JP2006045278A - Photosensitive composition and laminate comprising the photosensitive composition - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、光硬化性を有する感光性組成物に関し、詳しくは、ポリエステルフィルム、詳しくはポリエチレンテレフタレートフィルムに対する密着性に優れ、表面抵抗値が1011Ω/□よりも低いものを提供する。
【解決手段】テトラカルボン酸二無水物、ヘキサカルボン酸三無水物、ヘキサカルボン酸二無水物、無水マレイン酸共重合樹脂などの多価カルボン酸無水物類、無水フタル酸、無水トリメリット酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルハイミック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルペンタヒドロ無水フタル酸、メチルトリヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸など酸無水物基を有する特定化合物(A)と、酸無水物基に反応しうる官能基とポリアルキレンオキシ基と不飽和二重結合とを有する化合物(B)と、を反応させてなる化合物(C)を含んでなり、塗膜にして光硬化させたときの表面抵抗値が1011Ω/□よりも低いものである感光性組成物。
【選択図】なしThe present invention relates to a photosensitive composition having photocurability, and more specifically, it provides excellent adhesion to a polyester film, more specifically, a polyethylene terephthalate film, and has a surface resistance value lower than 10 11 Ω / □. To do.
SOLUTION: Polycarboxylic acid anhydrides such as tetracarboxylic dianhydride, hexacarboxylic dianhydride, hexacarboxylic dianhydride, maleic anhydride copolymer resin, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, Specific having acid anhydride group such as methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhymic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methylpentahydrophthalic anhydride, methyltrihydrophthalic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride A compound (C) obtained by reacting a compound (A) with a compound (B) having a functional group capable of reacting with an acid anhydride group, a polyalkyleneoxy group, and an unsaturated double bond; A photosensitive composition having a surface resistance value lower than 10 11 Ω / □ when a coating film is photocured.
[Selection figure] None
Description
本発明は、光硬化性を有する感光性組成物に関し、表面抵抗値が1011Ω/□よりも低い感光性組成物および当該感光性組成物を用いた積層体に関する。当該組成物は、レンズ、導波路、光ファイバー、あるいは、低屈折率の層と交互に積層した干渉膜、光学フィルター、ホログラムなどの光学素子などに用いることができる。 The present invention relates to a photosensitive composition having photocurability, and relates to a photosensitive composition having a surface resistance value lower than 10 11 Ω / □ and a laminate using the photosensitive composition. The composition can be used for lenses, waveguides, optical fibers, or optical elements such as interference films, optical filters, and holograms alternately laminated with low refractive index layers.
従来、レンズ、あるいは、高屈折率の層と低屈折率の層と交互に積層した干渉膜、光学フィルター、などの光学素子の表面には、表面保護及び、機能性付与の目的で基材フィルムの上に表面コーティング層が積層される。 Conventionally, the surface of an optical element such as a lens or an interference film or an optical filter laminated alternately with a high refractive index layer and a low refractive index layer is a base film for the purpose of surface protection and functional addition. A surface coating layer is laminated on the substrate.
これら表面コーティング層は、静電気が発生して周囲のゴミを巻き込むという問題を抱えている。 These surface coating layers have a problem in that static electricity is generated and surrounding dust is involved.
そこで、表面コーティング層に帯電防止性を付与する手段として、以下に示すような種々の方策が提案されている。
例えば、
(1) 表面コーティング層を構成する基材フィルム自体に帯電防止性を付与する、
(2) 表面コーティング層を構成する基材フィルム以外に、帯電防止性能を有する層を設ける、
Accordingly, various measures as described below have been proposed as means for imparting antistatic properties to the surface coating layer.
For example,
(1) imparting antistatic properties to the base film itself constituting the surface coating layer;
(2) In addition to the base film constituting the surface coating layer, a layer having antistatic performance is provided.
