JP2007248596A - Opc inspection system - Google Patents
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 238000012795 verification Methods 0.000 claims abstract description 234
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims abstract description 160
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 17
- 239000003550 marker Substances 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 claims description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 16
- XXQCMVYBAALAJK-UHFFFAOYSA-N ethyl n-[4-[benzyl(2-phenylethyl)amino]-2-(2-phenylethyl)-1h-imidazo[4,5-c]pyridin-6-yl]carbamate Chemical compound N=1C=2C(N(CCC=3C=CC=CC=3)CC=3C=CC=CC=3)=NC(NC(=O)OCC)=CC=2NC=1CCC1=CC=CC=C1 XXQCMVYBAALAJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 17
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 7
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 1
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
本発明は、OPC(Optical Proximity Correction:光近接効果補正)処理されたレイアウトパターンを検査するOPC検査システムに関する。 The present invention relates to an OPC inspection system that inspects a layout pattern subjected to OPC (Optical Proximity Correction) processing.
LSIの微細化に伴い、マスクパターンの光学式露光では光近接効果の影響が顕著になってくる。そこで、描画用マスクパターンを生成する際に、予め光近接効果を考慮して、設計上のレイアウトパターンを補正するOPC処理が行われる。 With the miniaturization of LSI, the optical proximity effect becomes more prominent in optical exposure of mask patterns. Therefore, when generating the drawing mask pattern, an OPC process for correcting the layout pattern in the design is performed in consideration of the optical proximity effect in advance.
このOPCの方式の1つにモデルベースOPCがある。モデルベースOPCでは、リソグラフィ・シミュレーションをベースとしたリソグラフィ・モデルを生成し、このリソグラフィ・モデルを利用して、オリジナルのレイアウトパターンに近い露光像がウェーハ上に形成されるように補正を行なう。 One of the OPC methods is model-based OPC. In model-based OPC, a lithography model based on lithography simulation is generated, and correction is performed using the lithography model so that an exposure image close to the original layout pattern is formed on the wafer.
このようなOPC処理を行なうOPC補正ツールへは、レイアウトパターンデータとOPC用の各種パラメータが記述されたファイルが入力される。OPC補正ツールは、OPC処理終了後に、OPC処理済みレイアウトパターンを出力する。 A file in which layout pattern data and various parameters for OPC are described is input to the OPC correction tool that performs such OPC processing. The OPC correction tool outputs the OPC processed layout pattern after the OPC processing is completed.
このOPC処理済みレイアウトパターンに対して、露光シミュレーションを利用したOPC検証が行なわれる。このOPC検証により、所望のパターンに対する露光像のずれが規定値より大きくなると考えられるOPC処理済みレイアウトパターンが検出される。 OPC verification using an exposure simulation is performed on the OPC processed layout pattern. By this OPC verification, an OPC-processed layout pattern that is considered to have a deviation of an exposure image with respect to a desired pattern larger than a specified value is detected.
このようなOPC検証を行なうOPC検証ツールへは、どのようなずれを検出すべきかを記述したレシピ、そのずれの許容値を記述したルール、OPC補正で使用された各種パラメータ、モデルベースOPC補正で使用されたリソグラフィ・モデルなどが入力される。OPC検証ツールは、入力されたルールに従ってOPC処理済みレイアウトパターンを検査し、製造工程上問題を起こす(エラー)パターンが発生している座標等をファイルに出力する。 The OPC verification tool that performs such OPC verification includes a recipe that describes what deviation should be detected, a rule that describes the allowable value of the deviation, various parameters used in OPC correction, and model-based OPC correction. The lithography model used is input. The OPC verification tool inspects the OPC-processed layout pattern according to the input rule, and outputs the coordinates or the like where a pattern causing an error in the manufacturing process occurs (file).
エラーが発生したレイアウトパターンに対しては、OPC補正におけるパラメータやリソグラフィ・モデルなどを修正して再度OPC処理を行ない、OPC検証のレシピなどを必要に応じて修正して、再度OPC検証処理を行なう。 For the layout pattern in which an error has occurred, the OPC correction parameters and the lithography model are corrected and the OPC process is performed again, the OPC verification recipe is corrected as necessary, and the OPC verification process is performed again. .
あるいは、エラーが発生したレイアウトパターンに対して、そのエラー対策のレイアウトパターンの修正を行ない、再度OPC補正および検証を行なう。 Alternatively, the layout pattern for the error is corrected for the layout pattern in which an error has occurred, and OPC correction and verification are performed again.
