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JP2007152164A - Coating apparatus and adjustment method for pitches of nozzles in the apparatus - Google Patents

Coating apparatus and adjustment method for pitches of nozzles in the apparatus Download PDF

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JP2007152164A
JP2007152164A JP2005347448A JP2005347448A JP2007152164A JP 2007152164 A JP2007152164 A JP 2007152164A JP 2005347448 A JP2005347448 A JP 2005347448A JP 2005347448 A JP2005347448 A JP 2005347448A JP 2007152164 A JP2007152164 A JP 2007152164A
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JP
Japan
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nozzle
nozzles
substrate
pitch
coating apparatus
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Pending
Application number
JP2005347448A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hirokazu Ose
弘和 小瀬
Masatoshi Ueno
雅敏 上野
Akira Miyahara
章 宮原
Masayuki Murai
正幸 村井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2005347448A priority Critical patent/JP2007152164A/en
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  • Coating Apparatus (AREA)
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To adjust the pitches of a plurality of nozzles ejecting a fluid material in a coating apparatus. <P>SOLUTION: A coating head 14 of the coating apparatus for continuously ejecting and applying an organic EL liquid from the nozzles toward a substrate is mounted with the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d excluding the third nozzle 17c, movably in a vertical scanning direction with respect to a nozzle mounting section 141. In the coating apparatus, four pieces of liquid columns of the organic EL liquid ejected from the four nozzles are observed by the optical system of a nozzle position detector and according to the amount of movement determined on the basis of the result of the observation by the optical system, the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are discretely moved in the vertical scanning direction and thereby the nozzle pitches can be adjusted with high accuracy. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置、および、当該塗布装置における複数のノズルのピッチの調整方法に関する。   The present invention relates to a coating apparatus that applies a flowable material to a substrate, and a method for adjusting the pitch of a plurality of nozzles in the coating apparatus.

従来より、有機EL(Electro Luminescence)材料を利用した有機EL表示装置の開発が行われており、例えば、高分子有機EL材料を用いたアクティブマトリックス駆動方式の有機EL表示装置の製造では、ガラス基板(以下、単に「基板」という。)に対して、TFT(Thin Film Transistor)回路の形成、陽極となるITO(Indium Tin Oxide)電極の形成、隔壁の形成、正孔輸送材料を含む流動性材料(以下、「正孔輸送液」という。)の塗布、加熱処理による正孔輸送層の形成、有機EL材料を含む流動性材料(以下、「有機EL液」という。)の塗布、加熱処理による有機EL層の形成、陰極の形成、および、絶縁膜の形成による封止が順次行われる。   2. Description of the Related Art Conventionally, an organic EL display device using an organic EL (Electro Luminescence) material has been developed. For example, in the production of an active matrix drive type organic EL display device using a polymer organic EL material, a glass substrate is used. (Hereinafter simply referred to as “substrate”), formation of TFT (Thin Film Transistor) circuits, formation of ITO (Indium Tin Oxide) electrodes as anodes, formation of barrier ribs, fluid materials including hole transport materials (Hereinafter referred to as “hole transport liquid”), formation of a hole transport layer by heat treatment, flowable material containing an organic EL material (hereinafter referred to as “organic EL liquid”), heat treatment The organic EL layer, the cathode, and the insulating film are sequentially sealed.

有機EL表示装置の製造において、正孔輸送液または有機EL液を基板に塗布する装置の1つとして、特許文献1および特許文献2に示すように、流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルを、基板に対して主走査方向および副走査方向に相対移動することにより、基板上の塗布領域に流動性材料をストライプ状に塗布する装置が知られている。   In the manufacture of an organic EL display device, as one of devices for applying a hole transport liquid or an organic EL liquid to a substrate, as shown in Patent Document 1 and Patent Document 2, a plurality of fluid materials are continuously discharged. 2. Description of the Related Art An apparatus is known that applies a flowable material in a stripe shape to an application region on a substrate by moving a nozzle relative to the substrate in a main scanning direction and a sub-scanning direction.

特許文献1および特許文献2の装置では、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)と互いに色が異なる3種類の有機EL材料をそれぞれ含む3種類の有機EL液が3本のノズルから吐出され、基板上の塗布領域に予め形成されている隔壁間の3つの溝に塗布される。当該装置では、3本のノズルが保持部材により一体的に保持されており、基板に垂直な支持軸を中心として当該保持部材を回動して3本のノズルの副走査方向におけるピッチを小さくすることにより、有機EL液の塗布ピッチを狭くすることができる。
特開2002−75640号公報 特開2003−10755号公報
In the devices of Patent Document 1 and Patent Document 2, three types of organic EL liquids each including three types of organic EL materials having different colors from red (R), green (G), and blue (B) are provided with three nozzles. And is applied to three grooves between partition walls previously formed in a coating region on the substrate. In this apparatus, three nozzles are integrally held by a holding member, and the holding member is rotated around a support axis perpendicular to the substrate to reduce the pitch of the three nozzles in the sub-scanning direction. As a result, the coating pitch of the organic EL liquid can be narrowed.
JP 2002-75640 A JP 2003-10755 A

ところで、このような装置では通常、ノズルのピッチ調整は作業員の手作業により行われており、調整結果の確認も作業員が塗布結果を直接目視することにより行われている。このため、高精度のピッチ調整が困難であり、調整に要する作業時間および労力も多大なものとなっている。また、保持部材に対するノズルの取付誤差やノズルの製造誤差等によりノズルのピッチが不均一になっている場合、ピッチが均一になるように調整する必要があるが、特許文献1および特許文献2では、ピッチを均一化するための調整機構については開示されていない。   By the way, in such an apparatus, the pitch adjustment of the nozzle is usually performed manually by an operator, and the adjustment result is also confirmed by the operator directly viewing the application result. For this reason, it is difficult to adjust the pitch with high accuracy, and the work time and labor required for the adjustment are enormous. In addition, when the nozzle pitch is not uniform due to a nozzle mounting error or a nozzle manufacturing error with respect to the holding member, it is necessary to adjust the pitch to be uniform. An adjustment mechanism for making the pitch uniform is not disclosed.

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、塗布装置の複数のノズルのピッチを高精度に調整することを主な目的としている。   This invention is made | formed in view of the said subject, and makes it the main objective to adjust the pitch of the several nozzle of a coating device with high precision.

請求項1に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、基板を保持する基板保持部と、前記基板に向けて流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルと、前記複数のノズルの全てまたは1つを除く他の全てが前記基板の主面に平行な第1の方向に関して個別に移動可能に取り付けられるノズル取付部と、前記基板の前記主面に平行であって前記第1の方向に垂直な第2の方向に前記複数のノズルを前記ノズル取付部と共に前記基板に対して相対的に移動する主走査機構と、前記複数のノズルおよび前記ノズル取付部を前記基板に対して前記第1の方向に相対的に移動する副走査機構と、前記複数のノズルから吐出される前記流動性材料の複数の液柱、前記複数のノズルから吐出されて基板に塗布された前記流動性材料のパターン、または、前記複数のノズルを観察する光学系と、前記光学系による観察結果に基づいて求められた移動量に従って前記複数のノズルの全てまたは1つを除く他の全てを前記第1の方向に個別に移動することにより前記第1の方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離を調整するピッチ調整機構とを備える。   The invention described in claim 1 is a coating apparatus that applies a fluid material to a substrate, and includes a substrate holding unit that retains the substrate, and a plurality of nozzles that continuously eject the fluid material toward the substrate. A nozzle mounting portion in which all of the plurality of nozzles or all but one of them are individually movably mounted in a first direction parallel to the main surface of the substrate; and parallel to the main surface of the substrate A main scanning mechanism for moving the plurality of nozzles relative to the substrate together with the nozzle mounting portion in a second direction perpendicular to the first direction, and the plurality of nozzles and the nozzle mounting portion. A sub-scanning mechanism that moves relative to the substrate in the first direction, a plurality of liquid columns of the flowable material that are discharged from the plurality of nozzles, and a substrate that is discharged from the plurality of nozzles and applied to the substrate. Of the fluidized material Or the optical system for observing the plurality of nozzles, and all of the plurality of nozzles or all other than the one in accordance with the amount of movement determined based on the observation result by the optical system. A pitch adjusting mechanism that adjusts each distance between two adjacent nozzles with respect to the first direction by individually moving in the direction.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の塗布装置であって、前記光学系を介して前記流動性材料の前記複数の液柱、前記流動性材料の前記パターン、または、前記複数のノズルの画像を取得する撮像部と、前記画像から前記第1の方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離を検出するピッチ検出部とをさらに備える。   Invention of Claim 2 is a coating device of Claim 1, Comprising: The said several liquid column of the said fluid material, the said pattern of the said fluid material, or the said plurality via the said optical system An imaging unit that acquires an image of each of the nozzles, and a pitch detection unit that detects each distance between two nozzles adjacent to each other in the first direction from the image.

請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の塗布装置であって、前記ピッチ調整機構を駆動する駆動部と、前記ピッチ検出部の検出結果に基づいて前記駆動部を制御する調整機構制御部とをさらに備える。   Invention of Claim 3 is a coating device of Claim 2, Comprising: The drive part which drives the said pitch adjustment mechanism, The adjustment mechanism which controls the said drive part based on the detection result of the said pitch detection part And a control unit.

請求項4に記載の発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載の塗布装置であって、前記主走査機構および前記副走査機構により、前記複数のノズルおよび前記ノズル取付部が前記ピッチ調整機構から独立して移動する。   A fourth aspect of the present invention is the coating apparatus according to any one of the first to third aspects, wherein the plurality of nozzles and the nozzle mounting portion are adjusted in pitch by the main scanning mechanism and the sub-scanning mechanism. Move independently of the mechanism.

請求項5に記載の発明は、請求項1ないし4のいずれかに記載の塗布装置であって、前記光学系により、前記複数のノズルから吐出される前記流動性材料の前記複数の液柱が観察される。   Invention of Claim 5 is a coating device in any one of Claim 1 thru | or 4, Comprising: The said several liquid column of the said fluid material discharged from these nozzles by the said optical system is carried out. Observed.

請求項6に記載の発明は、請求項2に記載の塗布装置であって、前記撮像部により、前記複数のノズルから吐出される前記流動性材料の前記複数の液柱の画像が取得され、前記塗布装置が、前記画像に基づいて前記複数の液柱のそれぞれの形状と予め定められている所定の液柱形状との差異を検出する液柱状態検出部をさらに備える。   Invention of Claim 6 is a coating device of Claim 2, Comprising: The image of the said some liquid column of the said fluid material discharged from these nozzles is acquired by the said imaging part, The coating apparatus further includes a liquid column state detection unit that detects a difference between each of the plurality of liquid columns and a predetermined liquid column shape based on the image.

請求項7に記載の発明は、請求項1ないし4のいずれかに記載の塗布装置であって、前記光学系により、基板に塗布された前記流動性材料の前記パターンが観察される。   A seventh aspect of the present invention is the coating apparatus according to any one of the first to fourth aspects, wherein the pattern of the flowable material applied to the substrate is observed by the optical system.

請求項8に記載の発明は、請求項1ないし7のいずれかに記載の塗布装置であって、前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含む。   An invention according to an eighth aspect is the coating apparatus according to any one of the first to seventh aspects, wherein the fluid material includes a pixel forming material for a flat display device.

請求項9に記載の発明は、請求項8に記載の塗布装置であって、前記画素形成材料が、有機EL表示装置用の有機EL材料または正孔輸送材料である。   The invention according to claim 9 is the coating apparatus according to claim 8, wherein the pixel forming material is an organic EL material or a hole transport material for an organic EL display device.

請求項10に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、基板を保持する基板保持部と、前記基板に向けて流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルと、前記複数のノズルの全てまたは1つを除く他の全てが前記基板の主面に平行な第1の方向に関して個別に移動可能に取り付けられるノズル取付部と、前記基板の前記主面に平行であって前記第1の方向に垂直な第2の方向に前記複数のノズルを前記ノズル取付部と共に前記基板に対して相対的に移動する主走査機構と、前記複数のノズルおよび前記ノズル取付部を前記基板に対して前記第1の方向に相対的に移動する副走査機構と、前記主走査機構および前記副走査機構による前記複数のノズルおよび前記ノズル取付部の移動から独立して配置され、前記複数のノズルの全てまたは1つの除く全てを前記第1の方向に個別に移動することにより前記第1の方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離を調整するピッチ調整機構とを備える。   A tenth aspect of the present invention is a coating apparatus that applies a flowable material to a substrate, a substrate holding unit that holds the substrate, and a plurality of nozzles that continuously discharge the flowable material toward the substrate. A nozzle mounting portion in which all of the plurality of nozzles or all but one of them are individually movably mounted in a first direction parallel to the main surface of the substrate; and parallel to the main surface of the substrate A main scanning mechanism for moving the plurality of nozzles relative to the substrate together with the nozzle mounting portion in a second direction perpendicular to the first direction, and the plurality of nozzles and the nozzle mounting portion. A sub-scanning mechanism that moves relative to the substrate in the first direction, and the main scanning mechanism and the sub-scanning mechanism are arranged independently of the movement of the plurality of nozzles and the nozzle mounting portion, Multiple noses And a pitch adjusting mechanism for adjusting the respective distances between the two nozzles adjacent to each other with respect to the first direction by moving individually all all or except the one in the first direction.

