JP2006133700A - レンズ基板、レンズ基板の製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ - Google Patents

Abstract

【課題】 外光の反射を防止または抑制し、輝度の向上を図ったレンズ基板、このようなレンズ基板を低コストで製造可能なレンズ基板の製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタを提供する。
【解決手段】 複数のレンズ２が形成されたレンズ基板１であって、複数のレンズが形成されている面とは反対側の面に、その表面粗さＲｚ（ＪＩＳ Ｂ ０６０１に規定の十点平均粗さ）が０．３μｍ以下となるように、微小の凹凸３が設けられている。凹凸の凸部同士の平均ピッチは、複数のレンズの平均ピッチの１０％以下である。レンズは、マイクロレンズである。凹凸の凸部同士の平均ピッチは、マイクロレンズの平均径の１．０％以下である。マイクロレンズの平均径は、１０〜５００μｍである。
【選択図】 図１

Description

本発明は、レンズ基板、レンズ基板の製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。

近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズやマイクロレンズ等を備えたレンズ基板が一般的に用いられている。
しかし、従来のレンズ基板を備えたリア型プロジェクタ（透過型スクリーン）では、観察者側から入射する外光（例えば、太陽光や電気照明光）等が透過型スクリーンの表面において反射し、この反射光の影響により、輝度（ゲイン）が低下し、映し出された映像等が見え難くなるといった問題があった。

このような問題を解決する目的で、透過型スクリーンを構成するレンズ基板の観察者側にブラックストライプ（遮光層）を設けることにより、外光を吸収し、輝度を向上させ、投影画像を見やすくする試みが行われている（例えば、特許文献１参照）。
しかしながら、特許文献１の透過型スクリーンでは、当該透過型スクリーンを製造する際に、遮光層を設ける工程が必須となり、製造工程が煩雑となり、また、製造コストが高くなるという問題があった。また、この透過型スクリーンでは、レンズ基板に対する遮光層の位置精度を十分に高くするのが困難で、遮光層の位置がずれてしまうと、前記外光の反射を抑制するのが困難となるという問題があった。その結果、十分な輝度が得られな意場合があった。

特開平１０−３０１２０８号公報

本発明の目的は、外光の反射を防止または抑制し、輝度（ゲイン）の向上を図ったレンズ基板、このようなレンズ基板を低コストで製造可能なレンズ基板の製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタを提供することにある。

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のレンズ基板は、複数のレンズが形成されたレンズ基板であって、
複数の前記レンズが形成されている面とは反対側の面に、その表面粗さＲｚ（ＪＩＳ Ｂ ０６０１に規定の十点平均粗さ）が０．３μｍ以下となるように、微小の凹凸が設けられていることを特徴とする。
これにより、外光の反射を防止または抑制し、輝度（ゲイン）の向上を図ったレンズ基板を提供することができる。

本発明のレンズ基板では、前記凹凸の凸部同士の平均ピッチは、複数の前記レンズの平均ピッチの１０％以下であることが好ましい。
これにより、レンズ基板に入射する外光（例えば、太陽光や電気照明光）の反射をより確実に防止または抑制することができる。その結果、得られる透過型スクリーンの輝度をより効果的に向上させることができる。

本発明のレンズ基板では、前記レンズは、マイクロレンズであることが好ましい。
これにより、外光の反射を防止または抑制し、輝度（ゲイン）の向上を図りつつ、視野角特性を向上させることができる。
本発明のレンズ基板では、前記凹凸の凸部同士の平均ピッチは、前記マイクロレンズの平均径の１．０％以下であることが好ましい。
これにより、レンズ基板に入射する外光（例えば、太陽光や電気照明光）の反射をより確実に防止または抑制することができる。その結果、得られる透過型スクリーンの輝度をより効果的に向上させることができる。

本発明のレンズ基板では、前記マイクロレンズの平均径は、１０〜５００μｍであることが好ましい。
これにより、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を保持しつつ、外光の反射を防止または抑制し、輝度（ゲイン）の向上を図ることができる。
本発明のレンズ基板では、前記レンズは、レンチキュラレンズであることが好ましい。
これにより、外光の反射を防止または抑制し、輝度（ゲイン）の向上を図りつつ、視野角特性を向上させることができる。

本発明のレンズ基板では、前記凹凸の凸部同士の平均ピッチは、前記レンチキュラレンズの平均幅の１．０％以下であることが好ましい。
これにより、レンズ基板に入射する外光（例えば、太陽光や電気照明光）の反射をより確実に防止または抑制することができる。その結果、得られる透過型スクリーンの輝度をより効果的に向上させることができる。

