JP2006048793A - Memory cell, and semiconductor memory apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、SRAM(static random access memory)などの半導体のメモリセルと、これを用いて構成される半導体記憶装置に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor memory cell such as an SRAM (Static Random Access Memory) and a semiconductor memory device using the same.
SRAMは、高速な読み書き動作が可能であるとともに、DRAM(Dynamic RAM)のような記憶データのリフレッシュ動作が不要で周辺回路を簡易化できる利点から、キャッシュメモリや携帯端末のメモリなどの、高速性や簡易性が要求される比較的小容量の記憶装置として広く使用されている。 SRAMs can perform high-speed read / write operations, and do not require refresh operations for stored data like DRAM (Dynamic RAM), and can simplify peripheral circuits. In addition, it is widely used as a relatively small-capacity storage device that requires simplicity and simplicity.
SRAMのメモリセル(以下、SRAMセルと呼ぶ)の基本的な構成として、6つのトランジスタを用いた6トランジスタ型SRAMセルが一般的に知られている。 As a basic configuration of an SRAM memory cell (hereinafter referred to as an SRAM cell), a six-transistor SRAM cell using six transistors is generally known.
図7は、6トランジスタ型のSRAMセルを示す回路図である。図7に示すSRAMセルは、nチャンネルMOS型のトランジスタQ102,Q104,Q105,Q106と、pチャンネルMOS型のトランジスタQ101,Q103と有する。 FIG. 7 is a circuit diagram showing a 6-transistor type SRAM cell. The SRAM cell shown in FIG. 7 includes n-channel MOS transistors Q102, Q104, Q105, and Q106 and p-channel MOS transistors Q101 and Q103.
トランジスタQ101およびQ102は、ドレインがノードNaに、ゲートがノードNbにそれぞれ接続されている。トランジスタQ101のソースは電源電圧VDDに、トランジスタQ102のソースは基準電位Gにそれぞれ接続されている。このトランジスタQ101およびQ102によって、ノードNbを入力、ノードNaを出力とする1つのCMOSインバータが構成されている。 Transistors Q101 and Q102 have their drains connected to node Na and their gates connected to node Nb. The source of the transistor Q101 is connected to the power supply voltage VDD, and the source of the transistor Q102 is connected to the reference potential G. Transistors Q101 and Q102 constitute one CMOS inverter having node Nb as input and node Na as output.
トランジスタQ103およびQ104は、ドレインがノードNbに、ゲートがノードNaにそれぞれ接続されている。トランジスタQ103のソースは電源電圧VDDに、トランジスタQ104のソースは基準電位Gにそれぞれ接続されている。このトランジスタQ103およびQ104によって、ノードNaを入力、ノードNbを出力とする1つのCMOSインバータが構成されている。 Transistors Q103 and Q104 have their drains connected to node Nb and their gates connected to node Na. The source of the transistor Q103 is connected to the power supply voltage VDD, and the source of the transistor Q104 is connected to the reference potential G. Transistors Q103 and Q104 constitute one CMOS inverter having node Na as an input and node Nb as an output.
上述した2つのCMOSインバータは、互いの入力と出力がリング状に接続されており、1つの記憶回路を構成している。 In the two CMOS inverters described above, the inputs and outputs of each other are connected in a ring shape to form one memory circuit.
トランジスタQ105はビット線BLとノードNaとの間に接続され、トランジスタQ106はビット線XBLとノードNbとの間に接続される。トランジスタQ105およびQ106は、ゲートがそれぞれワード線WLに接続されており、ワード線WLのレベルに応じて共通にオンまたはオフする。 Transistor Q105 is connected between bit line BL and node Na, and transistor Q106 is connected between bit line XBL and node Nb. Transistors Q105 and Q106 have gates connected to word line WL, and are turned on or off in common according to the level of word line WL.
上述した構成を有する6トランジスタ型SRAMセルの動作を説明する。
リング状に接続されたCMOSインバータによる記憶回路においては、ノードNaおよびNbの信号レベルが互いに相補的なレベルに保持される。すなわち、ノードNaがハイレベルのときノードNbはローレベルになり、ノードNaがローレベルのときノードNbはハイレベルになる。従って、この記憶回路には、ノードNaおよびNbの信号レベルに応じた1ビットのデータが記憶される。
The operation of the 6-transistor SRAM cell having the above-described configuration will be described.
In a memory circuit using CMOS inverters connected in a ring shape, the signal levels of nodes Na and Nb are held at complementary levels. That is, when the node Na is at a high level, the node Nb is at a low level, and when the node Na is at a low level, the node Nb is at a high level. Therefore, 1-bit data corresponding to the signal levels of the nodes Na and Nb is stored in this storage circuit.
記憶回路にデータを保持させる期間において、ワード線WLはローレベルに設定される。これにより、トランジスタQ105およびQ106がオフの状態となり、記憶回路のノードNaおよびNbとビット線BLおよびXBLとが分離された状態になる。 In the period in which the memory circuit holds data, the word line WL is set to a low level. Thus, transistors Q105 and Q106 are turned off, and nodes Na and Nb of the memory circuit and bit lines BL and XBL are separated.
記憶回路からデータを読み出す場合は、まず、図示しないプルアップ回路によってビット線BLおよびXBLが予め電源電圧VDDにプルアップされ、ビット線BLおよびXBLの寄生容量が電源電圧VDDまで充電される。次いで、電源電圧VDDへのプルアップを解除した後、ワード線WLにハイレベルの信号が入力されて、記憶回路のノードNaおよびNbとビット線BLおよびXBLとが接続される。これにより、ノードNaおよびNbの信号レベルに応じてビット線BLまたはXBLの電圧が変化する。 When reading data from the memory circuit, first, the bit lines BL and XBL are previously pulled up to the power supply voltage VDD by a pull-up circuit (not shown), and the parasitic capacitances of the bit lines BL and XBL are charged to the power supply voltage VDD. Next, after releasing the pull-up to the power supply voltage VDD, a high level signal is input to the word line WL, and the nodes Na and Nb of the memory circuit and the bit lines BL and XBL are connected. Thereby, the voltage of the bit line BL or XBL changes according to the signal levels of the nodes Na and Nb.
例えばノードNaがハイレベルでノードNbがローレベルの場合、ビット線BLとノードNaはほぼ等しい電圧であるため、トランジスタQ105に電流は流れずビット線BLの電位は電源電圧VDDのまま変化しないが、ビット線XBLはノードNbに比べて電圧が高いため、ビット線XBLからノードNbへ電流が流れてビット線XBLの電位は低下する。このビット線BLとXBLとの電位差(または電流差)が図示しないセンスアンプによって増幅され、記憶回路のデータとして読み出される。 For example, when the node Na is at a high level and the node Nb is at a low level, the bit line BL and the node Na are at substantially the same voltage, so that no current flows through the transistor Q105 and the potential of the bit line BL remains unchanged at the power supply voltage VDD. Since the voltage of the bit line XBL is higher than that of the node Nb, a current flows from the bit line XBL to the node Nb, and the potential of the bit line XBL decreases. The potential difference (or current difference) between the bit lines BL and XBL is amplified by a sense amplifier (not shown) and read as data of the memory circuit.
一方、記憶回路にデータを書き込む場合は、書き込むデータの値に応じてビット線BLおよびXBLの何れか一方が基準電位Gにプルダウンされ、他方が電源電圧VDDにプルアップされた状態で、ワード線WLにハイレベルの信号が入力される。これにより、ノードNaおよびノードNbの電位はそれぞれビット線BLおよびXBLの電位と等しくなり、記憶回路のデータが書き換えられる。 On the other hand, when data is written to the memory circuit, one of the bit lines BL and XBL is pulled down to the reference potential G according to the value of the data to be written, and the other is pulled up to the power supply voltage VDD. A high level signal is input to WL. Thereby, the potentials of the node Na and the node Nb become equal to the potentials of the bit lines BL and XBL, respectively, and the data in the memory circuit is rewritten.
ところで近年では、半導体回路の加工寸法の微細化が進んでおり、電源電圧が低下する傾向にある。電源電圧が低下すると、トランジスタのしきい電圧も低下するため、上述した6トランジスタ型のSRAMにおいては、意図しない記憶データの破壊が起こり易くなっている。 By the way, in recent years, processing dimensions of semiconductor circuits have been miniaturized, and power supply voltage tends to decrease. When the power supply voltage is lowered, the threshold voltage of the transistor is also lowered. Therefore, in the above-described 6-transistor type SRAM, unintended storage data is easily destroyed.
例えばビット線BLおよびXBLを電源電圧VDDにプルアップして読み出しを行う場合、ローレベルの信号が保持されているノードにビット線から電流が流れ込むため、ノードの電圧がローレベルから僅に上昇する。トランジスタのしきい電圧が低いと、この僅な電圧上昇によってノードの信号レベルがローレベルからハイレベルへ反転し易くなる。 For example, when reading is performed by pulling up the bit lines BL and XBL to the power supply voltage VDD, current flows from the bit line to the node holding the low-level signal, so that the node voltage slightly increases from the low level. . When the threshold voltage of the transistor is low, the signal level of the node is easily inverted from the low level to the high level by this slight voltage increase.
