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JP2006195404A - Liquid crystal device and electronic device - Google Patents

Liquid crystal device and electronic device Download PDF

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JP2006195404A
JP2006195404A JP2005094755A JP2005094755A JP2006195404A JP 2006195404 A JP2006195404 A JP 2006195404A JP 2005094755 A JP2005094755 A JP 2005094755A JP 2005094755 A JP2005094755 A JP 2005094755A JP 2006195404 A JP2006195404 A JP 2006195404A
Authority
JP
Japan
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electrode
liquid crystal
conductive
pixel
portions
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2005094755A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideki Kaneko
英樹 金子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2005094755A priority Critical patent/JP2006195404A/en
Publication of JP2006195404A publication Critical patent/JP2006195404A/en
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Abstract

【課題】二端子素子を適用したIPS方式の液晶装置において、表示品位の低下を防止する。
【解決手段】液晶表示装置は、データ線、走査線、TFD素子、画素電極等を有する素子基板とカラーフィルタ基板間に液晶が封入されてなる。データ線は、サブ画素領域内に櫛歯形状を有する電極部と、相隣接する電極部同士を繋ぐ直線状の本線部を有する。複数の導電部は、それらが並列に接続された配線構成になっている。各電極の間には、画素電極の要素である略ストライプ状の第1乃至第3の透明電極部が形成されている。走査線はTFD素子に、TFD素子は第1乃至第3の透明電極部に夫々電気的に接続されており、各導電部と各透明電極部の間で素子基板と略平行な方向に横電界Eが生じて液晶分子の配向が制御される。特に、データ線の電極部が並列接続された回路を構成しているので、配線抵抗を低減でき、横クロストークの発生を防止し、表示品位の低下を防止できる。
【選択図】 図4
In an IPS liquid crystal device to which a two-terminal element is applied, display quality is prevented from deteriorating.
A liquid crystal display device includes a liquid crystal sealed between a color filter substrate and an element substrate having data lines, scanning lines, TFD elements, pixel electrodes, and the like. The data line has an electrode portion having a comb-tooth shape in the sub-pixel region and a linear main line portion that connects adjacent electrode portions. The plurality of conductive portions have a wiring configuration in which they are connected in parallel. Between each electrode, first to third transparent electrode portions having a substantially stripe shape, which is an element of the pixel electrode, are formed. The scanning line is electrically connected to the TFD element, and the TFD element is electrically connected to the first to third transparent electrode portions, and a horizontal electric field is formed between each conductive portion and each transparent electrode portion in a direction substantially parallel to the element substrate. E occurs to control the alignment of the liquid crystal molecules. In particular, since a circuit in which the electrode portions of the data lines are connected in parallel is configured, the wiring resistance can be reduced, the occurrence of lateral crosstalk can be prevented, and the display quality can be prevented from deteriorating.
[Selection] Figure 4

Description

本発明は、各種情報の表示に用いて好適な液晶装置及び電子機器に関する。   The present invention relates to a liquid crystal device and an electronic apparatus suitable for use in displaying various information.

従来のTN(Twisted Nematic)方式などの液晶装置は、一対の基板間に液晶を封入し、各基板に設けられた透明電極により基板に垂直な方向に電界を印加することにより、液晶分子の配向を制御する。これに対し、近年では、液晶に印加する電界の方向を基板にほぼ平行な方向とする方式が知られている。この方式は、横電界方式、IPS(In−Plane Switching)方式などと呼ばれ、視角特性に優れていることから最近注目されている。   Conventional TN (Twisted Nematic) type liquid crystal devices align liquid crystal molecules by enclosing liquid crystal between a pair of substrates and applying an electric field in a direction perpendicular to the substrates by means of transparent electrodes provided on each substrate. To control. On the other hand, in recent years, a method is known in which the direction of the electric field applied to the liquid crystal is a direction substantially parallel to the substrate. This method is called a horizontal electric field method, an IPS (In-Plane Switching) method, etc., and has recently attracted attention because of its excellent viewing angle characteristics.

この種のIPS方式の液晶装置として、例えば、一対の基板のうち一方の基板には櫛歯状の画素電極と櫛歯状の共通電極とが互いに噛み合うように配置され、他方の対向基板には電極が形成されることなく、両基板間に液晶が封入されてなる液晶装置が知られている(例えば、特許文献1乃至5を参照)。また、これらの特許文献に示される液晶装置では、スイッチング素子として三端子スイッチング素子、例えばTFT(Thin Film Transistor)素子を用い、そのTFT素子はゲート線上に設けられている。   As this type of IPS liquid crystal device, for example, one of a pair of substrates is arranged so that a comb-like pixel electrode and a comb-like common electrode mesh with each other, and the other counter substrate has There is known a liquid crystal device in which liquid crystal is sealed between both substrates without forming an electrode (see, for example, Patent Documents 1 to 5). In the liquid crystal devices disclosed in these patent documents, a three-terminal switching element, for example, a TFT (Thin Film Transistor) element is used as the switching element, and the TFT element is provided on the gate line.

特開2002−23171号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-23171 特開2001−330849号公報JP 2001-330849 A 特開2000−275664号公報JP 2000-275664 A 特開平10−221705号公報JP-A-10-221705 特開平9−269497号公報JP-A-9-269497

しかしながら、上記の液晶装置では、櫛歯状の画素電極との間で横電界を発生させる共通電極を櫛歯状の形状に形成しているため、当該共通電極の全体の配線抵抗が高くなり、表示品位が低下する虞がある。   However, in the above liquid crystal device, since the common electrode that generates a lateral electric field with the comb-like pixel electrode is formed in a comb-like shape, the overall wiring resistance of the common electrode is increased, There is a risk that the display quality will deteriorate.

本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであり、画素電極との間で横電界を発生させる電極の構造を工夫することにより当該電極の抵抗を低減し、表示品位が低下するのを防止することが可能な、二端子素子等を用いたIPS方式の液晶装置及び電子機器を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above points, and by devising the structure of an electrode that generates a lateral electric field with a pixel electrode, the resistance of the electrode is reduced, and the display quality is lowered. It is an object of the present invention to provide an IPS liquid crystal device and an electronic device using a two-terminal element or the like that can be prevented.

本発明の1つの観点では、液晶装置は、複数の第1の電極と、前記第1の電極に接続された二端子素子と、前記二端子素子に接続された画素電極と、前記複数の第1の電極と交差し、且つ前記画素電極に対向するように延び、前記画素電極との間で電界を発生させる複数の第2の電極と、を備え、前記第2の電極は当該第2の電極から分岐した複数の電極部を有していると共に、前記画素電極は前記複数の電極部間に設けられ、前記複数の電極部は、並列に接続された回路を形成している。   In one aspect of the present invention, a liquid crystal device includes a plurality of first electrodes, a two-terminal element connected to the first electrode, a pixel electrode connected to the two-terminal element, and the plurality of first electrodes. A plurality of second electrodes that intersect with the one electrode and extend to face the pixel electrode, and generate an electric field with the pixel electrode, wherein the second electrode is the second electrode In addition to having a plurality of electrode portions branched from the electrodes, the pixel electrode is provided between the plurality of electrode portions, and the plurality of electrode portions form a circuit connected in parallel.

上記の液晶装置は、複数の第1の電極と、その第1の電極に接続されたTFD素子などの二端子素子と、その二端子素子に接続された画素電極と、複数の第1の電極と交差し、画素電極との間で電界(横電界)を発生させる複数の第2の電極と、を備えて構成される。そして、この液晶装置では、第2の電極は、当該第2の電極から分岐した複数の電極部を有していると共に、画素電極は複数の電極部間に設けられている。このため、この液晶装置では、液晶の駆動時、電極部と画素電極との間に横電界が生じて液晶の配向が制御される。つまり、これにより、二端子素子を適用した横電界方式或いはIPS方式の液晶装置を構成することができる。好適な例では、第1の電極は走査線又はデータ線とすることができると共に、それに応じて第2の電極はデータ線又は走査線とすることができる。   The liquid crystal device includes a plurality of first electrodes, a two-terminal element such as a TFD element connected to the first electrode, a pixel electrode connected to the two-terminal element, and a plurality of first electrodes. And a plurality of second electrodes that generate an electric field (lateral electric field) with the pixel electrode. In this liquid crystal device, the second electrode has a plurality of electrode portions branched from the second electrode, and the pixel electrode is provided between the plurality of electrode portions. For this reason, in this liquid crystal device, when the liquid crystal is driven, a lateral electric field is generated between the electrode portion and the pixel electrode to control the alignment of the liquid crystal. In other words, it is possible to configure a horizontal electric field type or IPS type liquid crystal device to which a two-terminal element is applied. In a preferred example, the first electrode can be a scan line or a data line, and the second electrode can accordingly be a data line or a scan line.

ところで、このような液晶装置では、第2の電極の配線抵抗が高くなると、当該第2の電極と液晶による時定数(コンデンサCと抵抗Rの積)が高くなり、いわゆる横クロストークが生じて表示品位が低下する虞がある。ここで、横クロストークとは、画素レベルが特定の階調に集中したラインと、そうでないラインとにおいて、同一階調を表示しているにも拘わらず、表示画像上では表示レベルが異なってしまうことをいう。   By the way, in such a liquid crystal device, when the wiring resistance of the second electrode increases, the time constant (product of the capacitor C and the resistance R) by the second electrode and the liquid crystal increases, and so-called lateral crosstalk occurs. There is a risk that the display quality will deteriorate. Here, the horizontal crosstalk means that the display level is different on the display image even though the line where the pixel level is concentrated at a specific gradation and the line where the pixel level is not, the same gradation is displayed. It means to end.

したがって、このような表示欠陥が生じるのを防止するためには、上記の時定数CRを小さくする必要があり、そのためには第2の電極の配線抵抗を小さくする必要がある。   Therefore, in order to prevent such a display defect from occurring, it is necessary to reduce the time constant CR, and for this purpose, it is necessary to reduce the wiring resistance of the second electrode.

この点、この液晶装置では、特に、複数の電極部が、並列に接続された回路を形成している。これにより、第2の電極の全体の配線抵抗を下げることができる。その結果、いわゆる横クロストークが生じるのを防止でき、表示品位が低下するのを防止できる。   In this respect, in this liquid crystal device, in particular, a plurality of electrode portions form a circuit connected in parallel. Thereby, the overall wiring resistance of the second electrode can be lowered. As a result, it is possible to prevent so-called lateral crosstalk from occurring and to prevent display quality from deteriorating.

本発明の他の観点では、液晶装置は、複数の第1の電極と、相隣接する前記第1の電極の間に配置された画素電極と、前記複数の第1の電極と交差し、前記画素電極との間で電界を発生させる複数の第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極との交差位置に対応して設けられ前記第1の電極、前記第2の電極及び前記画素電極に接続された三端子素子と、を備え、前記第2の電極は当該第2の電極から分岐した複数の電極部を有すると共に、前記画素電極は前記複数の電極部間に設けられ、前記複数の電極部は、並列に接続された回路を形成している。   In another aspect of the invention, the liquid crystal device intersects the plurality of first electrodes, the pixel electrode disposed between the adjacent first electrodes, and the plurality of first electrodes, A plurality of second electrodes for generating an electric field with respect to the pixel electrode; and the first electrode and the second electrode provided corresponding to a crossing position of the first electrode and the second electrode. And a three-terminal element connected to the pixel electrode, the second electrode has a plurality of electrode portions branched from the second electrode, and the pixel electrode is provided between the plurality of electrode portions. The plurality of electrode portions form a circuit connected in parallel.

