JP2009099749A - 半導体パッケージ - Google Patents
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Abstract
【課題】半田接合界面の裂け目拡散を防止可能な半導体パッケージを提供する。
【解決手段】チップキャリア210、チップ220および複数の塔状バンプ230を備える。チップキャリア210は上面211と複数の第1ガイド接合パッド213とを設置する下表面212を有する。チップ220はチップキャリア210に設置または電気接続される。塔状バンプ230は外部半田接合用として第1ガイド接合パッド群213に対応又は設置される。各塔状バンプ230は少なくとも第1裂け目抑制用リングを有し、第1裂け目抑制用リングは、第1ガイド接合パッド213とほぼ平行して半田接合裂け目の拡散を抑える。
【選択図】図2
【解決手段】チップキャリア210、チップ220および複数の塔状バンプ230を備える。チップキャリア210は上面211と複数の第1ガイド接合パッド213とを設置する下表面212を有する。チップ220はチップキャリア210に設置または電気接続される。塔状バンプ230は外部半田接合用として第1ガイド接合パッド群213に対応又は設置される。各塔状バンプ230は少なくとも第1裂け目抑制用リングを有し、第1裂け目抑制用リングは、第1ガイド接合パッド213とほぼ平行して半田接合裂け目の拡散を抑える。
【選択図】図2
Description
本発明は、半導体パッケージを立体的に積み上げる技術に関し、特に半田接合部の裂け目の抑制用リングを有する半導体パッケージに関する。このような半導体パッケージは高密度POP(Package−On−Package)モジュールに適用することができる。
電子機器の小型、軽量、および薄型化の発展に伴い、半導体パッケージの搭載に使用されるプリント回路基板の面積の小型化が求められている。ゆえに、半導体パッケージの立体積み上げ技術を用い、複数の積み上げ可能な半導体パッケージを縦方向に積み上げてPOPモジュールを形成することにより、表面接合面積の小型化と素子配置の高密度化との要求を実現することが可能となる。しかし半導体パッケージの積み上げ過程において、半田付け欠陥が大きな課題として存在している。半導体パッケージ間の微小間隔、例えば端子と端子との間の半田接合界面は、応力に起因する断裂現象が生じることにより、電気ショートするという問題がある。
Fujitsu(登録商標)社は特許文献1において、またTessera(登録商標)社は特許文献2において、それぞれパッケージ積み上げに応用可能な微接触構造を開示しており、これらの微接触構造は柱状や針状のバンプを介して半田材内に半田接合される。
Fujitsu(登録商標)社は特許文献1において、またTessera(登録商標)社は特許文献2において、それぞれパッケージ積み上げに応用可能な微接触構造を開示しており、これらの微接触構造は柱状や針状のバンプを介して半田材内に半田接合される。
図1に示すように、周知の積み上げ可能な半導体パッケージ100は主に、チップキャリア110、チップ120および複数の柱状バンプ130を有する。前記チップキャリア110は、複数の第1ガイド接合パッド113を設置する上面111と複数の第2ガイド接合パッド114を設置する下面112とを有する。前記チップ120はチップキャリア110上に設置され、かつチップキャリア110のワイヤボンディング孔115を通る複数のボンディングワイヤ121を介してチップキャリア110に電気的に接続され、さらに封止体140を用い前記ボンディングワイヤ121を密封している。前記柱状バンプ130は、第2ガイド接合パッド114に対応または設置される。また、各第2ガイド接合パッド114と連結する柱状バンプ130は、さらに半田材150を介して下方の半導体パッケージ100の第1ガイド接合パッド113に半田接合される。このようにして、微接触の形態ができ、よって、信号ピン数と配線面積との増加を可能にし、さらにPOPパッケージ積み上げの隙間を縮小することもできる。しかし、応力に対する抵抗力が影響され易く、柱状バンプ群130の半田接合界面は応力を受けた際、裂け目が柱状バンプ130群の傾斜連続側壁131に沿い拡散し、電気ショートするという問題が生じる。
本発明の主な目的は、一種の半田接合裂け目の抑制用リングを有する半導体パッケージを提供することである。このような半導体パッケージにおいて、チップキャリアの外接端子として塔状バンプを使用し、チップキャリアは少なくとも裂け目抑制用リングを有し、前記裂け目抑制用リングの利用により半田接合界面の裂け目拡散を防止して電気ショートの問題を避けると共に、半田接合の固着力を増強することが可能となり、より高い製品耐用性を得ることができる。