このようなOPC補正およびOPC検証処理は、通常、LSI設計担当者によって行なわれる。そこで、LSI設計担当者によるOPC補正およびOPC検証の実行を支援するためのレイアウト設計支援装置が提供されている(例えば、特許文献1参照。)。LSI設計担当者は、このようなレイアウト設計支援装置を用いて、所望の補正結果が得られるまでOPC補正およびOPC検証を繰り返し実行する。 Such OPC correction and OPC verification processing is usually performed by an LSI designer. In view of this, a layout design support apparatus is provided to support execution of OPC correction and OPC verification by LSI designers (see, for example, Patent Document 1). The LSI design person repeatedly executes OPC correction and OPC verification until a desired correction result is obtained using such a layout design support apparatus.
従来、上述のようなレイアウト設計支援装置は、スタンドアローン型のEWS(Engineering Work Station)として提供されることが多く、それぞれのLSI設計担当者は、それぞれに用意されたEWSを用いてOPC補正およびOPC結果の検証を実行していた。 Conventionally, the layout design support apparatus as described above is often provided as a stand-alone EWS (Engineering Work Station), and each LSI designer in charge uses an EWS prepared for the OPC correction and the EWS correction. Verification of the OPC result was performed.
しかし、近年のLSIの微細化に伴い、OPC補正およびOPC結果の検証に要する演算量が膨大になり、実用的な実行時間で処理を行なうには高価な高性能のEWSが必要となり、このような高性能のEWSをLSI設計担当者ごとに用意することが設備投資上の負担になっている。
そこで、本発明の目的は、設備効率のよいOPC検査システムを提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide an OPC inspection system with high equipment efficiency.
本発明の一態様によれば、OPC補正・検証サーバと、複数の利用者端末と、前記OPC補正・検証サーバと前記複数の利用者端末とを通信回線を介して接続する通信手段とを有するOPC検査システムであって、前記OPC補正・検証サーバは、入力されたレイアウトパターンに対するOPC補正の実行、およびOPC処理済みレイアウトパターンに対するOPC検証の実行を行なうOPC補正・検証実行手段と、前記OPC補正・検証実行手段におけるOPC補正およびOPC検証の実行を制御するOPC補正・検証制御手段と、前記OPC補正・検証制御手段へ与えるOPC補正用のパラメータとリソグラフィ・モデル、およびOPC検証用のレシピとルールを格納するライブラリと、前記OPC補正・検証実行手段におけるOPC補正およびOPC検証の実行状況を監視する実行監視手段と、前記OPC補正・検証手段から出力されたOPC補正およびOPC検証の実行結果を格納する実行結果格納手段とを備え、前記複数の利用者端末のそれぞれは、前記通信手段を介して、前記OPC補正・検証制御手段へ、前記ライブラリから読み出すべきOPC補正用のパラメータ、リソグラフィ・モデル、またはOPC検証用のレシピ、ルールを指定し、前記OPC補正・検証実行手段におけるOPC補正あるいはOPC検証の実行の開始を指示するOPC補正・検証実行指示手段と、前記通信手段を介して前記実行監視手段から送信された、前記OPC補正およびOPC検証の実行状況を表示する実行状況表示手段と、前記実行結果格納手段から前記通信手段を介して送信された、前記OPC検証結果を格納するOPC検証結果格納手段と、前記OPC検証結果格納手段に格納された前記OPC検証結果を表示するOPC検証結果表示手段と、を備えることを特徴とするOPC検査システムが提供される。 According to one aspect of the present invention, an OPC correction / verification server, a plurality of user terminals, and a communication unit that connects the OPC correction / verification server and the plurality of user terminals via a communication line. An OPC inspection system, wherein the OPC correction / verification server executes OPC correction for an input layout pattern and performs OPC verification for an OPC processed layout pattern, and the OPC correction. OPC correction / verification control means for controlling execution of OPC correction and OPC verification in the verification execution means, parameters and lithography model for OPC correction given to the OPC correction / verification control means, and recipes and rules for OPC verification And an OPC correction in the OPC correction / verification executing means. And execution monitoring means for monitoring the execution status of the OPC verification, and execution result storage means for storing the execution results of the OPC correction and the OPC verification output from the OPC correction / verification means. Each of the OPC correction / verification control means designates an OPC correction parameter, a lithography model, or a recipe and rule for OPC verification to be read from the library via the communication means, and the OPC correction / verification The execution status of the OPC correction and the OPC verification transmitted from the execution monitoring means via the communication means and the OPC correction / verification execution instructing means for instructing the start of the execution of the OPC correction or the OPC verification in the verification execution means. The execution status display means for displaying and the execution result storage means are transmitted via the communication means. An OPC inspection system comprising: an OPC verification result storage unit that stores the OPC verification result; and an OPC verification result display unit that displays the OPC verification result stored in the OPC verification result storage unit. Provided.
