JP2007132990A - 偏光板、その打ち抜き方法、この偏光板を搭載した液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】高いコントラストの偏光板と該偏光板を収率よく製造できる偏光板の打ち抜き方法、該偏光板を用いた液晶表示装置を提供することである。
【解決手段】ロール状またはシート状の偏光板を打ち抜き装置を用いて枚葉体に打ち抜く偏光板の打ち抜き方法において、前記ロール状またはシート状の偏光板の端部を画像認識し、打ち抜き設定角度に対し、打ち抜き実行角度を微調整することを特徴とする偏光板の打ち抜き方法。
【選択図】なし

Description

本発明は、偏光板、その打ち抜き方法、この偏光板を用いた液晶表示装置に関する。

近年のノートパソコンやデスクトップパソコンの液晶モニター等、液晶表示装置の普及はめざましいものがあり、オフィスや家庭にあるパソコンのほとんどが液晶化されている。家庭用のテレビも薄型化が進み、大型液晶テレビの普及も進んでいる。大型液晶テレビ等の表示装置の性能として、コントラストが注目され、商品差別化の要因になっている。これらの表示装置のコントラストは、これに用いる偏光板の影響が大きい。

そのため、コントラストを高くするさまざまな方法が提案されている（例えば、特許文献１〜３参照）。しかしながら、これらの方法で得られた偏光板のコントラストのバラツキは大きく、性能のよいものを選別しているため、収率が低く問題であった。
特開２００５−１６４９５７号公報 特開２００５−１７３５８８号公報 特開２００５−２０２１０１号公報

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、高いコントラストの偏光板と該偏光板を収率よく製造できる偏光板の打ち抜き方法、該偏光板を用いた液晶表示装置を提供することである。

本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。

１．ロール状またはシート状の偏光板を打ち抜き装置を用いて枚葉体に打ち抜く偏光板の打ち抜き方法において、前記ロール状またはシート状の偏光板の端部を画像認識し、打ち抜き設定角度に対し、打ち抜き実行角度を微調整することを特徴とする偏光板の打ち抜き方法。

２．前記打ち抜き設定角度に対し、前記打ち抜き実行角度のズレ（絶対値）を１．０°以下の精度で微調整することを特徴とする１に記載の偏光板の打ち抜き方法。

３．１０枚の前記偏光板について測定したズレ（絶対値）の平均値が０．５°以下であることを特徴とする２に記載の偏光板の打ち抜き方法。

４．１０枚の前記偏光板について測定したズレ（絶対値）の標準偏差が０．５°以下であることを特徴とする２または３に記載の偏光板の打ち抜き方法。

５．前記偏光板のコントラストが５００以上であることを特徴とする１〜４のいずれか１項に記載の偏光板の打ち抜き方法。

６．１０枚の前記偏光板について測定したコントラストの平均値が６００以上であることを特徴とする５に記載の偏光板の打ち抜き方法。

７．１０枚の前記偏光板について測定したコントラストの標準偏差が１００以下であることを特徴とする５または６に記載の偏光板の打ち抜き方法。

８．前記偏光板が薄膜楕円偏光板であることを特徴とする１〜７のいずれか１項に記載の偏光板の打ち抜き方法。

９．１〜８のいずれか１項に記載の偏光板の打ち抜き方法により製造することを特徴とする偏光板。

１０．９に記載の偏光板を搭載することを特徴とする液晶表示装置。

本発明によれば、高いコントラストの偏光板と該偏光板を収率よく製造できる偏光板の打ち抜き方法、該偏光板を用いた液晶表示装置を提供することができる。

本発明者は鋭意検討の結果、偏光板のコントラストのバラツキが大きい原因は、偏光板を枚葉体（ピース状）に打ち抜き、切断するときのバラツキに起因することを見出した。つまり、偏光板を打ち抜くときに生じる、打ち抜き設定角度に対し打ち抜き実行角度の僅かなズレがコントラストの低下を発生させているため、本来の設計性能が十分発揮されていない。

本発明者は、偏光板打ち抜き、切断するときに、ロール状またはシート状の偏光板の端部を画像認識し、打ち抜き設定角度に対し打ち抜き実行角度を微調整することで、高いコントラストの得られる偏光板を収率よく生産できることを見出し、本発明に到達したものである。

以下、本発明について詳細に説明する。

（偏光板の打ち抜き方法）
本発明の偏光板の作製方法は後述するが、特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。例えば、セルロースエステルフィルムをアルカリ処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の両面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、同６−１１８２３２号に記載されているような接着性を高める方法を使用してもよい。

セルロースエステルフィルムと偏光膜を完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼合した後、乾燥し、液晶表示装置等のパネル貼合面には粘着剤を塗布し乾燥する。その後、粘着剤塗布面にはセパレートフィルムを、反対側の面にはプロテクトフィルムを貼合する。この後、そのままロール状に巻いてもよいし、シート状（大きめの枚葉）にカットしてもよい。その後、ロール状またはシート状でエージング処理を行う。エージング処理は通常２５〜４０℃、４５〜７０％ＲＨで３〜１０日程度行う。ロール状よりもシート状の方が、カールが付きにくいため好ましい。

エージング処理が終わった偏光板は、所望の大きさ、角度で切り出される。通常は偏光板の進相軸方向（セルロースエステルフィルムのＭＤ方向（長手方向））に対して０°、４５°、９０°に切り出される場合が多いが、それ以外にも液晶パネルの方式、設計に応じて任意の角度に打ち抜き、切り出される。

偏光板を切断する方法は、金型による打ち抜き、ギロチン式の切断、レーザー方式による切断等があるが、金型による打ち抜きが生産効率、打ち抜き精度の点で優れており好ましい。

本発明の偏光板の打ち抜き方法によれば、ロール状またはシート状の偏光板端部を画像認識し、打ち抜き設定角度に対し打ち抜き実行角度を微調整することで、進相軸が正確に所望の方向の偏光板を打ち抜き、切り出すことができる。

打ち抜き設定角度に対し、打ち抜き実行角度のズレ（絶対値）を１．０°以下の精度で微調整することが好ましい。０．５°以内がさらに好ましく、０．３°以内が最も好ましい。下限は０°である。打ち抜いて作製した偏光板１０枚の前記ズレ（絶対値）の平均値は０．５°以下、標準偏差は０．５°以下であることが好ましい。下限は、ズレ（絶対値）の平均値が０°、標準偏差は０°である。

また、前記偏光板のコントラストは５００以上であることが好ましい。６００以上がさらに好ましく、８００以上が最も好ましい。上限は特にない。また、打ち抜いて作製した偏光板１０枚のコントラストの平均値は６００以上、標準偏差は１００以下であることが好ましい。平均値の上限は特になく、標準偏差の下限は０である。

従来の偏光板打ち抜き方法では、位置決めを作業者の目視や図６に示すような位置決めピン１２に押し当てる方法で行っていたため、バラツキが大きかった。特に後述する薄膜楕円偏光板は膜厚が薄く、スティフネスも低いため、位置決めピンに当てると偏光板が変形し、設定角度に対してのズレやバラツキが大きく、その結果液晶パネルに搭載したときのコントラストの低下やバラツキの原因となっていた。本発明の方法によれば、偏光板は膜厚が薄く、スティフネスが低くても、設定角度に対してのズレやバラツキを非常に小さくすることが可能で、液晶パネルに搭載したときのコントラストが高く、バラツキも非常に小さくすることができるものである。

ここで、楕円偏光板とは位相差機能を持つ偏光板保護フィルムが一体化されている偏光板をいう。また、薄膜偏光板とは、通常の偏光板保護フィルムが８０〜１００μｍに対して、３０〜６０μｍの偏光板保護フィルムを使用した偏光板のことであり、粘着剤、セパレートフィルム、プロテクトフィルムを除いた偏光板全体の膜厚が８５〜１５０μｍ程度の偏光板をいう。従って、薄膜楕円偏光板とはこのような薄い楕円偏光板をいう。薄膜楕円偏光板は、打ち抜き角度がズレやすく、本発明は特に有効である。通常の打ち抜き方法では、位置決めをピンで行うことが多く、薄膜楕円偏光板の場合はズレやすい。

