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JP2008175972A - Rubbing method - Google Patents

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JP2008175972A
JP2008175972A JP2007008237A JP2007008237A JP2008175972A JP 2008175972 A JP2008175972 A JP 2008175972A JP 2007008237 A JP2007008237 A JP 2007008237A JP 2007008237 A JP2007008237 A JP 2007008237A JP 2008175972 A JP2008175972 A JP 2008175972A
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JP
Japan
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rubbing
liquid crystal
film
pile yarn
long
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Pending
Application number
JP2007008237A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koretatsu Takigawa
維樹 瀧川
Hiroshi Imafuku
浩 今福
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SHIN NISSEKI EKISHO FILM KK
Original Assignee
SHIN NISSEKI EKISHO FILM KK
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Publication date
Application filed by SHIN NISSEKI EKISHO FILM KK filed Critical SHIN NISSEKI EKISHO FILM KK
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a rubbing method by which the occurrence of discharge defects accompanying a rubbing operation is reduced. <P>SOLUTION: The rubbing method is characterized by using a velvet obtained by weaving cellulose based pile yarn containing the warp, the weft, and conductive fine particles such as carbon black, cutting the woven tissue having a woven structure with the pile yarn woven between two sheets of base cloths into two sheets, and continuously rubbing a long thermoplastic resin film with a fixed angle of 45° and with a squeeze of a rubbing nap of the rubbing cloth set to be 0.7 mm. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明はラビング方法に関する。   The present invention relates to a rubbing method.

配向基板フィルム上に液晶性高分子層を形成したものを直接または該液晶性高分子層を透光性基板フィルム上に転写して得られた視野角改良板、位相差板、色補償板等の液晶光学フィルムが知られている。このような配向基板フィルムは、ラビング布を貼り付けたラビングロールを一定方向に回転させて、該ラビング布の繊維毛足が、配向基板フィルムとなる高分子基板フィルムの表面を、一定方向に擦ることによって得られる。   Viewing angle improvement plate, retardation plate, color compensation plate, etc. obtained by directly forming a liquid crystal polymer layer on an alignment substrate film or transferring the liquid crystal polymer layer onto a translucent substrate film The liquid crystal optical film is known. In such an oriented substrate film, a rubbing roll with a rubbing cloth attached is rotated in a certain direction, and the fiber bristle of the rubbing cloth rubs the surface of the polymer substrate film that becomes the oriented substrate film in a certain direction. Can be obtained.

ラビング工程では、ラビング布と高分子基板フィルムが擦られることによって静電気が発生し、該基板フィルムが帯電する。この帯電が放電を起こすと基板フィルム上の表面状態が変化し、液晶の配向能が変化し、放電欠陥と呼ばれる不良となる。放電欠陥が発生すると生産歩留りが大幅に低下することになり、解決が望まれている。   In the rubbing process, static electricity is generated by rubbing the rubbing cloth and the polymer substrate film, and the substrate film is charged. When this charging causes a discharge, the surface state on the substrate film changes, and the alignment ability of the liquid crystal changes, resulting in a defect called a discharge defect. When a discharge defect occurs, the production yield is greatly reduced, and a solution is desired.

このような放電欠陥を解決する方法として、以下のような方法が提案されている。
特許文献1で提案されている方法は、湿度50%以上の雰囲気でラビングし、基板とラビング布との摩擦によって発生する静電気を低減するものである。
特許文献2で提案されている方法は、湿度50〜70%の雰囲気でラビングし、基板とラビング布との摩擦によって発生する静電気を低減するものである。
特許文献3で提案されている方法は、ラビング布の含水量を8%乃至12%として配向処理を行うことによって、基板とラビング布との摩擦によって発生する静電気を低減するものである。
しかしながらこれら方法によっても放電欠陥の低減効果は十分ではなく、さらなる改善が望まれていた。
特開平1−225918号公報 特開平5−249467号公報 特開平11−271776号公報
As methods for solving such discharge defects, the following methods have been proposed.
The method proposed in Patent Document 1 is to rub in an atmosphere having a humidity of 50% or more to reduce static electricity generated by friction between the substrate and the rubbing cloth.
In the method proposed in Patent Document 2, rubbing is performed in an atmosphere having a humidity of 50 to 70%, and static electricity generated by friction between the substrate and the rubbing cloth is reduced.
The method proposed in Patent Document 3 is to reduce static electricity generated by friction between the substrate and the rubbing cloth by performing the orientation treatment with the moisture content of the rubbing cloth being 8% to 12%.
However, these methods are not sufficient in reducing discharge defects, and further improvement has been desired.
JP-A-1-225918 JP-A-5-249467 Japanese Patent Laid-Open No. 11-271776

本発明は係る事情に鑑みてなされたもので、製品中に放電欠陥発生の少ないラビング方法を提供するものである。   The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a rubbing method in which the occurrence of discharge defects in a product is small.

本発明は、経糸、緯糸および導電性微粒子を含有するセルロース系パイル糸を製織し、2枚の基布の間に、パイル糸を織り込んだ織り構造を有する織り組織を2枚にカットして得られたベルベット織物を用い、長尺フィルムを連続的にラビングすることを特徴とするラビング方法に関する。   The present invention is obtained by weaving a cellulose pile yarn containing warp, weft and conductive fine particles, and cutting a woven structure having a woven structure in which a pile yarn is woven between two base fabrics into two pieces. The present invention relates to a rubbing method comprising continuously rubbing a long film using the obtained velvet fabric.