上記の液晶装置は、複数の第1の電極と、相隣接する第1の電極の間に配置された画素電極と、複数の第1の電極と交差し、画素電極との間で電界(横電界)を発生させる複数の第2の電極と、第1の電極と第2の電極との交差位置に対応して設けられ第1の電極、第2の電極及び画素電極に接続されたTFT素子などの三端子素子と、を備えて構成される。そして、この液晶装置では、第2の電極は、当該第2の電極から分岐した複数の電極部を有していると共に、画素電極は複数の電極部間に設けられている。このため、この液晶装置では、液晶の駆動時、電極部と画素電極との間に横電界が生じて液晶の配向が制御される。つまり、これにより、三端子素子を適用した横電界方式或いはIPS方式の液晶装置を構成することができる。好適な例では、第1の電極は走査線又はデータ線とすることができると共に、それに応じて第2の電極はデータ線又は走査線とすることができる。   The liquid crystal device includes a plurality of first electrodes, a pixel electrode disposed between adjacent first electrodes, and a plurality of first electrodes, and an electric field (lateral) between the pixel electrodes. TFT elements connected to the first electrode, the second electrode, and the pixel electrode, which are provided corresponding to the intersection positions of the plurality of second electrodes that generate the electric field) and the first electrode and the second electrode. And a three-terminal element. In this liquid crystal device, the second electrode has a plurality of electrode portions branched from the second electrode, and the pixel electrode is provided between the plurality of electrode portions. Therefore, in this liquid crystal device, when the liquid crystal is driven, a lateral electric field is generated between the electrode portion and the pixel electrode, thereby controlling the alignment of the liquid crystal. That is, it is possible to configure a horizontal electric field type or IPS type liquid crystal device to which a three-terminal element is applied. In a preferred example, the first electrode can be a scan line or a data line, and the second electrode can accordingly be a data line or a scan line.

特に、この液晶装置では、複数の電極部を、並列に接続された回路となるように形成している。これにより、第2の電極の全体の配線抵抗を下げることができる。その結果、いわゆる横クロストークが生じるのを防止でき、表示品位が低下するのを防止できる。   In particular, in this liquid crystal device, a plurality of electrode portions are formed so as to form a circuit connected in parallel. Thereby, the overall wiring resistance of the second electrode can be lowered. As a result, it is possible to prevent so-called lateral crosstalk from occurring and to prevent display quality from deteriorating.

上記の液晶装置の一つの態様では、前記電極部は、平面視したときに相互に間隙を隔てて配置されてなる直線状の複数の導電部を有すると共に、前記画素電極は複数の透明導電部を有し、前記透明導電部の各々は、複数の前記間隙内において前記導電部の各々と略平行に配置されている。   In one aspect of the above-described liquid crystal device, the electrode unit includes a plurality of linear conductive parts arranged with a gap therebetween when viewed in plan, and the pixel electrode includes a plurality of transparent conductive parts. And each of the transparent conductive portions is disposed substantially parallel to each of the conductive portions in the plurality of gaps.

この態様によれば、電極部は、平面視したときに相互に間隙を隔てて配置されてなる直線状の複数の導電部を有している。また、画素電極は複数の透明導電部を有している。そして、その透明導電部の各々は、複数の間隙内において、導電部の各々と略平行に配置されている。これにより、この液晶装置の駆動時、各導電部と、対応する各透明電極部の間で横電界が生じ液晶の配向を制御することができる。   According to this aspect, the electrode portion has the plurality of linear conductive portions that are arranged with a gap therebetween when viewed in plan. The pixel electrode has a plurality of transparent conductive portions. Each of the transparent conductive portions is disposed substantially parallel to each of the conductive portions in the plurality of gaps. Thereby, when this liquid crystal device is driven, a lateral electric field is generated between each conductive portion and each corresponding transparent electrode portion, and the alignment of the liquid crystal can be controlled.

上記の液晶装置の他の態様では、前記第2の電極はタンタル又はタンタルを主成分とする材料にて形成されている。   In another aspect of the above liquid crystal device, the second electrode is formed of tantalum or a material mainly containing tantalum.

この態様によれば、第2の電極を高抵抗化材料であるタンタル等にて形成したような場合でも、当該第2の電極の配線抵抗を低減できる。   According to this aspect, even when the second electrode is formed of tantalum or the like as a high resistance material, the wiring resistance of the second electrode can be reduced.

上記の液晶装置の他の態様では、前記電極部は、画素領域内に複数の他の導電部を有し、前記複数の導電部と前記複数の他の導電部は相対的に略直交しており、前記第1の電極と対向する前記複数の導電部の一端側及び当該一端側に対向する前記複数の導電部の他端側は、各々前記複数の他の導電部に電気的に接続されている。   In another aspect of the above liquid crystal device, the electrode unit includes a plurality of other conductive parts in a pixel region, and the plurality of conductive parts and the plurality of other conductive parts are relatively substantially orthogonal to each other. In addition, one end side of the plurality of conductive portions facing the first electrode and the other end side of the plurality of conductive portions facing the one end side are electrically connected to the other conductive portions, respectively. ing.

この態様では、電極部は、画素領域内に複数の他の導電部を有している。そして、複数の導電部と複数の他の導電部は相対的に略直交しており、第1の電極と対向する複数の導電部の一端側及び当該一端側に対向する複数の導電部の他端側は、各々複数の他の導電部に電気的に接続されている。このため、この電極部は、複数の導電部(抵抗体)の各々を並列に接続した回路を形成している。その結果、例えば、1つの導電部の抵抗をR1とし、且つ、その複数の導電部の設定数をNにした場合、この態様では、電極部の抵抗は、R1を(1/N)倍した大きさ、即ち(R1)/Nとなる。このため、第2の電極は、全体として、(R1)/Nの抵抗体を複数直列に接続した配線構成となる。よって、タンタルなどによって第2の電極を形成したような場合でも、当該第2の電極の配線抵抗を低減することができる。   In this aspect, the electrode portion has a plurality of other conductive portions in the pixel region. The plurality of conductive portions and the plurality of other conductive portions are relatively substantially orthogonal to each other, and one end side of the plurality of conductive portions facing the first electrode and the other of the plurality of conductive portions facing the one end side. The end sides are each electrically connected to a plurality of other conductive parts. For this reason, this electrode part forms the circuit which connected each of several electroconductive part (resistor) in parallel. As a result, for example, when the resistance of one conductive portion is R1, and the set number of the plurality of conductive portions is N, in this aspect, the resistance of the electrode portion is multiplied by R1 / (1 / N). The size is (R1) / N. For this reason, the second electrode as a whole has a wiring configuration in which a plurality of (R1) / N resistors are connected in series. Therefore, even when the second electrode is formed of tantalum or the like, the wiring resistance of the second electrode can be reduced.

上記の液晶装置の他の態様では、前記二端子素子は、第1金属膜と、前記第1金属膜上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上の一部及び前記第1金属膜近傍の前記他の導電部上の一部に対応する位置に形成された第2金属膜とを有し、少なくとも当該他の導電部上には絶縁膜が形成されており、前記第2金属膜の一部分は、当該絶縁膜を介して前記他の導電部に対向している。   In another aspect of the liquid crystal device, the two-terminal element includes a first metal film, an insulating film formed on the first metal film, a part on the insulating film, and the vicinity of the first metal film. A second metal film formed at a position corresponding to a part of the other conductive portion, and an insulating film is formed on at least the other conductive portion. A part is opposed to the other conductive part through the insulating film.

この態様によれば、二端子素子は、例えばタンタルなどからなる第1金属膜と、その第1金属膜上に形成され、例えば酸化タンタルなどからなる絶縁膜と、その絶縁膜上の一部及びその第1金属膜近傍の他の導電部上の一部に対応する位置に形成され、例えばクロムなどからなる第2金属膜とを有している。そして、少なくとも他の導電部上には絶縁膜が形成されており、その第2金属膜の一部分は、当該絶縁膜を介して他の導電部に対向している。これにより、第2金属膜の一部分と他の導電部の間には、絶縁膜を誘電体とする補助容量が形成される。よって、この液晶装置では、画素電極の容量に補助容量が付加されるので、その分、画素電極の容量を実質的に大きくすることができ、表示品位が低下するのを防止できる。   According to this aspect, the two-terminal element includes a first metal film made of, for example, tantalum, an insulating film formed on the first metal film, for example, made of tantalum oxide, a part on the insulating film, and the like. The second metal film is formed at a position corresponding to a part on the other conductive part in the vicinity of the first metal film and made of, for example, chromium. An insulating film is formed at least on the other conductive portion, and a part of the second metal film faces the other conductive portion through the insulating film. As a result, an auxiliary capacitor using the insulating film as a dielectric is formed between a part of the second metal film and the other conductive portion. Therefore, in this liquid crystal device, since the auxiliary capacitance is added to the capacitance of the pixel electrode, the capacitance of the pixel electrode can be substantially increased correspondingly, and the display quality can be prevented from deteriorating.

好適な例では、前記透明導電部の各々は、前記画素領域内において前記第2金属膜の一部上から当該第2金属膜が形成されていない前記他の導電部に対応する位置近傍まで延在するように形成されている。これにより、第1の電極側から、二端子素子を介して透明電極部の各々に所定電位を印加することができ、当該透明電極部の各々と、導電部の各々との間に横電界を発生させることができる。   In a preferred example, each of the transparent conductive parts extends from a part of the second metal film to a position corresponding to the other conductive part in which the second metal film is not formed in the pixel region. It is formed to exist. Accordingly, a predetermined potential can be applied to each of the transparent electrode portions from the first electrode side via the two-terminal element, and a lateral electric field is generated between each of the transparent electrode portions and each of the conductive portions. Can be generated.

また、上記の液晶装置を表示部として備える電子機器を構成することができる。   In addition, an electronic device including the above liquid crystal device as a display portion can be formed.

以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。尚、以下の実施形態は、本発明を液晶表示装置に適用したものである。   The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following embodiments, the present invention is applied to a liquid crystal display device.

[液晶表示装置の構成]
まず、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の構成について説明する。図1は、本発明の液晶表示装置100の概略構成を模式的に示す平面図である。図1では、主として、液晶表示装置100の電極及び配線の構成を平面図として示している。ここに、本発明の液晶表示装置100は、TFD(Thin Film Diode)素子を用いたアクティブマトリクス駆動方式の液晶表示装置である。また、この液晶表示装置100は、電極が形成された基板側において、当該基板面に略平行な方向に電界を発生させて液晶分子の配向を制御する、IPS方式などのいわゆる横電界方式の液晶表示装置である。このため、この液晶表示装置100では高い視野角を得ることが可能となっている。さらに、この液晶表示装置100は、バックライトなどの照明装置を用いた透過型の液晶表示装置でもある。
[Configuration of liquid crystal display device]
First, the configuration of the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a plan view schematically showing a schematic configuration of a liquid crystal display device 100 of the present invention. In FIG. 1, the configuration of electrodes and wirings of the liquid crystal display device 100 is mainly shown as a plan view. Here, the liquid crystal display device 100 of the present invention is an active matrix drive type liquid crystal display device using a TFD (Thin Film Diode) element. Further, the liquid crystal display device 100 is a so-called lateral electric field type liquid crystal such as an IPS type that controls the orientation of liquid crystal molecules by generating an electric field in a direction substantially parallel to the substrate surface on the substrate side on which the electrodes are formed. It is a display device. For this reason, this liquid crystal display device 100 can obtain a high viewing angle. Further, the liquid crystal display device 100 is also a transmissive liquid crystal display device using an illumination device such as a backlight.

図2は、図1の液晶表示装置100において、1つの横列をなすデータ線32の要素である電極部32xを通る切断線A−A’に沿った概略断面図である。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along a cutting line A-A ′ passing through the electrode portion 32 x that is an element of one data line 32 in the liquid crystal display device 100 of FIG. 1.

まず、図2を参照して、液晶表示装置100の断面構成について説明する。そして、その後、素子基板91の電極及び配線の構成について説明する。本実施形態では、素子基板91が電極及び配線を有する基板を構成している。   First, a cross-sectional configuration of the liquid crystal display device 100 will be described with reference to FIG. Thereafter, the configuration of the electrodes and wirings of the element substrate 91 will be described. In the present embodiment, the element substrate 91 constitutes a substrate having electrodes and wiring.

