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JP2006221070A - Reflection type screen - Google Patents

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JP2006221070A
JP2006221070A JP2005036238A JP2005036238A JP2006221070A JP 2006221070 A JP2006221070 A JP 2006221070A JP 2005036238 A JP2005036238 A JP 2005036238A JP 2005036238 A JP2005036238 A JP 2005036238A JP 2006221070 A JP2006221070 A JP 2006221070A
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JP
Japan
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light
liquid crystal
film
layer
transparent conductive
Prior art date
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Pending
Application number
JP2005036238A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinjiro Umeya
慎次郎 梅屋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflection type screen capable of reducing the sence of oppression in such a state as to be always installed not as a winding type but as a screen. <P>SOLUTION: The reflection type screen 10 provided with a selective reflection sheet (substrate 11, optical multilayer film 12) having a selective reflection characteristic is constituted as follows: a light diffusion layer 13 is made by holding a polymer dispersion liquid crystal layer A where fine particles of liquid crystal are dispersed and fixed in a polymer matrix between two sheets of transparent substrates having transparent conductive films (a) and is disposed on one side surface of the selective reflection sheet; and a light absorbing layer 14 is made by holding a polymer dispersion liquid crystal layer B where fine particles comprising liquid crystal and a dichroic black pigment are dispersed and fixed in a polymer matrix between two sheets of transparent substrates having transparent conductive films (b) and is disposed on the other side surface of the selective reflection sheet. Voltages are applied between the transparent conductive films (a) of the light diffusion layer 13, and between the transparent conductive films (b) of the light absorbing layer 14 respectively, and the respective polymer dispersion liquid crystal layers A, B are made into the light transmission state. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、明光下でもプロジェクタ光による投影画像が高コントラストであり、且つ色再現性の優れた選択波長反射型の光学多層膜を備えた反射型スクリーンに関する。   The present invention relates to a reflective screen including a selective wavelength reflective optical multilayer film in which a projected image by projector light has high contrast even under bright light and has excellent color reproducibility.

近年、会議等において発言者が資料を提示する方法としてオーバーヘッドプロジェクタやスライドプロジェクタが広く用いられている。また、一般家庭においても液晶を用いたビデオプロジェクタや動画フィルムプロジェクタが普及しつつある。これらプロジェクタの映写方法は光源から出力された光を、例えば透過形の液晶パネル等によって光変調して画像光を形成し、この画像光をレンズ等の光学系を通して出射してスクリーン上に映写するものである。   In recent years, overhead projectors and slide projectors have been widely used as methods for presenting materials by speakers in meetings and the like. In general households, video projectors and moving picture film projectors using liquid crystals are becoming popular. In these projector projection methods, light output from a light source is modulated by, for example, a transmissive liquid crystal panel to form image light, and the image light is emitted through an optical system such as a lens and projected on a screen. Is.

例えばスクリーン上にカラー画像を形成することができるフロント・プロジェクタは、光源から出射された光線を赤(R)、緑(G)、青(B)の各色の光線に分離して所定の光路に収束させる照明光学系と、この照明光学系によって分離されたRGB各色の光束をそれぞれ光変調する液晶パネル(ライトバルブ)と、液晶パネルにより光変調されたRGB各色の光束を合成する光合成部とを備え、光合成部により合成したカラー画像を投射レンズによりスクリーンに拡大投影するようにしている。   For example, a front projector capable of forming a color image on a screen separates light rays emitted from a light source into light rays of red (R), green (G), and blue (B) colors and puts them in a predetermined optical path. An illumination optical system that converges, a liquid crystal panel (light valve) that optically modulates light beams of RGB colors separated by the illumination optical system, and a light combining unit that combines light beams of RGB colors light-modulated by the liquid crystal panel The color image synthesized by the light synthesis unit is enlarged and projected on the screen by the projection lens.

また、最近では光源として狭帯域三原色光源を使用し、液晶パネルの代わりにグレーティング・ライト・バルブ(GLV:Grating Light Valve)を用いてRGB各色の光束を空間変調するタイプのプロジェクタ装置も開発されている。   Recently, a projector device has been developed that uses a narrow-band three-primary-color light source as a light source, and spatially modulates the luminous flux of each RGB color using a grating light valve (GLV) instead of a liquid crystal panel. Yes.

また、上述したようなプロジェクタにおいては、投影像を得るために投影用スクリーンが用いられるが、この投影用スクリーンには大別して、スクリーンの裏面から投影光を照射してスクリーンの表面から見る透過型のものと、スクリーンの表側から投影光を照射して当該投影光のスクリーンでの反射光を見る反射型のものとがある。
いずれの方式にしても、視認性の良好なスクリーンを実現するためには、明るい画像、コントラストの高い画像が得られることが必要である。
Further, in the projector as described above, a projection screen is used to obtain a projection image. The projection screen is roughly divided into a transmission type in which projection light is irradiated from the back surface of the screen and viewed from the screen surface. There is a reflection type that irradiates projection light from the front side of the screen and sees the reflection light of the projection light on the screen.
In any method, in order to realize a screen with good visibility, it is necessary to obtain a bright image and an image with high contrast.

しかしながら、フロント・プロジェクタは、自発光型ディスプレイやリアプロジェクタとは異なり、例えばNDフィルターを用いて外光の映り込みを低減することができず、反射型スクリーン上の明所コントラストを高くすることが困難であるという問題があった。   However, unlike a self-luminous display or a rear projector, a front projector cannot reduce the reflection of external light using, for example, an ND filter, and can increase the bright place contrast on a reflective screen. There was a problem that it was difficult.

この問題に対して、マトリクス法に基づいたシミュレーションにより誘電体多層膜の各光学膜の膜厚が設計され、特定波長領域の光に対して高反射特性を有し、少なくとも該波長域光以外の可視波長域光に対しては高透過特性を有する誘電体多層膜からなる光学薄膜(光学多層膜)を備えた反射型スクリーンが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。   To solve this problem, the thickness of each optical film of the dielectric multilayer film is designed by simulation based on the matrix method, and has high reflection characteristics with respect to light in a specific wavelength region. A reflection type screen having an optical thin film (optical multilayer film) made of a dielectric multilayer film having high transmission characteristics for light in the visible wavelength range has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

また、図1に示すように、ディッピングなどのウェット法により形成される、特定の波長領域の光に対して高反射特性を有し、前記特定の波長領域以外の少なくとも可視波長領域に対して高透過特性を有する2n+1(nは1以上の整数である。)層からなる光学多層膜12を備えた反射型スクリーンが提案されている(例えば、特許文献2参照。)。このスクリーンでは、光拡散層93として拡散材の分散あるいは塗布により形成されたシート、マイクロレンズアレイ、回折格子等が使われている。また、光吸収層94としてカーボン等の黒色粒子の塗布により形成されたものが使われている。   Further, as shown in FIG. 1, it has a high reflection characteristic with respect to light in a specific wavelength region, which is formed by a wet method such as dipping, and is high in at least a visible wavelength region other than the specific wavelength region. A reflective screen including an optical multilayer film 12 composed of 2n + 1 (n is an integer of 1 or more) layers having transmission characteristics has been proposed (see, for example, Patent Document 2). In this screen, a sheet, a microlens array, a diffraction grating, or the like formed by dispersing or applying a diffusing material is used as the light diffusing layer 93. Further, the light absorption layer 94 is formed by applying black particles such as carbon.

上記スクリーンにおいて、光学多層膜はいわゆる波長帯域フィルターとしての役割を果たし、この光学多層膜の作用により特定波長領域の光はその大部分が反射される。また、例えば外光が入射した場合には、特定波長領域以外の大部分が光学薄膜を透過し、ほとんど反射することがない。   In the above screen, the optical multilayer film functions as a so-called wavelength band filter, and most of light in a specific wavelength region is reflected by the action of the optical multilayer film. For example, when outside light is incident, most of the region other than the specific wavelength region is transmitted through the optical thin film and hardly reflected.

このように、上記反射型スクリーンでは、特定波長の光のみを選択的に反射することができ、通常のスクリーンに比べて相対的に外光の反射を抑えることができるため、スクリーン上に形成される画像のコントラストの低下が抑制されるとともに外光の映り込みが効果的に低減され、明るい画像を得ることができる。また、この反射型スクリーンでは、映写環境が明るい場合においても明瞭な画像が得られ、映写環境の明るさに影響されずに明瞭な画像を得ることができる。とくに、GLVなど光源のスペクトルが急峻で、スクリーンの特定波長反射率の半値幅に対して光源スペクトルの半値幅が狭い場合に、きわめて高いコントラストが得られ、光源側の持つ能力を十分発揮させることが出来る。   As described above, the reflection type screen can selectively reflect only light of a specific wavelength, and can suppress reflection of external light relative to a normal screen, and thus is formed on the screen. In addition, a decrease in contrast of the image is suppressed and reflection of external light is effectively reduced, so that a bright image can be obtained. Also, with this reflective screen, a clear image can be obtained even when the projection environment is bright, and a clear image can be obtained without being affected by the brightness of the projection environment. In particular, when the spectrum of a light source such as GLV is steep and the half-value width of the light source spectrum is narrower than the half-value width of the specific wavelength reflectance of the screen, extremely high contrast can be obtained and the ability of the light source side can be fully demonstrated. I can do it.