本発明のラビング方法によれば、製品中の欠点の発生を大幅に抑えることができ、生産歩留りを向上することができる。また、欠点の発生を抑制できるので液晶表示装置や液晶光学フィルムの高精細化に対応することができる。   According to the rubbing method of the present invention, the occurrence of defects in the product can be greatly suppressed, and the production yield can be improved. In addition, since the occurrence of defects can be suppressed, it is possible to cope with higher definition of liquid crystal display devices and liquid crystal optical films.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のラビング方法では、経糸、緯糸およびパイル糸を製織し、2枚の基布の間に、パイル糸を織り込んだ織り構造を有する織り組織を2枚にカットして得られたベルベット織物を用いる。経糸および緯糸を製織することにより得られた1枚の基布の緯糸を切断してパイル糸としたベッチン織物や、2本の引きそろえた糸を編み、うち1本をパイル糸として引き出し、切断してカットパイルとしたニットベロア織物を使用した場合と比較して、パイルの直立性に優れるため好ましい。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the rubbing method of the present invention, a velvet fabric obtained by weaving warp yarns, weft yarns and pile yarns and cutting a woven structure having a woven structure in which pile yarns are woven into two pieces between two base fabrics. Use. Weaving a betting fabric that weaves one weft of a base fabric obtained by weaving warp and weft to make a pile yarn, and two knitted yarns, one of which is pulled out as a pile yarn and cut Compared with the case where a knitted velor fabric made into a cut pile is used, it is preferable because the uprightness of the pile is excellent.

経糸および緯糸としては綿、レーヨン、ポリエステル、アセテート、ナイロン等が用いられるが、特にこれらに限定されるものではない。また、放電欠陥耐性を高めるために、経糸および緯糸として後述のセルロース系導電糸を用いてもよい。   Cotton, rayon, polyester, acetate, nylon and the like are used as the warp and weft, but are not particularly limited thereto. Moreover, in order to improve discharge defect tolerance, the below-mentioned cellulose conductive yarn may be used as the warp and the weft.

本発明に使用するパイル糸としてはセルロース系糸が用いられる。ここでいうセルロース系糸とは、ビスコースレーヨン、キュプラアンモニウムレーヨン、重合度400〜500の高強力レーヨン、有機溶媒系セルロース繊維等のセルロース系繊維等のフィラメント(長繊維)又は短繊維をいう。繊維種の中でもビスコースレーヨンが好ましく、また、長繊維であるフィラメントを使用することが、発塵面から好ましい。   Cellulose yarn is used as the pile yarn used in the present invention. The term “cellulose-based yarn” as used herein refers to filaments (long fibers) or short fibers such as viscose rayon, cupra ammonium rayon, high-strength rayon having a polymerization degree of 400 to 500, and cellulose-based fibers such as organic solvent-based cellulose fibers. Among the fiber types, viscose rayon is preferred, and the use of filaments that are long fibers is preferred from the viewpoint of dust generation.

パイル糸に含有する導電性微粒子としては、例えばカーボンブラック、金属粉、金属酸化物等が挙げられ、中でもカーボンブラックが好ましい。   Examples of the conductive fine particles contained in the pile yarn include carbon black, metal powder, metal oxide and the like, and carbon black is particularly preferable.

パイル糸の繊度は、0.5〜8デニール、好ましくは0.8〜6デニール、さらに好ましくは2〜6デニールの範囲で選択することができる。繊度が0.5デニール未満ではラビング時に糸の切断が起きやすく、また7デニールを越えると繊維径が太くなりラビング時に配向基板フィルムにキズを発生させたりして好ましくない。   The fineness of the pile yarn can be selected in the range of 0.5 to 8 denier, preferably 0.8 to 6 denier, and more preferably 2 to 6 denier. If the fineness is less than 0.5 denier, the yarn is likely to be cut during rubbing, and if it exceeds 7 denier, the fiber diameter becomes large and scratches are generated on the oriented substrate film during rubbing.

本発明に使用されるラビング布の織り構造としてはV織り、W織り等のベルベット織りとして通常用いられる構造が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。
このようにして得られたパイル糸を用いてラビング布を製造する典型的な方法を以下に説明する。
パイル糸を整経後、所望の織り構造にて織機にて織布を実施し、2枚にカットした後、シャーリングによりパイル長を調整し、バックコート樹脂形成工程を経ることにより、本発明で使用するラビング布を得ることができる。
バックコート樹脂としては酢酸ビニル系、アクリル系、SBR等のゴム系が挙げられ、ラビング布により導電性をもたせるために導電性とすることが好ましい。
Examples of the weaving structure of the rubbing cloth used in the present invention include structures usually used as velvet weaving such as V weaving and W weaving, but are not particularly limited thereto.
A typical method for producing a rubbing cloth using the pile yarn thus obtained will be described below.
After warping the pile yarn, weaving with a loom with the desired weaving structure, cutting it into two pieces, adjusting the pile length by shirring, and passing through the back coat resin forming step, the present invention A rubbing cloth to be used can be obtained.
Examples of the back coat resin include rubber systems such as vinyl acetate, acrylic, and SBR. It is preferable that the back coat resin be conductive in order to provide conductivity with a rubbing cloth.