以下に具体的な例を挙げて説明するが、本発明はこれに限定されることはなく、広く使用が可能である。

エージング処理後のロール状またはシート状にカットした枚葉の偏光板を図１や図２に示す打ち抜き装置（打ち抜き装置の上側部分は図示せず）へ入れ、エアー吸引吸着部３によって打ち抜き装置の下側へ固定する。

図３は、図１に示す打ち抜き装置下側部分１にロール状またはシート状にカットした枚葉の偏光板を、端部基準線２に対し打ち抜き設定角度０°で吸着させた状態を示す模式図である。図４は、図２に示す打ち抜き装置下側部分１にロール状またはシート状にカットした枚葉の偏光板を、端部基準線２に対し打ち抜き設定角度４５°で吸着させた状態を示す模式図である。

次に、図５に示すように、ＣＣＤカメラ９でロール状またはシート状にカットした枚葉の偏光板端部５と端部基準線２を画像認識し、偏光板の角度のズレを計算する。計算した偏光板の角度のズレから打ち抜き部４の角度を設定した角度になるように調整し、打ち抜きを行う。次に、エアー吸引吸着部３を開放して、打ち抜きした偏光板と、残りの偏光板を取り出す。

この方法によって、進相軸が正確に所望の方向の偏光板を打ち抜き、切り出すことができる。

（セルロースエステルフィルム）
本発明の偏光板では、前述のように薄膜で位相差機能を持つ偏光板保護フィルムが一体化されている偏光板が好ましい。本発明の偏光板にはセルロースエステルフィルムが用いられる。

このセルロースエステルフィルムの原料となるセルロースエステルは、総アシル基置換度が２．５０〜２．６５のセルロースエステルが好ましい。総アシル基置換度が２．６５を越えると薄膜位相差フィルムに必要なレターデーション発現性が得られない。また、２．５０未満では、アルカリ鹸化処理で、紫外線吸収剤が溶出したり、セルロースエステルフィルムの表面がハガレ落ちたりして、鹸化液中に異物を発生させる。また、高温高湿条件で偏光子が劣化する。セルロースエステルは、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースエステルの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等、また特開平１０−４５８０４号、同８−２３１７６１号、米国特許第２，３１９，０５２号等に記載されているセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステル等がセルロースの低級脂肪酸エステルを用いることができる。

セルロースエステルのアシル基置換度の測定方法としては、ＡＳＴＭ−Ｄ−８１７−９６に準じて実施することができる。

上記脂肪酸の中でも、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートがより好ましい。

最も好ましいセルロースの低級脂肪酸エステルは、炭素数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基置換度をＸ、プロピオニル基またはブチリル基置換度をＹとすると ２．４０≦Ｘ＋Ｙ≦２．６０
０．７≦Ｙ≦１．１の範囲にあるものが用いられる。

０．８≦Ｙ≦１．０の範囲がさらに好ましい。プロピオニル基またはブチリル基置換度を上げることは、吸湿性の改善や弾性率を低下させるため好ましいが、上げすぎると耐熱性が劣化するため、上記の範囲が好ましい。また、ブチリル基よりプロピオニル基の方が耐熱性に優れるため好ましい。

セルロースエステルは、重量平均分子量Ｍｗを数平均分子量Ｍｎで除した分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが１．４〜３．０であることが好ましい。さらに好ましくは、１．４〜２．２である。この範囲にすることで、延伸した時の位相差の発現性、白濁等が向上する。

セルロースアセテートの分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）で３００００〜２０００００のものが用いられる。３５０００〜７００００のものがさらに好ましい。数平均分子量（Ｍｎ）が３００００未満だと、製膜時にシワが入りやすくなるので好ましくなく、数平均分子量（Ｍｎ）が２０００００を超えるとドープ粘度が非常に高くなるので生産上好ましくない。

セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用いて公知の方法で測定することができる。これを用いて数平均分子量Ｍｎ、重量平均分子量Ｍｗを算出し、その比（Ｍｗ／Ｍｎ）を計算することができる。

測定条件は以下の通りである。

溶媒： メチレンクロライド
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線： 標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に得ることが好ましい。

セルロースエステルは綿花リンターから合成されたセルロースエステルと木材パルプから合成されたセルロースエステル、それ以外の原料から合成されたセルロースエステルを単独あるいは混合して用いることができる。

また、セルロースエステルは、セルロースエステル中の微量金属成分によっても影響を受ける。これらは製造工程で使われる水に関係していると考えられるが、不溶性の核となり得るような成分は少ない方が好ましく、鉄、カルシウム、マグネシウム等の金属イオンは、有機の酸性基を含んでいる可能性のあるポリマー分解物等と塩形成することにより不溶物を形成する場合があり、少ないことが好ましい。鉄（Ｆｅ）成分については、１ｐｐｍ以下であることが好ましい。カルシウム（Ｃａ）成分については、地下水や河川の水等に多く含まれ、これが多いと硬水となり、飲料水としても不適当であるが、カルボン酸や、スルホン酸等の酸性成分と、また多くの配位子と配位化合物即ち、錯体を形成しやすく、多くの不溶なカルシウムに由来するスカム（不溶性の澱、濁り）を形成する。

カルシウム（Ｃａ）成分は６０ｐｐｍ以下、好ましくは０〜３０ｐｐｍである。マグネシウム（Ｍｇ）成分については、やはり多過ぎると不溶分を生ずるため、０〜７０ｐｐｍであることが好ましく、特に０〜２０ｐｐｍであることが好ましい。鉄（Ｆｅ）分の含量、カルシウム（Ｃａ）分含量、マグネシウム（Ｍｇ）分含量等の金属成分は、絶乾したセルロースエステルをマイクロダイジェスト湿式分解装置（硫硝酸分解）、アルカリ溶融で前処理を行った後、ＩＣＰ−ＡＥＳ（誘導結合プラズマ発光分光分析装置）を用いて分析を行うことによって求めることができる。

セルロースエステルの代わりに、セルロースエステルフィルムの返材を用いてもよい。返材とは、セルロースエステルフィルムを細かく粉砕した物で、セルロースエステルフィルムを製膜するときに発生する、フィルムの両サイド部分を切り落とした物や、擦り傷等でスペックアウトしたセルロースフィルム原反が使用される。

返材の使用比率は、主ドープ等の処方値の固形分に対して０〜７０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がさらに好ましく、２０〜４０質量％が最も好ましい。返材使用量の多い方が、濾過性に優れ、返材使用量の少ない方が、滑り性に優れるため、上記範囲にすることが好ましい。

返材を使用した場合は、その使用量に対応して、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子等セルロースエステルフィルムに含まれる添加剤は減量して、最終的なセルロースエステルフィルム組成が設計値になるように調整を行う。

（紫外線吸収剤）
本発明に係るセルロースエステルフィルムには紫外線吸収性モノマーとエチレン性不飽和モノマーから合成される紫外線吸収性共重合ポリマー（高分子紫外線吸収剤）を含有することが好ましい。

紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマーの重量平均分子量が２０００〜３００００であることが好ましく、より好ましくは５０００〜２００００である。

本発明に用いられる紫外線吸収性ポリマーの重量平均分子量は、公知の分子量調節方法で調整することができる。そのような分子量調節方法としては、例えば四塩化炭素、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸オクチル等の連鎖移動剤を添加する方法等が挙げられる。重合温度は通常室温〜１３０℃、好ましくは５０〜１００℃で行われる。

本発明に用いられる紫外線吸収性ポリマーは、紫外線吸収性モノマーのみの単重合体であっても、他の重合性モノマーとの共重合体であってもよいが、共重合可能な他の重合性モノマーとしては、例えば、スチレン誘導体（例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルナフタレン等）、アクリル酸エステル誘導体（例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ｉ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジル等）、メタクリル酸エステル誘導体（例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ｉ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル等）、アルキルビニルエーテル（例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等）、アルキルビニルエステル（例えば、ギ酸ビニル、酢酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等）、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和化合物が挙げられる。好ましくは、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、酢酸ビニルである。

紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマー中の紫外線吸収性モノマー以外の共重合成分が、親水性のエチレン性不飽和モノマーを少なくとも１種含有することも好ましい。

