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JP2006227142A - ELECTRO-OPTICAL DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND ELECTRONIC DEVICE - Google Patents

ELECTRO-OPTICAL DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND ELECTRONIC DEVICE Download PDF

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JP2006227142A JP2005038728A JP2005038728A JP2006227142A JP 2006227142 A JP2006227142 A JP 2006227142A JP 2005038728 A JP2005038728 A JP 2005038728A JP 2005038728 A JP2005038728 A JP 2005038728A JP 2006227142 A JP2006227142 A JP 2006227142A
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frame
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electro
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JP2005038728A
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Shoji Hiuga
章二 日向
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Seiko Epson Corp
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Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】 シール材が形成される領域の強度向上を図ると共に、当該領域付近のセルギャップを一定の厚さに保持する。
【解決手段】 液晶表示装置は、素子基板とカラーフィルタ基板を有している。素子基板は、その一部をエッチングすることにより同時に形成された、複数の要素、即ち枠状のシール部、注入口、複数の柱状のスペーサ、複数の凸部を更に有している。素子基板とカラーフィルタ基板とは、素子基板の要素である枠状のシール部を介して貼り合わされ、その内部に液晶が封入されている。ここで、枠状のシール部上の適切な位置には接着剤が塗布されている。これにより、この液晶表示装置によれば、枠状のシール部がガラス等により形成されているため、その枠状のシール部の周辺、即ち液晶表示装置の外周周辺の強度向上を図ることができる、また、その周辺のセルギャップを一定の厚さに保持することができる。
【選択図】 図5
PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the strength of a region where a sealing material is formed and to keep a cell gap in the vicinity of the region at a constant thickness.
A liquid crystal display device includes an element substrate and a color filter substrate. The element substrate further includes a plurality of elements, that is, a frame-shaped seal portion, an injection port, a plurality of columnar spacers, and a plurality of convex portions formed simultaneously by etching a part of the element substrate. The element substrate and the color filter substrate are bonded to each other through a frame-shaped seal portion that is an element of the element substrate, and liquid crystal is sealed therein. Here, an adhesive is applied to an appropriate position on the frame-shaped seal portion. Thereby, according to this liquid crystal display device, since the frame-shaped seal portion is formed of glass or the like, it is possible to improve the strength of the periphery of the frame-shaped seal portion, that is, the outer periphery of the liquid crystal display device. In addition, the cell gap around the periphery can be kept constant.
[Selection] Figure 5

Description

本発明は、各種情報の表示に用いて好適な電気光学装置等に関する。   The present invention relates to an electro-optical device suitable for use in displaying various information.

従来より、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマディスプレイ装置、及びフィールドエミッション表示装置などの各種の電気光学装置が知られている。   Conventionally, various electro-optical devices such as a liquid crystal display device, an organic electroluminescence display device, a plasma display device, and a field emission display device are known.

電気光学装置の一例としての液晶表示装置は一対の基板を備えており、両基板は、例えば光硬化性を有する材料などからなる枠状のシール材を介して貼り合わせられ、両基板間に液晶が封入されている。ここに、液晶は、製造過程においてシール材の適所に設けられた開口を通じて両基板の間に封入される。また、かかる液晶表示装置では両基板の間隔を一定に保つため、両基板間の適当な位置にスペーサが設けられることが多い。このような構成を有する液晶表示装置の一例が特許文献1及び2に記載されている。   A liquid crystal display device as an example of an electro-optical device includes a pair of substrates, and both the substrates are bonded together via a frame-shaped sealing material made of, for example, a photo-curing material, and the liquid crystal is interposed between the substrates. Is enclosed. Here, the liquid crystal is sealed between the two substrates through an opening provided at an appropriate position of the sealing material in the manufacturing process. In such a liquid crystal display device, a spacer is often provided at an appropriate position between the two substrates in order to keep the distance between the two substrates constant. An example of a liquid crystal display device having such a configuration is described in Patent Documents 1 and 2.

ここで、上記の特許文献1に係る液晶表示装置は、特に、ガラス等よりなる基板と一体的に形成された複数の柱状のスペーサを有している。この液晶表示装置の製造方法では、ガラス等よりなる基板において複数の柱状のスペーサが形成されるべき領域以外の領域を所定の厚さだけエッチング(除去)することにより、柱状のスペーサを基板の一方の面側に形成することにしている。これにより、基板と柱状のスペーサとが一体的に形成されるので、柱状のスペーサが基板から剥がれ難いという利点がある。   Here, the liquid crystal display device according to Patent Document 1 has a plurality of columnar spacers formed integrally with a substrate made of glass or the like. In this method of manufacturing a liquid crystal display device, a columnar spacer is removed from one side of a substrate by etching (removing) a region other than a region where a plurality of columnar spacers are to be formed on a substrate made of glass or the like by a predetermined thickness. It is decided to form on the surface side. Thereby, since the substrate and the columnar spacer are integrally formed, there is an advantage that the columnar spacer is hardly peeled off from the substrate.

また、上記の特許文献2に係る液晶表示装置では、第1基板の配線と第2基板の対向電極等とを電気的に接続するための導通領域がシール材の適所に設けられており、その導通領域と向かい合うシール材の位置に第1ダミーパターンが設けられている。これにより、第1基板と第2基板との間隔、即ちセルギャップを液晶パネルの全面に亘って均一に維持できるようにしている。   Further, in the liquid crystal display device according to Patent Document 2, a conductive region for electrically connecting the wiring of the first substrate and the counter electrode of the second substrate is provided at an appropriate position of the sealing material. A first dummy pattern is provided at the position of the sealing material facing the conduction region. Thus, the distance between the first substrate and the second substrate, that is, the cell gap can be maintained uniformly over the entire surface of the liquid crystal panel.

特開2001−296530号公報JP 2001-296530 A 特開2003−84292号公報JP 2003-84292 A

しかしながら、上記した液晶表示装置では、シール材に対応する領域にはスペーサが設けられないので、その領域は外力に対する強度が十分でなく、その領域ではセルギャップを一定厚さに保持するのが困難であるといった問題がある。   However, in the above-described liquid crystal display device, since no spacer is provided in the region corresponding to the seal material, the region does not have sufficient strength against external force, and it is difficult to maintain a constant cell gap in that region. There is a problem such as.

本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであり、シール材が形成される領域の強度向上を図ると共に、当該領域付近のセルギャップを一定の厚さに保持することが可能な電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above points, and is an electro-optical device capable of improving the strength of a region where a sealing material is formed and maintaining a constant cell gap in the vicinity of the region. It is an object to provide an apparatus, a manufacturing method thereof, and an electronic apparatus.

本発明の1つの観点では、電気光学装置は、一対の基板を備え、前記一対の基板のうち一方の基板は、当該一方の基板の一部にて形成され且つ当該一方の基板の一方の面から突出する枠状のシール部を有していると共に、前記一対の基板及び前記枠状のシール部で区画された領域には電気光学物質が配置されている。   In one aspect of the present invention, the electro-optical device includes a pair of substrates, and one of the pair of substrates is formed by a part of the one substrate and one surface of the one substrate. And an electro-optic material is disposed in a region defined by the pair of substrates and the frame-shaped seal portion.

上記の電気光学装置は、相対向する一対の基板を備えている。そして、一対の基板のうち一方の基板は、当該一方の基板の一部にて形成され且つ当該一方の基板の一方の面から突出する枠状のシール部を有している。ここで、少なくとも一方の基板は、ガラスや石英などの材料にて形成されているのが好ましい。また、一対の基板及び枠状のシール部で区画された領域には電気光学物質が配置されている。このため、枠状のシール部は、一対の基板と共に電気光学物質を保持する機能を有している。これにより、枠状のシール部の周辺、即ち電気光学装置の外周付近の強度向上を図ることができる。ここで、ガラスや石英等により形成された枠状のシール部を電気光学装置に適用すれば、光硬化性を有する材料などにより形成された枠状のシール材を電気光学装置に適用した場合と比べて、電気光学装置の外周周辺の強度が飛躍的に向上する。   The electro-optical device includes a pair of opposing substrates. And one board | substrate among a pair of board | substrates has the frame-shaped seal | sticker part which is formed in a part of the said one board | substrate, and protrudes from one surface of the said one board | substrate. Here, it is preferable that at least one of the substrates is formed of a material such as glass or quartz. An electro-optical material is disposed in a region defined by the pair of substrates and the frame-shaped seal portion. For this reason, the frame-shaped seal portion has a function of holding the electro-optical material together with the pair of substrates. Accordingly, it is possible to improve the strength around the frame-shaped seal portion, that is, near the outer periphery of the electro-optical device. Here, if a frame-shaped seal portion formed of glass, quartz, or the like is applied to an electro-optical device, a frame-shaped seal material formed of a photocurable material or the like is applied to the electro-optical device. In comparison, the strength around the outer periphery of the electro-optical device is dramatically improved.

上記の電気光学装置の一つの態様では、前記電気光学物質は液晶であり、前記枠状のシール部は凹部を有していると共に、当該凹部は前記液晶を注入するための開口である。   In one aspect of the electro-optical device, the electro-optical material is a liquid crystal, the frame-shaped seal portion has a recess, and the recess is an opening for injecting the liquid crystal.

この態様によれば、電気光学物質を液晶とすることができる。また、枠状のシール部は、その枠状のシール部の適切な位置をエッチングすることにより形成された凹部を有している。そして、その凹部は液晶を注入するための開口、即ち注入口である。このように、適切な位置に注入口が形成されるため、液晶を、その注入口を通じて電気光学装置の内部に容易に注入することができる。   According to this aspect, the electro-optic material can be a liquid crystal. Further, the frame-shaped seal portion has a recess formed by etching an appropriate position of the frame-shaped seal portion. The concave portion is an opening for injecting liquid crystal, that is, an injection port. As described above, since the injection port is formed at an appropriate position, the liquid crystal can be easily injected into the electro-optical device through the injection port.

上記の電気光学装置の他の態様では、前記一方の基板は、前記枠状のシール部の内側に、前記一方の基板の一部にて形成され、柱状の形状を有する複数のスペーサを有している。これにより、枠状のシール部周辺のみならず、枠状のシール部の内側の強度向上をも図ることができると共に、その枠状のシール部の内側のセルギャップを一定厚さに安定的に保持することができる。   In another aspect of the electro-optical device, the one substrate includes a plurality of spacers formed in a part of the one substrate and having a columnar shape inside the frame-shaped seal portion. ing. As a result, not only the periphery of the frame-shaped seal portion but also the strength inside the frame-shaped seal portion can be improved, and the cell gap inside the frame-shaped seal portion can be stably maintained at a constant thickness. Can be held.

上記の電気光学装置の他の態様では、前記一方の基板は、前記一方の基板の一部にて形成された複数の凸部を有しており、前記複数の凸部は、前記一方の基板上の駆動回路が実装されるべき領域に且つ前記駆動回路の電極部に対応する位置に形成されている。   In another aspect of the electro-optical device, the one substrate has a plurality of convex portions formed by a part of the one substrate, and the plurality of convex portions are the one substrate. The upper drive circuit is formed in a region to be mounted and at a position corresponding to the electrode portion of the drive circuit.

この態様によれば、一方の基板は、その一方の基板の一部にて形成された複数の凸部を有している。そして、複数の凸部は、その一方の基板上の駆動回路(ドライバIC)が実装されるべき領域に且つその駆動回路(ドライバIC)の入力側及び出力側の電極部(バンプ)に対応する位置に形成されている。よって、複数の凸部上に、駆動回路と電気的に接続するために配線(例えば、電子機器と接続されたプリント基板の出力配線、データ線、及び走査線と接続される引き回し配線などが該当、以下同様)を形成した場合には、駆動回路(ドライバIC)の入力側及び出力側の電極部(バンプ)と、対応する当該配線とを、各凸部上において的確に且つ高精度に電気的に接続することができ、相隣接するバンプ同士が短絡するのを防止することができる。   According to this aspect, one substrate has a plurality of convex portions formed by a part of the one substrate. The plurality of convex portions correspond to the electrode portions (bumps) on the input side and the output side of the drive circuit (driver IC) in the region where the drive circuit (driver IC) on the one substrate is to be mounted. Formed in position. Therefore, wiring (for example, output wiring of a printed circuit board connected to an electronic device, data line, and routing wiring connected to a scanning line, etc.) is electrically connected to a driving circuit on a plurality of convex portions. , The same applies hereinafter), the electrode portions (bumps) on the input side and output side of the drive circuit (driver IC) and the corresponding wirings are electrically connected with high accuracy on each convex portion. Can be connected to each other, and the adjacent bumps can be prevented from being short-circuited.

上記の電気光学装置の他の態様では、前記一対の基板のうち他方の基板は電極を有し、前記一方の基板上には前記駆動回路及び前記駆動回路に接続された配線が形成されており、前記配線の一端は前記枠状のシール部上に位置しており且つ前記電極の一端と接触している。   In another aspect of the electro-optical device, the other substrate of the pair of substrates has an electrode, and the driving circuit and the wiring connected to the driving circuit are formed on the one substrate. One end of the wiring is located on the frame-shaped seal portion and is in contact with one end of the electrode.

この態様によれば、一対の基板のうち他方の基板は電極(例えば、TFD素子等を有する液晶パネルでは走査線に相当し、TFT素子等を有する液晶パネルでは銀点に相当)を有している。そして、その一方の基板上には、駆動回路(ドライバIC)及びその駆動回路(ドライバIC)に電気的に接続された配線が形成されており、その配線の一端は、枠状のシール部上に位置しており且つその電極の一端と接触している。これにより、配線と電極とを的確に且つ高精度に電気的に接続することができる。よって、相隣接する配線同士が短絡するのを効果的に防止することができる。   According to this aspect, the other of the pair of substrates has electrodes (for example, a liquid crystal panel having a TFD element or the like corresponds to a scanning line, and a liquid crystal panel having a TFT element or the like corresponds to a silver point). Yes. On one of the substrates, a drive circuit (driver IC) and a wiring electrically connected to the drive circuit (driver IC) are formed, and one end of the wiring is on the frame-shaped seal portion. And is in contact with one end of the electrode. Thereby, wiring and an electrode can be electrically connected accurately and with high precision. Therefore, it is possible to effectively prevent the adjacent wirings from being short-circuited.

上記の電気光学装置の他の態様では、前記他方の基板は、平坦性を有し、前記他方の基板の一面全体に亘って形成された着色層と、前記着色層上の一面全体に亘って形成された保護層と、前記保護層上に形成された電極とを備え、前記一方の基板において、少なくとも前記複数のスペーサの上には配向膜が形成されており、前記配線の厚さと前記枠状のシール部の厚さの合計値と、前記配向膜の厚さと各々の前記スペーサの厚さの合計値とが一致するように、前記枠状のシール部の厚さと、前記各々のスペーサの厚さとは各々異なる値に設定されている。   In another aspect of the electro-optical device, the other substrate has flatness, a colored layer formed over the entire surface of the other substrate, and an entire surface on the colored layer. A protective layer formed, and an electrode formed on the protective layer, and an alignment film is formed on at least the plurality of spacers in the one substrate, and the thickness of the wiring and the frame The thickness of the frame-shaped seal portion and the thickness of the alignment layer and the total thickness of the spacers, and the thickness of the frame-shaped seal portion and the thickness of each spacer Each thickness is set to a different value.

この態様では、他方の基板は、平坦性を有しており、他方の基板の一面全体に亘って形成された着色層と、その着色層上の一面全体に亘って形成された保護層と、その保護層上に形成された電極とを備えている。また、一方の基板において、少なくとも複数のスペーサの上には配向膜が形成されており、配線の厚さと枠状のシール部の厚さの合計値と、配向膜の厚さと各々のスペーサの厚さの合計値とが一致するように、枠状のシール部の厚さと、各々のスペーサの厚さとが各々異なる値に設定されている。これにより、電気光学装置の全体に亘ってセルギャップを一定厚さに保持することができる。   In this aspect, the other substrate has flatness, a colored layer formed over the entire surface of the other substrate, a protective layer formed over the entire surface on the colored layer, And an electrode formed on the protective layer. Further, in one substrate, an alignment film is formed on at least a plurality of spacers, and the total value of the thickness of the wiring and the frame-shaped seal portion, the thickness of the alignment film, and the thickness of each spacer. The thickness of the frame-shaped seal portion and the thickness of each spacer are set to different values so that the total value of the thicknesses matches. Thereby, the cell gap can be maintained at a constant thickness over the entire electro-optical device.

上記の電気光学装置の他の態様では、前記他方の基板は、前記枠状のシール部の内側に対応する前記他方の基板に形成された着色層と、前記着色層上に形成された保護層と、前記着色層が形成されていない前記他方の基板の部分及び前記保護層の上に形成された電極とを備え、前記一方の基板において、当該電極の一端は、前記枠状のシール部に対応する前記他方の基板の部分上に位置していると共に、少なくとも前記複数のスペーサの上には配向膜が形成されており、当該電極の一端と前記枠状のシール部上に位置する前記配線の一端との間には間隙が形成されており、当該電極の一端と当該配線の一端とは、前記間隙に対応する位置において、前記間隙の大きさに対応する直径を有する金属粒子を分散配置してなる接着剤を介して上下導通している。   In another aspect of the electro-optical device, the other substrate includes a colored layer formed on the other substrate corresponding to an inner side of the frame-shaped seal portion, and a protective layer formed on the colored layer. And an electrode formed on the part of the other substrate on which the colored layer is not formed and the protective layer, and one end of the electrode on the one substrate is formed on the frame-shaped seal portion. The wiring is located on the corresponding portion of the other substrate, and an alignment film is formed on at least the plurality of spacers, and the wiring is located on one end of the electrode and the frame-shaped seal portion. A gap is formed between one end of the electrode, and one end of the electrode and one end of the wiring are dispersedly arranged at a position corresponding to the gap with a diameter corresponding to the size of the gap. Up and down through the adhesive It is.

この態様では、他方の基板は、枠状のシール部の内側に対応する他方の基板に形成された着色層と、その着色層上に形成された保護層と、着色層が形成されていない他方の基板の部分及び保護層の上に形成された電極とを備えている。そして、一方の基板において、当該電極の一端は、枠状のシール部に対応する他方の基板の部分上に位置していると共に、少なくとも複数のスペーサの上には配向膜が形成されている。また、当該電極の一端と、枠状のシール部上に位置する配線の一端との間には間隙が形成されており、当該電極の一端と当該配線の一端とは、その間隙に対応する位置において、その間隙の大きさに対応する直径を有する金属粒子を分散配置してなる接着剤を介して上下導通している。これにより、電極の一端と配線の一端とを安定的に上下導通させることができると共に、電気光学装置の全体に亘ってセルギャップを一定厚さに保持することができる。   In this aspect, the other substrate includes a colored layer formed on the other substrate corresponding to the inside of the frame-shaped seal portion, a protective layer formed on the colored layer, and the other on which the colored layer is not formed. And an electrode formed on the protective layer. In one substrate, one end of the electrode is located on a portion of the other substrate corresponding to the frame-shaped seal portion, and an alignment film is formed on at least a plurality of spacers. In addition, a gap is formed between one end of the electrode and one end of the wiring located on the frame-shaped seal portion, and one end of the electrode and one end of the wiring are positioned corresponding to the gap. In FIG. 2, the metal particles having a diameter corresponding to the size of the gap are vertically connected via an adhesive. Accordingly, one end of the electrode and one end of the wiring can be stably conducted in the vertical direction, and the cell gap can be kept constant over the entire electro-optical device.

好適な例では、前記他方の基板は、ガラスにより形成され凹部を有する他の基板と、前記他の基板上の前記凹部内に形成された着色層と、前記凹部内に且つ前記着色層上に形成された保護層と、前記凹部が形成されていない前記他方の基板の部分及び前記保護層の上に形成された電極とを備えることができる。   In a preferred example, the other substrate is made of glass and has a recess, a colored layer formed in the recess on the other substrate, and in the recess and on the colored layer. The formed protective layer, and the electrode formed on the part of the other substrate on which the concave portion is not formed and the protective layer can be provided.

また、上記の電気光学装置を表示部として備える電子機器を構成することができる。   In addition, an electronic apparatus including the electro-optical device as a display unit can be configured.

本発明の他の観点では、電気光学装置の製造方法は、ガラス基材をエッチングすることにより、前記ガラス基材の一方の面に、枠状のシール部、及び、前記ガラス基材において駆動回路が実装されるべき領域に且つ前記駆動回路の電極部が位置する領域に複数の凸部を同時に形成する要素形成工程を備える。   In another aspect of the present invention, a method for manufacturing an electro-optical device includes: etching a glass substrate; forming a frame-shaped seal portion on one surface of the glass substrate; and a driving circuit in the glass substrate. And an element forming step of simultaneously forming a plurality of convex portions in a region where the electrode portion of the drive circuit is located.

上記の電気光学装置の製造方法では、要素形成工程により、ガラス基材がエッチングされることにより、ガラス基材の一方の面に、複数の要素、即ち枠状のシール部、及び、ガラス基材において駆動回路(ドライバIC)が実装されるべき領域に且つ駆動回路の入力側及び出力側の電極部(バンプ)が位置する領域に複数の凸部が同時に形成される。これにより、上記の複数の要素を各々独立に形成した場合と比べて、工数削減を図ることができる。   In the above electro-optical device manufacturing method, the glass substrate is etched in the element forming step, so that a plurality of elements, that is, a frame-shaped seal portion, and the glass substrate are formed on one surface of the glass substrate. , A plurality of convex portions are simultaneously formed in a region where the drive circuit (driver IC) is to be mounted and in a region where the input side and output side electrode portions (bumps) of the drive circuit are located. Thereby, a man-hour reduction can be aimed at compared with the case where said several element is formed independently, respectively.

本発明の他の観点では、電気光学装置の製造方法は、ガラス基材をエッチングすることにより、前記ガラス基材の一方の面に、枠状のシール部、液晶を注入するための注入口、柱状の複数のスペーサ及び複数の凸部を同時に形成する要素形成工程を備え、前記要素形成工程は、前記ガラス基材において表示に寄与しない領域に且つ前記ガラス基材の一方の面から突出するように枠状のシール部を形成し、前記枠状のシール部の内側に対応する位置に適宜の間隔をおいて柱状の複数のスペーサを形成し、前記ガラス基材において駆動回路が実装されるべき領域に且つ前記駆動回路の電極部が位置する領域に複数の凸部を形成する。   In another aspect of the present invention, a method for manufacturing an electro-optical device includes a frame-shaped seal portion, an injection port for injecting liquid crystal, on one surface of the glass substrate by etching the glass substrate, An element forming step of simultaneously forming a plurality of columnar spacers and a plurality of convex portions, wherein the element forming step protrudes from one surface of the glass substrate in a region that does not contribute to display in the glass substrate; A frame-shaped seal portion is formed on the glass substrate, a plurality of columnar spacers are formed at appropriate positions at positions corresponding to the inside of the frame-shaped seal portion, and a driving circuit is to be mounted on the glass substrate. A plurality of convex portions are formed in the region and the region where the electrode portion of the driving circuit is located.

上記の電気光学装置の製造方法では、要素形成工程により、ガラス基材がエッチングされることにより、ガラス基材の一方の面に、複数の要素、即ち枠状のシール部、液晶を注入するための注入口、柱状の複数のスペーサ及び複数の凸部が同時に形成される。これにより、上記の複数の要素を各々独立に形成した場合と比べて、工数削減を図ることができる。また、この製造方法では、要素形成工程により、枠状のシール部は、ガラス基材において表示に寄与しない領域に、且つ、そのガラス基材の一方の面から突出するように形成される。また、柱状の複数のスペーサは、枠状のシール部の内側に対応する位置に適宜の間隔をおいて形成される。また、複数の凸部は、ガラス基材において駆動回路(ドライバIC)が実装されるべき領域に且つその駆動回路(ドライバIC)の入力側及び出力側の電極部(バンプ)が位置する領域に形成される。   In the above-described electro-optical device manufacturing method, the glass substrate is etched in the element forming step, thereby injecting a plurality of elements, that is, a frame-shaped seal portion and liquid crystal, onto one surface of the glass substrate. , A plurality of columnar spacers, and a plurality of convex portions are formed simultaneously. Thereby, a man-hour reduction can be aimed at compared with the case where said several element is formed independently, respectively. Further, in this manufacturing method, the frame-shaped seal portion is formed in the region that does not contribute to the display in the glass substrate so as to protrude from one surface of the glass substrate by the element forming step. The plurality of columnar spacers are formed at appropriate intervals at positions corresponding to the inside of the frame-shaped seal portion. Further, the plurality of convex portions are provided in a region where the drive circuit (driver IC) is to be mounted on the glass substrate and in a region where the input side and output side electrode portions (bumps) of the drive circuit (driver IC) are located. It is formed.

以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。尚、以下の各実施形態は、本発明を電気光学装置の一例としての液晶表示装置に適用したものである。各実施形態の液晶表示装置は、ガラス等よりなる下側基板の一部をエッチングすることにより、下側基板の一方の面から突出する枠状のシール部等を形成する。これにより、主として、液晶表示装置の外周周辺の強度向上を図り、当該付近のセルギャップを一定の厚さに安定的に保持する。   The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following embodiments, the present invention is applied to a liquid crystal display device as an example of an electro-optical device. In the liquid crystal display device of each embodiment, a part of the lower substrate made of glass or the like is etched to form a frame-shaped seal portion or the like protruding from one surface of the lower substrate. Thereby, mainly, the strength around the outer periphery of the liquid crystal display device is improved, and the cell gap in the vicinity is stably held at a constant thickness.

[第1実施形態]
(液晶表示装置の構成)
まず、図1乃至図3を参照して、本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置の平面構成について説明する。図1は、第1実施形態の液晶表示装置100の概略構成を模式的に示す平面図である。図2は、第1実施形態の素子基板91の概略構成を模式的に示す平面図である。図3は、第1実施形態のカラーフィルタ基板92の概略構成を模式的に示す平面図である。なお、図1及び図2では、枠状のシール部1cの内側に複数の柱状のスペーサが形成されているが、紙面の都合上、その図示を省略することにしている。また、図3において、領域E2の部分は、素子基板91側に形成される枠状のシール部1cの領域を示す。
[First embodiment]
(Configuration of liquid crystal display device)
First, the planar configuration of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a plan view schematically showing a schematic configuration of the liquid crystal display device 100 of the first embodiment. FIG. 2 is a plan view schematically showing a schematic configuration of the element substrate 91 of the first embodiment. FIG. 3 is a plan view schematically showing a schematic configuration of the color filter substrate 92 of the first embodiment. In FIG. 1 and FIG. 2, a plurality of columnar spacers are formed inside the frame-shaped seal portion 1c, but the illustration thereof is omitted for the sake of space. In FIG. 3, a region E <b> 2 indicates a region of the frame-shaped seal portion 1 c formed on the element substrate 91 side.

図1において、液晶表示装置100は、紙面奥側に配置された素子基板91と、紙面手前側に配置されたカラーフィルタ基板92とが、素子基板91の要素である下側基板1の一部分にて形成された枠状のシール部1c(破線にて囲まれる部分)を介して貼り合わされ、内部に液晶が封入されて液晶層4が形成されてなる。ここに、液晶表示装置100は、TFD(Thin Film Diode)素子を用いたアクティブマトリクス駆動方式であって、透過型の液晶表示装置である。   In FIG. 1, the liquid crystal display device 100 includes an element substrate 91 disposed on the back side of the paper and a color filter substrate 92 disposed on the front side of the paper in a part of the lower substrate 1 that is an element of the element substrate 91. A liquid crystal layer 4 is formed by sealing liquid crystal inside through a frame-shaped seal portion 1c (a portion surrounded by a broken line) formed. Here, the liquid crystal display device 100 is an active matrix driving method using a TFD (Thin Film Diode) element, and is a transmissive liquid crystal display device.

また、図1において、素子基板91側に形成される画素電極10と、カラーフィルタ基板92側に形成される走査線8との交差する領域は表示の最小単位であるサブ画素領域SGを構成する。そして、このサブ画素領域SGが紙面縦方向及び紙面横方向に複数個、マトリクス状に並べられた領域が、表示に寄与する有効表示領域V(2点鎖線により囲まれる領域)である。この有効表示領域Vに、文字、数字、図形等の画像が表示される。また、液晶表示装置100の外周と、有効表示領域Vとによって区画された領域は、表示に寄与しない額縁領域38である。さらに、素子基板91の一辺側は、カラーフィルタ基板92の一辺側より外側に張り出すように形成されている。その張り出すように形成された張り出し領域36は、各種のドライバIC等が実装される領域となっている。   In FIG. 1, a region where the pixel electrode 10 formed on the element substrate 91 side intersects with the scanning line 8 formed on the color filter substrate 92 side constitutes a sub-pixel region SG which is a minimum unit of display. . A region in which a plurality of sub-pixel regions SG are arranged in a matrix in the vertical direction and the horizontal direction in the drawing is an effective display region V (region surrounded by a two-dot chain line) that contributes to display. In the effective display area V, images such as letters, numbers, and figures are displayed. Further, a region defined by the outer periphery of the liquid crystal display device 100 and the effective display region V is a frame region 38 that does not contribute to display. Further, one side of the element substrate 91 is formed so as to protrude outward from one side of the color filter substrate 92. The overhang area 36 formed so as to overhang is an area where various driver ICs and the like are mounted.

まず、図2等を参照して、素子基板91の平面構成について説明する。ここで、図2において、素子基板91の張り出し領域36側の一辺91aから反対側の一辺91cへ向かう方向をY方向とし、一辺91dから反対側の一辺91bへ向かう方向をX方向とする。   First, the planar configuration of the element substrate 91 will be described with reference to FIG. Here, in FIG. 2, a direction from one side 91 a of the element substrate 91 on the projecting region 36 side to the one side 91 c on the opposite side is a Y direction, and a direction from one side 91 d to one side 91 b on the opposite side is an X direction.

素子基板91は、下側基板1、複数のデータ線32、複数のTFD素子21、複数の画素電極10、複数の引き回し配線31、複数の外部接続用配線35、複数のYドライバIC33、及びXドライバIC34を備えている。   The element substrate 91 includes a lower substrate 1, a plurality of data lines 32, a plurality of TFD elements 21, a plurality of pixel electrodes 10, a plurality of routing wirings 31, a plurality of external connection wirings 35, a plurality of Y driver ICs 33, and X A driver IC 34 is provided.

下側基板1は、ガラスや石英等の材料によって形成されている。下側基板1は、複数の凸部1a、枠状のシール部1c、液晶を注入するための注入口1ca、及び、複数の柱状のスペーサ1d(図4及び図5を参照)を有している。これらの各要素は、下側基板1の一部分をエッチングすることにより同時に形成されている。また、これらの各要素は、下側基板1の一方の面、即ちカラーフィルタ基板92と対向する側の面に形成される。   The lower substrate 1 is made of a material such as glass or quartz. The lower substrate 1 has a plurality of convex portions 1a, a frame-shaped seal portion 1c, an injection port 1ca for injecting liquid crystal, and a plurality of columnar spacers 1d (see FIGS. 4 and 5). Yes. Each of these elements is simultaneously formed by etching a part of the lower substrate 1. Each of these elements is formed on one surface of the lower substrate 1, that is, the surface facing the color filter substrate 92.

複数の凸部1aは、張り出し領域36におけるX及びYドライバICが実装される位置に形成され、下側基板1の一方の面から突出してなる(図7も参照)。具体的には、各凸部1aは、張り出し領域36において、各YドライバIC33の出力側の各バンプ(電極)33a及び入力側の各バンプ33bに対応する位置、並びに、XドライバIC34の出力側の各バンプ(電極)34a及び入力側の各バンプ34bに対応する位置に夫々形成されている。   The plurality of convex portions 1a are formed at positions where the X and Y driver ICs are mounted in the overhang region 36 and protrude from one surface of the lower substrate 1 (see also FIG. 7). Specifically, each convex portion 1a has a position corresponding to each bump (electrode) 33a on the output side of each Y driver IC 33 and each bump 33b on the input side in the overhang region 36, and the output side of the X driver IC 34. Are formed at positions corresponding to the bumps (electrodes) 34a and the bumps 34b on the input side.

枠状のシール部1cは、枠状の平面形状をなしている。枠状のシール部1cは、有効表示領域Vの外側、即ち額縁領域38に形成されてなり、下側基板1の一方の面から突出してなる(図5及び図6も参照)。枠状のシール部1cの上面は平坦性を有している。   The frame-shaped seal portion 1c has a frame-shaped planar shape. The frame-shaped seal portion 1c is formed outside the effective display region V, that is, in the frame region 38, and protrudes from one surface of the lower substrate 1 (see also FIGS. 5 and 6). The upper surface of the frame-shaped seal portion 1c has flatness.

注入口1caは、液晶表示装置100の製造過程において、その内部に液晶を注入するための注入口として用いられる。注入口1caは、シール部1cの一部を除去(エッチング)することにより形成される。即ち、注入口1caは、シール部1cの一部に凹部を形成することによって形成される。注入口1caは、素子基板91における張り出し領域36と反対側(素子基板91の一辺91c側)に対応する、シール部1cの略中央の位置に形成されている。なお、注入口1caの形成される位置は、上記の位置に限られず、各種の仕様に応じて、シール部1cの適当な位置に形成することが可能である。   The injection port 1ca is used as an injection port for injecting liquid crystal into the liquid crystal display device 100 during the manufacturing process. The injection port 1ca is formed by removing (etching) a part of the seal portion 1c. That is, the injection port 1ca is formed by forming a recess in a part of the seal portion 1c. The injection port 1ca is formed at a substantially central position of the seal portion 1c corresponding to the side opposite to the overhang region 36 in the element substrate 91 (on one side 91c side of the element substrate 91). In addition, the position where the injection port 1ca is formed is not limited to the above position, and can be formed at an appropriate position of the seal portion 1c according to various specifications.

柱状のスペーサ1dは、下側基板1の一方の面から突出してなり、柱状の形状をなしている(図5を参照)。柱状のスペーサ1dの上面は平坦性を有している。柱状のスペーサ1dは、素子基板91とカラーフィルタ基板92との間隔、即ちセルギャップを一定の厚さに保持する機能を有する。柱状のスペーサ1dの平面的な位置については後述する。   The columnar spacer 1d protrudes from one surface of the lower substrate 1 and has a columnar shape (see FIG. 5). The upper surface of the columnar spacer 1d has flatness. The columnar spacer 1d has a function of maintaining the distance between the element substrate 91 and the color filter substrate 92, that is, the cell gap at a constant thickness. The planar position of the columnar spacer 1d will be described later.

複数のデータ線32は、Y方向に延在する直線状の配線であり、下側基板1上において張り出し領域36から有効表示領域Vに延在するように形成されている。そして、各データ線32の一端は、XドライバIC34の出力側のバンプ34aに対応する位置に設けられた各凸部1a上に位置している。各データ線32は適宜の間隔をおいて形成されており、各画素電極10に対応して設けられた各TFD素子21と電気的に接続されている。各TFD素子21は、透明導電材料、例えばITO(Indium-Tin Oxide)などからなる各画素電極10に電気的に接続されている。つまり、各データ線32は、各TFD素子21を介して各画素電極10に電気的に接続されている。   The plurality of data lines 32 are linear wirings extending in the Y direction, and are formed on the lower substrate 1 so as to extend from the extended region 36 to the effective display region V. One end of each data line 32 is located on each convex portion 1 a provided at a position corresponding to the bump 34 a on the output side of the X driver IC 34. Each data line 32 is formed at an appropriate interval and is electrically connected to each TFD element 21 provided corresponding to each pixel electrode 10. Each TFD element 21 is electrically connected to each pixel electrode 10 made of a transparent conductive material such as ITO (Indium-Tin Oxide). That is, each data line 32 is electrically connected to each pixel electrode 10 via each TFD element 21.

複数の引き回し配線31は、額縁領域38に対応する下側基板1上に形成され、本線部分31aと、その本線部分31aに対して略直角に折れ曲がる折れ曲がり部分31bと、その折れ曲がり部分31bの終端部に形成される電極部31cとにより構成されている。   The plurality of routing wirings 31 are formed on the lower substrate 1 corresponding to the frame region 38, and the main line portion 31a, the bent portion 31b that bends substantially at right angles to the main line portion 31a, and the end portion of the bent portion 31b. And the electrode portion 31c formed on the substrate.

各本線部分31aは、額縁領域38内を張り出し領域36からY方向に延在するように形成されている。そして、各本線部分31aの一端は、各YドライバIC33の出力側のバンプ33aに対応する位置に設けられた各凸部1a上に位置している。また、各本線部分31aは、各データ線32に対して略平行で、且つ、適宜の間隔をおいて形成されている。各折れ曲がり部分31bは、額縁領域38内において、X方向に且つ左右に位置するシール部1c上まで延在している。各電極部31cは、平坦性を有するシール部1c上に形成されている。   Each main line portion 31 a is formed so as to extend in the Y direction from the overhanging region 36 in the frame region 38. One end of each main line portion 31 a is located on each convex portion 1 a provided at a position corresponding to the bump 33 a on the output side of each Y driver IC 33. Each main line portion 31a is formed substantially parallel to each data line 32 and at an appropriate interval. Each bent portion 31 b extends in the frame region 38 to the seal portion 1 c located in the X direction and on the left and right. Each electrode portion 31c is formed on a flat seal portion 1c.

複数の外部接続用配線35は、直線状の配線であり、張り出し領域36に対応する下側基板1上に形成されている。具体的には、複数の外部接続用配線35は、素子基板91aの一辺91aからXドライバIC34の入力側の各バンプ34b又は各YドライバIC33の入力側の各バンプ33bに対応する位置に設けられた各凸部1a上まで延在してなる。そして、各外部接続用配線35の一端側は、XドライバIC34の入力側の各バンプ34b、及び、各YドライバIC33の入力側の各バンプ33bに電気的に夫々接続されている。一方、複数の外部接続用配線35の他端側は、例えば携帯電話や情報端末などの電子機器と電気的に接続された、図示しないFPC(Flexible Printed Circuit)の一端側に電気的に接続されている。   The plurality of external connection wirings 35 are linear wirings and are formed on the lower substrate 1 corresponding to the overhanging region 36. Specifically, the plurality of external connection wirings 35 are provided at positions corresponding to the bumps 34b on the input side of the X driver IC 34 or the bumps 33b on the input side of the Y driver ICs 33 from one side 91a of the element substrate 91a. Further, it extends to above each convex part 1a. One end of each external connection wiring 35 is electrically connected to each bump 34 b on the input side of the X driver IC 34 and each bump 33 b on the input side of each Y driver IC 33. On the other hand, the other end side of the plurality of external connection wires 35 is electrically connected to one end side of an FPC (Flexible Printed Circuit) (not shown) that is electrically connected to an electronic device such as a mobile phone or an information terminal. ing.

複数のYドライバIC33は、その入力側に導電性を有する複数のバンプ33bを、その出力側に導電性を有する複数のバンプ33aを夫々備えており、下側基板1上の張り出し領域36に実装されている。そして、各YドライバIC33の入力側の各バンプ33bは、各凸部1a上に形成された外部接続用配線35の一端側と電気的に接続されている一方、各YドライバIC33の出力側の各バンプ33aは、各凸部1a上に位置する本線部分31aの一端と電気的に接続されている。このため、各YドライバIC33は、各引き回し配線31に走査信号を出力することが可能となっている。   The plurality of Y driver ICs 33 include a plurality of conductive bumps 33 b on the input side and a plurality of conductive bumps 33 a on the output side, and are mounted on the overhang region 36 on the lower substrate 1. Has been. Each bump 33b on the input side of each Y driver IC 33 is electrically connected to one end side of the external connection wiring 35 formed on each convex portion 1a, while on the output side of each Y driver IC 33. Each bump 33a is electrically connected to one end of a main line portion 31a located on each convex portion 1a. Therefore, each Y driver IC 33 can output a scanning signal to each routing wiring 31.

XドライバIC34は、その入力側に導電性を有する複数のバンプ34bを、その出力側に導電性を有する複数のバンプ34aを夫々備えており、下側基板1上の張り出し領域36に実装されている。そして、XドライバIC34の入力側の各バンプ34bは、各凸部1a上に形成された各外部接続用配線35の一端側に電気的に接続されている一方、XドライバIC34の出力側の各バンプ34aは、各凸部1a上に位置する各データ線32の一端側に電気的に接続されている。このため、XドライバIC34は、各データ線32にデータ信号を出力することが可能となっている。   The X driver IC 34 includes a plurality of conductive bumps 34 b on the input side and a plurality of conductive bumps 34 a on the output side, and is mounted on the overhang region 36 on the lower substrate 1. Yes. Each bump 34b on the input side of the X driver IC 34 is electrically connected to one end side of each external connection wiring 35 formed on each convex portion 1a, while each bump on the output side of the X driver IC 34. The bump 34a is electrically connected to one end side of each data line 32 located on each convex portion 1a. Therefore, the X driver IC 34 can output a data signal to each data line 32.

次に、図3等を参照して、カラーフィルタ基板92の平面構成について簡単に説明する。ここで、カラーフィルタ基板92には、各種の要素、即ち、ガラス等よりなる上側基板2、複数の着色層6、黒色遮光層BM、オーバーコート層18及び複数の走査線8等が形成されるが、図3では、便宜上、走査線8のみ図示することにしている。なお、走査線8以外の要素の構成については後述する。   Next, the planar configuration of the color filter substrate 92 will be briefly described with reference to FIG. Here, on the color filter substrate 92, various elements, that is, the upper substrate 2 made of glass or the like, the plurality of colored layers 6, the black light shielding layer BM, the overcoat layer 18, the plurality of scanning lines 8, and the like are formed. However, in FIG. 3, only the scanning line 8 is illustrated for convenience. The configuration of elements other than the scanning line 8 will be described later.

複数の走査線8は、透明導電材料、例えばITOにて形成され、X方向に延在してなるストライプ状の電極である。各走査線8のX方向の長さは、カラーフィルタ基板92の横幅(X方向の長さ)と同一になっている。また、各走査線8の左端部の近傍或いは右端部の近傍の部分は、図1及び図3に示すように、シール部1cに対応する位置に配置されている。   The plurality of scanning lines 8 are striped electrodes formed of a transparent conductive material, for example, ITO, and extending in the X direction. The length of each scanning line 8 in the X direction is the same as the horizontal width (length in the X direction) of the color filter substrate 92. Further, the vicinity of the left end portion or the vicinity of the right end portion of each scanning line 8 is disposed at a position corresponding to the seal portion 1c as shown in FIGS.

以上に述べた構成を有する素子基板91とカラーフィルタ基板92とが、当該素子基板91側に形成されたシール部1cを介して貼り合わせられた状態が図1に示されている。同図において、カラーフィルタ基板92の走査線8の左端部又は右端部の近傍の部分と、素子基板91の引き回し配線31の電極部31cとは、図示のように左辺側と右辺側との間で交互に重なり合っており、その両者は、シール材1c上において接触している。つまり、カラーフィルタ基板92の各走査線8の左端部又は右端部の近傍の部分と、素子基板91の各引き回し配線31の電極部31cとの上下導通は、図示のように左辺側と右辺側との間で交互に実現されている。これにより、カラーフィルタ基板92の各走査線8は、素子基板91の各引き回し配線31を介して、紙面左右に夫々位置する各YドライバIC33に電気的に接続されている。   FIG. 1 shows a state in which the element substrate 91 and the color filter substrate 92 having the above-described configuration are bonded together via a seal portion 1c formed on the element substrate 91 side. In the figure, the portion of the color filter substrate 92 near the left end or the right end of the scanning line 8 and the electrode portion 31c of the routing wiring 31 of the element substrate 91 are between the left side and the right side as shown. And both of them are in contact with each other on the sealing material 1c. That is, the vertical conduction between the portion of the color filter substrate 92 near the left end portion or the right end portion of each scanning line 8 and the electrode portion 31c of each routing wiring 31 of the element substrate 91 is as shown in the figure. And are realized alternately. As a result, each scanning line 8 of the color filter substrate 92 is electrically connected to each Y driver IC 33 located on the left and right sides of the drawing via the respective routing wirings 31 of the element substrate 91.

次に、図4を参照して、複数の柱状のスペーサ1d、複数の画素電極10、複数のTFD素子21及び複数のデータ線32等の平面的な位置関係について説明する。図4は、2画素分に対応する画素電極10等のレイアウトを示す部分拡大平面図である。なお、図4では、素子基板91の各要素と、カラーフィルタ基板92の各要素との相対的な位置関係についても把握するため、カラーフィルタ基板92の必要最小限の要素も示すことにする。また、図4において、矩形状の一点鎖線にて囲まれる領域は、1つのサブ画素領域SGを示している。   Next, with reference to FIG. 4, a planar positional relationship between the plurality of columnar spacers 1d, the plurality of pixel electrodes 10, the plurality of TFD elements 21, the plurality of data lines 32, and the like will be described. FIG. 4 is a partially enlarged plan view showing a layout of the pixel electrode 10 and the like corresponding to two pixels. In FIG. 4, the minimum necessary elements of the color filter substrate 92 are also shown in order to grasp the relative positional relationship between the elements of the element substrate 91 and the elements of the color filter substrate 92. In FIG. 4, a region surrounded by a rectangular dot-and-dash line indicates one subpixel region SG.

下側基板1上には、サブ画素領域SG毎に画素電極10が形成されている。1つのX方向に列をなす画素電極群は、それぞれカラーフィルタ基板92側に形成される着色層6R、6G、6B及び1つの走査線8(二点鎖線にて囲まれる領域に相当)に対向している。下側基板1上であって且つ各画素電極10の隅の位置近傍には、TFD素子21が形成されている。そして、各画素電極10は、対応する各TFD素子21に電気的に接続されている。下側基板1上であって且つX方向に相隣接する画素電極10の間には、データ線32がY方向に延在するように形成されている。そして、各データ線32は、当該データ線32の紙面左側に位置する各TFD素子21に電気的に接続されている。   On the lower substrate 1, a pixel electrode 10 is formed for each sub-pixel region SG. Each pixel electrode group forming a column in the X direction is opposed to the colored layers 6R, 6G, 6B and one scanning line 8 (corresponding to a region surrounded by a two-dot chain line) formed on the color filter substrate 92 side. is doing. A TFD element 21 is formed on the lower substrate 1 and in the vicinity of the corner position of each pixel electrode 10. Each pixel electrode 10 is electrically connected to each corresponding TFD element 21. Data lines 32 are formed to extend in the Y direction between the pixel electrodes 10 on the lower substrate 1 and adjacent to each other in the X direction. Each data line 32 is electrically connected to each TFD element 21 located on the left side of the data line 32 in the drawing.

また、画素電極10、TFD素子21及びデータ線32と平面的に重ならない位置には、下側基板1の一部分にて形成された複数の柱状のスペーサ1dが形成されている。具体的には、各柱状のスペーサ1dは、1つのデータ線32と、当該1つのデータ線32に隣接し且つ電気的に接続されていない画素電極との間に形成されている。さらに、換言すれば、各柱状のスペーサ1dは、画素電極10の隅の位置近傍に形成されている。このため、各柱状のスペーサ1dは、カラーフィルタ基板92側に形成される黒色遮光層BM(一点鎖線にて囲まれる領域)と対向する位置に形成されている。各柱状のスペーサ1dは、円形の平面形状を有するように形成されている。ここで、各柱状のスペーサ1dの大きさ(直径)は、例えば、約13μm程度とすることができる。なお、本発明では、各柱状のスペーサ1dの平面形状は、上記のように円形形状に限らず、例えば楕円や多角形などの周知の各種の形状としても構わない。   A plurality of columnar spacers 1 d formed in a part of the lower substrate 1 are formed at positions that do not overlap the pixel electrode 10, the TFD element 21, and the data line 32 in a plane. Specifically, each columnar spacer 1d is formed between one data line 32 and a pixel electrode adjacent to the one data line 32 and not electrically connected. Furthermore, in other words, each columnar spacer 1 d is formed near the corner position of the pixel electrode 10. Therefore, each columnar spacer 1d is formed at a position facing the black light-shielding layer BM (region surrounded by the alternate long and short dash line) formed on the color filter substrate 92 side. Each columnar spacer 1d is formed to have a circular planar shape. Here, the size (diameter) of each columnar spacer 1d can be set to about 13 μm, for example. In the present invention, the planar shape of each columnar spacer 1d is not limited to a circular shape as described above, and may be various known shapes such as an ellipse and a polygon.

次に、図5乃至図7等を参照して、液晶表示装置100の断面構成について説明する。図5は、図1における液晶表示装置100の切断線A−A’に沿った断面図である。図6は、図1における液晶表示装置100の切断線B−B’に沿った断面図であり、特に、枠状のシール部1d上において、引き回し配線31の電極部31cと走査線8とが上下導通している様子を示している。   Next, a cross-sectional configuration of the liquid crystal display device 100 will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the cutting line A-A ′ of the liquid crystal display device 100 in FIG. 1. FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the cutting line BB ′ of the liquid crystal display device 100 in FIG. 1, and in particular, the electrode portion 31c of the lead-out wiring 31 and the scanning line 8 are arranged on the frame-shaped seal portion 1d. It shows a state of conducting vertically.

下側基板1の内面上には、枠状のシール部1c、複数の柱状のスペーサ1d、引き回し配線31の折れ曲がり部分31b、引き回し配線31の電極部31c、複数のデータ線32、複数のTFD素子21、及び複数の画素電極が夫々形成されている。枠状のシール部1c及び複数の柱状のスペーサ1dは、上記したように、下側基板1の一部分をエッチングすることにより形成されている。   On the inner surface of the lower substrate 1, a frame-shaped seal portion 1c, a plurality of columnar spacers 1d, a bent portion 31b of the routing wiring 31, an electrode portion 31c of the routing wiring 31, a plurality of data lines 32, a plurality of TFD elements 21 and a plurality of pixel electrodes are respectively formed. The frame-shaped seal portion 1c and the plurality of columnar spacers 1d are formed by etching a part of the lower substrate 1 as described above.

枠状のシール部1cは、額縁領域38に対応する位置に形成されており、対向基板たるカラーフィルタ基板92側に突出してなる。枠状のシール部1cの厚さD5は、例えば、約1〜15μm程度とすることができる。また、引き回し配線31の折れ曲がり部分31bは、図5に示すように、額縁領域38において、有効表示領域Vの近傍からシール部1c上まで延在してなる。このため、折れ曲がり部分31cの終端部、即ち電極部31cは、図5及び図6に示すように、平坦性を有するシール部1c上に位置している。   The frame-shaped seal portion 1c is formed at a position corresponding to the frame region 38, and protrudes toward the color filter substrate 92 as a counter substrate. The thickness D5 of the frame-shaped seal portion 1c can be set to about 1 to 15 μm, for example. Further, as shown in FIG. 5, the bent portion 31 b of the routing wiring 31 extends from the vicinity of the effective display region V to the top of the seal portion 1 c in the frame region 38. For this reason, the terminal part of the bent part 31c, that is, the electrode part 31c is located on the seal part 1c having flatness as shown in FIGS.

各画素電極10は、サブ画素領域SG毎に形成されている。各TFD素子21及び各データ線32は、相隣接する画素電極10の間に夫々形成されている。そして、各画素電極10は、対応する各TFD素子21を介して各データ線32に電気的に接続されている。また、各柱状のスペーサ1dは、相隣接する画素電極10の間に形成されており、枠状のシール部1cと同様にカラーフィルタ基板92側に突出してなる。   Each pixel electrode 10 is formed for each sub-pixel region SG. Each TFD element 21 and each data line 32 are formed between adjacent pixel electrodes 10, respectively. Each pixel electrode 10 is electrically connected to each data line 32 via a corresponding TFD element 21. Each columnar spacer 1d is formed between adjacent pixel electrodes 10 and protrudes toward the color filter substrate 92 in the same manner as the frame-shaped seal portion 1c.

また、下側基板1、柱状のスペーサ1d、画素電極10、TFD素子21、及びデータ線32等の内面上には、図示しない配向膜が形成されている。   An alignment film (not shown) is formed on the inner surfaces of the lower substrate 1, the columnar spacer 1 d, the pixel electrode 10, the TFD element 21, the data line 32, and the like.

また、張り出し領域36に対応する下側基板1の内面上には、上記したように、XドライバIC34及び複数のYドライバIC33が夫々実装されている。ここで、図7(a)を参照して、XドライバIC33の入力側のバンプ34bと、外部接続用配線35との電気的な構成について説明する。図7(a)は、図1における液晶表示装置100の切断線C−C’に沿った断面図である。   Further, as described above, the X driver IC 34 and the plurality of Y driver ICs 33 are mounted on the inner surface of the lower substrate 1 corresponding to the overhang region 36. Here, with reference to FIG. 7A, the electrical configuration of the input-side bump 34b of the X driver IC 33 and the external connection wiring 35 will be described. FIG. 7A is a cross-sectional view taken along the cutting line C-C ′ of the liquid crystal display device 100 in FIG. 1.

張り出し領域36に対応する下側基板1上には、突起状の複数の凸部1aが形成されている。各凸部1aは、XドライバIC34の入力側の各バンプ34bに対応する位置に形成されている。このため、相隣接する凸部1aの間には、凹部1bが形成されている。各凸部1aの上面は平坦性を有している。複数の凸部1a及び凹部1bは、下側基板1の一部分をエッチングすることにより形成されている。各凸部1aの幅D3及び各凹部1bの幅D4は、液晶表示装置100に適用するXドライバIC34の各バンプ34bの大きさ及び相隣接するバンプ34aの間のピッチによって決定される。各凸部1aの幅D3及び各凹部1bの幅D4は、例えば、約10μm程度とすることができる。また、各凸部の厚さD2は、例えば、約1〜15μm程度とすることができる。   On the lower substrate 1 corresponding to the overhanging region 36, a plurality of protruding convex portions 1a are formed. Each convex portion 1 a is formed at a position corresponding to each bump 34 b on the input side of the X driver IC 34. For this reason, the recessed part 1b is formed between the adjacent convex parts 1a. The upper surface of each convex part 1a has flatness. The plurality of convex portions 1 a and concave portions 1 b are formed by etching a part of the lower substrate 1. The width D3 of each protrusion 1a and the width D4 of each recess 1b are determined by the size of each bump 34b of the X driver IC 34 applied to the liquid crystal display device 100 and the pitch between adjacent bumps 34a. The width D3 of each convex part 1a and the width D4 of each concave part 1b can be about 10 μm, for example. Moreover, the thickness D2 of each convex part can be about 1-15 micrometers, for example.

各凸部1a上には外部接続用配線35が形成されており、XドライバIC34の入力側の各バンプ34bは、対応する外部接続用配線35と接触している。即ち、XドライバIC34の入力側の各バンプ34bと、対応する外部接続用配線35とは電気的に接続されている。そして、XドライバIC34は、複数の凹部1b内等に塗布された接着剤70を介して、張り出し領域36に実装されている。   An external connection wiring 35 is formed on each convex portion 1 a, and each bump 34 b on the input side of the X driver IC 34 is in contact with the corresponding external connection wiring 35. In other words, each bump 34b on the input side of the X driver IC 34 and the corresponding external connection wiring 35 are electrically connected. The X driver IC 34 is mounted on the overhang region 36 through an adhesive 70 applied in the plurality of recesses 1b and the like.

なお、本発明において、高精細対応のXドライバIC34を実装する場合(すなわち、相隣接するバンプ34bの間のピッチが極めて狭い構造を有するXドライバIC34を実装する場合)、当該XドライバIC34を、図7(b)に示すように、複数の金属粒子7を有する接着剤70を介して、張り出し領域36に実装するようにしても構わない。これにより、XドライバIC34の入力側の各バンプ34bと、対応する外部接続用配線35とを的確に電気的に接続することができる。また、この場合、凹部1bに位置する複数の金属粒子7は、その密度が接着剤70より大きいため当該凹部1b内に落ち込み、複数の金属粒子7を媒介として相隣接するバンプ34b同士が短絡するようなことはない。   In the present invention, when the X driver IC 34 for high definition is mounted (that is, when the X driver IC 34 having a structure in which the pitch between adjacent bumps 34b is extremely narrow is mounted), the X driver IC 34 is As shown in FIG. 7B, it may be mounted on the overhang region 36 via an adhesive 70 having a plurality of metal particles 7. Thereby, each bump 34b on the input side of the X driver IC 34 and the corresponding external connection wiring 35 can be accurately electrically connected. Further, in this case, the plurality of metal particles 7 positioned in the recess 1b fall into the recess 1b because the density thereof is higher than the adhesive 70, and the adjacent bumps 34b are short-circuited through the plurality of metal particles 7. There is no such thing.

なお、XドライバIC34の出力側の各バンプ34aと、データ線32との電気的な構成は、上記した構成と同様であるため図示及び説明を省略する。また、YドライバIC33の入力側の各バンプ33bと、外部接続用配線35との電気的な構成、及び、YドライバIC33の出力側の各バンプ33aと、引き回し配線31との電気的な構成も、上記した構成と同様であるため図示及び説明を省略する。   Note that the electrical configuration of the bumps 34a on the output side of the X driver IC 34 and the data line 32 is the same as that described above, and therefore illustration and description thereof are omitted. Also, the electrical configuration of the bumps 33b on the input side of the Y driver IC 33 and the external connection wiring 35, and the electrical configuration of the bumps 33a on the output side of the Y driver IC 33 and the routing wiring 31 are also provided. Since it is the same as that of the above-mentioned composition, illustration and explanation are omitted.

一方、上側基板2の内面上には、サブ画素領域SG毎にR(赤)、G(緑)、B(青)の三色のいずれかからなる着色層6R、6G、及び6Bが形成されている。着色層6R、6G及び6Bによりカラーフィルタが構成される。画素領域Gは、R、G、Bのサブ画素から構成されるカラー1画素分の領域を示している。着色層6R、6G、6Bの各厚さは、例えば、約0.8μm程度とすることができる。なお、以下の説明において、色を問わずに着色層を指す場合は単に「着色層6」と記し、色を区別して着色層を指す場合は「着色層6R」などと記す。   On the other hand, on the inner surface of the upper substrate 2, colored layers 6R, 6G, and 6B made of any of the three colors R (red), G (green), and B (blue) are formed for each sub-pixel region SG. ing. A color filter is constituted by the colored layers 6R, 6G, and 6B. A pixel region G indicates a region for one color pixel composed of R, G, and B sub-pixels. Each thickness of the colored layers 6R, 6G, and 6B can be set to about 0.8 μm, for example. In the following description, when referring to a colored layer regardless of color, it is simply referred to as “colored layer 6”, and when referring to a colored layer by distinguishing colors, it is referred to as “colored layer 6R” or the like.

上側基板2の内面上であって且つ各着色層6を区画する位置には、一方のサブ画素から他方のサブ画素への光の混入を防止するため、黒色遮光層BMが形成されている。この黒色遮光層BMは、黒色の樹脂材料、例えば黒色の顔料を樹脂中に分散させたもの等を用いることが可能である。なお、本発明では、これに代えて、R、G、Bの着色層が相互に重ね合わされて形成された重ね遮光層(図示略)を用いてもよい。   A black light shielding layer BM is formed at a position on the inner surface of the upper substrate 2 and for partitioning each colored layer 6 in order to prevent light from entering from one subpixel to the other subpixel. The black light shielding layer BM can be made of a black resin material, for example, a black pigment dispersed in a resin. In the present invention, instead of this, an overlapping light shielding layer (not shown) formed by overlapping R, G, and B colored layers may be used.

着色層6及び黒色遮光層BMの上には、透明樹脂等からなるオーバーコート層18が形成されている。オーバーコート層18の厚さは、例えば、約2.6μm程度とすることができる。このオーバーコート層18は、カラーフィルタ基板92の製造工程中に使用される薬剤等による腐食や汚染から、着色層6を保護する機能を有する。オーバーコート層18の内面上には、ストライプ状の走査線8が形成されている。   An overcoat layer 18 made of a transparent resin or the like is formed on the colored layer 6 and the black light shielding layer BM. The thickness of the overcoat layer 18 can be, for example, about 2.6 μm. The overcoat layer 18 has a function of protecting the colored layer 6 from corrosion and contamination caused by chemicals used during the manufacturing process of the color filter substrate 92. Striped scanning lines 8 are formed on the inner surface of the overcoat layer 18.

この走査線8の一端側近傍の部分は、図5及び図6に示すように、枠状のシール部1c上において、引き回し配線31の電極部31cと接触しており、その両者は電気的に接続されている。即ち、走査線8の一端側近傍の部分と、引き回し配線31の電極部31cとは、シール部1c上において上下導通している。なお、図5の例では、枠状のシール部1cを、下側基板1の内面に対して略垂直方向に起立するように形成しているが、これに限らず、本発明では、枠状のシール部1cを、当該部分を領域E1に拡大して示されるようにテーパ状に形成するようにしても構わない。こうすることで、引き回し配線31を、枠状のシール部1c上に容易に且つ的確に形成することができ、歩留まりの向上を図ることができる。また、オーバーコート層18及び走査線8の内面上には、図示しない配向膜が形成されている。   As shown in FIGS. 5 and 6, the portion in the vicinity of one end side of the scanning line 8 is in contact with the electrode portion 31 c of the routing wiring 31 on the frame-shaped seal portion 1 c, and both of them are electrically connected. It is connected. That is, the portion in the vicinity of one end side of the scanning line 8 and the electrode portion 31c of the lead wiring 31 are vertically connected on the seal portion 1c. In the example of FIG. 5, the frame-shaped seal portion 1 c is formed so as to stand in a substantially vertical direction with respect to the inner surface of the lower substrate 1. The seal portion 1c may be formed in a tapered shape so that the portion is enlarged in the region E1. By doing so, the routing wiring 31 can be easily and accurately formed on the frame-shaped seal portion 1c, and the yield can be improved. An alignment film (not shown) is formed on the inner surface of the overcoat layer 18 and the scanning line 8.

そして、素子基板91とカラーフィルタ基板92とは、図5及び図6に示すように、枠状のシール部1cを介して貼り合わされている。なお、枠状のシール部1cにおいて、電極部31cの形成されていない部分には、接着剤70が塗布又は印刷されている。   The element substrate 91 and the color filter substrate 92 are bonded together via a frame-shaped seal portion 1c as shown in FIGS. In the frame-shaped seal portion 1c, an adhesive 70 is applied or printed on a portion where the electrode portion 31c is not formed.

また、下側基板2の外面上には偏光板14が配置されていると共に、上側基板2の外面上には偏光板12が配置されている。また、偏光板14の下側には、照明装置、即ちバックライト15が配置されている。バックライト15は、例えば、LED(Light Emitting Diode)等といった点状光源や、冷陰極蛍光管等といった線状光源と導光板を組み合わせたものなどが好適である。   A polarizing plate 14 is disposed on the outer surface of the lower substrate 2, and a polarizing plate 12 is disposed on the outer surface of the upper substrate 2. In addition, an illumination device, that is, a backlight 15 is disposed below the polarizing plate 14. The backlight 15 is preferably a point light source such as an LED (Light Emitting Diode) or a combination of a linear light source such as a cold cathode fluorescent tube and a light guide plate.

特に、この液晶表示装置100では、電極部31cと枠状のシール部1cの合計厚さと、図示しない配向膜と柱状のスペーサ1dの合計厚さとが一致するように、枠状のシール部1cの厚さと、各柱状のスペーサ1dの厚さとが異なるように調整されている。このため、液晶表示装置100の全体に亘ってセルギャップが一定の厚さとなっている。なお、その方法としては、枠状のシール部1c及び複数の柱状のスペーサ1dを形成する際に、当該枠状のシール部1cを、当該複数の柱状のスペーサ1dよりもエッチングの回数を増やすことにより実現できる。   In particular, in the liquid crystal display device 100, the total thickness of the electrode portion 31c and the frame-shaped seal portion 1c matches that of the frame-shaped seal portion 1c so that the total thickness of the alignment film (not shown) and the columnar spacer 1d matches. The thickness and the thickness of each columnar spacer 1d are adjusted to be different. For this reason, the cell gap has a constant thickness over the entire liquid crystal display device 100. As the method, when forming the frame-shaped seal portion 1c and the plurality of columnar spacers 1d, the frame-shaped seal portion 1c is etched more times than the plurality of columnar spacers 1d. Can be realized.

さて、本実施形態の液晶表示装置100において透過型表示がなされる場合、バックライト15から出射した照明光は、図5に示す経路Tに沿って進行し、画素電極10、走査線8及び着色層6等を通過して観察者に至る。この場合、その照明光は、着色層6を透過することにより所定の色相及び明るさを呈する。こうして、所望のカラー表示画像が観察者により視認される。   Now, when transmissive display is performed in the liquid crystal display device 100 of the present embodiment, the illumination light emitted from the backlight 15 travels along the path T shown in FIG. 5, and the pixel electrodes 10, the scanning lines 8, and the coloring. It passes through the layer 6 etc. and reaches an observer. In this case, the illumination light has a predetermined hue and brightness by passing through the colored layer 6. Thus, a desired color display image is visually recognized by the observer.

次に、第1実施形態に係る液晶表示装置100の作用効果について説明する。   Next, functions and effects of the liquid crystal display device 100 according to the first embodiment will be described.

第1実施形態の液晶表示装置100は、ガラス等よりなる下側基板1の一部分をエッチングすることにより形成された枠状のシール部1cを有している。そして、この枠状のシール部1cは、液晶表示装置100の外周付近の額縁領域38に対応する位置に形成されており、且つ、カラーフィルタ基板92側に突出するように形成している。これにより、枠状のシール部1cの周辺、即ち液晶表示装置100の外周付近の強度向上を図ることができる。即ち、第1実施形態の枠状のシール部1cを液晶表示装置に適用すれば、光硬化性を有する材料などにより形成された枠状のシール材を液晶表示装置に適用した場合と比べて、液晶表示装置の外周周辺の強度が飛躍的に向上する。   The liquid crystal display device 100 of the first embodiment has a frame-shaped seal portion 1c formed by etching a part of the lower substrate 1 made of glass or the like. The frame-shaped seal portion 1 c is formed at a position corresponding to the frame region 38 near the outer periphery of the liquid crystal display device 100 and is formed so as to protrude toward the color filter substrate 92. Thereby, the strength of the periphery of the frame-shaped seal portion 1c, that is, the vicinity of the outer periphery of the liquid crystal display device 100 can be improved. That is, if the frame-shaped seal portion 1c of the first embodiment is applied to a liquid crystal display device, compared to a case where a frame-shaped seal material formed of a photocurable material or the like is applied to a liquid crystal display device, The strength around the periphery of the liquid crystal display device is dramatically improved.

加えて、この液晶表示装置100では、平坦性を有する、ガラス等よりなり下側基板1の不要な部分を除去することにより、枠状のシール部1cを形成しているため、枠状のシール部1cの上面は平坦性を有している。これにより、枠状のシール部1cの周辺、即ち液晶表示装置100の外周付近のセルギャップを一定の厚さに保持することができる。したがって、例えば、液晶表示装置100の外周付近に外力が付与された場合でも、液晶表示装置100の外周付近のセルギャップを一定厚さに安定的に保持することができる。   In addition, in the liquid crystal display device 100, the frame-shaped seal portion 1c is formed by removing unnecessary portions of the lower substrate 1 made of glass or the like having flatness. The upper surface of the part 1c has flatness. Thereby, the cell gap around the frame-shaped seal portion 1c, that is, near the outer periphery of the liquid crystal display device 100, can be maintained at a constant thickness. Therefore, for example, even when an external force is applied near the outer periphery of the liquid crystal display device 100, the cell gap near the outer periphery of the liquid crystal display device 100 can be stably held at a constant thickness.

また、第1実施形態では、枠状のシール部1cの適切な位置をエッチングすることにより、その位置に注入口1caが形成されている。これにより、液晶を、その注入口1caを通じて液晶表示装置100の内部に容易に注入することができる。   Moreover, in 1st Embodiment, the injection port 1ca is formed in the position by etching the appropriate position of the frame-shaped seal part 1c. Thereby, the liquid crystal can be easily injected into the liquid crystal display device 100 through the injection port 1ca.

また、第1実施形態では、カラーフィルタ基板92側に突出してなる枠状のシール部1c上において、素子基板91側に形成された引き回し配線31の電極部31cと、カラーフィルタ基板92側に形成された走査線8とを接触させて、その両者を電気的に接続するようにしている。これにより、引き回し配線31の電極部31cと走査線8とを的確に且つ高精度に電気的に接続することができる。よって、相隣接する電極部31c同士が短絡するのを効果的に防止することができる。   In the first embodiment, on the frame-shaped seal portion 1c that protrudes toward the color filter substrate 92, the electrode portion 31c of the routing wiring 31 formed on the element substrate 91 side and the color filter substrate 92 side are formed. The scanning line 8 is brought into contact with each other so that they are electrically connected. Thereby, the electrode part 31c of the routing wiring 31 and the scanning line 8 can be electrically connected accurately and with high accuracy. Therefore, it is possible to effectively prevent the adjacent electrode portions 31c from being short-circuited.

また、第1実施形態の液晶表示装置100は、素子基板91における張り出し領域36のXドライバIC34及びYドライバIC33の各バンプに対応する位置に、ガラス等よりなる下側基板1の一部分をエッチング等することにより形成した複数の凸部1aを備えている。そして、第1実施形態では、その各凸部1a上において、XドライバIC34の出力側の各バンプ34bと外部接続用配線35とを電気的に接続するようにしていると共に、XドライバIC34の入力側の各バンプ34aとデータ線32とを電気的に接続するようにしている。また、その各凸部1aにおいて、YドライバIC33の出力側の各バンプ33bと外部接続用配線35とを電気的に接続するようにしていると共に、YドライバIC33の入力側の各バンプ33aと引き回し配線31とを電気的に接続するようにしている。これらにより、XドライバIC34の各バンプと外部接続用配線35又はデータ線32とを的確に且つ高精度に電気的に接続することができ、相隣接するバンプ同士が短絡するのを防止することができる。また、YドライバIC33の各バンプと外部接続用配線35又は引き回し配線31とを的確に且つ高精度に電気的に接続することができ、相隣接するバンプ同士が短絡するのを防止することができる。   In the liquid crystal display device 100 of the first embodiment, a part of the lower substrate 1 made of glass or the like is etched at a position corresponding to each bump of the X driver IC 34 and the Y driver IC 33 in the overhang region 36 in the element substrate 91. A plurality of convex portions 1a formed by doing so are provided. In the first embodiment, the bumps 34b on the output side of the X driver IC 34 and the external connection wiring 35 are electrically connected to the projections 1a, and the inputs of the X driver IC 34 are input. The respective bumps 34a on the side and the data lines 32 are electrically connected. The bumps 1 b on the output side of the Y driver IC 33 and the external connection wiring 35 are electrically connected to the bumps 1 a on the input side of the Y driver IC 33 and routed to the bumps 33 a on the input side of the Y driver IC 33. The wiring 31 is electrically connected. Thus, each bump of the X driver IC 34 and the external connection wiring 35 or the data line 32 can be electrically connected accurately and with high precision, and it is possible to prevent adjacent bumps from being short-circuited. it can. Further, each bump of the Y driver IC 33 and the external connection wiring 35 or the routing wiring 31 can be electrically connected accurately and with high precision, and the adjacent bumps can be prevented from being short-circuited. .

また、第1実施形態の液晶表示装置100は、枠状のシール部1cの内側の所定の位置に、下側基板1の一部分にて形成され、カラーフィルタ基板92側に突出してなり、上面が平坦性を有する複数の柱状のスペーサ1dを備えている。これにより、枠状のシール部1cの内側のセルギャップを一定の厚さに保持することができる。よって、この液晶表示装置100では、枠状のシール部1c及び複数の柱状のスペーサ1dにより、当該液晶表示装置100の全体に亘ってセルギャップを一定の厚さに保持することができる。また、第1実施形態では、各柱状のスペーサ1dを、画素電極10等と重ならない位置に、且つ、黒色遮光層BMに対応する位置に形成することにしている。これにより、柱状のスペーサ1d付近で光漏れが生じるのを防止することができる。   Further, the liquid crystal display device 100 of the first embodiment is formed at a predetermined position inside the frame-shaped seal portion 1c at a part of the lower substrate 1, protrudes toward the color filter substrate 92, and has an upper surface. A plurality of columnar spacers 1d having flatness are provided. Thereby, the cell gap inside the frame-shaped seal | sticker part 1c can be hold | maintained to fixed thickness. Therefore, in the liquid crystal display device 100, the cell gap can be maintained at a constant thickness over the entire liquid crystal display device 100 by the frame-shaped seal portion 1c and the plurality of columnar spacers 1d. In the first embodiment, each columnar spacer 1d is formed at a position that does not overlap the pixel electrode 10 and the like and at a position corresponding to the black light shielding layer BM. Thereby, it is possible to prevent light leakage from occurring near the columnar spacer 1d.

[第2実施形態]
次に、図8等を参照して、本発明に係る第2実施形態の液晶表示装置について説明する。図8は、第2実施形態に係る液晶表示装置200の概略構成を模式的に示す断面図であり、第1実施形態の図5に対応する断面図である。
[Second Embodiment]
Next, a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing a schematic configuration of the liquid crystal display device 200 according to the second embodiment, and is a cross-sectional view corresponding to FIG. 5 of the first embodiment.

第2実施形態と第1実施形態とを比較すると、両者は、主にカラーフィルタ基板の構成が異なっている。このため、以下では、第1実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は省略若しくは簡略化する。   Comparing the second embodiment and the first embodiment, they are mainly different in the configuration of the color filter substrate. For this reason, below, the same code | symbol is attached | subjected about the element same as 1st Embodiment, and the description is abbreviate | omitted or simplified.

図8において、素子基板91の構成は第1実施形態と同様である、よって、その説明は省く。次に、第2実施形態のカラーフィルタ基板94の構成等について、第1実施形態のカラーフィルタ基板92と比較しつつ説明する。   In FIG. 8, the configuration of the element substrate 91 is the same as that of the first embodiment, and therefore the description thereof is omitted. Next, the configuration and the like of the color filter substrate 94 of the second embodiment will be described in comparison with the color filter substrate 92 of the first embodiment.

第1実施形態では、上側基板2の内面上の全体に亘って且つその適当な位置に、着色層6及び黒色遮光層BMを形成するようにした。そして、その着色層6及び黒色遮光層BMの内面上の全体に亘って、オーバーコート層18を形成している。また、そのオーバーコート層18の内面上であって且つ少なくとも各横列をなす画素電極10と重なる位置にストライプ状の走査線8を形成しており、各走査線8の長さ(図5における切断方向の長さ)は、上側基板2の横幅(図5における切断方向の長さ)と一致している。つまり、各走査線8は、図5において、カラーフィルタ基板92の左端に対応する位置からカラーフィルタ基板92の右端に対応する位置まで延在している。また、第1実施形態では、走査線8等の内面上に配向膜を形成するようにした。   In the first embodiment, the colored layer 6 and the black light shielding layer BM are formed over the entire inner surface of the upper substrate 2 and at appropriate positions. An overcoat layer 18 is formed over the entire inner surface of the colored layer 6 and the black light shielding layer BM. Further, stripe-like scanning lines 8 are formed on the inner surface of the overcoat layer 18 and at least overlapping with the row of pixel electrodes 10, and the length of each scanning line 8 (the cut in FIG. 5). The length in the direction) matches the lateral width of the upper substrate 2 (the length in the cutting direction in FIG. 5). That is, each scanning line 8 extends from a position corresponding to the left end of the color filter substrate 92 to a position corresponding to the right end of the color filter substrate 92 in FIG. In the first embodiment, the alignment film is formed on the inner surface of the scanning line 8 or the like.

これに対し、第2実施形態では、枠状のシール部1cの内側に対応する上側基板2の内面上に、着色層6及び黒色遮光層BMを形成している。そして、枠状のシール部1cの内側に対応する上側基板2の一部内面上、並びに着色層6及び黒色遮光層BMの内面上にオーバーコート層18を形成している。   On the other hand, in the second embodiment, the colored layer 6 and the black light shielding layer BM are formed on the inner surface of the upper substrate 2 corresponding to the inside of the frame-shaped seal portion 1c. An overcoat layer 18 is formed on a part of the inner surface of the upper substrate 2 corresponding to the inside of the frame-shaped seal portion 1c and on the inner surfaces of the colored layer 6 and the black light shielding layer BM.

また、その上側基板2及びオーバーコート層18の内面上であって且つ少なくとも各横列をなす画素電極10と重なる位置にストライプ状の走査線8を形成しており、各走査線8の長さ(図8における切断方向の長さ)は、上側基板2の横幅(図8における切断方向の長さ)より小さくなっている。即ち、図8の例では、1つの走査線8は、紙面左側に位置する枠状のシール部1cに対応する位置から、紙面右側に位置する柱状のスペーサ1d付近に対応する位置まで形成されている。つまり、1つの走査線8の右端部は、紙面右側に存在する枠状のシール部1cに対応する位置まで形成されていない。なお、1つの走査線8に隣接する他の走査線8は、その当該1つの走査線8の断面構成を左右反転させた構成になっている。つまり、当該他の走査線8の右端部側は、図示を省略するが紙面右側に存在する枠状のシール部1cに対応する位置まで形成されていると共に、当該他の走査線8の左端部側は、紙面左側に存在する柱状のスペーサ1d付近に対応する位置まで形成されている。このため、第2実施形態では、複数の走査線8の左端部又は右端部は、交互に枠状のシール部1cに対応する位置まで形成されている。また、第2実施形態では、走査線8等の内面上には配向膜が形成されている。   Further, stripe-like scanning lines 8 are formed on the inner surfaces of the upper substrate 2 and the overcoat layer 18 and at least overlapping the pixel electrodes 10 in the respective rows, and the lengths ( The length in the cutting direction in FIG. 8 is smaller than the lateral width of the upper substrate 2 (length in the cutting direction in FIG. 8). That is, in the example of FIG. 8, one scanning line 8 is formed from a position corresponding to the frame-shaped seal portion 1c located on the left side of the paper to a position corresponding to the vicinity of the columnar spacer 1d located on the right side of the paper. Yes. That is, the right end portion of one scanning line 8 is not formed up to a position corresponding to the frame-shaped seal portion 1c existing on the right side of the sheet. The other scanning lines 8 adjacent to one scanning line 8 have a configuration in which the cross-sectional configuration of the one scanning line 8 is reversed left and right. That is, the right end portion side of the other scanning line 8 is formed up to a position corresponding to the frame-shaped seal portion 1c that is present on the right side of the paper, although not shown, and the left end portion of the other scanning line 8 The side is formed up to a position corresponding to the vicinity of the columnar spacer 1d existing on the left side of the drawing. For this reason, in the second embodiment, the left end portions or the right end portions of the plurality of scanning lines 8 are alternately formed up to positions corresponding to the frame-shaped seal portions 1c. In the second embodiment, an alignment film is formed on the inner surface of the scanning line 8 or the like.

そして、素子基板91とカラーフィルタ基板94とが、素子基板91の要素である枠状のシール部1cを介して貼り合わされ、両基板の間に液晶層4が封入されてなる。ここで、枠状のシール部1c上には、複数の金属粒子7を分散配置してなる接着剤70(導電性背着剤)が塗布又は印刷されている。そのため、第2実施形態では、紙面左側の枠状のシール部1cに対応する位置に存在する走査線8の一端は、当該枠状のシール部1c上において、接着剤70中に含まれる複数の金属粒子7を介して、素子基板91側に形成された引き回し配線31の電極部31cと上下導通している。   The element substrate 91 and the color filter substrate 94 are bonded together via a frame-shaped seal portion 1c that is an element of the element substrate 91, and the liquid crystal layer 4 is sealed between the two substrates. Here, an adhesive 70 (conductive backing agent) formed by dispersing and arranging a plurality of metal particles 7 is applied or printed on the frame-shaped seal portion 1c. Therefore, in the second embodiment, one end of the scanning line 8 that exists at a position corresponding to the frame-shaped seal portion 1c on the left side of the paper is a plurality of parts included in the adhesive 70 on the frame-shaped seal portion 1c. Via the metal particles 7, the electrode part 31 c of the routing wiring 31 formed on the element substrate 91 side is vertically connected.

これに対し、第1実施形態では、枠状のシール部1c上において、素子基板91側に形成された引き回し配線31の電極部31cと、カラーフィルタ基板92側に形成された走査線8とは、複数の金属粒子7を介することなく接触している。このように、第2実施形態と第1実施形態とで引き回し配線31の電極部31cと、走査線8との上下導通の方法を異ならせているのは、次の通りである。   On the other hand, in the first embodiment, on the frame-shaped seal portion 1c, the electrode portion 31c of the routing wiring 31 formed on the element substrate 91 side and the scanning line 8 formed on the color filter substrate 92 side are The contact is made without passing through the plurality of metal particles 7. As described above, the vertical conduction method between the electrode portion 31c of the routing wiring 31 and the scanning line 8 is different between the second embodiment and the first embodiment as follows.

まず、第1実施形態では、少なくとも、上側基板2の内面から、表面に薄膜状の配向膜が形成された柱状のスペーサ1dの上面までの距離、及び、上側基板2の内面から、枠状のシール部1c上に形成された電極部31cの上面までの距離は、それぞれ一定の長さD6になっている。しかも、当該電極部31cの上面と当該柱状のスペーサ1dの上面は同一面上に設定されている。このため、素子基板91とカラーフィルタ基板92とを貼り合わせた場合でも、枠状のシール部1cに対応する位置において、当該電極部31cと走査線8との間には隙間は生じない。よって、第1実施形態では、電極部31cと走査線8との間に複数の金属粒子7を介在させずに、その両者を接触させて上下導通をとるようにしても問題がない。   First, in the first embodiment, at least the distance from the inner surface of the upper substrate 2 to the upper surface of the columnar spacer 1d on which a thin alignment film is formed, and the inner surface of the upper substrate 2 are frame-shaped. The distance to the upper surface of the electrode part 31c formed on the seal part 1c is a fixed length D6. Moreover, the upper surface of the electrode portion 31c and the upper surface of the columnar spacer 1d are set on the same plane. For this reason, even when the element substrate 91 and the color filter substrate 92 are bonded together, there is no gap between the electrode portion 31c and the scanning line 8 at a position corresponding to the frame-shaped seal portion 1c. Therefore, in the first embodiment, there is no problem even if a plurality of metal particles 7 are not interposed between the electrode portion 31c and the scanning line 8 and both are brought into contact with each other to establish vertical conduction.

一方、第2実施形態では、少なくとも上側基板2の内面から、表面に薄膜状の配向膜が形成された柱状のスペーサ1dの上面までの距離は、第1実施形態と同様に一定の長さD6になっている。ところが、第2実施形態において素子基板91とカラーフィルタ基板94とを貼り合わせた場合、上下導通の位置、即ちカラーフィルタ基板94における枠状のシール部1cに対応する位置には、着色層6やオーバーコート層18等が形成されていないため、その位置には一定の距離D7(<D6)を有する隙間が形成されてしまう。なお、電極部31cの上面と、表面に薄膜状の配向膜が形成された柱状のスペーサ1dの上面は、第1実施形態と同様に同一面上にある。そこで、第2実施形態では、その隙間の大きさに対応する直径D7を有する金属粒子7を接着剤70中に混入して、その接着剤70を枠状のシール部1c上に塗布又は印刷して、当該電極部31cと走査線8とを、その接着剤70中に含まれる金属粒子7を介して上下導通させるようにしている。なお、上下導通をとる必要のない枠状のシール部1c上の部分では、当該枠状のシール部1c上の部分と上側基板2の内面とは、複数の金属粒子7を有する接着剤70にて貼り合わされている。   On the other hand, in the second embodiment, the distance from at least the inner surface of the upper substrate 2 to the upper surface of the columnar spacer 1d having a thin alignment film formed on the surface is a constant length D6 as in the first embodiment. It has become. However, when the element substrate 91 and the color filter substrate 94 are bonded to each other in the second embodiment, the colored layer 6 or the color layer 6 or Since the overcoat layer 18 and the like are not formed, a gap having a certain distance D7 (<D6) is formed at that position. The upper surface of the electrode portion 31c and the upper surface of the columnar spacer 1d having a thin alignment film formed on the surface are on the same plane as in the first embodiment. Therefore, in the second embodiment, metal particles 7 having a diameter D7 corresponding to the size of the gap are mixed in the adhesive 70, and the adhesive 70 is applied or printed on the frame-shaped seal portion 1c. Thus, the electrode part 31 c and the scanning line 8 are vertically connected through the metal particles 7 contained in the adhesive 70. It should be noted that in the portion on the frame-shaped seal portion 1 c that does not require vertical conduction, the portion on the frame-shaped seal portion 1 c and the inner surface of the upper substrate 2 are bonded to the adhesive 70 having a plurality of metal particles 7. Are pasted together.

このように、本発明では、第2実施形態のような構成を有するカラーフィルタ基板94も適用可能である。なお、第2実施形態に係る、その他の本発明の作用効果は、第1実施形態と同様である。   Thus, in the present invention, the color filter substrate 94 having the configuration as in the second embodiment is also applicable. In addition, the other effect of this invention based on 2nd Embodiment is the same as that of 1st Embodiment.

[第3実施形態]
次に、図9等を参照して、本発明に係る第3実施形態の液晶表示装置について説明する。図9は、第3実施形態に係る液晶表示装置300の概略構成を模式的に示す断面図であり、第1実施形態の図5に対応する断面図である。
[Third embodiment]
Next, with reference to FIG. 9 etc., the liquid crystal display device of 3rd Embodiment which concerns on this invention is demonstrated. FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing a schematic configuration of the liquid crystal display device 300 according to the third embodiment, and is a cross-sectional view corresponding to FIG. 5 of the first embodiment.

第3実施形態は、第2実施形態と同様に、カラーフィルタ基板の構成が第1実施形態と異なっている。よって、以下では、第1実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は省略若しくは簡略化する。   As in the second embodiment, the third embodiment is different from the first embodiment in the configuration of the color filter substrate. Therefore, below, the same code | symbol is attached | subjected about the element same as 1st Embodiment, and the description is abbreviate | omitted or simplified.

図9において、素子基板91の構成は第1実施形態と同様であるため、その説明は省く。次に、第3実施形態のカラーフィルタ基板96の構成等について説明する。   In FIG. 9, the configuration of the element substrate 91 is the same as that of the first embodiment, and thus the description thereof is omitted. Next, the configuration of the color filter substrate 96 according to the third embodiment will be described.

第3実施形態のカラーフィルタ基板96では、上側基板2において、着色層6、黒色遮光層BM及びオーバーコート層18が形成される位置に凹部2aが形成されている。かかる凹部2aは、ガラス等よりなる上側基板2の一部分をエッチングすることにより形成されている。そして、凹部2aに対応する上側基板2の内面上には、着色層6及び黒色遮光層BMが夫々形成されていると共に、着色層6及び黒色遮光層BMの内面上には、オーバーコート層18が形成されている。そして、凹部2aの形成されていない上側基板2の内面と、当該凹部2aに対応する位置に形成されたオーバーコート層18の内面とは同一面上にある。また、凹部2aの形成されていない上側基板2の内面上、及び、当該凹部2aに対応する位置に形成されたオーバーコート層18の内面上には、走査線8が形成されていると共に、走査線8等の内面上には、図示しない配向膜が形成されている。   In the color filter substrate 96 of the third embodiment, the concave portion 2a is formed in the upper substrate 2 at a position where the colored layer 6, the black light shielding layer BM, and the overcoat layer 18 are formed. The recess 2a is formed by etching a part of the upper substrate 2 made of glass or the like. A colored layer 6 and a black light shielding layer BM are formed on the inner surface of the upper substrate 2 corresponding to the recess 2a, and an overcoat layer 18 is formed on the inner surfaces of the colored layer 6 and the black light shielding layer BM. Is formed. The inner surface of the upper substrate 2 where the recess 2a is not formed and the inner surface of the overcoat layer 18 formed at a position corresponding to the recess 2a are on the same plane. In addition, scanning lines 8 are formed on the inner surface of the upper substrate 2 where the recesses 2a are not formed and on the inner surface of the overcoat layer 18 formed at positions corresponding to the recesses 2a. An alignment film (not shown) is formed on the inner surface of the line 8 or the like.

そして、素子基板91とカラーフィルタ基板96とが、素子基板91の要素である枠状のシール部1cを介して貼り合わされ、両基板の間に液晶層4が封入されてなる。ここで、電極部31cが形成された部分を除く枠状のシール部1c上には、接着剤70が塗布又は印刷されている。また、枠状のシール部1cに対応する位置に存在する走査線8の一端は、第1実施形態と同様に、当該枠状のシール部1c上に形成された引き回し配線31の電極部31cと接触、即ち上下導通している。   The element substrate 91 and the color filter substrate 96 are bonded together via a frame-shaped seal portion 1c that is an element of the element substrate 91, and the liquid crystal layer 4 is sealed between the two substrates. Here, the adhesive 70 is applied or printed on the frame-shaped seal portion 1c excluding the portion where the electrode portion 31c is formed. Also, one end of the scanning line 8 located at a position corresponding to the frame-shaped seal portion 1c is connected to the electrode portion 31c of the routing wiring 31 formed on the frame-shaped seal portion 1c, as in the first embodiment. Contact, that is, vertical conduction.

ところで、第3実施形態では、少なくとも、凹部2aの位置に対応し且つ表面に薄膜状の配向膜が形成された走査線8の内面から、表面に薄膜状の配向膜が形成された柱状のスペーサ1dの上面までの距離、及び、凹部2aの形成されていない位置に対応する上側基板2の内面から、枠状のシール部1c上に形成された電極部31cの上面までの距離は、それぞれ一定の長さD9になっている。ここで、一定の長さD9は、表面に薄膜状の配向膜が形成された走査線8の厚さに対応している。しかも、電極部31cの上面と、表面に薄膜状の配向膜が形成された柱状のスペーサ1dの上面は同一面上にある。このため、素子基板91とカラーフィルタ基板96とを貼り合わせた場合でも、第1実施形態と同様に、上下導通位置、即ち枠状のシール部1cに対応する位置において、当該電極部31cと走査線8との間に隙間は生じない。   By the way, in the third embodiment, at least a columnar spacer in which a thin alignment film is formed on the surface from the inner surface of the scanning line 8 corresponding to the position of the recess 2a and having a thin alignment film formed on the surface. The distance to the upper surface of 1d and the distance from the inner surface of the upper substrate 2 corresponding to the position where the recess 2a is not formed to the upper surface of the electrode portion 31c formed on the frame-shaped seal portion 1c are constant. The length is D9. Here, the fixed length D9 corresponds to the thickness of the scanning line 8 having a thin alignment film formed on the surface. In addition, the upper surface of the electrode portion 31c and the upper surface of the columnar spacer 1d having a thin alignment film formed on the surface are on the same plane. For this reason, even when the element substrate 91 and the color filter substrate 96 are bonded together, similarly to the first embodiment, scanning is performed with the electrode portion 31c at the vertical conduction position, that is, at the position corresponding to the frame-shaped seal portion 1c. There is no gap between the line 8.

このように、本発明では、第3実施形態のような構成を有するカラーフィルタ基板96も適用可能である。なお、第3実施形態に係る、その他の本発明の作用効果は、第1実施形態と同様である。   Thus, in the present invention, the color filter substrate 96 having the configuration as in the third embodiment is also applicable. In addition, the other effect of this invention based on 3rd Embodiment is the same as that of 1st Embodiment.

[液晶表示装置の製造方法]
次に、図10乃至図16等を参照して、本発明に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。図10は、本発明に係る液晶表示装置の製造方法のフローチャートを示す。図11は、図10の工程S1に対応するフローチャートであり、素子基板の製造方法を示している。図12乃至図16は、素子基板の製造工程を示す平面図及び断面図である。図12において、二点差線にて囲まれる領域は、表示に寄与する有効表示領域Vを示している。なお、図14乃至図16では、便宜上、複数の柱状のスペーサ1dの図示を省略する。
[Method of manufacturing liquid crystal display device]
Next, a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 10 is a flowchart of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention. FIG. 11 is a flowchart corresponding to step S1 of FIG. 10, and shows a method for manufacturing an element substrate. 12 to 16 are a plan view and a cross-sectional view showing a manufacturing process of the element substrate. In FIG. 12, an area surrounded by a two-dot chain line indicates an effective display area V that contributes to display. 14 to 16, the illustration of the plurality of columnar spacers 1d is omitted for convenience.

まず、上記した第1実施形態乃至第3実施形態に共通の素子基板を作製する(工程S1)。具体的には、ガラス材料等よりなるガラス基材(図示略)を準備し、続いて、そのガラス基材を周知の方法によりエッチング処理を施すことにより、図12に示すように、そのガラス基材の一部分よりなる枠状のシール部1c、注入口1ca、複数の柱状のスペーサ1d、及び複数の凸部1aを夫々同時に形成して、下側基板1を作製する(工程P1)。このように、本発明の製造方法では、ガラス基材の一部を用いて、それをエッチングすることにより、上記した複数の要素を同時に形成する点に特徴を有している。これにより、上記の複数の要素を各々独立に形成した場合と比べて、工数削減を図ることができる。   First, an element substrate common to the first to third embodiments described above is manufactured (step S1). Specifically, a glass substrate (not shown) made of a glass material or the like is prepared, and then the glass substrate is etched by a well-known method, as shown in FIG. A lower substrate 1 is manufactured by simultaneously forming a frame-shaped seal portion 1c made of a part of the material, an injection port 1ca, a plurality of columnar spacers 1d, and a plurality of convex portions 1a (step P1). Thus, the manufacturing method of the present invention is characterized in that a part of the glass substrate is used and etched to form the plurality of elements at the same time. Thereby, a man-hour reduction can be aimed at compared with the case where said several element is formed independently, respectively.

図12において、枠状のシール部1c、複数の柱状のスペーサ1d及び複数の凸部1aは、それぞれ紙面手前側に突出するように形成される。また、枠状のシール部1cは、額縁領域38に枠状の平面形状を有するように形成される。注入口1caは、張り出し領域36と反対側に位置する枠状のシール部1cの略中央部分に凹部を形成することにより形成される。複数の柱状のスペーサ1dは、枠状のシール部1cの内側に形成される。特に、有効表示領域V内に形成される複数の柱状のスペーサ1dは、その有効表示領域V内に画素電極10が形成されたときに、各画素電極10の隅の位置近傍に対応する位置等に形成される。複数の凸部1aは、張り出し領域36のXドライバIC34が実装されるべき領域34xにおいて、そのXドライバIC34の各バンプ34a及び34bが形成されるべき領域34ax及び34bx、及び、張り出し領域36のYドライバIC33が実装されるべき領域33xにおいて、そのYドライバIC33の各バンプ33a及び33bが形成されるべき領域33ax及び33bxにそれぞれ形成される。   In FIG. 12, a frame-shaped seal portion 1c, a plurality of columnar spacers 1d, and a plurality of convex portions 1a are formed so as to protrude toward the front side of the sheet. The frame-shaped seal portion 1c is formed in the frame region 38 so as to have a frame-shaped planar shape. The injection port 1ca is formed by forming a recess at a substantially central portion of the frame-shaped seal portion 1c located on the opposite side to the overhang region 36. The plurality of columnar spacers 1d are formed inside the frame-shaped seal portion 1c. In particular, the plurality of columnar spacers 1d formed in the effective display region V have positions corresponding to the vicinity of the corner positions of each pixel electrode 10 when the pixel electrode 10 is formed in the effective display region V. Formed. The plurality of convex portions 1a are formed in the region 34x where the X driver IC 34 in the overhang region 36 is to be mounted, in the regions 34ax and 34bx where the bumps 34a and 34b of the X driver IC 34 are to be formed, and in the Y of the overhang region 36. In the region 33x where the driver IC 33 is to be mounted, the bumps 33a and 33b of the Y driver IC 33 are formed in the regions 33ax and 33bx where the driver IC 33 is to be formed, respectively.

ここで、図13を参照して、図12における切断線D−D’に沿った断面図に対応する、ガラス基材の部分のエッチング方法を一例として説明する。なお、下側基板1の一部分を用いて形成されるその他の要素、即ち、注入口1ca、複数の柱状のスペーサ1d、及び複数の凸部1aも、かかる方法により形成することができる。   Here, with reference to FIG. 13, an example of a method for etching a portion of the glass substrate corresponding to the cross-sectional view along the cutting line D-D ′ in FIG. 12 will be described. In addition, other elements formed by using a part of the lower substrate 1, that is, the injection port 1ca, the plurality of columnar spacers 1d, and the plurality of protrusions 1a can also be formed by this method.

まず、図13(a)に示すように、ガラス基材1xを準備する。ガラス基材1xを構成する原料は特に制限されるものではなく、ソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス等を使用することができる。   First, as shown to Fig.13 (a), the glass base material 1x is prepared. The raw material which comprises the glass base material 1x is not restrict | limited in particular, Soda lime glass, borosilicate glass, an alkali free glass etc. can be used.

次に、図13(b)に示すように、ガラス基材1x上に、スピンコート法やスプレー噴射によってレジスト材料80を塗布する。レジスト材料80は、ネガ型のレジスト材料又はポジ型のレジスト材料のどちらでも使用可能である。次に、図13(c)に示すように、枠状のシール部1cが形成されない領域、例えば張り出し領域36などに配置されたマスク85を通して、ガラス基材1xを露光し、続いて、そのガラス基材1xを現像する。これにより、図13(d)に示すように、枠状のシール部1cが形成されるべき領域1cxに対応する位置に、マスクパターン81が形成される。   Next, as shown in FIG. 13B, a resist material 80 is applied onto the glass substrate 1x by spin coating or spraying. As the resist material 80, either a negative resist material or a positive resist material can be used. Next, as shown in FIG. 13C, the glass substrate 1x is exposed through a mask 85 disposed in a region where the frame-shaped seal portion 1c is not formed, for example, the overhang region 36, and then the glass. The substrate 1x is developed. Thereby, as shown in FIG. 13D, a mask pattern 81 is formed at a position corresponding to the region 1cx where the frame-shaped seal portion 1c is to be formed.

次に、図13(e)に示すように、マスクパターン81が形成されていないガラス基材1xの表面をエッチング処理する。かかるエッチング方法としては、ドライエッチング法又はウェットエッチング法のいずれであっても好適に実施することができる。ドライエッチング法によりエッチング処理する際には、O、CF、SF等のフッ素や酸素が混合されたエッチングガスを使用することができる。一方、ウェットエッチング法によりエッチング処理する際に使用するエッチング処理液としては、フッ酸液、フッ化硫酸液、ケイフッ化水素液、フッ化アンモニウム、フッ化水素酸が挙げられる。また、それらを含む水溶液、例えば、フッ化水素酸と硝酸の混合水溶液、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合水溶液、フッ化水素酸と水素二フッ化アンモニウムと硝酸の水溶液等を使用することもできる。さらには、苛性ソーダ(NaOH)や、水酸化カリウム(KOH)などの強アルカリ性の薬液を使用することもできる。 Next, as shown in FIG.13 (e), the surface of the glass base material 1x in which the mask pattern 81 is not formed is etched. Such an etching method can be preferably carried out by either a dry etching method or a wet etching method. When etching is performed by a dry etching method, an etching gas in which fluorine or oxygen such as O 2 , CF 4 , or SF 6 is mixed can be used. On the other hand, examples of the etching treatment liquid used when performing the etching process by the wet etching method include a hydrofluoric acid liquid, a sulfuric acid fluoride liquid, a hydrogen silicofluoride liquid, ammonium fluoride, and hydrofluoric acid. Also, use an aqueous solution containing them, for example, a mixed aqueous solution of hydrofluoric acid and nitric acid, a mixed aqueous solution of hydrofluoric acid and ammonium fluoride, an aqueous solution of hydrofluoric acid, ammonium hydrogen difluoride and nitric acid, etc. You can also. Furthermore, strong alkaline chemicals such as caustic soda (NaOH) and potassium hydroxide (KOH) can also be used.

次に、図13(f)に示すように、ガラス基材1xからマスクパターン81を除去する。ここで、レジストを除去する方法としては、例えば、所定の薬液を用いてレジストを溶かすなどの方法が挙げられる。こうして、枠状のシール部1cが形成されるべき領域1cxに対応する位置に、枠状のシール部1cを有する下側基板1が作製される。   Next, as shown in FIG. 13F, the mask pattern 81 is removed from the glass substrate 1x. Here, examples of the method for removing the resist include a method of dissolving the resist using a predetermined chemical solution. Thus, the lower substrate 1 having the frame-shaped seal portion 1c is produced at a position corresponding to the region 1cx where the frame-shaped seal portion 1c is to be formed.

図11に戻り、次に、下側基板1上に、複数の引き回し配線31、複数のデータ線32、複数のTFD素子21、複数の画素電極10及び複数の外部接続用配線35を夫々形成する(工程P2)。   Returning to FIG. 11, next, a plurality of routing wirings 31, a plurality of data lines 32, a plurality of TFD elements 21, a plurality of pixel electrodes 10, and a plurality of external connection wirings 35 are formed on the lower substrate 1. (Process P2).

具体的には、図14に示すように、複数の引き回し配線31の形成に際しては、張り出し領域36の所定位置から額縁領域38にかけてY方向に延在するように複数の本線部分31aを形成すると共に、その複数の本線部分31aの一端から枠状のシール部1c上にかけてX方向に延在するように複数の折れ曲がり部分31bを形成し、さらに枠状のシール部1c上に位置する、複数の折れ曲がり部分31bの終端部に、複数の電極部31cを形成する。ここで、上記の所定位置は、複数の凸部1a上におけるYドライバIC33の出力側の各バンプ33aが形成されるべき領域33axに対応している。なお、複数の本線部分31a、折れ曲がり部分31b及び電極部31cの形成は同時に実行される。なお、複数の引き回し配線31は、クロムなどの材料にて形成するのが好ましい。   Specifically, as shown in FIG. 14, when forming the plurality of routing wires 31, a plurality of main line portions 31a are formed so as to extend in the Y direction from a predetermined position of the overhang region 36 to the frame region 38. The plurality of bent portions 31b are formed so as to extend in the X direction from one end of the plurality of main line portions 31a to the frame-shaped seal portion 1c, and further, the plurality of bends are positioned on the frame-shaped seal portion 1c. A plurality of electrode portions 31c are formed at the end portion of the portion 31b. Here, the predetermined position corresponds to a region 33ax where the bumps 33a on the output side of the Y driver IC 33 on the plurality of convex portions 1a are to be formed. The formation of the plurality of main line portions 31a, the bent portions 31b, and the electrode portions 31c is performed simultaneously. Note that the plurality of routing wires 31 are preferably formed of a material such as chromium.

各データ線32は、図14に示すように、張り出し領域36の所定位置から有効表示領域VにかけてY方向に延在するように且つ適宜の間隔をおいて形成する。ここで、上記の所定位置は、複数の凸部1a上におけるXドライバIC34の出力側の各バンプ34aが形成されるべき領域34axに対応している。なお、各データ線32は、引き回し配線31と同様に、クロムなどの材料にて形成するのが好ましい。   As shown in FIG. 14, each data line 32 is formed so as to extend in the Y direction from a predetermined position of the overhang region 36 to the effective display region V and at an appropriate interval. Here, the predetermined position corresponds to a region 34ax where the bumps 34a on the output side of the X driver IC 34 on the plurality of convex portions 1a are to be formed. Each data line 32 is preferably formed of a material such as chromium, like the lead wiring 31.

各外部接続用配線35は、図14に示すように、張り出し領域36に形成される。特に、各外部接続用配線35の一端は、複数の凸部1a上におけるXドライバIC34の入力側の各バンプ34bが形成されるべき領域34bx、及び、複数の凸部1a上におけるYドライバIC33の入力側の各バンプ33bが形成されるべき領域33bxに位置するように形成される。なお、各外部接続用配線35は、引き回し配線31及びデータ線32と同様に、クロムなどの材料にて形成するのが好ましい。   Each external connection wiring 35 is formed in the overhang region 36 as shown in FIG. In particular, one end of each external connection wiring 35 has a region 34bx in which each bump 34b on the input side of the X driver IC 34 on the plurality of protrusions 1a is to be formed, and the Y driver IC 33 on the plurality of protrusions 1a. The bumps 33b on the input side are formed so as to be located in the region 33bx to be formed. Each external connection wiring 35 is preferably formed of a material such as chromium, like the routing wiring 31 and the data line 32.

各TFD素子21は、図14に示すように、有効表示領域V内に画素電極10が形成された場合に、その画素電極10の隅の位置近傍に対応する位置に形成される。   As shown in FIG. 14, each TFD element 21 is formed at a position corresponding to the vicinity of the corner position of the pixel electrode 10 when the pixel electrode 10 is formed in the effective display region V.

各画素電極10は、図14に示すように、有効表示領域V内において、マトリクス状に形成される。各画素電極10は、透明導電材料、例えば、ITOなどの材料にて形成するのが好ましい。これにより、各データ線32は、各TFD素子21を介して各画素電極10に電気的に接続される。   Each pixel electrode 10 is formed in a matrix in the effective display area V as shown in FIG. Each pixel electrode 10 is preferably formed of a transparent conductive material, for example, a material such as ITO. Accordingly, each data line 32 is electrically connected to each pixel electrode 10 via each TFD element 21.

次に、X及びYドライバICその他の要素を実装する(工程P3)。具体的には、図14において、YドライバIC33の入力側の各バンプ33bが、複数の凸部1a上の領域33bxに対応する位置に形成された各外部接続用配線35の一端と接触するように、また、YドライバIC33の出力側の各バンプ33aが、複数の凸部1a上の領域33axに対応する位置に形成された各引き回し配線31の一端と接触するように、YドライバIC33を、接着剤を介して張り出し領域36のYドライバIC33が形成されるべき領域33xに実装する。同様の方法により、XドライバIC34を、接着剤を介してXドライバIC34が形成されるべき領域34xに実装する。こうして、各YドライバIC33と、複数の引き回し配線31及び外部接続用配線35とが電気的に接続されると共に、XドライバIC34と、複数のデータ線32及び外部接続用配線35とが電気的に接続される。このように、XドライバIC34及び各YドライバIC33が張り出し領域36に実装された状態が図15に示されている。また、その他の要素、例えば、偏光板14及びバックライト15などを取り付ける。こうして、図15に示すように、素子基板91が作製される。   Next, X and Y driver ICs and other elements are mounted (process P3). Specifically, in FIG. 14, each bump 33b on the input side of the Y driver IC 33 comes into contact with one end of each external connection wiring 35 formed at a position corresponding to the region 33bx on the plurality of convex portions 1a. In addition, the Y driver IC 33 is arranged so that the bumps 33a on the output side of the Y driver IC 33 are in contact with one end of each lead wiring 31 formed at a position corresponding to the region 33ax on the plurality of convex portions 1a. The Y driver IC 33 in the overhang region 36 is mounted on the region 33x where the overhang region 36 is to be formed via an adhesive. In a similar manner, the X driver IC 34 is mounted on the region 34x where the X driver IC 34 is to be formed via an adhesive. Thus, each Y driver IC 33 is electrically connected to the plurality of routing wirings 31 and the external connection wiring 35, and the X driver IC 34 is electrically connected to the plurality of data lines 32 and the external connection wiring 35. Connected. FIG. 15 shows a state in which the X driver IC 34 and the Y driver ICs 33 are mounted in the overhang area 36 as described above. Further, other elements such as a polarizing plate 14 and a backlight 15 are attached. Thus, as shown in FIG. 15, the element substrate 91 is manufactured.

図10に戻り、既知の方法により、第1、第2又は第3実施形態に係るカラーフィルタ基板を作製する(工程S2)。なお、第3実施形態に係るカラーフィルタ基板96の上側基板2を作製する場合には、上記の素子基板の製造方法で説明した方法によって、ガラス材料等よりなる上側基板2に対して、着色層6等を形成するべき部分にエッチング処理を施す。これにより、着色層6等が形成されるべき上側基板2の部分に凹部を形成することができる。   Returning to FIG. 10, the color filter substrate according to the first, second, or third embodiment is manufactured by a known method (step S2). When the upper substrate 2 of the color filter substrate 96 according to the third embodiment is manufactured, the colored layer is formed on the upper substrate 2 made of a glass material or the like by the method described in the element substrate manufacturing method. Etching is applied to the portion where 6 and the like are to be formed. Thereby, a recessed part can be formed in the part of the upper side substrate 2 in which the colored layer 6 etc. should be formed.

次に、上記により作製された第1、第2又は第3実施形態のカラーフィルタ基板92、94又は96と、素子基板91とを、表面に接着剤が塗布された枠状のシール部1cを介して貼り合わせる(工程S3)。このとき、第1及び第3実施形態の場合には、枠状のシール部1c上において電極部31cの部分には接着剤は塗布されない。また、第2実施形態のカラーフィルタ基板94と素子基板91とを貼り合わせる際には、上下導通部、即ち枠状のシール部1c上に形成された電極部31cと走査線8との間に生じる隙間をなくすために、その隙間の大きさに対応する径を有する複数の金属粒子を分散配置してなる接着剤を使用するのが好ましい。   Next, the color filter substrate 92, 94, or 96 of the first, second, or third embodiment manufactured as described above and the element substrate 91 are provided with a frame-shaped seal portion 1c whose surface is coated with an adhesive. (Step S3). At this time, in the case of the first and third embodiments, no adhesive is applied to the electrode portion 31c on the frame-shaped seal portion 1c. In addition, when the color filter substrate 94 and the element substrate 91 of the second embodiment are bonded together, the vertical conductive portion, that is, the electrode portion 31c formed on the frame-shaped seal portion 1c and the scanning line 8 is used. In order to eliminate the generated gap, it is preferable to use an adhesive formed by dispersing and arranging a plurality of metal particles having a diameter corresponding to the size of the gap.

次に、図16に示すように、液晶を、矢印Y1方向から注入口1caを通じて枠状のシール部1cの内側に注入し、その注入口1caの封止処理(図示略)をする(工程S4)。次に、必要に応じて、その他の要素を取り付けることにより(工程S5)、図1乃至図9に示すように、第1、第2又は第3実施形態の液晶表示装置100、200又は300が製造される。   Next, as shown in FIG. 16, liquid crystal is injected into the frame-shaped seal portion 1c from the direction of the arrow Y1 through the injection port 1ca, and sealing processing (not shown) of the injection port 1ca is performed (step S4). ). Next, by attaching other elements as necessary (step S5), as shown in FIGS. 1 to 9, the liquid crystal display device 100, 200, or 300 of the first, second, or third embodiment is provided. Manufactured.

[電子機器]
次に、本発明による液晶表示装置100、200又は300を電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。
[Electronics]
Next, an embodiment in which the liquid crystal display device 100, 200 or 300 according to the present invention is used as a display device of an electronic device will be described.

図17は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記の液晶表示装置100、200又は300と、これを制御する制御手段410とを有する。ここでは、液晶表示装置100、200又は300を、パネル構造体403と、半導体ICなどで構成される駆動回路402とに概念的に分けて描いてある。また、制御手段410は、表示情報出力源411と、表示情報処理回路412と、電源回路413と、タイミングジェネレータ414と、を有する。   FIG. 17 is a schematic configuration diagram showing the overall configuration of the present embodiment. The electronic apparatus shown here includes the liquid crystal display device 100, 200, or 300, and a control unit 410 that controls the liquid crystal display device. Here, the liquid crystal display device 100, 200 or 300 is conceptually divided into a panel structure 403 and a drive circuit 402 formed of a semiconductor IC or the like. Further, the control means 410 includes a display information output source 411, a display information processing circuit 412, a power supply circuit 413, and a timing generator 414.

表示情報出力源411は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ414によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路412に供給するように構成されている。   The display information output source 411 includes a memory such as a ROM (Read Only Memory) or a RAM (Random Access Memory), a storage unit such as a magnetic recording disk or an optical recording disk, and a tuning circuit that tunes and outputs a digital image signal. The display information is supplied to the display information processing circuit 412 in the form of an image signal of a predetermined format based on various clock signals generated by the timing generator 414.

表示情報処理回路412は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKとともに駆動回路402へ供給する。駆動回路402は、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路413は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。   The display information processing circuit 412 includes various well-known circuits such as a serial-parallel conversion circuit, an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit, and executes processing of input display information to obtain image information. Are supplied to the drive circuit 402 together with the clock signal CLK. The driving circuit 402 includes a scanning line driving circuit, a data line driving circuit, and an inspection circuit. The power supply circuit 413 supplies a predetermined voltage to each of the above-described components.

次に、本発明に係る液晶表示装置100、200又は300を適用可能な電子機器の具体例について図18を参照して説明する。   Next, specific examples of electronic devices to which the liquid crystal display device 100, 200, or 300 according to the present invention can be applied will be described with reference to FIG.

まず、本発明に係る液晶表示装置100、200又は300を、可搬型のパーソナルコンピュータ(いわゆるノート型パソコン)の表示部に適用した例について説明する。図18(a)は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ710は、キーボード711を備えた本体部712と、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部713とを備えている。   First, an example in which the liquid crystal display device 100, 200, or 300 according to the present invention is applied to a display unit of a portable personal computer (so-called notebook personal computer) will be described. FIG. 18A is a perspective view showing the configuration of this personal computer. As shown in the figure, the personal computer 710 includes a main body 712 having a keyboard 711 and a display 713 to which the liquid crystal display panel according to the present invention is applied.

続いて、本発明に係る液晶表示装置100、200又は300を、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図18(b)は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機720は、複数の操作ボタン721のほか、受話口722、送話口723とともに、本発明に係る液晶表示装置100を適用した表示部724を備える。   Next, an example in which the liquid crystal display device 100, 200 or 300 according to the present invention is applied to a display unit of a mobile phone will be described. FIG. 18B is a perspective view showing the configuration of this mobile phone. As shown in the figure, the cellular phone 720 includes a plurality of operation buttons 721, a reception port 722, a transmission port 723, and a display unit 724 to which the liquid crystal display device 100 according to the present invention is applied.

なお、本発明に係る液晶表示装置100、200又は300を適用可能な電子機器としては、図18(a)に示したパーソナルコンピュータや図18(b)に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。   Electronic devices to which the liquid crystal display device 100, 200, or 300 according to the present invention can be applied include liquid crystal in addition to the personal computer shown in FIG. 18A and the mobile phone shown in FIG. TV, viewfinder type / monitor direct view type video tape recorder, car navigation device, pager, electronic notebook, calculator, word processor, workstation, videophone, POS terminal, digital still camera, etc.

また、本発明は、液晶表示装置のみでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出素子を用いた装置(Field Emission Display 及び Surface-Conduction Electron-Emitter Display 等)などの各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。   Further, the present invention is not limited to a liquid crystal display device, but also an electroluminescence device, an organic electroluminescence device, a plasma display device, an electrophoretic display device, and a device using an electron-emitting device (Field Emission Display and Surface-Conduction Electron-Emitter Display). The present invention can be similarly applied to various electro-optical devices such as the above.

[変形例]
上記の実施形態では、素子基板91の下側基板1に、その一部をエッチングすることにより枠状のシール部1cを形成したが、これに限らず、本発明では、カラーフィルタ基板92の上側基板2に、その一部をエッチングすることにより枠状のシール部1cを形成しても構わない。
[Modification]
In the above embodiment, the frame-shaped seal portion 1c is formed by etching a part of the lower substrate 1 of the element substrate 91. However, the present invention is not limited to this, and in the present invention, the upper side of the color filter substrate 92 is formed. A frame-like seal portion 1c may be formed on the substrate 2 by etching a part thereof.

上記の実施形態では、ガラス等よりなる下側基板1の一部をエッチングすることにより、複数の要素、即ち枠状のシール部1c、複数の柱状のスペーサ1d、複数の凸部1a及び注入口1caを同時に形成するようにした。これに代えて、本発明では、下側基板1上に、ラミネートフィルム又はフォトレジストなどを所定の厚さに積層した後に、ラミネートフィルム又はフォトレジストなどに対して、周知の方法によりエッチング処理を施すことにより、上記の複数の要素を同時に形成するようにしても構わない。   In the above embodiment, by etching a part of the lower substrate 1 made of glass or the like, a plurality of elements, that is, a frame-shaped seal portion 1c, a plurality of columnar spacers 1d, a plurality of convex portions 1a, and an injection port 1 ca was formed at the same time. Instead, in the present invention, after laminating a laminate film or photoresist or the like on the lower substrate 1 to a predetermined thickness, the laminate film or photoresist or the like is etched by a known method. Thus, the plurality of elements may be formed at the same time.

上記の実施形態では、透過型の液晶表示装置に本発明を適用したが、これに限らず、本発明は、反射型又は半透過反射型の液晶表示装置にも適用できる。また、上記の実施形態では、TFD素子21(二端子素子)を有する素子基板を本発明に適用したが、これに代えて、本発明では、TFT(Thin Film Transistor)などのスイッチング素子を有する素子基板を適用することもできる。さらに、上記の実施形態では、アクティブマトリクス方式の液晶表示装置に本発明を適用したが、これに限らず、本発明は、単純マトリクス方式の液晶表示装置にも適用可能である。また、この他にも、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、各種の変形が可能である。   In the above embodiment, the present invention is applied to a transmissive liquid crystal display device. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can also be applied to a reflective or transflective liquid crystal display device. In the above embodiment, the element substrate having the TFD element 21 (two-terminal element) is applied to the present invention. Instead, in the present invention, the element having a switching element such as a TFT (Thin Film Transistor) is used. A substrate can also be applied. Furthermore, in the above embodiment, the present invention is applied to an active matrix liquid crystal display device, but the present invention is not limited to this, and the present invention can also be applied to a simple matrix liquid crystal display device. In addition, various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置の平面構成を示す平面図。1 is a plan view showing a planar configuration of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention. 第1実施形態に係る素子基板の平面構成を示す平面図。FIG. 3 is a plan view showing a planar configuration of the element substrate according to the first embodiment. 第1実施形態に係るカラーフィルタ基板の平面構成を示す平面図。FIG. 3 is a plan view showing a planar configuration of the color filter substrate according to the first embodiment. 第1実施形態に係る素子基板の平面構成を拡大した部分平面図。The partial top view which expanded the plane structure of the element substrate which concerns on 1st Embodiment. 図1の切断線A−A’に沿った断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along a cutting line A-A ′ in FIG. 1. 図1の切断線B−B’に沿った断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along a cutting line B-B ′ in FIG. 1. 図1の切断線C−C’に沿った断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along a cutting line C-C ′ in FIG. 1. 図5の断面図に対応する第2実施形態に係る液晶表示装置の断面図。Sectional drawing of the liquid crystal display device which concerns on 2nd Embodiment corresponding to sectional drawing of FIG. 図5の断面図に対応する第3実施形態に係る液晶表示装置の断面図。Sectional drawing of the liquid crystal display device which concerns on 3rd Embodiment corresponding to sectional drawing of FIG. 第1乃至第3実施形態の液晶表示装置の製造方法を示すフローチャート。6 is a flowchart showing a method for manufacturing the liquid crystal display device of the first to third embodiments. 素子基板の製造方法を示すフローチャート。The flowchart which shows the manufacturing method of an element substrate. 素子基板の製造工程を示す平面図。The top view which shows the manufacturing process of an element substrate. 素子基板の製造工程を示す部分断面図。The fragmentary sectional view which shows the manufacturing process of an element substrate. 素子基板の製造工程を示す平面図。The top view which shows the manufacturing process of an element substrate. 素子基板の製造工程を示す平面図。The top view which shows the manufacturing process of an element substrate. 第1乃至第3実施形態の液晶表示装置の製造工程を示す平面図。The top view which shows the manufacturing process of the liquid crystal display device of 1st thru | or 3rd embodiment. 本発明の液晶表示装置を適用した電子機器の回路ブロック図。1 is a circuit block diagram of an electronic apparatus to which a liquid crystal display device of the present invention is applied. 本発明の液晶表示装置を適用した電子機器の例。6 shows examples of electronic devices to which the liquid crystal display device of the present invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1 下側基板、 1a 凸部、 1c 枠状のシール部、 1ca 注入口、 1d 柱状のスペーサ、 2 上側基板、 6 着色層、 7 金属粒子、 8 走査線、 10 画素電極、 21 TFD素子、 31 引き回し配線、 31c 電極部、 32 データ線、 33 YドライバIC、 34 XドライバIC、 33a、33b、34a、34b バンプ、 35 外部接続用配線、 91 素子基板、 92、94、96 カラーフィルタ基板、 100、200、300 液晶表示装置   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Lower substrate, 1a Convex part, 1c Frame-shaped seal part, 1ca Inlet, 1d Columnar spacer, 2 Upper substrate, 6 Colored layer, 7 Metal particle, 8 Scan line, 10 Pixel electrode, 21 TFD element, 31 Lead wiring, 31c electrode section, 32 data lines, 33 Y driver IC, 34 X driver IC, 33a, 33b, 34a, 34b bump, 35 wiring for external connection, 91 element substrate, 92, 94, 96 color filter substrate, 100 , 200, 300 Liquid crystal display device

Claims (11)

一対の基板を備え、
前記一対の基板のうち一方の基板は、当該一方の基板の一部にて形成され且つ当該一方の基板の一方の面から突出する枠状のシール部を有していると共に、前記一対の基板及び前記枠状のシール部で区画された領域には電気光学物質が配置されていることを特徴とする電気光学装置。
A pair of substrates,
One of the pair of substrates has a frame-shaped seal portion that is formed by a part of the one substrate and protrudes from one surface of the one substrate, and the pair of substrates. An electro-optical device is characterized in that an electro-optical material is disposed in a region defined by the frame-shaped seal portion.
前記電気光学物質は液晶であり、
前記枠状のシール部は凹部を有していると共に、当該凹部は前記液晶を注入するための開口であることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
The electro-optic material is a liquid crystal;
The electro-optical device according to claim 1, wherein the frame-shaped seal portion has a recess, and the recess is an opening for injecting the liquid crystal.
前記一方の基板は、前記枠状のシール部の内側に、前記一方の基板の一部にて形成され、柱状の形状を有する複数のスペーサを有していることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。   The said one board | substrate has the some spacer which is formed in a part of said one board | substrate inside the said frame-shaped seal | sticker part, and has a columnar shape. The electro-optical device described. 前記一方の基板は、前記一方の基板の一部にて形成された複数の凸部を有しており、
前記複数の凸部は、前記一方の基板上の駆動回路が実装されるべき領域に且つ前記駆動回路の電極部に対応する位置に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
The one substrate has a plurality of convex portions formed by a part of the one substrate,
2. The electricity according to claim 1, wherein the plurality of convex portions are formed in a region where the drive circuit on the one substrate is to be mounted and at a position corresponding to an electrode portion of the drive circuit. Optical device.
前記一対の基板のうち他方の基板は電極を有し、
前記一方の基板上には前記駆動回路及び前記駆動回路に接続された配線が形成されており、
前記配線の一端は前記枠状のシール部上に位置しており且つ前記電極の一端と接触していることを特徴とする請求項4に記載の電気光学装置。
The other substrate of the pair of substrates has an electrode,
A wiring connected to the driving circuit and the driving circuit is formed on the one substrate,
The electro-optical device according to claim 4, wherein one end of the wiring is located on the frame-shaped seal portion and is in contact with one end of the electrode.
前記他方の基板は、平坦性を有し、前記他方の基板の一面全体に亘って形成された着色層と、前記着色層上の一面全体に亘って形成された保護層と、前記保護層上に形成された電極とを備え、
前記一方の基板において、少なくとも前記複数のスペーサの上には配向膜が形成されており、前記配線の厚さと前記枠状のシール部の厚さの合計値と、前記配向膜の厚さと各々の前記スペーサの厚さの合計値とが一致するように、前記枠状のシール部の厚さと、前記各々のスペーサの厚さとは各々異なる値に設定されていることを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置。
The other substrate has flatness, a colored layer formed over the entire surface of the other substrate, a protective layer formed over the entire surface of the colored layer, and the protective layer And an electrode formed on
In the one substrate, an alignment film is formed on at least the plurality of spacers, and the total value of the thickness of the wiring and the thickness of the frame-shaped seal portion, the thickness of the alignment film, 6. The thickness of the frame-shaped seal part and the thickness of each spacer are set to different values so that the total thickness of the spacers matches. The electro-optical device described.
前記他方の基板は、前記枠状のシール部の内側に対応する前記他方の基板に形成された着色層と、前記着色層上に形成された保護層と、前記着色層が形成されていない前記他方の基板の部分及び前記保護層の上に形成された電極とを備え、
前記一方の基板において、当該電極の一端は、前記枠状のシール部に対応する前記他方の基板の部分上に位置していると共に、少なくとも前記複数のスペーサの上には配向膜が形成されており、
当該電極の一端と前記枠状のシール部上に位置する前記配線の一端との間には間隙が形成されており、当該電極の一端と当該配線の一端とは、前記間隙に対応する位置において、前記間隙の大きさに対応する直径を有する金属粒子を分散配置してなる接着剤を介して上下導通していることを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置。
The other substrate is a colored layer formed on the other substrate corresponding to the inside of the frame-shaped seal portion, a protective layer formed on the colored layer, and the colored layer is not formed An electrode formed on a portion of the other substrate and the protective layer,
In the one substrate, one end of the electrode is located on a portion of the other substrate corresponding to the frame-shaped seal portion, and an alignment film is formed on at least the plurality of spacers. And
A gap is formed between one end of the electrode and one end of the wiring located on the frame-shaped seal portion, and one end of the electrode and one end of the wiring are at a position corresponding to the gap. 6. The electro-optical device according to claim 5, wherein the electro-optical device is vertically connected through an adhesive formed by dispersing and arranging metal particles having a diameter corresponding to the size of the gap.
前記他方の基板は、ガラスにより形成され凹部を有する他の基板と、前記他の基板上の前記凹部内に形成された着色層と、前記凹部内に且つ前記着色層上に形成された保護層と、前記凹部が形成されていない前記他方の基板の部分及び前記保護層の上に形成された電極とを備えていることを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置。   The other substrate is made of glass and has another recess, a colored layer formed in the recess on the other substrate, and a protective layer formed in the recess and on the colored layer. The electro-optical device according to claim 5, further comprising: an electrode formed on the part of the other substrate on which the concave portion is not formed and the protective layer. 請求項1乃至8のいずれか一項に記載の電気光学装置を表示部として備えることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1 as a display unit. ガラス基材をエッチングすることにより、前記ガラス基材の一方の面に、枠状のシール部、及び、前記ガラス基材において駆動回路が実装されるべき領域に且つ前記駆動回路の電極部が位置する領域に複数の凸部を同時に形成する要素形成工程を備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。   By etching the glass substrate, a frame-shaped seal portion on one surface of the glass substrate, and an electrode portion of the drive circuit are located in a region where the drive circuit is to be mounted on the glass substrate. An electro-optical device manufacturing method comprising an element forming step of simultaneously forming a plurality of convex portions in a region to be performed. ガラス基材をエッチングすることにより、前記ガラス基材の一方の面に、枠状のシール部、液晶を注入するための注入口、柱状の複数のスペーサ及び複数の凸部を同時に形成する要素形成工程を備え、
前記要素形成工程は、
前記ガラス基材において表示に寄与しない領域に且つ前記ガラス基材の一方の面から突出するように枠状のシール部を形成し、
前記枠状のシール部の内側に対応する位置に適宜の間隔をおいて柱状の複数のスペーサを形成し、
前記ガラス基材において駆動回路が実装されるべき領域に且つ前記駆動回路の電極部が位置する領域に複数の凸部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
Element formation that simultaneously forms a frame-shaped seal portion, an injection port for injecting liquid crystal, a plurality of columnar spacers, and a plurality of convex portions on one surface of the glass substrate by etching the glass substrate With a process,
The element forming step includes
Forming a frame-shaped seal portion so as to protrude from one surface of the glass substrate in a region that does not contribute to display in the glass substrate;
A plurality of columnar spacers are formed at appropriate intervals at positions corresponding to the inside of the frame-shaped seal portion,
A method of manufacturing an electro-optical device, comprising: forming a plurality of convex portions in a region where a driving circuit is to be mounted on the glass substrate and in a region where an electrode portion of the driving circuit is located.
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