本発明のもう一つの目的は、半田接合裂け目の抑制用リングを有する半導体パッケージを提供することである。このような半導体パッケージは半田微接触点の裂け目拡散を抑制することができ、特にPOPモジュールに適している。
前記目的を達成するために、本発明は下記の技術的手段を採用している。本発明による半導体パッケージは主に、チップキャリア、チップおよび複数の塔状バンプを有する。前記チップキャリアは、複数の第2ガイド接合パッドを設置する上面と複数の第1ガイド接合パッドとを設置する下面を有する。前記チップは、前記チップキャリアに設置され電気的に接続される。前記塔状バンプは、外部半田接合用として第1ガイド接合パッド群に対応または設置される。各塔状バンプは少なくとも第1裂け目抑制用リングを有し、この第1裂け目抑制用リングは、前記第1ガイド接合パッドとほぼ平行して設置され、半田接合裂け目の拡散を抑制する。
前記目的を達成するため、本発明はさらに後記の技術的手段を採用している。
前記半導体パッケージにおいて、各塔状バンプはさらに第2裂け目抑制用リングを有し、この第2裂け目抑制用リングは第1裂け目抑制用リングと対応する第1ガイド接合パッドとの間に位置し、第1裂け目抑制用リングに平行するが非共面となっている。
前記半導体パッケージにおいて、第2裂け目抑制用リングの内径は第1裂け目抑制用リングの内径より大きくてもよい。
前記半導体パッケージにおいて、各塔状バンプはさらに第2裂け目抑制用リングを有し、この第2裂け目抑制用リングは第1裂け目抑制用リングと対応する第1ガイド接合パッドとの間に位置し、第1裂け目抑制用リングに平行するが非共面となっている。
前記半導体パッケージにおいて、第2裂け目抑制用リングの内径は第1裂け目抑制用リングの内径より大きくてもよい。
前記半導体パッケージにおいて、第2裂け目抑制用リングの内径は第1裂け目抑制用リングの内径とほぼ同等でもよい。
前記半導体パッケージにおいて、前記第1ガイド接合パッドは塔状バンプ群に露出される外環面を有してもよい。
前記半導体パッケージにおいて、さらに塔状バンプ群を半田接合する半田材を有してもよい。
前記半導体パッケージにおいて、前記第1ガイド接合パッドは塔状バンプ群に露出される外環面を有してもよい。
前記半導体パッケージにおいて、さらに塔状バンプ群を半田接合する半田材を有してもよい。
前記半導体パッケージにおいて、前記半田材はさらに前記第1ガイド接合パッドの外環面に半田接合されてもよい。
前記半導体パッケージにおいて、他の半導体パッケージを設置するため、チップキャリアの上面に複数の第2ガイド接合パッドを設置してもよい。
前記半導体パッケージにおいて、そのチップキャリアは多層プリント回路基板にしてもよい。
前記半導体パッケージにおいて、他の半導体パッケージを設置するため、チップキャリアの上面に複数の第2ガイド接合パッドを設置してもよい。
前記半導体パッケージにおいて、そのチップキャリアは多層プリント回路基板にしてもよい。
前記半導体パッケージにおいて、そのチップキャリアはワイヤボンディング孔を有してもよく、複数のボンディングワイヤはワイヤボンディング孔を通り、チップとチップキャリアとを電気的に接続している。
前記半導体パッケージにおいて、さらに封止体を有してもよく、前記封止体はワイヤボンディング孔に形成され、チップキャリアの下面に突出してボンディングワイヤ群を密封している。
前記半導体パッケージにおいて、さらに封止体を有してもよく、前記封止体はワイヤボンディング孔に形成され、チップキャリアの下面に突出してボンディングワイヤ群を密封している。
前記半導体パッケージにおいて、そのチップの能動面をチップキャリアの上面に貼着してもよい。
前記半導体パッケージにおいて、そのチップの背面をチップキャリアの上面に露出してもよい。
前記半導体パッケージにおいて、そのチップはチップキャリアの下面に設置されてもよく、それらの塔状バンプはチップの側辺に配列される。
前記半導体パッケージにおいて、そのチップの背面をチップキャリアの上面に露出してもよい。
前記半導体パッケージにおいて、そのチップはチップキャリアの下面に設置されてもよく、それらの塔状バンプはチップの側辺に配列される。
前記半導体パッケージにおいて、そのチップの背面をチップキャリアの下面に露出してもよい。
前記半導体パッケージにおいて、さらに熱電対素子を有してもよく、この熱電対素子はチップの露出背面に形成される。
前記半導体パッケージにおいて、さらに密封フィルムを有してもよく、この密封フィルムはチップキャリアの下面に形成される。
前記半導体パッケージにおいて、さらに熱電対素子を有してもよく、この熱電対素子はチップの露出背面に形成される。