(1)の方法は、基材フィルムの原料たるポリエステルやポリエチレン等の熱可塑性樹脂に有機スルホン酸塩基等のアニオン性化合物、金属粉、カーボンブラック等の導電性フィラーを練り混んで導電性基材フィルムを得る方法であり、この場合基材フィルムの透明性が低下したり、フィルムが着色したりする。
ところで、レンズ、あるいは、高屈折率の層と低屈折率の層と交互に積層した干渉膜、光学フィルターなどの光学素子は透明性に優れ、かつ光学的にも欠陥を有していないことが必要とされる。
従って、帯電防止剤含有基材フィルムを用いてなる表面コーティング層を使用した場合、透明性が悪くなるという問題がある。また、基材フィルムが高価格になるという問題もある。
The method (1) is a method in which a conductive base material is prepared by kneading an anionic compound such as an organic sulfonate group, a metal powder, or a conductive filler such as carbon black with a thermoplastic resin such as polyester or polyethylene as a raw material for the base film. In this case, the transparency of the base film is lowered or the film is colored.
By the way, a lens or an optical element such as an interference film or an optical filter in which a high-refractive index layer and a low-refractive index layer are alternately laminated is excellent in transparency and has no optical defect. Needed.
Therefore, when a surface coating layer using an antistatic agent-containing base film is used, there is a problem that transparency is deteriorated. There is also a problem that the base film becomes expensive.
(2)の方法は、以下に示すようにさらに様々なバリエーションがある(特開平7−26223号公報、特開平11−256116号公報、特開平2001−219520号公報、特開2002−060707号公報、特開2002−275296号公報等参照)。
(2-1) 基材フィルムの少なくとも一方の面に金属化合物を蒸着する、
(2-2) 基材フィルムの少なくとも一方の面に、4級アンモニウム塩、スルホン酸塩基を有する長鎖アルキル化合物等のようなアニオン型界面活性剤、チオフェン誘導体、主鎖にイオン化された窒素元素を有するポリマーや、スルホン酸塩基変性ポリスチレン等の種々の帯電防止剤を含有する層を設ける、等。
しかし、例えばスルホン酸塩基を有する長鎖アルキル化合物等のようなアニオン型界面活性剤は比較的低分子量であるので、帯電防止剤の一部が帯電防止塗膜中を移動して基材フィルムとの界面に集積し基材フィルムの反対面等に移行する問題や、帯電防止性が経時的に低下するという問題がある。
また、主鎖にイオン化された窒素元素を有するポリマーや、スルホン酸塩基変性ポリスチレン等は比較的高分子量であるので、上記のような問題は生じない。しかし、良好な帯電防止性能を得るためには多量の帯電防止剤の配合が必要であり、帯電防止層の膜厚を厚くする必要があるため経済的でない。さらに、製品にならなかった屑フィルム(例えば、製造工程で切断除去したフィルム端部等)を回収し、フィルム製造用の再生材料として使用すると、溶融製膜の際に該再生材料中に含まれる帯電防止剤成分が熱劣化し、再生されるフィルムが著しく着色し実用性に欠ける(回収性が劣る)ものとなる等の問題が生じる。そのうえ、フィルム同士が剥離し難い(ブロッキングする)、塗膜が削れ易い等の欠点が生じ、その解決が望まれている。
The method (2) has various variations as described below (Japanese Patent Laid-Open Nos. 7-26223, 11-256116, 2001-219520, 2002-060707). JP, 2002-275296, A, etc.).
(2-1) depositing a metal compound on at least one surface of the base film;
(2-2) An anionic surfactant such as a quaternary ammonium salt, a long-chain alkyl compound having a sulfonate group, a thiophene derivative, or a nitrogen element ionized in the main chain on at least one surface of the base film And a layer containing various antistatic agents such as sulfonate group-modified polystyrene.
However, since an anionic surfactant such as a long-chain alkyl compound having a sulfonate group has a relatively low molecular weight, a part of the antistatic agent moves through the antistatic coating film to form a base film. There is a problem of accumulating at the interface and transferring to the opposite surface of the base film, and a problem that the antistatic property decreases with time.
In addition, since the polymer having nitrogen element ionized in the main chain, sulfonate group-modified polystyrene, and the like have a relatively high molecular weight, the above-described problems do not occur. However, in order to obtain good antistatic performance, it is necessary to add a large amount of antistatic agent, and it is not economical because it is necessary to increase the thickness of the antistatic layer. Furthermore, when scrap film that has not been turned into a product (for example, film edges cut and removed in the manufacturing process) is collected and used as a recycled material for film production, it is included in the recycled material during melt film formation. There arises a problem that the antistatic agent component is thermally deteriorated, and the film to be regenerated is extremely colored and lacks practicality (recoverability is poor). In addition, there are disadvantages that the films are difficult to peel (block) and the coating film is easily scraped, and the solution is desired.
