JP2006286990A - Integrated circuit - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は容量素子を有する集積回路に関する。 The present invention relates to an integrated circuit having a capacitor.
従来、様々な用途において差動増幅器が利用されている。
図3は、公知の差動増幅器の一例の構成を示す図である。
図3において、1組のトランジスタTr1、Tr2は、それぞれ入力トランジスタとして動作する。すなわちトランジスタTr1、Tr2のゲートには、差動信号が入力される。また、トランジスタTr1、Tr2のドレインには、それぞれ負荷としての抵抗RA、RBを介して電源電圧Vccが印加される。トランジスタTr1、Tr2のソースは接続され、トランジスタTr3を介して接地される。つまり、トランジスタTr1、Tr2のソースの接続点は仮想接地点として働く。
Conventionally, differential amplifiers are used in various applications.
FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of an example of a known differential amplifier.
In FIG. 3, each of the pair of transistors Tr1 and Tr2 operates as an input transistor. That is, a differential signal is input to the gates of the transistors Tr1 and Tr2. The power supply voltage Vcc is applied to the drains of the transistors Tr1 and Tr2 via resistors R A and R B as loads, respectively. The sources of the transistors Tr1 and Tr2 are connected and grounded through the transistor Tr3. That is, the connection point between the sources of the transistors Tr1 and Tr2 serves as a virtual ground point.
トランジスタTr3はゲートに電圧が入力され、ドレインが仮想接地点に接続され、ソースが接地される。つまりトランジスタTr3は、電流源として動作する。
ここで、差動増幅器では、仮想接地点の電位が変動するとコモンモード信号除去能力(CMRR)が悪化するなどの現象が発生するため、容量やインダクタなどを付加して仮想接地点の電位を安定させることで差動増回路の歪み特性などを改善することが行われている。図3においては、トランジスタTr1、Tr2の仮想接地点と接地間にメタル容量Mが接続されている。
In the transistor Tr3, a voltage is input to the gate, the drain is connected to the virtual ground point, and the source is grounded. That is, the transistor Tr3 operates as a current source.
Here, in the differential amplifier, if the potential at the virtual grounding point fluctuates, a phenomenon such as deterioration of the common mode signal removal capability (CMRR) occurs. By doing so, the distortion characteristics of the differential amplifier circuit are improved. In FIG. 3, a metal capacitor M is connected between the virtual ground point of the transistors Tr1 and Tr2 and the ground.
他方、集積回路の製造プロセスの影響で、回路素子にばらつきが生じることを低減するために、集積回路を構成する回路素子の両外側に、ダミートランジスタを設けることが行われている。すなわち回路素子は、できるだけ中央部に形成することが望ましい。 On the other hand, in order to reduce the occurrence of variations in circuit elements due to the influence of the manufacturing process of the integrated circuit, dummy transistors are provided on both outer sides of the circuit elements constituting the integrated circuit. That is, it is desirable that the circuit element is formed in the central portion as much as possible.
図3においては、ダミートランジスタTrD1、TrD2はトランジスタTr3のソース接地間に接続され、接地されている。ダミートランジスタTrD1,TrD2はゲート、ドレイン、ソースが全て共通接続されているので、回路的には無意味なものである。 In FIG. 3, the dummy transistors TrD1 and TrD2 are connected between the source grounds of the transistor Tr3 and are grounded. The dummy transistors TrD1 and TrD2 are meaningless in terms of circuit because the gate, drain and source are all connected in common.
図4は、図3に示した回路図の内、トランジスタTr3及びダミートランジスタTrD1、TrD2及びメタル容量Mを抜き出した集積回路を上面から見た図である。斜線部はトランジスタTr3を示し、破線部はダミートランジスタTrD1、TrD2を示す。 FIG. 4 is a top view of the integrated circuit from which the transistor Tr3, the dummy transistors TrD1, TrD2, and the metal capacitor M are extracted from the circuit diagram shown in FIG. The hatched portion indicates the transistor Tr3, and the broken line portion indicates the dummy transistors TrD1 and TrD2.
