JP2007212710A - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】透過表示領域と反射表示領域とを有する電気光学装置において、それらの領域の境界に在る傾斜部からの光漏れを防止する。
【解決手段】液晶層１２を挟持する一対の基板７ａ及び８ａと、基板８ａ上に設けられた光反射膜３２と、基板７ａと光反射膜３２との間に設けられた着色膜３３と、基板８ａ上に設けられた層厚調整膜３５とを有する電気光学装置である。この電気光学装置は、光反射膜３２によって反射した反射光Ｌ０を用いて表示を行う反射表示領域Ｒと、光反射膜３２が無い領域を透過した光Ｌ１を用いて着色膜３３によってカラー表示を行う透過表示領域Ｔとを備える複数のサブ画素Ｄを有し、層厚調整膜３５は透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒの境界に傾斜部Ｓを有し、傾斜部Ｓに対応する部分であって、光反射膜３２と基板７ａとの間には青色着色膜３７が設けられる。
【選択図】図２

Description

本発明は、液晶表示装置等の電気光学装置に関する。また、本発明は、その電気光学装置を用いて構成する電子機器に関する。

現在、携帯電話機、携帯情報端末機の各種の電子機器では、当該電子機器に関する各種の情報を視覚的に表示するための表示部として、電気光学装置が用いられている。この電気光学装置としては、例えば、電気光学物質である液晶によって光を変調することにより文字、数字、図形等の像を表示する液晶表示装置等が多く用いられている。液晶表示装置は、一般に、それぞれが電極を有する一対の基板間にシール材によって囲まれた空間を形成し、その空間内に液晶を封止する構造を有する。それらの電極を平面的に重ねて見ると、電極が重なる領域が行方向及び列方向にマトリクス状に並び、これらの各領域がサブ画素を構成する。サブ画素とは、表示が行われるときの表示の最小単位である。そして、個々のサブ画素内に存在する液晶に印加する電圧を画素ごとに制御して液晶の配向を制御することにより表示が行われる。

この液晶表示装置として、例えば半透過反射型の液晶表示装置がある。半透過反射型液晶表示装置では、光反射膜によって反射された反射光を用いて表示を行う反射表示領域と、光反射膜が無い領域を透過した透過光を用いて表示を行う透過表示領域とがサブ画素内に設けられる。

このような電気光学装置として、従来、基板上に設けられたカラーフィルタ上に、保護膜を設けたものが知られている（例えば、特許文献１参照）。この電気光学装置では、保護膜のうちの透過表示領域に対応する部分を除去することにより、透過表示領域と反射表示領域との間で液晶層の層厚を異ならせている。

特開２００４−３１００４８号公報（第５頁、図２）

特許文献１に開示された電気光学装置では、保護膜が除去された部分の端部、すなわち透過表示領域と反射表示領域との境界に傾斜部が形成されている。この傾斜部は、保護膜をパターニングするために行われるフォトリソグラフィ処理の際に形成されるものである。この傾斜部では液晶層の層厚が一定ではないので、傾斜部近傍の液晶の配向が乱れると、光反射膜で反射した光が傾斜部を通って漏れ出ることにより表示のコントラストが低下するおそれがあった。

本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、透過表示領域と反射表示領域とを有する電気光学装置において、傾斜部からの光漏れを防止することを目的とする。

本発明に係る電気光学装置は、電気光学物質を挟持する一対の基板と、該一対の基板のうちの一方の基板上に設けられた光反射膜と、前記一対の基板のうちの他方の基板と前記光反射膜との間に設けられた着色膜と、前記一対の基板の間に設けられた樹脂膜とを有する電気光学装置であって、（１）前記光反射膜によって反射した反射光を用いて表示を行う反射表示領域と、前記光反射膜が無い領域を透過した光を用いて前記着色膜によってカラー表示を行う透過表示領域とを備える複数のサブ画素を有し、（２）前記樹脂膜は前記透過表示領域と前記反射表示領域の境界に傾斜部を有し、（３）前記傾斜部に対応する部分であって、前記光反射膜と前記一対の基板のうちの他方の基板との間には青色の着色膜が設けられることを特徴とする。

本発明に係る電気光学装置は、透過表示領域と反射表示領域とを備えた、いわゆる半透過反射型の電気光学装置である。この半透過反射型の電気光学装置において、透過表示領域には着色膜が設けられている。一方、反射表示領域には着色膜が設けられていない。すなわち、本発明に係る電気光学装置は、透過型表示では着色膜によってカラー表示が行われ、反射型表示では白黒表示が行われる電気光学装置である。

上記の電気光学装置において、例えば、透過表示領域に対応する部分の樹脂膜を除去するようにその樹脂膜をパターニングすれば、一対の基板間の間隔、すなわち一対の基板間に挟持された電気光学物質の層の厚み、いわゆるセルギャップを透過表示領域と反射表示領域とで異ならせることができる。このように透過表示領域と反射表示領域との間でセルギャップを異ならせる構造が、いわゆるマルチギャップ構造である。本発明に係る電気光学装置において、樹脂膜が有する傾斜部は、例えば、マルチギャップ構造を形成する樹脂膜をパターニングする際に行われるフォトリソグラフィ処理によって形成されるものである。

本発明に係る電気光学装置では、透過表示領域と反射表示領域の境界の樹脂膜に形成された傾斜部に対応する部分であって、一対の基板のうちの一方の基板上に設けられた光反射膜と他方の基板との間に青色の着色膜を設けることにした。これにより、光反射膜で反射した後に傾斜部を通る光を青色光とすることができる。このような青色光は電気光学装置の表示において黒に近い色に視認できるので、遮光部材を設けて傾斜部を遮光する場合と同様の効果を得ることができる。それ故、電気光学装置の表示のコントラストが低下することを防止できる。