また、トランジスタのしきい電圧の低下に伴って、オフ状態のトランジスタに流れるリーク電流が無視できない大きさになってきており、これによる消費電力の増大が問題となっている。 In addition, as the threshold voltage of the transistor decreases, the leakage current flowing through the off-state transistor has become a non-negligible magnitude, which increases the power consumption.
例えば、メモリアクセスを行わないスタンバイ状態において、ワード線WLをローレベル、ビット線BLおよびXBLをハイレベルに設定するものとする。このスタンバイ状態において、ノードNaにハイレベル、ノードNbにローレベルの信号が保持されていると、図7に示すように、3つのトランジスタQ102,Q103,Q106にはそれぞれリーク電流ILa,ILb,ILcが定常的に流れる。各メモリセルにおいてこのようなリーク電流が流れると、SRAMの全体では非常に大きな電力損失になる。 For example, assume that the word line WL is set to a low level and the bit lines BL and XBL are set to a high level in a standby state where no memory access is performed. In this standby state, if a high level signal is held at the node Na and a low level signal is held at the node Nb, the leakage currents ILa, ILb, ILc are respectively supplied to the three transistors Q102, Q103, Q106 as shown in FIG. Flows constantly. When such a leak current flows in each memory cell, the entire SRAM causes a very large power loss.
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、ビット線からの電気的影響による記憶データの破壊を起こし難くすることができるメモリセルと、これを用いた半導体記憶装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a memory cell that can hardly cause destruction of stored data due to an electrical influence from a bit line, and a semiconductor memory device using the memory cell. There is to do.
上記目的を達成するため、第1の発明のメモリセルは、第1のノードの信号レベルを保持する記憶回路と、第1のビット線と基準電位との間に接続され、上記第1のノードの信号レベルに応じてオンまたはオフする第1のトランジスタと、上記第1のビット線もしくは上記基準電位と上記第1のトランジスタとを接続する配線上に挿入され、入力される読み出し制御信号に応じてオンまたはオフする第2のトランジスタとを有する。 To achieve the above object, a memory cell according to a first aspect of the present invention is connected between a memory circuit holding a signal level of a first node, a first bit line, and a reference potential, and the first node The first transistor that is turned on or off according to the signal level of the first and the first bit line or the wiring connecting the reference potential and the first transistor is inserted, and in accordance with the input read control signal And a second transistor that is turned on or off.
上記第1の発明によると、上記記憶回路の記憶データを読み出す場合、上記読み出し制御信号に応じて上記第2のトランジスタがオンに設定されて、上記第1のビット線と上記基準電位とが上記第1のトランジスタを介して接続された状態になる。上記第1のトランジスタは、上記記憶回路に保持される上記第1のノードの信号レベルに応じてオンまたはオフするため、上記第1のビット線は、上記記憶回路の記憶データに応じて、上記基準電位と接続されるか、もしくは上記基準電位と切り離された状態になる。
このとき、例えば上記第1のビット線を所定電圧にプリチャージする、あるいは上記第1のビット線を定電流駆動するなど、上記第1のビット線に電気信号を入力すると、上記第1のビット線からは、上記第1のビット線と上記基準電位との接続状態の情報(すなわち上記記憶回路の記憶データ)が電気信号として得られる。
この読み出し時において、上記第1のノードには、上記第1のビット線の電気信号が直接入力されないため、上記第1のビット線からの電気的影響による記憶データの破壊が起こり難くなる。
According to the first aspect of the invention, when the storage data of the storage circuit is read, the second transistor is turned on in response to the read control signal, and the first bit line and the reference potential are The connection is made through the first transistor. The first transistor is turned on or off in accordance with the signal level of the first node held in the memory circuit, so that the first bit line corresponds to the data stored in the memory circuit. It is connected to the reference potential or disconnected from the reference potential.
At this time, if an electric signal is input to the first bit line, for example, the first bit line is precharged to a predetermined voltage, or the first bit line is driven at a constant current, the first bit line is Information on the connection state between the first bit line and the reference potential (that is, data stored in the memory circuit) is obtained from the line as an electrical signal.
At the time of reading, since the electric signal of the first bit line is not directly input to the first node, the stored data is hardly destroyed due to the electric influence from the first bit line.
なお、上記記憶回路は、第2のノードの信号レベルを、上記第1のノードの信号レベルに対して相補的なレベルに保持しても良い。また、上記第1の発明は、第2のビット線と上記基準電位との間に接続され、上記第2のノードの信号レベルに応じて上記第1のトランジスタと相補的にオンまたはオフする第3のトランジスタと、上記第2のビット線もしくは上記基準電位と上記第3のトランジスタとを接続する配線上に挿入され、上記読み出し制御信号に応じて上記第2のトランジスタと共通にオンまたはオフする第4のトランジスタとを更に有しても良い。 Note that the memory circuit may hold the signal level of the second node at a level complementary to the signal level of the first node. The first invention is connected between the second bit line and the reference potential, and is turned on or off complementarily with the first transistor in accordance with the signal level of the second node. 3 and the second bit line or a wiring connecting the reference potential and the third transistor, and is turned on or off in common with the second transistor according to the read control signal. A fourth transistor may be further included.
上記の構成において上記記憶回路の記憶データを読み出す場合、上記読み出し制御信号に応じて、上記第2のトランジスタとともに上記第4のトランジスタもオンに設定される。これにより、上記第2のビット線と上記基準電位とが上記第3のトランジスタを介して接続された状態になる。上記第3のトランジスタは、上記第1のノードの信号レベルに対して相補的な上記第2のノードの信号レベルに応じてオンまたはオフするため、上記第1および第2のビット線は、上記記憶回路の記憶データに応じて、相補的に上記基準電位と接続される。すなわち、一方のビット線が上記基準電位に接続された状態になり、他方のビット線が上記基準電圧と切り離された状態になる。
このとき、例えば上記第1および第2のビット線を所定電圧にプリチャージする、あるいは上記第1および第2のビット線を定電流駆動するなど、上記第1および第2のビット線に電気信号を入力すると、上記第1および第2のビット線からは、上記第1および第2のビット線と上記基準電位との接続状態の情報(すなわち上記記憶回路の記憶データ)が電気信号として得られる。
この読み出し時において、上記第1および第2のノードと上記第1および第2のビット線とがスイッチ等によって直接電気的に接続されることがないため、これらのビット線からの電気的影響による記憶データの破壊が起こり難くなる。
In reading data stored in the memory circuit in the above configuration, the fourth transistor is also turned on together with the second transistor in accordance with the read control signal. As a result, the second bit line and the reference potential are connected via the third transistor. The third transistor is turned on or off according to the signal level of the second node that is complementary to the signal level of the first node, so that the first and second bit lines are Depending on the data stored in the memory circuit, the reference potential is complementarily connected. That is, one bit line is connected to the reference potential, and the other bit line is disconnected from the reference voltage.
At this time, for example, the first and second bit lines are precharged to a predetermined voltage, or the first and second bit lines are driven with a constant current. Is inputted, information on the connection state between the first and second bit lines and the reference potential (that is, data stored in the memory circuit) is obtained as an electrical signal from the first and second bit lines. .
At the time of reading, the first and second nodes and the first and second bit lines are not directly electrically connected by a switch or the like, and therefore, due to an electrical influence from these bit lines. Destruction of stored data is unlikely to occur.
また、上記第1の発明は、上記第1のノードと上記基準電位との間に接続され、上記第1のビット線から入力される書き込み信号に応じてオンまたはオフする第5のトランジスタと、上記第1のノードもしくは上記基準電位と上記第5のトランジスタとを接続する配線上に挿入され、入力される書き込み制御信号に応じてオンまたはオフする第6のトランジスタと、上記第2のノードと上記基準電位との間に接続され、上記第2のビット線から入力される書き込み信号に応じて上記第5のトランジスタと相補的にオンまたはオフする第7のトランジスタと、上記第2のノードもしくは上記基準電位と上記第7のトランジスタとを接続する配線上に挿入され、上記書き込み制御信号に応じて上記第6のトランジスタと共通にオンまたはオフする第8のトランジスタとを更に有しても良い。 In the first invention, a fifth transistor is connected between the first node and the reference potential and is turned on or off in response to a write signal input from the first bit line. A sixth transistor which is inserted on a wiring connecting the first node or the reference potential and the fifth transistor and which is turned on or off in accordance with an input write control signal; and the second node; A seventh transistor connected between the reference potential and turned on or off in a complementary manner to the fifth transistor in response to a write signal input from the second bit line; and the second node or Inserted on a wiring connecting the reference potential and the seventh transistor, and is turned on or off in common with the sixth transistor in accordance with the write control signal. It may further have a eighth transistor.