トランジスタTr3は、ドレイン領域3の外側に第1のゲート電極2、第2のゲート電極4が形成され、第1のゲート電極2の外側に第1のソース領域1、第2のゲート電極4の外側に第2のソース領域5がそれぞれ形成されることにより構成される。そして、第1のゲート電極2と第2のゲート電極4は、配線により接続されており、第1のソース領域1、第2のソース領域5は配線により接続され、接地されている。なお、ゲート電極の下面には酸化膜が設けられており、第1のソース領域1、第2のソース領域5、ドレイン領域3は、拡散領域である。図4においてトランジスタTr3が形成された両外側(ソース領域1の外側と、ソース領域5の外側)にはダミートランジスタTrD1、TrD2が配設されている。 In the transistor Tr 3, the first gate electrode 2 and the second gate electrode 4 are formed outside the drain region 3, and the first source region 1 and the second gate electrode 4 are formed outside the first gate electrode 2. The second source region 5 is formed on the outer side, respectively. The first gate electrode 2 and the second gate electrode 4 are connected by wiring, and the first source region 1 and the second source region 5 are connected by wiring and are grounded. Note that an oxide film is provided on the lower surface of the gate electrode, and the first source region 1, the second source region 5, and the drain region 3 are diffusion regions. In FIG. 4, dummy transistors TrD1 and TrD2 are disposed on both outer sides (outside the source region 1 and outside the source region 5) where the transistor Tr3 is formed.
ダミートランジスタTrD1は第1のソース領域1の外側にゲート電極6が形成され、ゲート電極6の外側にドレイン領域7が形成されることにより構成される。ダミートランジスタTrD1のソース領域は、トランジスタTr3の第1のソース領域1であり、トランジスタTr3と共用している。 The dummy transistor TrD1 is configured by forming a gate electrode 6 outside the first source region 1 and forming a drain region 7 outside the gate electrode 6. The source region of the dummy transistor TrD1 is the first source region 1 of the transistor Tr3 and is shared with the transistor Tr3.
ダミートランジスタTrD2は第2のソース領域5の外側にゲート電極9が形成され、ゲート電極9の外側にドレイン領域8が形成されることにより構成される。ダミートランジスタTrD2のソース領域は第2のソース領域5であり、トランジスタTr3と共用している。
The dummy transistor TrD2 is configured by forming a
さらにトランジスタTr3及びダミートランジスタTrD2の外側にはメタル容量Mが配設される。メタル容量Mは、多層基板の最上位の配線用メタルの下に形成される容量用メタルと多層基板の上から2層目の配線用メタルとで形成される。トランジスタTr3のドレインは、メタル容量Mの前記最上位の配線用メタルに接続され、メタル容量Mの前記2層目の配線用メタルは、トランジスタTr3のソースに接続されて接地される。メタル容量Mの面積は、例えば、25μm×25μm〜30μm×30μm程度である。 Further, a metal capacitor M is disposed outside the transistor Tr3 and the dummy transistor TrD2. The metal capacitor M is formed of a capacitor metal formed under the uppermost wiring metal of the multilayer substrate and a second-layer wiring metal from above the multilayer substrate. The drain of the transistor Tr3 is connected to the uppermost wiring metal of the metal capacitor M, and the second wiring metal of the metal capacitor M is connected to the source of the transistor Tr3 and grounded. The area of the metal capacitor M is, for example, about 25 μm × 25 μm to 30 μm × 30 μm.
なお、特許文献1には容量素子をトランジスタを用いて形成することが開示されている。
上記の従来例は、集積回路における仮想接地点の電位を安定させるための容量素子をメタル容量Mで形成するので面積的に大きいだけでなく、トランジスタ形成のプロセスとは異なるプロセスで作らなければならない。さらにメタル容量MとダミートランジスタTrD1、TrD2とを別々に形成しているので、集積回路の面積が大きくなるという欠点があった。 In the above conventional example, since the capacitor element for stabilizing the potential of the virtual ground point in the integrated circuit is formed by the metal capacitor M, it must be made not only in terms of area but also by a process different from the transistor formation process. . Further, since the metal capacitor M and the dummy transistors TrD1 and TrD2 are formed separately, there is a disadvantage that the area of the integrated circuit is increased.