また、光反射膜で反射する光はその光反射膜の材料である金属の色、例えば黄色に色づく傾向にある。そのため、反射光を用いて表示を行う反射型表示においては、その表示が黄色味をおびることがある。本発明の電気光学装置では、光反射膜で反射して傾斜部を通る光を青色着色膜により青色光とすることができるので、反射型表示、特に白表示において光反射膜に起因して表示が色づくこと、例えば表示が黄色に色づくことを防止できる。また、傾斜部に対応して設けられる青色着色膜は、透過表示領域に設けられる他の着色膜と同じ材料を用いて同時に形成することができるので、遮光部材を別途設ける必要がなくなる。

次に、本発明に係る電気光学装置において、前記青色の着色膜には他の色の着色膜を平面的に重ねて設けることができる。ここで、他の色の着色膜としては、青色と共に基板上にカラーフィルタを形成する着色膜、例えば緑色又は赤色の着色膜が考えられる。このように青色着色膜と他の色の着色膜とが重なる構成は、例えば、青色着色膜と他の色の着色膜とが重なるようにそれらをパターニングすることにより実現できる。または、傾斜部に対応して設けられた青色着色膜と、当該青色着色膜と同一平面上に設けられた他の色の着色膜とが不可避的に重なる場合がある。具体的には、青色以外の色の着色膜をフォトリソグラフィ処理によってパターニングするときに、これらのフォトリソグラフィ処理の位置が所期の位置からずれた場合に、他色の着色膜の一部と青色着色膜の一部とが重なる場合がある。

上記のように、青色着色膜と他の色の着色膜とが平面的に重なった場合には、その重なった部分が略黒色の着色膜になる。従って、傾斜部に対応する部分には黒色の着色膜が設けられることになる。こうなれば、傾斜部から青色以外の色の光、例えば赤色光や緑色光が漏れ出ることがなくなるので、反射型の表示において表示が赤色や緑色に色づくことを防止できる。

また、傾斜部に対応した位置において青色着色膜と他の色の着色膜とを重ねれば、光反射膜で反射した光は傾斜部において遮光されるので、傾斜部から光が漏れ出すことを防止できる。それ故、電気光学装置の表示のコントラストが低下することを防止できる。

次に、本発明に係る電気光学装置において、前記透過表示領域は前記サブ画素の中央に設けられ、前記反射表示領域は前記サブ画素内であって前記透過表示領域を挟んだ両側に設けられ、前記青色の着色膜は前記透過表示領域と前記反射表示領域との境界のうちの対向する２つの辺に沿って設けられることが望ましい。

電気光学装置を製造する際には、青色着色膜と光反射膜の相対的な位置にズレが発生するおそれがある。例えば、青色着色膜と光反射膜とが同一基板上に形成される場合には、光反射膜をフォトエッチング処理によってパターニングするときのズレ、又は青色着色膜をフォトリソグラフィ処理によってパターニングするときのズレにより青色着色膜と光反射膜の相対的な位置にズレが発生することが考えられる。また、一対の基板のうちの一方に光反射膜を形成し他方に青色着色膜を形成する場合には、一対の基板を組立てるときのズレにより青色着色膜と光反射膜の相対的な位置にズレが発生することが考えられる。

本発明態様によれば、透過表示領域と反射表示領域との境界のうちの対向する２つの辺に沿って青色着色膜を設けることにしたので、仮に青色着色膜と光反射膜との相対的な位置がずれた場合であっても、傾斜部に対応する位置においていずれか一方の青色着色膜が光反射膜に重なることができる。このように少なくとも一方の青色着色膜が光反射膜に重なることができれば、光反射膜に起因する反射型表示の色づきを防止できる。

次に、本発明に係る電気光学装置において、前記青色着色膜の青色のＣＩＥ（Commission Internationale de l'Eclairage：国際照明委員会）色度図上における座標範囲は、
（ｘ，ｙ）＝（０．１３０〜０．２３０，０．０３０〜０．２５０）
であることが望ましい。この範囲の青色着色膜を用いれば、反射型表示において、白表示が黄色に色づくことを視覚的に補正できる。

次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の電気光学装置を有することを特徴とする。本発明に係る電気光学装置は、透過表示領域と反射表示領域の境界に位置する樹脂膜の傾斜部に対応する部分に青色の着色膜を設けることにより、光反射膜で反射して傾斜部を通る光を青色光とすることができる。青色光は電気光学装置の表示において黒に近い色に視認できるので、遮光部材を設けて傾斜部を遮光する場合と同様の効果を得ることで、電気光学装置の表示のコントラスト低下を防止できる。従って、本発明に係る電子機器においても、電子機器の表示のコントラスト低下を防止できる。

また、本発明に係る電気光学装置において、傾斜部に対応して設けられる青色着色膜は、光反射膜で反射して傾斜部を通る光を青色光とすることにより、反射型表示において、光反射膜に起因して表示が色づくこと、例えば表示が黄色に色づくことを防止できる。本発明に係る電子機器においても、その電子機器の表示が黄色に色づくことを防止できる。

（電気光学装置の第１実施形態）
以下、電気光学装置の一例として、半透過反射型でＴＦＤ（Thin Film Diode）駆動方式で反射型表示において白黒表示が可能で透過型表示においてカラー表示が可能な液晶表示装置に本発明を適用した場合を例に挙げて本発明の実施形態を説明する。また、本実施形態では、液晶モードとしてＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence：電界制御複屈折モード）を採用した液晶表示装置に本発明を適用するものとする。なお、本発明がその実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。また、これからの説明では必要に応じて図面を参照するが、複数の構成要素から成る構造のうち重要な構成要素をわかり易く示すため、各要素を実際とは異なった相対的な寸法で示している。

