[go: up one dir, main page]

JP2008306119A - Separator and separation method - Google Patents

Separator and separation method Download PDF

Info

Publication number
JP2008306119A
JP2008306119A JP2007154083A JP2007154083A JP2008306119A JP 2008306119 A JP2008306119 A JP 2008306119A JP 2007154083 A JP2007154083 A JP 2007154083A JP 2007154083 A JP2007154083 A JP 2007154083A JP 2008306119 A JP2008306119 A JP 2008306119A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
processing object
adhesive sheet
glass plate
separation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2007154083A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Miki Nakada
幹 中田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lintec Corp
Original Assignee
Lintec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lintec Corp filed Critical Lintec Corp
Priority to JP2007154083A priority Critical patent/JP2008306119A/en
Publication of JP2008306119A publication Critical patent/JP2008306119A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a separator and a separation method by which, when a first plate member is separated from a workpiece where a second plate member is stacked on the first plate member, the second plate member can be effectively prevented from being broken. <P>SOLUTION: The separator 20 is used to separate a semiconductor wafer W from a glass plate P in a plate workpiece A wherein the semiconductor wafers W are stacked on the glass plate P with an adhesive sheet S in between. It is provided with a table 63 for supporting the workpiece A, a blade 75 that is provided insertably between the glass plate P and the adhesive sheet S, and a motor M2 for relatively rotating the table 63 and the blade 75 in the plane. The blade 75 is inserted into the interface between the glass plate P and the adhesive sheet S from the outer edge, and while relatively rotating them, the tip of the blade 75 is inserted into the center of the workpiece A. Thus, the glass plate P is peeled off from the adhesive sheet S, so as to separate the semiconductor wafer W from the glass plate P. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は分離装置及び分離方法に係り、特に、半導体ウエハを極薄に研削する際に、前記半導体ウエハの平滑性を確保するガラス板を分離することに適合する分離装置及び分離方法に関する。   The present invention relates to a separation apparatus and a separation method, and more particularly to a separation apparatus and a separation method suitable for separating a glass plate that ensures the smoothness of the semiconductor wafer when the semiconductor wafer is ground to a very thin thickness.

半導体ウエハ(以下、単に、「ウエハ」と称する)は、裏面研削等の処理を行う場合に、例えば、ガラス板等、剛性を備えた板状体に積層し、その平滑性を利用してウエハを極限にまで研削することが行われている。このガラス板は、前記研削工程以外の、例えばダイシング工程等では不要となるものであり、当該研削処理後、ガラス板は再利用するために分離される。   A semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as a “wafer”) is laminated on a plate-like body having rigidity, such as a glass plate, for example, when processing such as back surface grinding, and uses the smoothness of the wafer. Is being ground to the limit. This glass plate becomes unnecessary in, for example, a dicing step other than the grinding step, and after the grinding process, the glass plate is separated for reuse.

前述したウエハとガラスとの分離は、例えば、特許文献1に記載された処理装置を用いて行うことができる。同処理装置には分離装置が備えられおり、当該分離装置によりウエハからガラス板を分離してリングフレームに転着する構成が採用されている。   The separation of the wafer and the glass described above can be performed using, for example, a processing apparatus described in Patent Document 1. The processing apparatus is provided with a separating apparatus, and a configuration is adopted in which the separating apparatus separates the glass plate from the wafer and transfers it to the ring frame.

特開2006−156633号公報JP 2006-156633 A

前記特許文献1に開示された分離装置にあっては、ガラス板をテーブルに固定しておき、ガラス板と接着シートとの間に剥離きっかけ部を形成した後、当該剥離きっかけ部が形成された反対側、つまり、ウエハ径方向他端側を回転中心として当該ウエハを持ち上げることにより、ガラス板とウエハとの分離(剥離)を行う構成となっている。   In the separation apparatus disclosed in Patent Document 1, after the glass plate is fixed to the table and the separation trigger portion is formed between the glass plate and the adhesive sheet, the separation trigger portion is formed. The glass plate and the wafer are separated (separated) by lifting the wafer around the opposite side, that is, the other end in the wafer radial direction.

しかしながら、ウエハを持ち上げることによって当該ウエハとガラス板とを分離する方法では、特に、ウエハが裏面研削済みで極薄(例えば、数十μm)となっている場合に、ウエハが曲げ変形することによって、割れ易くなる、という処理上のリスクがある。   However, in the method of separating the wafer and the glass plate by lifting the wafer, especially when the wafer is ground and is extremely thin (for example, several tens of μm), the wafer is bent and deformed. There is a processing risk that it is easy to break.

[発明の目的]
本発明の目的は、特に、一定の剛性を備えた第1の板状部材に、脆質性を備えた第2の板状部材を積層した処理対象物から、前記第1の板状部材を分離するに際し、前記第2の板状部材の破損を効果的に防止することのできる分離装置及び分離方法を提供することにある。
[Object of invention]
The object of the present invention is to provide the first plate-like member from a processing object in which a second plate-like member having brittleness is laminated on a first plate-like member having a certain rigidity. It is an object of the present invention to provide a separation apparatus and a separation method that can effectively prevent the second plate-like member from being damaged during the separation.

前記目的を達成するため、本発明は、第1の板状部材に接着シートを介して第2の板状部材が積層された板状体を処理対象物とし、当該処理対象物から前記第1の板状部材を分離する分離装置において、
前記第2の板状部材側から前記処理対象物を支持する支持手段と、前記第1の板状部材と前記接着シートとの間に挿入可能に設けられた挿入手段と、前記支持手段と挿入手段とを相対回転させる駆動手段とを備え、
前記支持手段と前記挿入手段との平面内での相対回転と、前記処理対象物に対して挿入手段が外縁から中心方向に向う移動動作によって前記処理対象物から第1の板状部材を分離可能とする、という構成を採っている。
In order to achieve the above object, the present invention uses a plate-like body in which a second plate-like member is laminated on a first plate-like member via an adhesive sheet as a processing object, and the first object from the processing object is the first. In the separating apparatus for separating the plate-shaped member of
Support means for supporting the object to be processed from the second plate-like member side, insertion means provided to be insertable between the first plate-like member and the adhesive sheet, and the support means and insertion Drive means for relatively rotating the means,
The first plate-like member can be separated from the object to be processed by relative rotation of the support means and the inserting means in a plane and a moving operation of the inserting means from the outer edge toward the center with respect to the object to be processed. Is adopted.