前記半導体パッケージにおいて、さらに密封フィルムを有してもよく、この密封フィルムはチップキャリアの下面に形成される。
(第1実施例)
本発明の第1実施例による半導体パッケージについて説明する。
図2には二個の半導体パッケージ200が積み上げされた形状を示しているが、限定されずに上方により多くの半導体パッケージ200を積み上げることができ、例えば、三個、四個あるいはより多くの半導体パッケージ200を積み上げることが可能となる。各半導体パッケージ200は主にチップキャリア210、チップ220および複数の塔状バンプ230を備える。チップキャリア210は多層プリント回路基板にすることが可能で、両面電気導通構造となる。またチップキャリア210は、上面211と複数の第1ガイド接合パッド213を設置する下面212とを有する。前記第1ガイド接合パッド213はチップキャリア210の外接パッドとして使用することが可能となる。また、半導体パッケージ200はPOPモジュールに適していて、上面211に複数の第2ガイド接合パッド214をチップキャリア210の転送パッドとして設置し、第2ガイド接合パッド214により他の半導体パッケージ200を設置している。
本発明の第1実施例による半導体パッケージについて説明する。
図2には二個の半導体パッケージ200が積み上げされた形状を示しているが、限定されずに上方により多くの半導体パッケージ200を積み上げることができ、例えば、三個、四個あるいはより多くの半導体パッケージ200を積み上げることが可能となる。各半導体パッケージ200は主にチップキャリア210、チップ220および複数の塔状バンプ230を備える。チップキャリア210は多層プリント回路基板にすることが可能で、両面電気導通構造となる。またチップキャリア210は、上面211と複数の第1ガイド接合パッド213を設置する下面212とを有する。前記第1ガイド接合パッド213はチップキャリア210の外接パッドとして使用することが可能となる。また、半導体パッケージ200はPOPモジュールに適していて、上面211に複数の第2ガイド接合パッド214をチップキャリア210の転送パッドとして設置し、第2ガイド接合パッド214により他の半導体パッケージ200を設置している。
チップ220はチップキャリア210に設置され電気的に接続されている。例えば、ダイアタッチ材を用いチップ220の能動面222をチップキャリア210の上面211に貼り付け、さらにワイヤボンディング方式により形成される複数のボンディングワイヤ221を通じ、チップ220のボンディングパッドをチップキャリア210のインナーフィンガー(図中未表示)に電気的に接続している。第1実施例では、チップキャリア210はワイヤボンディング孔215を有し、前記ボンディングワイヤ221はワイヤボンディング孔215を通り、チップ220とチップキャリア210とを電気的に接続する。また、チップ220の設置と電気的に接続を実現すべく、バンプ(図中未表示)を利用してチップ220をチップキャリア210にフリップチップ接合してもよい。
さらに、半導体パッケージ200は封止体240を有し、封止体240はモールディング(molding)やディスペンス(dispense)の方式によりワイヤボンディング孔215に形成され、かつチップキャリア210の下面212より突出し、ボンディングワイヤ群221を密封する。封止体240はチップ220を被覆しなくてもよい。よって、チップ220の背面223はチップキャリア210の上面211に露出され、放熱およびパッケージの薄型化に有利となる。
前記塔状バンプ230は第1ガイド接合パッド群213に対応かつ設置され、前記各第1ガイド接合パッド213は外部半田接合用として塔状バンプ230と連接している。図3に示すように、塔状バンプ230は多層構造として、各塔状バンプ230は少なくとも第1裂け目抑制用リング231を有し、この第1裂け目抑制用リング231は第1ガイド接合パッド群213と平行するので、各塔状バンプ230は複数の非連続側壁233を有する。また、前記非連続側壁233と第1裂け目抑制用リング231が連結する上下リング縁部は直角もしくは鋭角の彎曲となり、裂け目防止階段が形成され、前記第1裂け目抑制用リング231は半田接合裂け目の拡散を抑制することができる。また、第1ガイド接合パッド群213は塔状バンプ230群に露出する外環面213Aを有し、この外環面213Aは基板耐半田層に被覆されるか、もしくは半田材に半田接合される。各塔状バンプ230はさらに第2裂け目抑制用リング232を有し、この第2裂け目抑制用リング232は第1裂け目抑制用リング231と対応する第1ガイド接合パッド213との間に位置し、第1裂け目抑制用リング231に平行するが、非共面となる。なお、第2裂け目抑制用リング232の内径は第1裂け目抑制用リング231の内径よりも大きく、多数の非連続側壁233を形成している。
半導体パッケージ200はさらに半田材250を有し、前記半田材250を用い上方の半導体パッケージ200の第1ガイド接合パッド群213上の塔状バンプ群230を半田接合し、かつ下方半導体パッケージ200の第2ガイド接合パッド群214を半田接合し、POPモジュールを構成している。半田材250はさらに第1ガイド接合パッド群213の外環面213Aまで半田接合されればなお好ましく、これにより、塔状バンプ群230は半田材250に全体的に半田接合される。通常それらの半田材250は鉛フリー半田剤にしてもよく、例えば錫96.5%−銀3%−銅0.5%の半田材は、リフロー温度が約217℃以上、最高約245℃から260℃にまで達し、半田接合の濡れ性が生じる。よって前記塔状バンプ230は、銅、金、アルミニウムなど、前記リフロー温度よりも高い融点を有する金属により製造されてもよい。
したがって、前記塔状バンプ230を利用することにより、裂け目拡散の抑制、および半田材250と塔状バンプ群230との半田接合固着力の増強が可能となり、半田接合の信頼性およびPOPモジュール製品の耐用性の向上を実現している。すなわち、熱応力や機械応力の作用を受け、仮に塔状バンプ群230の非連続側壁233と半田材250との半田接合界面において裂け目現象が生じた場合でも、第1裂け目抑制用リング231により半田接合裂け目の拡散を抑制し、裂け目は塔状バンプ群230の表面に沿って拡散することがなく、POPモジュールの微接触半田接合点の電気ショートの問題を回避し、POPモジュールをボードレベルで評価した際の信頼性を向上させる。さらに、本実施例の半導体パッケージは一般の無積層パッケージ製品にも適用することができ、例えば、周知のWindow BGA(Ball Grid Array)パッケージや狭ピッチBGAパッケージの代替品として利用することが可能である。
(第2実施例)
図4に示すように、本発明の第2実施例による複数の半導体パッケージ300は相互に積み上げされ、またはプリント回路基板10上に表面接合される。半導体パッケージ300は主にチップキャリア310、チップ320および複数の塔状バンプ330を有する。チップキャリア310は上面311と下面312とを有し、下面312には複数の第1ガイド接合パッド313が設けられ、上面311には複数の第2ガイド接合パッド314がパッケージ積み上げの転送パッドとして設けられ、それらの第2ガイド接合パッド314により他の半導体パッケージ300を設置している。
図4に示すように、本発明の第2実施例による複数の半導体パッケージ300は相互に積み上げされ、またはプリント回路基板10上に表面接合される。半導体パッケージ300は主にチップキャリア310、チップ320および複数の塔状バンプ330を有する。チップキャリア310は上面311と下面312とを有し、下面312には複数の第1ガイド接合パッド313が設けられ、上面311には複数の第2ガイド接合パッド314がパッケージ積み上げの転送パッドとして設けられ、それらの第2ガイド接合パッド314により他の半導体パッケージ300を設置している。
第2実施例では、チップ320は能動面322と反対側の背面323とを有し、能動面322に複数のバンプ321が設置され、フリップチップ技術を用い前記バンプ321を介してチップ320をチップキャリア310に設置され電気的に接続し、さらに底部充填剤を例とする封止体330により、バンプ群321を密封している。また、チップ320はチップキャリア310の下面312に設置されてもよく、それらの塔状バンプ330はチップ320の側辺に配列される。これにより、チップキャリア310の上面311は平坦状になり、チップ320と塔状バンプ群330とが衝突して損傷する可能性が減少する。また、チップ320の背面323はチップキャリア310の下面312に露出され、放熱に有利となる。
図4に示すように、塔状バンプ群330は、外部半田接合用として第1ガイド接合パッド群313に対応または設置され、半田材350を介してプリント回路基板10の接合パッド11もしくは下方の他の半導体パッケージ300の第2ガイド接合パッド群314と半田接合している。また、前記塔状バンプ330と第1実施例の塔状バンプ群230との形状は一致してもしなくてもよいが、具体的な形態において同一となる。各塔状バンプ330は少なくとも第1裂け目抑制用リング331を有し、前記第1裂け目抑制用リング331は第1ガイド接合パッド群313とほぼ平行し、半田接合裂け目の拡散を抑制する。また、各塔状バンプ330はさらに第2裂け目抑制用リング332を有してもよく、前記第2裂け目抑制用リング332は第1裂け目抑制用リング331と対応する第1ガイド接合パッド313との間に位置し、第1裂け目抑制用リング331と相互に平行するが、非共面となっている。なお、第2裂け目抑制用リング332の内径は第1裂け目抑制用リング331の内径よりも大きく、多数の非連続側壁333を形成している。よって、前記半導体パッケージ300が相互に積み上げられたとき、第1裂け目抑制用リング331は裂け目の拡散を抑制することができ、かつ半田部材350を用いて対応する塔状バンプ群330に連結されることにより、より広い半田接合面積と、より複雑な半田接合形状が得られ、半田接合固着力を増強する。また、図5に示すように、塔状バンプ330の代わりに他の形状の塔状バンプ群330Aを使用してもよい。前記塔状バンプ330Aは多段の錐体から構成され、第1裂け目抑制用リング331Aと少なくとも第2裂け目抑制用リング332Aとを有していて、第1裂け目抑制用リング331Aと第2裂け目抑制用リング332Aとは第1ガイド接合パッド群313とほぼ平行して半田接合裂け目の拡散を抑制する。第2裂け目抑制用リング332Aは第1裂け目抑制用リング331Aと対応する第1ガイド接合パッド313との間に位置し、第1裂け目抑制用リング331Aと相互に平行しているが、非同一面となっている。また、第2裂け目抑制用リング332Aは第1裂け目抑制用リング331Aとほぼ同等な内径を有し、鋭角縁部を有する多数の非連続側壁333を形成し、半田接合裂け目の抑制効果を増大させ、かつより広い半田接合面積とより堅固な半田接合強度を得ることができる。
図4に示すように、複数の半導体パッケージ300は相互にプリント回路基板10上に積み上げられるとき、各半導体パッケージ300はさらに熱伝対素子360、例えばTIM(Thermal Interface Material)もしくは放熱ソルタ(solder)を有すれば好ましい。この熱電対素子360は、チップ320の露出背面323に形成され、均等に放熱するためプリント回路基板10や下方の半導体パッケージ300のチップキャリア310に結合されることが可能となる。なお、各半導体パッケージ300はさらに底部充填剤のような密封フィルム370を有し、この密封フィルム370はチップキャリア310の下面312に形成され、POPの積み上げ隙間へのゴミの落下や沈積を避け、汚染や電気ショートが発生しないよう、半田材350とチップ320とを密封している。
以上、本発明をその好適な実施例に基づいて説明したが、本発明の保護範囲は別添の特許請求の範囲で限定されていて、この保護範囲を基準として、本発明の精神と範囲内に触れるいかなる変更や修正も、本発明の保護範囲に属する。
以上、本発明をその好適な実施例に基づいて説明したが、本発明の保護範囲は別添の特許請求の範囲で限定されていて、この保護範囲を基準として、本発明の精神と範囲内に触れるいかなる変更や修正も、本発明の保護範囲に属する。
10:プリント回路基板、11:接合パッド、200:半導体パッケージ、210:チップキャリア、211:上面、212:下面、213:第1ガイド接合パッド、213A:外環面、214:第2ガイド接合パッド、215:ワイヤボンディング孔、220:チップ、221:ボンディングワイヤ、222:能動面、223:背面、230:塔状バンプ、231:第1裂け目抑制用リング、232:第2裂け目抑制用リング、233:非連続側壁、240:封止体、250:半田材、300:半導体パッケージ、310:チップキャリア、311:上面、312:下面、313:第1ガイド接合パッド、314:第2ガイド接合パッド、320:チップ、321:バンプ、322:能動面、323:背面、330:塔状バンプ、331:第1裂け目抑制用リング、332:第2裂け目抑制用リング、333:非連続側壁、330A:塔状バンプ、331A:第1裂け目抑制用リング、332A:第2裂け目抑制用リング、333A:非連続側壁、340:封止体、350:半田材、360:熱電対素子、370:密封フィルム
Claims (17)
- 上面と複数の第1ガイド接合パッドを設置する下面とを有するチップキャリアと、
チップキャリアに設置され電気的に接続されるチップと、
外部半田接合用として第1ガイド接合パッド群に対応して設置され、少なくとも第1裂け目抑制用リングを有し、前記第1裂け目抑制用リングは第1ガイド接合パッド群とほぼ平行し、半田接合裂け目の拡散を抑える複数の塔状バンプと、