特許文献1は、アナログ増幅器の仮想接地点の電位を安定させるため、トランジスタで作った容量素子を用いることについては開示がない。
本発明は容量素子をトランジスタで形成し、さらにこのトランジスタをダミートランジスタとしても機能するように配設することにより、面積の増加を抑えた集積回路を提供することを目的とする。
Patent Document 1 does not disclose the use of a capacitor made of a transistor in order to stabilize the potential of the virtual ground point of the analog amplifier.
It is an object of the present invention to provide an integrated circuit in which an increase in area is suppressed by forming a capacitor element with a transistor and further disposing the transistor so as to function as a dummy transistor.
上記問題点を解消するために、本発明は以下の構成を採用する。
本発明の集積回路は、ソースとドレインとを接続して接地するとともにゲートを仮想設置点に接続することにより仮想接地点の電位を安定させるための容量素子として動作する第1のトランジスタを含む増幅回路を備える。
In order to solve the above problems, the present invention adopts the following configuration.
An integrated circuit according to the present invention includes a first transistor that operates as a capacitive element for stabilizing a potential of a virtual ground point by connecting a source and a drain to ground and connecting a gate to a virtual installation point. Provide a circuit.
これにより、仮想接地点の電位を安定させるための容量素子をトランジスタで構成したので、集積回路の面積を小さくでき、かつ、容量素子を他のトランジスタと同一プロセスで作ることができる。 As a result, the capacitive element for stabilizing the potential at the virtual grounding point is constituted by a transistor, so that the area of the integrated circuit can be reduced and the capacitive element can be produced by the same process as other transistors.
また、集積回路は差動増幅回路を含み、差動増幅回路は差動信号を入力する第2及び第3のトランジスタと、一端が第2及び第3のトランジスタの仮想接地点に接続されると共に他端が接地されることにより電流源として動作する第4のトランジスタとからなり、第1のトランジスタのゲートは第2および第3のトランジスタの仮想接地点に接続されることを特徴とする。 Further, the integrated circuit includes a differential amplifier circuit, the differential amplifier circuit is connected to the second and third transistors for inputting differential signals, and one end is connected to the virtual ground point of the second and third transistors. The other end is grounded, and the fourth transistor operates as a current source. The gate of the first transistor is connected to the virtual ground point of the second and third transistors.
これにより、差動増幅器の仮想接地点の電位を安定させるための容量素子をトランジスタで構成したので、集積回路の面積を小さくでき、かつ、容量素子を他のトランジスタと同一プロセスで作ることができる。 As a result, the capacitive element for stabilizing the potential at the virtual ground point of the differential amplifier is composed of transistors, so that the area of the integrated circuit can be reduced, and the capacitive element can be made in the same process as other transistors. .
さらに、第4のトランジスタのソース、ドレイン、ゲート領域を中央部に配置し、第4のトランジスタの両外側に前記第1のトランジスタを配置したことを特徴とする。
これにより、容量素子として動作する第1のトランジスタとダミートランジスタを別々に形成した場合に比べ、トランジスタ1つ分少ない面積で集積回路を形成することができる。
Furthermore, the source, drain, and gate regions of the fourth transistor are arranged in the center, and the first transistor is arranged on both outer sides of the fourth transistor.
Thus, an integrated circuit can be formed with an area that is smaller by one transistor than in the case where the first transistor and the dummy transistor that operate as the capacitor are formed separately.
さらに、前記第1のトランジスタの拡散領域は第4のトランジスタの拡散領域と共用する。
これにより、集積回路の面積をさらに抑えることができる。
Further, the diffusion region of the first transistor is shared with the diffusion region of the fourth transistor.
Thereby, the area of the integrated circuit can be further suppressed.