また、本発明は、ガラス板に接着シートを介して半導体ウエハが積層された板状体を処理対象物とし、当該処理対象物から前記ガラス板を分離する分離装置において、
前記半導体ウエハ側から前記処理対象物を支持する支持手段と、当該支持手段に相対して前記ガラス板を保持する保持手段と、前記ガラス板と前記接着シートとの間に挿入可能に設けられた挿入手段と、前記支持手段及び保持手段と挿入手段とを相対回転させる駆動手段とを備え、
前記支持手段及び保持手段と前記挿入手段との平面内での相対回転と、前記処理対象物に対して前記挿入手段が外縁から中心方向に向かう移動動作によって前記処理対象物からガラス板を分離可能とする、という構成を採ることができる。
Further, the present invention is a separation apparatus that separates the glass plate from the processing object, using a plate-like body in which a semiconductor wafer is laminated on a glass plate via an adhesive sheet as a processing object.
A support unit that supports the object to be processed from the semiconductor wafer side, a holding unit that holds the glass plate relative to the support unit, and the glass plate and the adhesive sheet are provided so as to be insertable. An insertion means; and a driving means for relatively rotating the support means and the holding means and the insertion means,
The glass plate can be separated from the processing object by relative rotation of the supporting means, the holding means, and the insertion means in a plane, and the insertion means moves relative to the processing object from the outer edge toward the center. Can be adopted.

本発明において、前記挿入手段は前記処理対象物の外縁から中心に向けて徐々に挿入されるように制御される、という構成を採ることができる。   In this invention, the said insertion means can take the structure that it is controlled so that it may insert gradually toward the center from the outer edge of the said process target object.

更に、前記接着シートは紫外線硬化型の接着シートであり、前記処理対象物を前記支持手段に移載する前の段階で前記接着シートに紫外線を照射するための紫外線照射手段を更に含む構成としてもよい。   Further, the adhesive sheet is an ultraviolet curable adhesive sheet, and further includes ultraviolet irradiation means for irradiating the adhesive sheet with ultraviolet rays at a stage before the object to be processed is transferred to the support means. Good.

また、前記処理対象物は、第2の板状部材若しくは半導体ウエハ側がマウントテープを介してリングフレームに支持され、当該リングフレームと共に前記支持手段に支持された状態で前記第1の板状部材若しくはガラス板が分離される、という構成を採ることができる。   The object to be processed is the second plate-like member or the semiconductor wafer side supported by a ring frame via a mount tape, and the first plate-like member or The structure that a glass plate is isolate | separated can be taken.

更に、前記支持手段は、前記リングフレームを支持する外側テーブルと、前記処理対象物の下面側に位置する内側テーブルとからなり、これら外側テーブル及び内側テーブルは上下方向に相対移動可能に設けられている。   Further, the support means includes an outer table that supports the ring frame and an inner table that is positioned on the lower surface side of the object to be processed. The outer table and the inner table are provided so as to be relatively movable in the vertical direction. Yes.

また、本発明は、第1の板状部材に接着シートを介して第2の板状部材が積層された板状体を処理対象物とし、当該処理対象物から前記第1の板状部材を分離する分離方法において、
前記第2の板状部材側から前記処理対象物を支持しておき、前記処理対象物と挿入手段とを平面内で相対回転させ、前記第1の板状部材と前記接着シートとの間であって、前記処理対象物の外縁側から中心方向に向って挿入手段を挿入して隙間を形成して前記処理対象物から第1の板状部材を分離する、という方法を採っている。
Moreover, this invention makes the plate-shaped body which the 2nd plate-shaped member laminated | stacked through the adhesive sheet on the 1st plate-shaped member the process target object, and is using the said 1st plate-shaped member from the said process target object. In the separation method to separate,
The processing object is supported from the second plate-shaped member side, the processing object and the insertion means are relatively rotated in a plane, and the space between the first plate-shaped member and the adhesive sheet Then, a method is adopted in which an insertion means is inserted from the outer edge side of the processing object toward the center to form a gap to separate the first plate-like member from the processing object.

前記分離方法において、前記相対回転を行っているときに、前記挿入手段を前記処理対象物の外縁から中心に向けて徐々に挿入し、前記処理対象物における第1の板状部材の接着面積を減少させることで前記分離を行う、という方法を採ることができる。   In the separation method, during the relative rotation, the insertion means is gradually inserted from the outer edge of the processing object toward the center, and the bonding area of the first plate-like member on the processing object is increased. The method of performing the said separation by decreasing can be taken.

また、前記分離方法において、前記処理対象物と挿入手段とを相対回転させて分離する際に、前記第1の板状部材の落下を防止するように当該第1の板状部材を保持することが好ましい。   In the separation method, the first plate member is held so as to prevent the first plate member from falling when the object to be processed and the insertion unit are separated by rotating relative to each other. Is preferred.

