JP2007213021A

JP2007213021A - 反射防止膜

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Publication number: JP2007213021A
Application number: JP2006345552A
Authority: JP
Inventors: Etsuo Terayama; 悦夫寺山
Original assignee: Fujinon Corp
Current assignee: Fujinon Corp
Priority date: 2006-01-12
Filing date: 2006-12-22
Publication date: 2007-08-23
Anticipated expiration: 2026-12-22
Also published as: US20070159697A1; EP1808714A1; US7773301B2; JP4958536B2

Abstract

【課題】より広い帯域においてより低い反射率を示す反射防止膜を提供する。
【解決手段】この反射防止膜Ｃ１は、光学基板１００の表面１００Ｓ上に設けられた合計１０層からなる多層膜であり、第１層１から第１０層１０までの各層が、光学基板１００と反対側から順に積層されたものである。ここで、第１層１および第４層４および第９層９がｄ線に対して１．３５以上１．５０以下の屈折率を示す低屈折率材料により構成され、第３層３、第５層５、第７層７および第１０層１０がｄ線に対して１．５５以上１．８５以下の屈折率を示す中間屈折率材料により構成され、第２層２、第６層６および第８層８がｄ線に対して１．７０以上２．５０以下の範囲において中間屈折率材料よりも高い屈折率を示す高屈折率材料により構成されている。
【選択図】図１

Description

本発明は、例えばレンズやフィルターなどの光学部材の一面に形成され、所定の波長帯の光に対して反射防止効果を発揮する反射防止膜に関する。

一般に、写真用カメラや放送用カメラなどの撮像装置においては、その光路上にレンズやプリズム、あるいはフィルターなどの光学部材が多数配置されている。各光学部材の表面では、光が入射するとその光の一部が反射光となる。ここで光学部材の総数が増加すると、それに応じて反射光の総量が増加してしまうことから、例えば放送用カメラでは映像にフレアやゴーストが発生するなどの障害が現れる。また、各光学部材の表面での反射率が入射光の波長に対して分布を有し、かつ、各光学部材の構成材料によって様々な反射率の波長依存性を示すことから、色度バランスが劣化し、撮像装置全体でのホワイトバランスを調整する必要がある。

こうしたことから、従来より、各光学部材の表面に反射防止膜を設けるようにしている。

反射防止膜は互いに異なる屈折率を有する誘電体膜を組み合わせた多層膜であり、例えば下記の特許文献１〜３に開示されたものが知られている。
特開２００２−１０７５０６号公報特開２００１−１００００２号公報特開２００２−２６７８０１号公報

しかしながら、上記特許文献１〜３に開示された反射防止膜では、一般的に可視域とされる波長帯の上下限付近（すなわち４００ｎｍ付近および７００ｎｍ付近）での反射率がやや劣化する傾向にあり、例えば０．１５％以下の反射率となる波長帯が２８０ｎｍ程度の幅に留まっている。したがって、より広い波長帯において優れた光透過性を発揮することのできる反射防止膜が求められている。

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、より広い波長帯においてより低い反射率を示す反射防止膜を提供することにある。

本発明の反射防止膜は、基板上に設けられると共に基板と反対側から順に積層された第１層から第８層を少なくとも含むものである。ここで、第１層および第４層がｄ線に対して１．３５以上１．５０以下の屈折率を示す低屈折率材料により構成され、第３層および第５層がｄ線に対して１．５５以上１．８５以下の屈折率を示す中間屈折率材料により構成され、第２層および第６層がｄ線に対して１．７０以上２．５０以下の範囲において中間屈折率材料よりも高い屈折率を示す高屈折率材料により構成されている。

本発明の反射防止膜では、基板と反対側から順に少なくとも第１層から第８層を含み、かつ、第１層から第６層が所定の屈折率を示す材料からなるようにしたので、より広い波長帯において反射率分布が十分に低減される。

本発明の反射防止膜では、さらに、以下の条件式（１）〜（６）を全て満足しているこ
とが望ましい。ただし、λ０は中心波長、Ｎ１〜Ｎ６は第１層から第６層における中心波長λ０に対する屈折率、ｄ１〜ｄ６は第１層から第６層における物理的膜厚である。
０．２５×λ０≦Ｎ１・ｄ１≦０．２７×λ０ …… （１）
０．４８×λ０≦Ｎ２・ｄ２≦０．５０×λ０ …… （２）
０．２０×λ０≦Ｎ３・ｄ３≦０．２３×λ０ …… （３）
０．０８×λ０≦Ｎ４・ｄ４≦０．０９×λ０ …… （４）
０．２７×λ０≦Ｎ５・ｄ５≦０．３０×λ０ …… （５）
０．４１×λ０≦Ｎ６・ｄ６≦０．６０×λ０ …… （６）

本発明の反射防止膜では、第７層が中間屈折率材料からなり、第８層が高屈折率材料からなるようにすることが好ましい。

本発明の反射防止膜では、第８層の基板側に低屈折率材料からなる第９層と中間屈折率材料からなる第１０層とを順に積層するようにしてもよい。その場合、以下の条件式（７）〜（１０）を全て満足していることが望ましい。ただし、Ｎ７〜Ｎ１０は第７層から第１０層における中心波長λ０に対する屈折率であり、ｄ７〜ｄ１０は第７層から第１０層における物理的膜厚である。
０．０３×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．１３×λ０ …… （７）
０．０５×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１１×λ０ …… （８）
０．０８×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．０９×λ０ …… （９）
０．０９×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．１４×λ０ …… （１０）

また、本発明の反射防止膜では、第８層の基板側に低屈折率材料からなる第９層と高屈折率材料からなる第１０層とを順に積層するようにしてもよい。その場合、以下の条件式（１１）〜（１４）を全て満足していることが望ましい。ただし、Ｎ７〜Ｎ１０は第７層から第１０層における中心波長λ０に対する屈折率であり、ｄ７〜ｄ１０は第７層から第１０層における物理的膜厚である。
０．０３×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．０４×λ０ …… （１１）
０．０６×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１１×λ０ …… （１２）
０．０８×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１４×λ０ …… （１３）
０．０４×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．１０×λ０ …… （１４）

また、本発明の反射防止膜では、第８層の基板側に低屈折率材料からなる第９層と高屈折率材料からなる第１０層と低屈折率材料からなる第１１層と高屈折率材料からなる第１２層とを順に積層するようにしてもよい。その場合、以下の条件式（１５）〜（２０）を全て満足していることが望ましい。ただし、Ｎ７〜Ｎ１２は第７層から第１２層における中心波長λ０に対する屈折率であり、ｄ７〜ｄ１２は第７層から第１２層における物理的膜厚である。
０．０３×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．０４×λ０ …… （１５）
０．１０×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１２×λ０ …… （１６）
０．１０×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１１×λ０ …… （１７）
０．１０×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．１１×λ０ …… （１８）
０．１３×λ０≦Ｎ１１・ｄ１１≦０．１６×λ０ …… （１９）
０．０４×λ０≦Ｎ１２・ｄ１２≦０．０５×λ０ …… （２０）

また、本発明の反射防止膜では、第８層の基板側に中間屈折率材料からなる第９層と高屈折率材料からなる第１０層とを順に積層するようにしてもよい。その場合、以下の条件式（２１）〜（２４）を全て満足していることが望ましい。ただし、Ｎ７〜Ｎ１０は第７層から第１０層における中心波長λ０に対する屈折率であり、ｄ７〜ｄ１０は第７層から第１０層における物理的膜厚である。
０．０８×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．１２×λ０ …… （２１）
０．１１×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１７×λ０ …… （２２）
０．０７×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１８×λ０ …… （２３）
０．０４×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．０９×λ０ …… （２４）

