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JP2009115428A - 温水槽システム - Google Patents

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JP2009115428A
JP2009115428A JP2007291960A JP2007291960A JP2009115428A JP 2009115428 A JP2009115428 A JP 2009115428A JP 2007291960 A JP2007291960 A JP 2007291960A JP 2007291960 A JP2007291960 A JP 2007291960A JP 2009115428 A JP2009115428 A JP 2009115428A
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JP
Japan
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hot water
hollow fiber
water tank
return
circulating
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Pending
Application number
JP2007291960A
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English (en)
Inventor
Takeshi Nitami
仁多見武
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Individual
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Abstract

【課題】トリハロメタンが発生せず、好気性のレジオネラ菌が生存できない循環湯を供給できる温水槽システムを提供する。
【解決手段】温水槽と、還水路に設けた集塵器と、加圧ポンプと、還水路からの循環湯を加熱する加熱器と、中空糸膜フィルタより構成する。中空糸膜フィルタには多数本のシリコン中空糸を配置し、シリコン中空糸の内部には還水路から供給した循環湯を通過さる。シリコン中空糸の外周を負圧にして中空糸内部を通過する循環湯から中空糸膜を通して酸素を吸引除去するように構成する。
【選択図】図1

Description

本発明は、温水槽システムに関するものである。
最近の銭湯、介護施設、温泉施設、温水プールなどでは、温水槽内の湯を全部排出して入れ替えるのではなく、循環系の中に加熱装置を組み込んで繰り返し利用するシステムが利用されている。
上記したような現行の温水槽システムにあっては、当然、循環系の内部に殺菌手段を介在させる必要がある。
殺菌手段としては、塩素による殺菌、高温殺菌が採用されているが、各手段ともに各種の問題がある。
<イ> 塩素殺菌ではトリハロメタンが発生する可能性があり、人体に悪い影響を及ぼす場合がある。
<ロ> 殺菌を確実にするために、過剰な塩素を投入しがちであり、その場合には温泉の成分が変質したり、水質の維持が困難となる。
<ハ> 湯の中に溶けた過剰な塩素が、入浴者に不快な臭気を与えたり、肌を刺激する場合がある。
<ニ> 過剰な塩素が、湯の循環系のパイプ、関連機器の腐食の進行を促進させてしまう。
<ホ> 高温殺菌は確実であるが、60℃以上に過熱するために過大な燃料費がかかり、しかも再度冷却して温水槽に戻すという不経済な工程が必要となる。
<ヘ> 高温に加熱するためにボイラー室の室温が常に高くなり、危険であるとともに作業者の労働環境を悪化させている。
<ト> 常に高温を維持するために、ボイラー、貯湯槽、配管その他の機器に負担をかけ、耐用年数が短くなる。
<チ> 過大な燃料を消費することから二酸化炭素の排出量が多くなり、地球環境の改善に取り組んでいる世界の傾向に逆行する。
上記のような従来の装置の課題を解決した本発明の温水槽システムは、入浴用の湯を満たす温水槽と、温水槽の湯を循環するために温水槽に開口した還水口と、還水口から回収した循環湯を流す還水路と、還水路に設けた集塵器と、加圧ポンプと、還水路からの循環湯を加熱する加熱器と、加熱器により加熱した循環湯を温水槽に供給する供給路、とより構成し、還水路にはさらに中空糸膜フィルタを介在させ、この中空糸膜フィルタには多数本のシリコン中空糸を配置し、シリコン中空糸の内部には還水路から供給した循環湯を通過させ、シリコン中空糸の外周を負圧にして中空糸内部を通過する循環湯から中空糸膜を通して酸酸素を吸引除去するように構成した温水槽システムを特徴としたものである。
本発明の温水槽システムは以上説明したようになるから次のような効果を得ることができる。
<イ> 塩素による殺菌ではなく、電解水による強酸性水による殺菌であるためにトリハロメタンが発生しない。
<ロ> 塩素を使用しないから、温泉の水質が変化せず、自然のままに維持することができる。
<ハ> 不快な臭いや、肌への刺激がない。
<ニ> 配管や関連機器において、塩素による腐食が発生しない。
<ホ> 殺菌のために循環水を加熱する必要がないから、殺菌のためだけに使用する過剰な燃料の消費を避けることができる。
<ヘ> 過剰な燃料の消費がないから、ボイラー、配管などの関連機器への負荷がなく、耐久年数を減少させることがない。
<ト> 一度、殺菌のために温度を上昇させ、その後、冷却して温水槽に供給するといった不経済な工程が不要で経済的である。
<チ> 燃料の過剰な消費が不要であるから、二酸化炭素の発生を抑えることができ、世界が取り組む地球環境の問題に適した作業を行うことができる。
以下図面を参照しながら本発明の温水槽システムの実施例を説明する。
<1>全体の構成。
本発明の温水槽システムは、温水槽1と還水路p1と供給路p2とで循環系を構成し、その循環系の間に介在させる集塵器3、ポンプ4、加熱器6、および中空糸膜フィルタ5によって構成する。
<2>温水槽。
温水槽1は入浴用、遊泳用、治療用などの湯を満たす容器である。
温水槽1の最深部には、還水口11を開口してある。
この還水口11は、温水槽1内の湯を再利用する目的で循環させるために開口した排水口である。
さらに温水槽1の周囲には越流溝2を配置する。
この越流溝2は、温水槽1からあふれた湯が流れ込むための溝である。
<3>還水路。
還水路p1は循環湯を送るためのパイプである。
この還水路p1は、還水口11および越流溝2と、後述する装置を連結している。
その結果、温水槽1や越流溝2から回収した循環湯を、還水路p1を通して各種の後述する装置に流すことができる。
この還水路p1を通る循環湯は、後述する機器を通過した後、供給路p2を通って再度温水槽1の供給口12から温水槽1に戻る。
<4>集塵器、ポンプ。
還水路p1には、集塵器3と、加圧ポンプ4とを介在させる。
集塵器3は目の細かい金網などを利用した物理的な集塵装置である。
集塵器3は循環湯の中に含まれる主に毛髪などを集めて回収して廃棄するための装置である。
加圧ポンプ4は、通常の電動あるいは燃料で駆動して流体を加圧するための市販のポンプである。
このポンプ4は、還水口11から取り出した循環湯が、循環して再度温水槽1に到達するように加圧するために設置する。
<5>加熱器。
加熱器6は、重油その他の燃料を燃やして配管内の循環湯を加熱するための公知の装置である。
この加熱器6によって、還水路p1を通過して温度の低下した循環湯を再度加熱することができる。
加熱器6を温水槽1の近くに設置すれば、加熱器6で使用する熱量は、温水槽1内の湯温とほぼ等しい温度まで上昇させるだけの熱量でよい。
すなわち従来のように循環湯の殺菌のために用いるものではないから、過剰な温度まで上昇させた加熱は不要である。
また、もし本発明のシステムに対して、加熱器6による殺菌を併用する場合にも、従来のように加熱器6だけで殺菌するものではないから、その加熱量、加熱時間は従来よりもはるかに少なくてその目的を達成できる。
<6>供給路。
供給路p2は、加熱器6と温水槽1に開口した供給口12との間を接続するパイプである。
この供給路p2によって、加熱器6で加熱した循環湯を、供給口12を介して温水槽1に供給して循環させることができる。
<7>中空糸膜フィルタ。
還水路p1にはさらに、ポンプ4よりも下流の位置に中空糸膜フィルタ5を介在させる。
この中空糸膜フィルタ5には多数本のシリコン中空糸51を配置してある。
シリコン中空糸51は中空糸膜によって構成した長い筒体である。
この筒体状のシリコン中空糸51の内部の貫通路53は通水が可能な空間になっており、この貫通路53に還水路p1から供給した循環湯を通過させることができる。
多数本のシリコン中空糸51群は負圧室52の内部に配置してある。
シリコン中空糸51を収納した負圧室52を負圧にすることによって中空糸51の外周の気圧が筒体内部の水圧より小さくなり、その結果、中空糸51内の貫通路53を通過する循環湯から中空糸膜を通して酸素を吸引除去することができる。
中空糸51の両端は中空糸膜フィルタ5の入り口側ハウジング54と、出口側ハウジング55に取り付けてある。
この結果、還水路p1を通して中空糸膜フィルタ5に供給した循環湯は、入り口側ハウジング54から多数本の中空糸51の中のいずれかの中空糸51の内部の貫通路53を通過して、出口側ハウジング55に至り、中空糸膜フィルタ5の外部へ出て、加熱器6へ供給される。
その経過において、循環湯はその中の溶存酸素が中空糸51外へ吸引除去されて酸素を溶存しない循環湯として加熱器6を通過して温水槽1に供給される。
<8>中空糸膜フィルタの効果。
レジオネラ菌は好気性の菌であり、無酸素水の内部では生存が困難であることが知られている。
本発明の循環湯は、上記したように中空糸膜フィルタ5を通過する際に、中空糸51の外周からの負圧により酸素を吸引され除去され、ほとんど無酸素の循環湯となっている。
したがって供給路p2から温水槽1に供給される循環湯は無酸素であって、レジオネラ菌の生存がなく、人体の健康を害する可能性のないものとなっており、温水槽1内外の環境を良好な状態に維持することができる。
本発明の温水槽1システムの実施例の説明図。 シリコン中空糸の機能の説明図。
符号の説明
1:温水槽
2:越流溝
3:集塵器
4:ポンプ
5:中空糸膜フィルタ
51:シリコン中空糸
53:貫通路
6:加熱器