特開2003−270725号公報JP 2003-270725 A 特開2004−341407号公報JP 2004-341407 A

しかしながら、前記スクリーンにおいて画像表示をしていないときには、スクリーンは黒色の画面として見えるため、そのままでは存在感が大きく、とくに白色系の壁の部屋の中にそのスクリーンを置くと圧迫感を感じる要因となっていた。   However, when the image is not displayed on the screen, the screen appears as a black screen, so the presence is large as it is, and it is particularly a factor that feels a sense of pressure when placed in a white walled room. It was.

その対策として、スクリーンを巻取り方式にすることが挙げられるが、今度は巻き癖対策等の新たな対策が必要となった。また、巻取り方式には、巻き上げ/引き降ろしに時間が掛かる、高級感が失われる、天井近くの高い部分にコンセントが必要である、等の問題もあり、好みが分かれるところである。   As a countermeasure, it is possible to use a screen winding method, but this time, new countermeasures such as a curl countermeasure are required. In addition, the winding method has a problem that it takes time to wind up / down, a feeling of luxury is lost, and an outlet is necessary at a high part near the ceiling, and the preference is divided.

本発明は、以上の従来技術における問題に鑑みてなされたものであり、巻取り方式とせずに常にスクリーンとして設置した状態での圧迫感を低減することのできる反射型スクリーンを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems in the prior art, and an object thereof is to provide a reflective screen that can reduce the feeling of pressure in a state where it is always installed as a screen without using a winding method. And

前記課題を解決するために提供する本発明は、特定の波長領域の光に対して高反射特性を有し、前記波長領域以外の少なくとも可視波長領域に対して高透過特性を有する選択反射シートと、高分子マトリクス中に液晶の微小粒子が分散して固定されている高分子分散液晶層Aが透明導電膜aを有する2枚の透明基板で挟まれてなり、前記選択反射シートの一方の面上に配置される光拡散層と、高分子マトリクス中に液晶及び黒色の二色性色素を含む微小粒子が分散して固定されている高分子分散液晶層Bが透明導電膜bを有する2枚の透明基板で挟まれてなり、前記選択反射シートの他方の面上に配置される光吸収層とを備える反射型スクリーンであって、前記光拡散層の透明導電膜a間,光吸収層の透明導電膜b間それぞれに電圧が印加されてそれぞれの高分子分散液晶層A,Bが光透過状態となることを特徴とする反射型スクリーンである。   The present invention provided to solve the above-mentioned problems is a selective reflection sheet having high reflection characteristics with respect to light in a specific wavelength region and having high transmission characteristics with respect to at least a visible wavelength region other than the wavelength region. A polymer dispersed liquid crystal layer A in which liquid crystal microparticles are dispersed and fixed in a polymer matrix is sandwiched between two transparent substrates having a transparent conductive film a, and one surface of the selective reflection sheet Two sheets having a transparent conductive film b, a light diffusing layer disposed thereon, and a polymer dispersed liquid crystal layer B in which fine particles containing liquid crystal and a black dichroic dye are dispersed and fixed in a polymer matrix A reflective screen comprising a light absorption layer disposed on the other surface of the selective reflection sheet, between the transparent conductive film a of the light diffusion layer, and the light absorption layer. A voltage is applied between the transparent conductive films b. A reflective screen each polymer dispersed liquid crystal layer A, B is characterized by comprising a light transmitting state Te.

ここで、前記光拡散層は、前記透明導電膜a間に前記高分子分散液晶層Aが光透過状態となる電圧よりも低い電圧が印加され、あるいは電圧が印加されないことにより、前記選択反射シートが反射した光を拡散して出射することが好ましい。   Here, the light diffusing layer is applied with a voltage lower than a voltage at which the polymer-dispersed liquid crystal layer A is in a light transmission state between the transparent conductive films a or when no voltage is applied, the selective reflection sheet. It is preferable that the light reflected by is diffused and emitted.

また、前記光吸収層は、前記透明導電膜b間に電圧が印加されないことにより、前記選択反射シートの透過光を吸収することが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said light absorption layer absorbs the transmitted light of the said selective reflection sheet, when a voltage is not applied between the said transparent conductive films b.

本発明によれば、反射型スクリーンを使用しないとき、すなわちスクリーン上に画像を表示しないときには、光拡散層及び光吸収層を透過状態にすることにより、該反射型スクリーンに入射する外光は反射型スクリーンを構成する層すべて(光拡散層、光学多層膜、光吸収層)を透過するため、外見上透明のスクリーンとなり、そのまま配置していても存在感を低減することができる。また、スクリーン上に画像を表示するときには、光拡散層が従来のように光拡散機能を有し、光吸収層が従来のように光吸収機能を有するようにコントロールされるため、高コントラストで、視認性及び色再現性の優れた画像を鑑賞することができる。   According to the present invention, when a reflective screen is not used, that is, when an image is not displayed on the screen, the light diffusing layer and the light absorbing layer are set in a transmissive state so that external light incident on the reflective screen is reflected. Since all the layers constituting the mold screen (light diffusion layer, optical multilayer film, light absorption layer) are transmitted, the screen is transparent in appearance, and the presence can be reduced even if it is arranged as it is. In addition, when displaying an image on the screen, the light diffusion layer is controlled to have a light diffusion function as in the past, and the light absorption layer is controlled to have a light absorption function as in the past. An image with excellent visibility and color reproducibility can be viewed.

以下に、本発明に係る反射型スクリーンの構成について説明する。
図2は、本発明に係る反射型スクリーンの構成を示す断面図である。
図2に示すように、反射型スクリーン10は、基板11の両面上にプロジェクタ光の波長領域のうち、RGB三原色の各色の光の波長領域の光に対して反射特性を有し、前記波長領域以外の光に対しては透過特性を有する光学多層膜12が設けられた選択反射シートと、選択反射シートの一方の主面(光学多層膜12の最外層)上に配置された光拡散層13と、選択反射シートの他方の主面(光学多層膜12の光拡散層13が配置される面とは反対面)上に配置された光吸収層14とを備える。本発明では光拡散層13、光吸収層14に特徴を有する。
The configuration of the reflective screen according to the present invention will be described below.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the reflective screen according to the present invention.
As shown in FIG. 2, the reflective screen 10 has reflection characteristics with respect to light in the wavelength regions of light of each of the three primary colors of RGB among the wavelength regions of projector light on both surfaces of the substrate 11. And a light diffusing layer 13 disposed on one main surface of the selective reflection sheet (the outermost layer of the optical multilayer film 12). And a light absorption layer 14 disposed on the other main surface of the selective reflection sheet (a surface opposite to the surface on which the light diffusion layer 13 of the optical multilayer film 12 is disposed). The present invention is characterized by the light diffusion layer 13 and the light absorption layer 14.

基板11は透明であり、透明フィルム、ガラス板、アクリル板、メタクリルスチレン板、ポリカーボネート板、レンズ等の所望の光学特性を満足するものであればよい。光学特性として、上記基板11を構成する材料の屈折率は1.3〜1.7、ヘイズは8%以下、透過率は80%以上が好ましい。また、基板11にアンチグレア機能をもたせてもよい。   The substrate 11 may be transparent as long as it satisfies the desired optical characteristics such as a transparent film, a glass plate, an acrylic plate, a methacrylstyrene plate, a polycarbonate plate, and a lens. As optical characteristics, the material constituting the substrate 11 preferably has a refractive index of 1.3 to 1.7, a haze of 8% or less, and a transmittance of 80% or more. Further, the substrate 11 may have an antiglare function.

透明フィルムはプラスチックフィルムが好ましく、このフィルムを形成する材料としては、例えばセルロース誘導体(例、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース(TAC)、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース及びニトロセルロース)、ポリメチルメタアクリレート、メチルメタクリレートと他のアルキル(メタ)アクリレート、スチレンなどといったビニルモノマーとの共重合体などの(メタ)アクリル系樹脂;ポリカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート(CR−39)などのポリカーボネート系樹脂;(臭素化)ビスフェノールA 型のジ(メタ)アクリレートの単独重合体ないし共重合体、(臭素化)ビスフェノールA のモノ(メタ)アクリレートのウレタン変性モノマーの重合体および共重合体などといった熱硬化性(メタ)アクリル系樹脂;ポリエステル、特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートおよび不飽和ポリエステル;アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン、エポキシ樹脂などが好ましい。また、耐熱性を考慮したアラミド系樹脂の使用も可能である。この場合には加熱温度の上限が200℃以上となり、その温度範囲が幅広くなることが予想される。
プラスチックフィルムは、これらの樹脂を伸延あるいは溶剤に希釈後フィルム状に成膜して乾燥するなどの方法で得ることができる。厚さは剛性の面からは厚いほうがよいが、ヘイズの面からは薄いほうが好ましく、通常25〜500μm程度である。
The transparent film is preferably a plastic film, and examples of the material forming the film include cellulose derivatives (eg, diacetylcellulose, triacetylcellulose (TAC), propionylcellulose, butyrylcellulose, acetylpropionylcellulose and nitrocellulose), polymethyl (Meth) acrylic resins such as methacrylates and copolymers of vinyl methacrylates such as methyl methacrylate and other alkyl (meth) acrylates, styrene, etc .; polycarbonate resins such as polycarbonate and diethylene glycol bisallyl carbonate (CR-39); (Brominated) bisphenol A type di (meth) acrylate homopolymer or copolymer, (brominated) bisphenol A mono (meth) acrylate Thermosetting (meth) acrylic resins such as polymers and copolymers of tan-modified monomers; polyesters, especially polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate and unsaturated polyesters; acrylonitrile-styrene copolymers, polyvinyl chloride, polyurethane, epoxy Resins are preferred. In addition, an aramid resin considering heat resistance can be used. In this case, the upper limit of the heating temperature is 200 ° C. or higher, and the temperature range is expected to be widened.
The plastic film can be obtained by a method such as stretching these resins, diluting them in a solvent, forming a film and drying them. The thickness is preferably thick from the viewpoint of rigidity, but is preferably thin from the haze side, and is usually about 25 to 500 μm.