ラビング布のフィラメント密度は、パイル糸の繊度や材質、強度等により一概に決定できないが、通常、100〜600(単位:千フィラメント/inch;以下同様)好ましくは120〜400、さらに好ましくは150〜250の範囲で選択することができる。フィラメント密度が100より小さい場合はラビング密度が小さくなるためラビングスジ発生の原因となり、600より大きい場合はフィラメント密度が大きすぎるために毛並みに乱れが生じるおそれがあるため望ましくない。 The filament density of the rubbing cloth cannot be determined unconditionally depending on the fineness, material, strength, etc. of the pile yarn, but is usually 100 to 600 (unit: 1,000 filaments / inch 2 ; the same applies hereinafter), preferably 120 to 400, more preferably 150. It can be selected in the range of ~ 250. If the filament density is less than 100, the rubbing density is small, which causes rubbing streaks. If the filament density is more than 600, the filament density is too high, and there is a possibility that the hair may be disturbed.

ラビング布の基布厚を含めたパイル長は1.0mm〜7.0mm、好ましくは1.5mm〜6.5mmの範囲で選択することができる。パイル長が1.0mmより小さい場合は、ラビングロールに若干の偏心があった場合にはラビングロール本体と配向基板が接触する虞があり、7.0mmより大きい場合は配向乱れが生ずる虞があるため望ましくない。
なお、本発明のラビング布は必要により、洗浄工程や樹脂含浸工程を施してもよい。
The pile length including the base cloth thickness of the rubbing cloth can be selected in the range of 1.0 mm to 7.0 mm, preferably 1.5 mm to 6.5 mm. If the pile length is less than 1.0 mm, the rubbing roll body and the alignment substrate may come into contact if the rubbing roll is slightly decentered, and if it is greater than 7.0 mm, the alignment may be disturbed. Therefore, it is not desirable.
Note that the rubbing cloth of the present invention may be subjected to a washing step or a resin impregnation step, if necessary.

次に、本発明のラビング方法について説明する。
まず、上記で得られたラビング布を用いて配向基板となる高分子基板フィルム(長尺フィルム)にラビング処理を施す。このラビング処理は長尺フィルムの長さ方向(MD)に対して任意の角度で行うことができる。
Next, the rubbing method of the present invention will be described.
First, a rubbing treatment is performed on a polymer substrate film (long film) serving as an alignment substrate using the rubbing cloth obtained above. This rubbing treatment can be performed at an arbitrary angle with respect to the length direction (MD) of the long film.

長尺フィルムとなる高分子としては、ラビング処理により表面が物理的または物理化学的に変性され、その後該ラビング処理表面と接触した液晶分子が該ラビング処理に対応して配向し得るようなものならばいずれのものも採用することができ、熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂のいずれでもよく、たとえばポリイミド、エポキシ樹脂、フェノール樹脂などの熱硬化性樹脂、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリケトン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリ(メタ)アクリレート、トリアセチルセルロース(TAC)などのセルロース系樹脂、ポリビニルアルコールなどの熱可塑性樹脂などが挙げられる。   The polymer that becomes a long film is such that the surface is physically or physicochemically modified by rubbing treatment, and then liquid crystal molecules that come into contact with the rubbing treatment surface can be aligned corresponding to the rubbing treatment. Any of these may be employed, and may be either a thermosetting resin or a thermoplastic resin. For example, thermosetting resins such as polyimide, epoxy resin, phenol resin, polyamide, polyether imide, polyether ketone, poly Polyester such as ether ether ketone (PEEK), polyketone, polyether sulfone, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyacetal, polycarbonate, poly (meth) acrylate, triacetylce Cellulose resins such as loin (TAC), and thermoplastic resins such as polyvinyl alcohol.

上記高分子フィルムそれ自身にラビング処理をすることもできるし、またこれら高分子フィルムを基材としてその表面に通常公知の配向剤、例えばポリビニルアルコール、ポリイミド、各種の長鎖アルキル基を有する界面活性剤等の有機薄膜(配向膜)を形成してなるものも例示される。またこのような配向膜の形成される基材としては、上記高分子フィルムのほかに、銅、ステンレス、鋼などの金属箔であることもできる。   The polymer film itself can be rubbed, and the surface activity of these polymer films having a base material on the surface thereof, such as polyvinyl alcohol, polyimide, and various long-chain alkyl groups. The thing formed by forming organic thin films (alignment film), such as an agent, is also illustrated. In addition to the polymer film, the base material on which such an alignment film is formed may be a metal foil such as copper, stainless steel, and steel.

長尺フィルム上に配向膜を形成する方法は、該基材が長尺フィルムであることからたとえばロールコーターやダイコーターなどの方法によることができる。たとえば、ポリイミドなどの熱硬化性樹脂溶液をコート後、加熱硬化させて配向膜を得る方法、またはポリビニルアルコールなどの熱可塑性樹脂溶液をコート後、溶剤を除去して配向膜を得る方法などの方法を採用することができる。   The method for forming the alignment film on the long film can be based on a method such as a roll coater or a die coater because the substrate is a long film. For example, a method of coating a thermosetting resin solution such as polyimide and then heat-curing to obtain an alignment film, or a method of coating a thermoplastic resin solution such as polyvinyl alcohol and then removing the solvent to obtain an alignment film Can be adopted.