本発明のレンズ基板では、前記レンチキュラレンズの平均幅は、１０〜５００μｍであることが好ましい。
これにより、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を保持しつつ、外光の反射を防止または抑制し、輝度（ゲイン）の向上を図ることができる。
本発明のレンズ基板では、前記凹凸の凸部同士の平均ピッチは、１．０μｍ以下であることが好ましい。
これにより、レンズ基板に入射する外光（例えば、太陽光や電気照明光）の反射をより効果的に防止または抑制することができる。その結果、得られる透過型スクリーンの輝度を向上させることができる。

本発明のレンズ基板では、前記凹凸の高低差は、１．０μｍ以下であることが好ましい。
これにより、レンズ基板に入射する外光（例えば、太陽光や電気照明光）の反射をより効果的に防止または抑制することができる。その結果、得られる透過型スクリーンの輝度を向上させることができる。

本発明のレンズ基板の製造方法は、本発明のレンズ基板を製造する製造方法であって、
表面に前記微小の凹凸に対応した形状を有する型を用いて、前記微小の凹凸を有するレンズ基板を製造することを特徴とする。
これにより、外光の反射を防止または抑制し、輝度の向上を図ったレンズ基板を容易に製造することができる。

本発明のレンズ基板の製造方法では、前記微小の凹凸に対応した形状は、ブラスト加工により形成されたものであることが好ましい。
これにより、外光の反射を防止または抑制し、輝度の向上を図ったレンズ基板をより容易に製造することができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記ブラスト加工は、ウェットブラストであることが好ましい。
これにより、外光の反射を防止または抑制し、輝度の向上を図ったレンズ基板をより容易に製造することができる。

本発明の透過型スクリーンは、本発明のレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、輝度の高い透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、輝度の高いリア型プロジェクタを提供することができる。

以下、本発明のレンズ基板、レンズ基板の製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタの好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ詳細に説明する。
図１は、本発明のレンズ基板を模式的に示した縦断面図である。なお、以下の説明では、図１中の上側を「（光の）入射側」、下側を「（光の）出射側」または「観察者側」と言う。また、以下の説明では、レンズ基板として、マイクロレンズ基板に適用した場合について説明する。

レンズ基板（マイクロレンズ基板）１は、例えば、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材として用いられるものであり、図１に示すように、複数のマイクロレンズ２を有している。
マイクロレンズ（レンズ）２は、入射した光を拡散する機能を有している。
マイクロレンズ２の平均径は、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、３０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２の直径が前記範囲内の値であると、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を保持しつつ、レンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
隣接するマイクロレンズ２−マイクロレンズ２間の平均ピッチは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。

また、マイクロレンズ２の曲率半径は、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、１５〜５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２の曲率半径が前記範囲内の値であると、水平方向（左右方向）および鉛直方向（上下方向）の視野角分布をともに大きなものとすることができる。結果として、より効果的に視野角特性を向上させることができる。

また、マイクロレンズ２の配列方式は、特に限定されず、図示の構成のように、周期的な配列であっても、光学的にランダムな配列（レンズ基板１の主面側から平面視したときに、各マイクロレンズ２が互いにランダムな位置関係となるように配されたもの）であってもよい。マイクロレンズ２の配列がランダムな配列である場合、フレネルレンズ等との干渉をより効果的に防止することができ、モアレの発生を十分に抑制することができる。これにより、表示品質の良い優れた透過型スクリーン１０を得ることができる。なお、本明細書中において「光学的にランダム」とは、モアレ等の光学的干渉の発生が十分に防止・抑制される程度に、マイクロレンズの配置が不規則で、乱れていることを意味する。

また、レンズ基板１は、図１に示すように、マイクロレンズ２が形成されている面とは反対側の面に、微小の凹凸３が設けられている。
この微小の凹凸３が設けられていることにより、マイクロレンズ２が形成されている面とは反対側の面の表面粗さＲｚ（ＪＩＳ Ｂ ０６０１に規定の十点平均粗さ）が０．３μｍ以下となっている。