本発明によれば、利用者が共通に使用するOPC補正・検証サーバ、および通信手段を通じてこのOPC補正・検証サーバに接続される複数の利用者端末を設けることにより、各利用者はそれぞれの利用者端末において、OPC補正・検証サーバへのOPCおよびOPC検証の実行の指示、OPC補正・検証サーバからのOPC検証結果の受け取り、およびOPC検証結果の確認ができる。これにより、利用者個々に高価で高性能のOPC補正・検証処理用の設備を用意する必要がなく、OPC処理済レイアウトパターンの検査に対する設備効率を向上させることができる。 According to the present invention, by providing an OPC correction / verification server commonly used by users and a plurality of user terminals connected to the OPC correction / verification server through communication means, each user can use each of them. The operator terminal can instruct the OPC correction / verification server to execute OPC and OPC verification, receive the OPC verification result from the OPC correction / verification server, and confirm the OPC verification result. Accordingly, it is not necessary to prepare expensive and high-performance equipment for OPC correction / verification processing for each user, and equipment efficiency for inspection of an OPC processed layout pattern can be improved.
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
本発明の実施例に係るOPC検査システムは、OPC補正・検証サーバ1と、複数の利用者端末2と、OPC補正・検証サーバ1と複数の利用者端末2との間でデータの転送を行うFTPサーバ31と、OPC補正・検証サーバ1から複数の利用者端末2へ電子メールを送信するメールサーバ32とを有し、OPC補正・検証サーバ1に接続されたFTPサーバ31およびメールサーバ32は、通信回線4により複数の利用者端末2と接続される。
The OPC inspection system according to the embodiment of the present invention transfers data between the OPC correction / verification server 1, the plurality of user terminals 2, and the OPC correction / verification server 1 and the plurality of user terminals 2. An
図1は、複数の利用者端末2のうちの1台だけを図示し、本実施例のOPC検査装置の基本的な構成の例を示したブロック図である。 FIG. 1 is a block diagram illustrating only one of a plurality of user terminals 2 and illustrating an example of a basic configuration of an OPC inspection apparatus according to the present embodiment.
OPC補正・検証サーバ1は、入力されたレイアウトパターンに対するOPCの実行、およびOPC処理済みレイアウトパターンに対するOPC検証の実行を行なうOPC補正・検証実行部11と、OPC補正・検証実行部11におけるOPC補正およびOPC検証の実行を制御するOPC補正・検証実行制御部12と、OPC補正・検証実行制御部12へ与えるOPC補正用のパラメータとリソグラフィ・モデル、およびOPC検証用のレシピとルールを格納するライブラリ13と、OPC補正・検証OPC検証部11におけるOPC補正およびOPC検証の実行状況を監視する実行監視部14と、OPC補正・検証実行部11から出力されたOPC検証結果を格納する実行結果格納部15と、OPC処理対象のレイアウトパターンを格納する設計データ格納部16とを備える。
The OPC correction / verification server 1 executes an OPC on the input layout pattern and an OPC correction /
利用者端末2は、FTPサ−バ31を介して、OPC補正・検証実行制御部12へ、ライブラリ13から読み出すべきOPC補正用のパラメータとリソグラフィ・モデル、およびOPC検証用のレシピとルールを指定し、OPC補正・検証実行部11におけるOPC補正およびOPC検証の実行の開始を指示するOPC補正・検証実行指示部21と、メールサ−バ32を介して実行監視部14から送信された、OPC補正・検証実行部11におけるOPC補正およびOPC検証の実行状況を表示する実行状況表示部22と、実行結果格納部15からFTPサ−バ31を介して送信された、OPC補正・検証実行部11におけるOPC検証結果を格納するOPC検証結果格納部23と、OPC検証結果格納部23に格納されたOPC検証結果をOPC処理前レイアウトパターンに重ね合わせて表示するOPC検証結果表示部24と、入力されたOPC処理前レイアウトパターンを格納する設計データ格納部25とを備える。
The user terminal 2 designates the OPC correction parameters and lithography model to be read from the
OPC補正・検証サーバ1のライブラリ13には、利用者端末2によりOPCおよびOPC検証を実行する利用者が使用すると想定される、OPC補正用のパラメータとリソグラフィ・モデル、およびOPC検証用のレシピとルールが格納されている。
The
ライブラリ13の登録内容は、利用者に公開され、利用者は、その中から自分の使用したいOPC補正用のパラメータとリソグラフィ・モデル、およびOPC検証用のレシピとルールを選択する。
The registered contents of the