図１は、本発明に係る液晶表示装置全体の側面断面構造を示している。また、図２は、図１において矢印Ｚ１で示す部分を拡大して示している。図３は、図２の矢印Ａに従った平面構造を示している。なお、図２は、図３の緑色着色膜を通るＺ２−Ｚ２線、及び赤色着色膜を通るＺ３−Ｚ３線に従った断面図である。

図１において、電気光学装置としての液晶表示装置１は、電気光学パネルである液晶パネル２と、この液晶パネル２に付設された照明装置３とを有する。この液晶表示装置１に関しては矢印Ａが描かれた側が観察側であり、上記の照明装置３は液晶パネル２に関して観察側と反対側に配置されたバックライトとして機能する。

液晶パネル２は、矢印Ａ方向から見て長方形又は正方形で環状のシール材６によって互いに貼り合わされた一対の基板７及び８を有する。一方の基板７はスイッチング素子が形成される素子基板である。また、他方の基板８はカラーフィルタが形成されるカラーフィルタ基板である。本実施形態では、観察側に素子基板７が配置され、観察側から見て背面にカラーフィルタ基板８が配置している。

シール材６は素子基板７とカラーフィルタ基板８との間に間隙（セルギャップ）Ｇを形成する。シール材６はその一部に液晶注入口（図示せず）を有し、液晶注入口を介して素子基板７とカラーフィルタ基板８との間に電気光学物質である液晶が注入される。注入された液晶はセルギャップＧ内で電気光学物質層として液晶層１２を形成する。液晶注入口は液晶の注入が完了した後に樹脂によって封止される。液晶の注入方法としては、上記のような液晶注入口を通して行う方法以外に、液晶注入口を持たない連続する環状のシール材６によって囲まれる領域内に液晶を滴下する方法も採用できる。なお、本実施形態では、液晶材料に正の誘電異方性を有するネマティック液晶を用いることができる。

セルギャップＧの間隔である液晶層１２の層厚は、セルギャップＧ内に設けられる複数のスペーサ（図示せず）によって一定に維持される。このスペーサは、複数の球状の樹脂部材を素子基板７又はカラーフィルタ基板８の表面上にランダム（無秩序）に置くことによって形成できる。また、スペーサは、フォトリソグラフィ処理によって所定の位置に柱状に形成してもよい。

照明装置３は、光源としてのＬＥＤ（Light Emitting Diode）１３と、導光体１４とを有する。光源としては、ＬＥＤ等の点状光源以外に、冷陰極管等の線状光源を用いることもできる。導光体１４は、例えば、透光性を有する樹脂を材料とする成形加工によって形成され、ＬＥＤ１３に対向する側面が光入射面１４ａであり、液晶パネル２に対向する面が光出射面１４ｂである。矢印Ａで示す観察側から見て導光体１４の背面には、必要に応じて、光反射層１６を、導光体１４の光出射面１４ｂには光拡散層１７を設けている。

素子基板７は、第１の透光性基板７ａを有する。この第１透光性基板７ａは、例えば、透光性のガラス、プラスチック等によって形成される。第１透光性基板７ａの外側表面には偏光板１８ａが貼り付けられている。必要に応じて、偏光板１８ａ以外の光学要素、例えば位相差板を付加的に設けることもできる。他方、第１透光性基板７ａの内側表面には、矢印Ｚ１で示す部分の拡大図である図２にも示すように、データ線１９が列方向Ｙに延びて形成されている。そして、スイッチング素子として機能する非線形抵抗素子であるＴＦＤ（Thin Film Diode）素子２１がデータ線１９に接続して形成されている。データ線１９は複数本が紙面垂直方向（すなわち、行方向Ｘ）に間隔を空けて互いに平行に設けられ、ＴＦＤ素子２１は複数個が各データ線１９に沿って等間隔に設けられている。

また、基板７ａ上にはＴＦＤ素子２１に接続された画素電極２２が形成されている。１つの画素電極２２は矢印Ａ方向から見てドット状に形成されており、さらに、複数の画素電極２２が図１の矢印Ａ方向から見て行方向Ｘ及び列方向Ｙにマトリクス状に並べられている。これらの画素電極２２は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide：インジウムスズ酸化物）等といった金属酸化物をフォトエッチング処理によって所定のドット形状にパターニングして形成されている。

図２において、ＴＦＤ素子２１は、互いに電気的に直列につながれた一対のＴＦＤ要素２３ａ及び２３ｂによって形成されている。第１のＴＦＤ要素２３ａは、第１素子電極２４、絶縁膜２５、そして第２素子電極２６ａをその順で重ねることによって形成されている。また、第２のＴＦＤ要素２３ｂは、第１素子電極２４、絶縁膜２５、そして第２素子電極２６ｂをその順で重ねることによって形成されている。第１素子電極２４は、例えば、Ｔａ（タンタル）又はＴａ合金によって形成される。Ｔａ合金としては、例えば、ＴａＷ（タンタル・タングステン）を用いることができる。絶縁膜２５は、例えば、陽極酸化処理によって形成される。第２素子電極２６ａ，２６ｂは、例えばＣｒ（クロム）、ＭｏＷ（モリブデン・タングステン）合金によって形成される。

第１ＴＦＤ要素２３ａ内の第２素子電極２６ａは図３に示すようにデータ線１９から延びている。また、第２ＴＦＤ要素２３ｂ内の第２素子電極２６ｂは画素電極２２に接続されている。データ線１９から画素電極２２へ信号が伝送されるとき、第１ＴＦＤ要素２３ａと第２ＴＦＤ要素２３ｂは電気的に逆極性である２つのＴＦＤ要素が直列に接続されることになる。この構造はバック・ツー・バック（Back-to-Back）構造と呼ばれる。本実施形態では、バック・ツー・バック構造のＴＦＤ素子を用いたが、単一のＴＦＤ要素によってＴＦＤ素子を形成しても良い。