親水性のエチレン性不飽和モノマーとしては、親水性で分子中に重合可能な不飽和二重結合を有するもので有れば特に制限されず、例えば、アクリル酸あるいはメタクリル酸等の不飽和カルボン酸、若しくはヒドロキシル基またはエーテル結合を有する、アクリル酸若しくはメタクリル酸エステル（例えば、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、２，３−ジヒドロキシ−２−メチルプロピルメタクリレート、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸２−エトキシエチル、アクリル酸ジエチレングリコールエトキシレート、アクリル酸３−メトキシブチル等）、アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド等の（Ｎ−置換）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルオキサゾリドン等が挙げられる。

親水性のエチレン性不飽和モノマーとしては、水酸基若しくはカルボキシル基を分子内に有する（メタ）アクリレートが好ましく、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピルが特に好ましい。

これらの重合性モノマーは、１種、または２種以上併用して紫外線吸収性モノマーと共重合させることができる。

本発明に用いられる紫外線吸収性共重合ポリマーの重合方法は、特に問わないが、従来公知の方法を広く採用することができ、例えば、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等が挙げられる。ラジカル重合法の開始剤としては、例えば、アゾ化合物、過酸化物等が挙げられ、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、アゾビスイソブチル酸ジエステル誘導体、過酸化ベンゾイル、過酸化水素等が挙げられる。重合溶媒は特に問わないが、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、メタノール等のアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、水溶媒等が挙げられる。溶媒の選択により、均一系で重合する溶液重合、生成したポリマーが沈澱する沈澱重合、ミセル状態で重合する乳化重合、懸濁状態で重合する懸濁重合を行うこともできる。ただし、乳化重合によって得られる紫外線吸収性ラテックスは光学フィルム用途として適していない。

上記紫外線吸収性モノマー、これと共重合可能な重合性モノマー及び親水性のエチレン性不飽和モノマーの使用割合は、得られる紫外線吸収性共重合ポリマーと他の透明ポリマーとの相溶性、光学フィルムの透明性や機械的強度に対する影響を考慮して適宜選択される。

紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマー中の紫外線吸収性モノマーの含有量が１〜７０質量％であることが好ましく、より好ましくは、５〜６０質量％である。紫外線吸収性ポリマーにおける紫外線モノマーの含有量が１質量％未満の場合、所望の紫外線吸収性能を満たそうとした場合に多量の紫外線吸収性ポリマーを使用しなければならず、ヘイズの上昇あるいは析出等により透明性が低下し、フィルム強度を低下させる要因となる。一方、紫外線吸収性ポリマーにおける紫外線モノマーの含有量が７０質量％を超えた場合、他のポリマーとの相溶性が低下するため、透明な光学フィルムを得ることができない。また、溶媒に対する溶解度が低くなり、フィルム作製の際の作業性、生産性が劣る。

本発明では、紫外線吸収剤に親水性エチレン性不飽和モノマーを含むことが好ましい。親水性エチレン性不飽和モノマーは、上記紫外線吸収性共重合体中に、５〜５０質量％含むことが好ましい。５質量％以上で相溶性の改良し、５０質量％以下でメチレンクロライド等の溶剤への溶解性が良化するため好ましい。親水性エチレン性不飽和モノマーのさらに好ましい含量は１０〜２５質量％である。

紫外線吸収性モノマー及び親水性モノマーの好ましい含有量を満たすために、両者に加え、さらに分子中に親水性基を有さないエチレン性不飽和モノマーを共重合させることが好ましい。

紫外線吸収性モノマー及び（非）親水性エチレン性不飽和モノマーは、各々２種以上混合して共重合させてもよい。

本発明に用いられる紫外線吸収剤、紫外線吸収性モノマー及びその中間体は公知の文献を参照して合成することができる。例えば、米国特許第３，０７２，５８５号、同３，１５９，６４６号、同３，３９９，１７３号、同３，７６１，２７２号、同４，０２８，３３１号、同５，６８３，８６１号、ヨーロッパ特許第８６，３００，４１６号、特開昭６３−２２７５７５号、同６３−１８５９６９号、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ．Ｖ．２０（２）、１６９−１７６及びＣｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ Ｖ．１０９、Ｎｏ．１９１３８９等を参照して合成することができる。

紫外線吸収性ポリマーは、必要に応じて他の紫外線吸収性ポリマーや低分子量の紫外線吸収剤を併用することができる。しかし、他の紫外線吸収ポリマーは、十分な紫外線吸収性能が得られなかったり、相溶性が十分ではないため、少量の使用が好ましい。また、低分子量の紫外線吸収剤は、ブリードアウトやアルカリ鹸化処理の異物原因となるため、少量の使用が好ましく、使用しないことが最も好ましい。

低分子量の紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができる。

紫外線吸収剤及び紫外線吸収性ポリマーの添加方法は、直接添加してもよいが、生産性の優れるインライン添加が好ましい。インライン添加は、予め有機溶媒（例えば、メタノール、エタノール、メチレンクロライド等）に溶解させた後、インラインミキサー等でドープ組成中に添加する方法である。

紫外線吸収性ポリマーの使用量は、化合物の種類、使用条件等により一様ではないが、セルロースエステルフィルム１ｍ²当たり０．６〜９．０ｇが好ましく、１．２〜６．０がさらに好ましく、２．０〜４．０が特に好ましい。

さらに、液晶劣化防止の観点から、波長３８０ｎｍ以下の紫外線吸収性能に優れ、かつ、良好な液晶表示性の観点から、４００ｎｍ以上の可視光吸収が少ないものが好ましい。本発明においては、特に、波長３８０ｎｍでの透過率が８％以下であることが好ましく、４％以下がさらに好ましく、１％以下であることが特に好ましい。

（多価アルコールエステル）
本発明に係るセルロースエステルフィルムには多価アルコールエステルを含有することが好ましい。

多価アルコールエステルは、２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。

好ましい多価アルコールの例としては、例えば、アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等を挙げることができる。中でも、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールが好ましい。

モノカルボン酸としては、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると、透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。

脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることがさらに好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を用いるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。

好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上持つ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に、安息香酸が好ましい。

多価アルコールエステルの分子量３００〜１５００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることがさらに好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、二種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。

多価アルコールエステルの含有量は、セルロースエステルフィルム中に１〜１５質量％含有することが好ましく、特に３〜１０質量％含有することが好ましい。

（エステル系可塑剤）
本発明に係るセルロースエステルフィルムにはエステル系可塑剤を含有することが好ましい。

エステル系可塑剤は特に限定されないが、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有するエステル系可塑剤を好ましく用いることができる。好ましいエステル系可塑剤としては、特に限定されないが、例えば、芳香族末端エステル系可塑剤が挙げられる。

エステル系可塑剤のベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種または２種以上の混合物として使用することができる。

エステル系可塑剤の炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用される。特に炭素数２〜１２のアルキレングリコールがセルロースエステルとの相溶性に優れているため、特に好ましい。

また、芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用できる。

芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ１種または２種以上の混合物として使用される。炭素数６〜１２のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５ナフタレンジカルボン酸、１，４ナフタレンジカルボン酸等がある。

エステル系可塑剤は、数平均分子量が、好ましくは３００〜１５００、より好ましくは４００〜１０００の範囲が好適である。また、その酸価は、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものが好適である。

以下、芳香族末端エステル系可塑剤の合成例を示す。

〈芳香族末端エステル１〉
反応容器にフタル酸４１０部、安息香酸６１０部、１，２−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を一括して仕込み窒素気流中で攪拌下、還流凝縮器を付して過剰の１価アルコールを還流させながら、酸価が２以下になるまで１３０〜２５０℃で加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで２００〜２３０℃で１．３３×１０⁴Ｐａ〜最終的に４．０×１０²Ｐａ以下の減圧下、留出分を除去し、この後濾過して酸価が０．２の芳香族末端エステル１を得た。

〈芳香族末端エステル２〉
反応容器に、フタル酸４１０部、安息香酸６１０部、１，３−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外は芳香族末端エステル１と全く同様にして酸価が０．１の芳香族末端エステル２を得た。

〈芳香族末端エステル３〉
反応容器に、フタル酸４１０部、安息香酸６１０部、１，３−ブタンジオール４９５部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．４０部を用いる以外は芳香族末端エステル１と全く同様にして酸価が０．０５の芳香族末端エステル３を得た。

〈芳香族末端エステル４〉
反応容器に、テレフタル酸４１０部、安息香酸６１０部、１，２−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外は芳香族末端エステル１と全く同様にして酸価が０．１の芳香族末端エステル４を得た。