また、上記プラスチックフィルムの表面がハードコートなどの被膜材料で被覆されたものであってもよく、無機物と有機物からなる光学多層膜の下層にこの被膜材料を存在させることによって、付着性、硬度、耐薬品性、耐久性、染色性などの諸物性を向上させることも可能である。   In addition, the surface of the plastic film may be coated with a coating material such as a hard coat, and the presence of this coating material in the lower layer of an optical multilayer film composed of an inorganic substance and an organic substance allows adhesion, hardness, Various physical properties such as chemical resistance, durability, and dyeability can also be improved.

光学多層膜12は、高屈折率膜12Hと該高屈折率膜12Hより低い屈折率を有する低屈折率膜12Lとを交互に積層した選択反射特性を有する膜である。   The optical multilayer film 12 is a film having selective reflection characteristics in which a high refractive index film 12H and a low refractive index film 12L having a lower refractive index than the high refractive index film 12H are alternately stacked.

高屈折率膜12H、低屈折率膜12Lは、それぞれスパッタリング法などのドライプロセス、あるいはスピンコート、ディップコートなどのウェットプロセスのいずれの方法によっても形成することができる。   The high refractive index film 12H and the low refractive index film 12L can be formed by any of a dry process such as sputtering, or a wet process such as spin coating or dip coating.

ドライプロセスにより形成する場合には、高屈折率膜12Hの構成材料は、屈折率が2.0〜2.6程度のものであれば種々のものを用いることができる。同様に、低屈折率膜12Lの構成材料は、屈折率が1.3〜1.5程度のもので種々のものを用いることができる。例えば、高屈折率膜12Hは、TiO,Nb5又はTaからなり、低屈折率膜12Lは、SiO又はMgFからなるとすればよい。 In the case of forming by a dry process, various materials can be used as the constituent material of the high refractive index film 12H as long as the refractive index is about 2.0 to 2.6. Similarly, the constituent material of the low refractive index film 12L has a refractive index of about 1.3 to 1.5, and various materials can be used. For example, the high refractive index film 12H may be made of TiO 2 , Nb 2 O 5 or Ta 2 O 5 , and the low refractive index film 12L may be made of SiO 2 or MgF 2 .

ドライプロセスにより形成する場合、光学多層膜12の各膜厚は、マトリクス法に基づいたシミュレーションにより光学薄膜が特定波長帯の光に対して高反射特性を有し、少なくとも該波長域光以外の可視波長域光に対しては高透過特性を有するように膜厚設計するとよい。ここでいうマトリクス法に基づいたシミュレーションとは、特開2003−270725号公報に示されている手法であり、複数の異なる材料で構成され各層の境界で多重反射が生じる多層光学薄膜系に角度θで光が入射した場合、用いる光源の種類及び波長と、各層の光学膜厚(屈折率と幾何学的膜厚との積)に依存して位相が揃い、反射光速は可干渉性を示す場合が生じ、互いに干渉しあうようになる原理に基づいた方程式を利用してシミュレーションを行い、所望の特性を有する光学膜の膜厚設計を行うものである。 When formed by a dry process, the thickness of each optical multilayer film 12 is determined so that the optical thin film has high reflection characteristics with respect to light in a specific wavelength band by simulation based on a matrix method, and at least visible light other than the wavelength band light is visible. The film thickness may be designed so as to have high transmission characteristics for light in the wavelength band. The simulation based on the matrix method here is a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-270725, and an angle θ is applied to a multilayer optical thin film system that is composed of a plurality of different materials and causes multiple reflection at the boundary of each layer. When light is incident at 0 , the phase is aligned depending on the type and wavelength of the light source to be used and the optical film thickness (product of refractive index and geometric film thickness) of each layer, and the reflected light velocity shows coherence. A simulation is performed using an equation based on a principle that causes cases to interfere with each other, and a film thickness of an optical film having desired characteristics is designed.

本発明においては、特定の波長領域として、プロジェクタ光源で画像光として使用されるRGB三原色の各色の光の波長領域を選択して、マトリクス法に基づいたシミュレーションによりこれらの波長領域の光のみを反射させるとともにこれらの波長領域以外の波長領域の光を透過させるように膜厚設計すればよい。このような厚みの高屈折率膜12H及び低屈折率膜12Lを重ね合わせることにより三原色波長帯域フィルターとして良好に機能する光学多層膜12を確実に実現することができる。   In the present invention, as the specific wavelength region, the wavelength region of each of the RGB three primary colors used as image light by the projector light source is selected, and only light in these wavelength regions is reflected by a simulation based on the matrix method. The film thickness may be designed so as to transmit light in a wavelength region other than these wavelength regions. By superposing the high-refractive index film 12H and the low-refractive index film 12L having such thicknesses, the optical multilayer film 12 that functions well as a three primary color wavelength band filter can be reliably realized.

また、ドライプロセスにより形成される光学多層膜12を構成する光学膜の層数は、特に限定されるものではなく、所望の層数とすることができるが、光入射側及びその反対側の最外層が高屈折率膜12Hとされる奇数層(基板11の片面当たり)により構成されることが好ましい。   Further, the number of layers of the optical film constituting the optical multilayer film 12 formed by the dry process is not particularly limited and can be set to a desired number of layers. It is preferable that the outer layer is composed of an odd number of layers (per one surface of the substrate 11) which is the high refractive index film 12H.

ウェットプロセスにより光学多層膜12を形成する場合には、高屈折率膜用溶剤系塗料を塗布・硬化して得られる高屈折率膜12Hと、該高屈折率膜12Hよりも低屈折率の光学膜となる低屈折率膜用溶剤系塗料を塗布・硬化して得られる低屈折率膜12Lとを交互に積層した奇数層とするとよい。また、それぞれの光学膜は、加熱や紫外線照射などにより付与されるエネルギーを吸収して硬化反応を起こす樹脂を含む塗料を塗布して形成するとよい。例えば、高屈折率膜12Hは、熱硬化型樹脂JSR製オプスター(JN7102、屈折率1.68)により形成され、低屈折率膜12Lは熱硬化型樹脂JSR製オプスター(JN7215、屈折率1.41)により形成されるとよい。これにより光学多層膜12は可撓性を有する。   When the optical multilayer film 12 is formed by a wet process, a high refractive index film 12H obtained by applying and curing a solvent-based paint for a high refractive index film, and an optical having a lower refractive index than the high refractive index film 12H. It is preferable to use an odd-numbered layer in which low-refractive index films 12L obtained by applying and curing a low-refractive index film solvent-based paint to be a film are alternately laminated. Each optical film may be formed by applying a paint containing a resin that absorbs energy applied by heating, ultraviolet irradiation, or the like and causes a curing reaction. For example, the high refractive index film 12H is formed of a thermosetting resin JSR Opster (JN7102, refractive index 1.68), and the low refractive index film 12L is a thermosetting resin JSR Opster (JN7215, refractive index 1.41). ). Thereby, the optical multilayer film 12 has flexibility.

ここで、高屈折率膜12Hは、上記熱硬化型樹脂に限定されるものではなく、1.6〜2.1程度の屈折率が確保できる溶剤系塗料、例えば上記光拡散フィルムで示した高屈折率の光学膜用材料であればよい。また、低屈折率用膜13Lは、上記熱硬化型樹脂に限定されるものではなく、1.3〜1.59程度の屈折率が確保できる溶剤系塗料、例えば上記光拡散フィルムで示した低屈折率の光学膜用材料であればよい。なお、高屈折率膜12Hと低屈折率膜12Lとの屈折率の差が大きいほど、積層数が少なくすることができる。   Here, the high refractive index film 12H is not limited to the thermosetting resin, but is a solvent-based paint capable of ensuring a refractive index of about 1.6 to 2.1, such as the high light diffusion film. Any optical film material having a refractive index may be used. The low refractive index film 13L is not limited to the thermosetting resin, but a solvent-based paint capable of ensuring a refractive index of about 1.3 to 1.59, such as the low light diffusion film shown above. Any optical film material having a refractive index may be used. Note that the larger the difference in refractive index between the high refractive index film 12H and the low refractive index film 12L, the smaller the number of layers.

ウェットプロセスにより形成する場合、光学多層膜12の各膜厚は、例えば赤色、緑色及び青色の各色の波長領域の光からなる三原色波長域光に対して、例えば反射率が50%以上の高反射特性を有するとともに、この三原色波長域光以外の波長域の光に対しては、例えば透過率が80%以上の高透過特性を有するように設計されている。   When formed by a wet process, each film thickness of the optical multilayer film 12 is, for example, highly reflective with, for example, a reflectance of 50% or more with respect to light in the three primary color wavelength regions including light in the wavelength regions of red, green, and blue. In addition to having the characteristics, it is designed to have a high transmission characteristic of, for example, a transmittance of 80% or more with respect to light in a wavelength band other than the three primary color wavelength band lights.