上記の構成において上記記憶回路にデータを書き込む場合、上記書き込み制御信号に応じて、上記第6および第8のトランジスタが共にオンに設定される。これにより、上記第1のノードと上記基準電位とが上記第5のトランジスタを介して接続された状態になるとともに、上記第2のノードと上記基準電位とが上記第7のトランジスタを介して接続された状態になる。上記第5および第7のトランジスタは、上記第1および第2のビット線から入力される書き込み信号に応じて相補的にオンまたはオフするため、上記第1および第2のノードは、上記書き込み信号に応じて相補的に上記基準電位と接続される。すなわち、一方のノードが上記基準電位に接続された状態になり、他方のノードが上記基準電圧と切り離された状態になる。その結果、上記第1および第2のノードの信号レベルは、上記第1および第2のビット線より入力される書き込み信号に応じた信号レベルに設定される。
上記の構成によると、読み出し時および書き込み時の何れにおいても、上記第1および第2のノードと上記第1および第2のビット線とがスイッチ等により直接電気的に接続されることがないため、これらのビット線からの電気的影響による記憶データの破壊が起こり難くなる。
In the above configuration, when data is written to the memory circuit, both the sixth and eighth transistors are turned on in accordance with the write control signal. As a result, the first node and the reference potential are connected via the fifth transistor, and the second node and the reference potential are connected via the seventh transistor. It will be in the state. Since the fifth and seventh transistors are complementarily turned on or off in accordance with the write signals input from the first and second bit lines, the first and second nodes are connected to the write signal. And the reference potential is connected in a complementary manner. That is, one node is connected to the reference potential and the other node is disconnected from the reference voltage. As a result, the signal levels of the first and second nodes are set to signal levels corresponding to the write signals input from the first and second bit lines.
According to the above configuration, the first and second nodes and the first and second bit lines are not directly electrically connected by a switch or the like in both reading and writing. The stored data is less likely to be destroyed due to electrical influences from these bit lines.
第2の発明の半導体記憶装置は、行列状に配列された複数のメモリセルと、同一行のメモリセルにそれぞれ接続される複数の第1のワード線と、同一列のメモリセルにそれぞれ接続される複数の第1のビット線とを有する半導体記憶装置であって、上記メモリセルは、上記第1の発明と同様の構成を有する。ただし、上記第1のワード線から上記メモリセルへ上記読み出し制御信号が入力される。
この第2の発明によると、上記記憶回路からのデータの読み出し時において、上記第1のノードには、上記第1のビット線の電気信号が直接入力されないため、上記第1のビット線からの電気的影響による記憶データの破壊が起こり難くなる。
The semiconductor memory device of the second invention is connected to the plurality of memory cells arranged in a matrix, the plurality of first word lines connected to the memory cells in the same row, and the memory cells in the same column, respectively. A plurality of first bit lines, wherein the memory cell has a configuration similar to that of the first invention. However, the read control signal is input from the first word line to the memory cell.
According to the second aspect of the invention, when reading data from the memory circuit, since the electric signal of the first bit line is not directly input to the first node, the signal from the first bit line is not input. Destruction of stored data due to electrical influence is less likely to occur.
なお、上記第2の発明は、同一列のメモリセルにそれぞれ接続される複数の第2のビット線を有しても良い。また、上記記憶回路は、第2のノードの信号レベルを、上記第1のノードの信号レベルに対して相補的なレベルに保持しても良い。上記メモリセルは、上記第1の発明と同様に、上記第3のトランジスタと上記第4のトランジスタとを更に含んでも良い。
上記構成によると、上記記憶回路からのデータの読み出し時において、上記第1および第2のノードと上記第1および第2のビット線とがスイッチ等によって直接電気的に接続されることがないため、これらのビット線からの電気的影響による記憶データの破壊が起こり難くなる。
The second aspect of the invention may include a plurality of second bit lines connected to the memory cells in the same column. The memory circuit may hold the signal level of the second node at a level complementary to the signal level of the first node. The memory cell may further include the third transistor and the fourth transistor, as in the first invention.
According to the above configuration, when reading data from the memory circuit, the first and second nodes and the first and second bit lines are not directly electrically connected by a switch or the like. The stored data is less likely to be destroyed due to electrical influences from these bit lines.
また、上記第2の発明は、同一行のメモリセルにそれぞれ接続される複数の第2のワード線を有しても良い。上記メモリセルは、上記第1の発明と同様に、上記第5のトランジスタと、上記第6のトランジスタと、上記第7のトランジスタと、上記第8のトランジスタとを含んでも良い。
上記の構成によると、読み出し時および書き込み時の何れにおいても、上記第1および第2のノードと上記第1および第2のビット線とがスイッチ等により直接電気的に接続されることがないため、これらのビット線からの電気的影響による記憶データの破壊が起こり難くなる。
The second invention may include a plurality of second word lines connected to the memory cells in the same row. Similar to the first invention, the memory cell may include the fifth transistor, the sixth transistor, the seventh transistor, and the eighth transistor.
According to the above configuration, the first and second nodes and the first and second bit lines are not directly electrically connected by a switch or the like in both reading and writing. The stored data is less likely to be destroyed due to electrical influences from these bit lines.
また、上記第2の発明は、上記メモリセルに対するアクセスが行われない場合に上記第1のビット線および上記第2のビット線の電位を上記基準電位に設定するビット線制御回路を有しても良い。
上記第1のビット線および上記第2のビット線の電位を上記基準電位に設定すると、上記第1および第2のトランジスタの両端の電位ならびに上記第3および第4のトランジスタの両端の電位が何れも上記基準電位と等しくなるため、これらのトランジスタにはほとんどリーク電流が流れなくなる。
The second invention has a bit line control circuit for setting the potentials of the first bit line and the second bit line to the reference potential when the memory cell is not accessed. Also good.
When the potentials of the first bit line and the second bit line are set to the reference potential, the potentials at both ends of the first and second transistors and the potentials at both ends of the third and fourth transistors are either Since this becomes equal to the reference potential, almost no leakage current flows through these transistors.
更に、上記第5のトランジスタは、上記第1のビット線の電位が上記基準電位の場合にオフになり、上記第7のトランジスタは、上記第2のビット線の電位が上記基準電位の場合にオフになっても良い。
これにより、上記第1および第2のビット線が上記ビット線制御回路によって上記基準電位に設定されると、このビット線に接続されるメモリセルにおいて上記第5および第7のトランジスタが何れもオフになる。その結果、上記第1のノードと上記基準電位との間に接続される上記第5および第6のトランジスタは共にオフになり、これらのトランジスタに流れるリーク電流は非常に小さくなる。また、このメモリセルにおいては、上記第2のノードと上記基準電位との間に接続される上記第7および第8のトランジスタも共にオフになるため、これらのトランジスタに流れるリーク電流は非常に小さくなる。
Further, the fifth transistor is turned off when the potential of the first bit line is the reference potential, and the seventh transistor is turned off when the potential of the second bit line is the reference potential. It may be turned off.
Thus, when the first and second bit lines are set to the reference potential by the bit line control circuit, both the fifth and seventh transistors are turned off in the memory cell connected to the bit line. become. As a result, both the fifth and sixth transistors connected between the first node and the reference potential are turned off, and the leakage current flowing through these transistors becomes very small. In this memory cell, since the seventh and eighth transistors connected between the second node and the reference potential are both turned off, the leakage current flowing through these transistors is very small. Become.
本発明によれば、ビット線からの電気的影響による記憶データの破壊を起こし難くすることができる。 According to the present invention, it is possible to make it difficult to cause destruction of stored data due to an electrical influence from a bit line.
図1は、本発明の実施形態に係る半導体記憶装置の構成の一例を示す図である。 FIG. 1 is a diagram showing an example of a configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
図1に示す半導体記憶装置は、制御回路1と、行デコード回路2と、データ入出力回路3と、ビット線制御回路4と、メモリセルアレイMAとを有する。
ビット線制御回路4は、本発明のビット線制御回路の一実施形態である。
The semiconductor memory device shown in FIG. 1 includes a control circuit 1, a
The bit line control circuit 4 is an embodiment of the bit line control circuit of the present invention.
メモリセルアレイMAは、行列状に配列された複数のメモリセルMCを含む。
同一行のメモリセルは、共通の読み出し用ワード線RWLと共通の書き込み用ワード線WWLにそれぞれ接続される。
同一列のメモリセルは、共通のビット線対(BL,XBL)にそれぞれ接続される。
なお、メモリセルMCは、本発明のメモリセルの一実施形態である。
読み出し用ワード線RWLは、本発明の第1のワード線の一実施形態である。
書き込み用ワード線WWLは、本発明の第2のワード線の一実施形態である。
ビット線BLは、本発明の第1のビット線の一実施形態である。
ビット線XBLは、本発明の第2のビット線の一実施形態である。
Memory cell array MA includes a plurality of memory cells MC arranged in a matrix.
The memory cells in the same row are connected to a common read word line RWL and a common write word line WWL, respectively.
The memory cells in the same column are respectively connected to a common bit line pair (BL, XBL).
Memory cell MC is an embodiment of the memory cell of the present invention.
The read word line RWL is an embodiment of the first word line of the present invention.
The write word line WWL is an embodiment of the second word line of the present invention.
Bit line BL is an embodiment of the first bit line of the present invention.
Bit line XBL is an embodiment of the second bit line of the present invention.