〈芳香族末端エステル５〉
反応容器に、テレフタル酸４１０部、安息香酸６１０部、１，３−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外は芳香族末端エステル１と全く同様にして酸価が０．１の芳香族末端エステル５を得た。

〈芳香族末端エステル６〉
反応容器に、テレフタル酸４１０部、安息香酸６１０部、１，３−ブタンジオール４９５部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．４０部を用いる以外は芳香族末端エステル１と全く同様にして酸価が０．０５の芳香族末端エステル６を得た。

〈芳香族末端エステル７〉
反応容器に、イソフタル酸４１０部、安息香酸６１０部、１，２−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外は芳香族末端エステル１と全く同様にして酸価が０．１の芳香族末端エステル７を得た。

〈芳香族末端エステル８〉
反応容器に、イソフタル酸４１０部、安息香酸６１０部、１，３−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外は芳香族末端エステル１と全く同様にして酸価が０．１の芳香族末端エステル８を得た。

〈芳香族末端エステル９〉
反応容器に、イソフタル酸４１０部、安息香酸６１０部、１，３−ブタンジオール４９５部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．４０部を用いる以外は芳香族末端エステル１と全く同様にして酸価が０．０５の芳香族末端エステル９を得た。

芳香族末端エステル系可塑剤の含有量は、セルロースエステルフィルム中に１〜２０質量％含有することが好ましく、特に３〜１１質量％含有することが好ましい。

多価アルコールエステルと芳香族末端エステル系可塑剤の合計した含有量は、セルロースエステルフィルム中に５〜２０質量％含有することが好ましく、特に７〜１５質量％含有することが好ましい。

（その他の添加剤）
上記の成分のほか、本発明に係るセルロースエステルフィルムには、以下のような成分を含んでもよい。

本発明に係わるセルロースエステルフィルムには、酸化防止剤を含有していてもよい。例えば特開平５−１９７０７３号公報に記載されているような、過酸化物分解剤、ラジカル連鎖禁止剤、金属不活性剤または酸捕捉剤を含有していてもよい。これらの化合物の添加量は、セルロースエステルに対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍがさらに好ましい。

また本発明において、セルロースエステルフィルム中に、微粒子のマット剤を含有するのが好ましく、微粒子のマット剤としては、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を含有させることが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さくできるので好ましい。微粒子の２次粒子の平均粒径は０．０１〜１．０μｍの範囲で、その含有量はセルロースエステルに対して０．００５〜０．３質量％が好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子には有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下できるため好ましい。表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類（特にメチル基を有するアルコキシシラン類）、シラザン、シロキサン等が挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方がマット効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れるため、好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍで、より好ましくは７〜１６ｎｍである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、通常、凝集体として存在しセルロースエステルフィルム表面に０．０１〜１．０μｍの凹凸を生成させることが好ましい。二酸化ケイ素の微粒子としてはアエロジル（株）製のＡＥＲＯＳＩＬ ２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２，ＯＸ５０、ＴＴ６００等を挙げることができ、好ましくはＡＥＲＯＳＩＬ ２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２である。これらのマット剤は２種以上併用してもよい。２種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することができる。この場合、平均粒径や材質の異なるマット剤、例えばＡＥＲＯＳＩＬ ２００ＶとＲ９７２Ｖを質量比で０．１：９９．９〜９９．９〜０．１の範囲で使用できる。

（セルロースエステルフィルムの製造方法）
次に、本発明に係るセルロースエステルフィルムの製造方法について述べる。

セルロースエステルドープの調製方法について述べる。セルロースエステルに対する良溶媒を主とする有機溶媒に溶解釜中でフレーク状のセルロースエステルを攪拌しながら溶解し、ドープを形成する。溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９−９５５４４号、同９−９５５５７号または同９−９５５３８号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平１１−２１３７９号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々の溶解方法がある。溶解後ドープを濾材で濾過し、脱泡してポンプで次工程に送る。ドープ中のセルロースエステルの濃度は１０〜３５質量％程度である。さらに好ましくは、１５〜２５質量％である。本発明に有用なポリマーをセルロースエステルドープ中に含有させるには、予め有機溶媒に該ポリマーを溶解してから添加、セルロースエステルドープに直接添加等、添加方法については、制限なく行うことができる。この場合、ポリマーがドープ中で白濁したり、相分離したりしないように添加する。添加量については、前記の通りである。

セルロースエステルに対する良溶媒としての有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、ギ酸エチル、アセトン、シクロヘキサノン、アセト酢酸メチル、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、４−メチル−１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、塩化メチレン、ブロモプロパン等を挙げることができ、酢酸メチル、アセトン、塩化メチレンを好ましく用いられる。しかし最近の環境問題から非塩素系の有機溶媒の方が好ましい傾向にある。また、これらの有機溶媒に、メタノール、エタノール、ブタノール等の低級アルコールを併用すると、セルロースエステルの有機溶媒への溶解性が向上したりドープ粘度を低減できるので好ましい。特に沸点が低く、毒性の少ないエタノールが好ましい。本発明に係るドープに使用する有機溶媒は、セルロースエステルの良溶媒と貧溶媒を混合して使用することが、生産効率の点で好ましく、良溶媒と貧溶媒の混合比率の好ましい範囲は、良溶媒が７０〜９８質量％であり、貧溶媒が２〜３０質量％である。本発明に用いられる良溶媒、貧溶媒とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶媒、単独では溶解しないものを貧溶媒と定義している。本発明に係るドープに使用する貧溶媒としては、特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、アセトン、シクロヘキサノン等を好ましく使用し得る。本発明に有用なエステル系可塑剤に対しても、有機溶媒の選定は、セルロースエステルの良溶媒を用いるのが好ましい。前記のように、低分子可塑剤を使用する場合には、通常の添加方法で行うことができ、ドープ中に直接添加しても、予め有機溶媒に溶解してからドープ中に注ぎ入れてもよい。

本発明において、前記のような種々の添加剤をセルロースエステルドープに添加する際、セルロースエステルドープと各種添加剤を少量のセルロースエステルとを溶解させた溶液にしてインライン添加し混合を行うこともでき好ましい。例えば、スタチックミキサーＳＷＪ（東レ静止型管内混合器 Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）（東レエンジニアリング製）のようなインラインミキサーを使用するのが好ましい。インラインミキサーを用いる場合、セルロースエステルを高圧下で濃縮溶解したドープに適用するのが好ましく、加圧容器の種類は特に問うところではなく、所定の圧力に耐えることができ、加圧下で加熱、攪拌ができればよい。

本発明において、セルロースエステルドープは濾過することによって異物、特に液晶画像表示装置において、画像と認識しまごう異物は除去しなければならい。偏光板保護フィルムの品質は、この濾過によって決まるといってよい。濾過に使用する濾材は絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生しやすく、濾材の交換を頻繁に行わなければならず、生産性を低下させるという問題点ある。このため、本発明のセルロースエステルドープの濾材は、絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下のものが好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの範囲がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの範囲の濾材がさらに好ましい。濾材の材質には特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック繊維製の濾材やステンレス繊維等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。本発明のセルロースエステルドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶媒の常圧での沸点以上でかつ溶媒が沸騰しない範囲の温度で加圧下加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の差圧（以下、濾圧とすることがある）の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度範囲は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃の範囲であることがさらに好ましい。濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６×１０⁶Ｐａ以下であることが好ましく、１．２×１０⁶Ｐａ以下であることがより好ましく、１．０×１０⁶Ｐａ以下であることがさらに好ましい。原料のセルロースにアシル基の未置換若しくは低置換度のセルロースエステルが含まれていると異物故障（以下輝点とすることがある）が発生することがある。輝点は直交状態（クロスニコル）の２枚の偏光板の間にセルロースエステルフィルムを置き、光を片側から照射して、その反対側から光学顕微鏡（５０倍）で観察すると、正常なセルロースエステルフィルムであれば、光が遮断されていて、黒く何も見えないが、異物があるとそこから光が漏れて、スポット状に光って見える現象である。輝点の直径が大きいほど液晶画像表示装置とした場合実害が大きく、５０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、さらに８μｍ以下が好ましい。なお、輝点の直径とは、輝点を真円に近似して測定する直径を意味する。輝点は上記の直径のものが４００個／ｃｍ²以下であれば実用上問題ないが、３００個／ｃｍ²以下が好ましく、２００個／ｃｍ²以下がより好ましい。このような輝点の発生数及び大きさを減少させるために、細かい異物を十分濾過する必要がある。また、特開２０００−１３７１１５号公報に記載のような、一度製膜したセルロースエステルフィルムの粉砕品をドープにある割合再添加して、セルロースエステル及びその添加剤の原料とする方法は輝点を低減することができるため好ましく用いることができる。