また、本発明の反射防止膜では、第８層の基板側に中間屈折率材料からなる第９層を積層するようにしてもよい。その場合、以下の条件式（２５）〜（２７）を全て満足していることが望ましい。ただし、Ｎ７〜Ｎ９は第７層から第９層における中心波長λ０に対する屈折率であり、ｄ７〜ｄ９は第７層から第９層における物理的膜厚である。
０．０８×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．１２×λ０ …… （２５）
０．０７×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１５５×λ０ …… （２６）
０．０６×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１２×λ０ …… （２７）

また、本発明の反射防止膜では、第１層から第８層のみによって構成することもできる。その場合、以下の条件式（２８）および（２９）を共に満足していることが望ましい。ただし、Ｎ７およびＮ８は第７層および第８層における中心波長λ０に対する屈折率であり、ｄ７およびｄ８は第７層および第８層における物理的膜厚である。
０．０８×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．１１×λ０ …… （２８）
０．０５×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．０７×λ０ …… （２９）

また、本発明の反射防止膜では、第８層の基板側に低屈折率材料からなる第９層と高屈折率材料からなる第１０層と中間屈折率材料からなる第１１層とを順に積層するようにしてもよい。その場合、以下の条件式（３０）〜（３４）を全て満足していることが望ましい。ただし、Ｎ７〜Ｎ１１は第７層から第１１層における中心波長λ０に対する屈折率であり、ｄ７〜ｄ１１は第７層から第１１層における物理的膜厚である。
０．０４×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．０５×λ０ …… （３０）
０．０６×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１２×λ０ …… （３１）
０．０７×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１２×λ０ …… （３２）
０．０５×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．０６×λ０ …… （３３）
０．０４×λ０≦Ｎ１１・ｄ１１≦０．２６×λ０ …… （３４）

また、本発明の反射防止膜では、第８層の基板側に低屈折率材料からなる第９層と高屈折率材料からなる第１０層と低屈折率材料からなる第１１層とを順に積層するようにしてもよい。その場合、以下の条件式（３５）〜（３９）を全て満足していることが望ましい。ただし、Ｎ７〜Ｎ１１は第７層から第１１層における中心波長λ０に対する屈折率であり、ｄ７〜ｄ１１は第７層から第１１層における物理的膜厚である。
０．０３×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．０４×λ０ …… （３５）
０．１０×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１２×λ０ …… （３６）
０．１１×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１２×λ０ …… （３７）
０．０７×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．０９×λ０ …… （３８）
０．０８×λ０≦Ｎ１１・ｄ１１≦０．０９×λ０ …… （３９）

本発明の反射防止膜によれば、基板上に設けられると共に基板と反対側から順に積層された第１層から第８層を少なくとも含み、ｄ線に対して１．３５以上１．５０以下の屈折率を示す第１層および第４層と、ｄ線に対して１．５５以上１．８５以下の屈折率を示す第３層および第５層と、ｄ線に対して１．７０以上２．５０以下の範囲において第３層および第５層よりも高い屈折率を示す第２層および第６層とを所定の順序で積層するようにしたので、比較的少ない積層数でありながら、より広い波長帯に亘って反射率を十分に低減することができる。したがって、本発明の反射防止膜を写真用カメラや放送用カメラな
どの撮像装置における光学系に適用した場合には、フレアやゴーストの発生を抑制すると共に、より優れた色度バランス性を得ることができる。

以下、本発明におけるいくつかの実施の形態について、図面を参照して各々詳細に説明する。

［第１の実施の形態］
図１は、本発明における第１の実施の形態としての反射防止膜Ｃ１の構成を示す概略断面図である。図１の反射防止膜Ｃ１は、後述の第１の数値実施例（図９および図１０）に対応している。

反射防止膜Ｃ１は、光学基板１００の表面１００Ｓ上に設けられた合計１０層からなる多層膜であり、第１層１から第１０層１０までの各層が、光学基板１００と反対側から順に積層されたものである。なお、ここでは表面１００Ｓを平面としたが、これに限らず曲面としてもよい。すなわち、光学基板１００として球面や非球面を有するレンズを用い、その球面や非球面の上に反射防止膜Ｃ１を設けるようにしてもよい。

光学基板１００は、ガラスや結晶材料などの透明材料によって構成されている。具体的には、ｄ線（波長λ＝５８７．５６ｎｍ）に対して例えば１．４３以上１．５８以下の屈折率を示すフッ化カルシウム（ＣａＦ2）、二酸化珪素（ＳｉＯ2）、ＢＫ７（独国ショット社）、ＬＦ１（独国ショット社）などを用いることが望ましい。

第１層１、第４層４および第９層９は、ｄ線に対して１．３５以上１．５０以下の屈折率を示す低屈折率材料からなる低屈折率層である。第１層１および第４層４はｄ線に対して特に１．３８以上１．３９以下の屈折率を示す低屈折率材料によって構成されていることが望ましく、第９層９はｄ線に対して特に１．４６以上１．４７以下の屈折率を示す低屈折率材料によって構成されていることが望ましい。また、第３層３、第５層５、第７層７および第１０層１０は、ｄ線に対して１．５５以上１．８５以下、特に１．６２以上１．６３以下の屈折率を示す中間屈折率材料からなる中間屈折率層である。さらに、第２層２、第６層６および第８層８は、ｄ線に対して１．７０以上２．５０以下、特に２．０９以上２．１０以下の範囲において中間屈折率材料よりも高い屈折率を示す高屈折率材料からなる高屈折率層である。

低屈折率材料としては、例えばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ₂）、ＳｉＯ₂およびフッ化アルミニウム（ＡｌＦ₃）、ならびにそれらの混合物および化合物を用いることができる。特に、本実施の形態では、第１層１および第４層４にＭｇＦ₂を用いると共に第９層９にＳｉＯ₂を用いるとよい。また、中間屈折率材料としては、例えば酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ₂）および酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）、ならびにそれらの混合物および化合物を用いることができる。さらに、高屈折率材料としては、例えばチタン酸ランタン（ＬａＴｉＯ₃）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）、酸化チタン（ＴｉＯ₂）、酸化タンタル（Ｔａ₂Ｏ₅）、酸化ニオブ（Ｎｂ₂Ｏ₅）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ₂）および酸化セリウム（ＣｅＯ₂）、ならびにそれらの混合物および化合物を用いることができる。

第１層１から第６層６については、以下の条件式（１）〜（６）を全て満足するように構成されていることが望ましい。ただし、λ０は中心波長（単位：ｎｍ）であり、Ｎ１〜Ｎ６は第１層１から第６層６における中心波長λ０に対する屈折率であり、ｄ１〜ｄ６は第１層１から第６層６における物理的膜厚（単位：ｎｍ）である。

０．２５×λ０≦Ｎ１・ｄ１≦０．２７×λ０ …… （１）
０．４８×λ０≦Ｎ２・ｄ２≦０．５０×λ０ …… （２）
０．２０×λ０≦Ｎ３・ｄ３≦０．２３×λ０ …… （３）
０．０８×λ０≦Ｎ４・ｄ４≦０．０９×λ０ …… （４）
０．２７×λ０≦Ｎ５・ｄ５≦０．３０×λ０ …… （５）
０．４１×λ０≦Ｎ６・ｄ６≦０．６０×λ０ …… （６）

また、第７層７から第１０層１０については、以下の条件式（７）〜（１０）を全て満足するように構成されていることが望ましい。ただし、Ｎ７〜Ｎ１０は第７層７から第１０層１０における中心波長λ０に対する屈折率であり、ｄ７〜ｄ１０は第７層７から第１０層１０における物理的膜厚（単位：ｎｍ）である。

０．０３×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．１３×λ０ …… （７）
０．０５×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１１×λ０ …… （８）
０．０８×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．０９×λ０ …… （９）
０．０９×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．１４×λ０ …… （１０）

