JP2006236655A - 有機電界発光装置 - Google Patents
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】 基板、第1の電極および第2の電極に挟持された発光層を有する有機電界発光装置であって、光取りだし側の全反射の発生する界面に、回折による光取りだし効率向上の構造を有する有機電界発光装置において、視野角0°での2°視野色度が色度座標上において以下の3点(0.28,0.44)、(0.32,0.28)、(0.39,0.32)を結ぶ3角形内にあり、かつ視野角30°での2°視野色度との差(Δx2+Δy2)1/2が0.06以上、かつ、視野角30°での2°視野色度が色度座標上において以下の3点(0.28,0.44)、(0.32,0.28)、(0.39,0.32)を結ぶ3角形外にある有機電界発光装置。
【選択図】 なし
Description
基板および基板上に、第1の電極および第2の電極に挟持された発光層を有する有機電界発光装置であって、
光取りだし側の基板内から発光層までのいずれかの全反射の発生する界面に、回折による光取りだし効率向上の構造を有する有機電界発光装置において、
正面(視野角0°)での色度が、
CIE2°視野標準観測者(CIE1931等色関数)を用いて算出されるxy色度図上の座標(x、y)で表示したとき、
以下の3点(0.28,0.44)、(0.32,0.28)、(0.39,0.32)を結ぶ3角形内にあり、
かつ、視野角30°における色度が、
前記CIE2°視野標準観測者(CIE1931等色関数)を用いて算出されるxy色度図上の座標(x、y)で表示したとき以下の3点(0.28,0.44)、(0.32,0.28)、(0.39,0.32)を結ぶ3角形外にあり、
かつ、前記正面(視野角0°)および視野角30°における色度の差は、それぞれの色度点におけるxおよびyの差をそれぞれΔx、Δyとしたとき、
(Δx2+Δy2)1/2が0.06以上となることを特徴とする有機電界発光装置。
基板および基板上に、第1の電極および第2の電極に挟持された発光層を有する有機電界発光装置であって、光取りだし側の基板内から発光層までのいずれかの全反射の発生する界面に、回折による光取りだし効率向上の構造を有する有機電界発光装置において、
前記回折による光取りだし効率向上の構造が、前記全反射の発生する界面に設けられた60nm〜1700nmの範囲にあるピッチ(周期)を有する凹凸からなることを特徴とする有機電界発光装置。
前記回折による光取りだし効率向上の構造が、透明電極層と光取りだし側の基板との間に形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機電界発光装置。
前記基板が、プラスチック基板であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機電界発光装置。
(Δx2+Δy2)1/2が0.06以上となる有機電界発光装置である。
有機EL素子の構成層について説明する。
(i)陽極/発光層/電子輸送層/陰極
(ii)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(iii)陽極/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極
(iv)陽極/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
(v)陽極/陽極バッファー層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
白色発光有機EL素子としては、上記構成において、発光層において、発光材料を単純に発光強度に応じて白色となるよう混合したものでもよく、また、発光の異なる層を2層以上、積層した構成のものでもよい。
有機EL素子における陽極としては、仕事関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としてはAu等の金属、CuI、インジウムチンオキシド(ITO)、SnO2、ZnO等の導電性透明材料が挙げられる。また、IDIXO(In2O3−ZnO)等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。陽極は、これらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により、薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合は(100μm以上程度)、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を10%より大きくすることが望ましく、また、陽極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。さらに膜厚は材料にもよるが、通常10〜1000nm、好ましくは10〜200nmの範囲で選ばれる。インジウムチンオキシド(ITO)、SnO2、ZnO等の導電性透明材料は光取りだし側の電極として特に好ましい。
一方、陰極としては、仕事関数の小さい(4eV以下)金属(電子注入性金属と称する)、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えばマグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。陰極は、これらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により、薄膜を形成させることにより作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm〜1000nm、好ましくは50nm〜200nmの範囲で選ばれる。なお、発光を透過させるため、有機EL素子の陽極または陰極のいずれか一方が、透明または半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。
注入層は必要に応じて設け、電子注入層と正孔注入層があり、上記のごとく陽極と発光層または正孔輸送層の間、及び、陰極と発光層または電子輸送層との間に存在させてもよい。
