JP2007273533A - Method and device for forming conductive pattern - Google Patents
Method and device for forming conductive pattern Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007273533A JP2007273533A JP2006094400A JP2006094400A JP2007273533A JP 2007273533 A JP2007273533 A JP 2007273533A JP 2006094400 A JP2006094400 A JP 2006094400A JP 2006094400 A JP2006094400 A JP 2006094400A JP 2007273533 A JP2007273533 A JP 2007273533A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- nozzle
- light beam
- droplet
- conductive pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
Description
本発明は、導電パターンの形成方法及び形成装置に関し、特に、形成すべきパターンに対応したマスクを用いることなく、プリント基板に導電パターンを形成する方法及び形成装置に関する。 The present invention relates to a method and apparatus for forming a conductive pattern, and more particularly, to a method and apparatus for forming a conductive pattern on a printed circuit board without using a mask corresponding to the pattern to be formed.
プリント基板上のフォトレジスト膜に回路パターンを描画する方法として、回路パターンが形成されたフォトマスクを用いた密着露光、縮小投影露光、近接露光等が知られている。これらの方法では、プリント基板の少量多品種化が進むと、プリント基板の種類ごとにフォトマスクを作製しなければならない。 Known methods for drawing a circuit pattern on a photoresist film on a printed circuit board include contact exposure, reduced projection exposure, and proximity exposure using a photomask on which a circuit pattern is formed. In these methods, as the number of printed circuit boards is increased and the number of products is increased, a photomask must be prepared for each type of printed circuit board.
フォトマスクを用いない方法として、直接描画法が注目されている。直接描画法においては、ポリゴンミラーやデジタルマイクロミラーデバイス(DMD)を介して、レジスト膜の所望の領域にレーザビームを入射させて潜像を形成する。レジスト膜を現像することにより、レジスト材料からなるパターンが形成される。 As a method not using a photomask, a direct drawing method has attracted attention. In the direct drawing method, a latent image is formed by making a laser beam incident on a desired region of a resist film via a polygon mirror or a digital micromirror device (DMD). By developing the resist film, a pattern made of a resist material is formed.
下記の特許文献1に、レジスト膜を用いることなく、基板上に導電パターンを直接形成する方法が開示されている。以下、特許文献1に開示された方法について説明する。
銀粒子が分散されている分散液を、インクジェットノズルからプリント基板に向かって吐出させ、配線パターン状に付着させる。基板を250℃程度に保持して、基板上に付着している分散液の溶媒を蒸発させる。これにより、基板上に銀粒子が残り、配線パターンが形成される。 A dispersion liquid in which silver particles are dispersed is ejected from an ink jet nozzle toward a printed circuit board and attached in a wiring pattern. The substrate is held at about 250 ° C. to evaporate the solvent of the dispersion adhering to the substrate. Thereby, silver particles remain on the substrate, and a wiring pattern is formed.
基板上に付着した銀の微粒子を含む分散液から溶媒を蒸発させたのみでは、微粒子間の電気的導通を十分確保できない場合がある。十分な電気的導通を確保するためには、分散液を付着させた後の熱処理温度を高くしなければならない。このため、基板材料として高温の熱処理に耐えるものを用いなければならず、安価な樹脂製基板を用いることができない。 In some cases, sufficient electrical continuity between the fine particles may not be ensured simply by evaporating the solvent from the dispersion liquid containing silver fine particles adhering to the substrate. In order to ensure sufficient electrical continuity, the heat treatment temperature after depositing the dispersion must be increased. For this reason, a substrate material that can withstand high-temperature heat treatment must be used, and an inexpensive resin substrate cannot be used.
本発明の目的は、樹脂製基板を用いても、十分な電気的導通を確保することが可能な導電パターンの形成方法を提供することである。本発明の他の目的は、この形成方法に適した導電パターン形成装置を提供することである。 The objective of this invention is providing the formation method of the conductive pattern which can ensure sufficient electrical continuity even if it uses a resin-made board | substrate. Another object of the present invention is to provide a conductive pattern forming apparatus suitable for this forming method.