請求項11に記載の発明は、複数のノズルから基板に向けて流動性材料を連続的に吐出しつつ前記基板の主面に平行な主走査方向に前記複数のノズルを移動することにより前記基板に前記流動性材料を塗布する塗布装置において、前記複数のノズルの前記主走査方向に垂直な副走査方向に関するピッチの調整方法であって、a)複数のノズルから吐出される流動性材料の複数の液柱、前記複数のノズルから吐出されて基板に塗布された前記流動性材料のパターン、または、前記複数のノズルを光学系を介して観察する工程と、b)前記a)工程における観察結果に基づいて前記複数のノズルの全てまたは1つを除く他の全ての副走査方向への移動量を求める工程と、c)前記移動量に従って前記複数のノズルの全てまたは1つを除く他の全てを前記副走査方向に個別に移動することにより前記副走査方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離を調整する工程とを備える。   The invention according to claim 11 is the substrate by moving the plurality of nozzles in a main scanning direction parallel to the main surface of the substrate while continuously discharging a flowable material from the plurality of nozzles toward the substrate. A method of adjusting a pitch of the plurality of nozzles in a sub-scanning direction perpendicular to the main scanning direction, wherein: a) a plurality of fluid materials discharged from the plurality of nozzles A liquid column, a pattern of the fluid material discharged from the plurality of nozzles and applied to the substrate, or a step of observing the plurality of nozzles through an optical system, and b) an observation result in the step a) And determining all the other nozzles excluding all or one of the plurality of nozzles according to the amount of movement; And a step of adjusting the respective distances between the two nozzles that are adjacent to each other with respect to the sub-scanning direction by moving individually to the sub-scanning direction.

請求項12に記載の発明は、請求項11に記載のピッチの調整方法であって、前記a)工程において、前記光学系を介して前記流動性材料の前記複数の液柱、前記流動性材料の前記パターン、または、前記複数のノズルの画像が取得され、前記b)工程において、前記画像に基づいて前記移動量が求められる。   A twelfth aspect of the present invention is the pitch adjusting method according to the eleventh aspect, wherein in the step a), the plurality of liquid columns of the fluid material, the fluid material through the optical system. The pattern or the image of the plurality of nozzles is acquired, and in the step b), the movement amount is obtained based on the image.

請求項13に記載の発明は、請求項12に記載のピッチの調整方法であって、前記複数のノズルが主走査方向に関して離れて配列され、前記a)工程において、前記複数のノズルが前記主走査方向に移動されて前記光学系による観察位置に順次位置するとともに前記流動性材料の前記複数の液柱、または、前記複数のノズルの画像が取得される。   A thirteenth aspect of the present invention is the pitch adjustment method according to the twelfth aspect, wherein the plurality of nozzles are arranged apart from each other in the main scanning direction, and in the step a), the plurality of nozzles are the main nozzles. It is moved in the scanning direction and sequentially positioned at the observation position by the optical system, and images of the plurality of liquid columns or the plurality of nozzles of the fluid material are acquired.

請求項14に記載の発明は、請求項12または13に記載のピッチの調整方法であって、前記a)工程において、前記複数のノズルから吐出される前記流動性材料の前記複数の液柱の画像が取得され、前記画像に基づいて前記複数の液柱のそれぞれの形状と予め定められている所定の液柱形状との差異が検出される。   The invention according to claim 14 is the pitch adjusting method according to claim 12 or 13, wherein in the step a), the plurality of liquid columns of the fluid material discharged from the plurality of nozzles. An image is acquired, and a difference between each of the plurality of liquid columns and a predetermined liquid column shape is detected based on the image.

請求項15に記載の発明は、請求項11ないし14のいずれかに記載のピッチの調整方法であって、前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含む。   A fifteenth aspect of the present invention is the pitch adjusting method according to any one of the eleventh to fourteenth aspects, wherein the fluid material includes a pixel forming material for a flat display device.

請求項16に記載の発明は、請求項15に記載のピッチの調整方法であって、前記画素形成材料が、有機EL表示装置用の有機EL材料または正孔輸送材料である。   The invention described in claim 16 is the pitch adjusting method described in claim 15, wherein the pixel forming material is an organic EL material or a hole transport material for an organic EL display device.

本発明では、複数のノズルのピッチを高精度に調整することができる。請求項2および12の発明では、複数のノズルのピッチの検出に要する時間を短縮することができる。請求項3の発明では、複数のノズルのピッチを自動的に調整することができる。請求項4および10の発明では、主走査機構および副走査機構により移動する部位を小型化することができる。請求項6および14の発明では、装置の構成を簡素化しつつ液柱形状の確認をすることができる。請求項13の発明では、装置の構成を簡素化することができる。   In the present invention, the pitch of the plurality of nozzles can be adjusted with high accuracy. According to the second and twelfth aspects of the present invention, the time required for detecting the pitch of the plurality of nozzles can be shortened. In the invention of claim 3, the pitch of the plurality of nozzles can be automatically adjusted. According to the fourth and tenth aspects of the present invention, the portion moved by the main scanning mechanism and the sub-scanning mechanism can be reduced in size. In the inventions of claims 6 and 14, the liquid column shape can be confirmed while simplifying the configuration of the apparatus. In invention of Claim 13, the structure of an apparatus can be simplified.

図1は、本発明の第1の実施の形態に係る塗布装置1の構成を示す平面図であり、図2は塗布装置1の正面図である。塗布装置1は、平面表示装置用のガラス基板(以下、単に「基板」という。)9に画素形成材料を含む流動性材料を塗布する装置である。本実施の形態では、塗布装置1において、アクティブマトリックス駆動方式の有機EL(Electro Luminescence)表示装置用の基板9に、有機EL材料および溶媒(例えば、メシチレン)を含む流動性材料(以下、「有機EL液」という。)が塗布される。   FIG. 1 is a plan view showing a configuration of a coating apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a front view of the coating apparatus 1. The coating apparatus 1 is an apparatus that applies a fluid material containing a pixel forming material to a glass substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”) 9 for a flat display device. In the present embodiment, in the coating apparatus 1, a flowable material (hereinafter referred to as “organic”) containing an organic EL material and a solvent (for example, mesitylene) on a substrate 9 for an organic EL (Electro Luminescence) display device of an active matrix driving system. "EL liquid") is applied.

図2に示すように、塗布装置1は、基板9を保持する基板保持部11を備え、基板保持部11は内部にヒータによる加熱機構(図示省略)を備える。塗布装置1は、また、図1および図2に示すように、基板保持部11を基板9の主面に対して平行な所定の方向(すなわち、図1中のY方向であり、以下、「副走査方向」という。)に水平移動するとともに垂直方向(すなわち、Z方向)に向く軸を中心として回転する基板移動機構12、基板9上に形成されたアライメントマーク(図示省略)を撮像して検出するアライメントマーク検出部13、基板保持部11上の基板9に向けて4本のノズル17から有機EL液を連続的に吐出する吐出機構である塗布ヘッド14、塗布ヘッド14を基板9の主面に平行であって副走査方向とは垂直な方向(すなわち、図1中のX方向であり、以下、「主走査方向」という。)に水平移動するヘッド移動機構15、主走査方向に関して基板保持部11の両側に設けられるとともに塗布ヘッド14からの有機EL液を受ける2つの受液部16、塗布ヘッド14の4本のノズル17に同一種類の有機EL液を供給する流動性材料供給部18、および、これらの構成を制御する制御部2を備える。   As shown in FIG. 2, the coating apparatus 1 includes a substrate holding unit 11 that holds a substrate 9, and the substrate holding unit 11 includes a heating mechanism (not shown) using a heater. As shown in FIGS. 1 and 2, the coating apparatus 1 moves the substrate holding part 11 in a predetermined direction parallel to the main surface of the substrate 9 (that is, the Y direction in FIG. Imaging the alignment mark (not shown) formed on the substrate moving mechanism 12 and the substrate 9 that horizontally moves in the sub-scanning direction) and rotates around an axis oriented in the vertical direction (that is, the Z direction). The coating head 14 and the coating head 14 which are ejection mechanisms for continuously ejecting the organic EL liquid from the four nozzles 17 toward the substrate 9 on the alignment mark detection unit 13 and the substrate holding unit 11 are detected. 1. A head moving mechanism 15 that moves horizontally in the direction parallel to the surface and perpendicular to the sub-scanning direction (that is, the X direction in FIG. 1, hereinafter referred to as “main scanning direction”), and the substrate with respect to the main scanning direction. Of the holding part 11 Two liquid receiving parts 16 which are provided on the side and receive the organic EL liquid from the application head 14, a fluid material supply part 18 which supplies the same type of organic EL liquid to the four nozzles 17 of the application head 14, and The control part 2 which controls these structures is provided.

塗布ヘッド14では、4本のノズル17が、図1中のX方向(すなわち、主走査方向)に関して略直線状に離れて配列されるとともに図1中のY方向(すなわち、副走査方向)に僅かにずれて配置される。本実施の形態では、隣接する2本のノズル17の間の副走査方向に関する距離が、基板9の塗布領域91(図1中において破線で囲んで示す。)上に予め形成されている主走査方向に伸びる隔壁間のピッチ(以下、「隔壁ピッチ」という。)の3倍に等しくなるように調整される。ノズル17の間の距離の調整方法については後述する。   In the coating head 14, the four nozzles 17 are arranged substantially linearly with respect to the X direction in FIG. 1 (that is, the main scanning direction) and in the Y direction in FIG. 1 (that is, the sub scanning direction). Slightly displaced. In the present embodiment, the distance between the adjacent two nozzles 17 in the sub-scanning direction is formed in advance on the application region 91 (shown by being surrounded by a broken line in FIG. 1) of the substrate 9. The pitch is adjusted to be equal to three times the pitch between the partition walls extending in the direction (hereinafter referred to as “partition wall pitch”). A method for adjusting the distance between the nozzles 17 will be described later.

図3および図4はそれぞれ、塗布ヘッド14を示す正面図および平面図である。図3および図4に示すように、塗布ヘッド14は、基板9に向けて有機EL液を連続的に吐出する4本のノズル(以下、4本のノズルを区別して説明する場合、(−X)側から順に「第1ノズル17a」、「第2ノズル17b」、「第3ノズル17c」、「第4ノズル17d」という。)、および、当該4本のノズルが取り付けられるノズル取付部141を備える。なお、図3では、ノズル取付部141の第1ノズル17a近傍の部位を断面にて示している。   3 and 4 are a front view and a plan view showing the coating head 14, respectively. As shown in FIGS. 3 and 4, the coating head 14 includes four nozzles that continuously discharge the organic EL liquid toward the substrate 9 (hereinafter, when the four nozzles are described separately, (−X ) In order from the side, referred to as “first nozzle 17a”, “second nozzle 17b”, “third nozzle 17c”, “fourth nozzle 17d”), and nozzle mounting portion 141 to which the four nozzles are mounted. Prepare. In FIG. 3, a portion of the nozzle mounting portion 141 in the vicinity of the first nozzle 17a is shown in cross section.

図4に示すように、ノズル取付部141には、(−Y)側のエッジから(+Y)方向(すなわち、副走査方向)に伸びる3つのスロット部142が形成されており、図3に示すように、スロット部142の上部にはアリ溝(すなわち、Y方向に垂直な断面が略台形状の溝)が形成されている。塗布ヘッド14では、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dの板状部材172が当該アリ溝と嵌合することにより、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dがノズル取付部141に対して取り付けられる。第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dは、それぞれの板状部材172がアリ溝に沿って進退することにより、副走査方向に関して個別に移動可能とされる。   As shown in FIG. 4, the nozzle mounting portion 141 is formed with three slot portions 142 extending from the (−Y) side edge in the (+ Y) direction (that is, the sub-scanning direction). As described above, a dovetail groove (that is, a groove having a substantially trapezoidal cross section perpendicular to the Y direction) is formed in the upper portion of the slot portion 142. In the coating head 14, the plate-like members 172 of the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are fitted into the dovetail groove, whereby the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are It is attached to the nozzle attachment portion 141. The first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are individually movable in the sub-scanning direction as the respective plate-like members 172 advance and retract along the dovetail grooves.