本発明によれば、半導体ウエハ等の第2の板状部材側を支持手段に支持した状態で、ガラス等の第1の板状部材と前記接着シートとを平面内で相対回転させ、前記挿入手段を第1の板状部材と接着シートとの間に挿入する構成としたから、第2の板状部材が曲げ変形することなく処理対象物から第1の板状部材を分離することができる。
更に、挿入手段を処理対象物の外縁から中心方向に向けて徐々に挿入することで、処理対象物を回転させる回転抵抗を減少することができ、これにより、第1の板状部材を無理なく分離することができる。また、処理対象物の平面積が小さいときは、予め挿入手段を中心まで挿入した状態とし、この状態で前記平面内で相対回転させて分離することもできる。
更に、処理対象物を吸着保持するテーブルの高さが調整可能に設けられていることにより、第2の板状部材や接着シートの厚みが種々変化しても、第1の板状部材と接着シートとの境界位置に挿入手段の挿入位置を容易に合わせることが可能となる。
また、接着シートは紫外線硬化型の接着シートとし、紫外線照射手段を介して接着剤層を硬化させる構成とすれば、前述した分離を小さい抵抗で行うことができ、この点からも、第2の板状部材の割れ等を効果的に回避することができる。
更に、処理対象物をリングフレームに支持させた構成とした場合には、前記第1の板状部材の分離により、第2の板状部材がリングフレーム側に転着された態様となり、その後のハンドリングも容易となる。
また、リングフレームを支持する外側テーブルと処理対象物を支持する内側テーブルとにより支持手段を構成し、これら外側テーブルと内側テーブルとを上下に相対移動可能とした構成では、例えば、外側テーブルを相対的に下降させた位置に保つことにより、第1の板状部材と接着シートとの境界に向かって挿入手段を水平方向からアクセスさせることができ、挿入手段の移動方向をシンプルにできる。
According to the present invention, the first plate-like member such as glass and the adhesive sheet are relatively rotated in a plane while the second plate-like member side of the semiconductor wafer or the like is supported by the support means, and the insertion is performed. Since the means is configured to be inserted between the first plate-like member and the adhesive sheet, the first plate-like member can be separated from the object to be processed without bending the second plate-like member. .
Further, by gradually inserting the insertion means from the outer edge of the object to be processed toward the center direction, it is possible to reduce the rotational resistance for rotating the object to be processed. Can be separated. Further, when the plane area of the object to be processed is small, the insertion means can be inserted into the center in advance, and in this state, the object can be separated by being relatively rotated in the plane.
Furthermore, the height of the table for sucking and holding the object to be processed is provided so that it can be adhered to the first plate-like member even if the thickness of the second plate-like member or the adhesive sheet changes variously. It is possible to easily adjust the insertion position of the insertion means to the boundary position with the sheet.
Further, if the adhesive sheet is an ultraviolet curable adhesive sheet and the adhesive layer is cured via the ultraviolet irradiation means, the above-described separation can be performed with a small resistance. The crack of a plate-shaped member can be avoided effectively.
Further, when the processing object is supported by the ring frame, the second plate member is transferred to the ring frame side by the separation of the first plate member. Handling is also easy.
Further, in the configuration in which the outer table that supports the ring frame and the inner table that supports the object to be processed constitute the supporting means, and the outer table and the inner table can be relatively moved up and down, for example, the outer table is relatively By keeping the position lowered, the insertion means can be accessed from the horizontal direction toward the boundary between the first plate-like member and the adhesive sheet, and the movement direction of the insertion means can be simplified.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1には、本発明に係る分離装置20がウエハ処理装置10に適用された実施形態の概略斜視図が示され、また、図2には、分離方法を経時的に説明するための断面図が示されている。ここで、本実施形態に係る処理対象物Aは、図2(A)に示されるように、第1の板状部材としてのガラス板Pと、このガラス板Pの上面側に、接着シートSを介して積層された第2の板状部材としてのウエハWとからなる板状体とされている。ウエハWは、回路面(図2(A)中下面側)が接着シートS側に位置する状態で積層され、図示しない研削装置によって極薄に研削されているものとする。また、接着シートSは、ここでは詳細構造を示していないが、ベースシートの一方の面に紫外線硬化型の接着剤層を有し、他方の面に再剥離性の接着剤層を有する三層構造のものが用いられ、紫外線接硬化型の接着剤層がガラス板Pに、最剥離性の接着剤層がウエハWに接着する状態となっている。
前記処理対象物Aの処理工程としては、図2(B)に示されるように、ウエハWをリングフレームRFの内周側に配置した状態で、マウントテープMTを介して一体化される。そして、図2(C)に示されるように、ウエハW側からマウントテープMTを介して処理対象物Aが支持され、図2(D)に示されるように、ガラス板Pと接着シートSとをそれらの界面で分離し、その後、図2(E)に示されるように、ウエハWの回路面側に残された接着シートSがウエハWから剥離され、最終的に、リングフレームRFの内側にウエハWだけが残されることとなる(図2(F)参照)。
FIG. 1 is a schematic perspective view of an embodiment in which a separation apparatus 20 according to the present invention is applied to a wafer processing apparatus 10, and FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining the separation method over time. It is shown. Here, as shown in FIG. 2 (A), the processing object A according to the present embodiment has a glass plate P as a first plate member, and an adhesive sheet S on the upper surface side of the glass plate P. And a wafer W as a second plate-like member stacked via the two. It is assumed that the wafer W is laminated with the circuit surface (the lower surface side in FIG. 2A) positioned on the adhesive sheet S side and is extremely thinly ground by a grinding apparatus (not shown). The adhesive sheet S is not shown in detail here, but has a three-layer structure having an ultraviolet curable adhesive layer on one side of the base sheet and a removable adhesive layer on the other side. The structure is used, and an ultraviolet contact curable adhesive layer is adhered to the glass plate P and the most peelable adhesive layer is adhered to the wafer W.
As shown in FIG. 2B, the processing object A is integrated with the mounting tape MT in a state where the wafer W is disposed on the inner peripheral side of the ring frame RF. Then, as shown in FIG. 2 (C), the processing object A is supported from the wafer W side via the mount tape MT, and as shown in FIG. 2 (D), the glass plate P and the adhesive sheet S 2A, the adhesive sheet S left on the circuit surface side of the wafer W is peeled off from the wafer W as shown in FIG. 2E, and finally the inner side of the ring frame RF. Thus, only the wafer W is left (see FIG. 2F).

図1において、ウエハ処理装置10は、マガジン11内に収容された処理対象物Aがロボットアーム12を介して一枚ずつ取り出され、前記接着シートSの紫外線硬化型接着剤層を硬化させる紫外線照射装置13と、この紫外線照射装置13で紫外線照射された処理対象物Aを移載して位置決めを行うアライメント装置16と、処理対象物AをリングフレームRFに一体化させるマウント装置17と、処理対象物Aからガラス板Pを分離(剥離)してリングフレームRFにウエハWを転着させる分離装置20と、ウエハWの回路面側に残された接着シートSを剥離する剥離装置21と、接着シートSが剥離された後のウエハWがリングフレームRFに支持された状態でこれを収納するストッカ23とを備えて構成されている。   In FIG. 1, the wafer processing apparatus 10 is configured to irradiate the processing object A accommodated in the magazine 11 one by one via the robot arm 12 and to cure the ultraviolet curable adhesive layer of the adhesive sheet S. An apparatus 13, an alignment apparatus 16 for transferring and positioning the processing object A irradiated with ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation apparatus 13, a mounting apparatus 17 for integrating the processing object A with the ring frame RF, and a processing object A separation device 20 that separates (peels) the glass plate P from the object A and transfers the wafer W to the ring frame RF, a peeling device 21 that peels the adhesive sheet S remaining on the circuit surface side of the wafer W, The wafer W after the sheet S is peeled off is configured to include a stocker 23 for storing the wafer W in a state of being supported by the ring frame RF.

前記マガジン11には、多数の処理対象物Aを略水平姿勢に保った状態で、ウエハWを上面側として処理対象物Aが多段状に収容されている。この処理対象物Aは、先端側に吸着保持構造が採用されたロボットアーム12を介してマガジン11から取り出され、紫外線照射装置13に移載された後、アライメント装置16で位置決めされマウント装置17側に移載するように設けられている。   In the magazine 11, the processing objects A are accommodated in a multistage shape with the wafer W as the upper surface side in a state where a large number of the processing objects A are maintained in a substantially horizontal posture. The processing object A is taken out from the magazine 11 via the robot arm 12 having a suction holding structure on the tip side, transferred to the ultraviolet irradiation device 13, and then positioned by the alignment device 16 and mounted on the mounting device 17 side. It is provided to be transferred to.

前記紫外線照射装置13は、ガイドレール25に沿って移動可能なスライドテーブル27と、このスライドテーブル27の上方に位置する紫外線照射部28とからなる。スライドテーブル27は処理対象物Aを載置した状態で、前記ガイドレール25に沿って移動し、これにより、前記接着シートSの紫外線硬化型接着剤層を硬化させて分離装置20による分離に備えるようになっている。   The ultraviolet irradiation device 13 includes a slide table 27 movable along the guide rail 25 and an ultraviolet irradiation unit 28 located above the slide table 27. The slide table 27 moves along the guide rail 25 with the processing object A placed thereon, thereby curing the ultraviolet curable adhesive layer of the adhesive sheet S to prepare for separation by the separation device 20. It is like that.

前記アライメント装置16、マウント装置17、剥離装置21、ストッカ23は、本出願人による先願である前記特許文献1に記載された構成と実質的に同一である。従って、ここでは、それらの構成につい概略的に説明若しくは説明を省略するものとし、以下、分離装置20について詳細に説明する。   The alignment device 16, the mounting device 17, the peeling device 21, and the stocker 23 are substantially the same as the configuration described in Patent Document 1 that is a prior application by the present applicant. Accordingly, the description or description of these configurations will be omitted here, and the separation device 20 will be described in detail below.