透明性に優れ着色の問題がほとんど生じない帯電防止剤の利用が、特許文献2:特許第2718519号に開示されている。
しかし、特許文献2記載の発明は、導電性粘着剤に関するものであり、レンズ、あるいは、高屈折率の層と低屈折率の層と交互に積層した干渉膜、光学フィルター、などの光学素子の表面にコーティングした場合にはタックが残るという問題があり、レンズ、あるいは、高屈折率の層と低屈折率の層と交互に積層した干渉膜、光学フィルター、などの光学素子の表面コーティング層には到底使用し得るものではなかった。
The use of an antistatic agent that is excellent in transparency and hardly causes coloring problems is disclosed in Japanese Patent No. 2718519.
However, the invention described in Patent Document 2 relates to a conductive pressure-sensitive adhesive, and is a lens or an optical element such as an interference film or an optical filter in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately laminated. When coated on the surface, there is a problem that tack remains, and the surface coating layer of an optical element such as a lens or an interference film or an optical filter laminated alternately with a high refractive index layer and a low refractive index layer is present. Was not at all usable.
一方,ポリエチレンテレフタレートフィルムに代表されるポリエステルフィルムは,安価で大量生産が可能であり,成型性が容易,軽量である,着色が容易,錆びない,耐衝撃性が高い,電気絶縁性を有する,耐水・耐薬品などの化学的抵抗性を有する,透明形成が容易である,などの特性から幅広く使用されているが,その表面には、表面保護及び、機能性付与の目的でポリエステルフィルムの上に表面コーティング層が積層される。この表面コーティング層が積層されるときに,熱硬化型の塗工剤を用いると硬化の際の加熱処理によりポリエチレンテレフタレートフィルムが熱変形するおそれがある。そこで,感光性を有する樹脂組成物を塗工し,光硬化反応によってポリエチレンテレフタレートフィルム表面に表面保護及び、機能性を付与している。
しかしながら,従来から感光性樹脂組成物は、一般に硬化時の硬化歪みが熱硬化型樹脂組成物に比して大きく、硬化塗膜の基材に対する密着性が劣る。特に、ポリエチレンテレフタレート基材に対する密着性が極めて悪い。そこで、硬化塗膜とポリエチレンテレフタレートフィルムとの密着性向上の為に,ポリエチレンテレフタレートフィルムにポリエステル樹脂やアクリル樹脂などを使用して予めプライマー加工を行ったり,ポリエチレンテレフタレートにポリエステル樹脂やアクリル樹脂などを練り込んだ樹脂組成物をフィルム化したりした、易接着性ポリエチレンテレフタレートフィルムが用いられることが多い。しかし、このような易接着性ポリエチレンテレフタレートフィルムは,価格が高いという欠点があった。
そこで、基材たるポリエチレンテレフタレートフィルムに、上記したような特別の易接着処理を施さなくとも、密着性の良い感光性樹脂組成物が求められている。
On the other hand, polyester film represented by polyethylene terephthalate film is inexpensive and can be mass-produced, is easy to mold, lightweight, easy to color, does not rust, has high impact resistance, has electrical insulation, It is widely used due to its properties such as chemical resistance such as water resistance and chemical resistance, and easy transparency, but its surface has a polyester film for the purpose of surface protection and functionality. A surface coating layer is laminated on the substrate. If a thermosetting coating agent is used when the surface coating layer is laminated, the polyethylene terephthalate film may be thermally deformed by heat treatment during curing. Therefore, a resin composition having photosensitivity is applied, and surface protection and functionality are imparted to the surface of the polyethylene terephthalate film by a photocuring reaction.
However, conventionally, the photosensitive resin composition generally has a larger curing strain at the time of curing than the thermosetting resin composition, and the adhesiveness of the cured coating film to the substrate is inferior. In particular, the adhesion to a polyethylene terephthalate substrate is very poor. Therefore, in order to improve the adhesion between the cured coating film and the polyethylene terephthalate film, the polyethylene terephthalate film is preliminarily processed with a polyester resin or acrylic resin, or the polyethylene terephthalate is kneaded with polyester resin or acrylic resin. An easy-adhesive polyethylene terephthalate film obtained by forming a resin composition into a film is often used. However, such an easy-adhesive polyethylene terephthalate film has a drawback of high cost.
