JP2006068625A - 反応装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
厚さ方向に複数の微細貫通孔が形成された基板を複数組み合わせてなる改質部と、前記改質部と同様に前記基板を複数組み合わせてなり化学反応温度が異なる一酸化炭素除去部との間に、率が低い材料からなる低輻射部材を配設し高温部から低温部に対する熱の輻射を低減させる。
【選択図】図1
Description
前記第1の反応部と前記第2の反応部との間に配置され、厚さ方向に貫通孔が設けられた低輻射部材とを有することを特徴とする。
前記第1の反応部及び前記第2の反応部の少なくとも一方は、厚さ方向に貫通孔が形成された基板を備えていることを特徴とする。
前記低輻射部材に形成された前記貫通孔の開口面積は、前記第1の反応部及び前記第2の反応部の少なくとも一方に形成された前記貫通孔の開口面積よりも小さいことを特徴とする。
前記低輻射部材に形成された前記貫通孔の数は、前記第1の反応部及び第2の反応部の少なくとも一方に形成された貫通孔の数より少ないことを特徴とする。
前記低輻射部材と前記第2の反応部との間隔は、前記低輻射部材と前記第1の反応部との間隔に比して長いことを特徴とする。
図1は、本発明を適用した反応装置の要部を示した側断面図である。前記反応装置1は、燃料を化学反応させて水素を生成し、この水素の電気化学反応により発電を行ういわゆる燃料改質型の燃料電池における燃料の改質等に必要な反応装置である。前記燃料電池は、デスクトップ型パーソナルコンピュータ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話機、PDA(Personal digital Assistant)、電子手帳、腕時計、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、ゲーム機器、遊技機、家庭用電気機器、その他の電子機器に備え付けられるものであり、電子機器本体を作動させるための電源として用いられる。
なお、本実施の形態では基板7aに形成される複数の微細貫通孔を六角形の形状としているが、これ以外にも三角形、四角形、多角形、円形等の形状の孔であってもよい。
低輻射部材12は、改質部10で発生する熱が一酸化炭素除去部11に輻射されるのを低減するものであり、熱輻射率の低い材料から形成されるものである。即ち、改質部10及び一酸化炭素除去部11で行われるいずれの化学反応も、その好適な反応を行うために、改質部10を構成する基板7a及び一酸化炭素除去部11を構成する基板7bに設けられたヒータ18による加熱を必要とする。ここで、改質部10で燃料の好適な改質を行うための反応温度の範囲は、一酸化炭素除去部11での好適な一酸化炭素除去反応を行うための反応温度の範囲より高いものである。そこで、低輻射部材12の改質部10に対向する面12aを熱輻射率の低い材料で形成することで、高い反応温度範囲を有する改質部10から一酸化炭素除去部11に対する熱の輻射を低減するようになっている。
また、この低輻射部材12の改質部10と対向する面12aは、基板7aに備えられたヒータ18からの熱の熱源となる電磁波の反射率が高いことが好ましい。即ち、電磁波を反射して、改質部10を効率的に所望の温度に保つためである。
更に、低輻射部材12の一酸化炭素除去部11と対向する面12bも、基板7bに備えられたヒータ18からの熱の熱源となる電磁波の反射率が高いことが好ましい。即ち、電磁波を反射して一酸化炭素除去部11を効率的に所望の温度に保つためである。
熱輻射率が低く且つ熱源となる電磁波の反射率が高い材料としては、具体的には、金、アルミ等があり、低輻射部材12の基材(例えばガラス板やセラミック板)の改質部10や一酸化炭素除去部11と対向する面12a、12bの表層に、それぞれCVD(Chemical Vapor Deposition)法やPVD(Physical Vapor Deposition)法等の蒸着法、スパッタリング法又はメッキ等の気相成長法により金又はアルミ等の薄膜が形成されてもよい。また低輻射部材12自体を金又はアルミの板等の低反射板で形成してもよい。
燃料供給口5から気化された状態で供給された燃料は、改質部10の基板7aに形成された流路13aの内壁に担持された触媒層15の作用により水素改質がなされる。この触媒層15の化学反応は、250℃〜300℃で効率よく発生するため、各基板7aの流路13aの間に配設されたヒータ18に電圧を印加することで発熱させこのような反応温度を維持する。
CH3OH+H2O→3H2+CO2 … (1)
2CH3OH+H2O→5H2+CO+CO2 … (2)