ラビング処理を受ける長尺フィルムや配向膜を構成する高分子として特に好ましいものは、ポリイミドなどの熱硬化性樹脂またはポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンサルファイド、PEEK、ポリビニルアルコールなどの熱可塑性樹脂である。これらは、耐熱性が高く、後述する液晶分子の配向のための加熱操作においてもラビング処理が安定に保存されるので好ましい。
このようなフィルムは、通常のTダイ押出法などの成形方法により容易に長尺な連続フィルムとして得ることができる。厚みは、適宜に選択できるがたとえば10μm〜1mmの範囲から採用することができる。幅も適宜であるが通常は1〜500cmの範囲から選択される。
また、上記のフィルムは、後述のラビング処理による効果を妨げない範囲で公知の方法により1軸方向または2軸方向に適宜に延伸されたフィルムであることができる。
Particularly preferable as the polymer constituting the long film or alignment film subjected to the rubbing treatment is a thermosetting resin such as polyimide or a thermoplastic resin such as polyethylene terephthalate, polyphenylene sulfide, PEEK, or polyvinyl alcohol. These are preferable because they have high heat resistance and the rubbing treatment is stably stored even in a heating operation for aligning liquid crystal molecules described later.
Such a film can be easily obtained as a long continuous film by a molding method such as a normal T-die extrusion method. Although thickness can be selected suitably, it can employ | adopt from the range of 10 micrometers-1 mm, for example. Although the width is also appropriate, it is usually selected from the range of 1 to 500 cm.
Moreover, said film can be a film suitably extended | stretched to the uniaxial direction or the biaxial direction by the well-known method in the range which does not prevent the effect by the rubbing process mentioned later.

ラビング処理は、長尺フィルムのMDに対して所定の任意の角度、好ましくは0度〜45度の角度でラビングするものである。なお、この角度(ラビング角度)はラビング面を上からみたときにMDから時計回り方向の角度とする。   In the rubbing process, rubbing is performed at a predetermined arbitrary angle with respect to the MD of the long film, preferably at an angle of 0 to 45 degrees. This angle (rubbing angle) is an angle in the clockwise direction from the MD when the rubbing surface is viewed from above.

ラビング処理は、任意の方法で行うことができる。たとえばその一つの方法としてにより説明すると、配向基板としての長尺フィルム(12)をMDに搬送するステージ(11)上に、長尺フィルム(12)およびそのMDに対して任意の角度でラビングロール(10)を配置し、該長尺フィルム(12)を搬送しながら該ラビングロール(10)を回転させ、該フィルム(12)表面をラビング処理する。ラビングロール(10)とステージ(11)の移動方向とが成す角度は自在に調整し得る機構である。   The rubbing process can be performed by any method. For example, as one of the methods, a long film (12) as an alignment substrate is placed on a stage (11) that conveys the long film (12) to the MD, and a rubbing roll at an arbitrary angle with respect to the MD (12) and the MD. (10) is placed, the rubbing roll (10) is rotated while the long film (12) is being conveyed, and the surface of the film (12) is rubbed. The angle formed by the rubbing roll (10) and the moving direction of the stage (11) is a mechanism that can be freely adjusted.

ラビングロール表面には、前述の本発明のラビング布が貼付してある。
ラビング処理では、配向基板表面の硬度を勘案して、配向基板表面を一定方向に擦ることが大切である。かかる観点から、ラビング圧力、ラビングロールの回転数などを適宜に設定する。通常は、配向基板を0.5〜100m/分、好ましくは1〜30m/分の速度で移送させ、ラビングロール回転数は周速比として1〜1000、好ましくは5〜200の範囲から選択される。ラビング圧力は、わずかにラビング布表面が接する程度でよく、ラビング布の毛先の押し込み程度が0.1mm〜5.0mm、好ましくは0.1mm〜2.0mm程度とすることができる。必要により、ラビングされた表面に加圧気体の吹き付けや粘着ロールとの接触等により清浄化処理を行ってもよい。
On the surface of the rubbing roll, the rubbing cloth of the present invention is stuck.
In the rubbing treatment, it is important to rub the alignment substrate surface in a certain direction in consideration of the hardness of the alignment substrate surface. From this point of view, the rubbing pressure, the number of rotations of the rubbing roll, etc. are set appropriately. Usually, the alignment substrate is moved at a speed of 0.5 to 100 m / min, preferably 1 to 30 m / min, and the number of rotations of the rubbing roll is selected from the range of 1 to 1000, preferably 5 to 200 as the peripheral speed ratio. The The rubbing pressure may be such that the surface of the rubbing cloth is slightly touched, and the pushing-in degree of the bristles of the rubbing cloth is 0.1 mm to 5.0 mm, preferably about 0.1 mm to 2.0 mm. If necessary, a cleaning treatment may be performed by spraying a pressurized gas on the rubbed surface, contacting with an adhesive roll, or the like.