OPC補正・検証サーバ1の実行監視部14は、OPC補正・検証実行部11におけるOPC補正およびOPC検証の実行状況を監視し、OPC補正あるいはOPC検証の実行に異常が発生したときは、警告メッセージの電子メールをメールサーバ32を介して利用者端末2へ送信する。また、OPC検証が正常に終了したときは、終了メッセージの電子メールをメールサーバ32を介して利用者端末2へ送信する。なお、この終了メッセージのなかには、OPC検証結果の概要も記載される。
The
利用者端末2では、受信した警告メッセージおよび終了メッセージを実行状況表示部22に表示する。これにより、利用者端末2の利用者は、警告メッセージおよび終了メッセージの内容を確認することができる。
The user terminal 2 displays the received warning message and end message on the execution
OPC補正・検証サーバ1の実行結果格納部15には、OPC補正・検証実行部11におけるOPC検証の実行によりエラーが検出された場合に、エラーの発生位置を示すエラー発生位置マーカ、およびエラーの発生したOPC処理済みパターンが格納される。実行結果格納部15に格納されたデータは、FTPサーバ31を介して利用者端末2へ送信され、利用者端末2の実行結果格納部23に格納される。
In the execution
利用者端末2では、実行結果格納部23に格納されたエラー発生位置マーカをOPC検証結果表示部24に表示する。このとき、OPC検証結果表示部24は、設計データ格納部25に格納されているOPC処理前レイアウトパターンを読み出し、このOPC処理前レイアウトパターン上にエラー発生位置マーカを重ねて表示することができる。また、OPC検証結果表示部24は、これらにさらに重ねて、実行結果格納部23から読み出したエラーの発生したOPC処理済パターンを表示することもできる。
In the user terminal 2, the error occurrence position marker stored in the execution
OPC補正・検証サーバ1の設計データ格納部16には、利用者端末2の設計データ格納部25に格納されているOPC処理前レイアウトパターンが、FTPサーバ31を介して転送され、格納される。
In the design
図2は、利用者端末2のOPC補正・検証実行指示部21で用いる実行指示入力画面の例である。この実行指示入力画面上で、対象データ、対象層、対象領域を指定し、対象条件、露光条件を指定することにより、ライブラリ13に登録されているライブラリデータの中の1つが選択される。また、実行指示入力画面により、FTPサーバ31に対するOPC検証結果の出力先の指定、メールサーバ32に対する電子メール送信先の指定も行なう。
FIG. 2 is an example of an execution instruction input screen used in the OPC correction / verification execution instruction unit 21 of the user terminal 2. On this execution instruction input screen, target data, target layer and target area are specified, and target conditions and exposure conditions are specified, so that one of the library data registered in the
また、この実行指示入力画面上で、OPC補正・検証実行指示部21は、OPC補正・検証サーバ1のOPC補正・検証実行制御部12に対して、OPC補正およびOPC検証の実行開始を指示する。
On the execution instruction input screen, the OPC correction / verification execution instructing unit 21 instructs the OPC correction / verification
本実施例では、OPC補正およびOPC検証の実行に対して、実行モードが2つあるものとする。1つを、OPC補正とOPC検証を連続して実行する(OPC補正+検証)モードとし、もう1つを、OPC検証のみを単独で実行するOPC検証モードとする。 In this embodiment, it is assumed that there are two execution modes for execution of OPC correction and OPC verification. One is an OPC correction mode in which OPC correction and OPC verification are successively executed (OPC correction + verification), and the other is an OPC verification mode in which only OPC verification is executed independently.
ここで、(OPC補正+検証)モードは、例えば初めてOPC補正を実行するときに用い、OPC検証モードは、OPC処理済みパターンが既にあり、OPC検証のレシピあるいはルールを変更して、再度OPC検証を実行するときなどに用いるものである。このモードの選択も、図2に示す実行指示入力画面上で行う。 Here, the (OPC correction + verification) mode is used, for example, when the OPC correction is executed for the first time. The OPC verification mode has already been subjected to the OPC processing pattern, and the OPC verification recipe or rule is changed, and the OPC verification is performed again. This is used when executing. This mode is also selected on the execution instruction input screen shown in FIG.
図3は、本実施例のOPC検査装置におけるOPC処理済みパターンに対する検査フローの例を示すフロー図である。 FIG. 3 is a flowchart showing an example of an inspection flow for the OPC processed pattern in the OPC inspection apparatus of the present embodiment.