ここで、光学多層膜12の各膜厚は、その各膜の厚さをd、その各膜の屈折率をn、この光学多層膜に入射する光の波長をλとすると、各膜の光学的厚さndが入射光の波長λに対して次式(1)を満足するように設計されるとよい。
nd=λ(α±1/4) ・・・(1)
(ただし、αは自然数である。)
Here, each film thickness of the optical multilayer film 12 is such that the thickness of each film is d, the refractive index of each film is n, and the wavelength of light incident on the optical multilayer film is λ. The target thickness nd is preferably designed so as to satisfy the following expression (1) with respect to the wavelength λ of the incident light.
nd = λ (α ± 1/4) (1)
(However, α is a natural number.)

例えば、高屈折率膜12H(屈折率1.68)の膜厚を1023nm、低屈折率膜12L(屈折率1.41)の膜厚を780nmとし、高屈折率膜12H、低屈折率膜12Lが交互に9層ずつ積層され、その積層されたものの上に高屈折率膜12Hが積層された19層構造の光学多層膜12とすることで、プロジェクタ光(上記レーザー発振器を用いたプロジェクタ光源からの光)について、三原色波長域光に対しては80%以上の高い反射率を有し、三原色波長域の前後の波長域光(迷光)に対しては反射率が20%以下の高い透過特性を有する膜とすることができる。   For example, the film thickness of the high refractive index film 12H (refractive index 1.68) is 1023 nm, the film thickness of the low refractive index film 12L (refractive index 1.41) is 780 nm, the high refractive index film 12H, and the low refractive index film 12L. Nine layers are alternately stacked, and the optical multilayer film 12 having a 19-layer structure in which the high refractive index film 12H is stacked on the stacked layers is used as a projector light (from a projector light source using the laser oscillator described above). The light has a high reflectance of 80% or more for the light of the three primary colors, and has a high transmittance of 20% or less for the wavelength light (stray light) before and after the three primary wavelengths. It can be set as the film | membrane which has.

光拡散層13は、高分子マトリクス中に液晶の微小粒子が分散して固定されている高分子分散液晶層Aが透明導電膜Aを有する2枚の透明基板で挟まれてなるものである。   The light diffusion layer 13 is formed by sandwiching a polymer-dispersed liquid crystal layer A in which fine particles of liquid crystal are dispersed and fixed in a polymer matrix between two transparent substrates having a transparent conductive film A.

光拡散層13は、図3に示すように、高分子マトリクス131中に液晶の微小粒子131LCが分散して固定されている高分子分散液晶層131と、該高分子分散液晶層131を挟む、透明導電膜132eを有する2枚の透明基板132とからなり、電源Eから透明導電膜132eに電圧が印加される構成となっている。 As shown in FIG. 3, the light diffusion layer 13 includes a polymer-dispersed liquid crystal layer 131 in which liquid crystal microparticles 131 LC are dispersed and fixed in a polymer matrix 131 m , and the polymer-dispersed liquid crystal layer 131. It is composed of two transparent substrates 132 having a transparent conductive film 132e sandwiched therebetween, and a voltage is applied from the power source E to the transparent conductive film 132e.

高分子分散液晶層131は、いわゆる高分子分散液晶材料(PDLC(Polymer Dispersed Liquid Crystal))で構成され、高分子材料と液晶とを含む溶液を用いてカプセル化法、重合相分離法、熱相分離法、溶媒蒸発相分離法などにより、高分子材料からなるマトリクス131中に液晶の微小粒子131LCが分散して固定されている状態に形成されたものである。 The polymer-dispersed liquid crystal layer 131 is made of a so-called polymer-dispersed liquid crystal material (PDLC (Polymer Dispersed Liquid Crystal)), and uses a solution containing the polymer material and liquid crystal to encapsulate, polymerize phase separation, and thermal phase. The liquid crystal microparticles 131 LC are dispersed and fixed in a matrix 131 m made of a polymer material by a separation method, a solvent evaporation phase separation method, or the like.

高分子マトリクス131を構成する材料は、透明な高分子材料であればとくに制限されないが、その屈折率が微小粒子131LCを構成する液晶の常光線に対応する屈折率と略一致していることが好ましい。このような光学材料としての適性からアクリル系樹脂であることが好ましい。 The material constituting the polymer matrix 131 m is not particularly limited as long as it is transparent polymer substantially coincident with the refractive index corresponding to ordinary ray of the liquid crystal in which the refractive index constitutes a microparticle 131 LC It is preferable. In view of suitability as such an optical material, an acrylic resin is preferable.

液晶の微小粒子131LCの形状は、球形、液滴形状、ラグビーボール形状等とくに限定されない。また、の微小粒子131LCを構成する材料(液晶)は、高分子分散液晶材料(PDLC)に使用可能なものであればとくに限定されない。例えば、一般的に使用されているネマティック液晶、コレステリック液晶などの液晶材料でよい。このとき、光拡散層13に適した拡散特性、透過特性が得られるように、この液晶の置換基や合成方法などの調整によりΔn(屈折率異方性の指標)をコントロールすることが好ましい。本発明で使用可能な液晶の化合物の構造式を以下に例示する。 The shape of the liquid crystal microparticle 131 LC is not particularly limited, such as a spherical shape, a droplet shape, or a rugby ball shape. The material (liquid crystal) constituting the fine particles 131 LC in is not limited particularly as long as it can be used in the polymer dispersed liquid crystal material (PDLC). For example, a commonly used liquid crystal material such as nematic liquid crystal or cholesteric liquid crystal may be used. At this time, it is preferable to control Δn (index of refractive index anisotropy) by adjusting the substituent of the liquid crystal and the synthesis method so that the diffusion characteristics and transmission characteristics suitable for the light diffusion layer 13 can be obtained. The structural formulas of liquid crystal compounds that can be used in the present invention are exemplified below.

Figure 2006221070
Figure 2006221070

高分子分散液晶層131は、その厚みを大きくすると拡散性がよくなり、透過性が悪くなり結像の効果は大きくなるが、液晶の配向の応答性が悪くなる、必要な印加電圧が大きくなる等の欠点も出てくる。5〜50μmの厚み範囲内であることが好ましい。   When the thickness of the polymer-dispersed liquid crystal layer 131 is increased, the diffusibility is improved, the transparency is deteriorated and the imaging effect is increased, but the response of the liquid crystal alignment is deteriorated, and the necessary applied voltage is increased. Such disadvantages also come out. It is preferable to be within a thickness range of 5 to 50 μm.

透明基板132は、透明のベース基板132b上に透明導電膜132eが形成されたものである。ベース基板132bは透明の高分子フィルムやガラスなどでよく、透明導電膜132eは例えばインジウム錫酸化物(ITO)の薄膜でよい。   The transparent substrate 132 is obtained by forming a transparent conductive film 132e on a transparent base substrate 132b. The base substrate 132b may be a transparent polymer film or glass, and the transparent conductive film 132e may be a thin film of indium tin oxide (ITO), for example.

図4は、電源Eから透明導電膜132e間への電圧印加有無による高分子分散液晶層131の状態を示す模式図である。
電源Eから透明導電膜132eへの電圧印加なしの場合(OFF状態、図4(a))、微小粒子131LCを構成する液晶LCの接している壁(高分子マトリクス131)の拘束力が支配的に働き、該液晶はランダムに配向され、入射光の一部を拡散あるいは反射する状態となる。
FIG. 4 is a schematic diagram showing the state of the polymer-dispersed liquid crystal layer 131 depending on whether or not a voltage is applied from the power source E to the transparent conductive film 132e.
When no voltage is applied from the power source E to the transparent conductive film 132e (OFF state, FIG. 4A), the binding force of the wall (polymer matrix 131 m ) that is in contact with the liquid crystal LC constituting the microparticle 131 LC is small. It works dominantly, and the liquid crystal is randomly oriented and diffuses or reflects part of the incident light.

電源Eから透明導電膜132eへの電圧印加ありの場合(ON状態、図4(b))、印加する電圧が十分大きいとき、微小粒子131LCを構成する液晶LCのもつ誘電率異方性により、該液晶は2つの透明導電膜132e間に生じる電界に対して垂直方向に配向し、その結果、高分子分散液晶層131は入射光のすべての波長の光を透過する状態となる。 When voltage is applied from the power source E to the transparent conductive film 132e (ON state, FIG. 4B), when the applied voltage is sufficiently large, the dielectric anisotropy of the liquid crystal LC constituting the microparticle 131 LC is The liquid crystal is aligned in a direction perpendicular to the electric field generated between the two transparent conductive films 132e. As a result, the polymer-dispersed liquid crystal layer 131 transmits light of all wavelengths of incident light.

本発明では、反射型スクリーン10に画像を表示するかしないかの違いで、微小粒子131LCを構成する液晶LCの配向状態を前記OFF状態(図4(a))、前記ON状態(図4(b))を使い分け、光拡散層13の拡散特性・透過特性を変化させる。 In the present invention, the alignment state of the liquid crystal LC constituting the microparticle 131 LC is set to the OFF state (FIG. 4 (a)) and the ON state (FIG. 4) depending on whether an image is displayed on the reflective screen 10 or not. (B)) is used properly to change the diffusion characteristics and transmission characteristics of the light diffusion layer 13.

光吸収層14は、図5に示すように、高分子マトリクス141中に液晶LC及び黒色の二色性色素pを含む微小粒子141LCpが分散して固定されている高分子分散液晶層141と、該高分子分散液晶層141を挟む、透明導電膜142eを有する2枚の透明基板142とからなり、電源Eから透明導電膜142eに電圧が印加される構成となっている。 As shown in FIG. 5, the light absorbing layer 14 is a polymer-dispersed liquid crystal layer 141 in which fine particles 141 LCp containing a liquid crystal LC and a black dichroic dye p are dispersed and fixed in a polymer matrix 141 m. And two transparent substrates 142 having a transparent conductive film 142e sandwiching the polymer dispersed liquid crystal layer 141, and a voltage is applied from the power source E to the transparent conductive film 142e.

ここで、高分子マトリクス141、液晶LCの構成は、それぞれ光拡散層13を構成する高分子マトリクス131、液晶LCと同様でよい。 Here, the configurations of the polymer matrix 141 m and the liquid crystal LC may be the same as those of the polymer matrix 131 m and the liquid crystal LC constituting the light diffusion layer 13, respectively.

二色性色素pは、RGB3原色それぞれの吸収端をもつ色素を混合して黒色色素としたものである。使用できる二色性色素の例を以下の表に示す。   The dichroic dye p is a black dye obtained by mixing dyes having absorption edges of the three primary colors RGB. Examples of dichroic dyes that can be used are shown in the table below.

Figure 2006221070
Figure 2006221070

光吸収層14の吸収特性、透過特性を反射型スクリーンとして適正化するために、高分子マトリクス141を構成する高分子材料の種類、二色性色素pの種類や液晶LCへの含有量等を調整するとよい。また、高分子分散液晶層141の厚みは大きくすると二色性色素pへの光吸収がよくなりスクリーンとして黒がよく沈む効果が得られるが、後述するように透過状態にするための応答性が悪くなる、必要な印加電圧が大きくなる等の問題が生じる。そのため、10〜20μmの厚み範囲内とすることが好ましい。 In order to optimize the absorption characteristics and transmission characteristics of the light absorption layer 14 as a reflection type screen, the type of the polymer material constituting the polymer matrix 141 m , the type of the dichroic dye p, the content in the liquid crystal LC, etc. It is good to adjust. Further, if the thickness of the polymer-dispersed liquid crystal layer 141 is increased, light absorption to the dichroic dye p is improved, and an effect that black is well sinked as a screen is obtained. Problems such as deterioration and a necessary applied voltage increase occur. Therefore, it is preferable to be within a thickness range of 10 to 20 μm.

図6は、電源Eから透明導電膜142e間への電圧印加有無による高分子分散液晶層141の状態を示す模式図である。
電源Eから透明導電膜142eへの交流電圧印加なしの場合(OFF状態、図6(a))、微小粒子141LCpを構成する液晶LCは図4(a)の場合と同様にランダムに配向され、それに伴って二色性色素pも同様にランダム配向される。その結果、入射光を吸収する状態となる。
FIG. 6 is a schematic diagram showing a state of the polymer dispersed liquid crystal layer 141 depending on whether or not a voltage is applied from the power source E to the transparent conductive film 142e.
When no AC voltage is applied from the power source E to the transparent conductive film 142e (OFF state, FIG. 6A ), the liquid crystal LC constituting the microparticle 141 LCp is randomly oriented as in FIG. 4A. Accordingly, the dichroic dye p is similarly randomly oriented. As a result, the incident light is absorbed.

電源Eから透明導電膜142eへの交流電圧印加ありの場合(ON状態、図6(b))、微小粒子141LCpを構成する液晶LCは図4(b)の場合と同様に2つの透明導電膜142e間に生じる電界に対して垂直方向に配向され、それに伴って二色性色素pも同様に配向される。その結果、高分子分散液晶層141は入射光のすべての波長の光を透過する状態となる。 When an AC voltage is applied from the power source E to the transparent conductive film 142e (ON state, FIG. 6B), the liquid crystal LC constituting the microparticle 141 LCp has two transparent conductive films as in FIG. 4B. The dichroic dye p is similarly oriented in the same direction as the electric field generated between the films 142e. As a result, the polymer-dispersed liquid crystal layer 141 is in a state of transmitting light of all wavelengths of incident light.

本発明では、反射型スクリーン10に画像を表示するかしないかの違いで、微小粒子141LCpを構成する液晶LCの配向状態を前記OFF状態(図6(a))、前記ON状態(図6(b))を使い分け、光吸収層14の吸収特性・透過特性を変化させる。 In the present invention, the alignment state of the liquid crystal LC constituting the microparticle 141 LCp is set to the OFF state (FIG. 6A ) and the ON state (FIG. 6) depending on whether an image is displayed on the reflective screen 10 or not. (B)) is used properly to change the absorption characteristics and transmission characteristics of the light absorption layer 14.

本発明の反射型スクリーンの作用効果を図7を用いて説明する。
図7(a)は、反射型スクリーン10を使用しないとき、すなわちスクリーン10上に画像を表示しないときの状態を示したものである。ここでは、光拡散層13の透明導電膜132e間、及び光吸収層14の透明導電膜142e間それぞれに電圧が印加されており、光拡散層13、光吸収層14はそれぞれ図4(b)、図6(b)に示すように光が透過する状態となっている。したがって、反射型スクリーン10に入射してくる外光Loは、反射型スクリーン10を構成する層すべて(光拡散層13、光学多層膜12、基板11、光吸収層14)を透過することとなり、外見上透明なスクリーンとなる。よって、この反射型スクリーン10をそのまま配置していても存在感を低減することができる。
The function and effect of the reflective screen of the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 7A shows a state when the reflective screen 10 is not used, that is, when an image is not displayed on the screen 10. Here, a voltage is applied between the transparent conductive film 132e of the light diffusion layer 13 and between the transparent conductive film 142e of the light absorption layer 14, and the light diffusion layer 13 and the light absorption layer 14 are respectively shown in FIG. As shown in FIG. 6B, light is transmitted. Therefore, the external light Lo incident on the reflection type screen 10 is transmitted through all the layers constituting the reflection type screen 10 (light diffusion layer 13, optical multilayer film 12, substrate 11, light absorption layer 14). It looks transparent on the screen. Therefore, even if this reflective screen 10 is arranged as it is, the presence can be reduced.

一方、図7(b)は、反射型スクリーン10を使用するとき、すなわちスクリーン10上に画像を表示するときの状態を示したものである。ここでは、光拡散層13の透明導電膜132e間、及び光吸収層14の透明導電膜142e間それぞれに電圧が印加されておらず、光拡散層13は図4(a)に示すように光が散乱する状態、光吸収層14は図6(a)に示すように光を吸収する状態となっている。したがって、反射型スクリーン10に入射する光は、光拡散層13を透過し、光学多層膜12に到達し、当該光学多層膜12にて入射光に含まれる外光成分Loは透過されて光吸収層14で吸収され、プロジェクタ光源から投射される光Lpに対応した特定波長領域の光(三原色波長領域)のみ選択的に反射される。ついで、その反射光は光拡散層13の表面にて拡散され視野角の広い画像光として視聴者に供される。したがって、上記反射光である画像光への外光の影響を高いレベルで排除することができ、従来にない均一な色表現とともに高コントラストの映像を表示することが可能となる。   On the other hand, FIG. 7B shows a state when the reflective screen 10 is used, that is, when an image is displayed on the screen 10. Here, no voltage is applied between the transparent conductive film 132e of the light diffusing layer 13 and between the transparent conductive film 142e of the light absorbing layer 14, and the light diffusing layer 13 is light-transmitted as shown in FIG. The light absorption layer 14 is in a state of absorbing light as shown in FIG. Therefore, the light incident on the reflective screen 10 passes through the light diffusion layer 13 and reaches the optical multilayer film 12, and the external light component Lo included in the incident light is transmitted through the optical multilayer film 12 to absorb light. Only light in a specific wavelength region (three primary color wavelength regions) corresponding to the light Lp absorbed by the layer 14 and projected from the projector light source is selectively reflected. Then, the reflected light is diffused on the surface of the light diffusion layer 13 and provided to the viewer as image light having a wide viewing angle. Therefore, it is possible to eliminate the influence of external light on the image light that is the reflected light at a high level, and it is possible to display a high-contrast image with uniform color expression that has not existed in the past.

なお、図7(b)において、光拡散層13の透明導電膜132e間に高分子分散液晶層131が透過状態となる電圧よりも低い電圧を印加することにより、光拡散層13の拡散特性を調整するようにしてもよい。   In FIG. 7B, by applying a voltage lower than the voltage at which the polymer dispersed liquid crystal layer 131 is in a transmissive state between the transparent conductive films 132e of the light diffusion layer 13, the diffusion characteristics of the light diffusion layer 13 are improved. You may make it adjust.

また、本発明に係る反射型スクリーンとして、基板11の片面に上記と同じ構成の光学多層膜12が形成され、基板11の裏面側に、光吸収層14が形成された構成としてもよい。   Further, the reflective screen according to the present invention may have a configuration in which the optical multilayer film 12 having the same configuration as described above is formed on one side of the substrate 11 and the light absorption layer 14 is formed on the back side of the substrate 11.

つぎに、本発明に係る反射型スクリーン10の製造方法について以下に説明する。
まず、反射型スクリーン10を構成する光学多層膜12を塗布法により形成する例を説明する。
(s11)基板11としてポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用意し、ディッピング法により当該基板11の両面に高屈折率用の光学膜用材料Aを所定量塗布する。ここで、光学膜用材料Aの塗布量は、高屈折率膜12Hの目標膜厚となる量とする。
(s12)光学膜用材料Aの塗膜を乾燥後、紫外線を照射して硬化させ、所定膜厚の高屈折率膜12Hを形成する。
(s13)ついで、高屈折率膜12H上にディッピング法により低屈折率用光学膜用材料Bを所定量塗布する。ここで、光学膜用材料Bの塗布量は、低屈折率膜12Lの目標膜厚となる量とする。
(s14)その塗膜を乾燥後、熱硬化させ、所定膜厚の低屈折率膜12Lを形成する。これにより、高屈折率膜12Hと低屈折率膜12Lとの積層構成となる。
(s15)ついで、基板11の最外層にある低屈折率膜12L上にステップs11〜s12の処理を行い、高屈折率膜12Hを形成し、基板11と光学多層膜12(12H/12L/12H)とからなる選択反射シートを完成する。
Next, a method for manufacturing the reflective screen 10 according to the present invention will be described below.
First, an example in which the optical multilayer film 12 constituting the reflective screen 10 is formed by a coating method will be described.
(S11) A polyethylene terephthalate (PET) film is prepared as the substrate 11, and a predetermined amount of the optical film material A for high refractive index is applied to both surfaces of the substrate 11 by dipping. Here, the coating amount of the optical film material A is set to an amount that becomes the target film thickness of the high refractive index film 12H.
(S12) The coating film of the optical film material A is dried and then cured by irradiating with ultraviolet rays to form a high refractive index film 12H having a predetermined thickness.
(S13) Next, a predetermined amount of the low refractive index optical film material B is applied onto the high refractive index film 12H by dipping. Here, the coating amount of the optical film material B is set to an amount that becomes the target film thickness of the low refractive index film 12L.
(S14) The coating film is dried and then thermally cured to form a low refractive index film 12L having a predetermined thickness. Thereby, it becomes a laminated structure of the high refractive index film | membrane 12H and the low refractive index film | membrane 12L.
(S15) Next, the processing of steps s11 to s12 is performed on the low refractive index film 12L on the outermost layer of the substrate 11 to form the high refractive index film 12H, and the substrate 11 and the optical multilayer film 12 (12H / 12L / 12H). Is completed.

なお、光学膜用材料A,Bの塗布方法としては、ディッピング塗布に限定されず、グラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、ダイコーティング、キャップコータなど従来公知の塗布方式によって塗布するとよい。   The coating method of the optical film materials A and B is not limited to dipping coating, but may be applied by a conventionally known coating method such as gravure coating, roll coating, blade coating, die coating, cap coater.

つぎに、光拡散層13は、例えばつぎのように作製するとよい。ここでは重合相分離法による例を示す。
(S21)高分子マトリクス131の原料材料(重合性のモノマーまたはオリゴマー)で液晶(ネマティック液晶。例えば、p-alkyle-p’-alkoxyazoxybenzene)を溶解し、溶液を作製する。具体的には容器に高分子マトリクス131の原料材料と液晶を所定体積比で入れ、攪拌器を用いて均一になるまで攪拌して溶融させる。
Next, the light diffusion layer 13 may be manufactured as follows, for example. Here, an example by the polymerization phase separation method is shown.
(S21) A liquid crystal (nematic liquid crystal, for example, p-alkyle-p′-alkoxyazoxybenzene) is dissolved with a raw material (polymerizable monomer or oligomer) of the polymer matrix 131 m to prepare a solution. Specifically, the raw material of the polymer matrix 131 m and the liquid crystal are put into a container at a predetermined volume ratio, and are stirred and melted using a stirrer until uniform.

なお、高分子マトリクス131の原料材料は、液晶への溶解性、耐久性を有することが重要であり、例えば紫外線照射により架橋高分子化反応がおこる紫外線硬化タイプのモノマーが好ましい。
また、樹脂と液晶の混合体積比は50:50が標準であるが、樹脂と液晶の混合において、液晶の混合比を増加するにつれて拡散性が増加し、透過性が悪くなる傾向にあり、結像性能に基づいて当該混合比を設定するとよい。
The starting material of a polymer matrix 131 m, the solubility in the liquid crystal, it is important to have a durability, for example, a monomer of the ultraviolet curable type which occur crosslinking polymerization reaction by ultraviolet irradiation is preferred.
In addition, the mixing volume ratio of resin and liquid crystal is 50:50 as a standard, but in the mixing of resin and liquid crystal, the diffusibility increases as the mixing ratio of liquid crystal increases, and the permeability tends to deteriorate. The mixing ratio may be set based on the image performance.

(S22)前記溶液を透明導電膜132eが形成されている透明基板132上にドクターブレード法などにより均一な厚みで塗布する。
(S23)塗膜の上にもう一方の透明基板132を透明導電膜132eが塗膜に接するように配置し、スペーサを介して2枚の透明基板が塗膜を挟みこんだ状態にする。なお、前記スペーサにより高分子分散液晶層131の厚みを調整すればよい。
(S24)透明基板132のいずれか一方の外側から紫外線を照射して紫外線硬化モノマーを光重合させる。紫外線照射は該光重合が必要十分に行われる条件がよく、例えば15mW/cmで60秒程度とするとよい。これにより、高分子マトリクス131中に液晶LCの微小粒子131LCが分散して固定されている高分子分散液晶層131が形成される。
(S25)透明基板132の透明導電膜132eに電源Eから電圧を印加するための電極を取り付けて光拡散層13を完成する。
(S22) The solution is applied to the transparent substrate 132 on which the transparent conductive film 132e is formed with a uniform thickness by a doctor blade method or the like.
(S23) The other transparent substrate 132 is placed on the coating film so that the transparent conductive film 132e is in contact with the coating film, and the two transparent substrates are sandwiched by the spacers through the spacer. Note that the thickness of the polymer dispersed liquid crystal layer 131 may be adjusted by the spacer.
(S24) The ultraviolet curable monomer is photopolymerized by irradiating ultraviolet rays from either one of the transparent substrates 132. Irradiation with ultraviolet rays is preferably performed under the condition that the photopolymerization is necessary and sufficient, for example, 15 mW / cm 2 and about 60 seconds. Thereby, the polymer dispersed liquid crystal layer 131 in which the microparticles 131 LC of the liquid crystal LC are dispersed and fixed in the polymer matrix 131 m is formed.
(S25) An electrode for applying a voltage from the power source E is attached to the transparent conductive film 132e of the transparent substrate 132 to complete the light diffusion layer 13.

つぎに、光吸収層14は、例えばつぎのように作製するとよい。ここでは重合相分離法による例を示す。
(S31)高分子マトリクス141の原料材料(重合性のモノマーまたはオリゴマー)で予め黒色の二色性色素を溶かしこんだ液晶を溶解し、溶液を作製する。具体的には容器に高分子マトリクス141の原料材料と液晶を所定体積比で入れ、攪拌器を用いて均一になるまで攪拌して溶融させる。なお、二色性色素の液晶に溶け込む量は液晶の種類によって異なるが、多く溶かし込んだほうが光吸収(図6(a))の効果が大きくなる。
Next, the light absorption layer 14 may be manufactured, for example, as follows. Here, an example by the polymerization phase separation method is shown.
(S31) A liquid crystal in which a black dichroic dye is dissolved in advance with a raw material (polymerizable monomer or oligomer) of the polymer matrix 141 m is dissolved to prepare a solution. Specifically, the raw material of the polymer matrix 141 m and the liquid crystal are put into a container at a predetermined volume ratio, and are stirred and melted using a stirrer until uniform. Although the amount of the dichroic dye dissolved in the liquid crystal varies depending on the type of the liquid crystal, the effect of light absorption (FIG. 6 (a)) is increased when the dichroic dye is dissolved in a large amount.

(S32)前記溶液を透明導電膜142eが形成されている透明基板142上にドクターブレード法などにより均一な厚みで塗布する。
(S33)塗膜の上にもう一方の透明基板142を透明導電膜142eが塗膜に接するように配置し、スペーサを介して2枚の透明基板が塗膜を挟みこんだ状態にする。なお、前記スペーサにより高分子分散液晶層141の厚みを調整すればよい。
(S34)透明基板142のいずれか一方の外側から紫外線を照射して紫外線硬化モノマーを光重合させる。これにより、高分子マトリクス141中に液晶LC及び黒色の二色性色素pを含む微小粒子141LCpが分散して固定されている高分子分散液晶層141が形成される。
(S35)透明基板142の透明導電膜142eに電源Eから電圧を印加するための電極を取り付けて光吸収層14を完成する。
(S32) The solution is applied to the transparent substrate 142 on which the transparent conductive film 142e is formed with a uniform thickness by a doctor blade method or the like.
(S33) The other transparent substrate 142 is placed on the coating film so that the transparent conductive film 142e is in contact with the coating film, and the two transparent substrates sandwich the coating film via the spacer. Note that the thickness of the polymer dispersed liquid crystal layer 141 may be adjusted by the spacer.
(S34) The ultraviolet curable monomer is photopolymerized by irradiating ultraviolet rays from either one of the transparent substrates 142. As a result, the polymer dispersed liquid crystal layer 141 in which the fine particles 141 LCp containing the liquid crystal LC and the black dichroic dye p are dispersed and fixed in the polymer matrix 141 m is formed.
(S35) An electrode for applying a voltage from the power source E is attached to the transparent conductive film 142e of the transparent substrate 142 to complete the light absorption layer 14.

最後に、上記のように作製した選択反射シートの一方の主面(光学多層膜12の最外層表面)に接着層あるいは粘着層を介して光拡散層13を貼り付け、該選択反射シートの他方の主面(光学多層膜12の光拡散層13貼り付け面とは反対面)に接着層あるいは粘着層を介して光吸収層14を貼り付けて、反射型スクリーン10を完成する。   Finally, the light diffusion layer 13 is attached to one main surface (the outermost layer surface of the optical multilayer film 12) of the selective reflection sheet produced as described above via an adhesive layer or an adhesive layer, and the other of the selective reflection sheet The light absorbing layer 14 is attached to the main surface (the surface opposite to the surface where the light diffusing layer 13 is attached) of the optical multilayer film 12 via an adhesive layer or an adhesive layer, thereby completing the reflective screen 10.

なお、上記光拡散層13の製造工程のステップS22あるいはS23における透明基板132を、上記光学多層膜12及び該光学多層膜12上に形成した透明導電膜からなるものとしてもよい。また、上記光吸収層14の製造工程のステップS32あるいはS33における透明基板142を、上記光学多層膜12及び該光学多層膜12上に形成した透明導電膜からなるものとしてもよい。
この製造方法により、前記透明基板132及び/または透明基板142におけるベース基板を省略することができるので、光学界面による光のロスを低減することができる。
The transparent substrate 132 in step S22 or S23 of the manufacturing process of the light diffusion layer 13 may be made of the optical multilayer film 12 and a transparent conductive film formed on the optical multilayer film 12. Further, the transparent substrate 142 in step S32 or S33 of the manufacturing process of the light absorption layer 14 may be made of the optical multilayer film 12 and a transparent conductive film formed on the optical multilayer film 12.
With this manufacturing method, the base substrate in the transparent substrate 132 and / or the transparent substrate 142 can be omitted, so that the loss of light due to the optical interface can be reduced.

以下に、本発明の実施例について説明する。
(1)サンプル作製条件
(a)選択反射シート
光学膜用材料Aである塗料(I),光学膜用材料Bである塗料(II)の組成とこれらの塗料を用いた光学多層膜の製造方法を以下に示す。
(i)光学膜用材料A(塗料(I))
・微粒子:TiO2微粒子
(石原産業社製、平均粒径約20nm、屈折率2.48) 100重量部
・分散剤:SO3Na基含有分子
(重量平均分子量:1000、SONa基濃度:2×10−3 mol/g)
20重量部
・結合剤:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの混合物
(日本化薬社製UV硬化性樹脂、商品名DPHA) 30重量部
・有機溶媒:メチルイソブチルケトン(MIBK) 4800重量部
まず微粒子、分散剤、有機溶媒を所定量混合し、ペイントシェーカーで分散処理を行いTiO微粒子分散液を得た。ついで、該分散液に結合剤を添加し、攪拌機にて攪拌処理を行い、塗料(I)とした。
(ii)光学膜用材料B(塗料(II))
・末端カルボキシル基をもつパーフルオロブテニルビニルエーテルの重合体
(旭硝子社製、商品名サイトップ)
Examples of the present invention will be described below.
(1) Sample preparation conditions (a) Selective reflection sheet Composition of coating material (I) as optical film material A, coating material (II) as optical film material B, and method for producing optical multilayer film using these coating materials Is shown below.
(I) Optical film material A (paint (I))
Fine particles: TiO 2 fine particles (Ishihara Sangyo Co., Ltd., average particle diameter of about 20 nm, refractive index 2.48) 100 parts by weight Dispersant: SO 3 Na group-containing molecule (weight average molecular weight: 1000, SO 3 Na group concentration: 2 × 10 −3 mol / g)
20 parts by weight-Binder: Mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate (Nippon Kayaku UV curable resin, trade name DPHA) 30 parts by weight-Organic solvent: methyl isobutyl ketone (MIBK) 4800 Part by weight First, a predetermined amount of fine particles, a dispersant, and an organic solvent were mixed and dispersed with a paint shaker to obtain a TiO 2 fine particle dispersion. Next, a binder was added to the dispersion, and the mixture was stirred with a stirrer to obtain paint (I).
(Ii) Optical film material B (paint (II))
・ Polyfluorobutenyl vinyl ether polymer with terminal carboxyl group (product name: Cytop, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.)

(iii)光学多層膜の製造方法
(S41)透明支持体の両面に塗料(I)をディッピング方式で塗布する。
(S42)塗料(I)の塗膜を80℃で乾燥後、紫外線(UV)硬化(1000mJ/cm2)させ、片面当たり膜厚850nm、屈折率1.94の光学膜12Hを形成する。
(S43)ついで、その光学膜12H上に塗料(II)をディッピング方式で塗布する。
(S44)塗料(II)の塗膜を90℃で乾燥させ、膜厚1020nm、屈折率1.34の光学膜12Lを形成する。
(S45)光学膜12L上にステップS41と同一条件で塗料(I)を塗布する。
(S46)塗料(I)の塗膜をステップS42と同一条件で膜形成し、片面当たり膜厚850nm、屈折率1.94の光学膜12Hを形成する。これにより透明支持体上に片面当り光学膜12H/光学膜12L/光学膜12Hの3層、計6層の光学多層膜を有する選択反射シートを得た。この選択反射シートの選択反射特性を図8に示す。
(Iii) Manufacturing method of optical multilayer film (S41) The coating material (I) is applied to both surfaces of the transparent support by the dipping method.
(S42) The coating film of paint (I) is dried at 80 ° C. and then cured by ultraviolet (UV) (1000 mJ / cm 2 ) to form an optical film 12H having a film thickness of 850 nm and a refractive index of 1.94 per side.
(S43) Next, paint (II) is applied on the optical film 12H by dipping.
(S44) The coating film of paint (II) is dried at 90 ° C. to form an optical film 12L having a thickness of 1020 nm and a refractive index of 1.34.
(S45) The coating material (I) is applied on the optical film 12L under the same conditions as in step S41.
(S46) A coating film of paint (I) is formed under the same conditions as in step S42 to form an optical film 12H having a film thickness of 850 nm and a refractive index of 1.94 per side. As a result, a selective reflection sheet having a total of six optical multilayer films of three layers of optical film 12H / optical film 12L / optical film 12H per side on a transparent support was obtained. The selective reflection characteristic of this selective reflection sheet is shown in FIG.

(b)光拡散層13
以下の条件で光拡散層13を作製した。
(S51)以下の材料を高分子原料材料:液晶を重量比として10:90〜30:70の範囲で変化させて相溶させて溶液を調製した。
・高分子原料材料(モノマー);日本化薬製HX−620(Caprolacton-modhified hydroxyl pivalic acid ester neopentyglycol diacrylate)
・重合開始剤;メルク製Darocure 1173(2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one)
・液晶(ネマティック液晶);下記構造式のピリジン系(pyridine derivatives)
(B) Light diffusion layer 13
The light diffusion layer 13 was produced under the following conditions.
(S51) A solution was prepared by changing the following materials to a polymer raw material: liquid crystal in a weight ratio of 10:90 to 30:70 and making them compatible.
-Polymer raw material (monomer); Nippon Kayaku HX-620 (Caprolacton-modhified hydroxyl pivalic acid ester neopentyglycol diacrylate)
Polymerization initiator: Merck Darocure 1173 (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one)
・ Liquid crystal (nematic liquid crystal); pyridine derivatives of the following structural formula

Figure 2006221070
Figure 2006221070

(S52)前記溶液を透明導電膜132eが形成されている透明基板132上にドクターブレード法により均一な厚みで塗布した。
(S53)塗膜の上にもう一方の透明基板132を透明導電膜132eが塗膜に接するように配置し、スペーサを介して2枚の透明基板132が塗膜を挟みこんだ状態にする。なお、スペーサにより透明基板132の間隔を11μmとした。
(S54)一方の透明基板132の外側から100mW/cm以下の紫外線を照射して紫外線硬化モノマーを光重合させた。これにより、高分子マトリクス131中に液晶の微小粒子131LCが分散して固定されている高分子分散液晶層131が形成された。
(S55)透明基板132の透明導電膜132eに電源Eから電圧を印加するための電極を取り付けて光拡散層13を完成する。
(S52) The solution was applied to the transparent substrate 132 on which the transparent conductive film 132e was formed with a uniform thickness by a doctor blade method.
(S53) The other transparent substrate 132 is placed on the coating film so that the transparent conductive film 132e is in contact with the coating film, and the two transparent substrates 132 sandwich the coating film via a spacer. In addition, the space | interval of the transparent substrate 132 was 11 micrometers by the spacer.
(S54) The ultraviolet curable monomer was photopolymerized by irradiating ultraviolet rays of 100 mW / cm 2 or less from the outside of one transparent substrate 132. As a result, the polymer dispersed liquid crystal layer 131 in which the liquid crystal microparticles 131 LC are dispersed and fixed in the polymer matrix 131 m is formed.
(S55) The light diffusion layer 13 is completed by attaching an electrode for applying a voltage from the power source E to the transparent conductive film 132e of the transparent substrate 132.

(c)光吸収層14
上記光拡散層13の製造工程のうち、ステップS51において予め以下の赤色、青色、青緑色のメロシアニン系の二色性色素を混合して得られる黒色色素を液晶に溶かし込んだ上で高分子原料材料に溶解させ、それ以降は光拡散層13の製造工程と同じ条件で製造することにより光吸収層14を作製した。
(C) Light absorption layer 14
In the manufacturing process of the light diffusion layer 13, in step S51, a black pigment obtained by mixing the following red, blue, and blue-green merocyanine dichroic pigments in advance is dissolved in liquid crystal, and then a polymer raw material The light absorption layer 14 was produced by dissolving in the material and thereafter producing it under the same conditions as the production process of the light diffusion layer 13.