本発明の一観点によれば、(a)溶媒中に金属微粒子が分散した液体により、基板の表面上にパターンを形成する工程と、(b)前記工程aで形成されたパターンが配置されていない領域には光ビームが入射しないように制御して、該パターンに光ビームを入射させ、溶媒を蒸発させる工程とを有する導電パターンの形成方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, (a) a step of forming a pattern on the surface of a substrate with a liquid in which metal fine particles are dispersed in a solvent, and (b) the pattern formed in the step a is disposed. There is provided a method for forming a conductive pattern, which includes a step of controlling a light beam not to enter an unexposed region, causing the light beam to enter the pattern, and evaporating the solvent.
本発明の他の観点によると、基板を保持し、保持した基板を、その表面に平行な方向に移動させるステージと、前記ステージに保持された基板の表面に、金属微粒子が分散した液体の液滴を吐出して該表面に付着させるノズルヘッドと、前記ステージに保持された基板の表面に光ビームを入射させる光源と、画像データに基づいて、前記ステージの移動、前記ノズルからの液滴の吐出、及び前記光源からのレーザビームの出射の制御を行う制御装置とを有する導電パターン形成装置が提供される。 According to another aspect of the present invention, a stage that holds a substrate and moves the held substrate in a direction parallel to the surface thereof, and a liquid liquid in which metal fine particles are dispersed on the surface of the substrate held on the stage. A nozzle head that ejects droplets and adheres to the surface; a light source that causes a light beam to enter the surface of the substrate held on the stage; and movement of the stage based on image data; There is provided a conductive pattern forming apparatus having a control device for controlling ejection and emission of a laser beam from the light source.
金属微粒子が分散された液体によってパターンが形成されていない領域には、レーザビームが入射しない。このため、レーザビームによる基板の損傷を防止することができる。また、基板全体を加熱する必要がないため、耐熱性の低い樹脂製の基板を使用することが可能になる。 The laser beam does not enter the region where the pattern is not formed by the liquid in which the metal fine particles are dispersed. For this reason, it is possible to prevent the substrate from being damaged by the laser beam. In addition, since it is not necessary to heat the entire substrate, it is possible to use a resin substrate having low heat resistance.
図1Aに、実施例による導電パターン形成装置の概略図を示す。基台1の上に、XYステージ2が取り付けられている。基台1に固定され、水平面をXY面とするXYZ直交座標系を定義する。XYステージ2は、基板20を、その表面がXY面に平行になるように保持する。XYステージ2は駆動機構3を含み、保持した基板をX軸方向及びY軸方向に並進移動させることができる。駆動機構3は、制御装置10によって制御される。XYステージ2の上方に、ノズルヘッド5及びレーザ光源6が配置されている。ノズルヘッド5は、XYステージ2に対向する面に複数のノズル5aを有する。レーザ光源6は、XYステージ2に対向する面に複数の発光画素6aを有する。
FIG. 1A shows a schematic diagram of a conductive pattern forming apparatus according to an embodiment. An
