JP2006269495A - フレキシブルプリント配線基板、および半導体装置 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title description 7
- 239000012787 coverlay film Substances 0.000 claims abstract description 86
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 61
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 37
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 37
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 19
- 239000002585 base Substances 0.000 description 22
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 15
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 10
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 6
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 1
- 229920001283 Polyalkylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 229920001646 UPILEX Polymers 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- -1 copper Chemical class 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005487 naphthalate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
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- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
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- H01L21/4857—Multilayer substrates
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- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
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- H01L24/50—Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
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- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/86—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using tape automated bonding [TAB]
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- H01L2924/01006—Carbon [C]
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- H01L2924/01—Chemical elements
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Abstract
カバーレイフィルムを配線パターンの表面に貼着する場合に、端部からの剥がれや気泡の巻き込みなどを可及的に防止することのできるフレキシブルプリント配線基板、および半導体装置を提供する。
【解決手段】
配線パターン24の表面がパターンを保護するための絶縁性のカバーレイフィルム32で保護されるフレキシブルプリント配線基板20であって、
カバーレイフィルム32を貼着するときに、配線パターン24の端子部分26を除く配線パターン領域Lとカバーレイフィルム32の形状とが投影的に略合致するように当該カバーレイフィルム32の大きさが予め設定され、配線パターン24が形成されていない部分にカバーレイフィルム32を貼らないようにしたことを特徴としている。
【選択図】 図1
Description
板は、ポリイミドフィルムなどの絶縁フィルムに銅箔などの導電性金属層を形成し、この導電性金属層表面に感光性樹脂を塗布し、この感光性樹脂を所望のパターンに露光現像して感光性樹脂からなるパターンを形成した後、この形成されたパターンをマスキング材として、導電性金属を選択的にエッチングすることにより、配線パターンを形成することにより製造されている。
例えば、図2に示したように、絶縁性のベースフィルム2の表面に配線パターン4が形成されたフレキシブルプリント配線基板6がある。このフレキシブル配線基板6では、左側下面部の3本分の端子相当部分がダミーパターン64とされている。このようなフレキシブルプリント配線基板6の上部に、接着剤付きのカバーレイフィルム10を貼着するには、略矩形状にカットされた接着剤付きのカバーレイフィルム10が用意される。このカバーレイフィルム10は、絶縁性樹脂フィルム基材9とフィルム接着剤層8とからなる。そして、図3に示したように、そのカバーレイフィルム10の接着剤層8側を、配線パターン4に対向配置し、この状態から、先ず、カバーレイフィルム10の上方側から所定の金型で軽く加熱圧着することにより、配線パターン4の表面にカバーレイフィルム10を仮止めする。
れてしまったり、あるいは接着面に凹凸面が形成されてしまうために、2回目の本圧着を行った場合などに、図4に示したように、接着剤層8の内部に、気泡12を巻き込んで製品不良を生じさせてしまう虞があった。
前記カバーレイフィルムを貼着するときに、前記配線パターンの端子部分を除く配線パターン領域と前記カバーレイフィルムの形状とが投影的に略合致するように当該カバーレイフィルムの大きさが予め設定され、この大きさのカバーレイフィルムが前記配線パターンの形成されている領域に貼着されることを特徴としている。
さらに、前記カバーレイフィルムが、前記絶縁性のベースフィルムを形成する樹脂と同一種類の樹脂で形成されていることが好ましい。
また、本発明に係る半導体装置は、これらいずれかのフレキシブルプリント配線基板に電子部品が実装されていることを特徴としている。
4に端子部分26が露出するように配置されたカバーレイフィルム(絶縁性樹脂保護フィルム)32とからなる。フレキシブルプリント配線基板20には、電気的に接続されていないダミーパターン(ダミー配線)が形成されていても良い。
