JP2006332668A - 有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子は、電子輸送層と発光層のうち少なくとも1層にアントラセン誘導体を含み、かつ、そのうちの少なくとも1つの置換基がSP3炭素またはケイ素の4面体の中心(tetra−substitution center)を有する。該アントラセン誘導体は、発光層のホストもしくはゲスト材料、または電子輸送層のホスト材料として用いることができる
【選択図】図1
Description
本発明は、上記課題を解決するために、アントラセン化合物をホスト材料またはゲスト材料として用いる有機EL素子を提供することを目的とする。
まず、2−フルオロ−9,10−ジ[2−(9,9−ジエチルフルオレニル)]アントラセン(化合物B)の合成に用いる2−フルオロアントラキノンの合成について説明する。即ち、2−アミノアントラキノン(10g、45mmol)を含む硫酸(濃度96%)溶液130mL中に、0℃で亜硝酸塩0.38g(55mmol)を数回に分けて加えた。この混合溶液を室温下で2時間攪拌した後、ホウフッ化ナトリウム6.8g(62mmol)を含む0℃のホウフッ化ナトリウム水溶液150mL中に入れ、更に1時間攪拌した。その後、溶液をろ過して沈殿物を得、その沈殿物をメタノールで洗浄して灰色の粗生成物を得た。続いて、この粗生成物を200℃に加熱して熱分解し、昇華させて2−フルオロアントラキノン4.2gを得た。上記合成過程の化学反応式を化27に示す。
まず、2−ブロモ−9,9ジエチルフルオレン6g(20.8mmol)およびテトラヒドロフラン100mLを窒素雰囲気下で丸底フラスコに入れる。次いで、2.5Mのn−ブチルリチウム8.4mL(20.8mmol、2.5M)を−78℃でゆっくり滴下して加え、混合して30分間反応させた。その後、上述の2−フルオロアントラキノン2.25g(10mmol)とテトラヒドロフラン(30mL)とを−78℃で丸底フラスコにゆっくり滴下して加え、引き続き室温で24時間反応させた。次いで、その溶液を酢酸エチルと水で抽出して、有機層と水溶液層とに分離した。分離した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、乾燥剤をろ過して取り除いた後、溶媒を留去した。得られた残渣と、ヨウ化カリウム4.8g(40mmol)と、次亜リン酸ナトリウム3.3g(20mL)および酢酸50mLを反応フラスコに入れて2時間加熱還流してから冷却した。そして、フラスコの底の白色沈殿物を回収してカラムクロマトグラフィーで精製し、化29に示す構造の化合物Bを4gを得た。上記合成過程の化学反応式を化28に示す。
2−メチル−9,10−ジ[2−(9,9−ジエチルフルオレニル)]アントラセン(化合物A)の合成は、上述の化合物Bにおける2−フルオロアントラキノンを2−メチルアントラキノンに置き換えたものであり、この点を除いて化合物Bの合成プロセスと同じであるので詳細な説明を割愛する。なお、化31に示す化合物Aの合成過程の化学反応式を化30に示す。
まず、1,3−ジブロモベンゼン5.7g(24mmol)およびテトラヒドロフラン100mLを窒素雰囲気下で丸底フラスコに入れ、これにn−ブチルリチウム9.6mL(2.5M、24mmol)を−78℃でゆっくり滴下して加え、混合して30分間反応させた。その後、2−メチルアントラキノン2.7g(12mmol)とテトラヒドロフラン(30mL)溶液とを−78℃で丸底フラスコにゆっくり滴下して加えた。これを混合した混合溶媒を引き続き室温で24時間反応させ、次いで、その溶液を酢酸エチルと水で抽出すると、有機層と水溶液層とに分離する。分離した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、乾燥剤をろ過して取り除いた後、溶媒を留去した。得られた残渣と、ヨウ化カリウム(4.7g、29mmol)、次亜リン酸ナトリウム(6.8g、58mL)、酢酸(50mL)を反応フラスコに入れて2時間加熱還流してから冷却した。そして、フラスコの底の白色沈殿物を回収してカラムクロマトグラフィーで精製し、中間物A4.5g(9mmol)を得た。更にこの中間物Aを無水テトラヒドロフラン150mLに溶解し、2.5Mのn−ブチルリチウム(7.2mL、18mmol)をゆっくり滴下して加えた。これを混合して30分間反応させた後、丸底フラスコに塩化トリフェニルシリル5.3g(18mmol)を含むテトラヒドロフラン溶液20mLを−78℃でゆっくり滴下して添加した。次いで室温で16時間反応させ、その溶液をろ過してから、ろ過物をエタノール/ヘキサン(1:1混合割合)の混合溶剤で洗浄し、ろ液を留去し得られた白色固体を昇華により精製して化33に示す構造の化合物Cを2g得た。化33に示す化合物Cの合成過程の化学反応式を化32に示す。
陽極:ガラス基板上に配置したインジウムスズ酸化物(以下ITOと略称する。)
正孔注入層(HIL):厚さ60nmの4,4’,4”,−トリ(N−(2−ナフチル)−N−アニリン)−トリフェニルアミン(以下2T−NATAと略称する。)
正孔輸送層(HTL):厚さ30nmのN,N’−ジ−1−ナフチル−N,N’−ジフェニル−1,1’−ビフェニル−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン(以下NBと略称する。)
発光層(EML):厚さ30nm、ホスト材料がADN、ゲスト材料が化合物A、ADNと化合物Aとの体積比100:2.5
電子輸送層(ETL):厚さ30nmのAlq3
電子注入層(EIL):厚さ1nmのフッ化リチウム
陰極:厚さ100nmのアルミニウム