前記アライメント装置16は、処理対象物Aを回転させて図示しないカメラ等によってウエハWの結晶方向を特定する位置決めを行うとともに、ウエハWの芯出しを行うようになっている。   The alignment apparatus 16 rotates the processing object A and performs positioning for specifying the crystal direction of the wafer W by a camera or the like (not shown), and also centers the wafer W.

前記マウント装置17は、リングフレームRFと処理対象物Aとを支持するマウントテーブル40と、リングフレームRFと処理対象物Aとを一体化させるマウントテープMTを貼付する貼付ユニット41とを備えて構成されている。リングフレームRFは、マウントテーブル40の側方に配置されたストックテーブル42上に積み重ねた状態でストックされており、最上位のリングフレームRFが、吸着部を備えた移載アーム43によってマウントテーブル40上に移載される。マウントテーブル40は、一対のガイドレール47に沿ってX軸方向に移動可能に設けられている。   The mount device 17 includes a mount table 40 that supports the ring frame RF and the processing object A, and a pasting unit 41 that affixes a mount tape MT that integrates the ring frame RF and the processing object A. Has been. The ring frame RF is stocked in a state of being stacked on a stock table 42 disposed on the side of the mount table 40, and the uppermost ring frame RF is mounted on the mount table 40 by a transfer arm 43 having a suction portion. Reprinted on top. The mount table 40 is provided so as to be movable along the pair of guide rails 47 in the X-axis direction.

前記貼付ユニット41は、マウントテープMTをリングフレームRFとウエハWの裏面(図中上面)に貼付するものである。本実施形態におけるマウントテープMTは、リングフレームRFの開口部よりも大きい直径を有する樹脂テープからなり、帯状の剥離シートの一方の面に仮着されて原反Lとして採用されている。貼付ユニット41は、原反Lの繰出方向を急激に反転させてマウントテープMTを剥離するピールプレート51と、このピールプレート51の先端縁に沿って配置されたプレスローラ52とを含み、マウントテープMTをピールプレート51の先端で剥離しつつ移動するマウントテーブル40上のリングフレームRFと処理対象物Aに貼付するようになっている。   The affixing unit 41 affixes the mount tape MT to the ring frame RF and the back surface (upper surface in the drawing) of the wafer W. The mount tape MT in the present embodiment is made of a resin tape having a diameter larger than the opening of the ring frame RF, and is temporarily attached to one surface of a strip-shaped release sheet and adopted as the original fabric L. The affixing unit 41 includes a peel plate 51 that peels off the mount tape MT by abruptly reversing the feeding direction of the original fabric L, and a press roller 52 disposed along the leading edge of the peel plate 51. The MT is attached to the processing object A and the ring frame RF on the mount table 40 that moves while being peeled off at the tip of the peel plate 51.

前記分離装置20は、図3及び図4に示されるように、ウエハW側からマウントテープMTを介して処理対象物Aを支持する支持手段55と、この支持手段55に相対する上方位置でガラス板Pを保持する保持手段56と、ガラス板Pと接着シートSとの間に挿入可能に設けられた挿入手段57と、支持手段55及び保持手段56に対し挿入手段57を平面内で相対回転させる駆動手段58とを備えて構成されている。なお、図3及び図4では、構成を見やすくするため、マウントテープMTを省略して示している。   As shown in FIGS. 3 and 4, the separation device 20 includes a support means 55 that supports the object A to be processed from the wafer W side via the mount tape MT, and a glass at an upper position relative to the support means 55. The holding means 56 for holding the plate P, the insertion means 57 provided so as to be insertable between the glass plate P and the adhesive sheet S, and the insertion means 57 relative to the support means 55 and the holding means 56 are relatively rotated in a plane. Driving means 58 to be operated. In FIGS. 3 and 4, the mounting tape MT is omitted to make the configuration easy to see.

前記分離装置20とマウント装置17との間には、単軸ロボット77を介して移動可能な移載アーム78が設けられ、マウントテープMTを介してリングフレームRFに一体化された処理対象物Aを吸着保持し、支持手段55に受け渡すように構成されている。   A transfer arm 78 that is movable via a single-axis robot 77 is provided between the separation device 20 and the mount device 17, and the processing object A integrated with the ring frame RF via the mount tape MT. Is held by suction and delivered to the support means 55.

前記支持手段55は、リングフレームRFを支持する外側テーブル60と、処理対象物Aの下面側に位置するとともに、マウントテープMTを介して処理対象物Aを吸着保持する内側テーブル61とを含むテーブル63により構成されている。外側テーブル60は、平面形状が略リング状に設けられている一方、内側テーブル61は、平面形状が略円形に設けられている。本実施形態では、内側テーブル61及び外側テーブル60は、それぞれ図示しないモータを介して上下(Z軸方向)に移動可能に設けられており、これにより、内側テーブル61は、ウエハWや接着シートSの厚みが種々変化しても、ガラス板Pと接着シートSとの境界位置に後述する挿入手段の挿入位置を容易に合わせることが可能となる。また、外側テーブル60の外周における周方向複数箇所、本実施形態では四箇所には、相互に略90度間隔を隔てた位置にリング押さえ65が設けられている。これらリング押さえ65は、側面視で略L字状をなし、当該リング押さえ65によりリングフレームRFを外側テーブル60の上面側に固定できるようになっている。   The support means 55 includes an outer table 60 that supports the ring frame RF, and an inner table 61 that is located on the lower surface side of the processing object A and that holds the processing object A by suction via the mount tape MT. 63. The outer table 60 is provided with a substantially ring shape in plan view, while the inner table 61 is provided with a substantially circular plan shape. In the present embodiment, the inner table 61 and the outer table 60 are provided so as to be movable up and down (in the Z-axis direction) via a motor (not shown). Even if the thickness of the sheet changes variously, it becomes possible to easily match the insertion position of the insertion means described later with the boundary position between the glass plate P and the adhesive sheet S. Further, ring pressers 65 are provided at a plurality of positions in the circumferential direction on the outer periphery of the outer table 60, that is, at four positions in the present embodiment, at positions spaced apart from each other by approximately 90 degrees. These ring pressers 65 are substantially L-shaped in a side view, and the ring presser 65 can fix the ring frame RF to the upper surface side of the outer table 60.

前記保持手段56は、図示しないフレームに固定されるとともに、Z軸方向に進退可能な直動モータMと、このモータMの出力軸側(下端側)に平面内で回転可能に設けられた吸着パッド69とにより構成されている。なお、吸着パッド69は、図示しない減圧ポンプに接続されている。   The holding means 56 is fixed to a frame (not shown), and is a linear motion motor M that can advance and retreat in the Z-axis direction, and an adsorption provided rotatably on the output shaft side (lower end side) of the motor M in a plane. The pad 69 is constituted. The suction pad 69 is connected to a decompression pump (not shown).