さらに、ソースとドレインとを接続して接地するとともにゲートを回路素子に接続することにより容量素子として動作するトランジスタを有し、トランジスタは回路素子の両外側に配設されることを特徴とする。 In addition, a transistor which operates as a capacitor element by connecting a source and a drain to ground and connecting a gate to a circuit element is provided, and the transistor is disposed on both outer sides of the circuit element.
これにより、容量素子として動作するトランジスタとダミートランジスタを別々に形成した場合に比べ、トランジスタ1つ分少ない面積で集積回路を形成することができる。 Thus, an integrated circuit can be formed with an area that is smaller by one transistor than in the case where a transistor that operates as a capacitor and a dummy transistor are formed separately.
本発明によって、容量素子をトランジスタで形成し、さらにこのトランジスタをダミートランジスタとしても機能するように配設することにより、面積の増加を抑えた集積回路を提供することができる。 According to the present invention, an integrated circuit in which an increase in area can be suppressed can be provided by forming a capacitor element using a transistor and arranging the transistor so as to function as a dummy transistor.
図1は本発明の1実施例の差動増幅器を示す図である。
図1において、1組のトランジスタ11(第2のトランジスタ)およびトランジスタ12(第3のトランジスタ)は、それぞれ入力トランジスタとして動作する。すなわち、トランジスタ11、12のゲートには、差動信号が入力される。また、トランジスタ11、12のドレインには、それぞれ負荷としての抵抗14、15を介して電源電圧Vccが印加される。トランジスタ11、12のソースは共通に接続され、トランジスタ13を介して接地される。つまり、トランジスタ11、12のソースの共通接続点は仮想接地点として働く。
FIG. 1 is a diagram showing a differential amplifier according to one embodiment of the present invention.
In FIG. 1, a pair of transistors 11 (second transistor) and transistor 12 (third transistor) each operate as an input transistor. That is, a differential signal is input to the gates of the
トランジスタ13(第4のトランジスタ)は、ゲートに電圧が入力され、ドレインが仮想接地点に接続され、ソースが接地される。したがって、トランジスタ13は、電流源として動作する。
In the transistor 13 (fourth transistor), a voltage is input to the gate, the drain is connected to the virtual ground point, and the source is grounded. Therefore, the
トランジスタ30、31(第1のトランジスタ)は、ゲートが仮想接地点に接続され、ソースとドレインは、トランジスタ13のソース接地間に接続され、接地される。したがって、トランジスタ30、31は、容量素子として動作し、トランジスタ11、12の各ソースの共通接続点(以下、仮想接地点)の電位を安定させる容量素子として動作する。
The gates of the
図2は図1においてトランジスタ13及びトランジスタ14を抜き出した集積回路を上面から見た図である。
トランジスタ13は、斜線部で示されており、ドレイン領域23の外側に第1のゲート電極22、第2のゲート電極24が形成され、第1のゲート電極22の外側に第1のソース領域21、第2のゲート電極24の外側に、第2のソース領域25がそれぞれ形成されることにより構成される。そして、第1のゲート電極22と第2のゲート電極24は、配線により接続されており、第1のソース領域21、第2のソース領域25は配線により接続され、接地されている。なお、第1のゲート電極22、第2のゲート電極24の下面には酸化膜が設けられており、第1のソース領域21、第2のソース領域25、ドレイン領域23は、拡散領域である。
FIG. 2 is a top view of the integrated circuit from which the
The
図2においてトランジスタ13の両外側には、このトランジスタ13の製造プロセスの影響による特性のばらつきを防止するために仮想接地点の電位を安定させるためのトランジスタ30、31が設けられている。
In FIG. 2,
トランジスタ30は、第1のソース領域21の外側にゲート電極27が形成され、ゲート電極27の外側にドレイン領域26が形成される。トランジスタ30のソース領域は、第1のソース領域21であり、トランジスタ13と共用している。
In the
トランジスタ31は第1のソース領域21の外側にゲート電極28が形成され、ゲート電極28の外側にドレイン領域29が形成される。トランジスタ31のソース領域は、第2のソース領域25であり、トランジスタ13と共用している。そして、トランジスタ30、31のゲート電極27、28は、配線によってトランジスタ13のドレイン領域23に接続されており、トランジスタ30、31のドレイン領域26,29および第1のソース領域21、第2のソース領域25は、接続され、接地される。このように仮想接地点を安定させるためのトランジスタ30、31をトランジスタ13の両外側に配設することにより、仮想接地点を安定させるためのトランジスタ30、31に、ダミートランジスタの機能を持たせることができる。よって、容量素子として動作するトランジスタとダミートランジスタを別々に形成した場合に比べ、トランジスタ1つ分少ない面積で集積回路を形成することができる。