Figure 2006221070
Figure 2006221070

上記のごとく、本実施例で作製した選択反射シートの一方の主面(光学多層膜12の最外層表面)に光学粘着層を介して光拡散層13を貼り付け、選択反射シートの他方の主面(光学多層膜12の光拡散層13貼り付け面とは反対面)に光学粘着層を介して光吸収層14を貼り付けて、反射型スクリーン10を完成した。   As described above, the light diffusing layer 13 is attached to one main surface (the outermost layer surface of the optical multilayer film 12) of the selective reflection sheet produced in the present example via the optical adhesive layer, and the other main surface of the selective reflection sheet. The light absorbing layer 14 was attached to the surface (the surface opposite to the surface to which the light diffusing layer 13 was attached) of the optical multilayer film 12 via the optical adhesive layer to complete the reflective screen 10.

(2)サンプル評価
(a)光拡散層13
得られた光拡散層13について、透明導電膜間への電圧印加有無それぞれの場合に光を光拡散層13の正面から入射させたときの光の散乱状態(入射光強度を1とした場合の入射光と光拡散層13との位置関係ごとに測定された光強度)を積分球を組み合わせたオリジナルの散乱測定計を使用して測定した。なお、高分子分散液晶層131の厚みは11μmであり、複屈折率は0.220である。また、電圧印加は図9に示す駆動回路を用いて行った。その結果を以下に示す。
(i)電圧印加ありの場合(透過状態)
・前方散乱:0.06
・後方散乱:0.02
・全散乱光:0.08
・直進透過光:0.82
・正反射光:0.09
(ii)電圧印加なしの場合(白濁状態)
・前方散乱:0.54
・後方散乱:0.10
・全散乱光:0.64
・直進透過光:<0.001
・正反射光:0.05
(2) Sample evaluation (a) Light diffusion layer 13
With respect to the obtained light diffusion layer 13, a light scattering state when light is incident from the front of the light diffusion layer 13 in each case of voltage application between the transparent conductive films (incident light intensity is 1) The light intensity measured for each positional relationship between the incident light and the light diffusion layer 13) was measured using an original scatterometer combined with an integrating sphere. The polymer dispersed liquid crystal layer 131 has a thickness of 11 μm and a birefringence of 0.220. Further, voltage application was performed using the drive circuit shown in FIG. The results are shown below.
(I) When voltage is applied (transmission state)
-Forward scattering: 0.06
・ Backscattering: 0.02
-Total scattered light: 0.08
・ Linear transmitted light: 0.82
-Regular reflection light: 0.09
(Ii) When no voltage is applied (cloudy state)
-Forward scattering: 0.54
・ Backscattering: 0.10
-Total scattered light: 0.64
・ Linear transmitted light: <0.001
-Regular reflection light: 0.05

(b)光吸収層14
得られた光吸収層14について、前記光拡散層13と同一条件で光の散乱状態を測定した。その結果を以下に示す。
(i)電圧印加ありの場合(透過状態)
・前方散乱:0.05
・後方散乱:0.01
・全散乱光:0.07
・直進透過光:0.80
・正反射光:0.08
(ii)電圧印加なしの場合(黒色状態)
・前方散乱:0.04
・後方散乱:0.04
・全散乱光:0.08
・直進透過光:<0.001
・正反射光:<0.02
(B) Light absorption layer 14
About the obtained light absorption layer 14, the light scattering state was measured on the same conditions as the said light-diffusion layer 13. FIG. The results are shown below.
(I) When voltage is applied (transmission state)
-Forward scattering: 0.05
-Backscattering: 0.01
-Total scattered light: 0.07
・ Linear transmitted light: 0.80
-Regular reflection light: 0.08
(Ii) When no voltage is applied (black state)
-Forward scattering: 0.04
-Backscattering: 0.04
-Total scattered light: 0.08
・ Linear transmitted light: <0.001
-Regular reflection light: <0.02

(c)反射型スクリーン10
得られた反射型スクリーン10について、光拡散層13、光吸収層14それぞれの透明導電膜間に図9に示す条件の電圧を印加した状態で反射型スクリーン10を正面から目視で観察したところ、反射型スクリーン10は透明状態で、その後方の様子が透けて見えた。
また、光拡散層13、光吸収層14それぞれの透明導電膜間に電圧を印加しない状態で明光下でプロジェクタから反射型スクリーン10に画像光を投射したところ、高コントラストで鮮明な映像が観察された。
(C) Reflective screen 10
About the obtained reflective screen 10, when the reflective screen 10 was visually observed from the front in the state where the voltage of the condition shown in FIG. 9 was applied between the transparent conductive films of the light diffusion layer 13 and the light absorbing layer 14, The reflective screen 10 was in a transparent state, and the state behind it was seen through.
Further, when image light is projected from the projector onto the reflective screen 10 under bright light without applying a voltage between the transparent conductive films of the light diffusion layer 13 and the light absorption layer 14, a clear image with high contrast is observed. It was.

従来の反射型スクリーンの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the conventional reflective screen. 本発明に係る反射型スクリーンの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the reflection type screen which concerns on this invention. 本発明の光拡散層の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the light-diffusion layer of this invention. 本発明の光拡散層の動作状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the operation state of the light-diffusion layer of this invention. 本発明の光吸収層の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the light absorption layer of this invention. 本発明の光吸収層の動作状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the operation state of the light absorption layer of this invention. 本発明に係る反射型スクリーンの動作状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the operation state of the reflection type screen which concerns on this invention. 選択反射シートの選択反射特性を示す図である。It is a figure which shows the selective reflection characteristic of a selective reflection sheet. 本発明の光拡散層、光吸収層の駆動回路例を示す図である。It is a figure which shows the drive circuit example of the light-diffusion layer of this invention, and a light absorption layer.

符号の説明Explanation of symbols

10,90…反射型スクリーン、11…基板、12…光学多層膜、12H…高屈折率膜、12L…低屈折率膜、13,93…光拡散層、14,94…光吸収層、131,141・・・高分子分散液晶層、131LC、141LCp・・・液晶の微小粒子、131,141・・・高分子マトリクス、132,142・・・透明基板、132b、142b・・・ベース基板、132e,142e・・・透明導電膜、E・・・電源、LC・・・液晶、p・・・二色性色素

DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,90 ... Reflective type screen, 11 ... Substrate, 12 ... Optical multilayer film, 12H ... High refractive index film, 12L ... Low refractive index film, 13, 93 ... Light diffusion layer, 14, 94 ... Light absorption layer, 131, 141 ... polymer dispersed liquid crystal layer, 131 LC , 141 LCp ... liquid crystal microparticles, 131 m , 141 m ... polymer matrix, 132, 142 ... transparent substrates, 132b, 142b ... Base substrate, 132e, 142e ... transparent conductive film, E ... power source, LC ... liquid crystal, p ... dichroic dye

Claims (3)

特定の波長領域の光に対して高反射特性を有し、前記波長領域以外の少なくとも可視波長領域に対して高透過特性を有する選択反射シートと、
高分子マトリクス中に液晶の微小粒子が分散して固定されている高分子分散液晶層Aが透明導電膜aを有する2枚の透明基板で挟まれてなり、前記選択反射シートの一方の面上に配置される光拡散層と、
高分子マトリクス中に液晶及び黒色の二色性色素を含む微小粒子が分散して固定されている高分子分散液晶層Bが透明導電膜bを有する2枚の透明基板で挟まれてなり、前記選択反射シートの他方の面上に配置される光吸収層とを備える反射型スクリーンであって、
前記光拡散層の透明導電膜a間、光吸収層の透明導電膜b間それぞれに電圧が印加されてそれぞれの高分子分散液晶層A,Bが光透過状態となることを特徴とする反射型スクリーン。
A selective reflection sheet having high reflection characteristics for light in a specific wavelength region, and having high transmission characteristics for at least a visible wavelength region other than the wavelength region;
A polymer-dispersed liquid crystal layer A in which fine particles of liquid crystal are dispersed and fixed in a polymer matrix is sandwiched between two transparent substrates having a transparent conductive film a, on one surface of the selective reflection sheet A light diffusing layer disposed on,
A polymer dispersed liquid crystal layer B in which fine particles containing liquid crystal and black dichroic dye are dispersed and fixed in a polymer matrix is sandwiched between two transparent substrates having a transparent conductive film b, A reflective screen comprising a light absorbing layer disposed on the other surface of the selective reflection sheet,
A reflection type wherein a voltage is applied between the transparent conductive film a of the light diffusing layer and the transparent conductive film b of the light absorbing layer, and the polymer dispersed liquid crystal layers A and B are in a light transmission state. screen.
前記光拡散層は、前記透明導電膜a間に前記高分子分散液晶層Aが光透過状態となる電圧よりも低い電圧が印加され、あるいは電圧が印加されないことにより、前記選択反射シートが反射した光を拡散して出射することを特徴とする請求項1に記載の反射型スクリーン。   In the light diffusion layer, a voltage lower than a voltage at which the polymer dispersed liquid crystal layer A is in a light transmission state is applied between the transparent conductive films a, or the selective reflection sheet is reflected when no voltage is applied. The reflective screen according to claim 1, wherein the light is diffused and emitted. 前記光吸収層は、前記透明導電膜b間に電圧が印加されないことにより、前記選択反射シートの透過光を吸収することを特徴とする請求項1に記載の反射型スクリーン。
The reflective screen according to claim 1, wherein the light absorbing layer absorbs light transmitted through the selective reflection sheet when no voltage is applied between the transparent conductive films b.
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