ところで、従来のレンズ基板を備えたリア型プロジェクタ（透過型スクリーン）では、観察者側から入射する外光（例えば、太陽光や電気照明光）等が透過型スクリーンの表面において反射し、この反射光の影響により、映し出された映像等が見え難くなるといった問題があった。
しかし、本発明では、このようにレンズが形成されている面とは反対側の面に、その表面の表面粗さＲｚが０．３μｍ以下となるように、微小の凹凸が設けられていることにより、従来より問題となっていた外光の反射を防止または抑制することができることがわかった。その結果、このようなレンズ基板を備えた透過型スクリーン（リア型プロジェクタ）の輝度を向上させることができることがわかった。また、このようなレンズ基板は、後述するような方法により、容易に製造することができることがわかった。

このように本発明では、レンズが形成されている面とは反対側の面の表面粗さＲｚが０．３μｍ以下であることを特徴とするが、０．２〜０．３μｍであるのが好ましい。これにより、本発明の効果がより顕著となる。これに対し、レンズが形成されている面の表面粗さＲｚが大きすぎると、レンズ基板に入射する外光の反射を十分に防止または抑制するのが困難となる場合がある。これに対して、表面粗さが前記上限値を超えると、透過率が低下して、入射光に対する出射光の輝度（ゲイン）が落ちることにつながる。
この凹凸３の凸部同士の平均ピッチは、Ｒｚが０．３μｍ以下となるものであれば、特に限定されないが、マイクロレンズ２−マイクロレンズ２間のピッチの１０％以下であるのが好ましい。

また、凹凸３の凸部同士の平均ピッチは、マイクロレンズ２の平均径の１．０％以下であるのが好ましく、０．１〜０．６％程度であるのがより好ましい。凹凸３の凸部同士の平均ピッチがこのような条件を満足することにより、レンズ基板１に入射する外光の反射をより確実に防止または抑制することができる。その結果、得られる透過型スクリーン１０の輝度をより効果的に向上させることができる。

また、凹凸３の凸部同士の平均ピッチは、１．０μｍ以下であるのが好ましく、０．２〜０．３μｍであるのがより好ましい。凹凸３の凸部同士の平均ピッチが大きすぎると、ンズ基板１に入射する外光の反射を十分に防止または抑制するのが困難となり、また、輝度（ゲイン）が低下する場合がある。
また、凹凸３の高低差は、１．０μｍ以下であるのが好ましく、０．２〜０．３μｍであるのがより好ましい。凹凸３の高低差が大きすぎると、レンズ基板１に入射する外光の反射を十分に防止または抑制するのが困難となる場合がある。
なお、本実施形態では、本発明のレンズ基板を、代表的にマイクロレンズ基板に適用した場合について説明したが、これに限定されず、例えば、レンチキュラレンズ基板に適用してもよい。

本発明のレンズ基板を、レンチキュラレンズ基板に適用した場合、凹凸３の凸部同士の平均ピッチは、レンチキュラレンズの平均幅の１．０％以下であるのが好ましく、０．１〜０．６％程度であるのがより好ましい。これにより、本発明の効果がより顕著なものとなる。
また、本発明のレンズ基板を、レンチキュラレンズ基板に適用した場合、レンチキュラレンズの平均幅は、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましい。これにより、レンチキュラレンズ基板の光学特性をより高いものとすることができる。

次に、本発明のレンズ基板の製造方法について説明する。
まず、前述した凹凸を形成するのに用いる型について説明する。
図２は、本発明のレンズ基板の製造に用いられる凹凸形成用の型を示す縦断面図である。
図２に示すように、型（凹凸形成用型）４は、凹凸３に対応した形状の凹凸４１が形成されている。

このような凹凸形成用型４を構成する材料としては、特に限定されず、例えば、金属材料、ガラス、樹脂材料等が挙げられる。中でも、金属材料を用いた場合、型４の加工性や取り扱い性がより良好なものとなる。
このような凹凸形成用型４は、例えば、前述したような材料で構成された原盤に対して、所定の加工を施して凹凸４１を形成することにより製造することができる。

凹凸４１は、例えば、エアブラスト、ウェットブラスト、サンドブラスト等のブラスト加工を施すことにより形成することができる。これにより、より簡便に凹凸４１を形成することができる。
上述した中でも、ウェットブラストによって凹凸４１を形成した場合、より均一に凹凸４１を形成することができる。これにより、輝度の向上を図りつつ、部位による輝度のバラツキを効果的に抑制することができる。