図1Bに、ノズルヘッド5、レーザ光源6及びXYステージ2の平面図を示す。ノズルヘッド5のノズル5aは、Y軸方向に配列している。各ノズル5aは、金属微粒子、例えば銅微粒子が溶媒中に分散された分散液の液滴を吐出する。吐出された液滴は、XYステージ2に保持された基板20の表面に付着する。ノズルヘッド5として、例えば公知のインクジェット法(液滴吐出法)に用いられるインクジェットノズルを用いることができる。ノズル5aをY軸方向に関して密に配置するために、複数のノズルが等ピッチで配列したノズル列を複数列配置し、複数のノズル列のノズルがY軸方向に関して重ならないように、ノズル列をY軸方向に相互にずらしてもよい。
FIG. 1B shows a plan view of the
レーザ光源6の発光画素6aは、Y軸方向に配列している。発光画素6aとノズル5aとが1対1に対応する。発光画素6aの各々からレーザビームが出射され、XYステージ2に保持された基板20の表面に入射する。あるノズル5aから吐出された液滴が付着する位置と、そのノズル5aに対応する発光画素6aから出射されたレーザビームの入射する位置とは、Y座標が同一である。レーザ光源6として、例えば半導体レーザを用いることができる。なお、十分なパワーが得られる他の光源、例えば発光ダイオード、CO2レーザ、エキシマレーザ、Nd:YAG等の固体レーザを用いてもよい。
The
ノズル5aから吐出して基板20の表面に付着した液滴の平面寸法は、例えば、25μm程度である。発光画素6aから出射されたレーザビームの、基板20の表面におけるビームスポットサイズは、液滴の平面寸法よりもやや小さい。
The planar dimension of the droplet discharged from the
制御装置10が、ノズル5aから液滴を吐出するタイミング及び発光画素6aからレーザビームを出射させるタイミングを制御する。基板20をX軸方向に移動させながら、画像データに基づいてノズル5aから液滴を吐出させることにより、基板20の表面に、分散液によるパターンを形成することができる。発光画素6aは、対応するノズル5aから吐出して基板20の表面に付着した液滴にレーザビームが入射するように、その発光タイミングが制御される。このため、レーザビームは、ノズル5aから吐出した液滴が付着した位置には入射するが、付着していない位置には入射しない。
The
基板20は、例えば、プリント基板を作製するための樹脂製のコア基板である。ノズル5aから吐出される分散液に分散されている金属微粒子は、例えば直径数μm程度の銅の微粒子である。溶媒として、例えばトルエン等を用いることができる。分散液の粘度は、例えば10mPa・s程度に調整される。なお、液滴の寸法、金属微粒子の寸法は、形成すべきパターンの寸法及び必要とされる解像度に応じて、適宜選択される。
The board |
次に、図2A〜図2Cを参照して、第1の実施例による導電パターン形成方法について説明する。 Next, the conductive pattern forming method according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 2A to 2C.
図2Aに示すように、XYステージ2を制御して基板20を初期位置に配置する。基板20をX軸方向に等速で移動させながら、以下の工程を実施する。所定のタイミングで、ノズルヘッド5の所定のノズル5aから液滴を吐出させる。液滴を吐出させるノズル5a及びそのタイミングは、画像データに基づいて決定される。吐出した液滴30aは、基板20の表面に形成すべきパターンを構成する1つの画素の位置に付着する。
As shown in FIG. 2A, the
図2Bに示すように、液滴30aに続いて、液滴30b及び30cが基板20の表面に形成すべきパターンを構成する画素の位置に付着する。
As shown in FIG. 2B, following the
図2Cに示すように、図2Aの工程で付着した液滴30aが、対応する発光画素6aから出射するレーザビームの経路上に配置されると、その発光画素6aからレーザビームを出射させる。これにより、液滴30aの溶媒が蒸発すると共に、金属微粒子の少なくとも表層部が溶融し、相互に接触している微粒子同士が一体化されて金属膜31aが形成される。金属膜31aは、基板20に強力に密着する。
As shown in FIG. 2C, when the
ノズル5aから吐出されて基板20に付着した液滴30b、30c等が、対応する発光画素6aの照射位置に配置される度に、発光画素6aからレーザビームを出射させる。これにより、基板20の表面に、一体化した金属微粒子からなる導電パターンを形成することができる。
Each time the
レーザビームの照射によって、液滴のみを局所的に加熱するため、基板20全体の温度は上昇しない。このため、耐熱性の低い樹脂基板等の表面にも、導電パターンを形成することができる。
Since only the droplets are locally heated by the laser beam irradiation, the temperature of the
次に、図3A〜3Dを参照して、第2の実施例による導電パターンの形成方法について説明する。 Next, a method for forming a conductive pattern according to the second embodiment will be described with reference to FIGS.