Therefore, there is a need for a photosensitive resin composition having good adhesion without subjecting the polyethylene terephthalate film as a base material to the special easy adhesion treatment described above.
また、さらに好ましくは、高屈折率である透明な樹脂が光学用物品で求められている。光硬化性を示す組成物は,硬化に要する時間がきわめて短く,硬化の際に基材にあまり熱がかからない特徴を有しており,このような感光性樹脂は、レンズ、導波路、光ファイバー、あるいは、高屈折率の層と低屈折率の層と交互に積層した干渉膜、光学フィルター、ホログラムなどの光学素子などへの検討が盛んに行われている。(特許文献3−7参照)特に熱による損傷を受け易い基材に対して好適に用いられる。 More preferably, a transparent resin having a high refractive index is required for optical articles. A photocurable composition has a characteristic that the time required for curing is very short and the substrate does not heat so much during curing. Such a photosensitive resin is composed of a lens, a waveguide, an optical fiber, Alternatively, studies are actively made on optical elements such as interference films, optical filters, and holograms in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately stacked. (Refer to patent documents 3-7) It uses suitably especially with respect to the base material which is easy to receive the damage by heat.
ところで、(メタ)アクリロイル基を有する共重合可能な化合物と、第4級アンモニウム塩基、エチレングリコール鎖、炭素数4以上の炭化水素基、及び反応基を分子中に有する反応型帯電防止剤に関する発明が特許文献6:特開平6−136354号広報に開示されている。
しかし、特許文献8に開示される感光性樹脂を含有する樹脂組成物から形成される硬化塗膜は、屈折率が低くポリエチレンテレフタレートフィルムに積層すると干渉縞が出てしまうなどの問題があった。
However, the cured coating film formed from the resin composition containing the photosensitive resin disclosed in Patent Document 8 has a problem that interference fringes appear when it is laminated on a polyethylene terephthalate film with a low refractive index.
本発明は、光硬化性を有する感光性組成物に関し、詳しくは、ポリエステルフィルム、詳しくはポリエチレンテレフタレートフィルムに対する密着性に優れ、表面抵抗値が1011Ω/□よりも低いものを提供することを目的とする。さらに、フェニル基の導入量を増やせば、屈折率が1.50よりも高い硬化物を形成し得る感光性組成物となり高屈折率の物性が必要である用途に使用することができる。 The present invention relates to a photosensitive composition having photocurability, and more specifically, to provide a film having excellent adhesion to a polyester film, specifically, a polyethylene terephthalate film, and having a surface resistance value lower than 10 11 Ω / □. Objective. Furthermore, if the introduction amount of the phenyl group is increased, it becomes a photosensitive composition capable of forming a cured product having a refractive index higher than 1.50, and can be used for applications requiring high refractive index properties.
すなわち、本発明は下記一般式(1)または一般式(2)で表される酸無水物基を有する化合物(A)と、
酸無水物基に反応しうる官能基とポリアルキレンオキシ基と不飽和二重結合とを有する化合物(B)と、
を反応させてなる化合物(C)を含んでなり、
塗膜にして光硬化させたときの表面抵抗値が1011Ω/□よりも低いものである感光性組成物に関する。
That is, the present invention includes a compound (A) having an acid anhydride group represented by the following general formula (1) or general formula (2),
A compound (B) having a functional group capable of reacting with an acid anhydride group, a polyalkyleneoxy group, and an unsaturated double bond;
Comprising a compound (C) obtained by reacting
The present invention relates to a photosensitive composition having a surface resistance value lower than 10 11 Ω / □ when it is cured as a coating film.
(式中、R1およびR2は、それぞれ独立に、水素原子もしくは1価の有機残基を表し、R3は、2価の有機残基を表し、R4およびR5は、それぞれ独立に水素原子もしくは1価の有機残基を表す。R1,R2は、それぞれが一体となって環を形成しても良い。R3,R4,R5は、一体となって環を形成してもよい。) (Wherein R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic residue, R3 represents a divalent organic residue, and R4 and R5 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent residue. R1 and R2 may be combined to form a ring, and R3, R4, and R5 may be combined to form a ring.)