前記挿入手段57は、X軸方向に延びる単軸ロボット70と、この単軸ロボット70によってX軸方向に移動可能なスライダ71と、当該スライダ71に支持されたモータM1を介して平面内で回転可能に設けられたアーム73と、このアーム73の先端に着脱自在に設けられたブレード75とからなる。ブレード75は、先端が鋭角をなす公知のカッター刃に類似した平面形状に設けられている。   The insertion means 57 rotates in a plane via a single-axis robot 70 extending in the X-axis direction, a slider 71 movable in the X-axis direction by the single-axis robot 70, and a motor M1 supported by the slider 71. The arm 73 includes a detachable arm 73 and a blade 75 detachably provided at the tip of the arm 73. The blade 75 is provided in a planar shape similar to a known cutter blade whose tip has an acute angle.

前記駆動手段58は、前記外側テーブル60の下面側に設けられたモータM2により構成されている。このモータM2は、テーブル63を平面内で回転可能とするもので、これにより、テーブル63に支持されたリングフレームRF及び処理対象物Aに対してブレード75が相対回転可能となっている。   The driving means 58 is constituted by a motor M2 provided on the lower surface side of the outer table 60. The motor M2 enables the table 63 to rotate in a plane, whereby the blade 75 can be rotated relative to the ring frame RF and the processing object A supported by the table 63.

前記ガラス板除去装置80は、Y軸方向に延びる単軸ロボット81に沿って移動可能なスライダ82と、当該スライダ82に設けられたZ軸ロボット83を介して支持された吸着アーム85と、ガラス板Pを多段型に積み上げて回収可能な昇降タイプの回収テーブル86とにより構成されている。ここで、吸着アーム85は、その基部側にモータM3が介装されており、当該モータM3を介して反転可能に設けられている。   The glass plate removing device 80 includes a slider 82 movable along a single-axis robot 81 extending in the Y-axis direction, a suction arm 85 supported via a Z-axis robot 83 provided on the slider 82, and a glass. The lifting / lowering type recovery table 86 is configured such that the plates P can be stacked in a multi-stage shape and recovered. Here, the suction arm 85 has a motor M3 interposed on the base side thereof, and is provided so as to be able to reverse through the motor M3.

図4に示されるように、前記分離装置20によってガラス板Pが剥離されてリングフレームRFに転着されたウエハWは、移載装置88を介して剥離装置21側に移載される。この移載装置88は、Y軸方向に沿って配置された単軸ロボット89と、この単軸ロボット89に沿って移動するスライダ90に支持された昇降用単軸ロボット91と、当該昇降用単軸ロボット91に沿って移動する昇降スライダ92と、当該昇降スライダ92に支持された吸着アーム93とにより構成されている。マウントテープMTを介してリングフレームRFに一体化された接着シート付きウエハWは、吸着アーム93によって剥離装置21側に移載され、当該剥離装置21で接着シートSを剥離した後、ストッカに収容される。
なお、剥離装置21及びストッカ23の構成は、前記特許文献1と同一であり、また、本発明の必須構成ではないので説明を省略する。
As shown in FIG. 4, the wafer W from which the glass plate P has been peeled off by the separating device 20 and transferred to the ring frame RF is transferred to the peeling device 21 via the transfer device 88. The transfer device 88 includes a single-axis robot 89 disposed along the Y-axis direction, a single-axis robot 91 for lifting supported by a slider 90 that moves along the single-axis robot 89, and the single unit for lifting. The lift slider 92 moves along the axis robot 91, and the suction arm 93 supported by the lift slider 92. The wafer W with the adhesive sheet integrated with the ring frame RF through the mount tape MT is transferred to the peeling device 21 side by the suction arm 93, and after the adhesive sheet S is peeled off by the peeling device 21, it is accommodated in the stocker. Is done.
In addition, since the structure of the peeling apparatus 21 and the stocker 23 is the same as the said patent document 1, and is not an essential structure of this invention, description is abbreviate | omitted.

次に、本実施形態における分離装置20による分離方法について説明する。   Next, a separation method by the separation device 20 in the present embodiment will be described.

図1に示されるように、マガジン11に収容された処理対象物Aは、ロボットアーム12によって一つずつ取り出されて紫外線照射装置13に移載される。紫外線照射装置13では、処理対象物Aのガラス板P越しに紫外線を照射して接着シートSの紫外線硬化型の接着剤層を硬化させておき、これにより、処理対象物Aは、後工程における剥離に備えられる。   As shown in FIG. 1, the processing objects A accommodated in the magazine 11 are taken out one by one by the robot arm 12 and transferred to the ultraviolet irradiation device 13. In the ultraviolet irradiation device 13, ultraviolet rays are irradiated through the glass plate P of the processing object A to cure the ultraviolet curable adhesive layer of the adhesive sheet S. Prepared for peeling.

紫外線照射が行われた処理対象物Aはアライメント装置16にてアライメントされた後に、ロボットアーム12を介してマウント装置17のマウントテーブル40に移載される。この際、マウントテーブル40には、移載アーム43によってリングフレームRFが予め移載されている。   The processing object A that has been irradiated with ultraviolet rays is aligned by the alignment device 16 and then transferred to the mount table 40 of the mounting device 17 via the robot arm 12. At this time, the ring frame RF is previously transferred to the mount table 40 by the transfer arm 43.

マウントテーブル40に移載された処理対象物AとリングフレームRFの上面側にマウントテープMTを貼付することにより、処理対象物AとリングフレームRFとが一体化される。この状態では、図2(B)に示されるように、マウントテープMTが上面側に位置した状態となる。   The processing object A and the ring frame RF are integrated by attaching the mount tape MT to the upper surface side of the processing object A and the ring frame RF transferred to the mount table 40. In this state, as shown in FIG. 2B, the mount tape MT is located on the upper surface side.

マウントテーブル40上のリングフレームRF部分を移載アーム78が吸着して図1中X軸方向に沿って右上方向に移動すると、ガラス板除去装置80の吸着アーム85が移載アーム78の下方に位置するように移動し、吸着アーム85がガラス板Pの面を吸着して処理対象物AがリングフレームRFと共に受け渡される。
そして、吸着アーム85が略180度回転して受け渡された処理対象物Aを反転し、図2(C)に示されるように、ウエハW側からマウントテープMTを介して処理対象物AとリングフレームRFが内側テーブル61と外側テーブル60の上面にそれぞれ支持される。
この状態で、リングフレームRFは、リング押さえ65によって位置が固定される一方、処理対象物Aは、マウントテープMTを介して内側テーブル61に吸着保持される。
When the transfer arm 78 sucks the ring frame RF portion on the mount table 40 and moves in the upper right direction along the X-axis direction in FIG. 1, the suction arm 85 of the glass plate removing device 80 moves below the transfer arm 78. The suction arm 85 sucks the surface of the glass plate P, and the processing object A is delivered together with the ring frame RF.
Then, the processing object A delivered by rotating the suction arm 85 by approximately 180 degrees is reversed, and as shown in FIG. 2 (C), the processing object A and the processing object A are mounted from the wafer W side via the mount tape MT. The ring frames RF are supported on the upper surfaces of the inner table 61 and the outer table 60, respectively.
In this state, the position of the ring frame RF is fixed by the ring presser 65, while the processing object A is sucked and held on the inner table 61 via the mount tape MT.