図3Aに示すように、XYステージ2を制御して基板20を初期位置に配置する。基板20をX軸方向に等速で移動させながら、以下の工程を実施する。画像データに基づいて、ノズルヘッド5の所定のノズル5aから所定のタイミングで液滴を吐出させる。吐出した液滴30aは、基板20の表面に形成すべきパターンを構成する1つの画素の位置に付着する。
As shown in FIG. 3A, the
図3Bに示すように、基板20の表面に付着した液滴30aにレーザビームを入射させる。これにより、液滴30aの溶媒が蒸発すると共に、金属微粒子の少なくとも表層部が溶融し、相互に接触している微粒子同士が一体化される。さらに、一体化した金属微粒子31aが基板20に強力に密着する。
As shown in FIG. 3B, the laser beam is incident on the
図3Cに示すように、画像データに基づいて、ノズルヘッド5の所定のノズル5aから所定のタイミングで次の液滴30bを吐出させる。図3Dに示すように、基板20の表面に付着した液滴30bにレーザビームを入射させる。これにより、金属微粒子が一体化した金属膜31bが形成される。このように、液滴の吐出とレーザビームの照射とを交互に繰り返すことにより、金属膜31a、31b等からなる導電パターンが形成される。
As shown in FIG. 3C, the
第2の実施例では、ノズル5bから吐出された液滴30aが基板20の表面に付着した後、次の液滴30bが付着する前に、基板に付着した液滴30aにレーザビームが入射するように、ノズルヘッド5及びレーザ光源6が制御される。これにより、相互に接触する2つの液滴間の相互干渉を抑制することができる。
In the second embodiment, after the
上記第1及び第2の実施例では、分散液の液滴の吐出と、レーザビームの入射とを並行して行ったが、基板20の全面に、分散液で形成されたパターンを形成した後、パターンに沿ってレーザビームを入射させてもよい。
In the first and second embodiments, the droplets of the dispersion liquid are ejected in parallel with the incidence of the laser beam, but after the pattern made of the dispersion liquid is formed on the entire surface of the
次に、図4A〜図4Dを参照して、第3の実施例による導電パターンの形成方法について説明する。 Next, a method for forming a conductive pattern according to the third embodiment will be described with reference to FIGS. 4A to 4D.
図4Aに示すように、基板20の表面上に、金属微粒子が分散されたペーストを塗布することにより、金属粒子分散膜25を形成する。この基板20をXYステージ2に載置する。
As shown in FIG. 4A, a metal
図4Bに示すように、基板20をX軸方向に移動させながら、画像データに基づいて、所定の発光画素6aから所定のタイミングでレーザビームを出射させる。レーザビームの入射した領域において、金属粒子分散膜25の溶媒が蒸発すると共に、金属粒子の表層部が溶解して、金属粒子同士が一体化する。これにより、金属膜26が形成される。図4Cに示すように、金属膜26により、画像データに対応するパターンが形成される。
As shown in FIG. 4B, while moving the
図4Dに示すように、金属膜26が形成されなかった領域の金属微粒子分散膜26を除去する。これにより、金属膜26からなる導電パターンが得られる。
As shown in FIG. 4D, the metal fine
上記実施例のいずれの場合にも、基板20の露出した表面にはレーザビームが入射しない。このため、基板20がレーザビームによって損傷を受けることを防止することができる。さらに、基板20全体を加熱しないため、耐熱性の低い樹脂製の基板を用いることができる。
In any of the above embodiments, the laser beam does not enter the exposed surface of the
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。 Although the present invention has been described with reference to the embodiments, the present invention is not limited thereto. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.
1 基台
2 XYステージ
3 駆動機構
5 ノズルヘッド
5a ノズル
6 レーザ光源
6a 発光画素
10 制御装置
20 基板
25 金属微粒子分散膜
26、31a、31b 金属膜
30a、30b、30c 液滴
DESCRIPTION OF
Claims (10)
(b)前記工程aで形成されたパターンが配置されていない領域には光ビームが入射しないように制御して、該パターンに光ビームを入射させ、溶媒を蒸発させる工程と
を有する導電パターンの形成方法。 (A) forming a pattern on the surface of the substrate with a liquid in which metal fine particles are dispersed in a solvent;
(B) controlling the light beam not to enter the region where the pattern formed in the step a is not arranged, causing the light beam to enter the pattern, and evaporating the solvent. Forming method.