In the
また、上述した実施例の差動増幅回路によれば、仮想接地点の電位を安定させるためのトランジスタ30、31のソース領域と、電流源として動作するトランジスタ13のソース領域とを共用することができるため、トランジスタ30、31のソース領域とトランジスタ13のソース領域が別々に形成された場合に比べ、ソース領域2つ分少ない面積で集積回路を形成することができる。
Further, according to the differential amplifier circuit of the above-described embodiment, the source regions of the
また、仮想接地点の電位を安定させるための容量素子をトランジスタで構成したので、集積回路の面積を小さくでき、かつ、容量素子を他のトランジスタと同一プロセスで作ることができる。 In addition, since the capacitor for stabilizing the potential of the virtual ground point is configured by a transistor, the area of the integrated circuit can be reduced, and the capacitor can be formed by the same process as other transistors.
なお、本実施の形態では、仮想接地点の電位を安定させるための容量素子をトランジスタで構成し、該トランジスタをダミートランジスタとしても機能するよう配設する構成であるが、仮想接地点の電位を安定させるためのトランジスタに限られない。例えば、高周波成分を除去するための容量素子をトランジスタで構成し、該トランジスタをダミートランジスタとしても機能するよう配設する構成にしてもよい。 Note that in this embodiment, the capacitor for stabilizing the potential of the virtual ground point is configured by a transistor, and the transistor is also arranged to function as a dummy transistor. The transistor is not limited to stabilization. For example, a capacitor element for removing high-frequency components may be formed of a transistor, and the transistor may be arranged to function as a dummy transistor.
また、本実施の形態では、nチャネルトランジスタを用いているが、nチャネルMOSトランジスタの代わりにpチャネルMOSトランジスタを用いてもよい。この場合、図1の電源電圧Vccを接地とし、図1の接地を電源電圧Vccとする。 In this embodiment, an n-channel transistor is used, but a p-channel MOS transistor may be used instead of the n-channel MOS transistor. In this case, the power supply voltage Vcc in FIG. 1 is grounded, and the ground in FIG. 1 is power supply voltage Vcc.
1,5,21,25 トランジスタのソース領域
2,4,7,8,22,24,27,28 トランジスタのゲート電極
3,6,9,23,26,29 トランジスタのドレイン領域
11,12,13 トランジスタ
14、15 負荷としての抵抗
30、31 ダミートランジスタ
1, 5, 21, 25
Claims (5)
一端が該第2及び第3のトランジスタの仮想接地点に接続されると共に他端が接地されることにより電流源として動作する第4のトランジスタとからなり、
前記第1のトランジスタのゲートは前記第2および第3のトランジスタの前記仮想接地点に接続されることを特徴とする請求項1記載の集積回路。 The integrated circuit includes a differential amplifier circuit, and the differential amplifier circuit includes second and third transistors for inputting a differential signal;
A first transistor having one end connected to the virtual grounding point of the second and third transistors and the other end grounded to operate as a current source;
2. The integrated circuit according to claim 1, wherein a gate of the first transistor is connected to the virtual ground point of the second and third transistors.
前記トランジスタは前記回路素子の両外側に配設されることを特徴とする集積回路。
A transistor that operates as a capacitor element by connecting a source and a drain to ground and connecting a gate to a circuit element;
The integrated circuit according to claim 1, wherein the transistor is disposed on both outer sides of the circuit element.
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080603 |