このように、本実施の形態の反射防止膜Ｃ１によれば、各々所定範囲の屈折率を示す第１層１〜第１０層１０を光学基板１００と反対側（すなわち空気側）から順に積層するようにしたので、比較的少ない積層数でありながら、より広い波長帯に亘って反射率を十分に低減することができる。具体的には、少なくとも３００ｎｍの幅をなす波長帯において０．１５％以下の反射率に抑えることができる。さらに、各条件式（１）〜（１０）を満たすことにより光学膜厚Ｎ・ｄの最適化を図るようにしたので、上記の効果をよりいっそう高めることができる。したがって、この反射防止膜Ｃ１を写真用カメラや放送用カメラなどにおける光学系に適用した場合には、入射光の反射を低減することにより、フレアやゴーストの発生を抑制すると共に、より優れた色度バランス性を得ることができる。

［第２の実施の形態］
図２は、本発明における第２の実施の形態としての反射防止膜Ｃ２の構成を示す概略断面図である。図２の反射防止膜Ｃ２は、後述の第２の数値実施例（図１１〜図１８）に対応している。

反射防止膜Ｃ２は、上記第１の実施の形態における反射防止膜Ｃ１と同様、光学基板１００の表面１００Ｓ上に設けられた合計１０層からなる多層膜であり、第１層１から第１０層１０までの各層が、光学基板１００と反対側から順に積層されたものである。なお、反射防止膜Ｃ２に関する以下の説明においては、上記第１の実施の形態における反射防止膜Ｃ１と実質的に異なる構成要素について主に記載し、同一の構成要素については適宜記載を省略する。

光学基板１００については、ｄ線に対して例えば１．４３以上１．６２以下の屈折率を示す透明材料、具体的にはＣａＦ₂、ＳｉＯ₂、ＢＫ７、ＬＦ１、Ｆ−３（独国ショット社）などによって構成することが望ましい。

第１層１、第４層４および第９層９は、ｄ線に対して１．３５以上１．５０以下の屈折率を示す低屈折率材料からなる低屈折率層である。第１層１および第４層４はｄ線に対して特に１．３８以上１．３９以下の屈折率を示す低屈折率材料によって構成されていることが望ましく、第９層９はｄ線に対して特に１．４６以上１．４７以下の屈折率を示す低屈折率材料によって構成されていることが望ましい。また、第３層３、第５層５および第７層７は、ｄ線に対して１．５５以上１．８５以下、特に１．６２以上１．６３以下の屈折率を示す中間屈折率材料からなる中間屈折率層である。さらに、第２層２、第６層６、
第８層８および第１０層１０は、ｄ線に対して１．７０以上２．５０以下、特に１．８０以上２．１０以下の範囲において中間屈折率材料よりも高い屈折率を示す高屈折率材料からなる高屈折率層である。

第１層１から第６層６については、上記した条件式（１）〜（６）を全て満足するように構成されていることが望ましい。

また、第７層７から第１０層１０については、以下の条件式（１１）〜（１４）を全て満足するように構成されていることが望ましい。
０．０３×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．０４×λ０ …… （１１）
０．０６×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１１×λ０ …… （１２）
０．０８×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１４×λ０ …… （１３）
０．０４×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．１０×λ０ …… （１４）

このように、本実施の形態の反射防止膜Ｃ２によれば、各々所定範囲の屈折率を示す第１層１〜第１０層１０を光学基板１００と反対側（すなわち空気側）から順に積層するようにしたので、比較的少ない積層数でありながら、より広い波長帯に亘って反射率を十分に低減することができる。具体的には、少なくとも３００ｎｍの幅をなす波長帯において０．１５％以下の反射率に抑えることができる。さらに、各条件式（１）〜（６），（１１）〜（１４）を満たすことにより光学膜厚Ｎ・ｄの最適化を図るようにしたので、上記の効果をよりいっそう高めることができる。したがって、上記第１の実施の形態の反射防止膜Ｃ１と同様の効果が得られる。

［第３の実施の形態］
図３は、本発明における第３の実施の形態としての反射防止膜Ｃ３の構成を示す概略断面図である。図３の反射防止膜Ｃ３は、後述の第３の数値実施例（図１９，図２０）に対応している。

反射防止膜Ｃ３は、光学基板１００の表面１００Ｓ上に設けられた合計１２層からなる多層膜であり、第１層１から第１２層１２までの各層が光学基板１００と反対側から順に積層されたものである。なお、反射防止膜Ｃ３に関する以下の説明においては、上記第１および第２の実施の形態における反射防止膜Ｃ１，Ｃ２と実質的に異なる構成要素について主に記載し、同一の構成要素については適宜記載を省略する。

光学基板１００については、ｄ線に対して例えば１．６１以上１．６７以下の屈折率を示す透明材料、具体的にはＦ−３やＢＡＳＦ−２（独国ショット社）などによって構成することが望ましい。

第１層１、第４層４、第９層９および第１１層１１は、ｄ線に対して１．３５以上１．５０以下の屈折率を示す低屈折率材料からなる低屈折率層である。第１層１および第４層４はｄ線に対して特に１．３８以上１．３９以下の屈折率を示す低屈折率材料によって構成されていることが望ましく、第９層９および第１１層１１はｄ線に対して特に１．４６以上１．４７以下の屈折率を示す低屈折率材料によって構成されていることが望ましい。また、第３層Ｌ３、第５層５および第７層７は、ｄ線に対して１．５５以上１．８５以下、特に１．６２以上１．６３以下の屈折率を示す中間屈折率材料からなる中間屈折率層である。さらに、第２層２、第６層６、第８層８、第１０層１０および第１２層１２は、ｄ線に対して１．７０以上２．５０以下、特に２．０９以上２．１０以下の範囲において中間屈折率材料よりも高い屈折率を示す高屈折率材料からなる高屈折率層である。

第１層１から第６層６については、上記した条件式（１）〜（６）を全て満足するよう
に構成されていることが望ましい。

また、第７層７から第１２層１２については、以下の条件式（１５）〜（２０）を全て満足することが望ましい。ただし、Ｎ７〜Ｎ１２は第７層７から第１２層１２における中心波長λ０に対する屈折率であり、ｄ７〜ｄ１２は第７層７から第１２層１２における物理的膜厚である。

０．０３×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．０４×λ０ …… （１５）
０．１０×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１２×λ０ …… （１６）
０．１０×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１１×λ０ …… （１７）
０．１０×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．１１×λ０ …… （１８）
０．１３×λ０≦Ｎ１１・ｄ１１≦０．１６×λ０ …… （１９）
０．０４×λ０≦Ｎ１２・ｄ１２≦０．０５×λ０ …… （２０）

このように、本実施の形態の反射防止膜Ｃ３によれば、各々所定範囲の屈折率を示す第１層１〜第１２層１２を光学基板１００と反対側（すなわち空気側）から順に積層するようにしたので、比較的少ない積層数でありながら、より広い波長帯に亘って反射率を十分に低減することができる。具体的には、少なくとも３００ｎｍの幅をなす波長帯において０．１５％以下の反射率に抑えることができる。さらに、各条件式（１）〜（６），（１５）〜（２０）を満たすことにより光学膜厚Ｎ・ｄの最適化を図るようにしたので、上記の効果をよりいっそう高めることができる。したがって、上記第１の実施の形態の反射防止膜Ｃ１と同様の効果が得られる。

［第４の実施の形態］
図４は、本発明における第４の実施の形態としての反射防止膜Ｃ４の構成を示す概略断面図である。図４の反射防止膜Ｃ４は、後述の第４の数値実施例（図２１〜図２４）に対応している。