第1ノズル17aの(−X)側には、第1ノズル17aをノズル取付部141に対して固定する第1ノズル固定部171aが設けられる。図3に示すように、第1ノズル固定部171aは、ノズル取付部141に形成されたネジ穴と螺合する固定ネジ1711、固定ネジ1711が挿入される円筒状のゴム1712、および、固定ネジ1711の頭とゴム1712との間に配置される座金1713,1714を備える。   A first nozzle fixing portion 171a that fixes the first nozzle 17a to the nozzle mounting portion 141 is provided on the (−X) side of the first nozzle 17a. As shown in FIG. 3, the first nozzle fixing portion 171a includes a fixing screw 1711 that is screwed into a screw hole formed in the nozzle mounting portion 141, a cylindrical rubber 1712 into which the fixing screw 1711 is inserted, and a fixing screw. Washers 1713 and 1714 are provided between the head 1711 and the rubber 1712.

第1ノズル固定部171aでは、固定ネジ1711が締められることにより、ゴム1712が座金1714に押圧されて横方向に広がるように変形する。そして、ゴム1712が、第1ノズル17aの板状部材172をスロット部142のアリ溝の(+X)側の内側面に向けて押圧することにより、第1ノズル17aがノズル取付部141に対して固定される。第1ノズル17aを固定する際には、ゴム1712の変形量(すなわち、第1ノズル17aを固定する力)を一定にするため、座金1713の下面がノズル取付部141に当接するまで固定ネジ1711を締める。   In the first nozzle fixing portion 171a, when the fixing screw 1711 is tightened, the rubber 1712 is pressed by the washer 1714 and deformed so as to spread laterally. The rubber 1712 presses the plate-like member 172 of the first nozzle 17 a toward the inner surface of the dovetail groove of the slot portion 142 on the (+ X) side, so that the first nozzle 17 a is against the nozzle mounting portion 141. Fixed. When fixing the first nozzle 17a, the fixing screw 1711 is used until the lower surface of the washer 1713 contacts the nozzle mounting portion 141 in order to keep the deformation amount of the rubber 1712 (that is, the force for fixing the first nozzle 17a) constant. Tighten.

図3および図4に示すように、塗布ヘッド14では、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dの(+X)側に、第2ノズル固定部171bおよび第4ノズル固定部171dが設けられる。第2ノズル固定部171bおよび第4ノズル固定部171dの構造は第1ノズル固定部171aと同様であり、固定ネジを締めることにより第2ノズル17bおよび第4ノズル17dをノズル取付部141に固定し、固定ネジを緩めることにより、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dの副走査方向への移動を可能にする。   As shown in FIGS. 3 and 4, in the coating head 14, a second nozzle fixing portion 171b and a fourth nozzle fixing portion 171d are provided on the (+ X) side of the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d. The structure of the second nozzle fixing portion 171b and the fourth nozzle fixing portion 171d is the same as that of the first nozzle fixing portion 171a, and the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d are fixed to the nozzle mounting portion 141 by tightening the fixing screw. The second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d can be moved in the sub-scanning direction by loosening the fixing screw.

一方、第3ノズル17cは、ノズル取付部141に固定して取り付けられており、ノズル取付部141に対して移動することはない。換言すれば、塗布ヘッド14では、4本のノズルのうち1本を除く他の全てのノズル(すなわち、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17d)が、ノズル取付部141に対して副走査方向に移動可能に取り付けられる。塗布装置1では、後述するノズル位置の調整時に、第3ノズル17cの位置を基準として他の3本のノズルの位置が調整される。   On the other hand, the third nozzle 17 c is fixedly attached to the nozzle attachment portion 141 and does not move relative to the nozzle attachment portion 141. In other words, in the coating head 14, all the other nozzles (that is, the first nozzle 17 a, the second nozzle 17 b, and the fourth nozzle 17 d) except for one of the four nozzles are connected to the nozzle mounting portion 141. Are attached to be movable in the sub-scanning direction. In the coating apparatus 1, the positions of the other three nozzles are adjusted with reference to the position of the third nozzle 17c when adjusting the nozzle position, which will be described later.

図1に示す塗布装置1では、4本のノズル17がノズル取付部141(図4参照)に固定された状態にて、ヘッド移動機構15により塗布ヘッド14が有機EL液を連続的に吐出しつつ主走査方向に移動し、塗布ヘッド14の主走査方向への移動が1回行われる毎に、基板移動機構12により基板9が副走査方向にステップ移動する。そして、ノズル17の基板9に対する主走査方向および副走査方向への相対移動が繰り返されることにより、基板9に有機EL液がストライプ状に塗布される。塗布装置1では、ヘッド移動機構15および基板移動機構12が、4本のノズル17をノズル取付部141と共に基板9に対して主走査方向および副走査方向に相対的に移動する主走査機構および副走査機構となる。   In the coating apparatus 1 shown in FIG. 1, the coating head 14 continuously discharges the organic EL liquid by the head moving mechanism 15 in a state where the four nozzles 17 are fixed to the nozzle mounting portion 141 (see FIG. 4). The substrate 9 is moved stepwise in the sub-scanning direction by the substrate moving mechanism 12 every time the coating head 14 is moved once in the main scanning direction. Then, the relative movement of the nozzle 17 relative to the substrate 9 in the main scanning direction and the sub-scanning direction is repeated, so that the organic EL liquid is applied to the substrate 9 in a stripe shape. In the coating apparatus 1, the head moving mechanism 15 and the substrate moving mechanism 12 move the four nozzles 17 together with the nozzle mounting portion 141 relative to the substrate 9 in the main scanning direction and the sub scanning direction. It becomes a scanning mechanism.

図1および図2に示すように、塗布装置1は、ノズル17の副走査方向に関する位置を調整するノズル位置調整部3、および、ノズル17の副走査方向に関する位置を検出するノズル位置検出部4をさらに備え、これらの構成も制御部2により制御される。塗布装置1では、ノズル位置調整部3およびノズル位置検出部4が塗布ヘッド14とは個別に設けられており、4本のノズル17およびノズル取付部141は、ヘッド移動機構15および基板移動機構12により、ノズル位置調整部3およびノズル位置検出部4から独立して移動する。換言すれば、ノズル位置調整部3およびノズル位置検出部4は、ヘッド移動機構15および基板移動機構12による基板9に対する塗布ヘッド14の相対移動から独立して配置される。   As shown in FIGS. 1 and 2, the coating apparatus 1 includes a nozzle position adjustment unit 3 that adjusts the position of the nozzle 17 in the sub-scanning direction, and a nozzle position detection unit 4 that detects the position of the nozzle 17 in the sub-scanning direction. These configurations are also controlled by the control unit 2. In the coating apparatus 1, the nozzle position adjustment unit 3 and the nozzle position detection unit 4 are provided separately from the coating head 14, and the four nozzles 17 and the nozzle mounting unit 141 include the head moving mechanism 15 and the substrate moving mechanism 12. Thus, the nozzle position adjusting unit 3 and the nozzle position detecting unit 4 are moved independently. In other words, the nozzle position adjusting unit 3 and the nozzle position detecting unit 4 are arranged independently from the relative movement of the coating head 14 with respect to the substrate 9 by the head moving mechanism 15 and the substrate moving mechanism 12.

ノズル位置調整部3は、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dにそれぞれ対応する3組のピッチ調整機構31およびステッピングモータ32を備える。図5は、第1ノズル17aに対応するピッチ調整機構31およびステッピングモータ32を、塗布ヘッド14と共に示す正面図である。図5では、ノズル取付部141の一部を、第1ノズル17aの中心軸を含む断面にて示している。   The nozzle position adjusting unit 3 includes three sets of pitch adjusting mechanisms 31 and stepping motors 32 corresponding to the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d, respectively. FIG. 5 is a front view showing the pitch adjusting mechanism 31 and the stepping motor 32 corresponding to the first nozzle 17 a together with the coating head 14. In FIG. 5, a part of the nozzle mounting portion 141 is shown in a cross section including the central axis of the first nozzle 17a.

図5に示すように、ピッチ調整機構31は、第1ノズル17aの下方に配置されるチャック部311、および、チャック部311を副走査方向に移動する機構であるマイクロメータ312を備え、マイクロメータ312は、ピッチ調整機構31を駆動する駆動部であるステッピングモータ32に接続される。チャック部311は、第1ノズル17aの下端部(すなわち、(−Z)側の端部)の(−Y)側および(+Y)側において上面(すなわち、(+Z)側の面)から突出する2つの突起部3111を備える。   As shown in FIG. 5, the pitch adjusting mechanism 31 includes a chuck portion 311 disposed below the first nozzle 17a, and a micrometer 312 that is a mechanism for moving the chuck portion 311 in the sub-scanning direction. 312 is connected to a stepping motor 32 which is a drive unit that drives the pitch adjusting mechanism 31. The chuck portion 311 protrudes from the upper surface (that is, the (+ Z) side surface) on the (−Y) side and the (+ Y) side of the lower end portion (that is, the (−Z) side end portion) of the first nozzle 17a. Two protrusions 3111 are provided.

ノズル位置調整部3では、制御部2の調整機構制御部21(図1および図2参照)によりステッピングモータ32が駆動されてチャック部311が副走査方向に進退することにより、2つの突起部3111のいずれか一方が第1ノズル17aの側面に当接して第1ノズル17aを副走査方向に向けて押す。これにより、第1ノズル17aが副走査方向に移動する。なお、第1ノズル17aを移動させる際には、第1ノズル固定部171aの固定ネジ1711(図3参照)は予め緩められている。   In the nozzle position adjusting unit 3, the stepping motor 32 is driven by the adjusting mechanism control unit 21 (see FIGS. 1 and 2) of the control unit 2 so that the chuck unit 311 advances and retreats in the sub-scanning direction, so that the two protrusions 3111 are moved. Any one of these contacts the side surface of the first nozzle 17a and pushes the first nozzle 17a in the sub-scanning direction. As a result, the first nozzle 17a moves in the sub-scanning direction. In addition, when moving the 1st nozzle 17a, the fixing screw 1711 (refer FIG. 3) of the 1st nozzle fixing | fixed part 171a is loosened previously.

図4に示す第2ノズル17bおよび第4ノズル17dにおいても同様に、制御部2の調整機構制御部21により各ノズルに対応するステッピングモータ32が制御されることによりピッチ調整機構31が駆動され、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dが副走査方向に移動する。図1および図2に示す塗布装置1では、3つのピッチ調整機構31により、第3ノズル17c(図4参照)を除く他の全てのノズルが副走査方向に個別に移動されることにより、副走査方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離(以下、「ノズル間距離」という。)が調整される。   Similarly, in the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d shown in FIG. 4, the pitch adjusting mechanism 31 is driven by the adjustment mechanism control unit 21 of the control unit 2 controlling the stepping motor 32 corresponding to each nozzle, The second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d move in the sub-scanning direction. In the coating apparatus 1 shown in FIG. 1 and FIG. 2, the three pitch adjusting mechanisms 31 move all the nozzles except the third nozzle 17c (see FIG. 4) individually in the sub-scanning direction. Each distance between two nozzles adjacent to each other in the scanning direction (hereinafter referred to as “inter-nozzle distance”) is adjusted.

ノズル位置検出部4は、4本のノズル17から吐出される有機EL液の4本の液柱を観察する光学系41、および、光学系41を介して有機EL液の4本の液柱を撮像して画像を取得する撮像部42(本実施の形態では、CCD(Charge Coupled Device)カメラ)を備える。光学系41および撮像部42は、ノズル17の下端よりも下方であって塗布ヘッド14の移動とは干渉しない位置に配置される。   The nozzle position detection unit 4 observes the four liquid columns of the organic EL liquid ejected from the four nozzles 17, and the four liquid columns of the organic EL liquid through the optical system 41. An imaging unit 42 (in this embodiment, a CCD (Charge Coupled Device) camera) that captures images and acquires images is provided. The optical system 41 and the imaging unit 42 are disposed at a position below the lower end of the nozzle 17 so as not to interfere with the movement of the coating head 14.