このようにして処理対象物AとリングフレームRFの固定が行われた状態で、それまで上方に待機していた保持手段56の吸着パッド69が下降し、ガラス板Pに接触して当該ガラス板Pの吸着保持を開始する。   In a state where the processing object A and the ring frame RF are fixed in this manner, the suction pad 69 of the holding means 56 that has been waiting up until then is lowered and comes into contact with the glass plate P to contact the glass plate. P adsorption holding is started.

ここで、挿入手段57は、図4に示される待機位置から、ブレード75の先端が処理対象物Aに向く方向にアーム73を平面内で回転動作させる一方、テーブル63は、外側テーブル60を下降させてその上面位置が内側テーブル61の上面位置よりも相対的に低くなるように制御される(図2(D)参照)。そして、この状態で、挿入手段57の単軸ロボット70を作動してブレード75の先端側がガラス板Pと接着シートSとの界面に外縁に移動される。この際、内側テーブル61は、ブレード75の高さ位置と前記界面の高さ位置とが一致するように、図示しないモータを介して調整されている。従って、ウエハWや接着シートSの厚みが種々異なる場合であっても界面での分離に対応することができる。   Here, the insertion means 57 rotates the arm 73 in a plane from the standby position shown in FIG. 4 in the direction in which the tip of the blade 75 faces the processing object A, while the table 63 lowers the outer table 60. Thus, the upper surface position is controlled to be relatively lower than the upper surface position of the inner table 61 (see FIG. 2D). In this state, the single-axis robot 70 of the insertion means 57 is operated to move the tip end side of the blade 75 to the outer edge at the interface between the glass plate P and the adhesive sheet S. At this time, the inner table 61 is adjusted via a motor (not shown) so that the height position of the blade 75 matches the height position of the interface. Therefore, even when the thickness of the wafer W or the adhesive sheet S is different, separation at the interface can be handled.

次いで、駆動手段58を構成するモータM2を駆動してテーブル63を平面内で回転させる。なお、ガラス板Pを吸着しているパッド69は、この回転に追従回転する。そして、この回転を行っている際に、前記ブレード75が処理対象物Aの外縁から中心に向かって少しずつ挿入される。そして、ブレード75の先端が中心まで達したときに、当該ブレード75による界面剥離が処理対象物Aの全域に及び、これにより、ガラス板Pが接着シートSから剥離されてウエハWから分離されることとなる。なお、図2(D)に示されるように、ブレード75の挿入によってガラス板Pが曲げ変形したとしても、当該ガラス板Pが割れることのないようにブレード75の厚みが設定されている。   Next, the motor M2 constituting the driving means 58 is driven to rotate the table 63 in a plane. The pad 69 adsorbing the glass plate P rotates following this rotation. During this rotation, the blade 75 is inserted little by little from the outer edge of the processing object A toward the center. Then, when the tip of the blade 75 reaches the center, the interface peeling by the blade 75 reaches the entire area of the processing object A, whereby the glass plate P is peeled from the adhesive sheet S and separated from the wafer W. It will be. As shown in FIG. 2D, even if the glass plate P is bent and deformed by the insertion of the blade 75, the thickness of the blade 75 is set so that the glass plate P is not broken.

このようにして分離されたガラス板Pは、吸着パッド69が上昇し、ガラス板Pの下面側に吸着アーム85が位置するように制御され、当該吸着アーム85にガラス板Pを受け渡して回収テーブル86に回収される。   The glass plate P thus separated is controlled such that the suction pad 69 rises and the suction arm 85 is positioned on the lower surface side of the glass plate P, and the glass plate P is delivered to the suction arm 85 to collect the recovery table. 86 is recovered.

ガラス板Pが分離されたウエハWは、その外周側にあるリングフレームRFが吸着アーム93に吸着保持され、後工程を行う剥離装置21側に移載される。そして、当該剥離装置21において、ウエハWの上面側に残る接着シートSがウエハWから剥離された後、当該ウエハWがリングフレームRFと共にストッカ23に収容される。   The wafer W from which the glass plate P has been separated is transferred to the side of the peeling device 21 that performs the post-process, with the ring frame RF on the outer peripheral side being sucked and held by the suction arm 93. Then, in the peeling device 21, after the adhesive sheet S remaining on the upper surface side of the wafer W is peeled from the wafer W, the wafer W is accommodated in the stocker 23 together with the ring frame RF.

従って、このような実施形態によれば、ウエハWをテーブル63側に位置させて当該ウエハWを支持する一方、ガラス板Pを上面側とし、ブレード75をガラス板Pと接着シートSとの間に挿入した状態で処理対象物Aとブレード75とを平面内で相対回転させる構成としたから、ウエハWが曲げ変形することなく処理対象物Aからガラス板Pを剥離することができ、ウエハWとガラス板との分離を無理なく行うことができ、これにより、ウエハWの破損を効果的に防止することができる、という効果を得る。   Therefore, according to such an embodiment, the wafer W is positioned on the table 63 side to support the wafer W, while the glass plate P is the upper surface side, and the blade 75 is between the glass plate P and the adhesive sheet S. Since the processing object A and the blade 75 are relatively rotated in a plane while being inserted into the wafer W, the glass plate P can be peeled from the processing object A without bending the wafer W, and the wafer W And the glass plate can be separated without difficulty, thereby obtaining the effect that the wafer W can be effectively prevented from being damaged.

以上のように、本発明を実施するための最良の構成、方法等は、前記記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示、説明されているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上説明した実施形態に対し、形状、位置若しくは配置等に関し、必要に応じて当業者が様々な変更を加えることができるものである。
As described above, the best configuration, method and the like for carrying out the present invention have been disclosed in the above description, but the present invention is not limited to this.
In other words, the present invention has been illustrated and described mainly with respect to specific embodiments, but without departing from the scope of the technical idea and object of the present invention, the shape, position, or With respect to the arrangement and the like, those skilled in the art can make various changes as necessary.

例えば、前記実施形態では、処理対象物Aを回転させている間に、ブレード75の先端挿入深さを拡大して処理対象物Aの中心に移動させる場合を説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、処理対象物Aの直径が小さいときは、ブレード75を処理対象物Aの外縁から中心に向かって一気に挿入しておき、この状態で処理対象物Aを回転させて前述した分離を行うこともできる。   For example, in the above-described embodiment, the case where the tip insertion depth of the blade 75 is enlarged and moved to the center of the processing object A while the processing object A is being rotated has been described. When the diameter of the processing object A is small, the blade 75 is inserted from the outer edge of the processing object A toward the center at once, and the processing object A is rotated in this state to rotate the processing object A. Separation can also be performed.