反射防止膜Ｃ４は、光学基板１００の表面１００Ｓ上に設けられた合計１０層からなる多層膜であり、第１層１から第１０層１０までの各層が光学基板１００と反対側から順に積層されたものである。なお、反射防止膜Ｃ４に関する以下の説明においては、上記第１〜第３の実施の形態における反射防止膜Ｃ１〜Ｃ３と実質的に異なる構成要素について主に記載し、同一の構成要素については適宜記載を省略する。

光学基板１００については、ｄ線に対して例えば１．７１以上２．０１以下の屈折率を示す透明材料、具体的にはＳＦ−１、ＳＦ−１４（独国ショット社）、あるいはＳ−ＬＡＨ７９（オハラ社）などによって構成することが望ましい。

第１層１および第４層４は、ｄ線に対して１．３５以上１．５０以下、特に１．３８以上１．３９以下の屈折率を示す低屈折率材料からなる低屈折率層である。また、第３層３、第５層５、第７層７および第９層９は、ｄ線に対して１．５５以上１．８５以下、特に１．６２以上１．６３以下の屈折率を示す中間屈折率材料からなる中間屈折率層である。さらに、第２層２、第６層６、第８層８および第１０層１０は、ｄ線に対して１．７０以上２．５０以下、特に２．０９以上２．１０以下の範囲において中間屈折率材料よりも高い屈折率を示す高屈折率材料からなる高屈折率層である。

第１層１から第６層６については、上記した条件式（１）〜（６）を全て満足することが望ましい。

また、第７層７から第１０層１０については、以下の条件式（２１）〜（２４）全てを
満足することが望ましい。
０．０８×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．１２×λ０ …… （２１）
０．１１×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１７×λ０ …… （２２）
０．０７×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１８×λ０ …… （２３）
０．０４×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．０９×λ０ …… （２４）

このように、本実施の形態の反射防止膜Ｃ４によれば、各々所定範囲の屈折率を示す第１層１〜第１０層１０を光学基板１００と反対側（すなわち空気側）から順に積層するようにしたので、比較的少ない積層数でありながら、より広い波長帯に亘って反射率を十分に低減することができる。具体的には、少なくとも３００ｎｍの幅をなす波長帯において０．１５％以下の反射率に抑えることができる。さらに、各条件式（１）〜（６），（２１）〜（２４）を満たすことにより光学膜厚Ｎ・ｄの最適化を図るようにしたので、上記の効果をよりいっそう高めることができる。したがって、上記第１の実施の形態の反射防止膜Ｃ１と同様の効果が得られる。

［第５の実施の形態］
図５は、本発明における第５の実施の形態としての反射防止膜Ｃ５の構成を示す概略断面図である。図５の反射防止膜Ｃ５は、後述の第５の数値実施例（図２５〜図３２）に対応している。

反射防止膜Ｃ５は、光学基板１００の表面１００Ｓ上に設けられた合計９層からなる多層膜であり、第１層１から第９層９までの各層が、光学基板１００と反対側から順に積層されたものである。なお、反射防止膜Ｃ５に関する以下の説明においては、上記第１〜第４の実施の形態における反射防止膜Ｃ１〜４と実質的に異なる構成要素について主に記載し、同一の構成要素については適宜記載を省略する。

光学基板１００については、ｄ線に対して例えば１．７１以上１．８９以下の屈折率を示す透明材料、具体的にはＳＦ１、ＳＦ１４、ＳＦ６（独国ショット社）、ＬＡＳＦ−Ｎ１７（オハラ社）、ＮＢＦＤ１３（ＨＯＹＡ社）などによって構成することが望ましい。

第１層１および第４層４は、ｄ線に対して１．３５以上１．５０以下、特に１．３８以上１．３９以下の屈折率を示す低屈折率材料からなる低屈折率層である。また、第３層３、第５層５、第７層７および第９層９は、ｄ線に対して１．５５以上１．８５以下、特に１．６２以上１．６３以下の屈折率を示す中間屈折率材料からなる中間屈折率層である。さらに、第２層２、第６層６および第８層８は、ｄ線に対して１．７０以上２．５０以下、特に２．０９以上２．１０以下の範囲において中間屈折率材料よりも高い屈折率を示す高屈折率材料からなる高屈折率層である。

また、第７層７から第９層９については、以下の条件式（２５）〜（２７）を全て満足することが望ましい。
０．０８×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．１２×λ０ …… （２５）
０．０７×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１５５×λ０ …… （２６）
０．０６×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１２×λ０ …… （２７）

このように、本実施の形態の反射防止膜Ｃ５によれば、各々所定範囲の屈折率を示す第１層１〜第９層９を光学基板１００と反対側（すなわち空気側）から順に積層するようにしたので、比較的少ない積層数でありながら、より広い波長帯に亘って反射率を十分
に低減することができる。具体的には、少なくとも３００ｎｍの幅をなす波長帯において０．１５％以下の反射率に抑えることができる。さらに、各条件式（１）〜（６），（２５）〜（２７）を満たすことにより光学膜厚Ｎ・ｄの最適化を図るようにしたので、上記の効果をよりいっそう高めることができる。したがって、上記第１の実施の形態の反射防止膜Ｃ１と同様の効果が得られる。

［第６の実施の形態］
図６は、本発明における第６の実施の形態としての反射防止膜Ｃ６の構成を示す概略断面図である。図６の反射防止膜Ｃ６は、後述の第６の数値実施例（図３３〜図３５）に対応している。

反射防止膜Ｃ６は、光学基板１００の表面１００Ｓ上に設けられた合計８層からなる多層膜であり、第１層１から第８層８までの各層が、光学基板１００と反対側から順に積層されたものである。なお、反射防止膜Ｃ６に関する以下の説明においては、上記第１〜第５の実施の形態における反射防止膜Ｃ１〜５と実質的に異なる構成要素について主に記載し、同一の構成要素については適宜記載を省略する。

光学基板１００については、ｄ線に対して例えば１．６６以上１．７７以下の屈折率を示す透明材料、具体的にはＢＡＳＦ−２、ＳＦ１、ＳＦ１４（独国ショット社）などによって構成することが望ましい。

第１層Ｌ１および第４層Ｌ４は、ｄ線に対して１．３５以上１．５０以下、特に１．３８以上１．３９以下の屈折率を示す低屈折率材料からなる低屈折率層である。また、第３層３、第５層５および第７層７は、ｄ線に対して１．５５以上１．８５以下、特に１．６２以上１．６３以下の屈折率を示す中間屈折率材料からなる中間屈折率層である。さらに、第２層２、第６層６および第８層８は、ｄ線に対して１．７０以上２．５０以下、特に２．０９以上２．１０以下の範囲において中間屈折率材料よりも高い屈折率を示す高屈折率材料からなる高屈折率層である。

また、第７層７および第８層８については、以下の条件式（２８），（２９）を共に満足することが望ましい。
０．０８×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．１１×λ０ …… （２８）
０．０５×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．０７×λ０ …… （２９）

このように、本実施の形態の反射防止膜Ｃ６によれば、各々所定範囲の屈折率を示す第１層１〜第８層８を光学基板８と反対側（すなわち空気側）から順に積層するようにしたので、比較的少ない積層数でありながら、より広い波長帯に亘って反射率を十分に低減することができる。具体的には、少なくとも３００ｎｍの幅をなす波長帯において０．１５％以下の反射率に抑えることができる。さらに、各条件式（１）〜（６），（２８），（２９）を満たすことにより光学膜厚Ｎ・ｄの最適化を図るようにしたので、上記の効果をよりいっそう高めることができる。したがって、上記第１の実施の形態の反射防止膜Ｃ１と同様の効果が得られる。

［第７の実施の形態］
図７は、本発明における第７の実施の形態としての反射防止膜Ｃ７の構成を示す概略断面図である。図７の反射防止膜Ｃ７は、後述の第７の数値実施例（図３６〜図３８）に対応している。