ラビング処理済みの長尺フィルムは、ついでラビング面が液晶分子と接するように積層される。該ラビング処理済みのラビング表面に応じて液晶分子が配向する。
積層されるべき液晶分子は、溶融時に液晶性を示すサーモトロピック液晶が好ましい。溶融時の液晶相の構造は、スメクチック、ネマチック、ねじれネマチック(コレステリック)またはディスコティックのいずれの分子配列構造であることもできる。ここで選択されるサーモトロピック液晶性の分子としては、例えばアクリロイル基、オキシラニル基、オキセタニル基、ビニルオキシ基、酸無水物基、活性水素を有する基等の反応性基を有する低分子の棒状液晶やディスコティック液晶、これらの反応性基を有する主鎖型や側鎖型の液晶性高分子(ポリマー)、さらに特に反応性基を有しないが液晶相形成温度からその温度をガラス転移温度よりも低い温度に冷却すると、液晶相の分子配列状態が保持されたままガラス状態となる液晶性高分子も用いることができる。低分子の液晶と液晶性高分子は適宜混合して使用することもできる。また、コレステリック液晶相の発現に必要とされる光学活性基は、液晶分子中に結合された形態でも、光学活性基を有する別の化合物を添加する形態であってもよい。
主鎖型液晶性高分子としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリエステルアミド、ポリカーボネート等が、また側鎖型液晶性高分子としては、ポリ(メタ)アクリレート、ポリマロネート、ポリシロキサン等が例示できる。
これらの液晶分子のなかでも、液晶性高分子を主とするものが好ましい。
The long film subjected to the rubbing treatment is then laminated so that the rubbing surface is in contact with the liquid crystal molecules. The liquid crystal molecules are aligned according to the rubbing surface that has been subjected to the rubbing treatment.
The liquid crystal molecules to be laminated are preferably thermotropic liquid crystals that exhibit liquid crystallinity when melted. The structure of the liquid crystal phase at the time of melting may be any molecular arrangement structure of smectic, nematic, twisted nematic (cholesteric), or discotic. The thermotropic liquid crystal molecules selected here include, for example, a low molecular rod-like liquid crystal having a reactive group such as an acryloyl group, an oxiranyl group, an oxetanyl group, a vinyloxy group, an acid anhydride group, and a group having active hydrogen. Discotic liquid crystals, main-chain and side-chain liquid crystalline polymers (polymers) having these reactive groups, and especially those having no reactive groups, but the temperature is lower than the glass transition temperature from the liquid crystal phase formation temperature A liquid crystalline polymer that becomes a glass state while maintaining the molecular alignment state of the liquid crystal phase when cooled to a temperature can also be used. A low-molecular liquid crystal and a liquid crystalline polymer can be used in a suitable mixture. Further, the optically active group required for the expression of the cholesteric liquid crystal phase may be a form bonded to the liquid crystal molecule or a form in which another compound having an optically active group is added.
Examples of the main chain type liquid crystalline polymer include polyester, polyamide, polyester amide, and polycarbonate, and examples of the side chain type liquid crystalline polymer include poly (meth) acrylate, polymalonate, and polysiloxane.
Among these liquid crystal molecules, those mainly composed of a liquid crystalline polymer are preferable.

特に反応性基を有しない液晶性高分子の場合、主鎖型、側鎖型を問わずその分子量は、GPCによるポリスチレン換算の数平均分子量は1000〜100000が好ましく、3000〜20000がより好ましい。液晶性高分子の中には溶媒に難溶性で、GPCによる分子量の測定が困難なものもある。そのような場合は、当該液晶性高分子を溶解する各種溶媒、たとえばフェノール/テトラクロロエタン(60/40質量比)混合溶媒中、30℃で測定した対数粘度が0.05〜3.0、が好ましく、0.07〜2.0がより好ましい。
数平均分子量が1000未満、または対数粘度が、0.05より小さい場合、得られた液晶性高分子の強度が低く、また数平均分子量が100000を超える場合や対数粘度が3.0を超えると液晶相形成時の粘度が高すぎて、配向性の低下や配向に要する時間の増加などの問題点が生じるので好ましくない。
なお、反応性基を有する液晶性高分子は、配向後、反応による分子量の増加や架橋などに伴い、液晶相の保持が容易になるので上記のような制限を設けなくともよいが、塗布性等からこの範囲にあるものが好ましい。
In particular, in the case of a liquid crystalline polymer having no reactive group, the number average molecular weight in terms of polystyrene by GPC is preferably 1000 to 100,000, more preferably 3000 to 20000, regardless of the main chain type or the side chain type. Some liquid crystalline polymers are sparingly soluble in solvents and difficult to measure molecular weight by GPC. In such a case, the logarithmic viscosity measured at 30 ° C in various solvents for dissolving the liquid crystalline polymer, for example, a mixed solvent of phenol / tetrachloroethane (60/40 mass ratio), is 0.05 to 3.0. Preferably, 0.07 to 2.0 is more preferable.
When the number average molecular weight is less than 1000 or the logarithmic viscosity is less than 0.05, the strength of the obtained liquid crystalline polymer is low, and when the number average molecular weight exceeds 100,000 or the logarithmic viscosity exceeds 3.0 Since the viscosity at the time of liquid crystal phase formation is too high, problems such as a decrease in alignment and an increase in time required for alignment occur, which is not preferable.
In addition, the liquid crystalline polymer having a reactive group does not have to be limited as described above because the liquid crystal phase can be easily retained after the alignment due to an increase in molecular weight or crosslinking due to the reaction. Those within this range are preferred.

液晶分子は、任意の方法で長尺フィルムのラビング表面に形成される。たとえば、適宜の溶剤に溶解させ塗布後、乾燥させてフィルムを形成する方法、あるいはTダイなどにより直接液晶分子を溶融押し出しするなどの方法によることができる。膜厚の均一性などの品質の点から溶液塗布して乾燥する方法が適当である。前記したとおり、本発明における長尺フィルムという意味は、一定の長さを有する連続しているフィルムを意味し、工業的にはロール巻きされた形態で供給され得るような連続フィルムを意味する。もちろん、ロール巻の形態が必須ではなく、適宜に折り畳まれた連続フィルムであってもよい。長尺フィルムの長さは、場合により10000mという長尺に達することもある。   The liquid crystal molecules are formed on the rubbing surface of the long film by an arbitrary method. For example, it is possible to use a method of forming a film by dissolving in an appropriate solvent and applying and drying, or a method of directly melting and extruding liquid crystal molecules with a T die or the like. From the viewpoint of quality such as film thickness uniformity, a method of applying a solution and drying is suitable. As described above, the meaning of the long film in the present invention means a continuous film having a certain length, and industrially means a continuous film that can be supplied in a rolled form. Of course, the form of roll winding is not essential, and a continuous film folded appropriately may be used. In some cases, the length of the long film may reach a length of 10,000 m.