図２において、データ線１９、ＴＦＤ素子２１、及び画素電極２２を覆うように第１透光性基板７ａの上に配向膜２７ａが、例えば、ポリイミド等を印刷等によって塗布して形成される。そして、この配向膜２７ａにラビング処理が施されて、素子基板７の近傍の液晶層１２の配向が決められる。なお、本実施形態において、液晶分子の配向は、液晶に電界を印加していない状態で水平配向になるように設定されている。

図１において、素子基板７に対向するカラーフィルタ基板８は、矢印Ａ方向から見て長方形又は正方形の第２の透光性基板８ａを有する。この第２透光性基板８ａは、例えば、透光性のガラス、プラスチック等によって形成される。第２透光性基板８ａの外側表面には偏光板１８ｂ、偏光板１８ｂ以外の光学要素、例えば位相差板を付加的に設けることもできる。なお、偏光板１８ａと１８ｂとをクロスニコル配置としている。そして、液晶表示装置の表示モードは、ノーマリホワイトモード、すなわち液晶に電界を印加していない時に白表示になり、電界を印加している時に黒表示になる表示モードに設定されている。

第２透光性基板８ａの内側表面には、図２にも示すように、樹脂膜３１が形成され、その上に光反射膜３２と着色膜３３とが形成され、これら光反射膜３２及び着色膜３３の上に平坦化膜３４が形成されている。そして平坦化膜３４によって平坦化された表面に層厚調整膜３５が形成され、その上に帯状電極３６、配向膜２７ｂの順に形成されている。この配向膜２７ｂには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、素子基板７の近傍における液晶分子の配向が決められる。

樹脂膜３１、平坦化膜３４及び層厚調整膜３５は、例えば、透光性、感光性、及び絶縁性を有する樹脂、例えばアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等をフォトリソグラフィ処理によってパターニングして形成されている。また、光反射膜３２は、例えば、Ａｌ（アルミニウム）、Ａｌ合金等の光反射性材料をフォトエッチング処理によってパターニングして形成されている。

樹脂膜３１の表面には複数の凹部及び凸部が上記のフォトリソグラフィ処理の際に形成され、これらの凹部及び凸部によって凹凸パターンが形成されている。表面に凹凸パターンを備えた樹脂膜３１の表面上に一定膜厚の光反射膜３２を設けることにより、光反射膜３２に凹凸パターンを付与できる。こうして光反射膜３２に凹凸パターンを付与することにより、光反射膜３２で反射する光に散乱性、指向性等の光学特性を付与できる。

着色膜３３は、それらの個々が矢印Ａ方向から見て長方形又は正方形のドット状に形成され、さらに、複数個の着色膜３３が矢印Ａ方向から見て行方向Ｘ及び列方向Ｙにマトリクス状に並べられている。帯状電極３６は、例えば、ＩＴＯをフォトエッチング処理によって所定の帯形状にパターニングして形成される。１本の帯状電極３６は行方向Ｘ（図２の紙面垂直方向）に延びている。そして、複数の帯状電極３６が列方向Ｙ（図２の左右方向）に所定間隔をおいて互いに平行に並べられている。

液晶パネル２を矢印Ａ方向から見た場合、素子基板７上において行方向Ｘに並ぶ複数のドット状の画素電極２２と、カラーフィルタ基板８上において行方向Ｘへ延びる帯状電極３６とは、平面的に重なっている。両電極が重なる領域は表示のための最小単位であるサブ画素Ｄを構成する。図１において、複数のサブ画素Ｄが平面内で行方向Ｘ及び列方向Ｙにマトリクス状に並ぶことにより、表示領域Ｖが形成される。この表示領域Ｖ内に文字、数字、図形等の像が表示され、観察者は矢印Ａ方向から像を視認することになる。

図２において、光反射膜３２はサブ画素Ｄのうちの一部の領域Ｒに設けられており、残りの領域Ｔには設けられていない。図３に示すように、領域Ｔはサブ画素Ｄの略中央の四角形状の領域である。一方、領域Ｒはサブ画素Ｄ内であって領域Ｔを挟んで両側の領域である。光反射膜３２が存在する領域Ｒが反射表示領域であり、光反射膜３２が存在しない領域Ｔが透過表示領域である。図２において矢印Ａで示す観察側から入射した外部光Ｌ０は反射表示領域Ｒで反射する。こうして得られた反射光Ｌ０は光反射膜３２の凹凸パターンに従って散乱性又は指向性を有する。一方、図１の照明装置３の導光体１４から出射した図２の光Ｌ１は、透過表示領域Ｔを透過する。

層厚調整膜３５は反射表示領域Ｒに設けられており、透過表示領域Ｔには設けられていないので、反射表示領域Ｒ内の液晶層１２の層厚ｔ０は、透過表示領域Ｔ内の液晶層１２の層厚ｔ１よりも薄くなっている。望ましくはｔ０＝ｔ１／２とする方がよい。液晶層１２の層厚の調整は、反射表示領域Ｒ内で光Ｌ０が液晶層１２を２回通過する反射表示の場合と、透過表示領域Ｔ内で光Ｌ１が液晶層１２を１回しか通過しない透過表示の場合とで、液晶層１２のリタデーション（Δｎｄ）を均一にして鮮明な表示を得るために行われるものである。但し、“Δｎ”は屈折率異方性、“ｄ”は液晶層厚を示している。

次に、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの境界、すなわち、層厚調整膜３５の端部には、傾斜部Ｓが形成されている。この傾斜部Ｓは、層厚調整膜３５をパターニングする際のフォトリソグラフィ処理において不可避的に生じるものである。また、傾斜部Ｓは、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの境界における液晶配向の乱れを抑制するために意図的に設ける場合もある。また、傾斜部Ｓに平面視で重なる部分であって、光反射膜３２上には、青色の着色膜３７が設けられている。傾斜部Ｓと青色着色膜３７については、後に詳しく説明する。