また、本発明は、下記一般式(1)または一般式(2)で表される酸無水物基を有する化合物(A)と、
酸無水物基に反応しうる官能基とポリアルキレンオキシ基と不飽和二重結合とを有する化合物(B)と、
を反応させてなる化合物(C)をさらに、
カルボキシル基と反応しうる官能基を有する化合物(D)と反応させてなり、
塗膜にして光硬化させたときの表面抵抗値が1011Ω/□よりも低いものである化合物(E)含んでなる感光性組成物に関する。
The present invention also includes a compound (A) having an acid anhydride group represented by the following general formula (1) or general formula (2):
A compound (B) having a functional group capable of reacting with an acid anhydride group, a polyalkyleneoxy group, and an unsaturated double bond;
Compound (C) obtained by reacting
Reacting with a compound (D) having a functional group capable of reacting with a carboxyl group,
The present invention relates to a photosensitive composition comprising a compound (E) having a surface resistance value lower than 10 11 Ω / □ when it is made into a coating film and photocured.
(式中、R1およびR2は、それぞれ独立に、水素原子もしくは1価の有機残基を表し、R3は、2価の有機残基を表し、R4およびR5は、それぞれ独立に水素原子もしくは1価の有機残基を表す。R1,R2は、それぞれが一体となって環を形成しても良い。R3,R4,R5は、一体となって環を形成してもよい。) (Wherein R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic residue, R3 represents a divalent organic residue, and R4 and R5 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent residue. R1 and R2 may be combined to form a ring, and R3, R4, and R5 may be combined to form a ring.)
また、本発明は、さらに、光重合性開始剤を含む上記感光性組成物に関する。 Moreover, this invention relates to the said photosensitive composition further containing a photopolymerization initiator.
また、本発明は、さらに、顔料を含む上記感光性組成物に関する。 Moreover, this invention relates to the said photosensitive composition further containing a pigment.
また、本発明は、さらに、導電性無機物質を含む上記感光性組成物に関する。 Moreover, this invention relates to the said photosensitive composition containing a conductive inorganic substance further.
また、本発明は、基材上に、上記感光性組成物を積層してなる積層体に関する。 Moreover, this invention relates to the laminated body formed by laminating | stacking the said photosensitive composition on a base material.
また、本発明は、基材上に、上記感光性組成物を積層する工程と、
前記感光性組成物に光を照射する工程とを含む積層体の製造方法に関する。
The present invention also includes a step of laminating the photosensitive composition on a substrate,
And a step of irradiating the photosensitive composition with light.
光硬化性と導電性とを有する本発明の感光性組成物を用いることにより、表面抵抗値が1011Ω/□よりも低い塗膜を容易に得ることができるようになった。
不飽和二重結合の量を調整すれば、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルムに対する密着性に優れ、フェニル基の導入量を調整すれば屈折率が1.50よりも高い硬化物を形成し得る感光性組成物を提供することができた。
By using the photosensitive composition of the present invention having photocurability and conductivity, a coating film having a surface resistance value lower than 10 11 Ω / □ can be easily obtained.
If the amount of unsaturated double bonds is adjusted, it has excellent adhesion to polyester films and polyethylene terephthalate films, and if the amount of phenyl group introduced is adjusted, the photosensitivity can form a cured product having a refractive index higher than 1.50. A composition could be provided.
さらに本発明により、該感光性組成物をポリエステルフィルム上に塗布し、硬化塗膜を形成してなるポリエステルフィルム積層体、レンズ、導波路、光ファイバー、あるいは、低屈折率の層と交互に積層した干渉膜、光学フィルター、ホログラムなどの光学素子などに用いることができる感光性組成物を提供することができた。 Further, according to the present invention, the photosensitive composition is applied onto a polyester film, and a polyester film laminate formed by forming a cured coating film, a lens, a waveguide, an optical fiber, or a low refractive index layer is alternately laminated. The photosensitive composition which can be used for optical elements, such as an interference film, an optical filter, and a hologram, was able to be provided.