塗布装置1では、制御部2のピッチ検出部22により、撮像部42により取得された画像から各ノズル間距離が検出され、ピッチ検出部22の検出結果に基づいて(すなわち、光学系41による観察結果に基づいて)3つのステッピングモータ32が調整機構制御部21により制御されることによりノズル間距離が調整される。また、制御部2の液柱状態検出部23により、撮像部42により取得された画像に基づいて4本の液柱のそれぞれの形状と予め定められている所定の液柱形状との差異が検出され、液柱の形状が正常であるか否かが確認される。   In the coating apparatus 1, the distance between the nozzles is detected from the image acquired by the imaging unit 42 by the pitch detection unit 22 of the control unit 2, and based on the detection result of the pitch detection unit 22 (that is, observation by the optical system 41). The inter-nozzle distance is adjusted by controlling the three stepping motors 32 by the adjustment mechanism control unit 21 (based on the result). Further, the liquid column state detection unit 23 of the control unit 2 detects a difference between each of the four liquid columns and a predetermined liquid column shape based on the image acquired by the imaging unit 42. Then, it is confirmed whether or not the shape of the liquid column is normal.

次に、塗布装置1における複数のノズルの副走査方向に関するピッチ(以下、「ノズルピッチ」という。)の調整の流れについて説明し、その後、塗布装置1による有機EL液の塗布の流れについて説明する。図6.A、図6.Bおよび図6.Cは、ノズルピッチの調整の流れを示す図である。図6.Aないし図6.Cに示すように、塗布装置1においてノズルピッチが調整される際には、まず、塗布ヘッド14が図1および図2中に実線にて示す位置(すなわち、基板9の(+X)側の受液部16の上方であり、以下、「撮像位置」という。)に位置した状態で、制御部2により流動性材料供給部18が制御されて4本のノズルから有機EL液の吐出が開始される(ステップS11)。このとき、第1ノズル固定部171a、第2ノズル固定部171bおよび第4ノズル固定部171d(図4参照)の固定ネジは締められており、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dはノズル取付部141に固定されている。   Next, the flow of adjusting the pitch (hereinafter referred to as “nozzle pitch”) of the plurality of nozzles in the coating apparatus 1 in the sub-scanning direction will be described, and then the flow of applying the organic EL liquid by the coating apparatus 1 will be described. . FIG. A, FIG. B and FIG. C is a diagram showing a flow of nozzle pitch adjustment. FIG. A thru | or FIG. As shown in C, when the nozzle pitch is adjusted in the coating apparatus 1, first, the coating head 14 receives the position indicated by the solid line in FIGS. 1 and 2 (that is, the receiving on the (+ X) side of the substrate 9). The fluidic material supply unit 18 is controlled by the control unit 2 in a state of being located above the liquid unit 16 and hereinafter referred to as “imaging position”), and discharge of the organic EL liquid is started from the four nozzles. (Step S11). At this time, the fixing screws of the first nozzle fixing portion 171a, the second nozzle fixing portion 171b, and the fourth nozzle fixing portion 171d (see FIG. 4) are tightened, and the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17 d is fixed to the nozzle mounting part 141.

続いて、ヘッド移動機構15により塗布ヘッド14が撮像位置近傍において主走査方向に移動され、第1ノズル17a(図4参照)が光学系41による観察位置(すなわち、ノズル位置検出部4の撮像部42から所定距離だけ離れた位置)に位置する(ステップS12)。ノズル位置検出部4では、撮像部42によりフォーカス調整が自動的に行われた後、第1ノズル17aから吐出される有機EL液の液柱が、光学系41を介して(換言すれば、光学系41により観察されて)画像が取得される(ステップS13)。このとき、第1ノズル17aからの液柱は、有機EL液の塗布時の基板9の主面に相当する位置(本実施の形態では、第1ノズル17aの下端から約0.5mm下方の位置)にて撮像される。取得された画像は制御部2の液柱状態検出部23に送られる(ステップS14)。   Subsequently, the coating head 14 is moved in the main scanning direction in the vicinity of the imaging position by the head moving mechanism 15, and the first nozzle 17a (see FIG. 4) is observed by the optical system 41 (that is, the imaging unit of the nozzle position detection unit 4). (Position at a predetermined distance from 42) (step S12). In the nozzle position detection unit 4, after the focus adjustment is automatically performed by the imaging unit 42, the liquid column of the organic EL liquid discharged from the first nozzle 17 a passes through the optical system 41 (in other words, optical An image is acquired (observed by the system 41) (step S13). At this time, the liquid column from the first nozzle 17a corresponds to the main surface of the substrate 9 when the organic EL liquid is applied (in the present embodiment, a position about 0.5 mm below the lower end of the first nozzle 17a). ). The acquired image is sent to the liquid column state detection unit 23 of the control unit 2 (step S14).

第1ノズル17aからの液柱の画像が取得されると、制御部2により全てのノズルに対する撮像が終了していないことが確認され(ステップS15)、ステップS12に戻って、ヘッド移動機構15により第2ノズル17bが観察位置へと移動され、撮像部42により第2ノズル17bからの液柱の画像が取得されて液柱状態検出部23へと送られた後、再びステップS12へと戻る(ステップS12〜S15)。塗布装置1では、4本のノズルの全てに対して、観察位置への移動、液柱の画像の取得、および、液柱状態検出部23への画像の送出が順次行われる(ステップS12〜S15)。   When the image of the liquid column from the first nozzle 17a is acquired, it is confirmed by the control unit 2 that imaging for all the nozzles has not been completed (step S15), and the head moving mechanism 15 returns to step S12. The second nozzle 17b is moved to the observation position, an image of the liquid column from the second nozzle 17b is acquired by the imaging unit 42 and sent to the liquid column state detection unit 23, and then the process returns to step S12 again ( Steps S12 to S15). In the coating apparatus 1, the movement to the observation position, the acquisition of the liquid column image, and the transmission of the image to the liquid column state detection unit 23 are sequentially performed for all four nozzles (steps S12 to S15). ).

液柱状態検出部23では、4つの液柱の画像に対して画像処理が行われて各液柱の形状が求められる。具体的には、画像中における液柱と周囲との明暗の差に基づいて画像を2値化し、液柱に対して垂直な方向における画素値の変化を検出することにより液柱の幅(すなわち、液柱の径)が求められる。そして、液柱に平行な方向に沿って液柱の幅を順次求めることにより、液柱の形状が求められる。万一、ノズルの目詰まり等の吐出不良により液柱が途切れている場合(すなわち、吐出量が振動して吐出液が液滴状になっている場合)、液柱が途切れている部分では液柱に垂直な方向における画素値の変化が無いため、液柱の幅はゼロとなる。   In the liquid column state detection unit 23, image processing is performed on the images of the four liquid columns, and the shapes of the respective liquid columns are obtained. Specifically, the image is binarized based on the difference in brightness between the liquid column and the surroundings in the image, and the change in the pixel value in the direction perpendicular to the liquid column is detected, that is, the width of the liquid column (that is, , The diameter of the liquid column). And the shape of a liquid column is calculated | required by calculating | requiring the width | variety of a liquid column sequentially along the direction parallel to a liquid column. In the unlikely event that the liquid column is interrupted due to a discharge failure such as nozzle clogging (that is, when the discharge volume is oscillating and the discharge liquid is in the form of droplets), the liquid column is disconnected at the portion where the liquid column is interrupted. Since there is no change in the pixel value in the direction perpendicular to the column, the width of the liquid column is zero.

液柱状態検出部23では、画像から求められた液柱の形状(以下、「実形状」という。)と、予め定められて液柱状態検出部23に記憶されている所定の液柱形状(以下、「設定形状」という。)とが比較され、実形状と設定形状との差異が検出される(ステップS16)。実形状と設定形状との差異が予め定められている許容範囲外である場合には(ステップS17)、制御部2により液柱形状の異常が作業者に連絡され(ステップS171)、ノズルピッチの調整作業が一旦終了される。そして、連絡を受けた作業者等により有機EL液の吐出が停止された後、異常が検出されたノズルが検査され、必要に応じてノズルの洗浄や交換等が行われる。   In the liquid column state detection unit 23, the shape of the liquid column obtained from the image (hereinafter referred to as “actual shape”) and a predetermined liquid column shape (previously determined and stored in the liquid column state detection unit 23). Hereinafter, it is referred to as “set shape”), and a difference between the actual shape and the set shape is detected (step S16). If the difference between the actual shape and the set shape is outside the predetermined allowable range (step S17), the controller 2 notifies the operator of the liquid column shape abnormality (step S171), and the nozzle pitch is changed. The adjustment work is once completed. Then, after the discharge of the organic EL liquid is stopped by the worker who has received the communication, the nozzle in which the abnormality is detected is inspected, and the nozzle is cleaned or replaced as necessary.

一方、液柱の実形状と設定形状との差異が許容範囲内である場合(差異が全く検出されない場合も含む。)には(ステップS17)、ピッチ検出部22において4つの液柱の画像が合成され、当該合成画像に基づいて(換言すれば、光学系41による観察結果に基づいて)第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dからの液柱と第3ノズル17cからの液柱との間のそれぞれの距離が求められる(ステップS18)。そして、予め定められているノズルピッチ(上述のように、本実施の形態では隔壁ピッチの3倍に等しい距離であり、以下、「設定ノズルピッチ」という。)に基づいて、制御部2によりノズル位置の調整が必要か否かが確認される(ステップS19)。   On the other hand, when the difference between the actual shape of the liquid column and the set shape is within the allowable range (including the case where no difference is detected) (step S17), the pitch detection unit 22 displays images of the four liquid columns. Based on the synthesized image (in other words, based on the observation result by the optical system 41), the liquid column from the first nozzle 17a, the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d and the liquid from the third nozzle 17c are combined. Each distance between the pillars is obtained (step S18). Based on a predetermined nozzle pitch (as described above, the distance is equal to three times the partition wall pitch in the present embodiment, hereinafter referred to as “set nozzle pitch”), the control unit 2 performs nozzle It is confirmed whether or not position adjustment is necessary (step S19).

第1ノズル17aからの液柱と第3ノズル17cからの液柱との間の距離が設定ノズルピッチの2倍に等しく、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dからの液柱と第3ノズル17cからの液柱との間のそれぞれの距離が設定ノズルピッチに等しい場合は、ノズル位置の調整が不要と判断されノズルピッチの調整作業が終了する。   The distance between the liquid column from the first nozzle 17a and the liquid column from the third nozzle 17c is equal to twice the set nozzle pitch, and the liquid column from the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d and the third nozzle 17c. If the respective distances from the liquid column are equal to the set nozzle pitch, it is determined that adjustment of the nozzle position is unnecessary, and the nozzle pitch adjustment operation is completed.

逆に、ノズル位置の調整が必要であると判断された場合は、ステップS18にて求められたそれぞれの液柱間の距離に基づき、第3ノズル17cを基準として第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dの副走査方向への移動量が求められる(ステップS20)。具体的には、第1ノズル17aの移動量は、第1ノズル17aからの液柱と第3ノズル17cからの液柱との間の距離が設定ノズルピッチの2倍に等しくなるように求められ、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dの移動量は、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dからの液柱と第3ノズル17cからの液柱との間のそれぞれの距離が設定ノズルピッチに等しくなるように求められる。   On the other hand, if it is determined that the nozzle position needs to be adjusted, the first nozzle 17a and the second nozzle based on the third nozzle 17c based on the distance between the liquid columns obtained in step S18. The amount of movement of the 17b and the fourth nozzle 17d in the sub-scanning direction is obtained (step S20). Specifically, the amount of movement of the first nozzle 17a is determined so that the distance between the liquid column from the first nozzle 17a and the liquid column from the third nozzle 17c is equal to twice the set nozzle pitch. The amount of movement of the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d is such that the distance between the liquid column from the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d and the liquid column from the third nozzle 17c is equal to the set nozzle pitch. It is asked to become.

第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dの移動量が求められると、制御部2により流動性材料供給部18が制御されてノズルからの有機EL液の吐出が停止される(ステップS21)。続いて、ヘッド移動機構15により塗布ヘッド14が(+X)側に移動し、ノズル位置調整部3のチャック部311の上方(図1および図2中の右側に二点鎖線にて示す位置であり、以下、「ピッチ調整位置」という。)に位置する(ステップS22)。このとき、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dの下端部はそれぞれ、対応するチャック部311の2つの突起部3111の間に位置する。そして、作業者により第1ノズル固定部171a、第2ノズル固定部171bおよび第4ノズル固定部171dの固定ネジが緩められて第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dが副走査方向に移動可能とされる(ステップS23)。   When the movement amounts of the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are obtained, the flowable material supply unit 18 is controlled by the control unit 2, and the discharge of the organic EL liquid from the nozzle is stopped (step). S21). Subsequently, the coating head 14 is moved to the (+ X) side by the head moving mechanism 15 and is located above the chuck portion 311 of the nozzle position adjusting portion 3 (a position indicated by a two-dot chain line on the right side in FIGS. 1 and 2). , Hereinafter referred to as “pitch adjustment position”) (step S22). At this time, the lower ends of the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are positioned between the two protrusions 3111 of the corresponding chuck portion 311. Then, the fixing screws of the first nozzle fixing portion 171a, the second nozzle fixing portion 171b, and the fourth nozzle fixing portion 171d are loosened by the operator, and the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are moved in the sub-scanning direction. (Step S23).