ADNの構造は化34に示すとおりである。
陽極:ガラス基板上に配置したITO
正孔注入層(HIL):厚さ60nmの2T−NATA
正孔輸送層(HTL):厚さ30nmのNPB
発光層(EML):厚さ30nm、ホスト材料がADN、ゲスト材料が化合物B、ADNと化合物Bとの体積比100:2.5
電子輸送層(ETL):厚さ30nmのAlq3
電子注入層(EIL):厚さ1nmのフッ化リチウム
陰極:厚さ100nmのアルミニウム
陽極:ガラス基板上に配置したITO
正孔注入層(HIL):厚さ60nmの2T−NATA
正孔輸送層(HTL):厚さ30nmのNPB
発光層(EML):厚さ30nm、ホスト材料が化合物A、ゲスト材料がDSA、化合物AとDSAとの体積比100:2.5
電子輸送層(ETL):厚さ30nmのAlq3
電子注入層(EIL):厚さ1nmのフッ化リチウム
陰極:厚さ100nmのアルミニウム
DSAの構造は化35に示すとおりである。
陽極:ガラス基板上に配置したITO
正孔注入層(HIL):厚さ60nmの2T−NATA
正孔輸送層(HTL):厚さ30nmのNPB
発光層(EML):厚さ30nm、ホスト材料が化合物B、ゲスト材料がDSA、化合物BとDSAとの体積比100:2.5
電子輸送層(ETL):厚さ30nmのAlq3
電子注入層(EIL):厚さ1nmのフッ化リチウム
陰極:厚さ100nmのアルミニウム
陽極:ガラス基板上に配置したITO
正孔注入層(HIL):厚さ60nmの2T−NATA
正孔輸送層(HTL):厚さ30nmのNPB
発光層(EML):厚さ30nm、ホスト材料が化合物C、ゲスト材料がDSA、化合物CとDSAとの体積比100:2.5
電子輸送層(ETL):厚さ30nmのAlq3
電子注入層(EIL):厚さ1nmのフッ化リチウム
陰極:厚さ100nmのアルミニウム
陽極:ガラス基板上に配置したITO
正孔注入層(HIL):厚さ60nmの2T−NATA
正孔輸送層(HTL):厚さ30nmのNPB
発光層(EML):厚さ30nm、ホスト材料がADN、ゲスト材料がDSA、ADNとDSAとの体積比100:2.5
電子輸送層(ETL):厚さ30nm、ホスト材料が化合物A、ドーパントがCsF、化合物AとCsFとの体積比が100:20
電子注入層(EIL):厚さ1nmのフッ化リチウム
陰極:厚さ100nmのアルミニウム
陽極:ガラス基板上に配置したITO
正孔注入層(HIL):厚さ60nmの2T−NATA
正孔輸送層(HTL):厚さ30nmのNPB
発光層(EML):厚さ30nm、ホスト材料がADN、ゲスト材料がDSA、ADNとDSAとの体積比100:2.5
電子輸送層(ETL):厚さ30nm、ホスト材料が化合物B、ドーパントがCsF、化合物BとCsFとの体積比が100:20
電子注入層(EIL):厚さ1nmのフッ化リチウム
陰極:厚さ100nmのアルミニウム
12 陽極
14 正孔注入層(HIL)
16 正孔輸送層(HTL)
18 発光層(EML)
19 電子輸送層(ETL)
20 電子注入層(EIL)
22 陰極
Claims (14)
- 前記アントラセン誘導体は、上記化1式中において、R1=R2であることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記アントラセン誘導体は、上記化1式中において、R3=R4であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記アントラセン誘導体は、上記化1式中において、R1=R2=R3=R4であることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記発光層が、ホスト材料と、少なくとも1種の前記アンラセン誘導体であるゲスト材料とを含むことを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記発光層は、ゲスト材料と、少なくとも1種のアントラセン誘導体を含むホスト材料とを含むことを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記発光層のゲスト材料として前記アントラセン誘導体を用いることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記電子ソース層には電子輸送層が含まれることを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記電子ソース層には、前記陰極に隣接する電子注入層を含み、
前記電子輸送層は、当該電子注入層と前記発光層との間に配置されることを特徴とする請求項8に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 前記電子注入層がフッ化リチウムを含んでなることを特徴とする請求項9に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記電子輸送層は、ホスト材料として前記アントラセン誘導体を用い、且つゲスト材料を添加してなることを特徴とする請求項8〜請求項12のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記発光層のホスト材料がADNであり、
ゲスト材料がDSAであり、かつ、
前記電子ソース層が少なくとも1種のアントラセン誘導体と、ドーパントとしてのCsFとを含むことを特徴とする請求項9〜請求項13のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
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