を備えることを特徴とする半導体パッケージ。 - 各塔状バンプはさらに第2裂け目抑制用リングを有し、前記第2裂け目抑制用リングは、その下面が第1裂け目抑制用リングと対応する第1ガイド接合パッドとの間に位置し、前記下面が第1裂け目抑制用リングの下面と相互に平行し、前記第2裂け目抑制用リングの下面が前記第1裂け目抑制用リングの下面とが非同一面上にあることを特徴とする請求項1記載の半導体パッケージ。
- 第2裂け目抑制用リングの内径は、第1裂け目抑制用リングの内径よりも大きいことを特徴とする請求項2記載の半導体パッケージ。
- 第2裂け目抑制用リングの内径は、第1裂け目抑制用リングの内径とほぼ同等であることを特徴とする請求項2記載の半導体パッケージ。
- 前記第1ガイド接合パッドは、塔状バンプ群に露出される外環面を有することを特徴とする請求項1記載の半導体パッケージ。
- 塔状バンプ群を半田接合する半田材を有することを特徴とする請求項1から5に記載の半導体パッケージ。
- 前記半田材は、前記第1ガイド接合パッドの外環面まで半田接合されることを特徴とする請求項6記載の半導体パッケージ。
- 他の半導体パッケージを設置するため、チップキャリアの上面に複数の第2ガイド接合パッドを設置することを特徴とする請求項1記載の半導体パッケージ。
- 前記チップキャリアは、多層プリント回路基板であることを特徴とする請求項1記載の半導体パッケージ。
- 前記チップキャリアはワイヤボンディング孔を有し、複数のボンディングワイヤが前記ワイヤボンディング孔を通りチップとチップキャリアとを電気的に接続していることを特徴とする請求項9記載の半導体パッケージ。
- 封止体を有し、前記封止体はワイヤボンディング孔に形成され、チップキャリアの下面に突出し、ボンディングワイヤ群を密封することを特徴とする請求項10記載の半導体パッケージ。
- 前記チップの能動面は、チップキャリアの上面に貼着していることを特徴とする請求項1記載の半導体パッケージ。
- 前記チップの背面は、チップキャリアの上面に露出していることを特徴とする請求項12記載の半導体パッケージ。
- 前記チップはチップキャリアの下面に設置され、前記塔状バンプはチップの側辺に配列されることを特徴とする請求項1記載の半導体パッケージ。
- 前記チップの背面は、チップキャリアの下面に露出していることを特徴とする請求項14記載の半導体パッケージ。
- 熱電対素子を有し、前記熱電対素子はチップの露出する背面に形成されることを特徴とする請求項15記載の半導体パッケージ。
- 密封フィルムを有し、前記密封フィルムはチップキャリアの下面に形成されることを特徴とする請求項14記載の半導体パッケージ。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015119397A1 (ko) * | 2014-02-06 | 2015-08-13 | 엘지이노텍 주식회사 | 인쇄회로기판, 이를 포함하는 패키지 기판 및 이의 제조 방법 |
JP2017199937A (ja) * | 2017-08-01 | 2017-11-02 | 新光電気工業株式会社 | 電子部品内蔵基板及びその製造方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09275106A (ja) * | 1996-04-04 | 1997-10-21 | Nec Corp | バンプの構造と形成方法 |
JPH11260851A (ja) * | 1998-03-11 | 1999-09-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置及び該半導体装置の製造方法 |
JPH11297873A (ja) * | 1998-04-13 | 1999-10-29 | Seiko Epson Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2001053219A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-23 | Meito Chin | スタックメモリモジュール及び多層式スタックメモリモジュール構造 |
JP2001168125A (ja) * | 1999-12-03 | 2001-06-22 | Nec Corp | 半導体装置 |
JP2001189337A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電極バンプおよびそれを用いた半導体素子並びに半導体装置 |
JP2001223297A (ja) * | 1999-11-30 | 2001-08-17 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及び半導体装置の製造方法及び半導体装置の積層方法 |