本発明において、発光層に用いられる発光材料の種類については特に制限はなく、従来有機EL素子における発光材料として公知のものを用いることができる。このような発光材料は主に有機化合物であり、所望の色調により、例えば、Macromol.Symp.125巻17頁から26頁に記載の化合物が挙げられる。
発光層中の主成分であるホスト化合物に対する発光ドーパントとの混合比は好ましくは質量で0.1質量%〜30質量%未満の範囲である。
本発明に用いられる発光ホスト化合物としては、構造的には特に制限はないが、代表的にはカルバゾール誘導体(カルバゾール誘導体としてはCBP等がよく知られている。)、トリアリールアミン誘導体、芳香族ボラン誘導体(トリアリールボラン誘導体)、含窒素複素環化合物、チオフェン誘導体、フラン誘導体、オリゴアリーレン化合物等の基本骨格を有するもの、または、カルボリン誘導体やジアザカルバゾール誘導体(ここで、ジアザカルバゾール誘導体とは、カルボリン誘導体のカルボリン環を構成する炭化水素環の少なくとも一つの炭素原子が窒素原子で置換されているものを表す。)等が挙げられる。
正孔輸送層とは正孔を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は単層もしくは複数層設けることができる。
電子輸送層とは電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、電子輸送層は単層もしくは複数層設けることができる。
本発明の有機EL素子に係る基体としては、ガラス、プラスチック等の種類には特に限定はなく、また、透明のものであれば特に制限はないが、好ましく用いられる基板としては例えばガラス、石英、光透過性樹脂フィルムを挙げることができる。
本発明の有機EL素子の作製方法の一例として、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極からなる有機EL素子の作製法について説明する。
〈ガラス基板の作製〉
面積75mm×75mm、厚さ1mmの石英ガラス基板(HOYA製、NA45)を用いた。図2(a)に示すパターン形成をフォトリソグラフィー工程を用いて、行った。先ずi線レジスト(東京応化製 THMR−iP1700)をスピンコートにより2μm厚に形成、i線ステッパーにてパターン形成を行った。次いでガラス基板をフッ化水素酸溶液に浸漬してエッチングを行った。凹凸の形状として、直径150nmの円形で、深さ120nmの孔を、各孔のピッチ(周期)がすべて320nmとなるよう凹凸が配置されたガラス基板を形成した。
上記で得られた凹凸表面を有するガラス基板に、以下の方法で、ITO膜を形成した。ITO膜はバイアススパッター法を用いてスパッタリング法により作製した。得られたITO膜は厚さ150nm屈折率2.0、シート抵抗約10Ω/m2であった。ITO膜形成後研磨テープ(MIPOX製、研磨テープ(15000番))を用いて表面を10nm程度研磨して平滑化した。
上記で得られた光取りだし構造付きのITO膜付きガラス基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥したのちUVオゾン洗浄を5分間行った。次いでITO透明電極側にPEDOT−PSS(ポリエチレンジオキシチオフェン−ポリスチレンスルフォン酸ドープ体;バイエル製baytron)層を乾燥厚み40nmとなるようにスピンコート塗布により形成した。
中間層1 L−98 3nm
発光層B CDBP:Ir−16(8%) 17nm
ここで各発光層において、CDBP:Ir−15(3%) 17nmとあるのは、ホストであるCDBPに対しドーパントであるIr−15が3質量%含まれる17nmの蒸着膜であることを示す。
実施例1と同様にして有機EL素子を作製した。但し、ガラス基板の凹凸形状として、同じく径150nm、深さは120nmの孔を形成したが、その周期(ピッチ)を280nmとしたものを用いた。
〈ITO膜の作製〉
75mm×75mm、厚み1mmのガラス基板に、実施例1と同様にしてITO膜を作製した。得られたITO膜は厚さ150nm、屈折率2.0、シート抵抗約10Ω・m2であった。
上記で得られたITO膜付きガラス基板を用いて、実施例1と全く同様に有機EL素子を作製した。
2 陽極
3 有機層
4 陰極
Claims (4)
- 基板および基板上に、第1の電極および第2の電極に挟持された発光層を有する有機電界発光装置であって、
光取りだし側の基板内から発光層までのいずれかの全反射の発生する界面に、回折による光取りだし効率向上の構造を有する有機電界発光装置において、
正面(視野角0°)での色度が、
CIE2°視野標準観測者(CIE1931等色関数)を用いて算出されるxy色度図上の座標(x、y)で表示したとき、
以下の3点(0.28,0.44)、(0.32,0.28)、(0.39,0.32)を結ぶ3角形内にあり、
かつ、視野角30°における色度が、
前記CIE2°視野標準観測者(CIE1931等色関数)を用いて算出されるxy色度図上の座標(x、y)で表示したとき以下の3点(0.28,0.44)、(0.32,0.28)、(0.39,0.32)を結ぶ3角形外にあり、
かつ、前記正面(視野角0°)および視野角30°における色度の差は、それぞれの色度点におけるxおよびyの差をそれぞれΔx、Δyとしたとき、
(Δx2+Δy2)1/2が0.06以上となることを特徴とする有機電界発光装置。 - 基板および基板上に、第1の電極および第2の電極に挟持された発光層を有する有機電界発光装置であって、光取りだし側の基板内から発光層までのいずれかの全反射の発生する界面に、回折による光取りだし効率向上の構造を有する有機電界発光装置において、
前記回折による光取りだし効率向上の構造が、前記全反射の発生する界面に設けられた60nm〜1700nmの範囲にあるピッチ(周期)を有する凹凸からなることを特徴とする有機電界発光装置。 - 前記回折による光取りだし効率向上の構造が、透明電極層と光取りだし側の基板との間に形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機電界発光装置。
- 前記基板が、プラスチック基板であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機電界発光装置。
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