制御回路1は、メモリセルアレイMAに対する読み出し動作や書き込み動作を実行するために必要となる種々の制御信号を生成して、行デコード回路2、データ入出力回路3、ビット線制御回路4に供給する。例えば、選択信号R/Wに応じて読み出しまたは書き込みの何れの動作を実行するか選択し、イネーブル信号ENがアクティブ状態に設定された場合に、当該選択した動作を実行するための種々の制御信号を生成する。
The control circuit 1 generates various control signals necessary for executing a read operation and a write operation on the memory cell array MA, and supplies the control signals to the
行デコード回路2は、データ読み出し時において、制御回路1からの制御信号に従ってアドレスデータADD1をデコードし、このデコード結果に応じて、複数のメモリセルMCに接続される複数の読み出し用ワード線RWLの中から1本を選択し活性化する。データ書き込み時においては、制御回路1からの制御信号に従ってアドレスデータADD1をデコードし、このデコード結果に応じて、複数のメモリセルMCに接続される複数の書き込み用ワード線WWLの中から1本を選択し活性化する。
The
データ入出力回路3は、データの読み出し時または書き込み時において、制御回路1からの制御信号に従ってアドレスデータADD2をデコードし、このデコード結果に応じて、複数のメモリセルMCに接続される複数のビット線対(BL,XBL)の中から、所定データ長(例えば1バイト)のデータに対応する1群のビット線対を選択する。
そして、データの読み出しを行う場合、選択したビット線対のビット線間に生じる電圧差もしくは電流差を内蔵するセンスアンプが増幅し、読み出しデータDoutとして出力する。
データの書き込みを行う場合は、入力される書き込みデータDinに基づいて、内蔵する書き込みバッファ回路が上記選択したビット線対の2つのビット線を相補的に駆動する。すなわち、書き込みデータDinの各ビットの値に応じて、選択したそれぞれのビット線対の一方をハイレベル、他方をローレベルに駆動する。
The data input /
When data is read, a sense amplifier incorporating a voltage difference or a current difference generated between the bit lines of the selected bit line pair is amplified and output as read data Dout.
When data is written, the built-in write buffer circuit drives the two bit lines of the selected bit line pair in a complementary manner based on the input write data Din. That is, according to the value of each bit of the write data Din, one of the selected bit line pairs is driven to a high level and the other is driven to a low level.
ビット線制御回路4は、制御回路1からの制御信号に従って、ビット線対(BL,XBL)に供給する電圧や電流を制御する。
例えば、データの読み出し時において、読み出し用ワード線RWLを活性化する前にビット線対(BL,XBL)を電源電圧VDDにプルアップして、ビット線対(BL,XBL)の寄生容量を電源電圧VDDまで充電させる。その後、プルアップを解除し、読み出し用ワード線RWLを活性化することにより、ビット線BLおよびXBLの間にはメモリセルMCの記憶データに応じた電位差が生じる。データ入出力回路3のセンスアンプは、このビット線間に生じる電位差を増幅する。
The bit line control circuit 4 controls the voltage and current supplied to the bit line pair (BL, XBL) according to the control signal from the control circuit 1.
For example, when reading data, before activating the read word line RWL, the bit line pair (BL, XBL) is pulled up to the power supply voltage VDD to supply the parasitic capacitance of the bit line pair (BL, XBL) as a power source. Charge to voltage VDD. Thereafter, the pull-up is canceled and the read word line RWL is activated, so that a potential difference corresponding to the data stored in the memory cell MC is generated between the bit lines BL and XBL. The sense amplifier of the data input /
あるいは、ビット線制御回路4は、データの読み出し時において、読み出し用ワード線RWLの活性化期間にビット線対の各ビット線を定電流駆動しても良い。この場合、ビット線対のビット線間には、メモリセルMCの記憶データに応じた電流差が生じる。データ入出力回路3のセンスアンプは、このビット線間に生じる電流差を増幅する。
Alternatively, the bit line control circuit 4 may drive each bit line of the bit line pair at a constant current during the activation period of the read word line RWL during data reading. In this case, a current difference corresponding to the storage data of the memory cell MC is generated between the bit lines of the bit line pair. The sense amplifier of the data input /
更に、ビット線制御回路4は、メモリアクセスに対するアクセスが行われない場合において、各列のビット線対(BL,XBL)を基準電位Gにする。これにより、後ほど詳しく述べるように、ビット線対(BL,XBL)からメモリセルMCへ流れるリーク電流が小さくなり、電力損失が抑制される。 Further, the bit line control circuit 4 sets the bit line pair (BL, XBL) of each column to the reference potential G when the memory access is not performed. As a result, as will be described in detail later, a leak current flowing from the bit line pair (BL, XBL) to the memory cell MC is reduced, and power loss is suppressed.
次に、メモリセルMCの詳細な構成について説明する。
図2は、本発明の実施形態に係るメモリセルMCの構成の一例を示す図である。
Next, a detailed configuration of the memory cell MC will be described.
FIG. 2 is a diagram showing an example of the configuration of the memory cell MC according to the embodiment of the present invention.
図2に示すメモリセルMCは、nチャンネルMOS型のトランジスタQ1,…,Q8,Q10,Q12と、pチャンネルMOS型のトランジスタQ9およびQ11とを有する。
トランジスタQ1は、本発明の第1のトランジスタの一実施形態である。
トランジスタQ2は、本発明の第2のトランジスタの一実施形態である。
トランジスタQ3は、本発明の第3のトランジスタの一実施形態である。
トランジスタQ4は、本発明の第4のトランジスタの一実施形態である。
トランジスタQ5は、本発明の第5のトランジスタの一実施形態である。
トランジスタQ6は、本発明の第6のトランジスタの一実施形態である。
トランジスタQ7は、本発明の第7のトランジスタの一実施形態である。
トランジスタQ8は、本発明の第8のトランジスタの一実施形態である。
トランジスタQ9〜Q12で構成される回路は、本発明の記憶回路の一実施形態である。
The memory cell MC shown in FIG. 2 has n-channel MOS transistors Q1,..., Q8, Q10, Q12 and p-channel MOS transistors Q9 and Q11.
Transistor Q1 is an embodiment of the first transistor of the present invention.
Transistor Q2 is an embodiment of the second transistor of the present invention.
Transistor Q3 is an embodiment of the third transistor of the present invention.
Transistor Q4 is an embodiment of the fourth transistor of the present invention.
Transistor Q5 is an embodiment of the fifth transistor of the present invention.
Transistor Q6 is an embodiment of the sixth transistor of the present invention.
Transistor Q7 is an embodiment of the seventh transistor of the present invention.
Transistor Q8 is an embodiment of an eighth transistor of the present invention.
A circuit including the transistors Q9 to Q12 is an embodiment of the memory circuit of the present invention.
トランジスタQ9およびQ10は、ドレインがノードN1に、ゲートがノードN2にそれぞれ接続されている。トランジスタQ9のソースは電源電圧VDDに、トランジスタQ10のソースは基準電位Gにそれぞれ接続されている。このトランジスタQ9およびQ10によって、ノードN2を入力、ノードN1を出力とする1つのCMOSインバータが構成されている。
トランジスタQ11およびQ12は、ドレインがノードN2に、ゲートがノードN1にそれぞれ接続されている。トランジスタQ11のソースは電源電圧VDDに、トランジスタQ12のソースは基準電位Gにそれぞれ接続されている。このトランジスタQ11およびQ12によって、ノードN1を入力、ノードN2を出力とする1つのCMOSインバータが構成されている。
Transistors Q9 and Q10 have their drains connected to node N1 and their gates connected to node N2. The source of the transistor Q9 is connected to the power supply voltage VDD, and the source of the transistor Q10 is connected to the reference potential G. Transistors Q9 and Q10 constitute one CMOS inverter having node N2 as an input and node N1 as an output.
Transistors Q11 and Q12 have their drains connected to node N2 and their gates connected to node N1. The source of the transistor Q11 is connected to the power supply voltage VDD, and the source of the transistor Q12 is connected to the reference potential G. The transistors Q11 and Q12 constitute one CMOS inverter having the node N1 as an input and the node N2 as an output.
上述した2つのCMOSインバータは、互いの入力と出力がリング状に接続されており、1つの記憶回路を構成している。
この記憶回路は、ノードN1およびN2の信号レベルを相補的なレベルに保持する。すなわち、2つのノードの一方をハイレベルに保持し、他方をローレベルに保持する。
In the two CMOS inverters described above, the inputs and outputs of each other are connected in a ring shape to form one memory circuit.
This memory circuit holds the signal levels of nodes N1 and N2 at complementary levels. That is, one of the two nodes is held at a high level and the other is held at a low level.
トランジスタQ1は、ビット線BLと基準電位Gとの間に接続されており、ノードN1の信号レベルに応じてオンまたはオフする。すなわち、ノードN1がハイレベルのときにオンし、ローレベルのときにオフする。 The transistor Q1 is connected between the bit line BL and the reference potential G, and is turned on or off according to the signal level of the node N1. That is, it turns on when the node N1 is at a high level and turns off when it is at a low level.
トランジスタQ2は、ビット線BLとトランジスタQ1とを接続する配線上に挿入されており、読み出し用ワード線RWLから入力される読み出し制御信号に応じてオンまたはオフする。すなわち、読み出し用ワード線RWLがハイレベルの場合にオンし、ローレベルの場合にオフする。 The transistor Q2 is inserted on a wiring connecting the bit line BL and the transistor Q1, and is turned on or off according to a read control signal input from the read word line RWL. That is, it is turned on when the read word line RWL is at a high level and turned off when it is at a low level.