Claims (2)

  1. 入浴用、遊泳用、治療用などの湯を満たす温水槽と、
    温水槽の湯を循環するために温水槽に開口した還水口と、
    還水口から回収した循環湯を流す還水路と、
    還水路に設けた集塵器と、加圧ポンプと、
    還水路からの循環湯を加熱する加熱器と、
    加熱器により加熱した循環湯を温水槽に供給する供給路、とより構成し、
    還水路にはさらに中空糸膜フィルタを介在させ、
    この中空糸膜フィルタには多数本のシリコン中空糸を配置し、
    シリコン中空糸の内部には還水路から供給した循環湯を通過させ、
    シリコン中空糸の外周を負圧にして中空糸内部を通過する循環湯から中空糸膜を通して酸素を吸引除去するように構成した、
    温水槽システム。
  2. 温水槽の外部には温水槽からあふれた湯が流れ込む越流溝を設け、
    この越流溝から回収した循環湯を、
    還水口から回収した循環湯とともに還水路に供給する、
    請求項1記載の温水槽システム。
JP2007291960A 2007-11-09 2007-11-09 温水槽システム Pending JP2009115428A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2873649A1 (en) * 2013-11-13 2015-05-20 Mitsubishi Electric Corporation Recirculating water circuit system comprising degassing device
CN107269045A (zh) * 2017-08-01 2017-10-20 北京孤岛科技有限公司 一种水中负压娱乐设施
CN108301464A (zh) * 2017-12-19 2018-07-20 无锡其宏包装材料厂 一种水循环装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2873649A1 (en) * 2013-11-13 2015-05-20 Mitsubishi Electric Corporation Recirculating water circuit system comprising degassing device
CN107269045A (zh) * 2017-08-01 2017-10-20 北京孤岛科技有限公司 一种水中负压娱乐设施
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