図2において、液晶表示装置100は、素子基板91と、その素子基板91に対向して配置されるカラーフィルタ基板92とが枠状のシール部材3を介して貼り合わされ、その内部に、例えばホモジニアス配列された液晶が封入されて液晶層4が形成されてなる。また、この液晶表示装置100では、素子基板91とカラーフィルタ基板92の間に図示しないスペーサが封入されており、このスペーサにより両基板が一定の間隔に規定されている。   In FIG. 2, the liquid crystal display device 100 includes an element substrate 91 and a color filter substrate 92 disposed so as to face the element substrate 91 via a frame-shaped seal member 3. The liquid crystal layer 4 is formed by enclosing the aligned liquid crystal. Further, in the liquid crystal display device 100, a spacer (not shown) is sealed between the element substrate 91 and the color filter substrate 92, and the both substrates are defined at a constant interval by the spacer.

下側基板1の内面上には、サブ画素領域SG毎に、データ線32の要素である、第1導電部32a、第2導電部32b、第3導電部32c及び第4導電部32dなどを含む1つの電極部32xが形成されている。第1導電部32aと第2導電部32b、第2導電部32bと第3導電部32c、及び第3導電部32cと第4導電部32dは、それぞれ一定の間隔をおいて下側基板1の内面上に配置されている。電極部32xを含むデータ線32はタンタル等にて形成されている。なお、データ線32の表面上には絶縁膜が形成されているが、図2では、便宜上、その絶縁膜の図示は省略している。各サブ画素領域SGの隅の位置付近に対応する下側基板1の内面上には、二端子素子の一例としてのTFD素子21が形成されている。また、下側基板1の内面上において、第1導電部32aと第2導電部32bの間、第2導電部32bと第3導電部32cの間、及び第3導電部32cと第4導電部32dの間には、それぞれ画素電極10の要素である第1透明電極部10a、第2透明電極部10b及び第3透明電極部10cが形成されている。第1透明電極部10a、第2透明電極部10b及び第3透明電極部10cにより、1つの画素電極10が構成される。また、下側基板1の内面上の左右周縁部には走査線31(「配線」又は「引き回し配線」とも称される)が形成されている。走査線31はクロムにて形成されている。下側基板1、データ線32、TFD素子21、画素電極10及び走査線31の内面上には、配向膜17が形成されている。   On the inner surface of the lower substrate 1, the first conductive portion 32a, the second conductive portion 32b, the third conductive portion 32c, the fourth conductive portion 32d, and the like, which are elements of the data line 32, are provided for each sub-pixel region SG. One electrode part 32x including it is formed. The first conductive portion 32a and the second conductive portion 32b, the second conductive portion 32b and the third conductive portion 32c, and the third conductive portion 32c and the fourth conductive portion 32d are respectively separated from the lower substrate 1 by a predetermined interval. It is arranged on the inner surface. The data line 32 including the electrode part 32x is formed of tantalum or the like. Although an insulating film is formed on the surface of the data line 32, the insulating film is not shown in FIG. 2 for convenience. A TFD element 21 as an example of a two-terminal element is formed on the inner surface of the lower substrate 1 corresponding to the vicinity of the corner position of each sub-pixel region SG. Further, on the inner surface of the lower substrate 1, between the first conductive portion 32 a and the second conductive portion 32 b, between the second conductive portion 32 b and the third conductive portion 32 c, and between the third conductive portion 32 c and the fourth conductive portion. A first transparent electrode portion 10a, a second transparent electrode portion 10b, and a third transparent electrode portion 10c, which are elements of the pixel electrode 10, are formed between 32d. One pixel electrode 10 is constituted by the first transparent electrode portion 10a, the second transparent electrode portion 10b, and the third transparent electrode portion 10c. In addition, scanning lines 31 (also referred to as “wiring” or “leading wiring”) are formed on the left and right peripheral edge portions on the inner surface of the lower substrate 1. The scanning line 31 is formed of chrome. An alignment film 17 is formed on the inner surfaces of the lower substrate 1, the data line 32, the TFD element 21, the pixel electrode 10 and the scanning line 31.

一方、上側基板2の内面上には、サブ画素領域SG毎にR、G、Bの三色のいずれかからなる着色層6R、6G、及び6Bが形成されている。そして、着色層6R、6G、及び6Bは、それぞれサブ画素領域SG内の電極部32x及び画素電極10に対向している。着色層6R、6G及び6Bによりカラーフィルタが構成される。画素領域Gは、R、G、Bのサブ画素から構成されるカラー1画素分の領域を示している。なお、以下の説明において、色を問わずに着色層を特定する場合は単に「着色層6」と記し、色を区別して着色層を特定する場合は「着色層6R」などと記す。   On the other hand, on the inner surface of the upper substrate 2, colored layers 6R, 6G, and 6B made of one of the three colors R, G, and B are formed for each sub-pixel region SG. The colored layers 6R, 6G, and 6B are opposed to the electrode portion 32x and the pixel electrode 10 in the sub-pixel region SG, respectively. A color filter is constituted by the colored layers 6R, 6G, and 6B. A pixel region G indicates a region for one color pixel composed of R, G, and B sub-pixels. In the following description, when a colored layer is specified regardless of color, it is simply referred to as “colored layer 6”, and when a colored layer is specified by distinguishing colors, it is described as “colored layer 6R”.

また、各サブ画素領域SGの間に対応する上側基板2の内面上には、隣接するサブ画素領域SGを隔て、一方のサブ画素領域SGから他方のサブ画素領域SGへの光の混入を防止するため黒色遮光層BMが形成されている。この黒色遮光層BMは、黒色の樹脂材料、例えば黒色の顔料を樹脂中に分散させたもの等を用いることが好ましい。なお、本発明では、これに代えて、R、G、Bの着色層が相互に重ね合わされて形成された重ね遮光層(図示略)を用いてもよい。   Further, on the inner surface of the upper substrate 2 corresponding to each sub pixel region SG, adjacent sub pixel regions SG are separated to prevent light from being mixed from one sub pixel region SG to the other sub pixel region SG. Therefore, a black light shielding layer BM is formed. The black light shielding layer BM is preferably made of a black resin material, for example, a black pigment dispersed in a resin. In the present invention, instead of this, an overlapping light shielding layer (not shown) formed by overlapping R, G, and B colored layers may be used.

着色層6及び黒色遮光層BMの内面上には、アクリル樹脂等からなるオーバーコート層18が形成されている。このオーバーコート層18は、液晶表示装置100の製造工程中に使用される薬剤等による腐食や汚染から、着色層6等を保護する機能を有している。   An overcoat layer 18 made of acrylic resin or the like is formed on the inner surfaces of the colored layer 6 and the black light shielding layer BM. The overcoat layer 18 has a function of protecting the colored layer 6 and the like from corrosion and contamination due to chemicals and the like used during the manufacturing process of the liquid crystal display device 100.

下側基板1の外面上には、偏光板14が配置されている一方、上側基板2の外面上には、偏光板12が配置されている。また、偏光板14の下側には、照明装置としてのバックライト15が配置されている。バックライト15は、例えば、LED(Light Emitting Diode)等といった点状光源や、冷陰極蛍光管等といった線状光源と導光板を組み合わせたものなどが好適である。   A polarizing plate 14 is disposed on the outer surface of the lower substrate 1, while a polarizing plate 12 is disposed on the outer surface of the upper substrate 2. A backlight 15 as an illumination device is disposed below the polarizing plate 14. The backlight 15 is preferably a point light source such as an LED (Light Emitting Diode) or a combination of a linear light source such as a cold cathode fluorescent tube and a light guide plate.

さて、本実施形態の液晶表示装置100において透過型表示がなされる場合、バックライト15から出射した照明光は、図2に示す経路Tに沿って進行し、画素電極10及び着色層6等を通過して観察者に至る。この場合、その照明光は、着色層6を透過することにより所定の色相及び明るさを呈する。こうして、所望のカラー表示画像が観察者により視認される。   Now, when transmissive display is performed in the liquid crystal display device 100 of the present embodiment, the illumination light emitted from the backlight 15 travels along the path T shown in FIG. 2, and passes through the pixel electrode 10 and the colored layer 6 and the like. Pass through to the observer. In this case, the illumination light has a predetermined hue and brightness by passing through the colored layer 6. Thus, a desired color display image is visually recognized by the observer.

(素子基板の電極及び配線構成)
次に、図1及び図3を参照して、本実施形態の素子基板91の電極及び配線の構成について説明する。図3は、素子基板91を正面方向(即ち、図2における上方)から観察したときの素子基板91の電極及び配線などの構成を平面図として示す。また、図3において、電極や配線以外のその他の要素は説明の便宜上図示を省略している。
(Element substrate electrode and wiring configuration)
Next, with reference to FIGS. 1 and 3, the configuration of the electrodes and wirings of the element substrate 91 of the present embodiment will be described. FIG. 3 is a plan view showing the configuration of electrodes and wirings of the element substrate 91 when the element substrate 91 is observed from the front direction (that is, the upper side in FIG. 2). In FIG. 3, other elements other than the electrodes and wiring are not shown for convenience of explanation.

図1において、紙面縦方向に適宜の間隔をおいて相隣接する走査線31bの間の領域と、紙面縦方向に延在するデータ線32とが交差する付近の領域が表示の最小単位であるサブ画素領域SGを構成する。そして、このサブ画素領域SGが紙面縦方向及び紙面横方向に複数個、マトリクス状に並べられた領域が有効表示領域V(2点鎖線により囲まれる領域)である。この有効表示領域Vに、文字、数字、図形等の画像が表示される。なお、図1及び図3において、液晶表示装置100の外周と、有効表示領域Vとによって区画された領域は、画像表示に寄与しない額縁領域38である。   In FIG. 1, a region near a scanning line 31b adjacent to each other at an appropriate interval in the vertical direction on the paper and a data line 32 extending in the vertical direction on the paper are the minimum display unit. A sub-pixel region SG is configured. An area in which a plurality of sub-pixel areas SG are arranged in a matrix in the vertical direction and the horizontal direction in the drawing is an effective display area V (area surrounded by a two-dot chain line). In the effective display area V, images such as letters, numbers, and figures are displayed. 1 and 3, a region defined by the outer periphery of the liquid crystal display device 100 and the effective display region V is a frame region 38 that does not contribute to image display.

素子基板91は、TFD素子21、複数の画素電極10、複数の走査線31、複数のデータ線32、YドライバIC33、XドライバIC34、及び複数の外部接続用端子35などを備えている。   The element substrate 91 includes a TFD element 21, a plurality of pixel electrodes 10, a plurality of scanning lines 31, a plurality of data lines 32, a Y driver IC 33, an X driver IC 34, a plurality of external connection terminals 35, and the like.

素子基板91の張り出し領域36上には、YドライバIC33及びXドライバIC34が例えばACF(Anisotropic Conductive Film:異方性導電膜)を介して、それぞれ実装されている。なお、図3において、素子基板91の張り出し領域36側の辺91aから反対側の辺91cへ向かう方向をY方向とし、辺91dから辺91bへ向かう方向をX方向とする。   On the projecting region 36 of the element substrate 91, a Y driver IC 33 and an X driver IC 34 are mounted via, for example, an ACF (Anisotropic Conductive Film). In FIG. 3, the direction from the side 91a on the projecting region 36 side of the element substrate 91 to the opposite side 91c is defined as the Y direction, and the direction from the side 91d toward the side 91b is defined as the X direction.

張り出し領域36上には、複数の外部接続用端子35が形成されている。YドライバIC33及びXドライバIC34の各入力端子(図示略)は、導電性を有するバンプを介して、その複数の外部用接続端子35にそれぞれ接続されている。外部接続用端子35は、ACFや半田などを介して、図示しない配線基板、例えばフレキシブルプリント基板に接続されている。これにより、例えば携帯電話や情報端末などの電子機器から液晶表示装置100へ信号や電力が供給される。   A plurality of external connection terminals 35 are formed on the overhang region 36. Each input terminal (not shown) of the Y driver IC 33 and the X driver IC 34 is connected to the plurality of external connection terminals 35 through conductive bumps. The external connection terminal 35 is connected to a wiring board (not shown) such as a flexible printed board via ACF or solder. Thereby, for example, signals and power are supplied to the liquid crystal display device 100 from an electronic device such as a mobile phone or an information terminal.