ノズル位置調整部3では、調整機構制御部21により第1ノズル17aに対応するステッピングモータ32が制御されてピッチ調整機構31が駆動され、ステップS20において求められた移動量に従って第1ノズル17aが副走査方向に移動される。続いて、調整機構制御部21により第2ノズル17bに対応するピッチ調整機構31が駆動され、第2ノズル17bが移動量に従って副走査方向に移動され、その後、第4ノズル17dが移動量に従って副走査方向に移動される(ステップS24)。このように、塗布装置1では、ピッチ検出部22により求められた移動量に従って、第3ノズル17cを除く全てのノズルが副走査方向に個別に順次移動されることによりノズルピッチの調整が行われる。本実施の形態では、ノズルピッチが120μm〜700μmの範囲で調整される。塗布ヘッド14では、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dが個別に移動可能とされているため、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dと第3ノズル17cとの間のそれぞれの距離を任意に調整することができる。   In the nozzle position adjustment unit 3, the adjustment mechanism control unit 21 controls the stepping motor 32 corresponding to the first nozzle 17 a to drive the pitch adjustment mechanism 31, and the first nozzle 17 a is connected to the sub nozzle according to the movement amount obtained in step S <b> 20. It is moved in the scanning direction. Subsequently, the pitch adjustment mechanism 31 corresponding to the second nozzle 17b is driven by the adjustment mechanism control unit 21, the second nozzle 17b is moved in the sub-scanning direction according to the movement amount, and then the fourth nozzle 17d is sub-driven according to the movement amount. It is moved in the scanning direction (step S24). As described above, in the coating apparatus 1, the nozzle pitch is adjusted by sequentially moving all the nozzles except the third nozzle 17 c individually in the sub-scanning direction in accordance with the movement amount obtained by the pitch detection unit 22. . In the present embodiment, the nozzle pitch is adjusted in the range of 120 μm to 700 μm. In the coating head 14, since the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are individually movable, the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, the fourth nozzle 17d, the third nozzle 17c, Each distance between can be adjusted arbitrarily.

第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dの移動が終了すると、作業者により第1ノズル固定部171a、第2ノズル固定部171bおよび第4ノズル固定部171dの固定ネジが締められて第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dがノズル取付部141に固定される(ステップS25)。ノズルが固定されると、ヘッド移動機構15により塗布ヘッド14がピッチ調整位置から撮像位置へと移動する(ステップS26)。   When the movement of the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d is finished, the fixing screws of the first nozzle fixing portion 171a, the second nozzle fixing portion 171b, and the fourth nozzle fixing portion 171d are tightened by the operator. The first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are fixed to the nozzle mounting portion 141 (step S25). When the nozzle is fixed, the coating head 14 is moved from the pitch adjustment position to the imaging position by the head moving mechanism 15 (step S26).

塗布ヘッド14が撮像位置に位置すると、ステップS11に戻って有機EL液の吐出が再び開始され、各ノズルからの液柱が順次撮像されて液柱状態が確認された後、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dからの液柱と第3ノズル17cからの液柱との間のそれぞれの距離が求められてノズル位置の調整が必要か否かが確認される(ステップS11〜S19)。そして、ノズル位置の調整が不要と判断された場合は、ノズルピッチの調整作業が終了する。   When the coating head 14 is positioned at the imaging position, the process returns to step S11, and the discharge of the organic EL liquid is started again. After the liquid column from each nozzle is sequentially imaged and the liquid column state is confirmed, the first nozzle 17a, The respective distances between the liquid column from the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d and the liquid column from the third nozzle 17c are obtained, and it is confirmed whether or not the nozzle position needs to be adjusted (steps S11 to S11). S19). If it is determined that the adjustment of the nozzle position is unnecessary, the adjustment operation of the nozzle pitch ends.

また、ノズル位置の再調整が必要と判断された場合は、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dの移動量の算出、有機EL液の吐出停止、塗布ヘッド14のピッチ調整位置への移動、および、ノズルピッチの調整が行われた後、塗布ヘッド14が移動されて撮像位置へと再び位置する(ステップS20〜S26)。そして、ステップS11に戻って、液柱状態およびノズル位置の調整の要否が再度確認される(ステップS11〜S19)。塗布装置1では、ノズル位置の調整が不要と判断されるまでステップS20〜S26、および、ステップS11〜S19が繰り返されてノズルピッチの調整作業が終了する。   If it is determined that the nozzle position needs to be readjusted, the movement amount of the first nozzle 17a, the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d is calculated, the discharge of the organic EL liquid is stopped, and the pitch adjustment position of the coating head 14 After the movement and adjustment of the nozzle pitch are performed, the coating head 14 is moved and positioned again at the imaging position (steps S20 to S26). And it returns to step S11 and the necessity of adjustment of a liquid column state and a nozzle position is confirmed again (steps S11-S19). In the coating apparatus 1, steps S20 to S26 and steps S11 to S19 are repeated until it is determined that adjustment of the nozzle position is unnecessary, and the nozzle pitch adjustment operation is completed.

ノズルピッチの調整作業が終了すると、基板9が基板保持部11に載置されて保持され、アライメントマーク検出部13によりアライメントマークが撮像される。そして、アライメントマーク検出部13からの出力に基づいて基板移動機構12が駆動されて基板9が図1中に実線にて示す塗布開始位置に位置する。塗布ヘッド14は上述の通り、予め基板9の(+X)側の受液部16の上方(すなわち、上述の撮像位置)に位置している。   When the nozzle pitch adjustment operation is completed, the substrate 9 is placed and held on the substrate holding unit 11, and the alignment mark detection unit 13 images the alignment mark. Then, the substrate moving mechanism 12 is driven based on the output from the alignment mark detector 13, and the substrate 9 is positioned at the application start position indicated by the solid line in FIG. As described above, the coating head 14 is previously positioned above the liquid receiving part 16 on the (+ X) side of the substrate 9 (that is, the above-described imaging position).

続いて、流動性材料供給部18が制御されてノズル17から有機EL液の吐出が開始されるとともに、ヘッド移動機構15が駆動されて塗布ヘッド14の移動が開始される。本実施の形態では、塗布ヘッド14の移動速度は約1m/secとされる。塗布装置1では、4本のノズル17から同一種類の有機EL液を基板9に向けて連続的に吐出しつつ、ノズル17を図1中の(+X)側から(−X)方向に(すなわち、主走査方向に)移動することにより、基板9の塗布領域91上に予め形成された隔壁間の4つの溝に有機EL液が塗布される。塗布装置1では、4つの溝に塗布されたストライプ状の有機EL液は、副走査方向に関して隔壁ピッチの3倍に等しいピッチにて配列される。換言すれば、有機EL液が塗布された近接する2つの溝の間には、他の種類の有機EL液が塗布される予定の(あるいは、塗布された)2つの溝が挟まれる。   Subsequently, the flowable material supply unit 18 is controlled to start the discharge of the organic EL liquid from the nozzle 17, and the head moving mechanism 15 is driven to start the movement of the coating head 14. In the present embodiment, the moving speed of the coating head 14 is about 1 m / sec. In the coating apparatus 1, the same type of organic EL liquid is continuously discharged from the four nozzles 17 toward the substrate 9, and the nozzle 17 is moved in the (−X) direction from the (+ X) side in FIG. (In the main scanning direction), the organic EL liquid is applied to the four grooves between the partition walls formed in advance on the application region 91 of the substrate 9. In the coating apparatus 1, the stripe-shaped organic EL liquids applied to the four grooves are arranged at a pitch equal to three times the partition wall pitch in the sub-scanning direction. In other words, two grooves to which other types of organic EL liquids are to be applied (or applied) are sandwiched between two adjacent grooves to which the organic EL liquid is applied.

塗布ヘッド14が基板9の(−X)側の受液部16の上方(図1および図2中の左側に二点鎖線にて示す。)まで移動すると、基板移動機構12が駆動され、基板9が基板保持部11と共に図1中の(+Y)方向に隔壁ピッチの12倍の距離だけ移動する。このとき、塗布ヘッド14では、ノズル17から受液部16に向けて有機EL液が連続的に吐出されている。副走査方向における基板9の移動が終了すると、塗布ヘッド14がノズル17から有機EL液を吐出しつつ基板9の(−X)側から(+X)側へと移動する。   When the coating head 14 moves above the liquid receiving part 16 on the (−X) side of the substrate 9 (indicated by a two-dot chain line on the left side in FIGS. 1 and 2), the substrate moving mechanism 12 is driven, and the substrate is moved. 9 moves together with the substrate holder 11 in the (+ Y) direction in FIG. At this time, in the coating head 14, the organic EL liquid is continuously discharged from the nozzle 17 toward the liquid receiving unit 16. When the movement of the substrate 9 in the sub-scanning direction is completed, the coating head 14 moves from the (−X) side of the substrate 9 to the (+ X) side while discharging the organic EL liquid from the nozzle 17.

塗布装置1では、基板9に対する4本のノズル17の主走査および副走査が高速に繰り返されることにより、有機EL液が基板9上にストライプ状に塗布される。そして、基板9が図1に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動すると、ノズル17からの有機EL液の吐出が停止されて基板9に対する有機EL液の塗布が終了する。   In the coating apparatus 1, the organic EL liquid is applied on the substrate 9 in a stripe pattern by repeating the main scanning and the sub-scanning of the four nozzles 17 with respect to the substrate 9 at high speed. When the substrate 9 moves to the application end position indicated by the two-dot chain line in FIG. 1, the discharge of the organic EL liquid from the nozzle 17 is stopped and the application of the organic EL liquid to the substrate 9 is completed.

以上に説明したように、塗布装置1では、4本のノズルから吐出される有機EL液の4本の液柱がノズル位置検出部4の光学系41により観察され、光学系41による観察結果に基づいて求められた移動量に従って、ノズル位置調整部3の3つのピッチ調整機構31により第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dが副走査方向に個別に移動されることにより、複数のノズルの副走査方向に関するピッチ(すなわち、ノズルピッチ)の調整が行われる。ノズルからの有機EL液の液柱は直径は数十μmと非常に小さいため、肉眼では高精度に観察することは難しいが、塗布装置1では、光学系41による精度の高い観察結果に基づいてノズルピッチを高精度に調整することができる。   As described above, in the coating apparatus 1, four liquid columns of the organic EL liquid discharged from the four nozzles are observed by the optical system 41 of the nozzle position detection unit 4, and the observation result by the optical system 41 is obtained. The first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are individually moved in the sub-scanning direction by the three pitch adjustment mechanisms 31 of the nozzle position adjustment unit 3 according to the movement amount obtained based on the movement amount. The pitch of the nozzles in the sub-scanning direction (that is, the nozzle pitch) is adjusted. Since the diameter of the organic EL liquid column from the nozzle is very small, such as several tens of μm, it is difficult to observe with high accuracy with the naked eye. However, the coating apparatus 1 is based on the observation result with high accuracy by the optical system 41. The nozzle pitch can be adjusted with high accuracy.

また、塗布装置1では、ノズル位置検出部4の撮像部42によりノズルからの液柱の画像が取得され、副走査方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離が制御部2のピッチ検出部22により当該画像に基づいて検出される。これにより、ノズルピッチの調整作業において、ノズルピッチの検出に要する時間を短縮することができる。さらには、調整機構制御部21により、各ピッチ調整機構31を駆動するステッピングモータ32がピッチ検出部22の検出結果に基づいて制御されることにより、ノズルピッチを自動的に調整することができる。   In the coating apparatus 1, an image of the liquid column from the nozzle is acquired by the imaging unit 42 of the nozzle position detection unit 4, and each distance between two nozzles adjacent to each other in the sub-scanning direction is the pitch detection unit of the control unit 2. 22 based on the image. Thereby, it is possible to shorten the time required for detecting the nozzle pitch in the adjustment operation of the nozzle pitch. Further, the adjustment mechanism control unit 21 controls the stepping motor 32 that drives each pitch adjustment mechanism 31 based on the detection result of the pitch detection unit 22, so that the nozzle pitch can be automatically adjusted.

