

１試料
２ノズル
３乾燥空気
４レーザ光

Claims

Ｌｕ、Ｓｉ及びＯを合計で９９．９９重量％以上含有し、かつＬｕとＳｉの含有割合を陽イオンパーセントで表した場合に、Ｌｕが２６％以上３９％以下、Ｓｉが６１％以上７４％以下であることを特徴とする紫外光用ガラス組成物。
紫外光を発生する光源と、前記光源からの前記紫外光を対象物に照射する光学系とを有する光学装置において、前記光学系は光学部材を備え、前記光学部材が、Ｌｕ、Ｓｉ及びＯを合計で９９．９９重量％以上含有し、かつＬｕとＳｉの含有割合を陽イオンパーセントで表した場合に、Ｌｕが２６％以上３９％以下、Ｓｉが６１％以上７４％以下である紫外光用ガラス組成物からなる、基材及び／又は光学薄膜を含むことを特徴とする光学装置。
紫外光を発生する光源と、前記光源からの前記紫外光を対象物に照射する光学系とを有する光学装置において、前記光学系は、第１の光学部材と、該第１の光学部材より屈折率が高い第２の光学部材とを備え、前記第２の光学部材が、Ｌｕ、Ｓｉ及びＯを合計で９９．９９重量％以上含有し、かつＬｕとＳｉの含有割合を陽イオンパーセントで表した場合に、Ｌｕが２６％以上３９％以下、Ｓｉが６１％以上７４％以下である紫外光用ガラス組成物からなる基材を含むことを特徴とする光学装置。