2CO+O2→2CO2 … (3)
H2→2H++2e‐ … (4)
次に、図6及び図7を用いて第2の実施形態について説明する。
第2の実施形態における小型反応装置は第1の実施形態における本体2、支持部材8a及び8bにおいて相違し、他の構成については同様である。以下、同一構成を示す部分については第1の実施形態と同一の符号を付して説明を省略し、異なる部分について説明をする。
即ち化学反応を促進するために改質部10はヒータ18により高温とされているため、反応温度が改質部10と比して低温とされる一酸化炭素除去部11の化学反応に、改質部10から輻射される熱による影響を低減させるためである。
本体2の上面に設けられた燃料供給口5から上述した気化部23で気化された燃料が供給され改質部10の基板7aに設けられた流路13aを流通する。このとき前記流路13aの内壁に担持される触媒層15の作用と、基板7aに配設されたヒータ18の熱により燃料が好適に改質される。
上記各実施形態では、反応装置1として改質部10及び一酸化炭素除去部11を本体2内に収容し、改質部10及び一酸化炭素除去部11の間に、流路13cが設けられた低輻射部材12を配置したが、気化部23、改質部10及び一酸化炭素除去部11を本体2に収容し、気化部23及び改質部10の間に流路13cが設けられた低輻射部材12を配置し、改質部10及び一酸化炭素除去部11の間に低輻射部材12を配置してもよい。このような構造をとることによって気化部23、改質部10及び一酸化炭素除去部11の間で、低温の反応部が高温の反応部によって過熱することを防止でき、それぞれ所望の温度に保持することができる。
また上記各実施形態では、改質部10及び一酸化炭素除去部11がそれぞれ三枚、二枚であったが、これら数枚に限らず、異なる複数枚の基板であってもよく、改質部10及び一酸化炭素除去部11の少なくとも一方は単数の基板のみで構成されていてもよい。
また上記各実施形態では、改質部10及び一酸化炭素除去部11は、ともに流路が基板の厚さ方向に伸びた貫通孔であったが、改質部10及び一酸化炭素除去部11の少なくとも一方は、基板の面方向に伸びた流路と流路の端部に貫通孔とを設けた構造であってもよい。
2 本体
5 燃料供給
6 燃料排出
7a、7b 基板
8a、8b 支持部材
10 燃料改質部
11 一酸化炭素除去部
12 低輻射部材
13a、13b、13c 流路
15、20 触媒層
18 ヒータ
21 燃料容器
22 燃料用ポンプ
23 気化部
24 ヒータ
25 空気用ポンプ
26 燃料電池
32 本体
33a、33b 側壁面
34 嵌合溝
Claims (7)
- 第1の反応温度で反応する第1の反応部と、
前記第1の反応温度よりも低い第2の反応温度で反応する第2の反応部と、
前記第1の反応部と前記第2の反応部との間に配置され、厚さ方向に貫通孔が設けられた低輻射部材と、
を有することを特徴とする反応装置。 - 前記低輻射部材は、少なくとも一方の面が、前記第1の反応部よりも熱輻射率の低い材料で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の反応装置。
- 前記低輻射部材における前記第1の反応部と第2の反応部の一方との対向面の面積は、前記第1の反応部と前記第2の反応部の一方における前記低輻射部材との対向面の面積よりも大きいことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の反応装置。
- 前記第1の反応部及び前記第2の反応部の少なくとも一方は、厚さ方向に貫通孔が形成された基板を備えていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の反応装置。
- 前記低輻射部材に形成された前記貫通孔の開口面積は、前記第1の反応部及び前記第2の反応部の少なくとも一方に形成された前記貫通孔の開口面積よりも小さいことを特徴とする請求項4に記載の反応装置。
- 前記低輻射部材に形成された前記貫通孔の数は、前記第1の反応部及び前記第2の反応部の少なくとも一方に形成された貫通孔の数より少ないことを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の反応装置。
- 前記低輻射部材と前記第2の反応部との間隔は、前記低輻射部材と前記第1の反応部との間隔に比して長いことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の反応装置。
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