また、前記実施形態における分離装置20は、処理対象物AとしてウエハWの回路面側に接着シートSを介してガラス板Pが貼付された板状体を用いた場合を図示、説明したが、積層構造を有する他の板状体を分離する場合にも適用することができる。
更に、テーブル63は、外側テーブル60が下降して内側テーブル61に対して相対移動可能としたが、内側テーブル61を上昇させる構成としてもよい。
また、挿入手段57を構成するブレード75は、高さ位置調整可能とする構成を採用することができる。
Moreover, although the separation apparatus 20 in the said embodiment illustrated and demonstrated the case where the plate-shaped object by which the glass plate P was stuck to the circuit surface side of the wafer W as the process target object A via the adhesive sheet S was used, The present invention can also be applied when separating other plate-like bodies having a laminated structure.
Further, the table 63 can be moved relative to the inner table 61 by lowering the outer table 60, but the inner table 61 may be raised.
Further, the blade 75 constituting the insertion means 57 can employ a configuration that allows height position adjustment.

本実施形態に係る分離装置が適用されたウエハ処理装置の全体構成を示す概略斜視図。1 is a schematic perspective view showing an overall configuration of a wafer processing apparatus to which a separation apparatus according to an embodiment is applied. 処理対象物からガラス板を分離してウエハをリングフレームに転着させる一連の工程を示す断面図。Sectional drawing which shows a series of processes which isolate | separate a glass plate from a process target object and transfer a wafer to a ring frame. 分離装置の要部概略斜視図。The principal part schematic perspective view of a separation apparatus. ガラス板がウエハから分離された状態を示す分離装置の概略斜視図。The schematic perspective view of the separation apparatus which shows the state by which the glass plate was isolate | separated from the wafer.

符号の説明Explanation of symbols

20 分離装置
55 支持手段
56 保持手段
57 挿入手段
58 駆動手段
60 外側テーブル
61 内側テーブル
63 テーブル
A 処理対象物
P ガラス板(第1の板状部材)
S 接着シート
W 半導体ウエハ(第2の板状部材)
RF リングフレーム
M2 モータ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 20 Separator 55 Support means 56 Holding means 57 Insertion means 58 Drive means 60 Outer table 61 Inner table 63 Table A Process target P Glass plate (first plate-like member)
S adhesive sheet W semiconductor wafer (second plate-like member)
RF ring frame M2 motor

Claims (9)

第1の板状部材に接着シートを介して第2の板状部材が積層された板状体を処理対象物とし、当該処理対象物から前記第1の板状部材を分離する分離装置において、
前記第2の板状部材側から前記処理対象物を支持する支持手段と、前記第1の板状部材と前記接着シートとの間に挿入可能に設けられた挿入手段と、前記支持手段と挿入手段とを相対回転させる駆動手段とを備え、
前記支持手段と前記挿入手段との平面内での相対回転と、前記処理対象物に対して挿入手段が外縁から中心方向に向う移動動作によって前記処理対象物から第1の板状部材を分離可能としたことを特徴とする分離装置。
In the separation apparatus that separates the first plate-shaped member from the processing object, using the plate-shaped body in which the second plate-shaped member is laminated on the first plate-shaped member via the adhesive sheet as the processing object.
Support means for supporting the object to be processed from the second plate-like member side, insertion means provided to be insertable between the first plate-like member and the adhesive sheet, and the support means and insertion Drive means for relatively rotating the means,
The first plate-like member can be separated from the object to be processed by relative rotation of the support means and the inserting means in a plane and a moving operation of the inserting means from the outer edge toward the center with respect to the object to be processed. Separation device characterized by that.
ガラス板に接着シートを介して半導体ウエハが積層された板状体を処理対象物とし、当該処理対象物から前記ガラス板を分離する分離装置において、
前記半導体ウエハ側から前記処理対象物を支持する支持手段と、当該支持手段に相対して前記ガラス板を保持する保持手段と、前記ガラス板と前記接着シートとの間に挿入可能に設けられた挿入手段と、前記支持手段及び保持手段と挿入手段とを相対回転させる駆動手段とを備え、
前記支持手段及び保持手段と前記挿入手段との平面内での相対回転と、前記処理対象物に対して前記挿入手段が外縁から中心方向に向かう移動動作によって前記処理対象物からガラス板を分離可能としたことを特徴とする分離装置。
In a separation apparatus that separates the glass plate from the processing object, using a plate-like body in which a semiconductor wafer is laminated on the glass plate via an adhesive sheet,
A support unit that supports the object to be processed from the semiconductor wafer side, a holding unit that holds the glass plate relative to the support unit, and the glass plate and the adhesive sheet are provided so as to be insertable. An insertion means; and a driving means for relatively rotating the support means and the holding means and the insertion means,
The glass plate can be separated from the processing object by relative rotation of the supporting means, the holding means, and the insertion means in a plane, and the insertion means moves relative to the processing object from the outer edge toward the center. Separation device characterized by that.
前記挿入手段は前記処理対象物の外縁から中心に向けて徐々に挿入されるように制御されることを特徴とする請求項1又は2記載の分離装置。   The separation apparatus according to claim 1, wherein the insertion unit is controlled so as to be gradually inserted from an outer edge of the processing object toward a center. 前記接着シートは紫外線硬化型の接着シートであり、前記処理対象物を前記支持手段に移載する前の段階で前記接着シートに紫外線を照射するための紫外線照射手段を更に含むことを特徴とする請求項1、2又は3記載の分離装置。   The adhesive sheet is an ultraviolet curable adhesive sheet, and further includes ultraviolet irradiation means for irradiating the adhesive sheet with ultraviolet rays before transferring the object to be processed to the support means. The separation apparatus according to claim 1, 2 or 3. 前記処理対象物は、第2の板状部材若しくは半導体ウエハ側がマウントテープを介してリングフレームに支持され、当該リングフレームと共に前記支持手段に支持された状態で前記第1の板状部材若しくはガラス板が分離されることを特徴とする請求項1ないし4の何れかに記載の分離装置。   The processing object is the first plate member or glass plate in a state where the second plate member or semiconductor wafer side is supported by a ring frame via a mount tape and is supported by the support means together with the ring frame. The separation device according to claim 1, wherein the separation device is separated. 前記支持手段は、前記リングフレームを支持する外側テーブルと、前記処理対象物の下面側に位置する内側テーブルとからなり、これら外側テーブル及び内側テーブルは上下方向に相対移動可能に設けられていることを特徴とする請求項5記載の分離装置。   The support means includes an outer table that supports the ring frame and an inner table that is positioned on the lower surface side of the object to be processed. The outer table and the inner table are provided so as to be relatively movable in the vertical direction. The separation device according to claim 5. 第1の板状部材に接着シートを介して第2の板状部材が積層された板状体を処理対象物とし、当該処理対象物から前記第1の板状部材を分離する分離方法において、
前記第2の板状部材側から前記処理対象物を支持しておき、前記処理対象物と挿入手段とを平面内で相対回転させ、前記第1の板状部材と前記接着シートとの間であって、前記処理対象物の外縁側から中心方向に向って挿入手段を挿入して隙間を形成して前記処理対象物から第1の板状部材を分離することを特徴とする分離方法。
In the separation method of separating the first plate-like member from the treatment object, the plate-like body in which the second plate-like member is laminated on the first plate-like member via the adhesive sheet is used as the treatment object.
The processing object is supported from the second plate-shaped member side, the processing object and the insertion means are relatively rotated in a plane, and the space between the first plate-shaped member and the adhesive sheet A separation method characterized by separating the first plate member from the processing object by inserting an insertion means from the outer edge side of the processing object toward the center to form a gap.
前記相対回転を行っているときに、前記挿入手段を前記処理対象物の外縁から中心に向けて徐々に挿入し、前記処理対象物における第1の板状部材の接着面積を減少させることで前記分離を行うことを特徴とする請求項7記載の分離装置。   When performing the relative rotation, the insertion means is gradually inserted from the outer edge of the processing object toward the center, thereby reducing the bonding area of the first plate-like member on the processing object. The separation apparatus according to claim 7, wherein the separation is performed. 前記処理対象物と挿入手段とを相対回転させて分離する際に、前記第1の板状部材の落下を防止するように当該第1の板状部材を保持することを特徴とする請求項7又は8記載の分離方法。   8. The first plate-like member is held so as to prevent the first plate-like member from falling when the object to be processed and the insertion means are separated by rotating relative to each other. Or the separation method of 8.
JP2007154083A 2007-06-11 2007-06-11 Separator and separation method Withdrawn JP2008306119A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007154083A JP2008306119A (en) 2007-06-11 2007-06-11 Separator and separation method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007154083A JP2008306119A (en) 2007-06-11 2007-06-11 Separator and separation method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008306119A true JP2008306119A (en) 2008-12-18