25μm、特に好ましくは25〜75μmの平均厚さを有している。
上記のような絶縁性のベースフィルム22に、パンチングにより、スプロケットホール28、デバイスホール30、折り曲げスリット(図示なし)、位置合わせ用孔(図示なし)などの必要な透孔が穿設されている。
カバーレイフィルム32は、図3に示したカバーレイフィルム10の場合と同様に、絶縁性樹脂フィルム基材9と、この一方の面に形成されたフィルム接着剤層8とからなる。
m〜3mm程度大きくした範囲でカットされている。
このような大きさのカバーレイフィルム32を予め用意することにより、このカバーレイフィルム32と配線パターン24とを仮止めした後、本圧着すると、従来生じていた気泡の巻き込みやカバーレイフィルム32の浮き上がり、剥がれなどを防止することができる。すなわち、従来は、配線パターン24が存在しない部分も含む大きな四角形状のカバーレイフィルムを用意して、これを配線パターン24の上面を覆うように貼着していた。このような大きさでは、配線パターンが形成されていない部分(特に四隅角部)にも、カバーレイフィルム32が貼着されることになるので、仮止め時に、接着面に凹凸が生じ、結果として、本圧着時に気泡を含む割合が40〜50%もあった。これに対し、本実施例のように、配線パターン24が存在しない範囲を予め切除して使用すると、本圧着されたフレキシブルプリント配線基板の気泡の発生率が0〜1%となり、気泡の発生を略完全に無くすことが可能になった。
カバーレイフィルム32の絶縁性樹脂フィルム基材9を形成する耐熱性保護樹脂としては、ポリイミド、ポリアルキレンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレートおよびアラミド樹脂を挙げることができる。これらの樹脂は単独であるいは組み合わせて使用することができる。上記のような耐熱性保護樹脂から形成される絶縁性樹脂フィルム基材9の厚さは、平均厚さで、通常は1μm以上、好ましくは3〜75μm、特に好ましくは4〜50μmである。
熱し0.2〜2MPa好ましくは0.4MPa〜0.8MPa程度の圧力で仮接着した後、フィルム接着剤層8の種類に応じて100〜200℃好ましくは130℃〜180℃程度に加熱し0.3〜5MPa好ましくは0.6MPa〜0.9MPa程度の圧力で本圧着する。
以上、本発明の一実施例について説明したが、本発明は、上記実施例に何ら限定されない。
要は、配線パターン24の形成されていない部分に、カバーレイフィルム32が貼着されていなければ良い。すなわち、カバーレイフィルムの形状は、配線パターン24の形状により、どのような形状であっても良い。
[実施例1]
に、厚さ12μmの接着剤層を介して平均厚さ35μmの電解銅箔を加圧しながら加熱し
て貼着した。
次に、このパターンが形成されたベースフィルムをエッチング液に浸漬して、パターンをマスキング材として電解銅箔を選択的にエッチングすることにより、銅からなる配線パターンを形成した。
このように調製されたカバーレイフィルムの接着剤層を、フィルムキャリアテープの配線パターン形成面と対面するように配置し、ポンチとポンチ孔を有する打ち抜きプレス装置で打ち抜き100℃に加熱しながら、0.5MPaの圧力で配線パターンの所定位置に
圧着した。
、一回の打ち抜きでカバーレイフィルムをA,Bの形状で同時に打ち抜いた。ポンチAで打ち抜かれたフィルム片は、図1において左側、すなわち3つの金属線25がダミーになっている方に配置し、ポンチBで打ち抜かれたフィルム片は、図1において右側に位置するようにセットした。一回の打ち抜きで接着も同時に行った。こうして、図1のベースフィルムに対し、左右の配線パターンの表面に、ポンチAの形状に相当するカバーレイフィルムとポンチBの形状に相当するカバーレイフィルムとをそれぞれ仮接着し1万ピースのサンプルを作製した。カバーレイフィルムの隅部はいずれも平坦で剥がれや浮き上がりなどの凹凸はなかった
次に、カバーレイフィルムが仮接着されたベースフィルムに対し、本圧着を行うが、その場合に、シリコン系樹脂からなる弾性部材(シリコン・パッド)を本圧着を行う金型の表面に付設した。
このようにして接着された1万ピースのフィルムキャリアのカバーレイフィルムと配線パターンとの接着面には、気泡などは見られなかった。また、カバーレイフィルムの四隅角部に注目してカバーレイフィルムの貼り付け状況を確認したが、どの角部においても適正に接着されていて,剥がれや浮き上がりなどの凹凸は認められず、平坦であった。
ポンチの形状としては、図5に示したポンチBを2つ用意した。すなわち、比較例としては、配線パターンが形成されていない部分に対してもカバーレイフィルムで覆われるように、配線パターン領域よりも大きく設定した。そして、このポンチB、Bで打ち抜かれたフィルム片を配線パターンの上面に仮接着を行った後に本圧着した。仮接着や本圧着における温度条件や圧力は実施例1と同一条件である。
このようにして仮接着されたカバーレイフィルムと配線パターンとの接着面には、浮き上がり生じているものが約半数近くあり、特に、隅角部に注目してみると、他の部分では、浮き上がりが見られなくても、その部分だけには浮き上がりの生じているものが多かった。また、本圧着されたサンプルが気泡を含む割合は43%であった。
9・・・絶縁性樹脂フィルム基材
20・・・フレキシブルプリント配線基板
22・・・絶縁性のベースフィルム
24・・・配線パターン
25・・・ダミーパターン(配線パターン)
26・・・端子部分
28・・・スプロケットホール
30・・・デバイスホール
32・・・カバーレイフィルム(絶縁性樹脂保護フィルム)
Claims (4)
- 絶縁性のベースフィルム表面に導電性金属からなる配線パターンが形成され、該配線パターンの端子部分が露出されるとともに、当該配線パターンの表面が絶縁性のカバーレイフィルムで保護されるフレキシブルプリント配線基板であって、
前記カバーレイフィルムを貼着するときに、前記配線パターンの端子部分を除く配線パターン領域と前記カバーレイフィルムの形状とが投影的に略合致するように当該カバーレイフィルムの大きさが予め設定され、この大きさのカバーレイフィルムが前記配線パターンの形成されている領域に貼着されることを特徴とするフレキシブルプリント配線基板。 - 前記カバーレイフィルムの一方の面に接着剤層が形成されており、該接着剤層を介して前記カバーレイフィルムが前記配線パターンの表面に貼着されることを特徴とする請求項1に記載のフレキシブルプリント配線基板。
- 前記カバーレイフィルムが、前記絶縁性のベースフィルムを形成する樹脂と同一種類の樹脂で形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のフレキシブルプリント配線基板。
- 請求項1〜請求項3のいずれかに記載のフレキシブルプリント配線基板に電子部品が実装されていることを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005081581A JP4628154B2 (ja) | 2005-03-22 | 2005-03-22 | フレキシブルプリント配線基板、および半導体装置 |
KR1020060025363A KR100776466B1 (ko) | 2005-03-22 | 2006-03-20 | 플렉서블 프린트 배선 기판 및 플렉서블 프린트 배선기판의 제조방법 및 반도체 장치 |