液晶分子層の形成は、まず液晶分子を所定の割合で溶剤に溶解し溶液を調製する。この際の溶媒は液晶の種類によって異なるが、通常はアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、クロロホルム、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、オルソジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、各種フェノール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドンなどの溶媒やこれらの混合溶媒を使用することができる。溶液の濃度は、溶液の粘性により異なるが、通常は5〜50質量%の範囲であり、好ましくは10〜30質量%の範囲である。また、溶液調製時に液晶性の発現を妨げない範囲で各種の添加剤、例えば、造膜性を向上しうる各種高分子、各種の界面活性剤、光反応開始剤やラジカル開始剤等の反応促進(開始)剤、架橋剤、流動性向上剤、染料等を添加してもよい。   In the formation of the liquid crystal molecular layer, first, liquid crystal molecules are dissolved in a solvent at a predetermined ratio to prepare a solution. The solvent used here varies depending on the type of liquid crystal, but usually ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, halogenated carbonization such as chloroform, dichloroethane, tetrachloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethylene and orthodichlorobenzene. Hydrogen, various phenols, amide solvents such as dimethylformamide and dimethylacetamide, solvents such as dimethyl sulfoxide and N-methylpyrrolidone, and mixed solvents thereof can be used. The concentration of the solution varies depending on the viscosity of the solution, but is usually in the range of 5 to 50% by mass, and preferably in the range of 10 to 30% by mass. In addition, various additives, for example, various polymers that can improve the film-forming property, various surfactants, photoreaction initiators, radical initiators, and the like as long as liquid crystallinity is not disturbed during solution preparation (Initiator) agents, crosslinking agents, fluidity improvers, dyes, and the like may be added.

次にこの溶液を、MDに対し所定の角度でラビング処理してなる長尺フィルム上に塗布をする。
塗布の方法としては、特に限定されず、たとえばダイコート法、スロットダイコート法、スライドダイコート法、ロールコート法、バーコート法、浸漬引き上げ法などを採用することができる。塗布後、適宜に溶剤を乾燥により除去する。
Next, this solution is applied onto a long film formed by rubbing the MD at a predetermined angle.
The coating method is not particularly limited, and for example, a die coating method, a slot die coating method, a slide die coating method, a roll coating method, a bar coating method, a dip pulling method, or the like can be employed. After coating, the solvent is appropriately removed by drying.

ラビング処理した長尺フィルム上に、液晶分子層が形成された後に、所定温度、所定時間加熱し、液晶の配向を行わせ、必要により反応性基が反応するに相応しい条件下で反応させた後冷却することにより、液晶分子の配向を固定化する。
液晶を配向させる温度は、界面効果による配向を助ける意味で塗布層の粘性は低い方がよい。すなわち、液晶分子の等方相転移温度未満なら加熱温度は高い方がよい。しかしながら、余りに高い温度では長尺フィルムの変形や液晶分子の熱分解など共に作業性が悪化するので好ましくない。かかる観点から一般的には50〜300℃、好ましくは80〜250℃の範囲で、10秒〜60分、好ましくは30秒〜30分の範囲から選択される。加熱手段は、適宜に採用することができ、たとえば熱風加熱、赤外線加熱、誘電加熱、電気ヒーターによる加熱、熱ロールによる加熱などである。
いずれにしろ、ガラス転移温度以上で等方相への転位温度未満の温度で、液晶分子が充分配向する時間加熱処理をすることが肝要である。
加熱配向させ、必要により反応性基を反応させた後、該液晶分子のガラス転移温度以下に冷却することにより配向を固定化する。
冷却速度は特に限定されず、任意に選択される。たとえば、該加熱された液晶分子層を加熱域からガラス転移点以下の雰囲気中へ移行させるのみで固定化される。生産効率を向上させる目的で、空気冷却あるいは水などの冷媒冷却を採用することができる。
After the liquid crystal molecular layer is formed on the rubbed long film, it is heated at a predetermined temperature for a predetermined time to align the liquid crystal and, if necessary, reacted under conditions suitable for the reactive group to react. By cooling, the alignment of the liquid crystal molecules is fixed.
The temperature at which the liquid crystal is aligned is preferably such that the viscosity of the coating layer is low in order to assist the alignment by the interface effect. That is, the heating temperature is preferably higher if it is lower than the isotropic phase transition temperature of the liquid crystal molecules. However, an excessively high temperature is not preferable because the workability deteriorates with the deformation of the long film and the thermal decomposition of the liquid crystal molecules. From this viewpoint, it is generally selected from the range of 50 to 300 ° C., preferably 80 to 250 ° C., and 10 seconds to 60 minutes, preferably 30 seconds to 30 minutes. The heating means can be appropriately employed, and examples thereof include hot air heating, infrared heating, dielectric heating, heating by an electric heater, heating by a hot roll, and the like.
In any case, it is important to perform a heat treatment for a time during which the liquid crystal molecules are sufficiently aligned at a temperature higher than the glass transition temperature and lower than the transition temperature to the isotropic phase.
After alignment by heating and, if necessary, reacting a reactive group, the alignment is fixed by cooling to the glass transition temperature or lower of the liquid crystal molecules.
The cooling rate is not particularly limited and is arbitrarily selected. For example, the heated liquid crystal molecular layer is fixed only by moving from the heating region to an atmosphere below the glass transition point. For the purpose of improving production efficiency, air cooling or cooling of coolant such as water can be employed.