上述のように、塗布ヘッド14および基板保持部11は、ノズル位置調整部3(すなわち、ピッチ調整機構31およびステッピングモータ32)から独立して移動可能とされている。このため、有機EL液の塗布において、塗布ヘッド14の基板9に対する主走査および副走査に際して、ピッチ調整機構31を共に移動させる必要がない。このように、塗布装置1では、主走査機構および副走査機構により移動する部位(すなわち、ヘッド移動機構15および基板移動機構12により移動する塗布ヘッド14および基板保持部11)を小型化および軽量化することができ、その結果、塗布装置1の小型化を実現することができる。塗布装置1では、塗布ヘッド14の主走査が高速にて行われるため、塗布ヘッド14の小型化は特に好ましい。   As described above, the coating head 14 and the substrate holding unit 11 are movable independently from the nozzle position adjusting unit 3 (that is, the pitch adjusting mechanism 31 and the stepping motor 32). For this reason, in the application of the organic EL liquid, it is not necessary to move the pitch adjusting mechanism 31 at the time of main scanning and sub-scanning of the coating head 14 with respect to the substrate 9. As described above, in the coating apparatus 1, the portion moved by the main scanning mechanism and the sub-scanning mechanism (that is, the coating head 14 and the substrate holding unit 11 moved by the head moving mechanism 15 and the substrate moving mechanism 12) is reduced in size and weight. As a result, downsizing of the coating apparatus 1 can be realized. In the coating apparatus 1, since the main scanning of the coating head 14 is performed at a high speed, it is particularly preferable to reduce the size of the coating head 14.

塗布装置1では、光学系41によるノズルからの液柱の観察結果に基づいてノズルピッチが調整されるため、有機EL液を基板に対して実際に塗布することなくノズルピッチの調整を行うことができる。これにより、ノズルピッチ調整用の基板の搬出入等に係る作業時間および労力を削減することができる。液柱の観察に際しては、実際の塗布時の基板9の主面に相当する位置にて液柱を観察することにより、基板上に実際に塗布される有機EL液のピッチに等しい距離に基づいてノズルピッチの調整を行うことができる。   In the coating apparatus 1, since the nozzle pitch is adjusted based on the observation result of the liquid column from the nozzle by the optical system 41, the nozzle pitch can be adjusted without actually applying the organic EL liquid to the substrate. it can. Thereby, the work time and labor concerning carrying in / out of the board | substrate for nozzle pitch adjustment etc. can be reduced. When observing the liquid column, by observing the liquid column at a position corresponding to the main surface of the substrate 9 at the time of actual application, based on a distance equal to the pitch of the organic EL liquid actually applied on the substrate. The nozzle pitch can be adjusted.

塗布装置1では、ノズルからの液柱の観察に際して、有機EL液の塗布用の機構の一部(すなわち、ヘッド移動機構15)を利用して各ノズルの観察位置への移動(すなわち、フォーカス調整)が行われるため、装置構造を簡素化することができる。特に、ヘッド移動機構15による塗布ヘッド14の移動は、位置精度が非常に高度に制御されるため、フォーカス調整を容易かつ高精度に行うことができる。また、有機EL液を基板9に対して実際に塗布する際には、ノズルから吐出される有機EL液の液柱が所定の形状になっていることを確認する必要があるが、塗布装置1では、ノズルピッチ調整用の機構の一部(すなわち、光学系41および撮像部42)を利用して液柱形状の確認をすることができるため、装置構造をより簡素化することができる。   In the coating apparatus 1, when observing the liquid column from the nozzle, the movement of each nozzle to the observation position (that is, focus adjustment) using a part of the mechanism for coating the organic EL liquid (that is, the head moving mechanism 15). ) Is performed, the apparatus structure can be simplified. In particular, the movement of the coating head 14 by the head moving mechanism 15 is very highly controlled in position accuracy, so that focus adjustment can be performed easily and with high accuracy. Further, when the organic EL liquid is actually applied to the substrate 9, it is necessary to confirm that the liquid column of the organic EL liquid discharged from the nozzle has a predetermined shape. Then, since the liquid column shape can be confirmed using a part of the nozzle pitch adjusting mechanism (that is, the optical system 41 and the imaging unit 42), the structure of the apparatus can be further simplified.

次に、本発明の第2の実施の形態に係る塗布装置1aについて説明する。図7は、塗布装置1aの構成を示す正面図である。図7に示すように、塗布装置1aでは、ノズル位置検出部4が、基板保持部11の上方に配置される。その他の構成は図1および図2と同様であり、以下の説明において同符号を付す。塗布装置1aでは、ノズルピッチの調整に際して、4本のノズル17から吐出されて基板9a上に試験的に塗布された有機EL液のパターンが光学系41により観察され、撮像部42により当該有機EL液のパターンの画像が取得される。   Next, a coating apparatus 1a according to the second embodiment of the present invention will be described. FIG. 7 is a front view showing the configuration of the coating apparatus 1a. As shown in FIG. 7, in the coating apparatus 1 a, the nozzle position detection unit 4 is disposed above the substrate holding unit 11. Other configurations are the same as those in FIGS. 1 and 2, and the same reference numerals are given in the following description. In the coating apparatus 1a, when adjusting the nozzle pitch, the pattern of the organic EL liquid ejected from the four nozzles 17 and applied on the substrate 9a as a test is observed by the optical system 41, and the organic EL liquid crystal is observed by the imaging unit 42. An image of the liquid pattern is acquired.

図8.Aおよび図8.Bは、塗布装置1aによるノズルピッチの調整の流れを示す図である。図8.Aおよび図8.Bに示すように、塗布装置1aにおいてノズルピッチの調整が行われる際には、まず、試験塗布用の基板9aが基板保持部11に保持されて移動され、塗布開始位置(図1において実線にて示す位置)に位置する(ステップS31)。基板9a上には、第1の実施の形態で言及した隔壁は形成されていない。塗布ヘッド14は、予め基板9aの(+X)側において受液部16の上方(すなわち、図7中にて実線にて示す位置であり、以下、「待機位置」という。)に位置しており、4本のノズル17から有機EL液の吐出が開始される(ステップS32)。   FIG. A and FIG. B is a diagram showing a flow of nozzle pitch adjustment by the coating apparatus 1a. FIG. A and FIG. As shown in FIG. 1B, when the nozzle pitch is adjusted in the coating apparatus 1a, first, the test coating substrate 9a is held and moved by the substrate holder 11, and the coating start position (shown by the solid line in FIG. 1). (Step S31). On the substrate 9a, the partition mentioned in the first embodiment is not formed. The coating head 14 is previously positioned above the liquid receiving unit 16 on the (+ X) side of the substrate 9a (that is, a position indicated by a solid line in FIG. 7 and hereinafter referred to as a “standby position”). The discharge of the organic EL liquid is started from the four nozzles 17 (step S32).

続いて、ノズル17から同一種類の有機EL液を基板9aに向けて連続的に吐出しつつ、ノズル17を(+X)側から(−X)方向に(すなわち、主走査方向に)移動することにより、基板9a上に有機EL液が塗布される(ステップS33)。塗布ヘッド14が、図7中に二点鎖線にて示すように、基板9aの(−X)側の受液部16の上方まで移動すると、ノズル位置検出部4により基板9a上に塗布された有機EL液のパターン(すなわち、ストライプ状に配列された4本の有機EL液のライン)が撮像されて画像が取得され(ステップS34)、当該画像が制御部2のピッチ検出部22に送られる(ステップS35)。   Subsequently, the nozzle 17 is moved in the (−X) direction (ie, in the main scanning direction) from the (+ X) side while continuously discharging the same type of organic EL liquid from the nozzle 17 toward the substrate 9a. Thus, the organic EL liquid is applied on the substrate 9a (step S33). When the coating head 14 moves to above the liquid receiving unit 16 on the (−X) side of the substrate 9a as shown by a two-dot chain line in FIG. 7, the coating is applied onto the substrate 9a by the nozzle position detection unit 4. An organic EL liquid pattern (that is, four organic EL liquid lines arranged in stripes) is imaged to obtain an image (step S34), and the image is sent to the pitch detection unit 22 of the control unit 2. (Step S35).

ピッチ検出部22では、有機EL液のパターンの画像に基づいて、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17d(図4参照)から吐出されて塗布された有機EL液のラインと第3ノズル17c(図4参照)からの有機EL液のラインとの間のそれぞれの距離が求められる(ステップS36)。そして、設定ノズルピッチに基づいてノズル位置の調整が必要か否かが確認され(ステップS37)、調整が不要と判断された場合はノズルピッチの調整作業が終了する。   In the pitch detection unit 22, based on the pattern image of the organic EL liquid, the lines of the organic EL liquid applied and discharged from the first nozzle 17 a, the second nozzle 17 b, and the fourth nozzle 17 d (see FIG. 4) The respective distances from the line of the organic EL liquid from the three nozzles 17c (see FIG. 4) are obtained (step S36). Then, it is confirmed whether or not the nozzle position needs to be adjusted based on the set nozzle pitch (step S37). If it is determined that the adjustment is not necessary, the nozzle pitch adjustment operation ends.

ノズル位置の調整が必要であると判断された場合は、ステップS36にて求められたそれぞれのライン間の距離に基づき、第3ノズル17cを基準として第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dの副走査方向への移動量が求められる(ステップS38)。   If it is determined that the nozzle position needs to be adjusted, the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle are set based on the third nozzle 17c on the basis of the distance between the lines obtained in step S36. The amount of movement of the nozzle 17d in the sub-scanning direction is obtained (step S38).

第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dの移動量が求められると、第1の実施の形態と同様に、有機EL液の吐出が停止されて塗布ヘッド14がピッチ調整位置(すなわち、ノズル位置調整部3の上方であり、図7中の右側に二点鎖線にて示す位置)に移動され、各ノズル固定部の固定ネジが緩められた後、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dが、ステップS38にて求められた移動量に従って副走査方向に移動される(ステップS39〜S42)。そして、各固定ネジが締められて第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dがノズル取付部141に固定された後、塗布ヘッド14がピッチ調整位置から待機位置へと移動するとともに基板9aが(+Y)方向へとステップ移動される(ステップS43〜S45)。   When the movement amounts of the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are obtained, similarly to the first embodiment, the discharge of the organic EL liquid is stopped and the coating head 14 is moved to the pitch adjustment position (that is, The first nozzle 17a and the second nozzle are moved after the nozzle position adjusting unit 3 is moved to a position indicated by a two-dot chain line on the right side in FIG. 7 and the fixing screws of the nozzle fixing units are loosened. The 17b and the fourth nozzle 17d are moved in the sub-scanning direction according to the movement amount obtained in step S38 (steps S39 to S42). After the fixing screws are tightened and the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are fixed to the nozzle mounting portion 141, the coating head 14 moves from the pitch adjustment position to the standby position and the substrate. 9a is step-moved in the (+ Y) direction (steps S43 to S45).

塗布ヘッド14が待機位置に位置すると、ステップS32に戻って基板9aに対する有機EL液の塗布、基板9a上の有機EL液のパターンの撮像、ノズル位置の調整の要否の確認が行われる(ステップS32〜S37)。塗布装置1aでは、ノズル位置の調整が不要と判断されるまでステップS38〜S45、および、ステップS32〜S37が繰り返されてノズルピッチの調整作業が終了する。ノズルピッチの調整が終了すると、試験塗布用の基板9aが塗布装置1aから搬出される。その後の有機EL液の製品用の基板9への塗布の流れは第1の実施の形態と同様であるため説明を省略する。   When the coating head 14 is positioned at the standby position, the process returns to step S32, and the application of the organic EL liquid to the substrate 9a, the imaging of the organic EL liquid pattern on the substrate 9a, and the necessity of adjustment of the nozzle position are confirmed (step). S32 to S37). In the coating apparatus 1a, steps S38 to S45 and steps S32 to S37 are repeated until it is determined that adjustment of the nozzle position is unnecessary, and the nozzle pitch adjustment operation is completed. When the adjustment of the nozzle pitch is completed, the test coating substrate 9a is carried out of the coating apparatus 1a. Since the subsequent flow of application of the organic EL liquid to the product substrate 9 is the same as that in the first embodiment, description thereof is omitted.

以上に説明したように、塗布装置1aでは、第1の実施の形態と同様に、光学系41による精度の高い観察結果に基づいてノズルピッチを高精度に調整することができる。また、撮像部42およびピッチ検出部22により、ノズルピッチの検出に要する時間を短縮することができるとともに、ノズル位置調整部3および調整機構制御部21により、ノズルピッチを自動的に調整することができる。   As described above, in the coating apparatus 1a, the nozzle pitch can be adjusted with high accuracy based on the observation result with high accuracy by the optical system 41, as in the first embodiment. In addition, the time required for detecting the nozzle pitch can be shortened by the imaging unit 42 and the pitch detection unit 22, and the nozzle pitch can be automatically adjusted by the nozzle position adjustment unit 3 and the adjustment mechanism control unit 21. it can.