次に、セルロースエステルドープを金属支持体上に流延する工程、金属支持体上での乾燥工程及びウェブを金属支持体から剥離する剥離工程について述べる。金属支持体は無限に移行する無端の金属ベルトあるいは回転する金属ドラムであり、その表面は鏡面となっている。流延工程は、上記の如きドープを加圧型定量ギヤポンプを通して加圧ダイに送液し、流延位置において、金属支持体上に加圧ダイからドープを流延する工程である。その他の流延する方法は流延されたドープ膜をブレードで膜厚を調節するドクターブレード法、あるいは逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にしやすい加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があるが、何れも好ましく用いられる。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。膜厚の調節には、所望の厚さになるように、ドープ濃度、ポンプの送液量、ダイの口金のスリット間隙、ダイの押し出し圧力、金属支持体の速度等をコントロールするのがよい。

金属支持体上での乾燥工程は、ウェブ（金属支持体上に流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブとする）を支持体上で加熱し溶媒を蒸発させる工程である。溶媒を蒸発させるには、ウェブ側及び支持体裏側から加熱風を吹かせる方法、支持体の裏面から加熱液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等がある。またそれらを組み合わせる方法も好ましい。また、ウェブの膜厚が薄ければ乾燥が早い。金属支持体の温度は全体が同じでも、位置によって異なっていてもよい。

本発明に適した金属支持体上での乾燥方法は、例えば、金属支持体温度を０〜４０℃、好ましくは５〜３０℃として流延するのが好ましい。ウェブに当てる乾燥風は３０〜４５℃程度が好ましいが、これに限定されない。

剥離工程は、金属支持体上で有機溶媒を蒸発させて、金属支持体が一周する前にウェブを剥離する工程で、その後ウェブは乾燥工程に送られる。金属支持体からウェブを剥離する位置のことを剥離点といい、また剥離を助けるロールを剥離ロールという。ウェブの厚さにもよるが、剥離点でのウェブの残留溶媒量（下記式）があまり大き過ぎると剥離し難かったり、逆に支持体上で充分に乾燥させてから剥離すると、途中でウェブの一部が剥がれたりすることがある。通常、残留溶媒量が２０〜１５０質量％でウェブの剥離が行われる。本発明において好ましい剥離残留溶媒量は２０〜４０質量％または６０〜１２０質量％で、特に好ましくは２０〜３０質量％または７０〜１１５質量％である。製膜速度を上げる方法（残留溶媒量ができるだけ多いうちに剥離するため製膜速度を上げることができる）として、残留溶媒量が多くとも剥離できるゲル流延法（ゲルキャスティング）がある。その方法としては、ドープ中にセルロースエステルに対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方法、支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。また、ドープ中に金属塩を加える方法もある。支持体上でゲル化させ膜を強くすることによって、剥離を早め製膜速度を上げることができる。残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損なったり、剥離張力によるツレや縦スジが発生しやすく、経済速度と品質との兼ね合いで残留溶媒量を決められる。

残留溶媒量は下記の式で表せる。

残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
ここで、Ｍはウェブの任意時点での質量、ＮはＭを１１０℃で３時間乾燥させた時の質量である。

また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、支持体より剥離したフィルムをさらに乾燥し、残留溶媒量を２．０質量％以下にすることが好ましい、より好ましくは１．０質量％、さらに好ましくは、０．５質量％以下である。

ウェブ乾燥工程ではロールを千鳥状に配置したロール乾燥装置、ウェブの両端をクリップで把持しながら、幅保持あるいは若干幅方向に延伸するテンター乾燥装置でウェブを搬送しながら乾燥する方式が採られる。本発明においては、テンター乾燥装置支持体より剥離した後任意の過程で、また任意の残留溶媒量の多いところで、幅保持または延伸することによって光学性能の湿度安定性を良好ならしめるため特に好ましい。ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行う。簡便さの点で熱風で行うのが好ましい。乾燥温度は４０〜１５０℃の範囲で段階的に高くしていくことが好ましく、５０〜１４０℃の範囲で行うことがさらに好ましい。

なお、延伸操作は多段階に分割して実施してもよく、流延方向、幅手方向に二軸延伸を実施することが好ましい。また、二軸延伸を行う場合にも同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。

また、同時２軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。同時２軸延伸の好ましい延伸倍率は幅方向に×１．０５〜×１．５倍で長手方向（流延方向）に×０．８〜×１．３倍であり、特に幅方向に×１．１〜×１．５倍、長手方向に×０．８〜×０．９９倍とすることが好ましい。特に好ましくは幅方向に×１．１〜×１．４倍、長手方向に×０．９〜×０．９９倍である。

セルロースエステルフィルムの膜厚は薄い方が前記製造時に用いられる溶媒（ドープ製造）である例えば、残留メチレンクロライド等の減量手段として効果が大きい。

また、セルロースエステルフィルムの膜厚は薄い方が、でき上がった偏光板が薄くなり、液晶ディスプレイの薄膜化が容易になるため好ましいが、薄過ぎると、透湿度や、引き裂き強度等が劣化する。また、位相差フィルムとしてのリターデーション等が得にくくなるので、これらを満たすセルロースエステルフィルムの膜厚は３０〜６０μｍの範囲である。

セルロースエステルフィルムの幅は、１．４ｍ以上、好ましくは１．４ｍ〜４ｍの範囲が、生産性の観点から大サイズの液晶表示装置に好ましい。

本発明の偏光板を形成するには、上記セルロースエステルフィルム（位相差フィルム、偏光板保護フィルムを兼ねる。以下セルロースエステルフィルムＢともいう）ともう一つの偏光板保護フィルムＡを用い、後述する偏光子をこれらにより挟持して形成することが好ましい。偏光板の製造において、セルロースエステルフィルムＢの反対側に貼合される偏光板保護フィルムＡもカール防止の観点から、同じく膜厚であることが好ましい。

偏光板保護フィルムＡとしては、セルロースエステルフィルムが好ましく、セルロースエステルフィルムＢに用いられるセルロースエステルに比べ総アシル基置換度が大きい、即ち、２．６５を超える総アシル基置換度が高いセルロースエステルを用いて作製したセルロースエステルフィルムが好ましい。

これら偏光板保護フィルムＡとして用いられるセルロースエステルフィルムは、セルロースエステルフィルムＢと同様に、各種の可塑剤（リン酸エステル系、エチレングリコールエステル系の可塑剤、グリセリンエステル系可塑剤等）、紫外線吸収剤、または紫外線吸収性共重合ポリマー（高分子紫外線吸収剤、またはポリマーＵＶ剤）、酸化防止剤等、微粒子のマット剤等を同様に含んでよく、また前記セルロースフィルムと同様の方法により、キャスティング、延伸により形成される。

（偏光板）
偏光板は製膜したセルロースエステルフィルムＢを４０℃の２．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液で６０秒間表面鹸化処理を行い、３分間水洗して乾燥させた後、別に、例えば、１２０μｍの厚さのポリビニルアルコールをヨウ素１質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液１００質量部に浸漬し、５０℃で４倍に縦方向に延伸した偏光膜を偏光子として用意し、この両面に上記表面鹸化処理したセルロースエステルフィルムＢを完全鹸化型のポリビニルアルコール５質量％水溶液を粘着剤として貼り合わせ偏光板を作製すればよい。