OPC処理済みパターンに対する検査の開始にあたって、まず、利用者端末2のOPC補正・検証実行指示部21からOPC補正・検証サーバ1のOPC補正・検証実行制御部12へ、ライブラリ13から読み出すデータを指定する(ステップS01)。
In starting the inspection for the OPC processed pattern, first, the data to be read from the
OPC補正・検証制御部12は、指定されたOPC補正用のパラメータとリソグラフィ・モデル、およびOPC検証用のレシピとルールをライブラリ13から読み出し、OPC補正・検証実行部11へ送る。
The OPC correction /
続いて、(OPC補正+検証)モードあるいはOPC検証モードのいずれかの実行モードを指定した上で、OPC補正・検証実行指示部21は、OPC補正・検証制御部12へ実行開始を指示する(ステップS02)。この指示を受けて、OPC検証制御部12は、実行モードが(OPC補正+検証)モードであるかOPC検証モードであるかを判断し、OPC補正・検証実行部11に対して、(OPC補正+検証)モードのときはOPC補正の実行を指示し、OPC検証モードのときはOPC検証の実行を指示する(ステップS03)。
Subsequently, after specifying either the (OPC correction + verification) mode or the OPC verification mode, the OPC correction / verification execution instructing unit 21 instructs the OPC correction /
OPC補正の指示を受けたときは、OPC補正・検証実行部11は、設計データ格納部16に格納されているレイアウトパターンに対するOPC補正を実行する(ステップS04)。OPC補正の実行が開始されると、実行監視部15は、OPC補正・検証実行部11の実行状況を監視し、OPC補正が正常終了したかどうかをチェックする(ステップS05)。
When receiving an instruction for OPC correction, the OPC correction /
もし、OPC補正の途中で異常が発生し、OPC補正・検証実行部11が異常終了した場合には(NO)、実行監視部15は、メールサーバ32を介して利用者端末2の実行状況表示部22へ異常警告を送信し、OPC補正が異常終了したことを通知する(ステップS06)。図4(a)に、異常警告の電子メールの例を示す。このような異常警告の電子メールを受け取った利用者は、その原因を除去する対策をとってOPC補正を再実行するようにする。
If an abnormality occurs during the OPC correction and the OPC correction /
図3に戻って、ステップS05でOPC補正が正常に終了したときは(YES)、OPC補正の実行結果が実行結果格納部15へ格納される(ステップS07)。 Returning to FIG. 3, when the OPC correction is normally completed in step S05 (YES), the execution result of the OPC correction is stored in the execution result storage unit 15 (step S07).
このようにしてOPC補正の実行が正常に終了したとき、または、ステップS03でOPC検証の実行が指示されたときは、OPC補正・検証実行部11は、実行結果格納部15へ格納されているOPC処理済みレイアウトパターンに対するOPC検証を実行する(ステップS08)。
When the execution of the OPC correction ends normally in this way, or when the execution of the OPC verification is instructed in step S03, the OPC correction /
OPC検証の実行が開始されると、実行監視部14は、OPC補正・検証実行部11の実行状況を監視し、OPC検証が正常終了したかどうかをチェックする(ステップS09)。
When the execution of the OPC verification is started, the
もし、OPC検証の途中で異常が発生し、OPC補正・検証実行部11が異常終了した場合には(NO)、実行監視部14は、メールサーバ32を介して利用者端末2の実行状況表示部22へ、OPC補正の場合と同様、図4(a)に示すような異常警告を送信し、OPC検証が異常終了したことを通知する(ステップS06)。異常警告の電子メールを受け取った利用者は、その原因を除去する対策をとってOPC検証を再実行するようにする。
If an abnormality occurs during the OPC verification and the OPC correction /
図3に戻って、ステップS09でOPC検証が正常に終了し(YES)、OPC検証の実行結果が実行結果格納部15へ格納されると(ステップS10)、実行監視部14は、メールサーバ32を介して利用者端末2の実行状況表示部22へ終了通知を送信し、OPC検証が正常に終了したことを通知する(ステップS11)。この終了通知には、OPC検証結果の概要が記載される。
Returning to FIG. 3, when the OPC verification ends normally in step S <b> 09 (YES) and the execution result of the OPC verification is stored in the execution result storage unit 15 (step S <b> 10), the
この終了通知に、図4(b)に示すようにOPC検証のチェックによるエラーの数が0と記載されている場合(ステップS12のNO)、利用者はOPC検証結果を確認する必要がないので、そのままこの作業を終了する。 If the number of errors due to the OPC verification check is 0 as shown in FIG. 4B in this end notification (NO in step S12), the user does not need to check the OPC verification result. This work is finished as it is.