(b)前記工程aで塗布されたペーストに、光ビームを用いて描画し、光ビームの入射した領域の金属微粒子の少なくとも表層部を溶融させて、相互に接する金属微粒子同士を一体化させる工程と、
(c)前記工程bで光ビームに照射されなかった領域のペーストを除去する工程と
を有する導電パターンの形成方法。 (A) applying a paste in which metal fine particles are dispersed in a solvent on the surface of the substrate;
(B) A step of drawing on the paste applied in the step a by using a light beam, melting at least the surface layer portion of the metal fine particles in the region where the light beam is incident, and integrating the metal fine particles in contact with each other. When,
(C) A method of forming a conductive pattern including a step of removing paste in a region not irradiated with the light beam in the step b.
前記ステージに保持された基板の表面に、金属微粒子が分散した液体の液滴を吐出して該表面に付着させるノズルヘッドと、
前記ステージに保持された基板の表面に光ビームを入射させる光源と、
画像データに基づいて、前記ステージの移動、前記ノズルからの液滴の吐出、及び前記光源からのレーザビームの出射の制御を行う制御装置と
を有する導電パターン形成装置。 A stage that holds the substrate and moves the held substrate in a direction parallel to the surface;
A nozzle head that discharges liquid droplets in which metal fine particles are dispersed and adheres to the surface of the substrate held on the stage;
A light source that makes a light beam incident on the surface of the substrate held by the stage;
A conductive pattern forming apparatus comprising: a control device that controls movement of the stage, ejection of droplets from the nozzle, and emission of a laser beam from the light source based on image data.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006094400A JP2007273533A (en) | 2006-03-30 | 2006-03-30 | Method and device for forming conductive pattern |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006094400A JP2007273533A (en) | 2006-03-30 | 2006-03-30 | Method and device for forming conductive pattern |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007273533A true JP2007273533A (en) | 2007-10-18 |
Family
ID=38676067
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006094400A Pending JP2007273533A (en) | 2006-03-30 | 2006-03-30 | Method and device for forming conductive pattern |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007273533A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101250981B1 (en) | 2011-08-30 | 2013-04-03 | (주)에자일텍 | Method and device for manufacturing metal electrode pattern |
JP2013078757A (en) * | 2011-09-30 | 2013-05-02 | Semes Co Ltd | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
DE102013220886A1 (en) * | 2013-10-15 | 2015-04-16 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Method for producing a metallic contacting structure on a semiconductor substrate |
CN106287589A (en) * | 2015-06-29 | 2017-01-04 | 莫列斯有限公司 | Luminaire, formation luminaire and the method and apparatus manufacturing electronic equipment |
WO2019016920A1 (en) * | 2017-07-20 | 2019-01-24 | 株式会社Fuji | Wiring forming method and wiring forming device |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07321444A (en) * | 1994-05-24 | 1995-12-08 | Fujitsu Ltd | Metal pattern forming method |
JP2004143571A (en) * | 2001-11-22 | 2004-05-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | Board and ink for drawing conductive pattern and method for forming conductive pattern |
JP2005095849A (en) * | 2003-02-26 | 2005-04-14 | Seiko Epson Corp | Functional material fixing method, functional material fixing device, device manufacturing method, electro-optical device, and electronic apparatus |
-
2006
- 2006-03-30 JP JP2006094400A patent/JP2007273533A/en active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07321444A (en) * | 1994-05-24 | 1995-12-08 | Fujitsu Ltd | Metal pattern forming method |
JP2004143571A (en) * | 2001-11-22 | 2004-05-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | Board and ink for drawing conductive pattern and method for forming conductive pattern |
JP2005095849A (en) * | 2003-02-26 | 2005-04-14 | Seiko Epson Corp | Functional material fixing method, functional material fixing device, device manufacturing method, electro-optical device, and electronic apparatus |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101250981B1 (en) | 2011-08-30 | 2013-04-03 | (주)에자일텍 | Method and device for manufacturing metal electrode pattern |
JP2013078757A (en) * | 2011-09-30 | 2013-05-02 | Semes Co Ltd | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
DE102013220886A1 (en) * | 2013-10-15 | 2015-04-16 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Method for producing a metallic contacting structure on a semiconductor substrate |