反射防止膜Ｃ７は、光学基板１００の表面１００Ｓ上に設けられた合計１１層からなる多層膜であり、第１層１から第１１層１１までの各層が、光学基板１００と反対側から順に積層されたものである。なお、反射防止膜Ｃ７に関する以下の説明においては、上記第１〜第６の実施の形態における反射防止膜Ｃ１〜６と実質的に異なる構成要素について主に記載し、同一の構成要素については適宜記載を省略する。

光学基板１００については、ｄ線に対して例えば１．６１以上１．７２以下の屈折率を示す透明材料、具体的にはＦ−３、ＢＡＳＦ−２、ＳＦ１（独国ショット社）などによって構成することが望ましい。

第１層１、第４層４および第９層９は、ｄ線に対して１．３５以上１．５０以下の屈折率を示す低屈折率材料からなる低屈折率層である。第１層１および第４層４はｄ線に対して特に１．３８以上１．３９以下の屈折率を示す低屈折率材料によって構成されていることが望ましく、第９層９はｄ線に対して特に１．４６以上１．４７以下の屈折率を示す低屈折率材料によって構成されていることが望ましい。また、第３層３、第５層５、第７層７および第１１層１１は、ｄ線に対して１．５５以上１．８５以下、特に１．６２以上１．６３以下の屈折率を示す中間屈折率材料からなる中間屈折率層である。さらに第２層２、第６層６、第８層８および第１０層１０は、ｄ線に対して１．７０以上２．５０以下、特に２．０９以上２．１０以下の範囲において中間屈折率材料よりも高い屈折率を示す高屈折率材料からなる高屈折率層である。

また、第７層７から第１１層１１については、以下の条件式（３０）〜（３４）を全て満足することが望ましい。
０．０４×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．０５×λ０ …… （３０）
０．０６×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１２×λ０ …… （３１）
０．０７×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１２×λ０ …… （３２）
０．０５×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．０６×λ０ …… （３３）
０．０４×λ０≦Ｎ１１・ｄ１１≦０．２６×λ０ …… （３４）

このように、本実施の形態の反射防止膜Ｃ７によれば、各々所定範囲の屈折率を示す第１層１〜第１１層１１を光学基板１００と反対側（すなわち空気側）から順に積層するようにしたので、比較的少ない積層数でありながら、より広い帯域において優れた光透過性を発揮し、反射率を十分に低減することができる。具体的には、少なくとも３００ｎｍの幅をなす波長域において０．１５％以下の反射率に抑えることができる。さらに、各条件式（１）〜（６），（３０）〜（３４）を満たすことにより光学膜厚Ｎ・ｄの最適化を図るようにしたので、上記の効果をよりいっそう高めることができる。したがって、上記第１の実施の形態の反射防止膜Ｃ１と同様の効果が得られる。

［第８の実施の形態］
図８は、本発明における第８の実施の形態としての反射防止膜Ｃ８の構成を示す概略断面図である。図８の反射防止膜Ｃ７は、後述の第８の数値実施例（図３９〜図４０）に対応している。

反射防止膜Ｃ８は、上記第７の実施の形態における反射防止膜Ｃ７と同様、光学基板１００の表面１００Ｓ上に設けられた合計１１層からなる多層膜であり、第１層１から第１１層１１までの各層が、光学基板１００と反対側から順に積層されたものである。なお、
反射防止膜Ｃ７に関する以下の説明においては、上記反射防止膜Ｃ７と実質的に異なる構成要素について主に記載し、同一の構成要素については適宜記載を省略する。

第１層１、第４層４、第９層９および第１１層１１は、ｄ線に対して１．３５以上１．５０以下の屈折率を示す低屈折率材料からなる低屈折率層である。第１層１および第４層４はｄ線に対して特に１．３８以上１．３９以下の屈折率を示す低屈折率材料によって構成されていることが望ましく、第９層９および第１１層１１はｄ線に対して特に１．４６以上１．４７以下の屈折率を示す低屈折率材料によって構成されていることが望ましい。また、第３層３、第５層５および第７層７は、ｄ線に対して１．５５以上１．８５以下、特に１．６２以上１．６３以下の屈折率を示す中間屈折率材料からなる中間屈折率層である。さらに、第２層２、第６層６、第８層８および第１０層１０は、ｄ線に対して１．７０以上２．５０以下、特に２．０９以上２．１０以下の範囲において中間屈折率材料よりも高い屈折率を示す高屈折率材料からなる高屈折率層である。

また、第７層７から第１１層１１については、以下の条件式（３５）〜（３９）を全て満足することが望ましい。
０．０３×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．０４×λ０ …… （３５）
０．１０×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１２×λ０ …… （３６）
０．１１×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１２×λ０ …… （３７）
０．０７×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．０９×λ０ …… （３８）
０．０８×λ０≦Ｎ１１・ｄ１１≦０．０９×λ０ …… （３９）

このように、本実施の形態の反射防止膜Ｃ８によれば、各々所定範囲の屈折率を示す第１層１〜第１１層１１を光学基板１００と反対側（すなわち空気側）から順に積層するようにしたので、比較的少ない積層数でありながら、より広い波長帯に亘って反射率を十分に低減することができる。具体的には、少なくとも３００ｎｍの幅をなす波長帯において０．１５％以下の反射率に抑えることができる。さらに、各条件式（１）〜（６），（３５）〜（３９）を満たすことにより光学膜厚Ｎ・ｄの最適化を図るようにしたので、上記の効果をよりいっそう高めることができる。したがって、上記第１の実施の形態の反射防止膜Ｃ１と同様の効果が得られる。

次に、本実施の形態に係る反射防止膜の具体的な数値実施例について説明する。

＜第１の数値実施例＞
第１の数値実施例（実施例１−１，１−２）を図９，図１０に示す。ここで図９（Ａ），および図１０（Ａ）が、図１に示した反射防止膜Ｃ１に対応する実施例１−１，１−２の基本データをそれぞれ示している。さらに、図９（Ｂ）および図１０（Ｂ）が、実施例１−１，１−２の反射率分布をそれぞれ示している。

図９（Ａ）および図１０（Ａ）には、各層の構成材料、ｄ線に対する屈折率Ｎ、物理的膜厚ｄ（単位：ｎｍ）および光学膜厚（単位：ｎｍ）をそれぞれ示す。構成材料の欄における「ｓｕｂ−ｈ４」は、ＬａＴｉＯ₃を主成分とするサブスタンスＨ４（独国メルク社
）を表している。また光学膜厚Ｎ・ｄの欄に示した中心波長λ０については全て４８０ｎｍとした。各図から明らかなように、各層の屈折率Ｎおよび光学膜厚Ｎ・ｄの値は条件式（１）〜（１０）を全て満足している。一方、図９（Ｂ）および図１０（Ｂ）では、縦軸を反射率（％）とし、横軸を測定時の波長λ（ｎｍ）とし、各実施例における反射率（％）の波長依存性を示している。各図から明らかなように、おおよそ４００ｎｍから７００ｎｍの波長帯において反射率が０．０５％〜０．１５％の範囲内に収まっている。

＜第２の数値実施例＞
第２の数値実施例（実施例２−１〜２−８）を図１１〜図１８に示す。

図１１（Ａ），図１２（Ａ），図１３（Ａ），図１４（Ａ），図１５（Ａ），図１６（Ａ），図１７（Ａ），図１８（Ａ）が、図２に示した反射防止膜Ｃ２に対応する実施例２−１〜２−８の基本データをそれぞれ示している。光学膜厚Ｎ・ｄの欄に示した中心波長λ０については全て４８０ｎｍとした。また、最も基板側の第１０層については、実施例２−１〜２−３ではＹ₂Ｏ₃によって構成し、実施例２−４〜２−８ではサブスタンスＨ４（独国メルク社）によって構成している。各図から明らかなように、各層の屈折率Ｎおよび光学膜厚Ｎ・ｄの値は条件式（１）〜（６）および（１１）〜（１４）を全て満足している。