また、このようなブラスト加工は、複数回行うのが好ましい。これにより、より均一に凹凸４１を形成することができる。
また、ブラスト加工において原盤に対して噴射される微粒子の平均粒径は、１０μｍ以下であるのが好ましく、１〜５μｍであるのがより好ましい。
このような凹凸形成用型４の大きさ（サイズ）は、形成すべきレンズ基板１の大きさによって適宜変更されるものであってもよいが、例えば、所定の大きさの型４を所定枚数組み合わせることにより、レンズ基板１の大きさに対応するものであってもよい。これにより、組み合わせる型４の枚数を調整することで、レンズ基板１に対応する大きさに調節することができるため、凹凸形成用型４を製造する設備を新しくする必要もなく、種々の大きさのレンズ基板に対応した凹凸形成用型を容易に提供することができる。

次に、レンズを形成するための型について説明する。なお、以下の説明では、代表的に、上述したマイクロレンズ基板に適用した場合について説明する。
図３に示すように、型（レンズ形成用型）５は、前述したマイクロレンズ２に対応した形状の複数の凹部５１（レンズ形成用凹部）が形成されている。
このようなレンズ形成用型５を構成する材料としては、特に限定されず、例えば、金属材料、ガラス、樹脂材料等が挙げられる。中でも、金属材料を用いた場合、レンズ形成用型５の加工性や取り扱い性がより良好なものとなる。
凹部５１は、例えば、電気めっき法（ニッケル電鋳）、エッチング法等を用いて形成することができる。上述した中でも、電気めっき法を用いるのが好ましい。これにより、容易に凹部５１を形成することができる。

つぎに、前述した凹凸形成用型４およびレンズ形成用型５を用いたレンズ基板の製造方法について説明する。
図３は、本発明のレンズ基板の製造方法を説明するための図である。なお、図３中、上側を「上部」、下側を「下部」と言う。
まず、図３（ａ）に示すように、レンズ基板１の元となる基材１’を用意する。

次に、凹凸形成用型４とレンズ形成用型５を用意する。
次に、凹凸形成用型４とレンズ形成用型５とを、凹凸４１と凹部５１とが向かい合うように設置する。
次に、図３（ｂ）に示すように、基材１’を、凹凸形成用型４とレンズ形成用型５との間に設置する。

次に、凹凸形成用型４とレンズ形成用型５とを加熱し、図３（ｃ）に示すように、基材１’をプレスし、凹凸形成用型４およびレンズ形成用型５の形状を基材１’に転写する。
そして、凹凸形成用型４およびレンズ形成用型５の形状を転写した基材１’を冷却する。
その後、凹凸形成用型４およびレンズ形成用型５を剥離することにより、図１に示すようなマイクロレンズ基板１（本発明のレンズ基板）が得られる。

なお、上述した実施形態では、マイクロレンズ基板を製造する場合について説明したが、例えば、レンチキュラレンズ基板の製造にも適用することができる。
次に、図１に示したマイクロレンズ基板１を用いた透過型スクリーンについて図４、図５を参照しながら説明する。図４は、本発明の透過型スクリーンの光学系を模式的に示す縦断面図、図５は、図４に示す透過型スクリーンの分解斜視図である。

この透過型スクリーン１０は、出射面側表面にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ基板２１０と、フレネルレンズ基板２１０の出射面側に配置され入射面側表面にマイクロレンズ基板１とを備えている。
このように、本実施形態の透過型スクリーン１０は、マイクロレンズ基板１の出射面側に、その表面の平均粗さが０．３μｍ以下となるように、微小の凹凸３が設けられていることにより、外光の反射を防止または抑制することができ、輝度の低下を防止することができる。

以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図６は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
そして、このリア型プロジェクタ３００は、その透過型スクリーン１０として、上述したマイクロレンズ基板１を有した透過型スクリーン１０を用いている。

以上、本発明のレンズ基板、レンズ基板の製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、上述した説明では、本発明のレンズ基板を、マイクロレンズ基板に適用した場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、レンチキュラレンズ基板やフレネルレンズ基板等に適用することもできる。

また、本発明のレンズ基板の製造方法では、必要に応じて、任意の目的の工程を追加することもできる。
また、前述した実施形態では、ブラスト加工により、レンズ基板の微小な凹凸に対応した形状を形成した凹凸形成用型と、凹部形成用型とを用いてレンズ基板を製造するものとして説明したが、凹凸形成用の型を用いずに、複数のレンズを形成した基板に対して直接ブラスト加工を施すことにより、レンズ基板に微小な凹凸を設けたものであってもよい。