ポリビニルアルコールフィルム（延伸フィルム）中におけるヨウ素の含有量は、偏光子が良好な偏光度を示すように、通常、０．５〜５質量％程度、好ましくは１〜３質量％となるように調整するのが好ましい。延伸方法は特に制限されず、湿潤延伸法と乾式延伸法のいずれも採用できるが乾式延伸法を用いるのが好ましい。乾式延伸法の延伸手段としては、例えば、ロール間延伸方法、加熱ロール延伸方法、圧縮延伸方法等が挙げられる。延伸は多段で行うこともできる。前記延伸手段において、未延伸フィルムは、通常、加熱状態とされる。通常、未延伸フィルムは３０〜１５０μｍ程度のものが用いられる。延伸フィルムの延伸倍率は目的に応じて適宜に設定できるが、延伸倍率は２〜７倍程度、好ましくは３〜６．５倍、さらに好ましくは３．５〜６倍とするのが望ましい。延伸フィルムの厚さは５〜４０μｍ程度が好適である。ヨウ素染色処理は、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素溶液に浸漬することにより一般に行われる。ヨウ素溶液として、ヨウ素水溶液を用いる場合には、ヨウ素及び溶解助剤として例えばヨウ化カリウム等によりヨウ素イオンを含有させた水溶液等が用いられる。ヨウ素濃度は０．０１〜０．５質量％程度、好ましくは０．０２〜０．４質量％であり、ヨウ化カリウム濃度は０．０１〜１０質量％程度、さらには０．０２〜８質量％で用いるのが好ましい。

このように、偏光板の主たる構成要素である偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、上記のようなポリビニルアルコール系偏光フィルムであり、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものとまた二色性染料を染色させたものもある。

本発明においては、上記ポリビニルアルコール系フィルムのほか、より薄い膜厚を有するエチレン変性ポリビニルアルコールを用いる膜厚５〜２０μｍである偏光子を用いることが好ましい。

エチレン変性ポリビニルアルコールは、エチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、けん化度９９．０〜９９．９９モル％のエチレン変性ポリビニルアルコールから製膜され、熱水切断温度が６６〜７３℃であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムから作製されることが好ましい。また、フィルムのＴＤ方向に５ｃｍ離れた二点間の熱水切断温度の差が１℃以下であることが、色斑を低減させるうえでさらに好ましく、さらにフィルムのＴＤ方向に１ｃｍ離れた二点間の熱水切断温度の差が０．５℃以下であることが、色斑を低減させるうえでさらに好ましい。さらにまた延伸前のフィルムの厚みが１０〜５０μｍであることが色斑を低減させるうえで特に好ましい。

本発明に用いられるエチレン変性ポリビニルアルコール（エチレン変性ＰＶＡ）としては、エチレンとビニルエステル系モノマーとを共重合して得られたエチレン−ビニルエステル系重合体をけん化し、ビニルエステル単位をビニルアルコール単位としたものを用いることができる。このビニルエステル系モノマーとしては、例えば、ギ酸ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バレリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル、ピバリン酸ビニル、バーサティック酸ビニル等を挙げることができ、これらのなかでも酢酸ビニルを用いるのが好ましい。

エチレン変性ＰＶＡにおけるエチレン単位の含有量（エチレンの共重合量）は、１〜４モル％であり、好ましくは１．５〜３モル％であり、より好ましくは２〜３モル％である。

このようなビニルエステル系モノマーと、例えば、プロピレン、１−ブテン、イソブテン等、またアクリル酸及びその塩；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル等、他のモノマーを共重合させてもよい。

偏光子を構成するエチレン変性ＰＶＡの重合度は、偏光フィルムのＰＶＡの重合度は偏光性能と耐久性の点から２０００〜４０００であり、２２００〜３５００が好ましく、２５００〜３０００が特に好ましい。エチレン変性ＰＶＡの重合度が２０００より小さい場合には、偏光フィルムの偏光性能や耐久性能が低下し、好ましくない。また、重合度が４０００以下であると、偏光子の色斑が生じにくく好ましい。

エチレン変性ＰＶＡの重合度は、ＧＰＣ測定から求めた重量平均重合度である。この重量平均重合度は、単分散ＰＭＭＡを標品として移動相に２０ミリモル／リットルのトリフルオロ酢酸ソーダを加えたヘキサフルオロイソプロパノール（ＨＦＩＰ）を用い、４０℃でＧＰＣ測定を行って求めた値である。

偏光子を構成するエチレン変性ＰＶＡのけん化度は、偏光フィルムの偏光性能及び耐久性の点から９９．０〜９９．９９モル％であり、９９．９〜９９．９９モル％がより好ましく、９９．９５〜９９．９９モル％が特に好ましい。

エチレン変性ＰＶＡフィルムを製造する方法としては、水を含むエチレン変性ＰＶＡを使用した溶融押出方式による製膜法、エチレン変性ＰＶＡを溶剤に溶解したエチレン変性ＰＶＡ溶液を使用した流延製膜法が好ましい。得られたエチレン変性ＰＶＡフィルムは、必要に応じて乾燥及び熱処理が施される。

エチレン変性ＰＶＡフィルムを製造する際に使用されるエチレン変性ＰＶＡを溶解する溶剤としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、エチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリメチロールプロパン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、グリセリン、水等を挙げることができ、これらのうち１種または２種以上を使用することができる。これらのなかでも、ジメチルスルホキシド、水、またはグリセリンと水の混合溶媒が好適に使用される。

エチレン変性ＰＶＡ溶液または水を含むエチレン変性ＰＶＡにおけるエチレン変性ＰＶＡの割合はエチレン変性ＰＶＡの重合度に応じて変化するが、２５〜６０質量％が好適であり３５〜５０質量％が最も好適である。また、このエチレン変性ＰＶＡ溶液または水を含むエチレン変性ＰＶＡには、必要に応じて可塑剤、界面活性剤、二色性染料等を含有させてもよい。

エチレン変性ＰＶＡフィルムを製造する際に可塑剤として、エチレン変性ＰＶＡ１００質量部に対し１〜３０質量部、エチレングリコール、グリセリン等多価アルコールを添加することが好ましい。

偏光子の作製に用いられるエチレン変性ＰＶＡフィルムは厚みが１０〜５０μｍであることが好ましく、２０〜４０μｍであることがさらに好ましい。厚みが１０μｍより小さいと、フィルム強度が低すぎて均一な延伸が行いにくく、偏光フィルムの色斑が発生しやすい。厚みが５０μｍを超えると、エチレン変性ＰＶＡフィルムを一軸延伸して偏光フィルムを作製した際に端部のネックインによる厚み変化が発生しやすくなり、偏光フィルムの色斑が強調されやすいので好ましくない。

また、エチレン変性ＰＶＡフィルムから偏光フィルムを製造するには、例えばエチレン変性ＰＶＡフィルムを染色、一軸延伸、固定処理、乾燥処理をし、さらに必要に応じて熱処理を行えばよく、染色、一軸延伸、固定処理の操作の順番に特に制限はない。また、一軸延伸を二回またはそれ以上行ってもよい。

染色は、一軸延伸前、一軸延伸時、一軸延伸後のいずれでも可能である。染色に用いる染料としては、ヨウ素−ヨウ化カリウム、また二色性染料等が使用できる。通常染色はフィルムを上記染料を含有する溶液中に浸漬させることにより行うことが一般的である。

一軸延伸は、湿式延伸法または乾熱延伸法が使用でき、ホウ酸水溶液等の温水中（前記染料を含有する溶液中や後記固定処理浴中でもよい）または吸水後のエチレン変性ＰＶＡフィルムを用いて空気中で行うことができる。延伸温度は、特に限定されないが、エチレン変性ＰＶＡフィルムを温水中で延伸（湿式延伸）する場合は３０〜９０℃が好適であり、また乾熱延伸する場合は５０〜１８０℃が好適である。また一軸延伸の延伸倍率（多段の一軸延伸の場合には合計の延伸倍率）は、偏光フィルムの偏光性能の点から４倍以上が好ましく、特に５倍以上が最も好ましい。延伸倍率の上限は特に制限はないが、８倍以下であると均一な延伸が得られやすいので好ましい。延伸後のフィルムの厚さは、２〜２０μｍが好ましく、５〜２０μｍがより好ましく、５〜１５μｍが特に好ましい。

エチレン変性ＰＶＡフィルムへの上記染料の吸着を強固にすることを目的に、固定処理を行うことが多い。固定処理に使用する処理浴には、通常、ホウ酸及び／またはホウ素化合物が添加される。また、必要に応じて処理浴中にヨウ素化合物を添加してもよい。