一方、図１１（Ｂ），図１２（Ｂ），図１３（Ｂ），図１４（Ｂ），図１５（Ｂ），図１６（Ｂ），図１７（Ｂ），図１８（Ｂ）が、実施例２−１〜２−８の反射率分布をそれぞれ示している。各図から明らかなように、おおよそ４００ｎｍから７００ｎｍの波長帯において反射率が０．０５％〜０．１５％の範囲内に収まっている。

＜第３の数値実施例＞
図３に示した反射防止膜Ｃ３に対応する第３の数値実施例（実施例３−１，３−２）を図１９および図２０に示す。

図１９（Ａ）および図２０（Ａ）が、実施例３−１，３−２の基本データをそれぞれ示している。光学膜厚Ｎ・ｄの欄に示した中心波長λ０については全て４８０ｎｍとした。各図から明らかなように、各層の屈折率Ｎおよび光学膜厚Ｎ・ｄの値は条件式（１）〜（６）および（１５）〜（２０）を全て満足している。

一方、図１９（Ｂ）および図２０（Ｂ）が、実施例３−１，３−２の反射率分布をそれぞれ示している。各図から明らかなように、おおよそ４００ｎｍから７００ｎｍの波長帯において反射率が０．０５％〜０．１５％の範囲内に収まっている。

＜第４の数値実施例＞
第４の数値実施例（実施例４−１〜４−４）を図２１〜図２４に示す。

図２１（Ａ），図２２（Ａ），図２３（Ａ）および図２４（Ａ）が、図４に示した反射防止膜Ｃ４に対応する実施例４−１〜４−４の基本データをそれぞれ示している。光学膜厚Ｎ・ｄの欄に示した中心波長λ０については実施例４−１〜４−３では４８０ｎｍとし、実施例４−４では６９０ｎｍとした。各図から明らかなように、各層の屈折率Ｎおよび光学膜厚Ｎ・ｄの値は条件式（１）〜（６）および（２１）〜（２４）を全て満足している。

一方、図２１（Ｂ），図２２（Ｂ），図２３（Ｂ）および図２４（Ｂ）が、実施例４−１〜４−４の反射率分布をそれぞれ示している。各図から明らかなように、実施例４−１〜４−３では、おおよそ４００ｎｍから７００ｎｍの波長帯において反射率がほぼ０．１５％以下に収まっており、実施例４−４では、おおよそ５５０ｎｍから１０００ｎｍの波長帯において反射率がほぼ０．１５％以下に収まっている。

＜第５の数値実施例＞
第５の数値実施例（実施例５−１〜５−８）を図２５〜図３２に示す。

図２５（Ａ），図２６（Ａ），図２７（Ａ），図２８（Ａ），図２９（Ａ），図３０（Ａ），図３１（Ａ）および図３２（Ａ）が、図５に示した反射防止膜Ｃ５に対応する実施例５−１〜５−８の基本データをそれぞれ示している。光学膜厚Ｎ・ｄの欄に示した中心波長λ０については、実施例５−１〜５−６では４８０ｎｍとし、実施例５−７，５−８では６９０ｎｍとした。各図から明らかなように、各層の屈折率Ｎおよび光学膜厚Ｎ・ｄの値は条件式（１）〜（６）および（２５）〜（２７）を全て満足している。

一方、図２５（Ｂ），図２６（Ｂ），図２７（Ｂ），図２８（Ｂ），図２９（Ｂ），図３０（Ｂ），図３１（Ｂ）および図３２（Ｂ）が、実施例５−１〜５−８の反射率分布をそれぞれ示している。各図から明らかなように、実施例５−１〜５−６ではおおよそ４００ｎｍから７００ｎｍの波長帯において反射率が０．１５％以下に収まっており、実施例５−７および５−８ではおおよそ５５０ｎｍから１０００ｎｍの波長帯において反射率が０．０５％〜０．１５％の範囲内に収まっている。

＜第６の数値実施例＞
第６の数値実施例（実施例６−１〜６−３）を図３３〜図３５に示す。

図３３（Ａ），図３４（Ａ）および図３５（Ａ）が、図６に示した反射防止膜Ｃ６に対応する実施例６−１〜６−３の基本データをそれぞれ示している。光学膜厚Ｎ・ｄの欄に示した中心波長λ０については、全て４８０ｎｍとした。各図から明らかなように、各層の屈折率Ｎおよび光学膜厚Ｎ・ｄの値は条件式（１）〜（６），（２８），（２９）を全て満足している。

一方、図３３（Ｂ），図３４（Ｂ）および図３５（Ｂ）が、実施例６−１〜６−３の反射率分布をそれぞれ示している。各図から明らかなように、おおよそ４００ｎｍから７００ｎｍの波長帯において反射率が０．１５％以下に収まっている。

＜第７の数値実施例＞
第７の数値実施例（実施例７−１〜７−３）を図３６〜図３８に示す。

図３６（Ａ），図３７（Ａ）および図３８（Ａ）が、図７に示した反射防止膜Ｃ７に対応する実施例７−１〜７−３の基本データをそれぞれ示している。光学膜厚Ｎ・ｄの欄に示した中心波長λ０については、全て４８０ｎｍとした。各図から明らかなように、各層の屈折率Ｎおよび光学膜厚Ｎ・ｄの値は条件式（１）〜（６）および（３０）〜（３４）を全て満足している。

一方、図３６（Ｂ），図３７（Ｂ）および図３８（Ｂ）が、実施例７−１〜７−３の反射率分布をそれぞれ示している。各図から明らかなように、おおよそ４００ｎｍから７００ｎｍの波長帯において反射率が０．１５％以下に収まっている。

＜第８の数値実施例＞
第８の数値実施例（実施例８−１，８−２）を図３９および図４０に示す。

図３９（Ａ）および図４０（Ａ）が、図８に示した反射防止膜Ｃ８に対応する実施例８−１，８−２の基本データをそれぞれ示している。光学膜厚Ｎ・ｄの欄に示した中心波長λ０については、全て４８０ｎｍとした。各図から明らかなように、各層の屈折率Ｎおよ
び光学膜厚Ｎ・ｄの値は条件式（１）〜（６）および（３５）〜（３９）を全て満足している。

一方、図３９（Ｂ）および図４０（Ｂ）が、実施例８−１，８−２の反射率分布をそれぞれ示している。各図から明らかなように、おおよそ４００ｎｍから７００ｎｍの波長帯において反射率が０．１５％以下に収まっている。

以上の各基本データおよび各反射率分布図から明らかなように、各実施例において極めて良好な反射率分布が発揮されている。すなわち、本発明の反射防止膜によれば、所定の波長帯における反射率を十分に低減し、かつ、その反射率の分布を十分に平坦化することが可能なことが確認された。

以上、実施の形態および実施例を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態および実施例に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、各層および各基板の屈折率および光学膜厚の値は、上記各数値実施例で示した値に限定されず、他の値をとり得るものである。また、各層および各基板を構成する材料種についても上記各数値実施例で示したものに限定されず、他の材料種を利用することが可能である。

さらに、各層を、等価膜理論に基づき、複数の膜によって構成してもよい。すなわち、２種類の屈折率膜を対称に積層することにより、光学的に単層として振る舞うように構成してもよい。