固定化後の液晶分子層の膜厚は、液晶分子層の用途・目的によって機能する範囲であれば特に制限はない。光の波長によって異なるが、たとえばディスプレイ用途などの可視光が重要である分野においては、0.05μm以上、好ましくは0.3μm以上である。0.05μm未満では精度の良い膜厚調整が困難となるので好ましくない。膜厚の上限は特に制限はないが、余り厚くなると光学素子としての規制力が弱まり好ましくなく、この観点から100μm以下、好ましくは30μm以下の範囲が適当である。   The film thickness of the liquid crystal molecular layer after immobilization is not particularly limited as long as it is a range that functions depending on the use and purpose of the liquid crystal molecular layer. Although it varies depending on the wavelength of light, it is 0.05 μm or more, preferably 0.3 μm or more in a field where visible light is important, for example, for display applications. If the thickness is less than 0.05 μm, it is difficult to adjust the film thickness with high accuracy. The upper limit of the film thickness is not particularly limited, but if it is too thick, the regulating power as an optical element is weakened, which is not preferable. From this viewpoint, a range of 100 μm or less, preferably 30 μm or less is appropriate.

以上のような方法で得られた本発明の液晶光学フィルムは、基板である長尺フィルム自体が、透光性基板であるときは液晶分子層が固定化された積層体を、そのままあるいは適宜に偏光板等の他の光学素材と組み合わせることにより光学素子に使用できる。そのほか長尺フィルムが液晶光学フィルムの最終用途において好ましくない光吸収や光学異方性を示す場合は、支持体としての適宜の透光性基板上に配向固定化された液晶分子層を移行させて最終的に光学素子として使用されることもできる。   The liquid crystal optical film of the present invention obtained by the method as described above is a substrate in which the long film as a substrate itself is a translucent substrate, and a laminated body in which a liquid crystal molecular layer is fixed is used as it is or appropriately. It can be used for an optical element by combining with other optical materials such as a polarizing plate. In addition, when the long film exhibits unfavorable light absorption and optical anisotropy in the final use of the liquid crystal optical film, the liquid crystal molecular layer aligned and fixed on the appropriate translucent substrate as the support is transferred. Finally, it can be used as an optical element.

透光性基板としては、透明性および光学的等方性を有し、液晶分子層を支持できるものならば特に限定されないが、長尺なものが好ましく、プラスチックフィルム、たとえばポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルフォン、ポリアリレート、アモルファスポリオレフィン、トリアセチルセルロース(TAC)などを例示できる。これら透光性基板の厚みは、特に制限はないが通常は1〜500μmの範囲から選択される。   The translucent substrate is not particularly limited as long as it has transparency and optical isotropy and can support the liquid crystal molecular layer, but is preferably a long one, such as a plastic film such as polymethyl methacrylate, polystyrene, Examples include polycarbonate, polyether sulfone, polyarylate, amorphous polyolefin, triacetyl cellulose (TAC) and the like. The thickness of these translucent substrates is not particularly limited, but is usually selected from the range of 1 to 500 μm.

該透光性基板への移行は、任意の方法によることができ、たとえば転写法によることができる。
この方法は、適宜の粘接着剤により液晶分子層を粘接着させて移行させる方法である。この粘接着剤層としては、透光性であって光学的に等方である限り任意のものが使用でき、アクリル系、エポキシ系、エチレン−酢酸ビニル系、ゴム系などが使用できる。好ましくはアクリル系粘接着剤によるものである。
Transition to the translucent substrate can be performed by any method, for example, by a transfer method.
This method is a method in which a liquid crystal molecular layer is adhered and transferred with an appropriate adhesive. Any adhesive layer can be used as long as it is translucent and optically isotropic, and acrylic, epoxy, ethylene-vinyl acetate, rubber, and the like can be used. Preferably, the acrylic adhesive is used.

以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこれら態様に限定されるものではない。   Examples of the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these embodiments.

パイル糸としてカーボンブラックを含有した繊度3.0デニールの長繊維ビスコースレーヨン、経糸および緯糸を製織し、2枚の基布の間に、パイル糸を織り込んだV織り構造を有する織り組織を2枚にカットして得られたベルベット織物をシャーリング、バックコート樹脂形成工程を経て得られたフィラメント密度200、パイル長2.6mmのラビング布を用いてラビングを行い、後述の液晶光学フィルムの製造法にしたがって液晶光学フィルムを製造したところ、放電欠陥は発生しなかった。   Weaving long fiber viscose rayon containing carbon black as pile yarn, weave viscose rayon, warp yarn and weft yarn, and weaving structure with V weave structure in which pile yarn is woven between two base fabrics A velvet fabric obtained by cutting into sheets is subjected to rubbing using a rubbing cloth having a filament density of 200 and a pile length of 2.6 mm obtained through a back coating resin forming step, and a method for producing a liquid crystal optical film described later When the liquid crystal optical film was manufactured according to the above, no discharge defects occurred.