YドライバIC33の出力端子(図示略)は、導電性を有するバンプを介して、複数の走査線31に接続されている。YドライバIC33は、複数の走査線31の駆動を担う。すなわち、YドライバIC33によって、1垂直走査期間において走査線31が順次排他的に1本ずつ選択されるとともに、選択された走査線31には、選択電圧の走査信号が供給される一方、他の非選択の走査線31には、非選択電圧の走査信号が供給される。   The output terminal (not shown) of the Y driver IC 33 is connected to the plurality of scanning lines 31 through conductive bumps. The Y driver IC 33 is responsible for driving the plurality of scanning lines 31. That is, the Y driver IC 33 sequentially selects one scanning line 31 at a time in one vertical scanning period, and a scanning signal of the selected voltage is supplied to the selected scanning line 31 while the other scanning lines 31 A scanning signal having a non-select voltage is supplied to the non-selected scanning line 31.

XドライバIC34の出力端子(図示略)は、導電性を有するバンプを介して、複数のデータ線32に接続されている。XドライバIC34は、複数のデータ線32の駆動を担う。すなわち、XドライバIC34は、YドライバIC33により選択された走査線31に対応する画素電極10に対し、表示内容に応じたデータ信号を、それぞれ対応するデータ線32を介して供給するものである。   The output terminal (not shown) of the X driver IC 34 is connected to the plurality of data lines 32 through conductive bumps. The X driver IC 34 is responsible for driving the plurality of data lines 32. That is, the X driver IC 34 supplies a data signal corresponding to the display content to the pixel electrode 10 corresponding to the scanning line 31 selected by the Y driver IC 33 via the corresponding data line 32.

複数のデータ線32は、張り出し領域36から有効表示領域VにかけてY方向に形成されていると共に、各データ線32は一定の間隔をおいて形成されている。各データ線32は、サブ画素領域SG毎に1つの電極部32xを有している。   The plurality of data lines 32 are formed in the Y direction from the overhanging area 36 to the effective display area V, and the data lines 32 are formed at regular intervals. Each data line 32 has one electrode portion 32x for each sub-pixel region SG.

複数の走査線31は、本線部分31aと、その本線部分31aに対して略直角に折れ曲がる折れ曲がり部分31bとにより構成されている。各本線部分31aは、額縁領域38内を張り出し領域36からY方向に形成されている。一方、各折れ曲がり部分31bは、図示のように左辺側と右辺側との間で交互に額縁領域38から有効表示領域V内にかけて形成されている。また、各折れ曲がり部分31bは、適宜の間隔をおいて、対応する各TFD素子21に電気的に接続されており、各TFD素子21は、対応する各画素電極10に電気的に接続されている。そして、以上に述べた素子基板91と、カラーフィルタ基板92とをシール部材3を介して貼り合わせた状態が図1に示されている。   The plurality of scanning lines 31 includes a main line portion 31a and a bent portion 31b that bends at substantially right angles to the main line portion 31a. Each main line portion 31 a is formed in the Y direction from the projecting region 36 in the frame region 38. On the other hand, each bent portion 31b is formed from the frame region 38 to the effective display region V alternately between the left side and the right side as shown in the figure. In addition, each bent portion 31 b is electrically connected to each corresponding TFD element 21 at an appropriate interval, and each TFD element 21 is electrically connected to each corresponding pixel electrode 10. . FIG. 1 shows a state in which the element substrate 91 and the color filter substrate 92 described above are bonded together via the seal member 3.

かかる液晶表示装置100では、YドライバIC33から複数の走査線31に走査信号が、XドライバIC34から複数のデータ線32にデータ信号が夫々出力されると、図2に示すように、当該データ線32の電極部32xと画素電極10の間で、素子基板91の基板面に略平行な方向に横電界Eが生じて、液晶分子の配向が制御され表示状態が制御される。   In the liquid crystal display device 100, when a scanning signal is output from the Y driver IC 33 to the plurality of scanning lines 31, and a data signal is output from the X driver IC 34 to the plurality of data lines 32, as shown in FIG. A horizontal electric field E is generated between the electrode portion 32x of 32 and the pixel electrode 10 in a direction substantially parallel to the substrate surface of the element substrate 91, and the alignment of liquid crystal molecules is controlled to control the display state.

(素子基板の構成)
次に、図4乃至図6を参照して、本発明の特徴をなすデータ線32を含む素子基板91の構成について説明する。図4(a)は、素子基板91を正面方向(即ち、図2における上方)から観察したときの1画素分に対応する複数の電極部32x等を拡大して示す部分平面図である。図4(a)において、データ線32等の表面上には絶縁膜323が形成されているが、便宜上、その図示は省略している。また、図4(a)において、一点鎖線にて囲まれる領域は、1つのサブ画素領域SGを示している。図4(b)は、1つの電極部32x等に対応する等価回路を示している。なお、本発明の液晶表示装置100は高精細パネルであるため、図4(b)の等価回路では、電極部32xの要素である本線部32y並びに第5導電部32e及び第6導電部32fの抵抗は無視し、同じく電極部32xの要素である第1導電部32a、第2導電部32b、第3導電部32c及び第4導電部32dの抵抗は等しいものとしている(後述の図7も略同様)。図5は、図4(a)における切断線B−B’に沿った部分断面図である。図6は、図4(a)における切断線X1−X2に沿った部分断面図であり、特にTFD素子21付近の部分断面図である。
(Configuration of element substrate)
Next, the configuration of the element substrate 91 including the data line 32 that characterizes the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 4A is an enlarged partial plan view showing a plurality of electrode portions 32x and the like corresponding to one pixel when the element substrate 91 is observed from the front direction (that is, the upper side in FIG. 2). In FIG. 4A, an insulating film 323 is formed on the surface of the data line 32 and the like, but illustration thereof is omitted for convenience. In FIG. 4A, a region surrounded by an alternate long and short dash line indicates one subpixel region SG. FIG. 4B shows an equivalent circuit corresponding to one electrode portion 32x and the like. Since the liquid crystal display device 100 of the present invention is a high-definition panel, in the equivalent circuit of FIG. 4B, the main line portion 32y, the fifth conductive portion 32e, and the sixth conductive portion 32f, which are elements of the electrode portion 32x. The resistance is ignored, and the first conductive portion 32a, the second conductive portion 32b, the third conductive portion 32c, and the fourth conductive portion 32d, which are elements of the electrode portion 32x, are assumed to have the same resistance (FIG. 7 described later is also omitted). The same). FIG. 5 is a partial cross-sectional view taken along a cutting line BB ′ in FIG. FIG. 6 is a partial cross-sectional view taken along the cutting line X1-X2 in FIG. 4A, and particularly a partial cross-sectional view near the TFD element 21.

下側基板1上には、複数のデータ線32、複数の走査線31、複数のTFD素子21、複数の画素電極10、及び補助電極部336aが形成されている。なお、補助電極部336aは、TFD素子21の要素である第2金属膜336の一部分(破線領域に囲まれる部分に相当)を用いて構成される。なお、以下では、上記において説明した要素及び構成等は省略又は簡略化して説明する。   On the lower substrate 1, a plurality of data lines 32, a plurality of scanning lines 31, a plurality of TFD elements 21, a plurality of pixel electrodes 10, and an auxiliary electrode portion 336a are formed. The auxiliary electrode portion 336a is configured using a part of the second metal film 336 (corresponding to a part surrounded by a broken line region) that is an element of the TFD element 21. In the following description, the elements and configurations described above are omitted or simplified.

各データ線32は、図4(a)に示すように、Y方向に延在している。各データ線32上には、図示しない絶縁膜323が形成されている(なお、図5では、各電極部32x上にこの絶縁膜323が形成されている様子が示されている)。この絶縁膜323は、約1500Å〜2000Å程度の厚さに形成されている。各データ線32は、図4(a)に示すように、サブ画素領域SG内に1つの電極部32xと、Y方向に相隣接する電極部32x同士を接続する、直線状の本線部32yとを備えている。即ち、各データ線32は、相隣接する複数の電極部32xを本線部32yによって接続した構造を有している。各電極部32xは、Y方向に延在する略ストライプ状の第1導電部32a、第2導電部32b、第3導電部32c及び第4導電部32dと、X方向に延在する第5導電部32e及び第6導電部32fとを更に備えている。ここで、第5導電部32e及び第6導電部32fは、夫々破線にて囲まれる領域である。第1導電部32aと第2導電部32bの間、第2導電部32bと第3導電部32cの間、第3導電部32cと第4導電部32dの間には、夫々間隙40が形成されている。   Each data line 32 extends in the Y direction as shown in FIG. An insulating film 323 (not shown) is formed on each data line 32 (Note that FIG. 5 shows a state in which this insulating film 323 is formed on each electrode portion 32x). The insulating film 323 is formed to a thickness of about 1500 to 2000 mm. As shown in FIG. 4A, each data line 32 includes a linear main line portion 32y that connects one electrode portion 32x in the sub-pixel region SG and the electrode portions 32x adjacent to each other in the Y direction. It has. That is, each data line 32 has a structure in which a plurality of adjacent electrode portions 32x are connected by a main line portion 32y. Each electrode portion 32x includes a first conductive portion 32a, a second conductive portion 32b, a third conductive portion 32c, and a fourth conductive portion 32d that are substantially striped extending in the Y direction, and a fifth conductive portion extending in the X direction. A portion 32e and a sixth conductive portion 32f are further provided. Here, the fifth conductive portion 32e and the sixth conductive portion 32f are regions surrounded by broken lines, respectively. Gaps 40 are formed between the first conductive portion 32a and the second conductive portion 32b, between the second conductive portion 32b and the third conductive portion 32c, and between the third conductive portion 32c and the fourth conductive portion 32d, respectively. ing.

ここで、図4(a)に示す1つの電極部32xxに着目した場合、当該電極部32xxの下側に位置する本線部32yの一端側は、当該電極部32xxの紙面下側に位置する他の電極部32xの第6導電部32fに繋がっていると共に、当該本線部32yの他端側は当該電極部32xxの第5導電部32eの一端側に繋がっている。当該第5導電部32eの他端側は、第1導電部32a、第2導電部32b、第3導電部32c及び第4導電部32dの一端側に繋がっていると共に、その各第1導電部32a、第2導電部32b、第3導電部32c及び第4導電部32dの他端側は、第6導電部32fの一端側に繋がっている。当該第6導電部32fの他端側は、当該電極部32xxの上側に位置する本線部32yの一端側に繋がっていると共に、当該本線部32yの他端側は、電極部32xxの紙面上側に位置する他の電極部32xの第5導電部32eの一端側に繋がっている。   Here, when attention is paid to one electrode portion 32xx shown in FIG. 4A, one end side of the main line portion 32y located below the electrode portion 32xx is the other one located below the paper surface of the electrode portion 32xx. The other end side of the main line portion 32y is connected to one end side of the fifth conductive portion 32e of the electrode portion 32xx. The other end side of the fifth conductive portion 32e is connected to one end side of the first conductive portion 32a, the second conductive portion 32b, the third conductive portion 32c, and the fourth conductive portion 32d, and each of the first conductive portions. The other end sides of 32a, the second conductive portion 32b, the third conductive portion 32c, and the fourth conductive portion 32d are connected to one end side of the sixth conductive portion 32f. The other end side of the sixth conductive portion 32f is connected to one end side of the main line portion 32y located above the electrode portion 32xx, and the other end side of the main line portion 32y is on the upper side of the electrode portion 32xx. The other electrode part 32x located is connected to one end side of the fifth conductive part 32e.

各走査線31の要素である各折れ曲がり部分31bは、図4(a)に示すように、Y方向に適宜の間隔をおいて、X方向に延在してなる。そして、相隣接する折れ曲がり部分31bの間には、上記した電極部32xがサブ画素領域SG毎に形成されている。   As shown in FIG. 4A, each bent portion 31b, which is an element of each scanning line 31, extends in the X direction at an appropriate interval in the Y direction. The above-described electrode portion 32x is formed for each sub-pixel region SG between the adjacent bent portions 31b.