本発明における第１の実施の形態としての反射防止膜の断面図である。本発明における第２の実施の形態としての反射防止膜の断面図である。本発明における第３の実施の形態としての反射防止膜の断面図である。本発明における第４の実施の形態としての反射防止膜の断面図である。本発明における第５の実施の形態としての反射防止膜の断面図である。本発明における第６の実施の形態としての反射防止膜の断面図である。本発明における第７の実施の形態としての反射防止膜の断面図である。本発明における第８の実施の形態としての反射防止膜の断面図である。図１に示した反射防止膜に対応する実施例１−１の基本データおよび反射率分布図である。図１に示した反射防止膜に対応する実施例１−２の基本データおよび反射率分布図である。図２に示した反射防止膜に対応する実施例２−１の基本データおよび反射率分布図である。図２に示した反射防止膜に対応する実施例２−２の基本データおよび反射率分布図である。図２に示した反射防止膜に対応する実施例２−３の基本データおよび反射率分布図である。図２に示した反射防止膜に対応する実施例２−４の基本データおよび反射率分布図である。図２に示した反射防止膜に対応する実施例２−５の基本データおよび反射率分布図である。図２に示した反射防止膜に対応する実施例２−６の基本データおよび反射率分布図である。図２に示した反射防止膜に対応する実施例２−７の基本データおよび反射率分布図である。図２に示した反射防止膜に対応する実施例２−８の基本データおよび反射率分布図である。図３に示した反射防止膜に対応する実施例３−１の基本データおよび反射率分布図である。図３に示した反射防止膜に対応する実施例３−２の基本データおよび反射率分布図である。図４に示した反射防止膜に対応する実施例４−１の基本データおよび反射率分布図である。図４に示した反射防止膜に対応する実施例４−２の基本データおよび反射率分布図である。図４に示した反射防止膜に対応する実施例４−３の基本データおよび反射率分布図である。図４に示した反射防止膜に対応する実施例４−４の基本データおよび反射率分布図である。図５に示した反射防止膜に対応する実施例５−１の基本データおよび反射率分布図である。図５に示した反射防止膜に対応する実施例５−２の基本データおよび反射率分布図である。図５に示した反射防止膜に対応する実施例５−３の基本データおよび反射率分布図である。図５に示した反射防止膜に対応する実施例５−４の基本データおよび反射率分布図である。図５に示した反射防止膜に対応する実施例５−５の基本データおよび反射率分布図である。図５に示した反射防止膜に対応する実施例５−６の基本データおよび反射率分布図である。図５に示した反射防止膜に対応する実施例５−７の基本データおよび反射率分布図である。図５に示した反射防止膜に対応する実施例５−８の基本データおよび反射率分布図である。図６に示した反射防止膜に対応する実施例６−１の基本データおよび反射率分布図である。図６に示した反射防止膜に対応する実施例６−２の基本データおよび反射率分布図である。図６に示した反射防止膜に対応する実施例６−３の基本データおよび反射率分布図である。図７に示した反射防止膜に対応する実施例７−１の基本データおよび反射率分布図である。図７に示した反射防止膜に対応する実施例７−２の基本データおよび反射率分布図である。図７に示した反射防止膜に対応する実施例７−３の基本データおよび反射率分布図である。図８に示した反射防止膜に対応する実施例８−１の基本データおよび反射率分布図である。図８に示した反射防止膜に対応する実施例８−２の基本データおよび反射率分布図である。