Family

ID=40234534

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007154083A Withdrawn JP2008306119A (en) 2007-06-11 2007-06-11 Separator and separation method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008306119A (en)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013016579A (en) * 2011-07-01 2013-01-24 Tokyo Electron Ltd Peeling apparatus, peeling system, peeling method, program, and computer storage medium
JP2013120903A (en) * 2011-12-08 2013-06-17 Tokyo Electron Ltd Peeling device, peeling system, peeling method, program, and computer storage medium
CN103219263A (en) * 2012-01-19 2013-07-24 旭硝子株式会社 Peeling device and method for producing electronic device
JP2014053464A (en) * 2012-09-07 2014-03-20 Tokyo Electron Ltd Peeling system
JP2014110388A (en) * 2012-12-04 2014-06-12 Tokyo Electron Ltd Peeling device, peeling system, and peeling method
JP2014170822A (en) * 2013-03-04 2014-09-18 Disco Abrasive Syst Ltd Annular protrusion part removing apparatus and method for processing wafer
JP2014220456A (en) * 2013-05-10 2014-11-20 東京エレクトロン株式会社 Peeling device, peeling system, peeling method, program and computer storage medium
JP2015176922A (en) * 2014-03-13 2015-10-05 東京エレクトロン株式会社 Peeling method, program, computer storage medium, peeling device and peeling system
JP2015207776A (en) * 2015-06-15 2015-11-19 東京エレクトロン株式会社 Peeling device, peeling system, and peeling method
JP2016066821A (en) * 2016-01-19 2016-04-28 東京エレクトロン株式会社 Peeling device, peeling system, and peeling method
CN106067429A (en) * 2015-04-20 2016-11-02 株式会社东芝 The manufacture device of semiconductor device and manufacture method

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013016579A (en) * 2011-07-01 2013-01-24 Tokyo Electron Ltd Peeling apparatus, peeling system, peeling method, program, and computer storage medium
JP2013120903A (en) * 2011-12-08 2013-06-17 Tokyo Electron Ltd Peeling device, peeling system, peeling method, program, and computer storage medium
CN103219263A (en) * 2012-01-19 2013-07-24 旭硝子株式会社 Peeling device and method for producing electronic device
JP2013147325A (en) * 2012-01-19 2013-08-01 Asahi Glass Co Ltd Peeling apparatus, and method of manufacturing electronic device
JP2014053464A (en) * 2012-09-07 2014-03-20 Tokyo Electron Ltd Peeling system
JP2014110388A (en) * 2012-12-04 2014-06-12 Tokyo Electron Ltd Peeling device, peeling system, and peeling method
JP2014170822A (en) * 2013-03-04 2014-09-18 Disco Abrasive Syst Ltd Annular protrusion part removing apparatus and method for processing wafer
JP2014220456A (en) * 2013-05-10 2014-11-20 東京エレクトロン株式会社 Peeling device, peeling system, peeling method, program and computer storage medium
JP2015176922A (en) * 2014-03-13 2015-10-05 東京エレクトロン株式会社 Peeling method, program, computer storage medium, peeling device and peeling system
CN106067429A (en) * 2015-04-20 2016-11-02 株式会社东芝 The manufacture device of semiconductor device and manufacture method
US10475675B2 (en) 2015-04-20 2019-11-12 Toshiba Memory Corporation Manufacturing apparatus and manufacturing method of semiconductor device
JP2015207776A (en) * 2015-06-15 2015-11-19 東京エレクトロン株式会社 Peeling device, peeling system, and peeling method
JP2016066821A (en) * 2016-01-19 2016-04-28 東京エレクトロン株式会社 Peeling device, peeling system, and peeling method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008306119A (en) Separator and separation method
TWI386991B (en) Support board separating apparatus, and support board separating method using the same
JP5791866B2 (en) Work dividing device
TWI414037B (en) Method for lamination substrate and apparatus using the method
JP5273791B2 (en) Equipment for applying adhesive tape to substrates
TWI417987B (en) Method for joining adhesive tape and apparatus using the method
KR102225474B1 (en) Peel-off apparatus, peel-off system, peel-off method and computer storage medium
CN101770980B (en) Workpiece dividing method and strip expanding device
KR20080012186A (en) Method for attaching adhesive tape to semiconductor wafer and method for peeling protective tape from semiconductor wafer and apparatus using them
JP2009064905A (en) Extension method and extension apparatus
JP4741332B2 (en) Wafer processing method
JP4971841B2 (en) Sheet sticking device and sticking method
JP2009044008A5 (en)
WO2017154304A1 (en) Substrate transfer method and substrate transfer device
JP2005317711A (en) Peeling device and peeling method
JP4968819B2 (en) Wafer processing method
JP7287630B2 (en) Apparatus and method for applying protective tape to semiconductor wafer
TWI744517B (en) Manufacturing device and manufacturing method of flexible element
JP2019029604A (en) Division device
JP2019009200A (en) Peeling device
JP2006278629A (en) Carrying apparatus
JP4393334B2 (en) Adhesive tape cutting device
JP5005904B2 (en) Transfer device and transfer method
JP4350018B2 (en) Adhesive tape sticking device
JP6328874B2 (en) Sheet pasting apparatus and method for preventing enlargement of apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20100907