[比較例1]
パイル糸として繊度3.0デニールの長繊維ビスコースレーヨン、経糸および緯糸を製織し、2枚の基布の間に、パイル糸を織り込んだV織り構造を有する織り組織を2枚にカットして得られたベルベット織物をシャーリング、バックコート樹脂形成工程を経て得られたフィラメント密度180、パイル長2.6mmのラビング布を用いてラビングを行い、後述の液晶光学フィルムの製造法にしたがって液晶光学フィルムを製造したところ、放電欠陥が発生した。
[Comparative Example 1]
Weaving long fiber viscose rayon, warp and weft yarns with a fineness of 3.0 denier as pile yarn, and cutting the weaving structure having a V-weaving structure with pile yarn between the two base fabrics into two pieces The obtained velvet fabric is rubbed and rubbed with a rubbing cloth having a filament density of 180 and a pile length of 2.6 mm obtained through the back coat resin forming step, and a liquid crystal optical film according to a method for producing a liquid crystal optical film described later. As a result, discharge defects occurred.

[比較例2]
パイル糸として繊度3.0デニールの長繊維ビスコースレーヨン、経糸および緯糸を製織し、2枚の基布の間に、パイル糸を織り込んだV織り構造を有する織り組織を2枚にカットして得られたベルベット織物をシャーリング、バックコート樹脂形成工程を経て得られたフィラメント密度220、パイル長2.6mmのラビング布を用いてラビングを行い、後述の液晶光学フィルムの製造法にしたがって液晶光学フィルムを製造したところ、放電欠陥が発生した。
[Comparative Example 2]
Weaving long fiber viscose rayon, warp and weft yarns with a fineness of 3.0 denier as pile yarn, and cutting the weaving structure having a V-weaving structure with pile yarn between the two base fabrics into two pieces The obtained velvet fabric is subjected to rubbing using a rubbing cloth having a filament density of 220 and a pile length of 2.6 mm obtained through a process of forming a back coat resin, and a liquid crystal optical film according to a method for producing a liquid crystal optical film described later. As a result, discharge defects occurred.

(液晶光学フィルムの製造法)
に示す装置により、熱可塑性樹脂製長尺フィルムを搬送しながら、実施例1または比較例1〜2のラビング布を巻き付けた直径150mmのラビングロールを熱可塑性樹脂製長尺フィルムのMDに対して45度に設定し、ラビング布の毛先の押し込みを0.7mmとして周速比28にて連続的にラビングをし、ロールに巻き取りを行った。
液晶性ポリエステルを含む高分子溶液を、上記ラビング処理をした高分子長尺フィルム上に塗布した後乾燥し、加熱処理をして室温に冷却し液晶性高分子の配向を固定化した。
この液晶性高分子層と長尺フィルムとの積層体からアクリル系接着剤により常法により液晶性高分子層をTACフィルムに転写した。
次に得られた液晶性高分子/TACの長尺な積層シートの液晶性高分子層上にオーバーコート層を積層し、液晶光学フィルムを得た。
(Manufacturing method of liquid crystal optical film)
With the apparatus shown in Fig. 1, the rubbing roll having a diameter of 150 mm around which the rubbing cloth of Example 1 or Comparative Examples 1 and 2 is wound is conveyed against the MD of the thermoplastic resin long film while conveying the long film made of thermoplastic resin. The rubbing cloth was continuously rubbed at a peripheral speed ratio of 28 with the tip of the rubbing cloth pushed in at 0.7 mm and wound on a roll.
The polymer solution containing the liquid crystalline polyester was applied on the above-mentioned rubbing-treated polymer long film and then dried, heat-treated and cooled to room temperature to fix the orientation of the liquid crystalline polymer.
From the laminate of the liquid crystalline polymer layer and the long film, the liquid crystalline polymer layer was transferred to the TAC film by an acrylic adhesive using a conventional method.
Next, an overcoat layer was laminated on the liquid crystalline polymer layer of the obtained liquid crystalline polymer / TAC long laminate sheet to obtain a liquid crystal optical film.

本発明のラビング方法によれば、配向基板のラビングに由来する液晶表示装置あるいは視野角改良板、位相差板、色補償板等の液晶光学フィルム等における欠点を減少させることができるから、液晶表示装置や液晶光学フィルムの高精細化に対応することができる。   According to the rubbing method of the present invention, it is possible to reduce defects in a liquid crystal display device or a liquid crystal optical film such as a viewing angle improving plate, a retardation plate, a color compensation plate, etc. derived from the rubbing of the alignment substrate. It can cope with high definition of the device and the liquid crystal optical film.

長尺フィルム状の配向基板をそのMDに対して任意の角度でラビングする装置の平面図である。It is a top view of the apparatus which rubs a long film-like orientation board | substrate at arbitrary angles with respect to the MD.

符号の説明Explanation of symbols

10 ラビングロール
11 配向基板を搬送するステージ
12 長尺フィルム状の配向基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Rubbing roll 11 Stage 12 which conveys alignment board Long film-like alignment board

Claims (1)

経糸、緯糸および導電性微粒子を含有するセルロース系パイル糸を製織し、2枚の基布の間に、パイル糸を織り込んだ織り構造を有する織り組織を2枚にカットして得られたベルベット織物を用い、長尺フィルムを連続的にラビングすることを特徴とするラビング方法。   Velvet fabric obtained by weaving cellulose pile yarn containing warp, weft and conductive fine particles, and cutting the weave structure having a weave structure with pile yarn between two base fabrics into two pieces A rubbing method comprising continuously rubbing a long film using
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