符号の説明

１〜１２…第１層〜第１２層、Ｃ１〜Ｃ８…反射防止膜、１００…光学基板、１００Ｓ…表面。

Claims

基板上に設けられ、前記基板と反対側から順に積層された第１層から第８層を少なくとも含む反射防止膜であって、
第１層および第４層は、ｄ線に対して１．３５以上１．５０以下の屈折率を示す低屈折率材料からなり、
第３層および第５層は、ｄ線に対して１．５５以上１．８５以下の屈折率を示す中間屈折率材料からなり、
第２層および第６層は、ｄ線に対して１．７０以上２．５０以下の範囲において前記中間屈折率材料よりも高い屈折率を示す高屈折率材料からなる
ことを特徴とする反射防止膜。
さらに、以下の条件式（１）〜（６）を全て満足することを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜。
０．２５×λ０≦Ｎ１・ｄ１≦０．２７×λ０ …… （１）
０．４８×λ０≦Ｎ２・ｄ２≦０．５０×λ０ …… （２）
０．２０×λ０≦Ｎ３・ｄ３≦０．２３×λ０ …… （３）
０．０８×λ０≦Ｎ４・ｄ４≦０．０９×λ０ …… （４）
０．２７×λ０≦Ｎ５・ｄ５≦０．３０×λ０ …… （５）
０．４１×λ０≦Ｎ６・ｄ６≦０．６０×λ０ …… （６）
ただし、
λ０：中心波長
Ｎ１〜Ｎ６：第１層から第６層における中心波長λ０に対する屈折率
ｄ１〜ｄ６：第１層から第６層における物理的膜厚
前記第７層が前記中間屈折率材料からなり、前記第８層が前記高屈折率材料からなる
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の反射防止膜。
さらに、以下の条件式（７）および（８）を共に満足することを特徴とする請求項３に記載の反射防止膜。
０．０３×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．１３×λ０ …… （７）
０．０５×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１１×λ０ …… （８）
ただし、
λ０：中心波長
Ｎ７，Ｎ８：第７層および第８層における中心波長λ０に対する屈折率
ｄ７，ｄ８：第７層および第８層における物理的膜厚
さらに、前記第８層の基板側に、前記低屈折率材料からなる第９層と、前記中間屈折率材料からなる第１０層とが順に積層されている
ことを特徴とする請求項３または請求項４に記載の反射防止膜。
さらに、以下の条件式（９）および（１０）を共に満足することを特徴とする請求項５に記載の反射防止膜。
０．０８×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．０９×λ０ …… （９）
０．０９×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．１４×λ０ …… （１０）
ただし、
λ０：中心波長
Ｎ９，Ｎ１０：第９層および第１０層における中心波長λ０に対する屈折率
ｄ９，ｄ１０：第９層および第１０層における物理的膜厚
前記基板は、ｄ線に対して１．４３以上１．５８以下の屈折率を示すことを特徴とする請求項４から請求項６のいずれか１項に記載の反射防止膜。
さらに、以下の条件式（１１）および（１２）を共に満足することを特徴とする請求項３に記載の反射防止膜。
０．０３×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．０４×λ０ …… （１１）
０．０６×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１１×λ０ …… （１２）
ただし、
λ０：中心波長
Ｎ７，Ｎ８：第７層および第８層における中心波長λ０に対する屈折率
ｄ７，ｄ８：第７層および第８層における物理的膜厚
さらに、前記第８層の基板側に、前記低屈折率材料からなる第９層と、前記高屈折率材料からなる第１０層とが順に積層されている
ことを特徴とする請求項３または請求項８に記載の反射防止膜。
さらに、以下の条件式（１３）および（１４）を共に満足することを特徴とする請求項９に記載の反射防止膜。
０．０８×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１４×λ０ …… （１３）
０．０４×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．１０×λ０ …… （１４）
ただし、
λ０：中心波長
Ｎ９，Ｎ９：第９層および第１０層における中心波長λ０に対する屈折率
ｄ１０，ｄ１０：第９層および第１０層における物理的膜厚
前記基板は、ｄ線に対して１．４３以上１．６２以下の屈折率を示すことを特徴とする請求項８から請求項１０のいずれか１項に記載の反射防止膜。
さらに、以下の条件式（１５）および（１６）を共に満足することを特徴とする請求項３に記載の反射防止膜。
０．０３×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．０４×λ０ …… （１５）
０．１０×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１２×λ０ …… （１６）
ただし、
λ０：中心波長
Ｎ７，Ｎ８：第７層および第８層における中心波長λ０に対する屈折率
ｄ７，ｄ８：第７層および第８層における物理的膜厚
さらに、前記第８層の基板側に、前記低屈折率材料からなる第９層と、前記高屈折率材料からなる第１０層と、前記低屈折率材料からなる第１１層と、前記高屈折率材料からなる第１２層とが順に積層されている
ことを特徴とする請求項３または請求項１２に記載の反射防止膜。
さらに、以下の条件式（１７）から（２０）を全て満足することを特徴とする請求項１３に記載の反射防止膜。
０．１０×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１１×λ０ …… （１７）
０．１０×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．１１×λ０ …… （１８）
０．１３×λ０≦Ｎ１１・ｄ１１≦０．１６×λ０ …… （１９）
０．０４×λ０≦Ｎ１２・ｄ１２≦０．０５×λ０ …… （２０）
ただし、
λ０：中心波長
Ｎ９〜Ｎ１２：第９層から第１２層における中心波長λ０に対する屈折率
ｄ９〜ｄ１２：第９層から第１２層における物理的膜厚
前記基板は、ｄ線に対して１．６１以上１．６７以下の屈折率を示すことを特徴とする請求項１２から請求項１４のいずれか１項に記載の反射防止膜。
さらに、以下の条件式（２１）および（２２）を共に満足することを特徴とする請求項３に記載の反射防止膜。
０．０８×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．１２×λ０ …… （２１）
０．１１×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１７×λ０ …… （２２）
ただし、
λ０：中心波長
Ｎ７，Ｎ８：第７層および第８層における中心波長λ０に対する屈折率
ｄ７，ｄ８：第７層および第８層における物理的膜厚
さらに、前記第８層の基板側に、前記中間屈折率材料からなる第９層と、前記高屈折率材料からなる第１０層とが順に積層されている
ことを特徴とする請求項３または請求項１６に記載の反射防止膜。
さらに、以下の条件式（２３）および（２４）を共に満足することを特徴とする請求項１７に記載の反射防止膜。
０．０７×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１８×λ０ …… （２３）
０．０４×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．０９×λ０ …… （２４）
ただし、
λ０：中心波長
Ｎ９，Ｎ１０：第９層および第１０層における中心波長λ０に対する屈折率
ｄ９，ｄ１０：第９層および第１０層における物理的膜厚
前記基板は、ｄ線に対して１．７１以上２．０１以下の屈折率を示すことを特徴とする請求項１６から請求項１８のいずれか１項に記載の反射防止膜。
さらに、以下の条件式（２５）および（２６）を共に満足することを特徴とする請求項３に記載の反射防止膜。
０．０８×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．１２×λ０ …… （２５）
０．０７×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１５５×λ０ …… （２６）
ただし、
λ０：中心波長
Ｎ７，Ｎ８：第７層および第８層における中心波長λ０に対する屈折率
ｄ７，ｄ８：第７層および第８層における物理的膜厚
さらに、前記第８層の基板側に、前記中間屈折率材料からなる第９層が積層されている
ことを特徴とする請求項３または請求項２０に記載の反射防止膜。
さらに、以下の条件式（２７）を満足することを特徴とする請求項２１に記載の反射防止膜。
０．０６×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１２×λ０ …… （２７）
ただし、
λ０：中心波長
Ｎ９：第９層における中心波長λ０に対する屈折率
ｄ９：第９層における物理的膜厚
前記基板は、ｄ線に対して１．７１以上１．８９以下の屈折率を示すことを特徴とする請求項２０から請求項２２のいずれか１項に記載の反射防止膜。
前記第１層から第８層のみからなり、以下の条件式（２８）および（２９）を共に満足することを特徴とする請求項３に記載の反射防止膜。
０．０８×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．１１×λ０ …… （２８）
０．０５×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．０７×λ０ …… （２９）
ただし、
λ０：中心波長
Ｎ７，Ｎ８：第７層および第８層における中心波長λ０に対する屈折率
ｄ７，ｄ８：第７層および第８層における物理的膜厚
前記基板は、ｄ線に対して１．６６以上１．７７以下の屈折率を示すことを特徴とする請求項２４に記載の反射防止膜。
さらに、以下の条件式（３０）および（３１）を共に満足することを特徴とする請求項３に記載の反射防止膜。
０．０４×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．０５×λ０ …… （３０）
０．０６×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１２×λ０ …… （３１）
ただし、
λ０：中心波長
Ｎ７，Ｎ８：第７層および第８層における中心波長λ０に対する屈折率
ｄ７，ｄ８：第７層および第８層における物理的膜厚
さらに、前記第８層の基板側に、前記低屈折率材料からなる第９層と、前記高屈折率材料からなる第１０層と、前記中間屈折率材料からなる第１１層とが順に積層されている
ことを特徴とする請求項３または請求項２６に記載の反射防止膜。
さらに、以下の条件式（３２）から（３４）を全て満足することを特徴とする請求項２７に記載の反射防止膜。
０．０７×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１２×λ０ …… （３２）
０．０５×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．０６×λ０ …… （３３）
０．０４×λ０≦Ｎ１１・ｄ１１≦０．２６×λ０ …… （３４）
ただし、
λ０：中心波長
Ｎ９〜Ｎ１１：第９層から第１１層における中心波長λ０に対する屈折率
ｄ９〜ｄ１１：第９層から第１１層における物理的膜厚
前記基板は、ｄ線に対して１．６１以上１．７２以下の屈折率を示すことを特徴とする請求項２６から請求項２８のいずれか１項に記載の反射防止膜。
さらに、以下の条件式（３５）および（３６）を共に満足することを特徴とする請求項３に記載の反射防止膜。
０．０３×λ０≦Ｎ７・ｄ７≦０．０４×λ０ …… （３５）
０．１０×λ０≦Ｎ８・ｄ８≦０．１２×λ０ …… （３６）
ただし、
λ０：中心波長
Ｎ７，Ｎ８：第７層および第８層における中心波長λ０に対する屈折率
ｄ７，ｄ８：第７層および第８層における物理的膜厚
さらに、前記第８層の基板側に、前記低屈折率材料からなる第９層と、前記高屈折率材料からなる第１０層と、前記低屈折率材料からなる第１１層とが順に積層されている
ことを特徴とする請求項３または請求項３０に記載の反射防止膜。
さらに、以下の条件式（３７）から（３９）を全て満足することを特徴とする請求項３１に記載の反射防止膜。
０．１１×λ０≦Ｎ９・ｄ９≦０．１２×λ０ …… （３７）
０．０７×λ０≦Ｎ１０・ｄ１０≦０．０９×λ０ …… （３８）
０．０８×λ０≦Ｎ１１・ｄ１１≦０．０９×λ０ …… （３９）
ただし、
λ０：中心波長
Ｎ９〜Ｎ１１：第９層から第１１層における中心波長λ０に対する屈折率
ｄ９〜ｄ１１：第９層から第１１層における物理的膜厚
前記基板は、ｄ線に対して１．６１以上１．６７以下の屈折率を示すことを特徴とする請求項３０から請求項３２のいずれか１項に記載の反射防止膜。
前記低屈折率材料は、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ₂）、二酸化珪素（ＳｉＯ₂）およびフッ化アルミニウム（ＡｌＦ₃）のうちの少なくとも１種を含むものであり、
前記中間屈折率材料は、酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ₂）および酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）のうちの少なくとも１種を含むものであり、
前記高屈折率材料は、チタン酸ランタン（ＬａＴｉＯ₃）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）、酸化チタン（ＴｉＯ₂）、酸化タンタル（Ｔａ₂Ｏ₅）、酸化ニオブ（Ｎｂ₂Ｏ₅）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ₂）および酸化セリウム（ＣｅＯ₂）のうちの少なくとも１種を含むものである
ことを特徴とする請求項１から請求項３３のいずれか１項に記載の反射防止膜。