次に、個々の着色膜３３は、１つのサブ画素Ｄのうちの透過表示領域Ｔに対応して配置され、さらに青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、赤色（Ｒ）の１つを通過させる光学的特性に設定されている。また、それら青色の着色膜３３Ｂ、緑色の着色膜３３Ｇ、及び赤色の着色膜３３Ｒは矢印Ａ方向から見て所定の配列、例えばストライプ配列に並べられている。ストライプ配列とは、列方向ＹにＢ，Ｇ，Ｒの同色が並び、それと直交する行方向ＸにＢ，Ｇ，Ｒが交互に順番に並ぶ配列である。

なお、着色膜３３の配列はストライプ配列以外の任意の配列とすることができ、例えば、モザイク配列、デルタ配列等とすることもできる。また、着色膜３３の光学的特性はＢ，Ｇ，Ｒの３色に限られず、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の３色を通過させる特性とすることもできる。

本実施形態のように、Ｂ，Ｇ，Ｒの３色から成る着色膜３３を用いてカラー表示を行う場合は、Ｂ，Ｇ，Ｒの３色に対応する３つの着色膜３３に対応する３つのサブ画素Ｄによって１つの画素が形成される。他方、白黒又は任意の２色でモノカラー表示を行う場合は、１つのサブ画素Ｄによって１つの画素が形成される。

次に、図１において、素子基板７を構成する第１透光性基板７ａはカラーフィルタ基板８の外側へ張り出す張出し部４１を有している。この張出し部４１の表面には、配線４２がフォトエッチング処理等によって形成されている。配線４２は矢印Ａ方向から見て複数本形成されており、それらの複数本が紙面垂直方向に沿って互いに間隔を空けて並べられている。また、張出し部４１の辺端には複数の外部接続用端子４３が紙面垂直方向に沿って互いに間隔を空けて並ぶように形成されている。これらの外部接続用端子４３が設けられた張出し部４１の辺端に、例えば、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuit：可撓性プリント回路）基板（図示せず）が接続される。

複数の配線４２は、シール材６に囲まれた領域内に向けて列方向Ｙに延びるように形成されている。配線４２の一部は、シール材６によって囲まれた領域内に向けて列方向Ｙに延びてデータ線１９に繋がっている。また、複数の配線４２の他の一部は、シール材６の中に含まれる導通材４４を介してカラーフィルタ基板８上の各帯状電極３６につながっている。

張出し部４１の表面には、ＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電膜）４５を用いたＣＯＧ（Chip On Glass）技術によって、駆動用ＩＣ４６が実装されている。駆動用ＩＣ４６は、データ線１９へデータ信号を伝送し、帯状電極３６へ走査信号を伝送する。駆動用ＩＣ４６は１つのＩＣチップで形成しても良いし、必要に応じて複数のＩＣチップで形成しても良い。駆動用ＩＣ４６を複数のＩＣチップによって構成する場合には、それらのＩＣチップは張出し部４１上で図１の紙面垂直方向に並べて実装される。

以上のように構成された液晶表示装置１によれば、液晶表示装置１が明るい室外、室内に置かれる場合は、太陽光や室内光等の外部光を用いて反射型の表示が行われる。一方、液晶表示装置１が暗い室外、室内に置かれる場合は、照明装置３をバックライトとして用いて透過型の表示が行われる。なお、本実施形態において、反射型の表示が行われる場合には、図２の光反射膜３２で反射する光Ｌ０は着色膜３３を通過しないので、白黒表示が行われることになる。一方、透過型の表示が行われる場合には、透過表示領域Ｔを透過する光Ｌ１は着色膜３３を通過するのでカラー表示が行われることになる。

上記の反射型表示を行う場合、図２において、観察側である矢印Ａの方向から素子基板７を通して液晶パネル２内へ入射した外部光Ｌ０は、液晶層１２を通過してカラーフィルタ基板８内へ入った後、反射表示領域Ｒにおいて光反射膜３２で反射して再び液晶層１２へ供給される。他方、上記の透過型表示を行う場合、図１の照明装置３の光源１３が点灯し、それからの光が導光体１４の光入射面１４ａから導光体１４へ導入され、さらに、光出射面１４ｂから面状の光として出射する。この出射光は、図２の符号Ｌ１で示すように透過表示領域Ｔ、すなわち光反射膜３２が存在しない領域を通って液晶層１２へ供給される。

以上のようにして液晶層１２へ光が供給される間、素子基板７側の画素電極２２とカラーフィルタ基板８側の帯状電極３６との間には、走査信号およびデータ信号によって特定される所定の電圧が印加され、これにより、液晶層１２内の液晶分子の配向がサブ画素Ｄごとに制御される。この結果、液晶層１２に供給された光がサブ画素Ｄごとに変調される。変調された光が、素子基板７側の偏光板１８ａ（図１参照）を通過するとき、偏光板１８ａの偏光特性によりサブ画素Ｄごとに通過を規制され、これにより、素子基板７の表面に文字、数字、図形等の像が表示され、観察者は矢印Ａ方向から視認することになる。

以下、図２に示す傾斜部Ｓ及び青色着色膜３７について詳しく説明する。図２において、各サブ画素Ｄ内の反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの境界、すなわち、層厚調整膜３５の端部には、傾斜部Ｓが形成されている。本実施形態において透過表示領域Ｔは、図３に示すように、サブ画素Ｄ内の略中央に四角の開口形状に設けられており、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとの境界は平面的に見て透過表示領域Ｔを囲む四角の枠形状を有している。従って、傾斜部Ｓは、図３において左下がりの斜線で示すように、平面的に見て透過表示領域Ｔを囲む領域に設けられている。