図2の例において、トランジスタQ2のドレインはビット線BLに接続され、そのソースはトランジスタQ1のドレインに接続され、そのゲートは読み出し用ワード線RWLに接続される。トランジスタQ1のソースは基準電位Gに接続され、そのゲートはノードN1に接続される。 In the example of FIG. 2, the transistor Q2 has a drain connected to the bit line BL, a source connected to the drain of the transistor Q1, and a gate connected to the read word line RWL. The source of transistor Q1 is connected to reference potential G, and its gate is connected to node N1.
トランジスタQ3は、ビット線XBLと基準電位Gとの間に接続されており、ノードN2の信号レベルに応じてオンまたはオフする。すなわち、ノードN2がハイレベルのときにオンし、ローレベルのときにオフする。 The transistor Q3 is connected between the bit line XBL and the reference potential G, and is turned on or off according to the signal level of the node N2. That is, it turns on when the node N2 is at a high level and turns off when it is at a low level.
上述したトランジスタQ9〜Q12の記憶回路によってノードN1およびN2に相補的なレベルの信号が保持されることから、このノードN1およびN2の信号を受けて動作するトランジスタQ1およびQ3は相補的にオンまたはオフする。すなわち、トランジスタQ1がオンのときにトランジスタQ3がオフし、トランジスタQ1がオフのときにトランジスタQ3がオンする。 Since the memory circuits of the transistors Q9 to Q12 hold complementary level signals at the nodes N1 and N2, the transistors Q1 and Q3 that operate in response to the signals at the nodes N1 and N2 are complementarily turned on or off. Turn off. That is, the transistor Q3 is turned off when the transistor Q1 is on, and the transistor Q3 is turned on when the transistor Q1 is off.
トランジスタQ4は、ビット線XBLとトランジスタQ3とを接続する配線上に挿入されており、読み出し用ワード線RWLから入力される読み出し制御信号に応じてオンまたはオフする。すなわち、読み出し用ワード線RWLがハイレベルの場合にオンし、ローレベルの場合にオフする。 The transistor Q4 is inserted on a wiring connecting the bit line XBL and the transistor Q3, and is turned on or off according to a read control signal input from the read word line RWL. That is, it is turned on when the read word line RWL is at a high level and turned off when it is at a low level.
図2の例において、トランジスタQ4のドレインはビット線XBLに接続され、そのソースはトランジスタQ3のドレインに接続され、そのゲートは読み出し用ワード線RWLに接続される。トランジスタQ3のソースは基準電位Gに接続され、そのゲートはノードN2に接続される。 In the example of FIG. 2, the drain of the transistor Q4 is connected to the bit line XBL, its source is connected to the drain of the transistor Q3, and its gate is connected to the read word line RWL. The source of transistor Q3 is connected to reference potential G, and its gate is connected to node N2.
トランジスタQ5は、ノードN1と基準電位Gとの間に接続されており、ビット線BLから入力される書き込み信号に応じてオンまたはオフする。すなわち、ビット線BLがハイレベルの場合にオンし、ローレベルの場合にオフする。 The transistor Q5 is connected between the node N1 and the reference potential G, and is turned on or off according to a write signal input from the bit line BL. That is, it is turned on when the bit line BL is at a high level and turned off when it is at a low level.
トランジスタQ6は、ノードN1とトランジスタQ5とを接続する配線上に挿入されており、書き込み用ワード線WWLから入力される書き込み制御信号に応じてオンまたはオフする。すなわち、書き込み用ワード線WWLがハイレベルの場合にオンし、ローレベルの場合にオフする。 The transistor Q6 is inserted on a wiring connecting the node N1 and the transistor Q5, and is turned on or off in accordance with a write control signal input from the write word line WWL. That is, it is turned on when the write word line WWL is at a high level and turned off when it is at a low level.
図2の例において、トランジスタQ6のドレインはノードN1に接続され、そのソースはトランジスタQ5のドレインに接続され、そのゲートは書き込み用ワード線WWLに接続される。トランジスタQ5のソースは基準電位Gに接続され、そのゲートはビット線BLに接続される。 In the example of FIG. 2, the drain of the transistor Q6 is connected to the node N1, its source is connected to the drain of the transistor Q5, and its gate is connected to the write word line WWL. The source of the transistor Q5 is connected to the reference potential G, and the gate thereof is connected to the bit line BL.
トランジスタQ7は、ノードN2と基準電位Gとの間に接続されており、ビット線XBLから入力される書き込み信号に応じてオンまたはオフする。すなわち、ビット線XBLがハイレベルの場合にオンし、ローレベルの場合にオフする。 The transistor Q7 is connected between the node N2 and the reference potential G, and is turned on or off according to a write signal input from the bit line XBL. That is, it is turned on when the bit line XBL is at a high level and turned off when it is at a low level.
ただし、データの書き込み時において、ビット線BLおよびXBLの信号レベルは、データ入出力回路3により相補的なレベルに設定される。そのため、データの書き込み時において、トランジスタQ5およびQ7は相補的にオンまたはオフする。すなわち、トランジスタQ5がオンでトランジスタQ7がオフに設定されるか、トランジスタQ5がオフでトランジスタQ7がオンに設定される。
However, when data is written, the signal levels of the bit lines BL and XBL are set to complementary levels by the data input /
トランジスタQ8は、ノードN2とトランジスタQ7とを接続する配線上に挿入されており、書き込み用ワード線WWLから入力される書き込み制御信号に応じてオンまたはオフする。すなわち、書き込み用ワード線WWLがハイレベルの場合にオンし、ローレベルの場合にオフする。 The transistor Q8 is inserted on a wiring connecting the node N2 and the transistor Q7, and is turned on or off according to a write control signal input from the write word line WWL. That is, it is turned on when the write word line WWL is at a high level and turned off when it is at a low level.
図2の例において、トランジスタQ8のドレインはノードN2に接続され、そのソースはトランジスタQ7のドレインに接続され、そのゲートは書き込み用ワード線WWLに接続される。トランジスタQ7のソースは基準電位Gに接続され、そのゲートはビット線XBLに接続される。 In the example of FIG. 2, the drain of the transistor Q8 is connected to the node N2, its source is connected to the drain of the transistor Q7, and its gate is connected to the write word line WWL. The source of the transistor Q7 is connected to the reference potential G, and the gate thereof is connected to the bit line XBL.
ここで、上述した構成を有する図1に示す半導体記憶装置の動作について説明する。 Here, the operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 1 having the above-described configuration will be described.
まず、ビット線制御回路4によって読み出し時にビット線がプリチャージされる場合の動作について、図3に示す信号波形の例を参照しながら説明する。 First, an operation in the case where the bit line is precharged at the time of reading by the bit line control circuit 4 will be described with reference to an example of a signal waveform shown in FIG.
(書き込み時)
選択信号R/Wによってデータの書き込み動作が選択され、イネーブル信号ENがアクティブ状態に設定されると、行デコーダ回路2によって、メモリセルアレイMAの複数の行からアドレスデータADD1に応じて1行が選択され、当該選択された行の書き込み用ワード線WWLがハイレベルに設定される(図3(A))。
(When writing)
When the data write operation is selected by the selection signal R / W and the enable signal EN is set to the active state, the
このとき、データ入出力回路3においては、複数のビット線(BL,XBL)のうちアドレスデータADD2に応じて一群のビット線対が選択されて、書き込みバッファ回路により駆動される。すなわち、選択されたビット線対(BL,XBL)は、入力データDinの各ビットの値に応じて、一方のビット線がハイレベル、他方のビット線がローレベルに設定される(図3(C),(D))。
At this time, in the data input /
これにより、行デコーダ回路2で選択される行のメモリセルMCにおいては、トランジスタQ6およびQ8がオンになる。また、この1行のメモリセルMCのうちデータ入出力回路3で選択される列のメモリセルMCにおいては、入力データDinの各ビットの値に応じて、トランジスタQ5およびQ7の一方がオン、他方がオフになる。
その結果、行デコーダ回路2とデータ入出力回路3とによって書き込み対象として選択される一群のメモリセルMCでは、入力データDinの各ビットの値に応じて、ノードN1およびN2のうち一方が基準電位Gに接続されて強制的にローレベルに設定される。他方のノードは、トランジスタQ9〜Q12の記憶回路によってハイレベルに設定される(図3(E),(F))。
Thereby, transistors Q6 and Q8 are turned on in memory cell MC of the row selected by
As a result, in the group of memory cells MC selected as a write target by the
このようにして、アドレスADD1およびADD2で指定される一群のメモリセルMCのノードN1、N2は、書き込みデータDinの値に応じた信号レベルに設定される。 In this way, the nodes N1 and N2 of the group of memory cells MC specified by the addresses ADD1 and ADD2 are set to signal levels corresponding to the value of the write data Din.
(読み出し時)
選択信号R/Wによってデータの読み出し動作が選択され、イネーブル信号ENがアクティブ状態に設定されると、まず、ビット線制御回路4によって各列のビット線対(BL,XBL)が電源電圧VDDにプリチャージされる(図3(C),(D))。
(When reading)
When the data read operation is selected by the selection signal R / W and the enable signal EN is set to the active state, first, the bit line control circuit 4 sets the bit line pair (BL, XBL) of each column to the power supply voltage VDD. Precharge is performed (FIGS. 3C and 3D).
プリチャージの後、ビット線制御回路4によってビット線対(BL,XBL)は電源電圧VDDから切り離される。そして、次に、行デコーダ回路2によって、メモリセルアレイMAの複数の行からアドレスデータADD1に応じて1行が選択され、当該選択された行の読み出し用ワード線RWLがハイレベルに設定される(図3(B))。これにより、この読み出し用ワード線RWLに接続される各メモリセルMCにおいてトランジスタQ2およびQ4がオンになる。
After the precharge, the bit line control circuit 4 disconnects the bit line pair (BL, XBL) from the power supply voltage VDD. Next, the
各メモリセルMCのトランジスタQ1およびQ3は、ノードN1およびN2の信号レベルに応じて何れか一方がオンになっているため、トランジスタQ2およびQ4がオンになると、ビット線BLおよびXBLのうちノードN1およびN2の信号レベルに応じた何れか一方のビット線が基準電位Gに接続される。その結果、基準電位Gに接続されるビット線の電圧は電源電圧VDDから徐々に低下し、基準電位Gに接続されないビット線は電源電圧VDDのまま保持される(図3(C),(D))。 Since one of the transistors Q1 and Q3 of each memory cell MC is turned on according to the signal levels of the nodes N1 and N2, when the transistors Q2 and Q4 are turned on, the node N1 of the bit lines BL and XBL is turned on. One of the bit lines corresponding to the signal levels of N2 and N2 is connected to the reference potential G. As a result, the voltage of the bit line connected to the reference potential G gradually decreases from the power supply voltage VDD, and the bit line not connected to the reference potential G is held at the power supply voltage VDD (FIGS. 3C and 3D). )).
読み出し用ワード線RWLがハイレベルに設定されてから一定時間が経過した後、データ入出回路3において、アドレスデータADD2に対応する一群のビット線対が選択されて、そのビット線間の電位差がセンスアンプにより増幅される。
After a certain time has elapsed since the read word line RWL was set to the high level, the data input /
このようにして、アドレスADD1およびADD2により指定される一群のメモリセルMCから、そのノードN1およびN2の信号レベルに応じたデータDoutが読み出される。 In this manner, data Dout corresponding to the signal levels of the nodes N1 and N2 is read from the group of memory cells MC specified by the addresses ADD1 and ADD2.
(非アクセス時)
読み出しや書き込みが行われない非アクセス時において、ビット線BLおよびXBLは共にローレベル、すなわち基準電位Gに設定される。
これにより、各メモリセルMCにおいて直列接続されているトランジスタQ1およびQ2の両端ならびにトランジスタQ3およびQ4の両端がともに基準電位Gになるため、これらのトランジスタにはほとんどリーク電流が流れなくなる。
(When not accessing)
At the time of non-access when neither reading nor writing is performed, both the bit lines BL and XBL are set to the low level, that is, the reference potential G.
Thereby, both ends of the transistors Q1 and Q2 connected in series and both ends of the transistors Q3 and Q4 in each memory cell MC become the reference potential G, so that almost no leakage current flows through these transistors.
また、この場合、トランジスタQ5およびQ7のゲートに基準電位Gが印加されるため、これらのトランジスタもオフになる。その結果、ノードN1と基準電位Gとの間に接続されるトランジスタQ5およびQ6は共にオフになり、また、ノードN2と基準電位Gとの間に接続されるトランジスタQ7およびQ8も共にオフになる。一般に、オフ状態のトランジスタが多段に重ねられているほど、そのリーク電流は小さくなるため、トランジスタQ5およびQ6に流れるリーク電流ならびにトランジスタQ7およびQ8に流れるリーク電流は何れも非常に小さくなる。 In this case, since the reference potential G is applied to the gates of the transistors Q5 and Q7, these transistors are also turned off. As a result, transistors Q5 and Q6 connected between node N1 and reference potential G are both turned off, and transistors Q7 and Q8 connected between node N2 and reference potential G are both turned off. . In general, the more the transistors in the off state are stacked in multiple stages, the smaller the leakage current. Therefore, the leakage current flowing through the transistors Q5 and Q6 and the leakage current flowing through the transistors Q7 and Q8 are both extremely small.
次に、ビット線制御回路4によって読み出し時にビット線が定電流駆動される場合の動作について、図4の信号波形の例を参照しながら説明する。なお、書き込み時と非アクセス時の動作については上述と同様であるため、ここでは読み出し時の動作のみを説明する。 Next, the operation when the bit line is driven with a constant current at the time of reading by the bit line control circuit 4 will be described with reference to the signal waveform example of FIG. Since operations at the time of writing and at the time of non-access are the same as those described above, only the operation at the time of reading will be described here.
(読み出し時)
選択信号R/Wによってデータの読み出し動作が選択され、イネーブル信号ENがアクティブ状態に設定されると、行デコーダ回路2によって、メモリセルアレイMAの複数の行からアドレスデータADD1に応じて1行が選択され、当該選択された行の読み出し用ワード線RWLがハイレベルに設定される(図4(B))。これにより、この読み出し用ワード線RWLに接続される各メモリセルMCにおいてトランジスタQ2およびQ4がオンになる。各メモリセルMCのトランジスタQ1およびQ3は、ノードN1およびN2の信号レベルに応じて何れか一方がオンになっているため、トランジスタQ2およびQ4がオンになると、ビット線BLまたはXBLの何れか一方が基準電位Gに接続された状態になる。
すなわち、各列のビット線対(BL,XBL)は、行デコーダ回路2によって選択された行のメモリセルMCにおけるノードN1およびN2の信号レベルの状態(すなわち記憶データ)に応じて、2つのビット線の何れか一方が基準電位Gに接続された状態になる。
(When reading)
When the data read operation is selected by the selection signal R / W and the enable signal EN is set to the active state, the
That is, the bit line pair (BL, XBL) of each column has two bits according to the signal level state (ie, stored data) of the nodes N1 and N2 in the memory cell MC of the row selected by the
この状態において、各列のビット線対(BL,XBL)は、ビット線制御回路4によってそれぞれ定電流駆動される(図4(C),(D))。すると、基準電位Gに接続される一方のビット線にはビット線制御回路4からの定電流が流れ込み、基準電位Gに接続されない他方のビット線にはこの定電流が流れないため、ビット線間に電流差が生じる。また、定電流の流れるビット線は定電流の流れないビット線に比べて電位が低くなるため、ビット線間に電位差が生じる。 In this state, the bit line pair (BL, XBL) in each column is driven with a constant current by the bit line control circuit 4 (FIGS. 4C and 4D). Then, a constant current from the bit line control circuit 4 flows into one bit line connected to the reference potential G, and this constant current does not flow into the other bit line not connected to the reference potential G. Current difference occurs. Further, since the potential of the bit line through which the constant current flows is lower than that of the bit line through which the constant current does not flow, a potential difference is generated between the bit lines.
読み出し用ワード線RWLがハイレベルに設定され、かつ各列のビット線対(BL,XBL)が定電流駆動されてから一定時間が経過した後、データ入出回路3において、アドレスデータADD2に対応する一群のビット線対が選択されて、上述したビット線間の電流差もしくは電位差がセンスアンプにより増幅される。
このようにして、アドレスADD1およびADD2で指定される一群のメモリセルMCから、そのノードN1およびN2の信号レベルに応じたデータDoutが読み出される。
After a predetermined time has elapsed since the read word line RWL is set to the high level and the bit line pair (BL, XBL) of each column is driven with a constant current, the data input /
In this manner, data Dout corresponding to the signal levels of the nodes N1 and N2 is read from the group of memory cells MC specified by the addresses ADD1 and ADD2.
以上説明したように、本実施形態によれば、読み出し時および書き込み時の何れにおいても、ノードN1,N2とビット線BL,XBLとが図7に示す従来例のようにトランジスタスイッチ等によって直接電気的に接続されることがなく、MOSトランジスタのゲート−ドレイン間の高いインピーダンスによって電気的に分離されているため、これらのビット線からの電気的影響による記憶データの破壊を起こし難くすることができる。 As described above, according to the present embodiment, the nodes N1 and N2 and the bit lines BL and XBL are directly electrically connected by transistor switches or the like as in the conventional example shown in FIG. Are not electrically connected and are electrically isolated by a high impedance between the gate and the drain of the MOS transistor, so that it is difficult to cause destruction of stored data due to an electrical influence from these bit lines. .
また、メモリセルMCに対するアクセスが行われない場合において、ビット線制御回路4によってビット線BLおよびXBLの電位を基準電位Gに設定することにより、トランジスタQ1およびQ2の両端の電位ならびにトランジスタQ3およびQ4の両端の電位が何れも基準電位Gと等しくなるため、これらのトランジスタにほとんどリーク電流が流れないようにすることができる。
また、ビット線BLの電位を基準電位Gに設定してトランジスタQ5をオフさせることにより、ノードN1と基準電位Gとの間に接続される2段のトランジスタQ5およびQ6を共にオフさせることができるため、これらのトランジスタに流れるリーク電流を非常に小さくすることができる。ノードN2と基準電位Gとの間に接続される2段のトランジスタQ7およびQ8についても、ビット線XBLを基準電位Gにすることで両方オフさせることができるため、これらのトランジスタに流れるリーク電流も非常に小さくすることができる。
従って、メモリセルに対するアクセスが行われない場合において、ビット線と記憶回路とのアクセスに関わるトランジスタのリーク電流を何れも非常に小さくすることができる。例えばノードN1がハイレベル、ノードN2がローレベルの場合、記憶回路のトランジスタQ10にリーク電流IL1、トランジスタQ11にリーク電流IL2が流れるものの、他のトランジスタにはほとんどリーク電流が流れなくなる。
従って、図2に示すメモリセルMCによれば、3つのトランジスタに定常的にリーク電流が流れてしまう図7に示す従来のメモリセルに比べて、リーク電流による電力損失を削減することができる。
When the memory cell MC is not accessed, the bit line control circuit 4 sets the potentials of the bit lines BL and XBL to the reference potential G, whereby the potentials at both ends of the transistors Q1 and Q2 and the transistors Q3 and Q4 are set. Since the potentials at both ends of the transistor are equal to the reference potential G, almost no leakage current can flow through these transistors.
Further, by setting the potential of the bit line BL to the reference potential G and turning off the transistor Q5, both the two-stage transistors Q5 and Q6 connected between the node N1 and the reference potential G can be turned off. Therefore, the leak current flowing through these transistors can be made very small. The two-stage transistors Q7 and Q8 connected between the node N2 and the reference potential G can also be turned off by setting the bit line XBL to the reference potential G. Therefore, the leakage current flowing through these transistors is also reduced. Can be very small.
Therefore, in the case where access to the memory cell is not performed, any leakage current of the transistor related to the access between the bit line and the memory circuit can be extremely reduced. For example, when the node N1 is at a high level and the node N2 is at a low level, the leakage current IL1 flows through the transistor Q10 and the leakage current IL2 flows through the transistor Q11 of the memory circuit, but almost no leakage current flows through the other transistors.
Therefore, according to the memory cell MC shown in FIG. 2, the power loss due to the leakage current can be reduced as compared with the conventional memory cell shown in FIG. 7 in which the leakage current constantly flows through the three transistors.
また、図7に示す従来のメモリセルにおいて、記憶回路を構成するnチャンネルMOS型のトランジスタQ102およびQ104は読み出し時にビット線から電流を引き込む役割を有しており、リーク電流を削減するためにこのトランジスタの駆動能力をあまり低くしてしまうと、読み出し速度が低下してしまう問題がある。これに対し、図2に示すメモリセルMCにおいて、読み出し速度は主にトランジスタQ1〜Q4の駆動能力によって決まり、記憶回路を構成するトランジスタQ9〜Q12の駆動能力にはあまり影響されない。
そのため、図2に示すメモリセルMCによれば、要求される読み出し速度を維持しつつ、記憶回路を構成するトランジスタQ9〜Q12にサイズの小さい低リーク電流のトランジスタを用いることが可能になるため、リーク電流による電力損失をより一層削減することができる。
In the conventional memory cell shown in FIG. 7, the n-channel MOS transistors Q102 and Q104 constituting the memory circuit have a role of drawing current from the bit line at the time of reading. If the driving capability of the transistor is too low, there is a problem that the reading speed is lowered. On the other hand, in the memory cell MC shown in FIG. 2, the reading speed is mainly determined by the driving capability of the transistors Q1 to Q4 and is not greatly affected by the driving capability of the transistors Q9 to Q12 constituting the memory circuit.
Therefore, according to the memory cell MC shown in FIG. 2, it is possible to use a low-leakage current transistor having a small size as the transistors Q9 to Q12 constituting the memory circuit while maintaining a required reading speed. The power loss due to the leakage current can be further reduced.
なお、図7に示す従来のメモリセルと比較して図2に示すメモリセルMCにはトランジスタが6つ追加されているが、図2の例に示すように、これらを比較的小さいサイズで形成可能なnチャンネルMOS型のトランジスタにすることによって、回路面積の増加を小さく抑えることが可能である。 Compared to the conventional memory cell shown in FIG. 7, six transistors are added to the memory cell MC shown in FIG. 2, but these are formed in a relatively small size as shown in the example of FIG. By using a possible n-channel MOS transistor, an increase in circuit area can be suppressed.
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記の形態にのみ限定されるものではなく、種々のバリエーションを含む。 As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited only to said form, Various modifications are included.
図2に示すメモリセルでは、トランジスタQ1およびQ2ならびにトランジスタQ3およびQ4において2つのビット線を相補的に駆動することにより記憶データの読み出しを行っているが、これを例えば図5に示すように、1つのビット線のみ駆動してデータを読み出すようにしても良い。 In the memory cell shown in FIG. 2, the stored data is read by driving the two bit lines in the transistors Q1 and Q2 and the transistors Q3 and Q4 in a complementary manner. For example, as shown in FIG. Only one bit line may be driven to read data.
図5に示すメモリセルでは、図2に示すメモリセルにおけるトランジスタQ3およびQ4が省略されている。
このような構成でも、ビット線BLの電流や電圧に応じてメモリセルに記憶されるデータを読み出すことが可能である。
In the memory cell shown in FIG. 5, transistors Q3 and Q4 in the memory cell shown in FIG. 2 are omitted.
Even with such a configuration, data stored in the memory cell can be read in accordance with the current and voltage of the bit line BL.
また、図2に示すメモリセルにおいては、ノードN1およびN2の何れか一方を2段のトランジスタ(Q5およびQ6、Q7およびQ8)によって基準電位Gに接続することによりデータの書き込みを行っているが、例えば図6に示すように、ノードN1およびN2をビット線BLおよびXBLに接続することによってデータの書き込みを行うようにしても良い。 In the memory cell shown in FIG. 2, data is written by connecting either one of the nodes N1 and N2 to the reference potential G by two-stage transistors (Q5 and Q6, Q7 and Q8). For example, as shown in FIG. 6, data may be written by connecting nodes N1 and N2 to bit lines BL and XBL.
図6に示すメモリセルでは、図2に示すメモリセルにおけるトランジスタQ5〜Q8が省略されており、その代わりに、nチャンネルMOS型のトランジスタQ13およびQ14が設けられている。
トランジスタQ13は、ノードN1とビット線BLとの間に接続されており、トランジスタQ14は、ノードN2とビット線XBLとの間に接続される。また、トランジスタQ13およびQ14は、共にゲートが書き込み用ワード線WWLに接続されている。
メモリセルがこのような構成を有する場合でも、データの読み出し時においてノードN1,N2とビット線BL,XBLとが高いインピーダンスで電気的に分離されるため、データの読み出しに伴う記憶データの破壊を起こし難くする利点がある。
In the memory cell shown in FIG. 6, the transistors Q5 to Q8 in the memory cell shown in FIG. 2 are omitted, and n-channel MOS transistors Q13 and Q14 are provided instead.
Transistor Q13 is connected between node N1 and bit line BL, and transistor Q14 is connected between node N2 and bit line XBL. The gates of the transistors Q13 and Q14 are both connected to the write word line WWL.
Even when the memory cell has such a configuration, the nodes N1 and N2 and the bit lines BL and XBL are electrically separated with high impedance at the time of data reading, so that the stored data is destroyed due to the data reading. There is an advantage to make it difficult to wake up.
ただし、この構成のメモリセルを用いる場合、書き込み用ワード線WWLがハイレベルに設定される行の全てのメモリセルにおいてトランジスタQ13,Q14がオンになり、ノードN1,N2とビット線BL,XBLとが接続されるため、データ入出回路3においては、この選択された行の全てのメモリセルに対してデータの書き込みを行うことが望ましい。
However, when the memory cell having this configuration is used, the transistors Q13 and Q14 are turned on in all the memory cells in the row in which the write word line WWL is set to the high level, and the nodes N1 and N2 and the bit lines BL and XBL Therefore, in the data input /
また、図2に示すメモリセルでは、Q9〜Q12の記憶回路によって2つのノードN1およびN2に相補的なレベルの信号が保持されるが、例えばDRAMセルのように1つのノードの信号レベルを保持する記憶回路にも本発明は適用可能である。 In the memory cell shown in FIG. 2, complementary levels of signals are held at the two nodes N1 and N2 by the memory circuits Q9 to Q12. For example, the signal level of one node is held as in a DRAM cell. The present invention can also be applied to the memory circuit.
図2に示すメモリセルにおいては、ビット線BLおよびXBLから記憶回路へのアクセスを行うための回路として、nチャンネルMOS型トランジスタの直列回路(Q1およびQ2、Q3およびQ4、Q5およびQ6、Q7およびQ8)が用いられているが、この直列回路におけるトランジスタ同士の接続関係は任意で良い。例えば、トランジスタQ1のドレインをビット線BL、そのソースをトランジスタQ2のドレインに接続し、トランジスタQ2のソースを基準電位Gに接続するようにしても良い。 In the memory cell shown in FIG. 2, as a circuit for accessing the memory circuit from the bit lines BL and XBL, series circuits of n-channel MOS transistors (Q1 and Q2, Q3 and Q4, Q5 and Q6, Q7 and Q8) is used, but the connection relationship between the transistors in this series circuit may be arbitrary. For example, the drain of the transistor Q1 may be connected to the bit line BL, the source thereof may be connected to the drain of the transistor Q2, and the source of the transistor Q2 may be connected to the reference potential G.
上述の実施形態では、MOSトランジスタを用いて構成されるメモリセルを例に挙げているが、本発明はこれに限定されず、他の種々の種類のトランジスタ(例えばバイポーラトランジスタなど)を用いて構成されるメモリセルについても適用可能である。 In the above-described embodiment, a memory cell configured using a MOS transistor is taken as an example. However, the present invention is not limited to this, and is configured using other various types of transistors (for example, bipolar transistors). The present invention is also applicable to a memory cell to be used.
1…制御回路、2…行デコード回路、3…データ入出力回路、4…ビット線制御回路、MA…メモリセルアレイ、MC…メモリセル、Q1〜Q8,Q10,Q12〜Q14…nチャンネルMOS型トランジスタ、Q9,Q11…pチャンネルMOS型トランジスタ、RWL…読み出し用ワード線、WWL…書き込み用ワード線、BL,XBL…ビット線
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Control circuit, 2 ... Row decoding circuit, 3 ... Data input / output circuit, 4 ... Bit line control circuit, MA ... Memory cell array, MC ... Memory cell, Q1-Q8, Q10, Q12-Q14 ... N channel MOS type transistor Q9, Q11... P-channel MOS transistor, RWL... Read word line, WWL... Write word line, BL, XBL.
Claims (9)
第1のビット線と基準電位との間に接続され、上記第1のノードの信号レベルに応じてオンまたはオフする第1のトランジスタと、
上記第1のビット線もしくは上記基準電位と上記第1のトランジスタとを接続する配線上に挿入され、入力される読み出し制御信号に応じてオンまたはオフする第2のトランジスタと、
を有するメモリセル。 A storage circuit for holding the signal level of the first node;
A first transistor connected between the first bit line and a reference potential and turned on or off according to the signal level of the first node;
A second transistor inserted on the first bit line or a wiring connecting the reference potential and the first transistor, and turned on or off in accordance with an input read control signal;
A memory cell.
第2のビット線と上記基準電位との間に接続され、上記第2のノードの信号レベルに応じて上記第1のトランジスタと相補的にオンまたはオフする第3のトランジスタと、
上記第2のビット線もしくは上記基準電位と上記第3のトランジスタとを接続する配線上に挿入され、上記読み出し制御信号に応じて上記第2のトランジスタと共通にオンまたはオフする第4のトランジスタと、を有する、
請求項1に記載のメモリセル。 The memory circuit holds the signal level of the second node at a level complementary to the signal level of the first node;
A third transistor connected between the second bit line and the reference potential and turned on or off complementarily with the first transistor in accordance with the signal level of the second node;
A fourth transistor inserted on the second bit line or a wiring connecting the reference potential and the third transistor, and turned on or off in common with the second transistor in response to the read control signal; Having
The memory cell according to claim 1.
上記第1のノードもしくは上記基準電位と上記第5のトランジスタとを接続する配線上に挿入され、入力される書き込み制御信号に応じてオンまたはオフする第6のトランジスタと、
上記第2のノードと上記基準電位との間に接続され、上記第2のビット線から入力される書き込み信号に応じて上記第5のトランジスタと相補的にオンまたはオフする第7のトランジスタと、
上記第2のノードもしくは上記基準電位と上記第7のトランジスタとを接続する配線上に挿入され、上記書き込み制御信号に応じて上記第6のトランジスタと共通にオンまたはオフする第8のトランジスタと、を有する、
請求項2に記載のメモリセル。 A fifth transistor connected between the first node and the reference potential and turned on or off in response to a write signal input from the first bit line;
A sixth transistor which is inserted on a wiring connecting the first node or the reference potential and the fifth transistor and which is turned on or off according to an input write control signal;
A seventh transistor connected between the second node and the reference potential and turned on or off complementarily with the fifth transistor in response to a write signal input from the second bit line;
An eighth transistor inserted on a wiring connecting the second node or the reference potential and the seventh transistor, and turned on or off in common with the sixth transistor in response to the write control signal; Having
The memory cell according to claim 2.
同一行のメモリセルにそれぞれ接続される複数の第1のワード線と、
同一列のメモリセルにそれぞれ接続される複数の第1のビット線と、
を有する半導体記憶装置であって、
上記メモリセルは、
第1のノードの信号レベルを保持する記憶回路と、
上記第1のビット線と基準電位との間に接続され、上記第1のノードの信号レベルに応じてオンまたはオフする第1のトランジスタと、
上記第1のビット線もしくは上記基準電位と上記第1のトランジスタとを接続する配線上に挿入され、上記第1のワード線から入力される読み出し制御信号に応じてオンまたはオフする第2のトランジスタと、
を含む、
半導体記憶装置。 A plurality of memory cells arranged in a matrix;
A plurality of first word lines respectively connected to memory cells in the same row;
A plurality of first bit lines respectively connected to memory cells in the same column;
A semiconductor memory device comprising:
The memory cell
A storage circuit for holding the signal level of the first node;
A first transistor connected between the first bit line and a reference potential and turned on or off in accordance with a signal level of the first node;
A second transistor inserted on the first bit line or a wiring connecting the reference potential and the first transistor, and turned on or off in response to a read control signal input from the first word line When,
including,
Semiconductor memory device.
上記記憶回路は、第2のノードの信号レベルを、上記第1のノードの信号レベルに対して相補的なレベルに保持し、
上記メモリセルは、
上記第2のビット線と上記基準電位との間に接続され、上記第2のノードの信号レベルに応じて上記第1のトランジスタと相補的にオンまたはオフする第3のトランジスタと、
上記第2のビット線もしくは上記基準電位と上記第3のトランジスタとを接続する配線上に挿入され、上記読み出し制御信号に応じて上記第2のトランジスタと共通にオンまたはオフする第4のトランジスタと、を含む、
請求項4に記載の半導体記憶装置。 A plurality of second bit lines respectively connected to memory cells in the same column;
The memory circuit holds the signal level of the second node at a level complementary to the signal level of the first node;
The memory cell
A third transistor connected between the second bit line and the reference potential and turned on or off complementarily with the first transistor in accordance with a signal level of the second node;
A fourth transistor inserted on the second bit line or a wiring connecting the reference potential and the third transistor, and turned on or off in common with the second transistor in response to the read control signal; ,including,
The semiconductor memory device according to claim 4.
上記メモリセルは、
上記第1のノードと上記基準電位との間に接続され、上記第1のビット線から入力される書き込み信号に応じてオンまたはオフする第5のトランジスタと、
上記第1のノードもしくは上記基準電位と上記第5のトランジスタとを接続する配線上に挿入され、上記第2のワード線から入力される書き込み制御信号に応じてオンまたはオフする第6のトランジスタと、
上記第2のノードと上記基準電位との間に接続され、上記第2のビット線から入力される書き込み信号に応じて上記第5のトランジスタと相補的にオンまたはオフする第7のトランジスタと、
上記第2のノードもしくは上記基準電位と上記第7のトランジスタとを接続する配線上に挿入され、上記書き込み制御信号に応じて上記第6のトランジスタと共通にオンまたはオフする第8のトランジスタと、を含む、
請求項5に記載の半導体記憶装置。 A plurality of second word lines respectively connected to memory cells in the same row;
The memory cell
A fifth transistor connected between the first node and the reference potential and turned on or off in response to a write signal input from the first bit line;
A sixth transistor inserted on the first node or a wiring connecting the reference potential and the fifth transistor, and turned on or off in response to a write control signal input from the second word line; ,
A seventh transistor connected between the second node and the reference potential and turned on or off complementarily with the fifth transistor in response to a write signal inputted from the second bit line;
An eighth transistor inserted on a wiring connecting the second node or the reference potential and the seventh transistor, and turned on or off in common with the sixth transistor in response to the write control signal; including,
The semiconductor memory device according to claim 5.
請求項6に記載の半導体記憶装置。 A bit line control circuit that sets the potentials of the first bit line and the second bit line to the reference potential when the memory cell is not accessed;
The semiconductor memory device according to claim 6.
上記第7のトランジスタは、上記第2のビット線の電位が上記基準電位の場合にオフになる、
請求項7に記載の半導体記憶装置。 The fifth transistor is turned off when the potential of the first bit line is the reference potential,
The seventh transistor is turned off when the potential of the second bit line is the reference potential.
The semiconductor memory device according to claim 7.
請求項6に記載の半導体記憶装置。
The fifth transistor and the seventh transistor are shared by a plurality of memory cells connected to the common first bit line and second bit line.
The semiconductor memory device according to claim 6.
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2004
- 2004-08-02 JP JP2004225805A patent/JP2006048793A/en active Pending
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