得られた偏光子の乾燥処理は、３０〜１５０℃で行うのが好ましく、５０〜１５０℃で行うのがより好ましい。

以上のようにして得られた偏光子は、通常、その両面または片面に、光学的に透明で、かつ機械的強度を有した保護膜を貼り合わせて偏光板として使用される。また、貼り合わせのための接着剤としては、ＰＶＡ系の接着剤やウレタン系の接着剤等を挙げることができるが、なかでもＰＶＡ系の接着剤が好ましく用いられる。

本発明の偏光板は、膜厚が３０〜６０μｍの前記偏光板保護フィルムＡと膜厚が３０〜６０μｍのセルロースエステルフィルムＢ（偏光板保護フィルムを兼ねる）により偏光子を挟持してなる膜厚が８０〜１６０μｍの偏光板であることが好ましい。

偏光子とセルロースエステルフィルムＢまた偏光板保護用フィルム（いずれもセルロースエステルフィルム）の貼り合わせにおいては、接着性を確保するためにセルロースエステルフィルム表面にアルカリ鹸化処理を行わなければならないが、セルロースエステルフィルムＢはアルカリ鹸化処理等においても成分の溶出による異物発生等がない。

セルロースエステルフィルムＢ（延伸セルロースエステルフィルム）は、下記式（Ｉ）により定義されるレターデーション値Ｒｏが３０〜１００ｎｍでかつ下記式（II）により定義にされるレターデーション値Ｒｔが１００〜３００ｎｍの範囲にあることが好ましい。

式（Ｉ） Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（II） Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式中、ｎｘはフィルム面内の屈折率が最も大きい方向の屈折率、ｎｙはｎｘに直角な方向でのフィルム面内の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）をそれぞれ表す。

レターデーション値を上記範囲にすることで、特に薄膜楕円偏光板用セルロースエステルフィルムとしての光学性能を十分に満足することができる。

なお、レターデーション値Ｒｏ、Ｒｔは自動複屈折率計を用いて測定することができる。例えば、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株））を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長が５９０ｎｍで求めることができる。

セルロースエステルフィルムＢは、鹸化処理を行った後も、光透過率（可視光の）９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９５％以上、さらに９４％以上であることが好ましく、またヘイズは１％未満であることが好ましく、より好ましくは０．５％未満、さらに０．１％未満であることが好ましい。特に０％であることが最も好ましい。

（液晶表示装置）
本発明の偏光板を液晶表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の液晶表示装置を作製することができる。セルロースステルフィルムＢは反射型、透過型、半透過型ＬＣＤあるいはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。特に、ＶＡ型液晶表示装置に好適である。

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。

実施例
《セルロースエステルフィルム１の作製》
（高分子ＵＶ剤Ｐ−２の合成）
２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールを、下記方法に従って合成した。

２０．０ｇの３−ニトロ−４−アミノ−安息香酸を１６０ｍｌの水に溶かし、濃塩酸４３ｍｌを加えた。２０ｍｌの水に溶解させた８．０ｇの亜硝酸ナトリウムを０℃で加えた後、０℃のまま２時間撹拌した。この溶液に、１７．３ｇの４−ｔ−ブチルフェノールを水５０ｍｌとエタノール１００ｍｌに溶解させた溶液中に、炭酸カリウムで液性をアルカリ性に保ちながら０℃で滴下した。この溶液を０℃に保ちながら１時間、さらに室温で１時間撹拌した。反応液を塩酸で酸性にし、生成した沈殿物をろ過した後、よく水洗した。

ろ過した沈殿を５００ｍｌの１モル／ＬのＮａＯＨ水溶液に溶解させ、３５ｇの亜鉛粉末を加えた後、４０％ＮａＯＨ水溶液１１０ｇを滴下した。滴下後、約２時間撹拌し、ろ過、水洗し、濾液を塩酸で中和して中性とした。析出した沈殿物をろ過、水洗、乾燥後、酢酸エチルとアセトンの混合溶媒で再結晶を行うことにより、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが得られた。

次いで、１０．０ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと０．１ｇのハイドロキノン、４．６ｇの２−ヒドロキシエチルメタクリレート、０．５ｇのｐ−トルエンスルホン酸とをトルエン１００ｍｌ中に加え、エステル管を備えた反応容器で１０時間加熱灌流を行う。反応溶液を水中に注ぎ、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、酢酸エチルで再結晶を行うことで、例示化合物ＭＵＶ−１９である２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが得られた。

次いで、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メチルとの共重合体（高分子ＵＶ剤Ｐ−１）を下記に記載の方法に従って合成した。

テトラヒドロフラン８０ｍｌに、４．０ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと、５．３ｇのメタクリル酸メチルと０．７ｇのメタクリル酸ヒドロキシエチルとを加え、次いで、アゾイソブチロニトリル１．１４ｇを加えた。窒素雰囲気下で９時間加熱還流した。テトラヒドロフランを減圧留去した後、２０ｍｌのテトラヒドロフランに再溶解し、大過剰のメタノール中に滴下した。析出した沈殿物を濾取し、４０℃で真空乾燥して、９．１ｇの灰白色紛状重合体である高分子ＵＶ剤Ｐ−２を得た。この共重合体は、標準ポリスチレンを基準とするＧＰＣ分析により、数平均分子量４５００のものであると確認した。また、ＮＭＲスペクトル及びＵＶスペクトルから、上記共重合体が、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール：メタクリル酸メチル：メタクリル酸ヒドロキシエチルの共重合体であることを確認した。上記重合体の組成は略、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール：メタクリル酸メチル：メタクリル酸ヒドロキシエチル＝４０：５３：７であった。

（セルロースエステルフィルム１の作製）
下記セルロースエステル（１００質量部）、添加剤１（５質量部）、添加剤２（５質量部）、添加剤３（３質量部）、微粒子（０．３質量部）及び溶剤を用いてセルロースエステル溶液を調製した。

セルロースエステル：アセチル基置換度１．７８、プロピオニル基置換度０．７２、総置換度２．５０、Ｍｎ＝４１０００
添加剤１：芳香族末端エステル６
添加剤２：多価アルコールエステル１６
添加剤３：高分子ＵＶ剤Ｐ−２
微粒子：アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエリジル（株）製）
溶剤：メチレンクロライド４００質量部、エタノール７５質量部
即ち、溶剤を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素材を順に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶解し、混合した。微粒子は溶剤の一部で分散して添加した。溶液を流延する温度まで下げて静置し、脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、セルロースエステル溶液をそれぞれ得た。

次に、３３℃に温度調整したセルロースエステル溶液を、ダイに送液して、ダイスリットからステンレスベルト上に均一に流延した。ステンレスベルトの流延部は裏面から３７℃の温水で加熱した。流延後、金属支持体上のドープ膜（ステンレスベルトに流延以降はウェブということにする）に４４℃の温風を当てて乾燥させ、剥離の際の残留溶媒量が８０質量％で剥離し、剥離の際の張力をかけて１．０５倍の縦延伸倍率となるように延伸し、次いで、テンターでウェブ端部を把持し、幅手方向に１．３０倍の延伸倍率となるように延伸した。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持した後、幅方向の張力を緩和させた後、幅保持を解放し、さらに１１０℃に設定された第３乾燥ゾーンで２０分間搬送させて、乾燥を行い、幅１．５ｍでかつ端部に幅１．５ｃｍ、高さ８μｍのナーリングを有する４０μｍの膜厚のセルロースエステルフィルム１を作製した。

《偏光板の作製》
（偏光板保護フィルムＡの作製）
〈微粒子分散液〉
微粒子（アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル株式会社製）） １１質量部
エタノール ８９質量部
以上をディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。

〈微粒子添加液〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに下記セルロースエステルを添加し、加熱して完全に溶解させた後、これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過した。濾過後のセルロースエステル溶液を充分に攪拌しながら、ここに微粒子分散液をゆっくりと添加した。さらに、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液を調製した。

メチレンクロライド ９９質量部
セルロースエステル（セルローストリアセテート；アセチル基置換度２．９）
４質量部
微粒子分散液 １１質量部
下記組成のドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースエステルを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し、さらに可塑剤及び紫外線吸収剤を添加、溶解させた。これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、ドープ液を調製した。