また、図２に戻って、傾斜部Ｓに平面的に重なる部分であって、光反射膜３２上には、青色の着色膜３７が設けられている。この青色着色膜３７は、図３に示す透過表示領域Ｔに設けられた青色着色膜３３Ｂと同じ材料を用いて同時に形成することができる。本実施形態において、青色着色膜３７は、平面的に見て四角の枠形状に形成された傾斜部Ｓのうちの行方向Ｘに延びる２辺に重なる位置に設けられている。具体的には、図３において右下がりの斜線で示すように、複数のサブ画素Ｄにわたって行方向Ｘに延びる帯状に設けられている。この帯状に形成された青色着色膜３７の幅は、平面視における傾斜部Ｓの幅より広く設けられている。

ところで、従来の液晶表示装置では、層厚調整膜に形成された傾斜部における液晶層の層厚が一定ではないので、傾斜部近傍の液晶の配向が乱れるおそれがあった。傾斜部近傍の液晶の配向が乱れると、光反射膜で反射した光が傾斜部を通って漏れ出ることにより表示のコントラストが低下するおそれがあった。

これに対し、本実施形態の液晶表示装置では、図２において、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒの境界の層厚調整膜３５に形成された傾斜部Ｓに対応する部分であって、第２透光性基板８ａ上に設けられた光反射膜３２上に青色着色膜３７を設けた。これにより、光反射膜３２で反射して傾斜部Ｓを通る光Ｌ２を青色光とすることができる。このような青色光Ｌ２は液晶表示装置１（図１参照）の表示において黒に近い色に視認できるので、従来のように遮光部材を設けて傾斜部を遮光する場合と同様の効果を得ることができる。それ故、液晶表示装置の表示のコントラストが低下することを防止できる。

また、傾斜部Ｓに対応して設けられる青色着色膜３７は、透過表示領域Ｔに設けたカラーフィルタを構成する着色膜３３のうちの青色の着色膜と同じ材料を用いて同時に形成することができる。その結果、遮光部材を別途設ける必要がなくなる。また、光反射膜３２で反射して傾斜部Ｓを通る光Ｌ２を青色光とすることにより、反射型表示において、光反射膜３２の材料特性及び樹脂膜３１，３４，３５の材料特性に起因して表示が色づくこと、例えば表示が黄色に色づくことを視覚的に補正できる。

また、本実施形態では、図３に示すように、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとの境界のうちの対向する２つの辺に沿って青色着色膜３７を帯状に設けている。これにより、仮に青色着色膜３７と光反射膜３２との相対的な位置がフォトリソグラフィ処理の際にずれた場合であっても、傾斜部Ｓに対応する位置において、いずれか一方の青色着色膜３７を光反射膜３２に平面視で重ねることができる。少なくとも一方の青色着色膜３７を光反射膜３２に重ねることで、光反射膜３２に起因する反射型表示の色づきを防止できる。

（電気光学装置の第２実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置の他の実施形態を説明する。本実施形態においても、電気光学装置の実施形態として液晶表示装置を例示して説明する。液晶表示装置の外観形状は、概ね、図１と同じである。図４は、本発明に係る液晶表示装置の主要部を示しており、図１において矢印Ｚ１で示す部分、すなわちサブ画素部分を拡大して示している。なお、図４は、複数のサブ画素Ｄのうち、透過表示領域Ｔに緑色の着色膜３３Ｇ又は赤色の着色膜３３Ｒが設けられたサブ画素Ｄを示している。

既述の第１実施形態では、図２に示したように、樹脂膜３１上の透過表示領域Ｔには、カラーフィルタを構成する着色膜３３が設けられている。そして、第２透光性基板８ａ上に設けられた光反射膜３２上であって、層厚調整膜３５の傾斜部Ｓに対応する部分には青色着色膜３７が設けられている。これら着色膜３３と青色着色膜３７とは互いが重ならない状態で接触している。

これに対し本実施形態では、図４に示すように、基板８ａ上にカラーフィルタを構成する着色膜３３のうちの青色以外の色の着色膜を青色着色膜３７に重ねて設けている。すなわち緑色着色膜３３Ｇと青色着色膜３７とを傾斜部Ｓに対応する部分において互いに平面的に重ねて設けている。または、赤色着色膜３３Ｒと青色着色膜３７とを傾斜部Ｓに対応する部分において互いに平面的に重ねて設けている。具体的には、青色着色膜３７と緑色着色膜３３Ｇとが、その青色着色膜３７の一部の領域Ｂで重なっている。また、青色着色膜３７と赤色着色膜３３Ｒとが領域Ｂで重なっている。

なお、本実施形態において、着色膜３３及び青色着色膜３７以外の液晶表示装置１の構成要素は、図１及び図２で示した第１実施形態の場合と同じとすることができる。

本実施形態のように、青色着色膜３７と他の色の着色膜３３とが重なる構成は、例えば青色着色膜３７と他の色の着色膜３３とが重なるようにそれらをパターニングすることにより実現できる。または、傾斜部Ｓに対応して設けられた青色着色膜３７と、当該青色着色膜３７と同一平面上に設けられた他の色の着色膜とが不可避的に重なる場合がある。具体的には、青色以外の色の着色膜３３Ｇ，３３Ｒをフォトリソグラフィ処理によってパターニングするときに、これらのフォトリソグラフィ処理の位置が所定の位置からずれた場合に、青色着色膜３７の一部と他の色の着色膜３３Ｇ，３３Ｒの一部とが重なる場合がある。

上記のように、青色着色膜３７と他の色の着色膜３３Ｇ、３３Ｒとが平面的に重なった場合には、その重なった領域Ｂにおける着色膜は略黒色になる。その結果、領域Ｂにおいては、光反射膜３２で反射した光Ｌ３が黒色の着色膜で遮光することができ、傾斜部Ｓから反射光が漏れ出ることを防止できるので、液晶表示装置における表示のコントラスト低下を防止できる。