各画素電極10は、サブ画素領域SG毎に、第1透明電極部10a、第2透明電極部10b及び第3透明電極部10cを有している。第1透明電極部10aは、Y方向に延在するストライプ状の第1部分10abと、L字状の第2部分10ac(L字状の破線領域に相当する部分)とを有している。第2透明電極部10b及び第3透明電極部10cは、各々Y方向に延在してなるストライプ状の電極である。   Each pixel electrode 10 has a first transparent electrode portion 10a, a second transparent electrode portion 10b, and a third transparent electrode portion 10c for each sub-pixel region SG. The first transparent electrode portion 10a includes a stripe-shaped first portion 10ab extending in the Y direction and an L-shaped second portion 10ac (a portion corresponding to an L-shaped broken line region). The second transparent electrode portion 10b and the third transparent electrode portion 10c are stripe-like electrodes each extending in the Y direction.

具体的には、第1透明電極部10aの第1部分10abは、下側基板1の内面上において、第1導電部32aと第2導電部32bの間の間隙40内の略中央に、且つ、第6導電部32fの一辺側から第5導電部32eの一辺側にかけて形成されている。上記したように電極部32x(電極部32xxも同様)の要素たる、第5導電部32e及び第6導電部32fの表面上には絶縁膜323が形成されているため、第1部分10abと第5導電部32e及び第6導電部32fとは電気的に接続されていない。第1透明電極部10aの第2部分10abは、表面に絶縁膜323が形成された第5導電部32eの一辺側から第2金属膜336上にかけてL字状に形成されている。このため、第1透明電極部10aは、第2金属膜336の一部分である補助電極部336aと電気的に接続されている。第2透明電極部10bは、下側基板1の内面上において、第2導電部32bと第3導電部32cの間の間隙40内の略中央に、且つ、第6導電部32fの一辺側から第2金属膜336上にかけて形成されている。このため、第2透明電極部10bは、第2金属膜336の一部分である補助電極部336aと電気的に接続されている。なお、第2透明電極部10bと第5導電部32e及び第6導電部32fとの間には絶縁膜323が介在しているため、第2透明電極部10bと第5導電部32e及び第6導電部32fとは電気的に接続されていない。第3透明電極部10cは、下側基板1の内面上において、第3導電部32cと第4導電部32dの間の間隙40内の略中央に、且つ、第6導電部32fの一辺側から第2金属膜336上にかけて形成されている。このため、第3透明電極部10cは、第2金属膜336の一部分である補助電極部336aと電気的に接続されている。なお、第3透明電極部10cと第5導電部32e及び第6導電部32fとの間には絶縁膜323が介在しているため、第3透明電極部10cと第5導電部32e及び第6導電部32fとは電気的に接続されていない。   Specifically, the first portion 10ab of the first transparent electrode portion 10a is on the inner surface of the lower substrate 1 at a substantially center in the gap 40 between the first conductive portion 32a and the second conductive portion 32b, and The first conductive portion 32f is formed from one side to the fifth conductive portion 32e. As described above, since the insulating film 323 is formed on the surfaces of the fifth conductive portion 32e and the sixth conductive portion 32f, which are elements of the electrode portion 32x (the same applies to the electrode portion 32xx), the first portion 10ab and the first portion The fifth conductive portion 32e and the sixth conductive portion 32f are not electrically connected. The second portion 10ab of the first transparent electrode portion 10a is formed in an L shape from one side of the fifth conductive portion 32e having the insulating film 323 formed on the surface to the second metal film 336. Therefore, the first transparent electrode portion 10a is electrically connected to the auxiliary electrode portion 336a that is a part of the second metal film 336. The second transparent electrode portion 10b is formed on the inner surface of the lower substrate 1 at the approximate center in the gap 40 between the second conductive portion 32b and the third conductive portion 32c and from one side of the sixth conductive portion 32f. It is formed over the second metal film 336. Therefore, the second transparent electrode portion 10b is electrically connected to the auxiliary electrode portion 336a that is a part of the second metal film 336. Since the insulating film 323 is interposed between the second transparent electrode portion 10b and the fifth conductive portion 32e and the sixth conductive portion 32f, the second transparent electrode portion 10b, the fifth conductive portion 32e and the sixth conductive portion 32f are interposed. The conductive part 32f is not electrically connected. The third transparent electrode portion 10c is located on the inner surface of the lower substrate 1 at the approximate center in the gap 40 between the third conductive portion 32c and the fourth conductive portion 32d and from one side of the sixth conductive portion 32f. It is formed over the second metal film 336. For this reason, the third transparent electrode portion 10 c is electrically connected to the auxiliary electrode portion 336 a that is a part of the second metal film 336. Since the insulating film 323 is interposed between the third transparent electrode portion 10c and the fifth conductive portion 32e and the sixth conductive portion 32f, the third transparent electrode portion 10c, the fifth conductive portion 32e and the sixth conductive portion 32f are interposed. The conductive part 32f is not electrically connected.

各TFD素子21は、図4(a)に示すように、各サブ画素領域SGの隅の位置近傍に、且つ、その付近に位置する各走査線31の折れ曲がり部分31b上に形成されている。換言すれば、各TFD素子21は、データ線32と折れ曲がり部分31bとの交差する位置近傍に形成されている。   As shown in FIG. 4A, each TFD element 21 is formed in the vicinity of the corner position of each sub-pixel region SG and on the bent portion 31b of each scanning line 31 positioned in the vicinity thereof. In other words, each TFD element 21 is formed in the vicinity of the position where the data line 32 and the bent portion 31b intersect.

TFD素子21は、図6に示すように、第1のTFD素子21a及び第2のTFD素子21bにより構成される。第1のTFD素子21a及び第2のTFD素子21bは、Ta(タンタル)などからなる島状の第1金属膜322と、この第1金属膜322の表面を陽極酸化することによって形成されたTa等からなる絶縁膜323と、この表面に形成されて相互に離間した第2金属膜316、336とを有する。このうち、第2金属膜316、336は、クロム等の同一導電膜をパターニングしたものであり、前者の第2金属膜316は、走査線31の折れ曲がり部分31bが用いられる。一方、後者の第2金属膜336の一部分は、補助電極部336aとしても用いられる。 As shown in FIG. 6, the TFD element 21 includes a first TFD element 21a and a second TFD element 21b. The first TFD element 21a and the second TFD element 21b include an island-shaped first metal film 322 made of Ta (tantalum) or the like, and Ta formed by anodizing the surface of the first metal film 322. An insulating film 323 made of 2 O 5 or the like, and second metal films 316 and 336 formed on the surface and spaced apart from each other are included. Among these, the second metal films 316 and 336 are formed by patterning the same conductive film such as chromium, and the bent portion 31 b of the scanning line 31 is used for the former second metal film 316. On the other hand, a part of the latter second metal film 336 is also used as the auxiliary electrode portion 336a.

ここで、TFD素子21のうち、第1のTFD素子21aは、走査線31の折れ曲がり部分31b側からみると順番に、第2金属膜316/絶縁膜323/第1金属膜322となって、金属/絶縁体/金属の構造を採るため、その電流−電圧特性は正負双方向にわたって非線形となる。一方、第2のTFD素子21bは、走査線31の折れ曲がり部分31b側からみると順番に、第1金属膜322/絶縁膜323/第2金属膜336となって、第1のTFD素子21aとは逆向きの構造を採る。このため、第2のTFD素子21bの電流−電圧特性は、第1のTFD素子21aの電流−電圧特性を、原点を中心に点対称化したものとなる。その結果、TFD素子21は、2つのTFDを互いに逆向きに直列接続した形となるため、1つの素子を用いる場合と比べると、電流−電圧の非線形特性が正負双方向にわたって対称化されることになる。   Here, among the TFD elements 21, the first TFD element 21 a becomes the second metal film 316 / insulating film 323 / first metal film 322 in order when viewed from the bent portion 31 b side of the scanning line 31. Since the metal / insulator / metal structure is adopted, the current-voltage characteristic is nonlinear in both positive and negative directions. On the other hand, the second TFD element 21b becomes a first metal film 322 / insulating film 323 / second metal film 336 in order when viewed from the bent portion 31b side of the scanning line 31, and the first TFD element 21a. Takes the opposite structure. For this reason, the current-voltage characteristics of the second TFD element 21b are obtained by making the current-voltage characteristics of the first TFD element 21a point-symmetric with respect to the origin. As a result, the TFD element 21 has a shape in which two TFDs are connected in series in opposite directions. Therefore, the current-voltage nonlinear characteristic is symmetric in both positive and negative directions compared to the case of using one element. become.

また、図6に示すように、補助電極部336aとデータ線32の第5導電部32eとは絶縁膜323を介して対向している。このため、補助電極部336aと第5導電部32eの間には絶縁膜323を誘電体とする補助容量C1が形成される。また、第1透明電極部10aの第2部分10ac、第2透明電極部10b及び第3透明電極部10cの各一辺側は補助電極部336a上に形成されており、上記したように、第1透明電極部10aの第2部分10ac、第2透明電極部10b及び第3透明電極部10cは補助電極部336aと電気的に接続されている。   Further, as shown in FIG. 6, the auxiliary electrode portion 336 a and the fifth conductive portion 32 e of the data line 32 face each other with an insulating film 323 interposed therebetween. Therefore, an auxiliary capacitor C1 using the insulating film 323 as a dielectric is formed between the auxiliary electrode part 336a and the fifth conductive part 32e. Further, each side of the second portion 10ac, the second transparent electrode portion 10b, and the third transparent electrode portion 10c of the first transparent electrode portion 10a is formed on the auxiliary electrode portion 336a, and as described above, The second portion 10ac, the second transparent electrode portion 10b, and the third transparent electrode portion 10c of the transparent electrode portion 10a are electrically connected to the auxiliary electrode portion 336a.

以上の構成を有する素子基板91では、YドライバIC33から出力された走査信号は、図1及び図3に示すように、本線部分31a、折れ曲がり部分31b、TFD素子21、及び画素電極10の順に出力されると共に、XドライバIC34から出力されたデータ信号は、図1、図3及び図4等に示すように、本線部32y、電極部32x、本線部32yの順に出力される。これにより、図5に示すように、素子基板91等の基板面と略平行な方向に横電界Eが生じ、液晶層4の液晶分子の配向が制御される。   In the element substrate 91 having the above configuration, the scanning signal output from the Y driver IC 33 is output in the order of the main line portion 31a, the bent portion 31b, the TFD element 21, and the pixel electrode 10, as shown in FIGS. At the same time, the data signal output from the X driver IC 34 is output in the order of the main line portion 32y, the electrode portion 32x, and the main line portion 32y, as shown in FIGS. As a result, as shown in FIG. 5, a lateral electric field E is generated in a direction substantially parallel to the substrate surface of the element substrate 91 and the like, and the orientation of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 4 is controlled.

次に、比較例と比較した本発明の液晶表示装置100の特有の作用効果について説明する。   Next, the specific operational effects of the liquid crystal display device 100 of the present invention compared with the comparative example will be described.

比較例として、TFT素子を有するIPS方式の液晶表示装置の一例では、例えば、素子基板上に、ゲート電極とデータ線が略直交するように形成され、これらの交差部にマトリクス状にTFT素子が配置され、各サブ画素領域内において櫛歯状の画素電極と櫛歯状の共通電極(共通配線)とが互いに噛み合うように配置されている。即ち、かかる液晶表示装置では、TFT素子を適用することとしているため、少なくともゲート線、データ線及び共通電極(共通配線)の3つの配線を設ける必要がある。   As a comparative example, in an example of an IPS liquid crystal display device having TFT elements, for example, the gate electrodes and the data lines are formed on the element substrate so as to be substantially orthogonal to each other, and the TFT elements are arranged in a matrix at these intersections In each sub-pixel region, the comb-like pixel electrode and the comb-like common electrode (common wiring) are arranged to mesh with each other. That is, in such a liquid crystal display device, since TFT elements are applied, it is necessary to provide at least three wirings of a gate line, a data line, and a common electrode (common wiring).