一方、図4(c)に示すように、終了通知にエラーの数が記載されていた場合は(ステップS12のYES)、利用者はOPC検証結果を確認する必要がある。このとき、通知されたメールにエラーの概要が記載されているので、利用者はエラーの種類等の概要を知ることができる。 On the other hand, as shown in FIG. 4C, when the number of errors is described in the end notification (YES in step S12), the user needs to confirm the OPC verification result. At this time, since the summary of the error is described in the notified mail, the user can know the summary of the type of error.
図3に戻って、ステップS12でOPC検証結果にエラーがある場合(YES)、その詳細を確認するために、利用者は、OPC補正・検証サーバ1に対して、OPC検証結果のFTP転送を要求する。この要求を受けて、OPC補正・検証サーバ1は、FTPサーバ31を介して、実行結果格納部15に格納しているOPC検証結果を利用者端末2へ転送する(ステップS13)。
Returning to FIG. 3, if there is an error in the OPC verification result in step S <b> 12 (YES), the user sends an FTP transfer of the OPC verification result to the OPC correction / verification server 1 in order to confirm the details. Request. In response to this request, the OPC correction / verification server 1 transfers the OPC verification result stored in the execution
利用者端末2は、転送されたOPC検証結果をOPC検証結果格納部23に格納する(ステップS14)。 The user terminal 2 stores the transferred OPC verification result in the OPC verification result storage unit 23 (step S14).
利用者は、OPC検証結果格納部23に格納されたOPC検証結果をOPC検証結果表示部24の表示画面に表示させる(ステップS15)。これにより、OPC処理によって発生したエラーを視覚的に確認することができる。このとき、設計データ格納部25に格納されているOPC処理前のレイアウトパターンを読み出して、OPC検証結果と重ね合わせ表示することにより、設計データ上のどこでエラーが発生しているかを容易に知ることができ、エラーを解消するための対策が立てやすくなる。
The user displays the OPC verification result stored in the OPC verification
OPC検証結果のOPC処理前のレイアウトパターンへの重ね合わせ方には、次の3通りがある。すなわち、第1は、エラー発生位置マーカのみを重ね合わせる、第2は、エラー発生位置マーカおよびエラーの発生したOPC処理済みパターンを重ね合わせる、第3は、エラー発生位置マーカおよびエラーの発生したOPC処理済みパターンのうちのエラー発生位置マーカ周辺のみを重ね合わせる、の3通りである。この3通りの重ね合わせ方の例を図5から図7に示す。 There are the following three methods for overlaying the OPC verification result on the layout pattern before the OPC processing. That is, the first is to superimpose only the error occurrence position marker, the second is to superimpose the error occurrence position marker and the OPC processed pattern in which the error has occurred, and the third is the error occurrence position marker and the OPC in which the error has occurred. There are three ways of superimposing only around the error occurrence position marker in the processed pattern. Examples of these three superposition methods are shown in FIGS.
図5は、OPC処理前のレイアウトパターンに、エラー発生位置マーカのみを重ね合わせて表示したときのOPC検証結果表示部24の表示画面の例である。
FIG. 5 is an example of a display screen of the OPC verification
このような表示により、利用者は、設計データ上のどこでエラーが発生しているかを視覚的に把握することができる。 With such a display, the user can visually grasp where the error has occurred on the design data.
図6は、OPC処理前のレイアウトパターンに、エラー発生位置マーカおよびエラーの発生したOPC処理済みパターンを重ね合わせて表示したときのOPC検証結果表示部24の表示画面の例である。
FIG. 6 is an example of a display screen of the OPC verification
このような表示により、利用者は、エラーの発生しているOPC処理済みパターンがどのような形状をしているかを確認することができる。 With such a display, the user can check what shape the OPC processed pattern in which an error has occurred has.
図7は、OPC処理前のレイアウトパターンに、エラー発生位置マーカおよびエラーの発生したOPC処理済みパターンのうちのエラー発生位置マーカ周辺のみを重ね合わせて表示したときのOPC検証結果表示部24の表示画面の例である。
FIG. 7 shows the display of the OPC verification
この場合、エラー発生位置マーカ周辺のみのOPC処理済みパターンを表示することで、表示データ量を少なくすることができる。 In this case, the display data amount can be reduced by displaying the OPC processed pattern only around the error occurrence position marker.
以上により、OPC処理済みパターンに対するOPC検証の実行から、その結果の確認までの一連の作業が終了する。 As described above, a series of operations from the execution of the OPC verification to the OPC processed pattern to the confirmation of the result is completed.