US10905014B2 (en) | 2015-06-29 | 2021-01-26 | Molex, Llc | Application specific electronics packaging systems, methods and devices |
JP2020120125A (en) * | 2015-06-29 | 2020-08-06 | モレックス エルエルシー | Specific application electronic packaging system, method, and device |
JP2018532251A (en) * | 2015-06-29 | 2018-11-01 | モレックス エルエルシー | Application specific electronic device packaging system, method and device |
CN106287589B (en) * | 2015-06-29 | 2024-07-26 | 莫列斯有限公司 | Lighting device, method and apparatus for forming lighting device and manufacturing electronic device |
US10433428B2 (en) | 2015-06-29 | 2019-10-01 | Molex, Llc | Application specific electronics packaging systems, methods and devices |
US11503718B2 (en) | 2015-06-29 | 2022-11-15 | Molex, Llc | Application specific electronics packaging systems, methods and devices |
US10667407B2 (en) | 2015-06-29 | 2020-05-26 | Molex, Llc | Application specific electronics packaging systems, methods and devices |
KR20180016611A (en) * | 2015-06-29 | 2018-02-14 | 몰렉스 엘엘씨 | Application specific electronic device packaging system, method and device |
KR102143400B1 (en) * | 2015-06-29 | 2020-08-11 | 몰렉스 엘엘씨 | Application specific electronics packaging systems, methods and devices |
CN106287589A (en) * | 2015-06-29 | 2017-01-04 | 莫列斯有限公司 | Luminaire, formation luminaire and the method and apparatus manufacturing electronic equipment |
KR20210094162A (en) * | 2015-06-29 | 2021-07-28 | 몰렉스 엘엘씨 | Application specific electronics packaging systems, methods and devices |
JP7127083B2 (en) | 2015-06-29 | 2022-08-29 | モレックス エルエルシー | Application specific electronics packaging system, method and device |
KR102439790B1 (en) * | 2015-06-29 | 2022-09-02 | 몰렉스 엘엘씨 | Application Specific Electronics Packaging Systems, Methods and Devices |
JPWO2019016920A1 (en) * | 2017-07-20 | 2019-12-12 | 株式会社Fuji | Wiring forming method and wiring forming apparatus |
WO2019016920A1 (en) * | 2017-07-20 | 2019-01-24 | 株式会社Fuji | Wiring forming method and wiring forming device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101821111B (en) | Laser decal transfer of electronic materials | |
KR100760197B1 (en) | How to form a masking pattern on the surface | |
US6849308B1 (en) | Method of forming a masking pattern on a surface | |
JP6665386B2 (en) | Repair of printed circuit wiring | |
TWI452524B (en) | Method for decimation of images | |
KR20200010208A (en) | Electrical interconnection of circuit elements on a substrate without pre-patterning | |
EP2109350B1 (en) | System for creating fine lines using inkjet technology | |
US7776492B2 (en) | Photomask, manufacturing method thereof, and manufacturing method of electronic device | |
JP2007273533A (en) | Method and device for forming conductive pattern | |
JP2019198834A (en) | Ink coating device and ink coating method | |
JP5638137B2 (en) | Substrate manufacturing method and substrate manufacturing apparatus | |
JP2006135090A (en) | Substrate manufacturing method | |
JP6549571B2 (en) | Methods and systems for forming patterned structures on a substrate | |
CN1659937A (en) | Descriptive device and descriptive method | |
JP5085965B2 (en) | Resin film forming method, resin film forming apparatus, and electronic circuit board manufacturing method | |
JP2007329181A (en) | Patterning method and equipment | |
Sutter | An overview of digital printing for advanced interconnect applications | |
JP2008028153A (en) | Pattern forming apparatus and method | |
JP2008159050A (en) | Method for separating vertical and horizontal components of a rasterized image | |
JP2004304036A (en) | Device for manufacturing electronic circuit substrate | |
JP2012209460A (en) | Pattern formation method and pattern formation device | |
JPWO2019030850A1 (en) | Wiring forming method and wiring forming apparatus | |
JP2003173016A (en) | Method of manufacturing photomask | |
TW202202257A (en) | Laser printing of solder pastes | |
JP2019010776A (en) | Stamper for forming pattern structure, manufacturing method of the same, and manufacturing method of the pattern structure |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081217 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110131 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110208 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110628 |