（電気光学装置に関するその他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明に係る電気光学装置を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。例えば、図３の実施形態では、青色着色膜３７を帯状に２本設けたが、図５に示すように、青色着色膜３７を傾斜部Ｓの全域に重ね、透過表示領域Ｔの境界と同じ四角の枠形状に設けても良い。

また、上記の実施形態では、図２において光反射膜３２と着色膜３３とを同じ基板８ａ上に設けた構造の電気光学装置に本発明を適用したものであるが、本発明は、光反射膜３２と着色膜３３とをそれぞれ別の基板上に設ける構造の電気光学装置に適用することもできる。

また、上記の実施形態は、２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ素子２１（図２参照）を用いる電気光学装置に本発明を適用したものであり、ＴＦＴ素子等の３端子型のスイッチング素子を用いる電気光学装置にも適用できる。例えば、本発明は、チャネルエッチ型あるいは、それ以外の構造のアモルファスシリコンＴＦＴ素子を用いる液晶表示装置にも適用できる。また、本発明は、アモルファスシリコンＴＦＴ素子以外のＴＦＴ素子、例えば高温ポリシリコンＴＦＴ素子や、低温ポリシリコンＴＦＴ素子等をスイッチング素子として用いるアクティブマトリクス方式の液晶表示装置にも適用できる。

また、上記の各実施形態では、ＥＣＢ方式の液晶モードを採用した液晶表示装置に本発明を適用したものであり、例えばＳＴＮ（Super Twisted Nematic）モードや、ＶＡ（Vertically Aligned）モード等の液晶モードを採用した液晶表示装置にも適用できる。

（電子機器の第１実施形態）
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。

図６は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、液晶表示装置１０１と、これを制御する制御回路１０２とを有する。制御回路１０２は、表示情報出力源１０５、表示情報処理回路１０６、電源回路１０７及びタイミングジェネレータ１０８によって構成される。そして、液晶表示装置１０１は液晶パネル１０３及び駆動回路１０４を有する。

表示情報出力源１０５は、ＲＡＭ(Random Access Memory)等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ１０８により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路１０６に供給する。

次に、表示情報処理回路１０６は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等の周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１０４へ供給する。ここで、駆動回路１０４は、走査線駆動回路やデータ線駆動回路と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路１０７は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。

液晶表示装置１０１は、例えば、図１に示した液晶表示装置１を用いて構成できる。図１の液晶表示装置１は、図２において、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒの境界に形成された層厚調整膜３５の傾斜部Ｓに対応する部分に青色着色膜３７を設けているので、光反射膜３２で反射して傾斜部Ｓを通る光を青色光とすることができる。このような青色光は液晶表示装置１の表示において黒に近い色に視認できるので、遮光部材を設けて傾斜部Ｓを遮光する場合と同様の効果を得ることができる。それ故、液晶表示装置の表示のコントラストが低下することを防止できる。従って、この液晶表示装置を用いた本実施形態の電子機器においても、その電子機器の表示のコントラストが低下することを防止できる。

また、図１の液晶表示装置１は、図２に示すように、光反射膜３２で反射して傾斜部Ｓを通る光をその傾斜部Ｓに対応して設けられる青色着色膜３７によって青色光とすることにより、反射型表示において、光反射膜３２に起因して表示が色づくこと、例えば表示が黄色に色づくことを防止できる。従って、この液晶表示装置を用いた本実施形態の電子機器においても、その電子機器の表示が黄色に色づくことを防止できる。

（電子機器の第２実施形態）
図７は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。携帯電話機１１０は、本体部１１１と、開閉可能に設けられた表示体部１１２とを有する。液晶表示装置等の電気光学装置によって構成された表示装置１１３は、表示体部１１２の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部１１２において表示画面１１４によって視認できる。本体部１１１には操作ボタン１１５が配列されている。

表示体部１１２の一端部にはアンテナ１１６が伸縮自在に取付けられている。表示体部１１２の上部に設けられた受話部１１７の内部には、図示しないスピーカが配置される。また、本体部１１１の下端部に設けられた送話部１１８の内部には図示しないマイクが内蔵されている。表示装置１１３の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部１１１又は表示体部１１２の内部に格納される。

表示装置１１３は、例えば、図１に示した液晶表示装置１を用いて構成できる。図１の液晶表示装置１は、図２において、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒの境界に形成された層厚調整膜３５の傾斜部Ｓに対応する部分に青色着色膜３７を設けることにしたので、光反射膜３２で反射して傾斜部Ｓを通る光を青色光とすることができる。このような青色光は液晶表示装置１の表示において黒に近い色に視認できるので、遮光部材を設けて傾斜部Ｓを遮光する場合と同様の効果を得ることができる。それ故、液晶表示装置の表示のコントラストが低下することを防止できる。従って、この液晶表示装置を用いた本実施形態の電子機器においても、その電子機器の表示のコントラストが低下することを防止できる。

また、図１の液晶表示装置１は、図２に示すように、光反射膜３２で反射して傾斜部Ｓを通る光をその傾斜部Ｓに対応して設けられる青色着色膜３７によって青色光とすることにより、反射型表示において、光反射膜３２に起因して表示が色づくこと、例えば表示が黄色に色づくことを防止できる。従って、この液晶表示装置を用いた本実施形態の電子機器においても、その電子機器の表示が黄色に色づくことを防止できる。

なお、電子機器としては、以上に説明した携帯電話機等の他にも、パーソナルコンピュータ、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末器等が挙げられる。