塗布装置1aでは、特に、基板9aに実際に塗布された有機EL液のパターンを観察することにより、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dからの有機EL液のラインと第3ノズル17cからの有機EL液のラインとの間のそれぞれの距離を容易に求めることができる。その結果、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dの移動量を容易に求めることができ、ノズルピッチの調整を簡素化することができる。   In the coating apparatus 1a, in particular, by observing the pattern of the organic EL liquid actually applied to the substrate 9a, the lines of the organic EL liquid from the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d and the third Each distance from the line of the organic EL liquid from the nozzle 17c can be easily obtained. As a result, the movement amounts of the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d can be easily obtained, and the adjustment of the nozzle pitch can be simplified.

次に、本発明の第3の実施の形態に係る塗布装置1bについて説明する。図9は、塗布装置1bの構成を示す正面図である。図9に示すように、塗布装置1bでは、ノズル位置検出部4が、基板9の(+X)側の受液部16の上方(以下、「撮像位置」という。)に位置する塗布ヘッド14の上方に配置される。その他の構成は図1および図2と同様であり、以下の説明において同符号を付す。塗布装置1bでは、ノズルピッチの調整に際して、光学系41により4本のノズル17が順次観察されて撮像部42によりノズル17の上端部(すなわち、(+Z)側の端部)の画像が取得される。   Next, a coating apparatus 1b according to a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 9 is a front view showing the configuration of the coating apparatus 1b. As shown in FIG. 9, in the coating apparatus 1 b, the nozzle position detection unit 4 of the coating head 14 located above the liquid receiving unit 16 on the (+ X) side of the substrate 9 (hereinafter referred to as “imaging position”). Arranged above. Other configurations are the same as those in FIGS. 1 and 2, and the same reference numerals are given in the following description. In the coating device 1b, when the nozzle pitch is adjusted, the four nozzles 17 are sequentially observed by the optical system 41, and an image of the upper end portion (that is, the (+ Z) side end portion) of the nozzle 17 is acquired by the imaging unit 42. The

図10.Aおよび図10.Bは、塗布装置1bによるノズルピッチの調整の流れを示す図である。図10.Aおよび図10.Bに示すように、塗布装置1bにおいてノズルピッチの調整が行われる際には、まず、ヘッド移動機構15により撮像位置に4本のノズル17が順次移動され、ノズル17が順次撮像されて画像が取得される(ステップS51)。取得された画像はピッチ検出部22に送られる(ステップS52)。   FIG. A and FIG. B is a figure which shows the flow of adjustment of the nozzle pitch by the coating device 1b. FIG. A and FIG. As shown in B, when the nozzle pitch is adjusted in the coating apparatus 1b, first, the four nozzles 17 are sequentially moved to the imaging position by the head moving mechanism 15, and the nozzles 17 are sequentially imaged to form an image. Obtained (step S51). The acquired image is sent to the pitch detector 22 (step S52).

ピッチ検出部22では、4本のノズル17の画像に基づいて第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dと第3ノズル17c(図4参照)との間のそれぞれの距離が求められ(ステップS53)、設定ノズルピッチに基づいてノズル位置の調整が必要か否かが確認される(ステップS54)。   In the pitch detection unit 22, the distances between the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, the fourth nozzle 17d, and the third nozzle 17c (see FIG. 4) are obtained based on the images of the four nozzles 17. (Step S53), it is confirmed whether or not the nozzle position needs to be adjusted based on the set nozzle pitch (Step S54).

ノズル位置の調整が不要と判断された場合はノズルピッチの調整作業が終了し、必要であると判断された場合は、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dの副走査方向への移動量が求められる(ステップS55)。そして、塗布ヘッド14がピッチ調整位置へと移動され、各ノズル固定部の固定ネジが緩められた後、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dが、ステップS55にて求められた移動量に従って副走査方向に移動される。さらに、各固定ネジが締められて第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dがノズル取付部141に固定された後、塗布ヘッド14がピッチ調整位置から撮像位置へと移動する(ステップS56〜S60)。   When it is determined that adjustment of the nozzle position is unnecessary, the adjustment operation of the nozzle pitch is finished, and when it is determined that adjustment is necessary, the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are moved in the sub-scanning direction. Is obtained (step S55). Then, after the coating head 14 is moved to the pitch adjustment position and the fixing screw of each nozzle fixing portion is loosened, the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are obtained in step S55. It is moved in the sub-scanning direction according to the movement amount. Furthermore, after each fixing screw is tightened and the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are fixed to the nozzle mounting portion 141, the coating head 14 moves from the pitch adjustment position to the imaging position (step). S56-S60).

塗布ヘッド14が撮像位置に位置すると、ステップS51に戻ってノズル17の撮像、および、ノズル位置の調整の要否の確認が行われ(ステップS51〜S54)、ノズル位置の調整が不要と判断されるまでステップS55〜S60、および、ステップS51〜S54が繰り返されてノズルピッチの調整作業が終了する。ノズルピッチの調整が終了した後の有機EL液の基板9への塗布の流れは第1の実施の形態と同様であるため説明を省略する。   When the coating head 14 is located at the imaging position, the process returns to step S51 to check whether the nozzle 17 is imaged and whether the nozzle position needs to be adjusted (steps S51 to S54), and it is determined that the nozzle position does not need to be adjusted. Steps S55 to S60 and Steps S51 to S54 are repeated until the nozzle pitch adjustment operation is completed. Since the flow of application of the organic EL liquid onto the substrate 9 after the adjustment of the nozzle pitch is the same as in the first embodiment, the description thereof is omitted.

塗布装置1bでも、第1の実施の形態と同様に、光学系41による精度の高い観察結果に基づいてノズルピッチを高精度に調整することができる。また、撮像部42およびピッチ検出部22により、ノズルピッチの検出に要する時間を短縮することができるとともに、ノズル位置調整部3および調整機構制御部21により、ノズルピッチを自動的に調整することができる。塗布装置1bの場合、ノズルピッチの調整に際して有機EL液の吐出が不要となる。   Also in the coating apparatus 1b, the nozzle pitch can be adjusted with high accuracy based on the observation result with high accuracy by the optical system 41, as in the first embodiment. In addition, the time required for detecting the nozzle pitch can be shortened by the imaging unit 42 and the pitch detection unit 22, and the nozzle pitch can be automatically adjusted by the nozzle position adjustment unit 3 and the adjustment mechanism control unit 21. it can. In the case of the coating apparatus 1b, it is not necessary to discharge the organic EL liquid when adjusting the nozzle pitch.

以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。   As mentioned above, although embodiment of this invention has been described, this invention is not limited to the said embodiment, A various change is possible.

例えば、ノズル位置調整部3では、ピッチ調整機構31およびステッピングモータ32が1組だけ設けられてもよい。この場合、当該ピッチ調整機構31が第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dに対応する位置へと順次移動しつつノズルピッチの調整が行われる。   For example, in the nozzle position adjustment unit 3, only one set of the pitch adjustment mechanism 31 and the stepping motor 32 may be provided. In this case, the nozzle pitch is adjusted while the pitch adjusting mechanism 31 sequentially moves to positions corresponding to the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d.

塗布ヘッド14では、第3ノズル17c以外の他のノズルのうちのいずれか1本が、ノズル取付部141に固定されてノズルピッチの調整の基準とされてもよい。また、4本のノズル17の全てが副走査方向に個別に移動可能に取り付けられてもよい。この場合、任意の3本のノズル、または、4本のノズル全てを副走査方向に移動することによりノズルピッチの調整が行われる。   In the coating head 14, any one of the nozzles other than the third nozzle 17 c may be fixed to the nozzle mounting portion 141 and used as a reference for adjusting the nozzle pitch. Further, all of the four nozzles 17 may be attached so as to be individually movable in the sub-scanning direction. In this case, the nozzle pitch is adjusted by moving any three nozzles or all four nozzles in the sub-scanning direction.

第1の実施の形態に係る塗布装置1では、光学系41および撮像部42を主走査方向に移動する移動機構が設けられ、液柱の撮像時におけるフォーカス調整が光学系41および撮像部42の主走査方向における移動により行われてもよい。また、ノズル位置検出部4では、ノズルピッチが大きい場合(例えば、ノズルピッチが200μm〜700μm程度の場合)やノズルの本数が多い場合等、撮像部42の視野に全ノズルからの液柱が収まりきらない場合には、光学系41および撮像部42を副走査方向に移動する移動機構が設けられ、光学系41および撮像部42の位置を変更して全液柱の撮像が順次行われる。   In the coating apparatus 1 according to the first embodiment, a moving mechanism that moves the optical system 41 and the imaging unit 42 in the main scanning direction is provided, and the focus adjustment during imaging of the liquid column is performed by the optical system 41 and the imaging unit 42. It may be performed by movement in the main scanning direction. Further, in the nozzle position detection unit 4, when the nozzle pitch is large (for example, when the nozzle pitch is about 200 μm to 700 μm) or when the number of nozzles is large, the liquid columns from all the nozzles fit in the field of view of the imaging unit 42. If not, a moving mechanism for moving the optical system 41 and the imaging unit 42 in the sub-scanning direction is provided, and the positions of the optical system 41 and the imaging unit 42 are changed, and imaging of all the liquid columns is sequentially performed.

上記実施の形態に係る塗布装置では、主走査機構および副走査機構により移動する部位を小型化および軽量化するという観点のみからは、光学系41および撮像部42は必ずしも装置内に設けられる必要はなく、塗布装置の外部に設けられてもよい。この場合であっても、ノズル位置調整部3によってノズルを移動することにより、ノズルピッチを高精度に調整することができる。   In the coating apparatus according to the above-described embodiment, the optical system 41 and the imaging unit 42 are not necessarily provided in the apparatus only from the viewpoint of reducing the size and weight of the portion moved by the main scanning mechanism and the sub-scanning mechanism. Alternatively, it may be provided outside the coating apparatus. Even in this case, the nozzle pitch can be adjusted with high accuracy by moving the nozzle by the nozzle position adjusting unit 3.

上記実施の形態に係る塗布装置では、塗布ヘッド14に設けられるノズルの本数は4本には限定されない。例えば、3本のノズルから、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)と互いに色が異なる3種類の有機EL材料をそれぞれ含む3種類の有機EL液が同時に吐出されて基板9に塗布されてもよい。この場合、隣接する2本のノズルの間の副走査方向に関する距離は、隔壁ピッチと等しくなるよう調整される。また、上記塗布装置では、正孔輸送材料を含む流動性材料が基板9に塗布されてもよい。ここで、「正孔輸送材料」とは、有機EL表示装置の正孔輸送層を形成する材料であり、「正孔輸送層」とは、有機EL材料により形成された有機EL層へと正孔を輸送する狭義の正孔輸送層のみを意味するのではなく、正孔の注入を行う正孔注入層も含む。   In the coating apparatus according to the above embodiment, the number of nozzles provided in the coating head 14 is not limited to four. For example, three types of organic EL liquids each containing three types of organic EL materials having different colors from red (R), green (G), and blue (B) are simultaneously ejected from three nozzles onto the substrate 9. It may be applied. In this case, the distance between the adjacent two nozzles in the sub-scanning direction is adjusted to be equal to the partition wall pitch. In the coating apparatus, a fluid material containing a hole transport material may be applied to the substrate 9. Here, the “hole transport material” is a material that forms a hole transport layer of an organic EL display device, and the “hole transport layer” is a positive electrode that is formed into an organic EL layer formed of an organic EL material. It means not only a narrowly defined hole transport layer that transports holes, but also includes a hole injection layer that injects holes.

上記塗布装置は、必ずしも有機EL表示装置用の有機EL材料または正孔輸送材料を画素形成材料として含む流動性材料の塗布のみに利用されるわけではなく、例えば、液晶表示装置やプラズマ表示装置等の平面表示装置用の基板に対し、着色材料や蛍光材料等の他の種類の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する場合に利用されてもよい。また、上記塗布装置は、平面表示装置用の基板以外にも、磁気ディスクや光ディスク用のガラス基板やセラミック基板、あるいは、半導体基板等、様々な基板に対する様々な種類の流動性材料の塗布に利用されてもよい。   The coating device is not necessarily used only for coating a fluid material containing an organic EL material or a hole transport material for an organic EL display device as a pixel forming material. For example, a liquid crystal display device, a plasma display device, etc. It may be used when a fluid material containing other types of pixel forming materials such as a coloring material and a fluorescent material is applied to the flat display device substrate. In addition to the substrate for flat display devices, the above coating device is used for coating various types of flowable materials on various substrates such as glass substrates and ceramic substrates for magnetic disks and optical disks, and semiconductor substrates. May be.