また、前述した実施形態では、レンズと凹凸とをほぼ同時に形成するものとして説明したが、レンズを形成した後に凹凸を形成してもよいし、凹凸を形成した後にレンズを形成してもよい。
また、前述した実施形態では、微小な凹凸をレンズ基板のレンズが形成されている面とは反対側の面に形成するものとして説明したが、このような微小な凹凸は、レンズ基板のレンズが形成されている面にも形成されていてもよい。言い換えると、レンズ基板のレンズが形成されている面の表面粗さが０．３μｍ以下であってもよい。これにより、レンズ基板に光が入射する際に、レンズ基板表面での入射光の反射を防止または抑制することができるため、光の利用率が向上する。その結果、輝度が向上する。
また、本発明の透過型スクリーンは、マイクロレンズ基板の出射面側または入射面側に、ブラックマトリクスやブラックストライプや光拡散板や他のマイクロレンズ等をさらに採用した透過型スクリーンであってもよい。

なお、上述した説明では、本発明のレンズ基板を、透過型スクリーンおよび該透過型スクリーンを備えた投射型表示装置に用いた場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、本発明のレンズ基板を、例えば、ＣＣＤ、光通信素子等の各種電気光学装置、液晶表示装置（液晶パネル）、有機または無機ＥＬ（Electroluminescence：エレクトロルミネッセンス）表示装置、その他の装置などに用いることができるのは言うまでもない。
また、表示装置もリアプロジェクション型の表示装置に限定されず、例えば、フロントプロジェクション型の表示装置に本発明のレンズ基板を用いることができる。

（実施例１）
以下のように、レンズ基板（マイクロレンズ基板）を製造した。
まず、平均径７０μｍ、曲率半径５０μｍのマイクロレンズ形成用凹部を複数有するマイクロレンズ形成用型を、スルファミン酸ニッケル溶液を用いたニッケル電鋳により形成した。なお、凹部の平均ピッチは、１００μｍであった。

次に、平滑面を有する、鏡面ステンレス鋼で構成された金属基板を用意した。
次に、金属基板の平滑面に、ウェットブラスト加工により、微小の凹凸を形成し、凹凸形成用型を形成した。なお、ウェットブラスト加工は、平均粒径５μｍのアルミナを水に分散した分散液を噴射ノズルから圧力０．２ＭＰａで、平滑面全体に均一に噴射することにより行った。このウェットブラスト加工は２回行った。

凹凸形成用型の微小な凹凸が形成された面の表面粗さＲｚは、０．３μｍであった。
次に、上記のようにして得られたマイクロレンズ形成用型と凹凸形成用型を用いて、前述した実施形態と同様にして、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）で構成された樹脂基板に熱プレス方式により各型の形状を転写を行った。
樹脂基板を冷却した後、各型を剥離することにより、マイクロレンズ基板を得た。

得られたマイクロレンズ基板のマイクロレンズの曲率半径は７０μｍ、平面視した際の平均径は５０μｍ、マイクロレンズ間の平均ピッチは１００μｍ、マイクロレンズが形成されている面とは反対の面の表面粗さＲｚは０．３μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている面とは反対の面に形成された凹凸の凸部同士の平均ピッチは、０．３μｍ、凹凸の高低差は、０．２μｍであった。

（実施例２〜５）
平均径の異なるアルミナを用いてウェットブラスト加工を施すことにより、表面粗さＲｚが表１に示したような凹凸形成用型を形成した以外は実施例１と同様にマイクロレンズ基板を製造した。
（実施例６）
レンズ形成用型に対して、金属基板と同様にウェットブラスト加工を施した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板を製造した。なお、レンズ形成用型の凹部が形成されている面の表面粗さＲｚは、０．３μｍであった。

（実施例７）
以下のように、レンズ基板（レンチキュラレンズ基板）を製造した。
まず、平均幅７０μｍ、曲率半径５０μｍのレンチキュラレンズ形成用凹部を複数有するレンチキュラレンズ形成用型を、スルファミン酸ニッケル溶液を用いたニッケル電鋳により形成した。なお、凹部の平均ピッチは、１００μｍであった。

次に、得られたレンチキュラレンズ形成用型と、前記実施例１と同様の凹凸形成用型とを用いて、前述した実施形態と同様にして、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）で構成された樹脂基板に熱プレス方式により各型の形状を転写を行った。
樹脂基板を冷却した後、各型を剥離することにより、マイクロレンズ基板を得た。
得られたレンチキュラレンズ基板のレンチキュラレンズの曲率半径は５０μｍ、平面視した際の平均幅は７０μｍ、レンチキュラレンズ間の平均ピッチは１００μｍ、レンチキュラレンズが形成されている面とは反対の面の表面粗さＲｚは０．３μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている面とは反対の面に形成された凹凸の凸部同士の平均ピッチは、０．３μｍ、凹凸の高低差は、０．２μｍであった。