（比較例１）

従来装置、すなわち、図２において青色着色膜３７を用いない構成の液晶表示装置１を作製した。そして、その液晶表示装置１によって反射型表示で白表示を行った。つまり、Ｒ，Ｇ，Ｂの全ての画素を点灯させる表示を行った。その結果、図８に示すＣＩＥ（Commission Internationale de l'Eclairage：国際照明委員会）色度図上において符号Ｙで示す表示が得られた。この符号Ｙの座標は、
（ｘ，ｙ）＝（０．３４５，０．３６５）
である。この符号Ｙで示す表示は黄色味を帯びていた。
（実施例１）

図１に示す構成の液晶表示装置１を作製し、表示の評価を行った。その際、青色着色膜３７に使用する材料の色特性は、図８に示すＣＩＥ色度図上において符号Ｃで示す範囲のものとした。この範囲Ｃの座標は、
（ｘ，ｙ）＝（０．１３０〜０．２３０，０．０３０〜０．２５０）
である。また、照明装置３の光源１３をＣＩＥの昼光標準光源Ｄ６５とした。このＣＩＥ昼光標準光源Ｄ６５の座標は図８の色度座標上において
（ｘ，ｙ）＝（０．３１２７，０．３２９０）
である。

以上の液晶表示装置１によって反射型表示で白表示を行った。つまり、Ｒ，Ｇ，Ｂの全ての画素を点灯させる表示を行った。その結果、表示の色は符号Ｙから矢印Ｚの方向へシフトした。すなわち、Ｄ６５に近い白色の表示が得られた。この結果、ＣＩＥ色度図上で符号Ｃの範囲の青色着色膜を用いて図１の液晶表示装置１を作製すれば、黄色味のない鮮明な表示が得られることがわかった。

本発明に係る電気光学装置の一実施形態を示す側面断面図である。 図１において矢印Ｚ１で示す部分を拡大して示す断面図である。 図２の矢印Ａに従ってサブ画素近傍の構造を示す平面図である。 本発明に係る電気光学装置の他の実施形態の要部を示す断面図である。 本発明に係る電気光学装置のさらに他の実施形態の要部を示す平面図である。 本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。 本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示す斜視図である。 本発明に係る電気光学装置で用いる着色膜の特性を示すＣＩＥ色度図である。

符号の説明

１．液晶表示装置（電気光学装置）、 ２．液晶パネル（電気光学パネル）、
３．照明装置、 ６．シール材、 ７．素子基板、 ７ａ．第１透光性基板、
８．カラーフィルタ基板、 ８ａ．第２透光性基板、 １２．液晶層、 １３．ＬＥＤ、
１４．導光体、 １４ａ．光入射面、 １４ｂ．光出射面、 １６．光反射層、
１７．光拡散層、 １８ａ，１８ｂ．偏光板、 １９．データ線、 ２１．ＴＦＤ素子、
２２．画素電極、 ２３ａ．第１ＴＦＤ要素、 ２３ｂ．第２ＴＦＤ要素、
２４．第１素子電極、 ２５．絶縁膜、 ２６ａ，２６ｂ．第２素子電極、
２７ａ，２７ｂ．配向膜、 ３１．樹脂膜、 ３２．光反射膜、 ３３．着色膜、
３３Ｂ．青色着色膜、３３Ｇ．緑色着色膜、 ３３Ｒ．赤色着色膜、 ３４．平坦化膜、
３５．層厚調整膜（樹脂膜）、 ３６．帯状電極、 ３７．青色着色膜、
４１．張出し部、 １０１．液晶表示装置（電気光学装置）、 １０２．制御回路、
１０３．液晶パネル、 １０４．駆動回路、 １１０．携帯電話機（電子機器）、
１１１．本体部、 １１２．表示体部、 １１３．表示装置、 １１４．表示画面、
Ｄ．サブ画素、 Ｇ．セルギャップ、 Ｌ０，Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３．光、
Ｒ．反射表示領域、 Ｔ．透過表示領域、 Ｖ．表示領域

Claims (6)

1. 電気光学物質を挟持する一対の基板と、該一対の基板のうちの一方の基板上に設けられた光反射膜と、前記一対の基板のうちの他方の基板と前記光反射膜との間に設けられた着色膜と、前記一対の基板の間に設けられた樹脂膜とを有する電気光学装置であって、
   前記光反射膜によって反射した反射光を用いて表示を行う反射表示領域と、前記光反射膜が無い領域を透過した光を用いて表示を行う透過表示領域とを備える複数のサブ画素を有し、前記着色膜は前記反射表示領域には設けられず前記透過表示領域に設けられ、前記樹脂膜は前記透過表示領域と前記反射表示領域の境界に傾斜部を有し、前記傾斜部に対応する部分であって、前記光反射膜と前記一対の基板のうちの他方の基板との間には青色の着色膜が設けられることを特徴とする電気光学装置。
2. 請求項１記載の電気光学装置において、前記青色の着色膜には他の色の着色膜が平面的に重ねて設けられることを特徴とする電気光学装置。
3. 請求項１又は請求項２記載の電気光学装置において、前記透過表示領域は前記サブ画素の中央に設けられ、前記反射表示領域は前記サブ画素内であって前記透過表示領域を挟んで両側に設けられ、前記青色の着色膜は前記透過表示領域と前記反射表示領域との境界のうちの対向する２つの辺に沿って設けられることを特徴とする電気光学装置。
4. 請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の電気光学装置において、前記青色着色膜の青色のＣＩＥ色度図上における座標範囲は、
   （ｘ，ｙ）＝（０．１３０〜０．２３０，０．０３０〜０．２５０）
   であることを特徴とする電気光学装置。
5. 請求項１から請求項４のいずれか１つに記載の電気光学装置において、反射型表示において白黒表示が可能で透過型表示においてカラー表示が可能な液晶表示装置を使用したことを特徴とする電気光学装置。
6. 請求項１から請求項５のいずれか１つに記載の電気光学装置を有することを特徴とする電子機器。
   
   

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