このような本実施例によれば、利用者が共通に使用するOPC補正・検証サーバ、および通信手段を通じてこのOPC補正・検証サーバに接続される複数の利用者端末を設けられるので、各利用者はそれぞれの利用者端末において、OPC補正・検証サーバへのOPC補正およびOPC検証の実行の指示、OPC補正・検証サーバからのOPC検証結果の受け取り、およびOPC検証結果の確認を行うことができる。これにより、利用者個々に高価で高性能のOPC補正・検証処理用の設備を用意する必要がなく、OPC処理済レイアウトパターンの検査に対する設備効率を向上させることができる。 According to such a present Example, since the OPC correction | amendment / verification server which a user uses in common, and the some user terminal connected to this OPC correction | amendment / verification server through a communication means, each user is provided. Each user terminal can instruct the OPC correction / verification server to execute OPC correction and OPC verification, receive the OPC verification result from the OPC correction / verification server, and confirm the OPC verification result. Accordingly, it is not necessary to prepare expensive and high-performance equipment for OPC correction / verification processing for each user, and equipment efficiency for inspection of an OPC processed layout pattern can be improved.
また、本実施例によれば、OPC補正・検証サーバに標準化されたライブラリが提供されるので、利用者個々がOPC補正用のパラメータとリソグラフィ・モデル、およびOPC検証用のレシピとルールを作り込む必要がなく、OPC処理済みパターンに対するOPC検証を効率よく実行することができる。 Further, according to the present embodiment, a standardized library is provided in the OPC correction / verification server, so that each user creates parameters and lithography models for OPC correction, and recipes and rules for OPC verification. This is unnecessary, and the OPC verification for the OPC processed pattern can be executed efficiently.
また、OPC検証の終了が電子メールで通知されるので、利用者はOPC検証の終了を即座に知ることができる。さらに、OPC検証が正常に終了したときは、発見されたエラーの概要もその通知で知ることができる。 In addition, since the end of the OPC verification is notified by electronic mail, the user can immediately know the end of the OPC verification. Further, when the OPC verification is completed normally, an outline of the detected error can be known by the notification.
また、OPC検証の実行結果をOPC処理前のレイアウトパターンと重ね合わせて表示させることができるので、利用者は、設計データ上のどこでエラーが発生しているかを容易に把握することができる。 In addition, since the execution result of the OPC verification can be displayed superimposed on the layout pattern before the OPC process, the user can easily grasp where the error has occurred in the design data.
図8は、本発明の実施例2に係るOPC検査装置におけるOPC補正・検証サーバの構成の例を示すブロック図である。 FIG. 8 is a block diagram illustrating an example of the configuration of the OPC correction / verification server in the OPC inspection apparatus according to the second embodiment of the present invention.
本実施例のOPC補正・検証サーバ1Aは、図1に示した実施例1のOPC補正・検証サーバ1に、さらに管理者認証部17を追加したものである。なお、図8において、図1に示したブロックと同一の機能のブロックには、図1と同一の符号を付し、ここではその詳細な説明を省略する。
The OPC correction / verification server 1A of the present embodiment is obtained by adding an
管理者認証部17は、予め発行された管理者IDを有するライブラリ管理者のみ、ライブラリ13へのOPC補正用のパラメータとリソグラフィ・モデル、およびOPC検証用のレシピとルールの登録を許可する。
The
ライブラリ13は、総ての利用者に共通に使用されるため、その内容を正確に保つことが重要である。また、内容を更新したときにバージョン管理も厳重に行う必要がある。そこで、管理者認証部17により、ライブラリ13へのアクセスを管理し、ライブラリ13の信頼性を確保する。
Since the
このライブラリ13の更新は、例えば、新しい製造工程が開発されたり、新しい製造装置が導入されたりしたときに行われる。このような場合、その工程や装置に合わせたOPC補正用のパラメータとリソグラフィ・モデル、およびOPC検証用のレシピとルールが作成され、十分な検証が行われた後に、管理者によってライブラリ13へ登録される。その際、管理者認証部14が、管理者に管理者IDの入力を求め、正しい管理者IDが入力されたときのみ、ライブラリ13への新しいデータの登録を許可する。
The
このような本実施例によれば、OPC補正・検証サーバに搭載されるライブラリが厳重に管理されるので、どの利用者がOPC処理済レイアウトパターンの検査を実行しても、その結果を一定の品質に保つことができる。 According to the present embodiment, since the library installed in the OPC correction / verification server is strictly managed, any user can execute the inspection of the OPC processed layout pattern, and the result is constant. Quality can be kept.