これに対し、本発明は、二端子素子の一例としてのTFD素子21を、IPS方式の液晶表示装置100に適用しており、さらに、データ線32が、当該データ線32と画素電極10の間で横電界Eを生じさせる上記櫛歯状の共通電極に相当する機能と、信号線としての機能とを兼ね備えている。このため、本発明の液晶表示装置100では、上記比較例に係るゲート線に相当する配線が不要であり、データ線32と走査線31の2つの配線だけで上記のIPS方式を実現できる。よって、比較例に比べて、配線数を少なく構成できる分、画素電極10の面積を大きくすることができ、開口率の向上を図ることができる。   On the other hand, in the present invention, the TFD element 21 as an example of a two-terminal element is applied to the IPS liquid crystal display device 100, and the data line 32 is between the data line 32 and the pixel electrode 10. And a function corresponding to the comb-like common electrode for generating the transverse electric field E and a function as a signal line. For this reason, in the liquid crystal display device 100 of the present invention, wiring corresponding to the gate line according to the comparative example is unnecessary, and the above-described IPS system can be realized with only the two wirings of the data line 32 and the scanning line 31. Therefore, compared to the comparative example, the area of the pixel electrode 10 can be increased as much as the number of wirings can be reduced, and the aperture ratio can be improved.

また、本発明の液晶表示装置100では、上記の構成により画素電極10の面積を大きくすることができるが、当該画素電極10は櫛歯状に類似する形状を有しており、その画素電極10の面積は、それでもサブ画素領域SGの面積と比較すると小さい。ここで、TFD素子21を有する液晶表示装置では、一般に画素電極の容量が小さくなると、それに起因して表示品位が低下する虞がある。この点、本発明では、TFD素子21の要素である第2金属膜336の一部分を補助電極部336aとして機能させ、図6に示すように、当該補助電極部336aとデータ線32の第5導電部32eの間において、絶縁膜323を誘電体とする補助容量C1を形成することとしている。よって、本発明では、画素電極10の容量に補助容量C1が付加されるので、その分、画素電極10の容量を実質的に大きくすることができ、表示品位が低下するのを防止できる。   In the liquid crystal display device 100 of the present invention, the area of the pixel electrode 10 can be increased by the above configuration, but the pixel electrode 10 has a shape similar to a comb-teeth shape. Is still smaller than the area of the sub-pixel region SG. Here, in the liquid crystal display device having the TFD element 21, generally, when the capacity of the pixel electrode is reduced, there is a possibility that the display quality is deteriorated due to this. In this regard, in the present invention, a part of the second metal film 336 that is an element of the TFD element 21 is caused to function as the auxiliary electrode portion 336a, and the fifth conductive of the auxiliary electrode portion 336a and the data line 32 as shown in FIG. An auxiliary capacitor C1 having the insulating film 323 as a dielectric is formed between the portions 32e. Therefore, in the present invention, since the auxiliary capacitance C1 is added to the capacitance of the pixel electrode 10, it is possible to substantially increase the capacitance of the pixel electrode 10 and to prevent the display quality from deteriorating.

また、本発明では、各データ線32をタンタルにて形成している。ここで、タンタルは、一般にクロムに比べて約20〜30倍程度のシート抵抗を有し、タンタルの抵抗値は極めて高い。このため、各データ線32の配線抵抗は高くなっている。その上、本発明では、タンタルにて形成した各データ線32の表面上をさらに高抵抗化材料である、厚い絶縁膜323を形成することにしているので、各データ線32の配線抵抗はさらに高くなっている。ここで、各データ線32の配線抵抗が高くなると、当該各データ線32と液晶層4による時定数(コンデンサCと抵抗Rの積)が高くなり、いわゆる横クロストークが生じて表示品位が低下する虞がある。なお、横クロストークとは、画素レベルが特定の階調に集中したラインと、そうでないラインとにおいて、同一階調を表示しているにも拘わらず、表示画像上では表示レベルが異なってしまうことをいう。   In the present invention, each data line 32 is formed of tantalum. Here, tantalum generally has a sheet resistance of about 20 to 30 times that of chromium, and the resistance value of tantalum is extremely high. For this reason, the wiring resistance of each data line 32 is high. In addition, according to the present invention, the thick insulating film 323, which is a material having higher resistance, is formed on the surface of each data line 32 formed of tantalum, so that the wiring resistance of each data line 32 is further increased. It is high. Here, when the wiring resistance of each data line 32 becomes high, the time constant (product of the capacitor C and the resistance R) by each data line 32 and the liquid crystal layer 4 becomes high, so-called horizontal crosstalk occurs, and the display quality deteriorates. There is a risk of doing. Note that horizontal crosstalk means that the display level differs on the display image even though the same gray level is displayed in the line where the pixel level is concentrated on a specific gray level and the line where the pixel level is not. That means.

したがって、このような表示欠陥が生じるのを防止するためには、上記の時定数CRを小さくする必要があり、そのためには各データ線32の配線抵抗を小さくする必要がある。その方法として、例えば、サブ画素領域SG毎に形成される電極部32xの構造を工夫して、各データ線32の配線抵抗を小さくする方法が考えられる。   Therefore, in order to prevent such a display defect from occurring, it is necessary to reduce the time constant CR, and for this purpose, it is necessary to reduce the wiring resistance of each data line 32. As the method, for example, a method of reducing the wiring resistance of each data line 32 by contriving the structure of the electrode part 32x formed for each sub-pixel region SG can be considered.

例えば、各データ線32の電極部32xを、図7(a)に示すように、櫛歯状の形状に形成した場合、その配線抵抗の大きさがどうなるか以下に検討する。図7(a)は、1つのサブ画素領域SG内における、櫛歯状の電極部32x付近を拡大して示す部分平面図である。なお、図7(a)では、本発明と同様の要素については同一の符号を付し、その説明は省略すると共に、データ線32以外の要素についての図示は省略する。図7(b)は、その電極部32xを含む等価回路を示している。   For example, when the electrode part 32x of each data line 32 is formed in a comb-teeth shape as shown in FIG. 7A, the following will examine the magnitude of the wiring resistance. FIG. 7A is an enlarged partial plan view showing the vicinity of the comb-shaped electrode portion 32x in one subpixel region SG. In FIG. 7A, elements similar to those of the present invention are denoted by the same reference numerals, description thereof is omitted, and illustration of elements other than the data line 32 is omitted. FIG. 7B shows an equivalent circuit including the electrode portion 32x.

すなわち、この例では、端子Z1から端子Z2までの電極部32xの抵抗は、第2導電部32bの抵抗R1と等しくなる。よって、1つのデータ線32に着目した場合、当該データ線32はサブ画素領域SG毎に1つの第2導電部32b(抵抗R1)を有することになる。このため、この例における当該データ線32は、全体として、第2導電部32b(抵抗R1)を複数直列に接続した配線構成となり、その配線抵抗は極めて高くなることが理解される。   That is, in this example, the resistance of the electrode part 32x from the terminal Z1 to the terminal Z2 is equal to the resistance R1 of the second conductive part 32b. Therefore, when attention is paid to one data line 32, the data line 32 has one second conductive portion 32b (resistor R1) for each sub-pixel region SG. Therefore, it is understood that the data line 32 in this example has a wiring configuration in which a plurality of second conductive portions 32b (resistors R1) are connected in series, and the wiring resistance is extremely high.

そこで、本発明では、そのような結果を踏まえて、各データ線32の配線抵抗を低減するために、電極部32xを次のような構成にしている。即ち、本発明の電極部32xは、図4(a)に示すように、Y方向に延在する第1導電部32a、第2導電部32b、第3導電部32c及び第4導電部32dの一端側をX方向に延在する第5導電部32eに各々接続すると共に、その第1導電部32a、第2導電部32b、第3導電部32c及び第4導電部32dの他端側(一端側と逆側)をX方向に延在する第6導電部32fに各々接続するようにしている。このため、本発明の電極部32xは、第1導電部32a(抵抗R1)、第2導電部32b(抵抗R1)、第3導電部32c(抵抗R1)及び第4導電部32d(抵抗R1)を夫々並列に接続した配線構成になっている。   Therefore, in the present invention, based on such a result, in order to reduce the wiring resistance of each data line 32, the electrode part 32x is configured as follows. That is, as shown in FIG. 4A, the electrode portion 32x of the present invention includes a first conductive portion 32a, a second conductive portion 32b, a third conductive portion 32c, and a fourth conductive portion 32d extending in the Y direction. One end side is connected to each of the fifth conductive portions 32e extending in the X direction, and the other end side (one end) of the first conductive portion 32a, the second conductive portion 32b, the third conductive portion 32c, and the fourth conductive portion 32d. The opposite side) is connected to the sixth conductive portion 32f extending in the X direction. Therefore, the electrode part 32x of the present invention includes a first conductive part 32a (resistor R1), a second conductive part 32b (resistor R1), a third conductive part 32c (resistor R1), and a fourth conductive part 32d (resistor R1). Are connected in parallel.

その結果、本発明では、端子Z1から端子Z2までの電極部32xの抵抗は、R1を1/4倍した大きさ、即ち(R1)/4となる。よって、1つのデータ線32に着目した場合、当該データ線32はサブ画素領域SG毎に(R1)/4の抵抗体を有することになる。このため、当該データ線32は、全体として、(R1)/4の抵抗体を複数直列に接続した配線構成となる。よって、本発明では、タンタルによってデータ線32を形成したような場合でも、さらにその表面上に厚い絶縁膜323を形成したような場合でも、各データ線32の配線抵抗を低減することができる。よって、本発明では、いわゆる横クロストークが生じるのを防止でき、表示品位が低下するのを防止できる。   As a result, in the present invention, the resistance of the electrode portion 32x from the terminal Z1 to the terminal Z2 is a value obtained by multiplying R1 by 1/4, that is, (R1) / 4. Therefore, when attention is paid to one data line 32, the data line 32 has a resistor of (R1) / 4 for each sub-pixel region SG. Therefore, the data line 32 as a whole has a wiring configuration in which a plurality of (R1) / 4 resistors are connected in series. Therefore, in the present invention, the wiring resistance of each data line 32 can be reduced regardless of whether the data line 32 is formed of tantalum or a thick insulating film 323 is formed on the surface thereof. Therefore, in the present invention, it is possible to prevent so-called lateral crosstalk and to prevent display quality from deteriorating.

また、本発明では、各TFD素子21を、各サブ画素領域SGの隅の位置近傍に、且つ、その付近の各走査線31の折れ曲がり部分31b上に形成することとしている。これにより、TFD素子21の領域を狭くすることができ、その分、開口率の向上を図ることができる。   In the present invention, each TFD element 21 is formed in the vicinity of the corner position of each sub-pixel region SG and on the bent portion 31b of each scanning line 31 in the vicinity thereof. As a result, the region of the TFD element 21 can be narrowed, and the aperture ratio can be improved accordingly.

[液晶表示装置の製造方法]
次に、図8乃至図11等を参照して、本発明の液晶表示装置100の製造方法について説明する。なお、以下では、必要に応じて、上記した適当な図面を参照されたい。図8は、液晶表示装置100の製造方法のフローチャートを示す。
[Method of manufacturing liquid crystal display device]
Next, with reference to FIG. 8 thru | or FIG. 11, etc., the manufacturing method of the liquid crystal display device 100 of this invention is demonstrated. In the following, please refer to the above-mentioned appropriate drawings as necessary. FIG. 8 shows a flowchart of a method for manufacturing the liquid crystal display device 100.

先ず、図2及び図5に示されるカラーフィルタ基板92を既知の方法にて作製する(工程S1)。   First, the color filter substrate 92 shown in FIGS. 2 and 5 is manufactured by a known method (step S1).

次に、素子基板91を作製する(工程S2)。図9は、図8における工程S2に対応する素子基板の製造方法を示すフローチャートである。図10及び図11は、図8における工程P1〜P13に夫々対応する部分平面図である。尚、図10及び図11において、一点鎖線にて囲まれる領域は1つのサブ画素領域SGを示している。   Next, the element substrate 91 is manufactured (step S2). FIG. 9 is a flowchart showing a method for manufacturing an element substrate corresponding to step S2 in FIG. 10 and 11 are partial plan views corresponding to steps P1 to P13 in FIG. 8, respectively. In FIGS. 10 and 11, the area surrounded by the alternate long and short dash line indicates one subpixel area SG.