第1の実施の形態に係る塗布装置の平面図である。It is a top view of the coating device concerning a 1st embodiment. 塗布装置の正面図である。It is a front view of a coating device. 塗布ヘッドの正面図である。It is a front view of an application head. 塗布ヘッドの平面図である。It is a top view of a coating head. ピッチ調整機構およびステッピングモータの正面図である。It is a front view of a pitch adjustment mechanism and a stepping motor. ノズルピッチの調整の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of adjustment of a nozzle pitch. ノズルピッチの調整の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of adjustment of a nozzle pitch. ノズルピッチの調整の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of adjustment of a nozzle pitch. 第2の実施の形態に係る塗布装置の正面図である。It is a front view of the coating device which concerns on 2nd Embodiment. ノズルピッチの調整の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of adjustment of a nozzle pitch. ノズルピッチの調整の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of adjustment of a nozzle pitch. 第3の実施の形態に係る塗布装置の正面図である。It is a front view of the coating device which concerns on 3rd Embodiment. ノズルピッチの調整の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of adjustment of a nozzle pitch. ノズルピッチの調整の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of adjustment of a nozzle pitch.

符号の説明Explanation of symbols

1,1a,1b 塗布装置
9,9a 基板
11 基板保持部
12 基板移動機構
15 ヘッド移動機構
17 ノズル
21 調整機構制御部
22 ピッチ検出部
23 液柱状態検出部
31 ピッチ調整機構
32 ステッピングモータ
41 光学系
42 撮像部
141 ノズル取付部
S11〜S26,S31〜S45,S51〜S60,S171 ステップ
1, 1a, 1b Coating device 9, 9a Substrate 11 Substrate holding unit 12 Substrate moving mechanism 15 Head moving mechanism 17 Nozzle 21 Adjustment mechanism control unit 22 Pitch detection unit 23 Liquid column state detection unit 31 Pitch adjustment mechanism 32 Stepping motor 41 Optical system 42 imaging part 141 nozzle attachment part S11-S26, S31-S45, S51-S60, S171 Step

Claims (16)

基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板に向けて流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルと、
前記複数のノズルの全てまたは1つを除く他の全てが前記基板の主面に平行な第1の方向に関して個別に移動可能に取り付けられるノズル取付部と、
前記基板の前記主面に平行であって前記第1の方向に垂直な第2の方向に前記複数のノズルを前記ノズル取付部と共に前記基板に対して相対的に移動する主走査機構と、
前記複数のノズルおよび前記ノズル取付部を前記基板に対して前記第1の方向に相対的に移動する副走査機構と、
前記複数のノズルから吐出される前記流動性材料の複数の液柱、前記複数のノズルから吐出されて基板に塗布された前記流動性材料のパターン、または、前記複数のノズルを観察する光学系と、
前記光学系による観察結果に基づいて求められた移動量に従って前記複数のノズルの全てまたは1つを除く他の全てを前記第1の方向に個別に移動することにより前記第1の方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離を調整するピッチ調整機構と、
を備えることを特徴とする塗布装置。
An application device for applying a flowable material to a substrate,
A substrate holder for holding the substrate;
A plurality of nozzles that continuously discharge a flowable material toward the substrate;
A nozzle mounting portion to which all of the plurality of nozzles or all other than one are individually movably mounted in a first direction parallel to the main surface of the substrate;
A main scanning mechanism for moving the plurality of nozzles relative to the substrate together with the nozzle mounting portion in a second direction parallel to the main surface of the substrate and perpendicular to the first direction;
A sub-scanning mechanism for moving the plurality of nozzles and the nozzle mounting portion relative to the substrate in the first direction;
A plurality of liquid columns of the flowable material discharged from the plurality of nozzles, a pattern of the flowable material discharged from the plurality of nozzles and applied to a substrate, or an optical system for observing the plurality of nozzles ,
Adjacent to each other with respect to the first direction by individually moving all of the plurality of nozzles or all other than the nozzles individually in the first direction in accordance with the amount of movement determined based on the observation result by the optical system A pitch adjustment mechanism for adjusting each distance between the two nozzles;
A coating apparatus comprising:
請求項1に記載の塗布装置であって、
前記光学系を介して前記流動性材料の前記複数の液柱、前記流動性材料の前記パターン、または、前記複数のノズルの画像を取得する撮像部と、
前記画像から前記第1の方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離を検出するピッチ検出部と、
をさらに備えることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to claim 1,
An imaging unit that acquires images of the plurality of liquid columns of the fluid material, the pattern of the fluid material, or the plurality of nozzles via the optical system;
A pitch detector that detects each distance between two nozzles adjacent to each other in the first direction from the image;
A coating apparatus further comprising:
請求項2に記載の塗布装置であって、
前記ピッチ調整機構を駆動する駆動部と、
前記ピッチ検出部の検出結果に基づいて前記駆動部を制御する調整機構制御部と、
をさらに備えることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to claim 2,
A drive unit for driving the pitch adjustment mechanism;
An adjustment mechanism control unit that controls the drive unit based on a detection result of the pitch detection unit;
A coating apparatus further comprising:
請求項1ないし3のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記主走査機構および前記副走査機構により、前記複数のノズルおよび前記ノズル取付部が前記ピッチ調整機構から独立して移動することを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to any one of claims 1 to 3,
The coating apparatus, wherein the plurality of nozzles and the nozzle mounting portion are moved independently of the pitch adjusting mechanism by the main scanning mechanism and the sub-scanning mechanism.
請求項1ないし4のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記光学系により、前記複数のノズルから吐出される前記流動性材料の前記複数の液柱が観察されることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to any one of claims 1 to 4,
The coating apparatus, wherein the plurality of liquid columns of the fluid material discharged from the plurality of nozzles are observed by the optical system.
請求項2に記載の塗布装置であって、
前記撮像部により、前記複数のノズルから吐出される前記流動性材料の前記複数の液柱の画像が取得され、
前記塗布装置が、前記画像に基づいて前記複数の液柱のそれぞれの形状と予め定められている所定の液柱形状との差異を検出する液柱状態検出部をさらに備えることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to claim 2,
Images of the plurality of liquid columns of the fluid material discharged from the plurality of nozzles are acquired by the imaging unit,
The coating apparatus further comprising: a liquid column state detection unit that detects a difference between each shape of the plurality of liquid columns and a predetermined liquid column shape determined in advance based on the image. apparatus.
請求項1ないし4のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記光学系により、基板に塗布された前記流動性材料の前記パターンが観察されることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to any one of claims 1 to 4,
The coating apparatus, wherein the pattern of the flowable material applied to a substrate is observed by the optical system.
請求項1ないし7のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含むことを特徴とする塗布装置。
A coating apparatus according to any one of claims 1 to 7,
The coating apparatus, wherein the fluid material includes a pixel forming material for a flat display device.
請求項8に記載の塗布装置であって、
前記画素形成材料が、有機EL表示装置用の有機EL材料または正孔輸送材料であることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to claim 8,
The coating device, wherein the pixel forming material is an organic EL material or a hole transport material for an organic EL display device.
基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板に向けて流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルと、
前記複数のノズルの全てまたは1つを除く他の全てが前記基板の主面に平行な第1の方向に関して個別に移動可能に取り付けられるノズル取付部と、
前記基板の前記主面に平行であって前記第1の方向に垂直な第2の方向に前記複数のノズルを前記ノズル取付部と共に前記基板に対して相対的に移動する主走査機構と、
前記複数のノズルおよび前記ノズル取付部を前記基板に対して前記第1の方向に相対的に移動する副走査機構と、
前記主走査機構および前記副走査機構による前記複数のノズルおよび前記ノズル取付部の移動から独立して配置され、前記複数のノズルの全てまたは1つの除く全てを前記第1の方向に個別に移動することにより前記第1の方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離を調整するピッチ調整機構と、
を備えることを特徴とする塗布装置。
An application device for applying a flowable material to a substrate,
A substrate holder for holding the substrate;
A plurality of nozzles that continuously discharge a flowable material toward the substrate;
A nozzle mounting portion to which all of the plurality of nozzles or all other than one are individually movably mounted in a first direction parallel to the main surface of the substrate;
A main scanning mechanism for moving the plurality of nozzles relative to the substrate together with the nozzle mounting portion in a second direction parallel to the main surface of the substrate and perpendicular to the first direction;
A sub-scanning mechanism for moving the plurality of nozzles and the nozzle mounting portion relative to the substrate in the first direction;
Arranged independently of the movement of the plurality of nozzles and the nozzle mounting portion by the main scanning mechanism and the sub-scanning mechanism, all of the plurality of nozzles or all but one are individually moved in the first direction. A pitch adjusting mechanism for adjusting each distance between two nozzles adjacent to each other with respect to the first direction,
A coating apparatus comprising:
複数のノズルから基板に向けて流動性材料を連続的に吐出しつつ前記基板の主面に平行な主走査方向に前記複数のノズルを移動することにより前記基板に前記流動性材料を塗布する塗布装置において、前記複数のノズルの前記主走査方向に垂直な副走査方向に関するピッチの調整方法であって、
a)複数のノズルから吐出される流動性材料の複数の液柱、前記複数のノズルから吐出されて基板に塗布された前記流動性材料のパターン、または、前記複数のノズルを光学系を介して観察する工程と、
b)前記a)工程における観察結果に基づいて前記複数のノズルの全てまたは1つを除く他の全ての副走査方向への移動量を求める工程と、
c)前記移動量に従って前記複数のノズルの全てまたは1つを除く他の全てを前記副走査方向に個別に移動することにより前記副走査方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離を調整する工程と、
を備えることを特徴とするピッチの調整方法。
Application for applying the flowable material to the substrate by moving the plurality of nozzles in a main scanning direction parallel to the main surface of the substrate while continuously discharging the flowable material from the plurality of nozzles toward the substrate. In the apparatus, the pitch adjustment method for the sub-scanning direction perpendicular to the main scanning direction of the plurality of nozzles,
a) A plurality of liquid columns of fluid material discharged from a plurality of nozzles, a pattern of fluid material discharged from the plurality of nozzles and applied to a substrate, or the plurality of nozzles via an optical system An observing process;
b) determining the amount of movement in the sub-scanning direction except for all or one of the plurality of nozzles based on the observation result in the step a);
c) adjusting each distance between two nozzles adjacent to each other in the sub-scanning direction by individually moving all of the plurality of nozzles or all but one of them in the sub-scanning direction according to the movement amount. Process,
A pitch adjustment method comprising:
請求項11に記載のピッチの調整方法であって、
前記a)工程において、前記光学系を介して前記流動性材料の前記複数の液柱、前記流動性材料の前記パターン、または、前記複数のノズルの画像が取得され、
前記b)工程において、前記画像に基づいて前記移動量が求められることを特徴とするピッチの調整方法。
The pitch adjustment method according to claim 11,
In the step a), images of the plurality of liquid columns of the fluid material, the pattern of the fluid material, or the plurality of nozzles are acquired via the optical system,
In the step b), the amount of movement is obtained based on the image.
請求項12に記載のピッチの調整方法であって、
前記複数のノズルが主走査方向に関して離れて配列され、
前記a)工程において、前記複数のノズルが前記主走査方向に移動されて前記光学系による観察位置に順次位置するとともに前記流動性材料の前記複数の液柱、または、前記複数のノズルの画像が取得されることを特徴とするピッチの調整方法。
A pitch adjusting method according to claim 12,
The plurality of nozzles are arranged apart from each other in the main scanning direction;
In the step a), the plurality of nozzles are moved in the main scanning direction and sequentially positioned at the observation position by the optical system, and the plurality of liquid columns of the fluid material or the images of the plurality of nozzles are displayed. A pitch adjustment method characterized by being acquired.
請求項12または13に記載のピッチの調整方法であって、
前記a)工程において、前記複数のノズルから吐出される前記流動性材料の前記複数の液柱の画像が取得され、前記画像に基づいて前記複数の液柱のそれぞれの形状と予め定められている所定の液柱形状との差異が検出されることを特徴とするピッチの調整方法。
The pitch adjustment method according to claim 12 or 13,
In the step a), images of the plurality of liquid columns of the flowable material discharged from the plurality of nozzles are acquired, and the shapes of the plurality of liquid columns are predetermined based on the images. A pitch adjustment method, wherein a difference from a predetermined liquid column shape is detected.
請求項11ないし14のいずれかに記載のピッチの調整方法であって、
前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含むことを特徴とするピッチの調整方法。
The pitch adjusting method according to any one of claims 11 to 14,
The pitch adjusting method, wherein the fluid material includes a pixel forming material for a flat display device.
請求項15に記載のピッチの調整方法であって、
前記画素形成材料が、有機EL表示装置用の有機EL材料または正孔輸送材料であることを特徴とするピッチの調整方法。
The pitch adjustment method according to claim 15,
The pitch adjusting method, wherein the pixel forming material is an organic EL material or a hole transport material for an organic EL display device.
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