1、1A OPC補正・検証サーバ
11 OPC補正・検証実行部
12 OPC補正・検証実行制御部
13 ライブラリ
14 実行監視部
15 実行結果格納部
16 設計データ格納部
17 管理者認証部
2 利用者端末
21 OPC補正・検証実行指示部
22 実行状況表示部
23 OPC検証結果格納部
24 OPC検証結果表示部
25 設計データ格納部
31 FTPサーバ
32 メールサーバ
4 通信回線
1, 1A OPC correction /
Claims (5)
前記OPC補正・検証サーバは、
入力されたレイアウトパターンに対するOPC補正の実行、およびOPC処理済みレイアウトパターンに対するOPC検証の実行を行なうOPC補正・検証実行手段と、
前記OPC補正・検証実行手段におけるOPC補正およびOPC検証の実行を制御するOPC補正・検証制御手段と、
前記OPC補正・検証制御手段へ与えるOPC補正用のパラメータとリソグラフィ・モデル、およびOPC検証用のレシピとルールを格納するライブラリと、
前記OPC補正・検証実行手段におけるOPC補正およびOPC検証の実行状況を監視する実行監視手段と、
前記OPC補正・検証手段から出力されたOPC補正およびOPC検証の実行結果を格納する実行結果格納手段と
を備え、
前記複数の利用者端末のそれぞれは、
前記通信手段を介して、前記OPC補正・検証制御手段へ、前記ライブラリから読み出すべきOPC補正用のパラメータ、リソグラフィ・モデル、またはOPC検証用のレシピ、ルールを指定し、前記OPC補正・検証実行手段におけるOPC補正あるいはOPC検証の実行の開始を指示するOPC補正・検証実行指示手段と、
前記通信手段を介して前記実行監視手段から送信された、前記OPC補正およびOPC検証の実行状況を表示する実行状況表示手段と、
前記実行結果格納手段から前記通信手段を介して送信された、前記OPC検証結果を格納するOPC検証結果格納手段と、
前記OPC検証結果格納手段に格納された前記OPC検証結果を表示するOPC検証結果表示手段と、
を備えることを特徴とするOPC検査システム。 An OPC inspection system comprising: an OPC correction / verification server; a plurality of user terminals; and communication means for connecting the OPC correction / verification server and the plurality of user terminals via a communication line,
The OPC correction / verification server
OPC correction / verification executing means for executing OPC correction for an input layout pattern and executing OPC verification for an OPC processed layout pattern;
OPC correction / verification control means for controlling execution of OPC correction and OPC verification in the OPC correction / verification execution means;
A library storing parameters and lithography models for OPC correction to be given to the OPC correction / verification control means, and recipes and rules for OPC verification;
Execution monitoring means for monitoring the execution status of OPC correction and OPC verification in the OPC correction / verification execution means;
Execution result storage means for storing execution results of OPC correction and OPC verification output from the OPC correction / verification means;
Each of the plurality of user terminals is
Via the communication means, the OPC correction / verification control means designates an OPC correction parameter, a lithography model, or an OPC verification recipe and rule to be read from the library, and the OPC correction / verification execution means. OPC correction / verification execution instructing means for instructing start of execution of OPC correction or OPC verification in
Execution status display means for displaying the execution status of the OPC correction and OPC verification transmitted from the execution monitoring means via the communication means;
OPC verification result storage means for storing the OPC verification result transmitted from the execution result storage means via the communication means;
OPC verification result display means for displaying the OPC verification result stored in the OPC verification result storage means;
An OPC inspection system comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006069071A JP2007248596A (en) | 2006-03-14 | 2006-03-14 | Opc inspection system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006069071A JP2007248596A (en) | 2006-03-14 | 2006-03-14 | Opc inspection system |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007248596A true JP2007248596A (en) | 2007-09-27 |
Family
ID=38592999
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2006069071A Withdrawn JP2007248596A (en) | 2006-03-14 | 2006-03-14 | Opc inspection system |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007248596A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11054736B2 (en) | 2017-11-28 | 2021-07-06 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Extreme ultraviolet (EUV) mask for lithography and associated methods |
CN114355722A (en) * | 2022-01-05 | 2022-04-15 | 华虹半导体(无锡)有限公司 | OPC program correction method, system, storage medium and electronic device |
-
2006
- 2006-03-14 JP JP2006069071A patent/JP2007248596A/en not_active Withdrawn
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CN114355722A (en) * | 2022-01-05 | 2022-04-15 | 华虹半导体(无锡)有限公司 | OPC program correction method, system, storage medium and electronic device |
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