TW095109424A TWI347158B (en) | 2005-03-22 | 2006-03-20 | Flexible printed wiring board, method for fabricating flexible printed wiring board, and semiconductor device |
US11/385,194 US20060214282A1 (en) | 2005-03-22 | 2006-03-21 | Flexible printed wiring board, method for fabricating flexible printed wiring board, and semiconductor device |
CNA2006100585716A CN1838860A (zh) | 2005-03-22 | 2006-03-22 | 柔性印刷线路板及其制造方法、和半导体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005081581A JP4628154B2 (ja) | 2005-03-22 | 2005-03-22 | フレキシブルプリント配線基板、および半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006269495A true JP2006269495A (ja) | 2006-10-05 |
JP4628154B2 JP4628154B2 (ja) | 2011-02-09 |
Family
ID=37016070
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005081581A Expired - Fee Related JP4628154B2 (ja) | 2005-03-22 | 2005-03-22 | フレキシブルプリント配線基板、および半導体装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060214282A1 (ja) |
JP (1) | JP4628154B2 (ja) |
KR (1) | KR100776466B1 (ja) |
CN (1) | CN1838860A (ja) |
TW (1) | TWI347158B (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3983786B2 (ja) * | 2005-11-15 | 2007-09-26 | シャープ株式会社 | プリント配線基板 |
WO2009102108A1 (en) * | 2008-02-15 | 2009-08-20 | Gigalane Co.Ltd | Printed circuit board |
US9072177B2 (en) * | 2011-07-20 | 2015-06-30 | Kaneka Corporation | Conductive layer integrated FPC |
JP6375015B1 (ja) * | 2017-04-25 | 2018-08-15 | 住友化学株式会社 | 有機電子デバイスの製造方法 |
JP6375016B1 (ja) | 2017-04-26 | 2018-08-15 | 住友化学株式会社 | 電極付き基板、積層基板及び有機デバイスの製造方法 |
KR102622861B1 (ko) * | 2018-06-22 | 2024-01-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | 연성 기판 및 이를 포함하는 표시 장치 |
CN112105155B (zh) * | 2020-08-20 | 2022-01-11 | 瑞声新能源发展(常州)有限公司科教城分公司 | 一种片式fpc及其制作方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2000331730A (ja) | 1999-05-20 | 2000-11-30 | Canon Inc | スタッキングコネクタ実装構造 |
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JP3775329B2 (ja) | 2002-03-27 | 2006-05-17 | 三井金属鉱業株式会社 | 電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造方法、その製造装置およびその方法に用いられる保護テープ |
JP3694286B2 (ja) * | 2002-10-08 | 2005-09-14 | 日東電工株式会社 | Tab用テープキャリア |
JP3638276B2 (ja) * | 2002-12-24 | 2005-04-13 | 三井金属鉱業株式会社 | 電子部品実装用フィルムキャリアテープ |
JP3895697B2 (ja) * | 2003-03-03 | 2007-03-22 | 日東電工株式会社 | フレキシブル配線回路基板 |
US7012017B2 (en) * | 2004-01-29 | 2006-03-14 | 3M Innovative Properties Company | Partially etched dielectric film with conductive features |
-
2005
- 2005-03-22 JP JP2005081581A patent/JP4628154B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-03-20 KR KR1020060025363A patent/KR100776466B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2006-03-20 TW TW095109424A patent/TWI347158B/zh not_active IP Right Cessation
- 2006-03-21 US US11/385,194 patent/US20060214282A1/en not_active Abandoned
- 2006-03-22 CN CNA2006100585716A patent/CN1838860A/zh active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100776466B1 (ko) | 2007-11-16 |
TW200640317A (en) | 2006-11-16 |
TWI347158B (en) | 2011-08-11 |
KR20060102281A (ko) | 2006-09-27 |
JP4628154B2 (ja) | 2011-02-09 |
US20060214282A1 (en) | 2006-09-28 |
CN1838860A (zh) | 2006-09-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |