JP2001202775A - Rewrite pseudo SRAM and rewrite method thereof - Google Patents
Rewrite pseudo SRAM and rewrite method thereofInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数のワード線を同時にオンにするときのデ
ータの混乱を防ぎ、パワー消費量の小さな隠ぺい型再書
き込み2P2N擬似SRAMを提供すること。
【解決手段】 メモリセルのアレイを備えた隠ぺい型再
書き込み2P2N擬似SRAMを提供する。各メモリセ
ルは、交差対ラッチと2つのPMOSアクセストランジ
スタを含む。交差対ラッチは、互いに交差して連結する
とともに一対の信号を保存するための2つのNMOSト
ランジスタで構成される。NMOSトランジスタは、負
電源電圧に接続されるソースと、互いに交差して連結す
るドレインとゲートとをそれぞれ備えている。PMOS
トランジスタは、ワード線によって制御され、交差対ラ
ッチのNMOSトランジスタと一対のビット線にアクセ
スする。PMOSトランジスタは、一対のビット線に接
続されるソースと、NMOSトランジスタのドレインに
接続されるドレインとをそれぞれ備えている。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hidden rewrite 2P2N pseudo-SRAM with low power consumption, which prevents data confusion when turning on a plurality of word lines simultaneously. A hidden rewrite 2P2N pseudo SRAM with an array of memory cells is provided. Each memory cell includes a cross pair latch and two PMOS access transistors. The cross-pair latch includes two NMOS transistors that are connected to each other and store a pair of signals. The NMOS transistor has a source connected to a negative power supply voltage, and a drain and a gate crossing and connected to each other. PMOS
The transistors are controlled by word lines and access the NMOS transistors of the cross-pair latch and a pair of bit lines. The PMOS transistor has a source connected to the pair of bit lines and a drain connected to the drain of the NMOS transistor.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータ・メ
モリ、特に隠ぺい型再書き込み2P2N擬似SRAM
(hidden refresh 2P2N pseudo static random access
memory)とその隠ぺい型擬似SRAMの再書き込み方法
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a computer memory, and more particularly to a hidden rewrite 2P2N pseudo SRAM.
(Hidden refresh 2P2N pseudo static random access
memory) and a method of rewriting the hidden pseudo SRAM.
【0002】[0002]
【従来の技術】メモリは、コンピュータ産業において不
可欠のものである。一般に、メモリは、それぞれのデー
タ記憶容量によってDRAM(dynamic random access
memory)とSRAM(static random access memory)
とに分類される。DRAMは、小型であるが、漏れ電流
によるデータ損失を防ぐために周期的な再書き込みが必
要である。これに対し、SRAMは、操作が単純である
が、占めるチップ面積が大きい。2. Description of the Related Art Memory is an integral part of the computer industry. Generally, a memory is a DRAM (dynamic random access) depending on its data storage capacity.
memory) and SRAM (static random access memory)
Classified as DRAMs are small, but require periodic rewriting to prevent data loss due to leakage current. On the other hand, SRAM is simple in operation, but occupies a large chip area.
【0003】図4(a)(公知技術)は、DRAMの従
来の1T1C(1 transistor 1 capacitor)メモリセルを
示す回路図である。この図4(a)に示されるように、
当該技術において知られている1T1Cメモリセルは、
アクセス・トランジスタT1と記憶キャパシタCSとを
含んでいる。アクセス・トランジスタT1は、記憶キャ
パシタCSに接続されるソース、ワード線WLに接続さ
れるゲート及びビット線BLに接続されるドレインを備
えている。FIG. 4A (prior art) is a circuit diagram showing a conventional 1T1C (1 transistor 1 capacitor) memory cell of a DRAM. As shown in FIG.
1T1C memory cells known in the art include:
It includes an access transistor T1 and a storage capacitor CS. The access transistor T1 has a source connected to the storage capacitor CS, a gate connected to the word line WL, and a drain connected to the bit line BL.
【0004】図4(b)(公知技術)は、半導体基板上
に形成された図4(a)における1T1Cメモリセルを
示す断面図である。この図4(b)に示されるように、
アクセス・トランジスタT1と記憶キャパシタCSとの
間に、寄生ダイオードD1(PN接合)が形成されてい
る。したがって、記憶キャパシタCSに保存されている
ロジック“1”信号は、ワード線WLが“0”であるア
クセス・トランジスタT1がオフになっていても徐々に
電荷が減少する。データの損失を防ぐために、DRAM
に対して周期的に再書き込みが行われる。つまり、記憶
キャパシタCSに保存されているロジック“1”信号を
読み出し、ビット線BLに接続されているセンスアンプ
(表示しない)によってロジック“1”信号を増幅して
書き込みし直す。FIG. 4B is a cross-sectional view showing the 1T1C memory cell shown in FIG. 4A formed on a semiconductor substrate. As shown in FIG.
A parasitic diode D1 (PN junction) is formed between the access transistor T1 and the storage capacitor CS. Therefore, the charge of the logic "1" signal stored in the storage capacitor CS gradually decreases even when the access transistor T1 whose word line WL is "0" is turned off. DRAM to prevent data loss
Is periodically rewritten. That is, the logic "1" signal stored in the storage capacitor CS is read, and the logic "1" signal is amplified and rewritten by the sense amplifier (not shown) connected to the bit line BL.
【0005】図5(公知技術)は、DRAMの従来の3
T(3素子)メモリセルを示す回路図である。この図5
に示されるように、当該技術において知られている3T
メモリセルは、読み出しトランジスタT2、記憶トラン
ジスタT3及び書き込みトランジスタT4を含んでい
る。前記読み出しトランジスタT2は、読み出しワード
線RWLに接続されるゲート、読み出しビット線RBL
に接続されるドレイン及びソースを備えている。前記記
憶トランジスタT3は、ゲート、読み出しトランジスタ
T2のソースに接続されるドレイン及びDRAMの負電
源電圧に接続されるソースを備えている。前記書き込み
トランジスタT4は、書き込みワード線WWLに接続さ
れるゲート、ワード・ビット線WBLに接続されるドレ
イン及び前記記憶トランジスタT3のゲートに接続され
るソースを備えている。図4(a)及び図4(b)にお
ける1T1Cメモリセルと同様、記憶トランジスタT3
に保存されているロジック“1”信号は、漏れ電流によ
り電荷が減少する。データ損失を防ぐために、DRAM
に対して周期的に再書き込みが行われる。つまり、読み
出しワード線RWLを通じて記憶トランジスタT3に保
存されているロジック“1”信号を読み出し、ビット線
BLに接続されているセンスアンプ(表示しない)によ
ってロジック“1”信号を増幅して、書き込みワード線
WWLを通じて増幅した信号を書き込みし直す。FIG. 5 (Prior Art) shows a conventional 3D DRAM.
FIG. 3 is a circuit diagram illustrating a T (three element) memory cell. This figure 5
As shown in FIG.
The memory cell includes a read transistor T2, a storage transistor T3, and a write transistor T4. The read transistor T2 includes a gate connected to a read word line RWL, a read bit line RBL.
And a drain connected to the source. The storage transistor T3 has a gate, a drain connected to the source of the read transistor T2, and a source connected to the negative power supply voltage of the DRAM. The write transistor T4 has a gate connected to the write word line WWL, a drain connected to the word / bit line WBL, and a source connected to the gate of the storage transistor T3. Similar to the 1T1C memory cell in FIGS. 4A and 4B, the storage transistor T3
Of the logic "1" signal stored in the memory cell is reduced due to leakage current. DRAM to prevent data loss
Is periodically rewritten. That is, the logic "1" signal stored in the storage transistor T3 is read through the read word line RWL, and the logic "1" signal is amplified by the sense amplifier (not shown) connected to the bit line BL to write the write word. The signal amplified through the line WWL is rewritten.
【0006】図6(公知技術)は、DRAMの従来の4
T(4素子)メモリセルを示す回路図である。この図6
に示されるように、当該技術において知られている4T
メモリセルは、4つのNMOSトランジスタN1、N
2、N3、N4を含んでいる。これらのうち、NMOS
トランジスタN1、N2は、負電源電圧に接続されるソ
ースと、互いに交差して連結することにより一対の信号
S/S’を保存する交差対ラッチを形成するゲート及び
ドレインとを備えている。前記NMOSトランジスタN
3、N4は、ワード線WLに接続されるゲートと、一対
のビット線BL/BL’及び前記NMOSトランジスタ
N1、N2のドレインにそれぞれ接続されることにより
交差対ラッチに保存されている一対の信号S/S’にア
クセスするドレインとソースとを備えている。信号S/
S’の記憶データのスイング(揺れ)は、DRAMの正
電源電圧からNMOSトランジスタN1、N2、N3、
N4のしきい値電圧を差し引いた(VDD−VTN)も
のである。前記NMOSトランジスタN3、N4がオフ
(クローズ)である(例:ワード線WLが“0”)とと
もに、交差対ラッチの信号S/S’が“0”/“1”
(VDD−VTN)であるとき、信号Sがフローティン
グの状態でないのに対し、信号S’は、フローティング
の状態である。したがって、図4(a)及び図4(b)
における1T1Cメモリセルと同様、信号S’における
データ損失を防ぐための周期的な再書き込みは、ビット
線BL/BL’に接続される負荷Lが十分な再書き込み
電流を与えることを確保するために、ワード線WLを短
時間オン(オープン)にすればよい。負荷Lは、DRA
Mの事前充電及び再書き込み操作を行うときのみに作用
するよう制御されることにより、パワー消費量を減少さ
せる。FIG. 6 (Prior Art) shows a conventional 4 DRAM.
FIG. 3 is a circuit diagram showing a T (4 element) memory cell. This figure 6
As shown in FIG.
The memory cell has four NMOS transistors N1, N
2, N3 and N4. Of these, NMOS
Each of the transistors N1 and N2 has a source connected to a negative power supply voltage, and a gate and a drain connected in a crossing manner to form a crossed-pair latch for storing a pair of signals S / S '. The NMOS transistor N
Reference numerals 3 and N4 denote a gate connected to the word line WL and a pair of signals stored in the cross-pair latch by being connected to the pair of bit lines BL / BL 'and the drains of the NMOS transistors N1 and N2, respectively. It has a drain and a source for accessing S / S '. Signal S /
The swing (swing) of the stored data in S ′ is caused by the NMOS transistors N1, N2, N3,
This is obtained by subtracting the threshold voltage of N4 (VDD-VTN). The NMOS transistors N3 and N4 are off (closed) (eg, the word line WL is "0"), and the signal S / S 'of the cross pair latch is "0" / "1".
When (VDD−VTN), the signal S ′ is in a floating state while the signal S is not in a floating state. Therefore, FIGS. 4A and 4B
As in the 1T1C memory cell in the above, the periodic rewriting to prevent data loss in the signal S ′ is performed to ensure that the load L connected to the bit lines BL / BL ′ provides a sufficient rewriting current. , The word line WL may be turned on (open) for a short time. Load L is DRA
The power consumption is reduced by being controlled to act only when performing the M pre-charging and rewriting operations.
【0007】4Tメモリセルは、積み上げ(stack)工程
又は溝掘り(trench)工程によって製造される1T1Cメ
モリセルと比較して、当該技術において知られている標
準的なCMOS工程によって製造される。さらに、4T
メモリセルは、データを差動的に(一対の信号S/S’
のように)保存するとともに、ノイズ・マージンが高く
アクセス速度が速い。そのため、擬似SRAMのほとん
どは、標準的なCMOS工程によって製造される4Tメ
モリセルで構成される。[0007] 4T memory cells are manufactured by standard CMOS processes known in the art, as compared to 1T1C memory cells manufactured by a stack or trench process. Furthermore, 4T
The memory cell stores data differentially (a pair of signals S / S ′).
) And have high noise margin and fast access speed. Therefore, most of the pseudo SRAMs are configured with 4T memory cells manufactured by a standard CMOS process.
【0008】図7(a)及び図7(b)(公知技術)
は、当該技術において知られているSRAMの6T(6
素子)メモリセルを示す回路図である。図6の4Tメモ
リセルにおける差動信号S/S’のフローティング状態
を防ぐため、PMOSトランジスタP1及びP2が4T
メモリセルに含まれることにより、図7に示されるよう
に、4Tメモリセルとして操作するSRAMセルを得
る。PMOSトランジスタP1及びP2は、SRAMの
正電源電圧に接続されるソースと、NMOSトランジス
タN1及びN2のドレインに接続されるゲートと、NM
OSトランジスタN1及びN2のドレインに接続される
ドレインとをそれぞれ備えている。さらに、図7(a)
におけるアクセスしたNMOSトランジスタN3及びN
4は、また、図7(b)に示されるように、PMOSト
ランジスタP3及びP4に置き換えることができる。こ
の場合、PMOSトランジスタP1及びP2は、交差対
ラッチを構成し、NMOSトランジスタN1及びN2
は、ただ差動信号S/S’のフローティングを防ぐため
だけに備えられる。FIGS. 7A and 7B (known art)
Is the SRAM 6T (6) known in the art.
FIG. 3 is a circuit diagram illustrating a memory cell. In order to prevent the floating state of the differential signal S / S 'in the 4T memory cell of FIG.
By being included in the memory cell, an SRAM cell which operates as a 4T memory cell is obtained as shown in FIG. The PMOS transistors P1 and P2 have a source connected to the positive power supply voltage of the SRAM, a gate connected to the drains of the NMOS transistors N1 and N2, and NM.
And a drain connected to the drains of the OS transistors N1 and N2. Further, FIG.
NMOS transistors N3 and N at
4 can be replaced with PMOS transistors P3 and P4, as shown in FIG. In this case, the PMOS transistors P1 and P2 form a cross pair latch, and the NMOS transistors N1 and N2
Is provided only to prevent the floating of the differential signal S / S ′.
【0009】さらに、漏れ電流は、大抵、寄生ダイオー
ドの逆バイアス漏れから導かれるため、PMOSトラン
ジスタP1及びP2は、また、図7(c)(公知技術)
に示されるように、抵抗R1及びR2(1010〜1011
Ω)に置き換えることにより、漏れ電流よりも大きい供
給電流を備えるとともに、差動信号S/S’のデータ損
失を防ぐことができる。この場合、抵抗R1及びR2
は、NMOSトランジスタ上に形成して、4Tメモリセ
ルと同じチップ面積を占めるようにすることができる。
またさらには、図7(c)の抵抗R1及びR2は、図7
(d)(公知技術)で示されるように、薄膜トランジス
タTFT1及びTFT2に置き換えることにより、ノイ
ズ・マージンを高め、待機電流を減少することができ
る。この場合、薄膜トランジスタTFT1及びTFT2
は、また、NMOSトランジスタ上に形成して、4Tメ
モリセルと同じチップ面積を占めるようにすることがで
きる。Further, since the leakage current is usually derived from the reverse bias leakage of the parasitic diode, the PMOS transistors P1 and P2 also have the configuration shown in FIG.
As shown in the figure, the resistors R1 and R2 (10 10 to 10 11
Ω), it is possible to provide a supply current larger than the leakage current and prevent data loss of the differential signal S / S ′. In this case, the resistors R1 and R2
Can be formed on NMOS transistors to occupy the same chip area as 4T memory cells.
Furthermore, the resistors R1 and R2 in FIG.
(D) As shown in (prior art), by replacing the thin film transistors TFT1 and TFT2, the noise margin can be increased and the standby current can be reduced. In this case, the thin film transistors TFT1 and TFT2
Can also be formed on NMOS transistors to occupy the same chip area as 4T memory cells.
【0010】上述により、4Tメモリセルを用いる擬似
SRAMは、標準的なCMOS工程によって製造され、
2つのPMOSトランジスタによってチップ面積を減少
するとともに、標準的なSRAMとして操作できる。し
かし、通常の読み出し/書き込み操作の他に再書き込み
操作(すなわち、全てのワード線を短時間オンにするこ
と)も必要であり、電力の浪費につながる。As described above, a pseudo SRAM using 4T memory cells is manufactured by a standard CMOS process.
The two PMOS transistors reduce the chip area and can operate as a standard SRAM. However, in addition to the normal read / write operation, a rewrite operation (that is, turning on all the word lines for a short time) is also required, which results in a waste of power.
【0011】図8(a)(公知技術)は、擬似SRAM
の従来の駆動装置を示す回路図である。この図8(a)
に示されるように、メモリアレイ10の駆動装置は、行
アドレスデコーダ11、列アドレスデコーダ12、マル
チプレクサ13、再書き込み計数器14及び制御装置1
5を含む。制御装置15の制御下にあるマルチプレクサ
13は、行アドレスRA又は再書き込み計数器14の計
数結果を行アドレスデコーダ11に選択的に転送するこ
とにより、メモリアレイ10の対応するワード線の駆動
信号を発生させる。列アドレスデコーダ12は、列アド
レスCAを受信することによりメモリアレイ10の対応
するビット線の駆動信号を発生させる。このため、行ア
ドレスデコーダ11及び列アドレスデコーダ12により
発生した駆動信号によって、メモリアレイ10のアクセ
ス及び再書き込み操作を行うことができる。FIG. 8A (Prior Art) shows a pseudo SRAM.
FIG. 3 is a circuit diagram showing a conventional driving device of FIG. This FIG.
As shown in FIG. 1, the driving device of the memory array 10 includes a row address decoder 11, a column address decoder 12, a multiplexer 13, a rewriting counter 14, and a control device 1.
5 is included. The multiplexer 13 under the control of the control device 15 selectively transfers the row address RA or the counting result of the rewrite counter 14 to the row address decoder 11, thereby driving the corresponding word line drive signal of the memory array 10. generate. The column address decoder 12 generates a drive signal for a corresponding bit line of the memory array 10 by receiving the column address CA. Therefore, the drive signal generated by the row address decoder 11 and the column address decoder 12 allows the memory array 10 to be accessed and rewritten.
【0012】図8(b)(公知技術)に示されるよう
に、図8(a)における再書き込み計数器14は、シフ
ト・レジスタ16に置き換えることができる。この場
合、シフト・レジスタ16は、順次パルスを出力するこ
とにより、メモリアレイ10の対応するワード線の駆動
信号の役割をする。その間、行アドレスデコーダ11も
また、行アドレスRAを受信することにより対応するワ
ード線の駆動信号を発生させる。それから、マルチプレ
クサ13は、行アドレスデコーダ11又はシフト・レジ
スタ16の駆動信号を選択的に転送することにより、対
応するワード線を駆動させる。列アドレスデコーダ12
は、列アドレスCAを受信することによりメモリアレイ
10の対応するビット線の駆動信号を発生させる。これ
により、それぞれマルチプレクサ13によって選択され
るとともに、列アドレスデコーダ12によって発生した
駆動信号によりメモリアレイ10のアクセス及び再書き
込み操作が行われる。As shown in FIG. 8B (prior art), the rewrite counter 14 in FIG. 8A can be replaced with a shift register 16. In this case, the shift register 16 serves as a drive signal for a corresponding word line of the memory array 10 by sequentially outputting pulses. Meanwhile, the row address decoder 11 also generates a drive signal for the corresponding word line by receiving the row address RA. Then, the multiplexer 13 drives the corresponding word line by selectively transferring the drive signal of the row address decoder 11 or the shift register 16. Column address decoder 12
Generates a drive signal for a corresponding bit line of the memory array 10 by receiving the column address CA. Thereby, the access and the rewrite operation of the memory array 10 are performed by the drive signal generated by the column address decoder 12 while being selected by the multiplexer 13.
【0013】図8(c)(公知技術)は、図8(b)の
シフト・レジスタ16を示す回路図である。この図8
(c)に示されるように、シフト・レジスタ16は、リ
ング状に接続され、システムクロックCLKにより制御
されるD型フリップ・フロップで構成されている。パル
スは、シフト・レジスタ16に入力されたとき、システ
ムクロックの立上がり縁又は立下り縁におけるD型フリ
ップ・フロップに沿って伝わる。このため、D型フリッ
プ・フロップの数がメモリアレイ10のワード線の数と
同様に設計された場合、シフト・レジスタ16の出力
は、直接メモリアレイ10のワード線に対する駆動信号
として用いられる。FIG. 8C (prior art) is a circuit diagram showing the shift register 16 of FIG. 8B. This FIG.
As shown in (c), the shift register 16 is connected in a ring shape and is constituted by a D-type flip-flop controlled by a system clock CLK. The pulse, when input to shift register 16, travels along the D flip-flop on the rising or falling edge of the system clock. Therefore, when the number of D-type flip-flops is designed to be the same as the number of word lines of the memory array 10, the output of the shift register 16 is directly used as a drive signal for the word lines of the memory array 10.
【0014】4Tメモリセルを用いた擬似SRAMおい
て、アクセスしたトランジスタN3及びN4がオフであ
るとき(例:ワード線WLが“0”)、ロジック“1”
信号を保存するトランジスタN1(又はN2)は、ビッ
ト線BL/BL’の電圧レベルを変えることによるだけ
でなく、ワード線WLをオンにすることによっても再書
き込みできる。さらに、アクセスしたトランジスタN3
及びN4がオンであるとき(例:ワード線WLが
“1”)、大きい読み出し電流がロジック“0”信号を
保存するトランジスタN2(又はN1)に流れ込むこと
により、2つ以上のワード線を同時にオンにするときデ
ータの混乱を引き起こす。そのため、擬似SRAMは、
余分な電力を消費する列による再書き込みが行われなけ
ればならない。In the pseudo SRAM using the 4T memory cell, when the accessed transistors N3 and N4 are off (for example, the word line WL is "0"), the logic "1".
The transistor N1 (or N2) storing the signal can be rewritten not only by changing the voltage level of the bit line BL / BL ', but also by turning on the word line WL. Further, the accessed transistor N3
And when N4 is on (eg, word line WL is "1"), a large read current flows into transistor N2 (or N1) which stores a logic "0" signal, thereby simultaneously connecting two or more word lines. Causes data confusion when turned on. Therefore, the pseudo SRAM is
A rewrite must be performed with the extra power consuming columns.
【0015】[0015]
【発明が解決しようとする課題】以上により、コンピュ
ータに用いられるための改良された最適なSRAMが当
該技術において一般に求められている。特に、複数のワ
ード線を同時にオンにするときのデータの混乱を防ぐと
ともに、パワー消費量を小さくする隠ぺい型再書き込み
2P2N擬似SRAMを提供することが必要とされてい
る。Thus, there is a general need in the art for an improved and optimized SRAM for use in a computer. In particular, there is a need to provide a hidden rewrite 2P2N pseudo-SRAM that prevents confusion of data when simultaneously turning on a plurality of word lines and reduces power consumption.
【0016】本発明は、チップ面積が小さく、パワー消
費量の小さな隠ぺい型再書き込み2P2N擬似SRAM
を提供するとともに、このSRAMの操作が簡単で読み
出し時間が減少される再書き込み方法を提供することを
目的とする。The present invention provides a hidden rewrite 2P2N pseudo SRAM having a small chip area and a small power consumption.
And a rewrite method in which the operation of the SRAM is simple and the read time is reduced.
【0017】[0017]
【課題を解決するための手段】本発明は、メモリセルの
アレイを備えるコンピュータに用いる隠ぺい型再書き込
み2P2N擬似SRAMを提供する。各メモリセルは、
交差対ラッチ及び2つのPMOSアクセストランジスタ
を含む。交差対ラッチは、互いに交差して連結する2つ
のNMOSトランジスタを含む。2つのPMOSアクセ
ストランジスタは、ワード線によって制御され、それぞ
れ交差対ラッチの2つのNMOSトランジスタと一対の
ビット線とにアクセスするために備えられる。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a hidden rewrite 2P2N pseudo SRAM for use in a computer having an array of memory cells. Each memory cell is
Includes a cross pair latch and two PMOS access transistors. A cross-pair latch includes two NMOS transistors that cross and connect to each other. Two PMOS access transistors are controlled by the word lines and are provided for accessing the two NMOS transistors and the pair of bit lines, respectively, of the crossed pair latch.
【0018】本発明による隠ぺい型再書き込み2P2N
擬似SRAMのうち、交差対ラッチの2つのNMOSト
ランジスタは、第1NMOSトランジスタ及び第2NM
OSトランジスタとを含み、そのうち第1NMOSトラ
ンジスタは、ゲート、ドレイン及び負電源電圧に接続さ
れるソースを備え、第2NMOSトランジスタは、第1
NMOSトランジスタのドレインに接続されるゲート、
第1NMOSトランジスタのゲートに接続されるドレイ
ン及び負電源電圧に接続されるソースを備えている。Hidden rewrite 2P2N according to the present invention
In the pseudo SRAM, two NMOS transistors of the cross pair latch include a first NMOS transistor and a second NM
An OS transistor, wherein the first NMOS transistor has a gate, a drain, and a source connected to a negative power supply voltage, and the second NMOS transistor has a first NMOS transistor.
A gate connected to the drain of the NMOS transistor,
A drain connected to the gate of the first NMOS transistor and a source connected to the negative power supply voltage;
【0019】さらに、本発明による隠ぺい型再書き込み
2P2N擬似SRAMのうち、2つのPMOSアクセス
トランジスタは、第1PMOSトランジスタと第2PM
OSトランジスタとを含み、そのうち第1PMOSトラ
ンジスタは、ワード線に接続されるゲート、一対のビッ
ト線に接続されるソース及び第1NMOSトランジスタ
のドレインに接続されるドレインを備え、第2PMOS
トランジスタは、ワード線に接続されるゲート、他の一
対のビット線に接続されるソース及び第2NMOSトラ
ンジスタのドレインに接続されるドレインを備えてい
る。Further, in the hidden rewrite 2P2N pseudo SRAM according to the present invention, two PMOS access transistors are a first PMOS transistor and a second PM transistor.
An OS transistor, wherein the first PMOS transistor has a gate connected to the word line, a source connected to the pair of bit lines, and a drain connected to the drain of the first NMOS transistor.
The transistor has a gate connected to the word line, a source connected to another pair of bit lines, and a drain connected to the drain of the second NMOS transistor.
【0020】この他、本発明は、また、上述したよう
に、隠ぺい型再書き込み2P2N擬似SRAMについて
の隠ぺい型書き込み方法を提供する。本発明の方法の好
ましい具体例によると、再書き込み操作は、ワード線が
正電源電圧であるとき、2P2N擬似SRAMの正電源
電圧よりも電圧差分高い電圧まで一対のビット線を駆動
させてPMOSアクセストランジスタをわずかにオンに
し、微少の再書き込み電流を備えることによって完成さ
れる。In addition, the present invention also provides a hidden-type rewriting method for a hidden-type rewrite 2P2N pseudo SRAM, as described above. According to a preferred embodiment of the method of the present invention, the rewrite operation is performed by driving the pair of bit lines to a voltage difference higher than the positive power supply voltage of the 2P2N pseudo SRAM when the word line is at the positive power supply voltage, and thereby performing PMOS access. Completed by turning on the transistor slightly and having a small rewrite current.
【0021】本発明による隠ぺい型再書き込み方法の具
体例によると、擬似SRAMについての再書込み操作が
一対のビット線に接続されるセンスアンプが作動してい
るときに行われることにより、擬似SRAMの読み出し
時間は、増加しない。さらには、電圧差は、2つのPM
OSアクセストランジスタのしきい値電圧より小さい。
十分な電流が交差対ラッチに供給されることによって、
その中に保存されるロジック“1”信号を取り戻すこと
を確保するために時限(time period)が備えられる。According to a specific example of the concealed rewriting method according to the present invention, the rewriting operation for the pseudo SRAM is performed when the sense amplifier connected to the pair of bit lines is operating. The read time does not increase. Furthermore, the voltage difference is the two PM
It is smaller than the threshold voltage of the OS access transistor.
By supplying enough current to the cross-pair latch,
A time period is provided to ensure that the logic "1" signal stored therein is regained.
【0022】[0022]
【発明の実施の形態】本発明の上述の、そしてその他の
目的、特徴、及び長所をより一層明瞭にするために、以
下に好ましい実施の形態を挙げ、図を参照にしながらさ
らに詳しく説明する。図1(a)は、本発明による隠ぺ
い型再書き込み2P2N擬似SRAMのメモリセルを示
す回路図である。この図1(a)に示されるように、メ
モリセルは、2つのNMOSトランジスタN5及びN6
と2つのPMOSトランジスタP5及びP6とを含んで
いる。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS In order to further clarify the above and other objects, features and advantages of the present invention, preferred embodiments are described below with reference to the drawings. FIG. 1A is a circuit diagram showing a memory cell of a hidden rewrite 2P2N pseudo SRAM according to the present invention. As shown in FIG. 1A, the memory cell includes two NMOS transistors N5 and N6.
And two PMOS transistors P5 and P6.
【0023】前記NMOSトランジスタN5及びN6
は、負電源電圧に接続されるソースと、データ(信号S
/S’)を保存するための交差対ラッチを形成するよう
互いに接合するドレイン及びゲートとをそれぞれ備えて
いる。The NMOS transistors N5 and N6
Represents a source connected to the negative power supply voltage and data (signal S
/ S '), each having a drain and a gate joined together to form a cross-paired latch for preservation.
【0024】前記PMOSトランジスタP5及びP6
は、ワード線WLに接続されるゲート、ビット線BL/
BL’及び交差対ラッチのNMOSトランジスタN1及
びN2のドレインにそれぞれ接続することにより信号S
/S’にアクセスするソースとドレインを備えている。The PMOS transistors P5 and P6
Is a gate connected to the word line WL and a bit line BL /
The signal S is connected to BL 'and the drains of the NMOS transistors N1 and N2 of the cross pair latch, respectively.
/ S ′ to access the source / drain.
【0025】ダイオードの逆バイアス電圧I(LEAK
AGE)及びトランジスタ(例えば本発明で用いられる
トランジスタ)の副しきい値電流I(SUB)は、次の
式で表される。 I(LEAKAGE)=A・Is(eV/VT-1) I(SUB)∝(W/L)・e(Vgs-Vt)/nVT[1-e-Vds/VT]The diode reverse bias voltage I (LEAK
AGE) and the sub-threshold current I (SUB) of the transistor (for example, the transistor used in the present invention) are represented by the following equations. I (LEAKAGE) = A ・ Is (e V / VT -1) I (SUB) ∝ (W / L) ・ e (Vgs-Vt) / nVT [1-e- Vds / VT ]
【0026】これらの式において、Aは、ダイオードの
面積であり、W/Lは、トランジスタの幅/長さ比であ
り、Vgsは、トランジスタのゲートとソースとの間の
バイアスであり、Vtは、トランジスタのしきい値電圧
である。In these equations, A is the area of the diode, W / L is the width / length ratio of the transistor, Vgs is the bias between the gate and source of the transistor, and Vt is , The threshold voltage of the transistor.
【0027】従って、漏れ電流ID3+IN6及び供給
電流ID2+IP6は、SRAMの工程パラメータ又は
レイアウトを変更することにより効果的に制御できる。
PMOSトランジスタP5及びP6がオフ(閉じ)して
いるとき(ワード線が“1”)、例えば節点(nod
e)S’に保存されているロジック“1”信号は、フロ
ーティングの状態である。このとき、図1(b)に示さ
れるように、2つの寄生ダイオードD2(NMOSトラ
ンジスタN6のソース/ドレイン接合点に位置する)及
びD3(PMOSトランジスタP6のソース/ドレイン
接合点に位置する)は、節点S’に接続されているとと
もに、2つの逆バイアス電流ID2及びID3をそれぞ
れ備えている。さらには、NMOSトランジスタN6及
びPMOSトランジスタP6は、オフになっているが、
2つの副しきい値電流IN6及びIP6を節点S’に与
える。次に、節点S’には、節点S’における電圧レベ
ルを下げる漏れ電流ID3+IN6と、節点S’におけ
る電圧レベルを上げる供給電流ID2+IP6とが備え
られる。従って、供給電流が漏れ電流より大きくなるよ
う(例:ID2+IP6>ID3+IN6)制御される
限り、SRAMにおけるデータの損失を防ぐことができ
る。Therefore, the leakage current ID3 + IN6 and the supply current ID2 + IP6 can be effectively controlled by changing the process parameters or layout of the SRAM.
When the PMOS transistors P5 and P6 are off (closed) (the word line is "1"), for example, the node (nod)
e) The logic "1" signal stored in S 'is in a floating state. At this time, as shown in FIG. 1B, two parasitic diodes D2 (located at the source / drain junction of the NMOS transistor N6) and D3 (located at the source / drain junction of the PMOS transistor P6) are connected. , And two reverse bias currents ID2 and ID3, respectively. Further, although the NMOS transistor N6 and the PMOS transistor P6 are off,
Two sub-threshold currents IN6 and IP6 are applied to node S '. Next, the node S 'is provided with a leakage current ID3 + IN6 for decreasing the voltage level at the node S' and a supply current ID2 + IP6 for increasing the voltage level at the node S '. Therefore, as long as the supply current is controlled to be larger than the leakage current (eg, ID2 + IP6> ID3 + IN6), data loss in the SRAM can be prevented.
【0028】さらに、十分な供給電流を確保するため
に、本発明の具体例として、また、ビット線の昇圧によ
る再書き込み方法を備えており、以下に詳しく説明す
る。PMOSトランジスタP5及びP6がオフ(ワード
線WLが“1”)であるとき、一対のビット線BL/B
L’は、VDD+Vまでに駆動される。そのうちVDD
は、正電源電圧であり、Vは、PMOSトランジスタの
しきい値電圧|VTP|より小さい電圧差であるととも
に、PMOSトランジスタP5及びP6をわずかにオン
にすることによりわずかな再書き込み電流をロジック
“1”信号に与えるために備えられる。再書き込み時間
が十分長い限り、ロジック“1”信号はVDD+Vまで
に上昇されうる。さらに、この本発明の方法の具体例
は、ビット線BL/BL’に大体同時に接続されるメモ
リセルの列を再書き込みする。従来の4Tメモリセルに
対して、本発明による方法は、ロジック“0”信号で大
きい電流を引き起こすことによりビット線電圧を急速に
引き下げることがない(V<VTであるため)。従っ
て、本発明による方法は、大体同時にメモリセルの列を
再書き込みすることができるとともに、異なるメモリセ
ル間でのデータの混乱を引き起こさない。Further, in order to secure a sufficient supply current, a rewriting method by boosting the bit line is provided as a specific example of the present invention, which will be described in detail below. When the PMOS transistors P5 and P6 are off (the word line WL is "1"), the pair of bit lines BL / B
L ′ is driven up to VDD + V. VDD
Is a positive power supply voltage, V is a voltage difference smaller than the threshold voltage | VTP | of the PMOS transistor, and a small rewrite current is generated by turning on the PMOS transistors P5 and P6 slightly. Provided to provide a 1 "signal. As long as the rewrite time is long enough, the logic "1" signal can be raised to VDD + V. Further, this embodiment of the method of the present invention rewrites a column of memory cells that are connected to bit lines BL / BL 'substantially simultaneously. For conventional 4T memory cells, the method according to the present invention does not cause the bit line voltage to drop rapidly by causing a large current in the logic "0" signal (since V <VT). Thus, the method according to the invention allows the column of memory cells to be rewritten almost simultaneously and does not cause data confusion between different memory cells.
【0029】上述より、本発明の方法は、対応するワー
ド線を順次開くのを必要とせず、ビット線BL/BL’
をVDD+Vまでに駆動させることにより、単一周期内
で1列のメモリセルを再書き込みすることができる。そ
のため、本発明による方法は、操作が簡単であり、結果
的にSRAMにおけるパワー消費量を抑えることができ
る。As described above, the method of the present invention does not require sequentially opening the corresponding word lines, and the bit lines BL / BL '.
Is driven up to VDD + V, so that one column of memory cells can be rewritten in a single cycle. Therefore, the method according to the present invention is simple in operation, and as a result, the power consumption in the SRAM can be reduced.
【0030】本発明のさらなる具体例では、多数列のメ
モリセルを再書き込みするときの電源の負荷を減少させ
ノイズ・マージンを増加させるために、マルチプレクサ
を用いて1列又は所定数列のメモリセルが単一周期内で
再書き込みされる。マルチプレクサは、計数器又はシフ
ト・レジスタによって制御される。In a further embodiment of the present invention, one or a predetermined number of columns of memory cells are implemented using a multiplexer to reduce power supply loading and increase noise margin when rewriting multiple columns of memory cells. Rewritten within a single cycle. The multiplexer is controlled by a counter or a shift register.
【0031】図2は、本発明の2P2N擬似SRAMの
再書き込み操作を示すタイミング図である。図2では、
timer信号が漏れ電流の検出によって判断されるこ
とにより、計数器を駆動して再書き込み操作の実行時間
を表すアドレスを発生させる。それから、各列のメモリ
セルに対応する再書き込みパルスREF1、REF2、
REFkは、計数器によって発生したアドレスをアドレ
ス・デコーダで解読することにより発生する。計数器
は、所定数のパルスを発生した後リセットされるととも
に、次のtimer信号まで再び起動されることによ
り、極めて多くの列のメモリセルが大体同時に再書き込
みされるのを防ぐ。FIG. 2 is a timing chart showing a rewrite operation of the 2P2N pseudo SRAM of the present invention. In FIG.
The timer signal is determined by the detection of the leakage current to drive the counter to generate an address representing the execution time of the rewrite operation. Then, the rewrite pulses REF1, REF2,
REFk is generated by decoding the address generated by the counter with an address decoder. The counter is reset after generating a predetermined number of pulses, and is restarted until the next timer signal, thereby preventing a very large number of columns of memory cells from being rewritten substantially simultaneously.
【0032】本発明による再書き込み方法の読み出し操
作と書き込み操作とにおける具体例を以下に詳しく説明
する。 A.読み出し操作 読み出し操作において、書き込みイネーブル信号WE’
は、ロジック“1”であり、チップ選択信号CS’は、
ロジック“0”である。事前充電イネーブル信号PRE
は、システムクロックCLKの立上がり縁により起動さ
れるとともに、遅延素子によって決定するパルス幅を有
している。それから、ワード線イネーブル信号WLは、
事前充電イネーブル信号PREの立下り縁より起動され
るとともに、遅延素子によって決定するパルス幅を有し
ている。ワード線WLが短時間オンになるともに、電圧
差(例:0.1〜0.3V)がビット線BL/BL’の
間に現れた後、センスアンプ・イネーブル信号SAは、
ロジック“1”になることにより電圧差を増幅させる。
このことは、読み出し操作を加速するとともに、SRA
Mのパワー消費量を減少させる。ワード線WLもまた、
センスアンプSAがビット線BL/BL’の信号の揺れ
及びパワー消費量を減少できた後にオフにされる。その
後、再書き込みイネーブル信号REFは、ワード線イネ
ーブル信号の立下り縁より起動されるとともに遅延素子
によって決定するパルス幅を有している。センスアンプ
SAが使用可能であるとともにワード線WLがオフであ
るときに再書き込みイネーブル信号REFが起動される
ため、本発明による再書き込み方法は、SRAMの読み
出し時間を増加させない。Specific examples of the read operation and the write operation of the rewriting method according to the present invention will be described in detail below. A. Read operation In the read operation, the write enable signal WE '
Is a logic “1”, and the chip selection signal CS ′ is
Logic "0". Precharge enable signal PRE
Is activated by the rising edge of the system clock CLK and has a pulse width determined by the delay element. Then, the word line enable signal WL is
It is activated from the falling edge of the precharge enable signal PRE and has a pulse width determined by the delay element. After the word line WL is turned on for a short time and a voltage difference (eg, 0.1 to 0.3 V) appears between the bit lines BL / BL ', the sense amplifier enable signal SA
The logic "1" amplifies the voltage difference.
This not only accelerates the read operation, but also
Reduce the power consumption of M. Word line WL is also
The sense amplifier SA is turned off after the swing and power consumption of the signal on the bit lines BL / BL 'can be reduced. Thereafter, the rewrite enable signal REF is activated from the falling edge of the word line enable signal and has a pulse width determined by the delay element. Since the rewrite enable signal REF is activated when the sense amplifier SA is available and the word line WL is off, the rewrite method according to the present invention does not increase the read time of the SRAM.
【0033】B.書き込み操作 書き込み操作では、チップ選択信号CS’は、ロジック
“0”であり、書き込みイネーブル信号WE’は、ロジ
ック“0”である。このとき、全ての信号の対応するタ
イミングは、センスアンプ・イネーブル信号SAが必要
でなく書き込みイネーブル信号WE’は、データ入力の
制御に用いられるという点以外は、読み出し操作とほと
んど同じである。さらには、チップ選択信号CS’がロ
ジック“1”であり書き込みイネーブル信号WE’が任
意であるとき、読み出し又は書き込み操作は行われな
い。このとき、隠ぺい型再書き込みは、再書き込みイネ
ーブル信号REF及びカウンタ・アドレスを発生させる
ことのみによって行われる。B. Write Operation In a write operation, the chip select signal CS 'is at logic "0" and the write enable signal WE' is at logic "0". At this time, the corresponding timing of all the signals is almost the same as the read operation except that the sense amplifier enable signal SA is not required and the write enable signal WE 'is used for controlling the data input. Further, when the chip select signal CS 'is logic "1" and the write enable signal WE' is optional, no read or write operation is performed. At this time, the hidden type rewriting is performed only by generating the rewriting enable signal REF and the counter address.
【0034】以上により、本発明による隠ぺい型再書き
込み2P2N擬似SRAMは、従来の6TSRAMより
チップ面積が小さい。本発明による隠ぺい型再書き込み
方法は、操作が簡単であるとともに結果的にSRAMに
おけるパワー消費量を小さくすることができる。さらに
は、本発明による隠ぺい型再書き込み操作は、センスア
ンプが操作可能であるときに行われるため、SRAMの
読み出し時間が減少される。As described above, the hidden rewrite 2P2N pseudo SRAM according to the present invention has a smaller chip area than the conventional 6TSRAM. The hidden rewriting method according to the present invention is easy to operate and consequently reduces power consumption in the SRAM. Further, the hidden rewrite operation according to the present invention is performed when the sense amplifier is operable, so that the read time of the SRAM is reduced.
【0035】本発明はまた、図3に示されるように、6
T(6素子)メモリセルに応用できる。この図3を参照
すると、アクセストランジスタは、NMOSトランジス
タであり、PMOS負荷トランジスタは、正電源電圧に
接続されるゲートをそれぞれ備えている。通常の操作で
は、PMOS負荷トランジスタは、従来の4Tメモリセ
ル同様、正電源電圧VDDに接続されるソースをそれぞ
れ備えている。しかし、本発明による再書き込み操作で
は、PMOS負荷トランジスタは、VDD+|VTP|
に接続されるソースをそれぞれ備えている。The present invention also relates to a method as shown in FIG.
It can be applied to T (six element) memory cells. Referring to FIG. 3, the access transistors are NMOS transistors, and the PMOS load transistors each have a gate connected to a positive power supply voltage. In normal operation, the PMOS load transistors, like conventional 4T memory cells, each have a source connected to the positive power supply voltage VDD. However, in a rewrite operation according to the present invention, the PMOS load transistor will be at VDD + | VTP |
Each has a source connected to it.
【0036】本発明では、好ましい実施例を前述の通り
開示したが、これらは、決して本発明を限定するもので
はなく、当該技術を熟知する者なら誰でも、本発明の精
神と領域を脱しない範囲内で各種の変更や変化を加える
ことができ、従って本発明の保護範囲は、特許請求の範
囲で指定した内容を基準とする。Although the present invention discloses preferred embodiments as described above, they are not intended to limit the invention in any way, and any person skilled in the art does not depart from the spirit and scope of the invention. Various changes and changes can be made within the scope, and accordingly, the protection scope of the present invention is based on the contents specified in the claims.
【0037】[0037]
【発明の効果】本発明による再書き込み擬似SRAM
は、複数のメモリセルを備えた隠ぺい型再書き込み2P
2N擬似SRAMであり、各メモリセルは、互いに交差
して連結する2つのNMOSトランジスタからなる交差
対ラッチと、ワード線によって制御され、前記交差対ラ
ッチの前記NMOSトランジスタ及び一対のビット線に
それぞれアクセスする2つのPMOSアクセストランジ
スタとにより構成したので、複数のワード線を同時にオ
ンにするときのデータの混乱を防ぐとともに、パワー消
費量を小さくする隠ぺい型再書き込み2P2N擬似SR
AMを提供することができる。また、本発明によるSR
AMは、従来のSRAMよりチップ面積を小さくでき
る。The rewrite pseudo SRAM according to the present invention
Is a hidden rewrite 2P having a plurality of memory cells.
Each memory cell is a 2N pseudo SRAM, and each memory cell is controlled by a word line and a cross pair latch composed of two NMOS transistors crossing each other, and accesses the NMOS transistor and a pair of bit lines of the cross pair latch, respectively. , A hidden rewrite 2P2N pseudo SR that prevents data confusion when turning on a plurality of word lines simultaneously and reduces power consumption.
AM can be provided. Also, the SR according to the present invention
AM can have a smaller chip area than a conventional SRAM.
【0038】本発明による擬似SRAMの再書き込み方
法は、互いに交差して連結する2つのNMOSトランジ
スタからなる交差対ラッチを備えた複数のメモリセル
と、ワード線によって制御され、前記交差対ラッチの前
記NMOSトランジスタ及び一対のビット線にそれぞれ
アクセスする2つのPMOSアクセストランジスタとか
らなる隠ぺい型2P2N擬似SRAMを予め備える工程
と、ワード線が正電源電圧であるとき、前記隠ぺい型2
P2N擬似SRAMの正電源電圧よりも電圧差分高い第
1電圧まで一対のビット線を駆動させる工程とからなる
ので、操作が簡単であるとともに結果的にSRAMにお
けるパワー消費量を小さくすることができる。さらに
は、本発明によれば、センスアンプが操作可能であると
きに行われるため、SRAMの読み出し時間が減少され
る。A method of rewriting a pseudo SRAM according to the present invention is characterized in that a plurality of memory cells each having a crossed pair latch composed of two NMOS transistors crossed and connected to each other are controlled by a word line. A step of previously providing a hidden type 2P2N pseudo SRAM including an NMOS transistor and two PMOS access transistors respectively accessing a pair of bit lines; and, when the word line is at a positive power supply voltage, the hidden type 2
Driving the pair of bit lines up to a first voltage higher than the positive power supply voltage of the P2N pseudo SRAM by the first voltage, so that the operation is simple and the power consumption in the SRAM can be reduced as a result. Further, according to the present invention, since the operation is performed when the sense amplifier is operable, the read time of the SRAM is reduced.
【0039】電圧差は、PMOSアクセストランジスタ
のしきい値電圧よりも小さくなるようにしたので、供給
電流が漏れ電流より大きくなるよう制御される限り、S
RAMにおけるデータの損失を防ぐことができる。Since the voltage difference is made smaller than the threshold voltage of the PMOS access transistor, as long as the supply current is controlled to be larger than the leakage current, S
Data loss in the RAM can be prevented.
【0040】駆動工程において時限が与えられるように
したので、交差対ラッチに十分な電流を供給して記憶デ
ータを取り戻すことを確保することができる。Since a time limit is given in the driving step, it is possible to supply a sufficient current to the crossed pair latch and to recover the stored data.
【0041】事前充電イネーブル信号をSRAM内のシ
ステムクロックの立上がり縁及び立下り縁により起動す
る工程と、ワード線をオンにする工程と、電圧差をビッ
ト線の間に現す工程とをさらに含むので、読み出し操作
を加速するとともに、SRAMのパワー消費量を減少さ
せることができる。The method further includes the steps of starting the precharge enable signal by the rising and falling edges of the system clock in the SRAM, turning on the word line, and expressing a voltage difference between the bit lines. In addition, the read operation can be accelerated, and the power consumption of the SRAM can be reduced.
【0042】センスアンプ・イネーブル信号を利用して
電圧差を増幅させる工程をさらに含むので、読み出し操
作を加速させるとともに、SRAMのパワー消費量を減
少させることができる。Since the method further includes the step of amplifying the voltage difference using the sense amplifier enable signal, the read operation can be accelerated and the power consumption of the SRAM can be reduced.
【0043】センスアンプが電圧差を増幅できるように
する工程と、センスアンプが電圧差を増幅できた後にワ
ード線をオフにする工程と、ビット線の信号の揺れを減
少する工程とをさらに含むので、SRAMにおけるパワ
ー消費量を減少せしめることができる。The method further includes the steps of enabling the sense amplifier to amplify the voltage difference, turning off the word line after the sense amplifier has amplified the voltage difference, and reducing the fluctuation of the signal on the bit line. Therefore, the power consumption of the SRAM can be reduced.
【0044】本発明によれば、1T1Cメモリセル、3
Tメモリセル、4Tメモリセル、及び6Tメモリセルか
らなる群のいずれにも利用することができる。According to the present invention, 1T1C memory cells, 3
It can be used for any of the group consisting of T memory cells, 4T memory cells, and 6T memory cells.
【0045】所定数の再書き込みパルスが発生した後に
計数器をリセットする工程と、次のタイマ信号で前記計
数器を起動させる工程とをさらに含むので、計数器は、
所定数のパルスを発生した後リセットされるとともに、
次のtimer信号まで再び起動されることにより、極
めて多くの列のメモリセルが大体同時に再書き込みされ
るのを防止できる。The method further includes the steps of resetting the counter after a predetermined number of rewrite pulses have been generated, and activating the counter with the next timer signal.
Reset after generating a predetermined number of pulses,
By starting again until the next timer signal, it is possible to prevent the memory cells in an extremely large number of columns from being rewritten almost simultaneously.
【図1】本発明による隠ぺい型再書き込み2P2N擬似
SRAMの一実施例を示すもので、(a)は、電気回路
図、(b)は、半導体基板上に形成された断面線図であ
る。FIGS. 1A and 1B show an embodiment of a hidden rewrite 2P2N pseudo SRAM according to the present invention, in which FIG. 1A is an electric circuit diagram, and FIG. 1B is a cross-sectional diagram formed on a semiconductor substrate.
【図2】本発明によるSRAMの模範的な再書き込み操
作を示すタイミング図である。FIG. 2 is a timing diagram illustrating an exemplary rewrite operation of an SRAM according to the present invention.
【図3】本発明によるSRAMの他の応用例を示す電気
回路図である。FIG. 3 is an electric circuit diagram showing another application example of the SRAM according to the present invention.
【図4】従来のDRAMを示すもので、(a)は、1T
1Cメモリセルを示す電気回路図、(b)は、(a)の
1T1Cメモリセルを半導体基板上に形成した断面線図
である。4A and 4B show a conventional DRAM, in which FIG.
FIG. 2B is an electric circuit diagram showing the 1C memory cell, and FIG. 2B is a cross-sectional view of the 1T1C memory cell shown in FIG. 1A formed on a semiconductor substrate.
【図5】従来の他の3Tメモリセルを示す電気回路図で
ある。FIG. 5 is an electric circuit diagram showing another conventional 3T memory cell.
【図6】従来の他の4Tメモリセルを示す電気回路図で
ある。FIG. 6 is an electric circuit diagram showing another conventional 4T memory cell.
【図7】従来のさらに他のメモリセルを示すもので、
(a)は、6Tメモリセルを示す電気回路図、(b)
は、(a)と異なる6Tメモリセルを示す電気回路図、
(c)は、ポリロード(poly load)を用いた4Tメモ
リセルを示す電気回路図、(d)は、TFT負荷を用い
た6Tメモリセルを示す電気回路図である。FIG. 7 shows still another conventional memory cell;
(A) is an electric circuit diagram showing a 6T memory cell, (b)
Is an electric circuit diagram showing a 6T memory cell different from (a),
(C) is an electric circuit diagram showing a 4T memory cell using a poly load, and (d) is an electric circuit diagram showing a 6T memory cell using a TFT load.
【図8】従来の擬似SRAM駆動回路を示すもので、
(a)は、第1例のブロック図、(b)は、第2例のブ
ロック図、(c)は、(b)におけるシフト・レジスタ
を示すブロック図である。FIG. 8 shows a conventional pseudo SRAM driving circuit,
(A) is a block diagram of a first example, (b) is a block diagram of a second example, and (c) is a block diagram showing a shift register in (b).
10…メモリアレイ、11…行アドレスデコーダ、12
…列アドレスデコーダ、13…マルチプレクサ、14…
再書き込み計数器、15…制御装置、16…シフト・レ
ジスタ、BL、BL’…ビット線、CA…列アドレス、
CLK…システムクロック、CS…記憶キャパシタ、D
1、D2、D3…寄生ダイオード、ID2+IP6…供
給電流、ID3+IN6…漏れ電流、L…負荷、N1〜
N6…NMOSトランジスタ、P1〜P6…PMOSト
ランジスタ、R1、R2…抵抗、RA…行アドレス、R
BL…読み出しビット線、RWL…読み出しワード線、
S、S’…信号、T1…アクセストランジスタ、T2…
読み出しトランジスタ、T3…記憶トランジスタ、T4
…書き込みトランジスタ、TFT1、TFT2…薄膜ト
ランジスタ、WBL…ワードビット線、WL…ワード
線、WWL…書き込みワード線。10: memory array, 11: row address decoder, 12
... column address decoder, 13 ... multiplexer, 14 ...
Rewrite counter, 15 control device, 16 shift register, BL, BL 'bit line, CA column address,
CLK: system clock, CS: storage capacitor, D
1, D2, D3: parasitic diode, ID2 + IP6: supply current, ID3 + IN6: leakage current, L: load, N1
N6: NMOS transistor, P1 to P6: PMOS transistor, R1, R2: resistor, RA: row address, R
BL: read bit line, RWL: read word line,
S, S '... signal, T1 ... access transistor, T2 ...
Read transistor, T3 ... Storage transistor, T4
... Write transistors, TFT1, TFT2, thin film transistors, WBL, word bit lines, WL, word lines, WWL, write word lines.
Claims (17)
き込み2P2N擬似SRAMであり、各メモリセルは、
互いに交差して連結する2つのNMOSトランジスタか
らなる交差対ラッチと、ワード線によって制御され、前
記交差対ラッチの前記NMOSトランジスタ及び一対の
ビット線にそれぞれアクセスする2つのPMOSアクセ
ストランジスタとからなることを特徴とする再書き込み
擬似SRAM。1. A hidden rewrite 2P2N pseudo SRAM having a plurality of memory cells, wherein each memory cell comprises:
A cross-pair latch consisting of two NMOS transistors intersecting each other, and two PMOS access transistors controlled by a word line and respectively accessing the NMOS transistor and the pair of bit lines of the cross-pair latch. A rewrite pseudo SRAM characterized by the features.
は、第1NMOSトランジスタ及び第2NMOSトラン
ジスタであり、前記第1NMOSトランジスタは、ゲー
トと、ドレインと、負電源電圧に接続されるソースとか
らなり、前記第2NMOSトランジスタは、前記第1N
MOSトランジスタの前記ドレインに接続されるゲート
と、前記第1NMOSトランジスタの前記ゲートに接続
されるドレインと、前記負電源電圧に接続されるソース
とからなる請求項1に記載の再書き込み擬似SRAM。2. The NMOS transistor of the cross pair latch includes a first NMOS transistor and a second NMOS transistor, wherein the first NMOS transistor has a gate, a drain, and a source connected to a negative power supply voltage, and the second NMOS transistor The transistor includes the first N
2. The rewrite pseudo-SRAM according to claim 1, comprising a gate connected to the drain of a MOS transistor, a drain connected to the gate of the first NMOS transistor, and a source connected to the negative power supply voltage.
トランジスタ及び第2PMOSトランジスタであり、前
記第1PMOSトランジスタは、ワード線に接続される
ゲートと、ビット線の一方に接続されるソースと、第1
NMOSトランジスタのドレインに接続されるドレイン
とからなり、前記第2PMOSトランジスタは、ワード
線に接続されるゲートと、ビット線の他方に接続される
ソースと、前記第2NMOSトランジスタの前記ドレイ
ンに接続されるドレインとからなる請求項2に記載の再
書き込み擬似SRAM。3. The PMOS transistor is a first PMOS transistor.
And a second PMOS transistor, wherein the first PMOS transistor has a gate connected to a word line, a source connected to one of bit lines, and a first PMOS transistor.
The second PMOS transistor is connected to a gate connected to a word line, a source connected to the other of the bit lines, and connected to the drain of the second NMOS transistor. 3. The rewrite pseudo SRAM according to claim 2, comprising a drain.
トランジスタからなる交差対ラッチを備えた複数のメモ
リセルと、ワード線によって制御され、前記交差対ラッ
チの前記NMOSトランジスタ及び一対のビット線にそ
れぞれアクセスする2つのPMOSアクセストランジス
タとからなる隠ぺい型2P2N擬似SRAMを予め備え
る工程と、ワード線が正電源電圧であるとき、前記隠ぺ
い型2P2N擬似SRAMの正電源電圧より電圧差分だ
け高い電圧まで一対のビット線を駆動させる工程とから
なることを特徴とする擬似SRAMの再書き込み方法。4. Two NMOSs crossing and connected to each other
A concealed 2P2N pseudo memory comprising a plurality of memory cells each having a cross-pair latch composed of transistors, and two PMOS access transistors controlled by a word line and respectively accessing the NMOS transistor and the pair of bit lines of the cross-pair latch. It is characterized by comprising a step of providing an SRAM in advance and a step of driving a pair of bit lines to a voltage higher than the positive power supply voltage of the hidden 2P2N pseudo SRAM by a voltage difference when the word line is at the positive power supply voltage. Rewriting method of pseudo SRAM.
は、第1NMOSトランジスタ及び第2NMOSトラン
ジスタからなり、前記第1NMOSトランジスタは、ゲ
ートと、ドレインと、負電源電圧に接続されるソースと
からなり、前記第2NMOSトランジスタは、前記第1
NMOSトランジスタの前記ドレインに接続されるゲー
トと、前記第1NMOSトランジスタの前記ゲートに接
続されるドレインと、前記負電源電圧に接続されるソー
スとからなることを特徴とする請求項4に記載の擬似S
RAMの再書き込み方法。5. The NMOS transistor of the cross pair latch comprises a first NMOS transistor and a second NMOS transistor, wherein the first NMOS transistor comprises a gate, a drain, and a source connected to a negative power supply voltage, and the second NMOS transistor comprises: The transistor is the first transistor.
The pseudo transistor according to claim 4, further comprising a gate connected to the drain of the NMOS transistor, a drain connected to the gate of the first NMOS transistor, and a source connected to the negative power supply voltage. S
How to rewrite RAM.
トランジスタ及び第2PMOSトランジスタからなり、
前記第1PMOSトランジスタは、ワード線に接続され
るゲートと、ビット線の一方に接続されるソースと、第
1NMOSトランジスタのドレインに接続されるドレイ
ンとからなり、前記第2PMOSトランジスタは、ワー
ド線に接続されるゲートと、前記ビット線の他方に接続
されるソースと、第2NMOSトランジスタのドレイン
に接続されるドレインとからなることを特徴とする請求
項4に記載の擬似SRAMの再書き込み方法。6. The first PMOS transistor is a first PMOS transistor.
A transistor and a second PMOS transistor,
The first PMOS transistor includes a gate connected to a word line, a source connected to one of bit lines, and a drain connected to a drain of a first NMOS transistor, and the second PMOS transistor is connected to a word line. 5. The method according to claim 4, further comprising a gate connected to the bit line, a source connected to the other of the bit lines, and a drain connected to a drain of the second NMOS transistor.
のを防ぐために、ビット線に接続されるセンスアンプが
作動しているときに擬似SRAMの再書き込みを行うよ
うにしたことを特徴とする請求項4に記載の擬似SRA
Mの再書き込み方法。7. The pseudo SRAM is rewritten when a sense amplifier connected to a bit line is operating to prevent an increase in the read time of the pseudo SRAM. Pseudo SRA according to 4
How to rewrite M.
タのしきい値電圧よりも小さいことを特徴とする請求項
4に記載の擬似SRAMの再書き込み方法。8. The method according to claim 4, wherein the voltage difference is smaller than a threshold voltage of the PMOS access transistor.
憶データを取り戻すことを確保するために駆動工程にお
いて時限が与えられるようにしたことを特徴とする請求
項4に記載の擬似SRAMの再書き込み方法。9. The pseudo-SRAM of claim 4, wherein a time limit is provided in the driving step to supply sufficient current to the crossed pair latches to ensure that stored data is recovered. Rewriting method.
れる方法であり、事前充電イネーブル信号をSRAM内
のシステムクロックの立上がり縁及び立下り縁により起
動する工程と、ワード線をオンにする工程と、電圧差を
ビット線の間に現す工程とをさらに含むことを特徴とす
る請求項4に記載の擬似SRAMの再書き込み方法。10. A method performed in a read operation of an SRAM, the method comprising: activating a precharge enable signal by rising and falling edges of a system clock in the SRAM; turning on a word line; And restoring the pseudo SRAM between the bit lines.
れる方法であり、読み出し操作を加速させるとともに、
SRAMのパワー消費量を減少させるセンスアンプ・イ
ネーブル信号を利用して電圧差を増幅させる工程をさら
に含むことを特徴とする請求項4に記載の擬似SRAM
の再書き込み方法。11. A method performed in a read operation of an SRAM, in which the read operation is accelerated.
5. The pseudo SRAM of claim 4, further comprising amplifying a voltage difference using a sense amplifier enable signal for reducing power consumption of the SRAM.
Rewriting method.
れる方法であり、センスアンプが電圧差を増幅できるよ
うにする工程と、前記センスアンプが前記電圧差を増幅
できた後にワード線をオフにする工程と、ビット線の信
号の揺れを減少する工程とをさらに含み、SRAMにお
けるパワー消費量を減少せしめるようにしたことを特徴
とする請求項4に記載の擬似SRAMの再書き込み方
法。12. A method performed in a read operation of an SRAM, wherein a step of allowing a sense amplifier to amplify a voltage difference, and a step of turning off a word line after the sense amplifier is able to amplify the voltage difference. 5. The method according to claim 4, further comprising the step of reducing the fluctuation of the signal of the bit line, so as to reduce the power consumption of the SRAM.
れる方法であり、SRAMにおける読み出し時間が減少
するのと同様、電圧差を増幅しワード線がオフであると
きに再書き込みイネーブル信号を起動する工程をさらに
含むことを特徴とする請求項4に記載の擬似SRAMの
再書き込み方法。13. A method performed in a read operation of an SRAM, further comprising the step of amplifying a voltage difference and activating a rewrite enable signal when a word line is off as in the case of reducing the read time in the SRAM. The method of claim 4, wherein the method includes rewriting the pseudo SRAM.
れる方法であり、前記SRAMへのデータ入力を制御す
る書き込みイネーブル信号を提供する工程と、再書き込
みイネーブル信号を発生させる工程とをさらに含むこと
を特徴とする請求項4に記載の擬似SRAMの再書き込
み方法。14. A method performed in a write operation of an SRAM, further comprising: providing a write enable signal for controlling data input to the SRAM; and generating a rewrite enable signal. The method for rewriting a pseudo SRAM according to claim 4.
ル、4Tメモリセル、及び6Tメモリセルからなる群の
いずれにも利用される方法を含むことを特徴とする請求
項4に記載の擬似SRAMの再書き込み方法。15. The pseudo-SRAM rewrite of claim 4, including a method used for any of the group consisting of 1T1C memory cells, 3T memory cells, 4T memory cells, and 6T memory cells. Method.
号を判断することにより計数器を駆動してSRAMにお
ける各メモリセルについての再書き込み実行時間を表す
アドレスを発生させる工程と、各メモリセルの前記アド
レスを解読する工程と、前記メモリセルの各アドレスに
対応する再書き込みパルスを発生させる工程とを含むこ
とを特徴とする請求項4に記載の擬似SRAMの再書き
込み方法。16. A step of detecting a leakage current, a step of driving a counter by judging a timer signal to generate an address representing a rewrite execution time for each memory cell in the SRAM, The method of claim 4, further comprising: decoding the address; and generating a rewrite pulse corresponding to each address of the memory cell.
後に計数器をリセットする工程と、次のタイマ信号で前
記計数器を起動させる工程とをさらに含むことを特徴と
する請求項16に記載の擬似SRAMの再書き込み方
法。17. The method of claim 16, further comprising: resetting the counter after a predetermined number of rewrite pulses have occurred; and activating the counter with a next timer signal. Rewriting method of pseudo SRAM.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000009782A JP2001202775A (en) | 2000-01-19 | 2000-01-19 | Rewrite pseudo SRAM and rewrite method thereof |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
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- 2000-01-19 JP JP2000009782A patent/JP2001202775A/en active Pending
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