〈ドープの組成〉
メチレンクロライド ４４０質量部
エタノール ４０質量部
セルロースエステル（セルローストリアセテート；アセチル基置換度２．９）
１００質量部
可塑剤（芳香族末端エステル１） ５．５質量部
可塑剤（トリメチロールプロパントリベンゾエート） ５．５質量部
紫外線吸収剤（高分子ＵＶ剤Ｐ−２） ３質量部
ドープ液１００質量部と微粒子添加液２質量部となるように加えて、インラインミキサー（東レ静止型管内混合機 Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分に混合し、次いでベルト流延装置を用い、幅２ｍのステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体上で、残留溶媒量が１１０％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体から剥離した。剥離の際に張力をかけて縦（ＭＤ）延伸倍率が１．１倍となるように延伸し、次いで、テンターでウェブ両端部を把持し、幅手（ＴＤ）方向の延伸倍率が１．１倍となるように延伸した。延伸開始時の残留溶媒は３０％であった。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持し、幅方向の張力を緩和させた後幅保持を解放し、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで３０分間搬送させて乾燥を行い、幅１．５ｍ、かつ端部に幅１ｃｍ、高さ８μｍのナーリングを有する膜厚４０μｍの偏光板保護フィルムＡであるセルロースエステルフィルムＡを作製した。

（偏光板の作製）
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、沃素１ｋｇ、ホウ酸４ｋｇを含む水溶液１００ｋｇに浸漬し５０℃で６倍に延伸して偏光膜を作った。この偏光膜を偏光子として、この両面に、以下のアルカリケン化処理を行った前記セルロースエステルフィルム１を一方の偏光板保護フィルムとし、もう一方の偏光板保護フィルムとして前記セルロースエステルフィルムＡを用い両者で偏光子を挟持するように完全ケン化型ポリビニルアルコール５％水溶液を粘着剤として偏光子とそれぞれ貼り合わせた。次に、前記セルロースエステルフィルム１の面にアクリル系粘着剤を塗布し、セパレートフィルムを貼合し、反対側の前記セルロースエステルフィルムＡの面にプロテクトフィルムを貼合し偏光板（原反）を作製した。

〈アルカリケン化処理〉
ケン化工程 ２Ｎ−ＮａＯＨ ５０℃ ９０秒
水洗工程 水 ３０℃ ４５秒
中和工程 １０質量％ＨＣｌ ３０℃ ４５秒
水洗工程 水 ３０℃ ４５秒
上記条件でフィルム試料をケン化、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで８０℃で乾燥を行った。

（打ち抜き方法１による偏光板の作製）
作製した偏光板（原反）をＭＤ方向に１ｍ間隔でカットし、３５℃、６０％ＲＨで７日間エージングを行った。

その後、図５に示す打ち抜き装置を使用して、偏光板端部と端部基準線を画像認識し、打ち抜き角度を調整しながら、２０インチサイズで、進相軸方向（セルロースエステルフィルムのＭＤ方向）に対して０°設定と９０°設定の偏光板を１０枚打ち抜いた。なお、１インチは２．５４ｃｍを表す。

（打ち抜き方法２による偏光板の作製）
作製した偏光板（原反）をロールの状態で、３５℃、６０％ＲＨで７日間エージングを行った。その後、逆面に巻き返しを行い、３５℃、６０％ＲＨで１日間エージングを行い、巻き癖カールを除去した。

その後、図５に示す打ち抜き装置を使用して、偏光板端部と端部基準線を画像認識し、打ち抜き角度を調整しながら、２０インチサイズで、進相軸方向（セルロースエステルフィルムのＭＤ方向）に対して０°設定と９０°設定の偏光板を１０枚打ち抜いた。

（打ち抜き方法３による偏光板の作製）
打ち抜き方法１による偏光板１の作製において、画像認識のＣＣＤカメラを２台から１台に減らした以外は同様にして偏光板を１０枚作製した。

（打ち抜き方法４による偏光板の作製）
作製した偏光板（原反）をＭＤ方向に１ｍ間隔でカットし、３５℃、６０％ＲＨで７日間エージングを行った。

図６に示す打ち抜き装置を使用して、２０インチサイズで、進相軸方向（セルロースエステルフィルムのＭＤ方向）に対して０°設定と９０°設定の偏光板を１０枚打ち抜いた。原反の偏光板の位置合わせは、位置決めピンに該偏光板を押しつける方法で行った。

《偏光板の評価》
作製した偏光板について下記の評価を行った。

（偏光軸精度）
偏光板の偏光軸を測定し、打ち抜き設定角度に対して偏光板の端部のズレ（絶対値）を算出した。各１０枚について測定し、平均値、最大値、標準偏差を算出した。

（コントラスト）
ソニー製液晶カラーテレビＫＬＶ−２０ＡＰ２の予め貼合されていた光学補償フィルム及び偏光板を剥がし、作製した偏光板の吸収軸を予め貼合されていた偏光板の吸収軸と同じ方向になるよう貼合し、液晶表示装置１〜４を作製し、コントラストの評価を行った。評価にはＥＬＤＩＭ社製ＥＺ−ｃｏｎｔｒａｓｔを用い、黒表示及び白表示時の透過光量を測定し、下記式でコントラストを算出した。液晶表示装置１〜４はそれぞれ１０枚の偏光板を貼合し、平均値、最低値、標準偏差を算出した。

コントラスト＝白表示時の透過光量（ｃｄ／ｃｍ²）／黒表示時の透過光量（ｃｄ／ｃｍ²）
評価の結果を表１、２に示す。

表１、２より、本発明の打ち抜き方法で作製した偏光板は、薄膜化されているにもかかわらず、比較例に比べ偏光軸精度が高く、バラツキが小さい。また、本発明の偏光板を用いた液晶表示装置は、比較例に比べコントラストが高く、バラツキが小さいことが分かった。なお、本発明の偏光板を用いた液晶表示装置は、点灯後、いずれも黒表示における光漏れが目視で全く観察されず良好であった。

本発明に用いられる打ち抜き設定角度０°の打ち抜き装置の下側部分を示す模式図である。 本発明に用いられる打ち抜き設定角度４５°の打ち抜き装置の下側部分を示す模式図である。 図１に示す打ち抜き装置にロール状またはシート状にカットした枚葉の偏光板を吸着させた状態を示す模式図である。 図２に示す打ち抜き装置にロール状またはシート状にカットした枚葉の偏光板を吸着させた状態を示す模式図である。 本発明に用いられる打ち抜き装置の正面から見た模式図である。 従来の打ち抜き装置の正面から見た模式図である。

符号の説明

１、１０ 打ち抜き装置下側部分
２ 端部基準線
３ エアー吸引吸着部
４、１１ 打ち抜き部
５ 偏光板端部
６ 偏光板
８ 打ち抜き装置上側部分
９ ＣＣＤカメラ
１２ 位置決めピン

Claims (10)

1. ロール状またはシート状の偏光板を打ち抜き装置を用いて枚葉体に打ち抜く偏光板の打ち抜き方法において、前記ロール状またはシート状の偏光板の端部を画像認識し、打ち抜き設定角度に対し、打ち抜き実行角度を微調整することを特徴とする偏光板の打ち抜き方法。
2. 前記打ち抜き設定角度に対し、前記打ち抜き実行角度のズレ（絶対値）を１．０°以下の精度で微調整することを特徴とする請求項１に記載の偏光板の打ち抜き方法。
3. １０枚の前記偏光板について測定したズレ（絶対値）の平均値が０．５°以下であることを特徴とする請求項２に記載の偏光板の打ち抜き方法。
4. １０枚の前記偏光板について測定したズレ（絶対値）の標準偏差が０．５°以下であることを特徴とする請求項２または３に記載の偏光板の打ち抜き方法。
5. 前記偏光板のコントラストが５００以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の偏光板の打ち抜き方法。
6. １０枚の前記偏光板について測定したコントラストの平均値が６００以上であることを特徴とする請求項５に記載の偏光板の打ち抜き方法。
7. １０枚の前記偏光板について測定したコントラストの標準偏差が１００以下であることを特徴とする請求項５または６に記載の偏光板の打ち抜き方法。
8. 前記偏光板が薄膜楕円偏光板であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の偏光板の打ち抜き方法。
9. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の偏光板の打ち抜き方法により製造することを特徴とする偏光板。
10. 請求項９に記載の偏光板を搭載することを特徴とする液晶表示装置。

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