JP2003017523A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-17 | Nec Kansai Ltd | 電子部品及びその製造方法並びに突起電極形成基板及びその製造方法 |
JP2005354070A (ja) * | 2004-06-08 | 2005-12-22 | Samsung Electronics Co Ltd | ソルダー接合信頼度を高めることができる印刷回路基板及びそれを利用した半導体パッケージモジュール |
-
2007
- 2007-10-17 JP JP2007269630A patent/JP2009099749A/ja active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09275106A (ja) * | 1996-04-04 | 1997-10-21 | Nec Corp | バンプの構造と形成方法 |
JPH11260851A (ja) * | 1998-03-11 | 1999-09-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置及び該半導体装置の製造方法 |
JPH11297873A (ja) * | 1998-04-13 | 1999-10-29 | Seiko Epson Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2001053219A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-23 | Meito Chin | スタックメモリモジュール及び多層式スタックメモリモジュール構造 |
JP2001223297A (ja) * | 1999-11-30 | 2001-08-17 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及び半導体装置の製造方法及び半導体装置の積層方法 |
JP2001168125A (ja) * | 1999-12-03 | 2001-06-22 | Nec Corp | 半導体装置 |
JP2001189337A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電極バンプおよびそれを用いた半導体素子並びに半導体装置 |
JP2003017523A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-17 | Nec Kansai Ltd | 電子部品及びその製造方法並びに突起電極形成基板及びその製造方法 |
JP2005354070A (ja) * | 2004-06-08 | 2005-12-22 | Samsung Electronics Co Ltd | ソルダー接合信頼度を高めることができる印刷回路基板及びそれを利用した半導体パッケージモジュール |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015119397A1 (ko) * | 2014-02-06 | 2015-08-13 | 엘지이노텍 주식회사 | 인쇄회로기판, 이를 포함하는 패키지 기판 및 이의 제조 방법 |
KR20150092882A (ko) * | 2014-02-06 | 2015-08-17 | 엘지이노텍 주식회사 | 인쇄회로기판, 이를 포함하는 패키지 기판 및 이의 제조 방법 |
CN106165553A (zh) * | 2014-02-06 | 2016-11-23 | Lg伊诺特有限公司 | 印刷电路板、包括该印刷电路板的封装基板及其制造方法 |
US10134679B2 (en) | 2014-02-06 | 2018-11-20 | Lg Innotek Co., Ltd. | Printed circuit board, package substrate comprising same, and method for manufacturing same |
KR102152865B1 (ko) | 2014-02-06 | 2020-09-07 | 엘지이노텍 주식회사 | 인쇄회로기판, 이를 포함하는 패키지 기판 및 이의 제조 방법 |
JP2017199937A (ja) * | 2017-08-01 | 2017-11-02 | 新光電気工業株式会社 | 電子部品内蔵基板及びその製造方法 |
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