素子基板91の製造方法について説明する。   A method for manufacturing the element substrate 91 will be described.

まず、図10(a)に示すように、ガラスやプラスチック等の材料からなる下側基板1上に、タンタル膜を成膜し(工程P1)、当該タンタル膜をエッチングにより図示の形状にパターニングする(工程P2)。これにより、所定形状にパターニングされたタンタル膜350が形成される。また、これにより、本線部32y及び電極部32x等が形成される。ここで、電極部32xの要素である第1導電部32a、第2導電部32b、第3導電部32c、第4導電部32d、第5導電部32e及び第6導電部32fは、1つのサブ画素領域SG内に形成される。また、第1導電部32aと第2導電部32bの間、第2導電部32bと第3導電部32cの間、第3導電部32cと第4導電部32dの間には夫々間隙40が形成される。また、本線部32yはY方向に相隣接する電極部32xの間に形成される。   First, as shown in FIG. 10A, a tantalum film is formed on the lower substrate 1 made of a material such as glass or plastic (process P1), and the tantalum film is patterned into the illustrated shape by etching. (Process P2). Thereby, a tantalum film 350 patterned in a predetermined shape is formed. Thereby, the main line portion 32y, the electrode portion 32x, and the like are formed. Here, the first conductive portion 32a, the second conductive portion 32b, the third conductive portion 32c, the fourth conductive portion 32d, the fifth conductive portion 32e, and the sixth conductive portion 32f, which are elements of the electrode portion 32x, It is formed in the pixel region SG. Further, gaps 40 are formed between the first conductive portion 32a and the second conductive portion 32b, between the second conductive portion 32b and the third conductive portion 32c, and between the third conductive portion 32c and the fourth conductive portion 32d, respectively. Is done. The main line portion 32y is formed between the electrode portions 32x adjacent to each other in the Y direction.

次に、第1回目の陽極酸化を実行する(工程P3)。具体的には、図10(a)において、陽極酸化法にて、所定形状にパターニングされたタンタル膜350上に、Ta膜よりなる絶縁膜(図示略)を薄膜状に形成する。 Next, the first anodic oxidation is performed (process P3). Specifically, in FIG. 10A, an insulating film (not shown) made of a Ta 2 O 5 film is formed in a thin film on a tantalum film 350 patterned into a predetermined shape by an anodic oxidation method.

次に、図10(b)に示すように、第1回目のタンタル膜350の分離パターニングを実行する(工程P4)。具体的には、TFD素子21の要素である第1金属膜322が形成される予定の領域に存在するタンタル膜350を島状に形成する。これにより、表面に絶縁膜が形成された島状の第1金属膜322が形成される。   Next, as shown in FIG. 10B, the first separation patterning of the tantalum film 350 is performed (process P4). Specifically, the tantalum film 350 existing in the region where the first metal film 322 that is an element of the TFD element 21 is to be formed is formed in an island shape. Thereby, an island-shaped first metal film 322 having an insulating film formed on the surface is formed.

次に、第2回目の陽極酸化を実行する(工程P5)。具体的には、図10(b)において、陽極酸化法にて、表面に絶縁膜が形成された、タンタル膜350上に、さらに、Ta膜よりなる絶縁膜を所定の厚さにて形成する。なお、この工程P5では、表面に絶縁膜が形成された島状の第1金属膜322上には、絶縁膜を形成することはしない。これにより、タンタル膜350上に絶縁膜323が形成される。好適な例では、絶縁膜323の厚さは約1500Å〜2000Åとすることができる。 Next, the second anodic oxidation is performed (process P5). Specifically, in FIG. 10B, an insulating film made of a Ta 2 O 5 film is formed to a predetermined thickness on the tantalum film 350 having an insulating film formed on the surface by an anodic oxidation method. Form. In this process P5, the insulating film is not formed on the island-shaped first metal film 322 having the insulating film formed on the surface. As a result, an insulating film 323 is formed on the tantalum film 350. In a suitable example, the thickness of the insulating film 323 can be about 1500 to 2000 mm.

次に、図10(b)において、タンタル膜350を被覆している絶縁膜323等に対してアニール処理Aを実行する(工程P6)。これにより、絶縁膜323を緻密な膜にすることができる。   Next, in FIG. 10B, an annealing process A is performed on the insulating film 323 and the like covering the tantalum film 350 (process P6). Thus, the insulating film 323 can be a dense film.

次に、図10(b)において、第2回目のタンタル膜350の分離パターニングを実行する(工程P7)。これにより、陽極酸化するために使用していた余分なタンタル膜350が除去される。これにより、表面に絶縁膜323が形成されたデータ線32が形成される(図示略、図5を参照)。   Next, in FIG. 10B, the second separation patterning of the tantalum film 350 is performed (step P7). As a result, the excess tantalum film 350 used for anodic oxidation is removed. Thereby, the data line 32 having the insulating film 323 formed on the surface is formed (not shown, see FIG. 5).

次に、図11(a)に示すように、下側基板1上、並びに、表面に絶縁膜が形成された第1金属膜322及びデータ線32の上に図示しないクロム膜を成膜し(工程P8)、続いて、そのクロム膜をパターニングする(工程P9)。これにより、本線部分31a(図示略、図1及び図3を参照)、及び折れ曲がり部分31bを有する走査線31が形成される。また、これにより、その走査線31の一部をなす第2金属膜316、及び、第2金属膜336の一部分である補助電極部336aが夫々形成され、第1のTFD素子21a及び第2のTFD素子21bを含むTFD素子21が形成される。   Next, as shown in FIG. 11A, a chromium film (not shown) is formed on the lower substrate 1 and on the first metal film 322 and the data line 32 having an insulating film formed on the surface ( Step P8), followed by patterning the chromium film (Step P9). Thereby, the main line portion 31a (not shown, see FIGS. 1 and 3) and the scanning line 31 having the bent portion 31b are formed. As a result, a second metal film 316 that forms part of the scanning line 31 and an auxiliary electrode portion 336a that is a part of the second metal film 336 are formed, respectively, and the first TFD element 21a and the second TFD element 21a. A TFD element 21 including the TFD element 21b is formed.

次に、画素電極10を形成する(工程P10)。具体的には、図11(b)に示すように、第1導電部32aと第2導電部32bの間の間隙40の略中央に対応する下側基板1上に第1透明電極部10aの要素となる第1部分10abを、表面に絶縁膜323が形成された第5導電部32e上及び第2金属膜336上に夫々第1透明電極部10aの要素となる、L字状の第2部分10acを夫々形成する。これにより、第1透明電極部10aの第2部分10acと第2金属膜336とが電気的に接続される。また、第2導電部32bと第3導電部32cの間の間隙40の略中央に対応する下側基板1上及び第2金属膜336上等にストライプ状の第2透明電極部10bを形成する。これにより、第2透明電極部10bと第2金属膜336とが電気的に接続される。また、第3導電部32cと第4導電部32dの間の間隙40の略中央に対応する下側基板1上及び第2金属膜336上等にストライプ状の第3透明電極部10cを形成する。これにより、第3透明電極部10cと第2金属膜336とが電気的に接続される。   Next, the pixel electrode 10 is formed (process P10). Specifically, as shown in FIG. 11B, the first transparent electrode portion 10a is formed on the lower substrate 1 corresponding to the approximate center of the gap 40 between the first conductive portion 32a and the second conductive portion 32b. The first portion 10ab serving as an element is a second L-shaped second element serving as an element of the first transparent electrode portion 10a on the fifth conductive portion 32e and the second metal film 336, each having an insulating film 323 formed on the surface. Each of the portions 10ac is formed. As a result, the second portion 10ac of the first transparent electrode portion 10a and the second metal film 336 are electrically connected. In addition, the striped second transparent electrode portion 10b is formed on the lower substrate 1 and the second metal film 336 corresponding to substantially the center of the gap 40 between the second conductive portion 32b and the third conductive portion 32c. . Thereby, the 2nd transparent electrode part 10b and the 2nd metal film 336 are electrically connected. Further, the striped third transparent electrode portion 10c is formed on the lower substrate 1 and the second metal film 336 corresponding to substantially the center of the gap 40 between the third conductive portion 32c and the fourth conductive portion 32d. . Thereby, the 3rd transparent electrode part 10c and the 2nd metal film 336 are electrically connected.

次に、図11(b)において、アニ−ル処理Bを実行する(工程P11)。アニ−ル処理B(熱処理B)は、TFD素子21の特性を仕様で決められた一定の特性にするために行われるものである。次に、図11(b)において、下側基板1、表面に絶縁膜323が形成されたデータ線32、TFD素子21、走査線31、及び画素電極10の上に配向膜17を形成する(工程P12)。次に、その他の構成要素、具体的には、図示しない偏光板14及びバックライト15等を取り付ける(工程P13)。こうして、図1乃至図3等に示される素子基板91が製造される。   Next, in FIG. 11B, the annealing process B is executed (process P11). The annealing process B (heat treatment B) is performed in order to make the characteristics of the TFD element 21 constant characteristics determined by specifications. Next, in FIG. 11B, the alignment film 17 is formed on the lower substrate 1, the data line 32 having the insulating film 323 formed on the surface, the TFD element 21, the scanning line 31, and the pixel electrode 10 ( Step P12). Next, other components, specifically, a polarizing plate 14 and a backlight 15 (not shown) are attached (process P13). Thus, the element substrate 91 shown in FIGS. 1 to 3 is manufactured.

図8に戻り、素子基板91とカラーフィルタ基板92とを、図示しないスペーサ及びシール部材3を介して貼り合せ、その両基板間に形成された開口(図示略)より、その内部に液晶を注入して当該開口の封止処理をする(工程S3)。次に、その他の構成要素を実装することにより、図1及び図2に示される本発明の液晶表示装置100が製造される。こうして製造された液晶表示装置100は、上記した本発明の作用効果を得ることができる。   Returning to FIG. 8, the element substrate 91 and the color filter substrate 92 are bonded to each other via a spacer and a seal member 3 (not shown), and liquid crystal is injected into the inside through an opening (not shown) formed between the two substrates. Then, the opening is sealed (step S3). Next, the liquid crystal display device 100 of the present invention shown in FIGS. 1 and 2 is manufactured by mounting other components. The liquid crystal display device 100 manufactured in this way can obtain the above-described effects of the present invention.

[変形例]
上記の実施形態では、サブ画素領域SG毎に、画素電極10と略平行をなす導電部、即ち第1導電部32a、第2導電部32b、第3導電部32c及び第4導電部32dを設け、且つ、3つの画素電極、即ち第1透明電極部10a、第2透明電極部10b及び第3透明電極部10cを設けた。これらに限らず、本発明では、それらの設定数は設計仕様等に応じて適宜変更することが可能である。
[Modification]
In the above embodiment, for each sub-pixel region SG, a conductive portion that is substantially parallel to the pixel electrode 10, that is, a first conductive portion 32a, a second conductive portion 32b, a third conductive portion 32c, and a fourth conductive portion 32d are provided. Three pixel electrodes, that is, a first transparent electrode portion 10a, a second transparent electrode portion 10b, and a third transparent electrode portion 10c are provided. In addition to these, in the present invention, the number of settings can be appropriately changed according to design specifications and the like.

また、上記の実施形態では、画素電極10を複数の透明電極部、即ち第1透明電極部10a、第2透明電極部10b及び第3透明電極部10cにより構成した。これに限らず、本発明では、画素電極10を櫛歯状の形状に形成して、当該1つの櫛歯状の画素電極をサブ画素領域SG毎に形成するように構成しても構わない。   In the above embodiment, the pixel electrode 10 is configured by a plurality of transparent electrode portions, that is, the first transparent electrode portion 10a, the second transparent electrode portion 10b, and the third transparent electrode portion 10c. The present invention is not limited to this, and the pixel electrode 10 may be formed in a comb-like shape, and the one comb-like pixel electrode may be formed for each sub-pixel region SG.

また、上記の実施形態では、データ線32をタンタルにて形成するようにしたが、これに限らず、本発明では、データ線32を、タンタルを主成分とする材料、例えばタンタルタングステンなどの材料にて形成してもよい。   In the above embodiment, the data line 32 is formed of tantalum. However, the present invention is not limited to this, and in the present invention, the data line 32 is formed of a material mainly composed of tantalum, for example, a material such as tantalum tungsten. You may form in.