（比較例１）
金属基板の平滑面にウェットブラスト加工を施さなかった以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板を製造した。
（比較例２）
金属基板の平滑面にウェットブラスト加工を施さなかった以外は、前記実施例６と同様にしてレンチキュラレンズ基板を製造した。
各実施例における、型およびマイクロレンズの表面粗さを表１に示した。

［評価］
各実施例および各比較例で得られたレンズ基板を用いて、図４に示すような透過型スクリーンを製造し、該透過型スクリーンを用いて、図５に示すようなリア型プロジェクタを製造し、各実施例および各比較例にかかるリア型プロジェクタの正面輝度（ゲイン）を測定し、比較例にかかるリア型プロジェクタの正面輝度に対する、実施例にかかるリア型プロジェクタの正面輝度の向上率を測定した。結果を表１に合わせて示す。なお、実施例１〜６は比較例１と比較し、実施例７は比較例２と比較した。

実施例１〜７にかかるリア型プロジェクタは、いずれも、比較例のものと比較して、輝度の向上が確認された。これは、レンズ基板の観察者側の面における外光の反射が抑えられたためであると考えられる。特に、レンズ基板のレンズが形成されている面にも微小の凹凸を形成した実施例６にかかるリア型プロジェクタでは、輝度の向上が特に顕著であった。

本発明のレンズ基板を模式的に示した縦断面図である。 本発明のレンズ基板の製造に用いられる凹凸形成用の型を示す縦断面図である。 本発明のレンズ基板の製造方法を説明するための図である。 本発明の透過型スクリーンの光学系を模式的に示す縦断面図である。 図４に示す透過型スクリーンの分解斜視図である。 本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である

符号の説明

１……レンズ基板 ２……マイクロレンズ（レンズ） ３……凹凸 ４……凹凸形成用型 ４１……凹凸 ５……レンズ形成用型 ５１……凹部 １’……基材 １０……透過型スクリーン ２１０……フレネルレンズ基板 ３００……リア型プロジェクタ ３１０……投写光学ユニット ３２０……導光ミラー ３４０……筐体

Claims (15)

1. 複数のレンズが形成されたレンズ基板であって、
   複数の前記レンズが形成されている面とは反対側の面に、その表面粗さＲｚ（ＪＩＳ Ｂ ０６０１に規定の十点平均粗さ）が０．３μｍ以下となるように、微小の凹凸が設けられていることを特徴とするレンズ基板。
2. 前記凹凸の凸部同士の平均ピッチは、複数の前記レンズの平均ピッチの１０％以下である請求項１に記載のレンズ基板。
3. 前記レンズは、マイクロレンズである請求項１または２に記載のレンズ基板。
4. 前記凹凸の凸部同士の平均ピッチは、前記マイクロレンズの平均径の１．０％以下である請求項３に記載のレンズ基板。
5. 前記マイクロレンズの平均径は、１０〜５００μｍである請求項３または４に記載のレンズ基板。
6. 前記レンズは、レンチキュラレンズである請求項１または２に記載のレンズ基板。
7. 前記凹凸の凸部同士の平均ピッチは、前記レンチキュラレンズの平均幅の１．０％以下である請求項６に記載のレンズ基板。
8. 前記レンチキュラレンズの平均幅は、１０〜５００μｍである請求項６または７に記載のレンズ基板。
9. 前記凹凸の凸部同士の平均ピッチは、１．０μｍ以下である請求項１ないし８のいずれかに記載のレンズ基板。
10. 前記凹凸の高低差は、１．０μｍ以下である請求項１ないし９のいずれかに記載のレンズ基板。
11. 請求項１ないし１０のいずれかに記載のレンズ基板を製造する製造方法であって、
    表面に前記微小の凹凸に対応した形状を有する型を用いて、前記微小の凹凸を有するレンズ基板を製造することを特徴とするレンズ基板の製造方法。
12. 前記微小の凹凸に対応した形状は、ブラスト加工により形成されたものである請求項１１に記載のレンズ基板の製造方法。
13. 前記ブラスト加工は、ウェットブラストである請求項１２に記載のレンズ基板の製造方法。
14. 請求項１ないし１０のいずれかに記載のレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
15. 請求項１４に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
    

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