また、上記の実施形態では、透過型の液晶表示装置に本発明を適用することとしたが、これに限らず、反射型若しくは半透過反射型の液晶表示装置に本発明を適用することも可能である。   In the above embodiment, the present invention is applied to a transmissive liquid crystal display device. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can also be applied to a reflective or transflective liquid crystal display device. It is.

また、上記の実施形態では、TFD素子21などの二端子素子を本発明に適用することとしたが、これに限らず、TFT素子などの三端子素子を本発明に適用しても構わない。   In the above embodiment, the two-terminal element such as the TFD element 21 is applied to the present invention. However, the present invention is not limited to this, and a three-terminal element such as a TFT element may be applied to the present invention.

[電子機器]
次に、本発明による液晶表示装置100を電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。
[Electronics]
Next, an embodiment in which the liquid crystal display device 100 according to the present invention is used as a display device of an electronic apparatus will be described.

図12は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記の液晶表示装置100と、これを制御する制御手段410とを有する。ここでは、液晶表示装置100を、パネル構造体403と、半導体ICなどで構成される駆動回路402とに概念的に分けて描いてある。また、制御手段410は、表示情報出力源411と、表示情報処理回路412と、電源回路413と、タイミングジェネレータ414と、を有する。   FIG. 12 is a schematic configuration diagram showing the overall configuration of the present embodiment. The electronic apparatus shown here includes the liquid crystal display device 100 and a control unit 410 that controls the liquid crystal display device 100. Here, the liquid crystal display device 100 is conceptually divided into a panel structure 403 and a drive circuit 402 composed of a semiconductor IC or the like. Further, the control means 410 includes a display information output source 411, a display information processing circuit 412, a power supply circuit 413, and a timing generator 414.

表示情報出力源411は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ414によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路412に供給するように構成されている。   The display information output source 411 includes a memory such as a ROM (Read Only Memory) or a RAM (Random Access Memory), a storage unit such as a magnetic recording disk or an optical recording disk, and a tuning circuit that tunes and outputs a digital image signal. The display information is supplied to the display information processing circuit 412 in the form of an image signal of a predetermined format based on various clock signals generated by the timing generator 414.

表示情報処理回路412は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKとともに駆動回路402へ供給する。駆動回路402は、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路413は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。   The display information processing circuit 412 includes various well-known circuits such as a serial-parallel conversion circuit, an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit, and executes processing of input display information to obtain image information. Are supplied to the drive circuit 402 together with the clock signal CLK. The driving circuit 402 includes a scanning line driving circuit, a data line driving circuit, and an inspection circuit. The power supply circuit 413 supplies a predetermined voltage to each of the above-described components.

次に、本発明に係る液晶表示装置100を適用可能な電子機器の具体例について図13を参照して説明する。   Next, specific examples of electronic devices to which the liquid crystal display device 100 according to the present invention can be applied will be described with reference to FIG.

まず、本発明に係る液晶表示装置100を、可搬型のパーソナルコンピュータ(いわゆるノート型パソコン)の表示部に適用した例について説明する。図13(a)は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ710は、キーボード711を備えた本体部712と、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部713とを備えている。   First, an example in which the liquid crystal display device 100 according to the present invention is applied to a display unit of a portable personal computer (so-called notebook personal computer) will be described. FIG. 13A is a perspective view showing the configuration of this personal computer. As shown in the figure, the personal computer 710 includes a main body 712 having a keyboard 711 and a display 713 to which the liquid crystal display panel according to the present invention is applied.

続いて、本発明に係る液晶表示装置100を、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図13(b)は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機720は、複数の操作ボタン721のほか、受話口722、送話口723とともに、本発明に係る液晶表示装置100を適用した表示部724を備える。   Next, an example in which the liquid crystal display device 100 according to the present invention is applied to a display unit of a mobile phone will be described. FIG. 13B is a perspective view showing the configuration of this mobile phone. As shown in the figure, the cellular phone 720 includes a plurality of operation buttons 721, a reception port 722, a transmission port 723, and a display unit 724 to which the liquid crystal display device 100 according to the present invention is applied.

なお、本発明に係る液晶表示装置100を適用可能な電子機器としては、図13(a)に示したパーソナルコンピュータや図13(b)に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。   Note that, as an electronic device to which the liquid crystal display device 100 according to the present invention can be applied, in addition to the personal computer shown in FIG. 13A and the mobile phone shown in FIG. Type / monitor direct-view type video tape recorder, car navigation device, pager, electronic notebook, calculator, word processor, workstation, videophone, POS terminal, digital still camera, etc.

本発明の液晶表示装置の電極及び配線の構成を示す平面図。FIG. 3 is a plan view showing a configuration of electrodes and wirings of the liquid crystal display device of the present invention. 図1の切断線A−A’に沿った液晶表示装置の断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device taken along a cutting line A-A ′ in FIG. 1. 本発明の素子基板の電極及び配線の構成等を示す平面図。The top view which shows the structure of the electrode of the element substrate of this invention, wiring, etc. FIG. 素子基板における1画素分の画素電極等のレイアウトを示す部分平面図及びデータ線の電極部を含む等価回路を示すブロック図。FIG. 4 is a partial plan view showing a layout of pixel electrodes and the like for one pixel in an element substrate and a block diagram showing an equivalent circuit including an electrode portion of a data line. 図4の切断線B−B’に沿った素子基板の部分断面図。FIG. 5 is a partial cross-sectional view of the element substrate along a cutting line B-B ′ in FIG. 4. 図5の切断線X1−X2に沿ったTFD素子等の構成を示す拡大断面図FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view showing the configuration of the TFD element and the like along the cutting line X1-X2 in FIG. 比較例に係るデータ線の電極部等に対応する部分平面図及び当該電極部を含む等価回路を示すブロック図。The fragmentary top view corresponding to the electrode part etc. of the data line which concerns on a comparative example, and the block diagram which shows the equivalent circuit containing the said electrode part. 本発明の液晶表示装置の製造方法を示すフローチャート。3 is a flowchart showing a method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention. 本発明の素子基板の製造方法を示すフローチャート。The flowchart which shows the manufacturing method of the element substrate of this invention. 図9における素子基板の各製造工程に対応する平面図。The top view corresponding to each manufacturing process of the element substrate in FIG. 図9における素子基板の各製造工程に対応する平面図。The top view corresponding to each manufacturing process of the element substrate in FIG. 本発明の液晶表示装置を適用した電子機器の回路ブロック図。1 is a circuit block diagram of an electronic apparatus to which a liquid crystal display device of the present invention is applied. 本発明の液晶表示装置を適用した電子機器の例。6 shows examples of electronic devices to which the liquid crystal display device of the present invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1 下側基板、 2 上側基板、 3 シール部材、 6 着色層、 10 画素電極、 17 配向膜、 18 オーバーコート層、 21 TFD素子、 32 データ線、 32x 電極部、 32y 本線部、 31 走査線、 91 素子基板、 92 カラーフィルタ基板、 100 液晶表示装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Lower substrate, 2 Upper substrate, 3 Sealing member, 6 Colored layer, 10 Pixel electrode, 17 Alignment film, 18 Overcoat layer, 21 TFD element, 32 Data line, 32x electrode part, 32y Main line part, 31 Scan line, 91 element substrate, 92 color filter substrate, 100 liquid crystal display device

Claims (8)

複数の第1の電極と、
前記第1の電極に接続された二端子素子と、
前記二端子素子に接続された画素電極と、
前記複数の第1の電極と交差し、前記画素電極との間で電界を発生させる複数の第2の電極と、を備え、
前記第2の電極は当該第2の電極から分岐した複数の電極部を有していると共に、前記画素電極は前記複数の電極部間に設けられ、
前記複数の電極部は、並列に接続された回路を形成していることを特徴とする液晶装置。
A plurality of first electrodes;
A two-terminal element connected to the first electrode;
A pixel electrode connected to the two-terminal element;
A plurality of second electrodes that intersect with the plurality of first electrodes and generate an electric field between the pixel electrodes;
The second electrode has a plurality of electrode portions branched from the second electrode, and the pixel electrode is provided between the plurality of electrode portions,
The liquid crystal device, wherein the plurality of electrode portions form a circuit connected in parallel.
複数の第1の電極と、
相隣接する前記第1の電極の間に配置された画素電極と、
前記複数の第1の電極と交差し、前記画素電極との間で電界を発生させる複数の第2の電極と、
前記第1の電極と前記第2の電極との交差位置に対応して設けられ前記第1の電極、前記第2の電極及び前記画素電極に接続された三端子素子と、を備え、
前記第2の電極は当該第2の電極から分岐した複数の電極部を有すると共に、前記画素電極は前記複数の電極部間に設けられ、
前記複数の電極部は、並列に接続された回路を形成していることを特徴とする液晶装置。
A plurality of first electrodes;
A pixel electrode disposed between the first electrodes adjacent to each other;
A plurality of second electrodes that intersect the plurality of first electrodes and generate an electric field between the pixel electrodes;
A three-terminal element provided corresponding to an intersection position of the first electrode and the second electrode and connected to the first electrode, the second electrode, and the pixel electrode;
The second electrode has a plurality of electrode portions branched from the second electrode, and the pixel electrode is provided between the plurality of electrode portions,
The liquid crystal device, wherein the plurality of electrode portions form a circuit connected in parallel.
前記電極部は、平面視したときに相互に間隙を隔てて配置されてなる直線状の複数の導電部を有すると共に、前記画素電極は複数の透明導電部を有し、
前記透明導電部の各々は、複数の前記間隙内において前記導電部の各々と略平行に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶装置。
The electrode part has a plurality of linear conductive parts arranged with a gap therebetween when viewed in plan, and the pixel electrode has a plurality of transparent conductive parts,
3. The liquid crystal device according to claim 1, wherein each of the transparent conductive portions is disposed substantially parallel to each of the conductive portions in the plurality of gaps.
前記第2の電極はタンタル又はタンタルを主成分とする材料にて形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶装置。   3. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the second electrode is formed of tantalum or a material containing tantalum as a main component. 前記電極部は、画素領域内に複数の他の導電部を有し、
前記複数の導電部と前記複数の他の導電部は相対的に略直交しており、
前記第1の電極と対向する前記複数の導電部の一端側及び当該一端側に対向する前記複数の導電部の他端側は、各々前記複数の他の導電部に電気的に接続されていることを特徴とする請求項3に記載の液晶装置。
The electrode portion has a plurality of other conductive portions in the pixel region,
The plurality of conductive portions and the plurality of other conductive portions are relatively substantially orthogonal,
One end side of the plurality of conductive portions facing the first electrode and the other end side of the plurality of conductive portions facing the one end side are electrically connected to the plurality of other conductive portions, respectively. The liquid crystal device according to claim 3.
前記二端子素子は、第1金属膜と、前記第1金属膜上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上の一部及び前記第1金属膜近傍の前記他の導電部上の一部に対応する位置に形成された第2金属膜とを有し、
当該他の導電部上には絶縁膜が形成されており、前記第2金属膜の一部分は、当該絶縁膜を介して前記他の導電部に対向していることを特徴とする請求項5に記載の液晶装置。
The two-terminal element includes a first metal film, an insulating film formed on the first metal film, a part on the insulating film, and a part on the other conductive portion in the vicinity of the first metal film. And a second metal film formed at a position corresponding to
6. The insulating film is formed on the other conductive portion, and a part of the second metal film is opposed to the other conductive portion via the insulating film. The liquid crystal device described.
前記透明導電部の各々は、画素領域内において前記第2金属膜の一部上から当該第2金属膜が形成されていない前記他の導電部に対応する位置近傍まで延在していることを特徴とする請求項6に記載の液晶装置。   Each of the transparent conductive portions extends from a part of the second metal film to a position near a position corresponding to the other conductive portion where the second metal film is not formed in the pixel region. The liquid crystal device according to claim 6. 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の液晶装置を表示部として備えることを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1 as a display unit.
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