<一般式(1)または一般式(2)で表される酸無水物基を有する化合物(A)と、酸無水物基に反応しうる官能基とポリアルキレンオキシ基と不飽和二重結合とを有する化合物(B)と、を反応させてなる化合物(C)>
化合物(C)は、化合物(A)の酸無水物基と、化合物(B)の酸無水物基と反応しうる官能基とを反応させたものである。
<Compound (A) having an acid anhydride group represented by general formula (1) or general formula (2); a functional group capable of reacting with an acid anhydride group; a polyalkyleneoxy group; an unsaturated double bond; Compound (C) obtained by reacting Compound (B) having
Compound (C) is obtained by reacting the acid anhydride group of compound (A) with a functional group capable of reacting with the acid anhydride group of compound (B).
<一般式(1)または一般式(2)で表される酸無水物基を有する化合物(A)>
化合物(A)は、以下に示すようにフェニル骨格を主鎖に含み、かつ酸無水物基を有する。これらは、2種以上の混合物であってもよい。
<Compound (A) having acid anhydride group represented by general formula (1) or general formula (2)>
The compound (A) includes a phenyl skeleton in the main chain and has an acid anhydride group as shown below. These may be a mixture of two or more.
ここで、1価の有機残基とは、脂肪族、芳香族、ヘテロ原子を含む原子団を単独もしくは組み合わせてなる原子団であり、具体的には、アルキル基、シクロアルキル基、アルキルオキシ基などの脂肪族、アリール基などの芳香族の有機残基が挙げられ、これらは、さらに、置換基を有していても良い。 Here, the monovalent organic residue is an atomic group formed by combining an aliphatic, aromatic, or heteroatom-containing atomic group alone, or specifically, an alkyl group, a cycloalkyl group, or an alkyloxy group. And aliphatic organic residues such as aryl groups and the like, and these may further have a substituent.
本発明で言う置換基とは、特に、断らない限り、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、アリール基、アミノ基、シアノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基などをいう。 Unless otherwise specified, the substituent referred to in the present invention refers to a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group, an amino group, a cyano group, an alkoxy group, an alkylthio group, and the like.
2価の有機残基とは、脂肪族、芳香族、ヘテロ原子を含む原子団を単独もしくは組み合わせてなる原子団であり、具体的には、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルキレンオキシ基などの脂肪族、アリーレン基などの芳香族の有機残基が挙げられ、これらは、さらに、置換基を有していても良い。 The divalent organic residue is an atomic group composed of an aliphatic, aromatic, or heteroatom-containing atomic group alone or in combination. Specifically, an aliphatic group such as an alkylene group, a cycloalkylene group, or an alkyleneoxy group. Aromatic organic residues such as a group and an arylene group may be mentioned, and these may further have a substituent.
厳密には、一般式(2)は、一般式(1)に含まれるが、特に好ましい形態として、あえて表記したものである。
具体的に、一般式(2)の化合物としては、
Strictly speaking, the general formula (2) is included in the general formula (1), but is specifically described as a particularly preferable form.
Specifically, as the compound of the general formula (2),
1分子内に2つ以上のカルボン酸無水物基を有する化合物であれば何でも良く、例えば、テトラカルボン酸二無水物、ヘキサカルボン酸三無水物、ヘキサカルボン酸ニ無水物、無水マレイン酸共重合樹脂などの多価カルボン酸無水物類等が挙げられる。本発明において、これらの化合物を単独使用または併用で使用できる。また、反応中に脱水反応を経由して無水物と成りうるポリカルボン酸、ポリカルボン酸エステル、ポリカルボン酸ハーフエステルなどは、本発明で言う2つ以上のカルボン酸無水物基を有する化合物に含まれる。 Any compound having two or more carboxylic anhydride groups in one molecule may be used, for example, tetracarboxylic dianhydride, hexacarboxylic dianhydride, hexacarboxylic dianhydride, maleic anhydride copolymer. Examples thereof include polyvalent carboxylic acid anhydrides such as resins. In the present invention, these compounds can be used alone or in combination. In addition, polycarboxylic acid, polycarboxylic acid ester, polycarboxylic acid half ester, and the like that can be converted into an anhydride via a dehydration reaction during the reaction are compounds having two or more carboxylic acid anhydride groups referred to in the present invention. included.
さらに詳しく例示すると、テトラカルボン酸二無水物としては、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルスルフィドテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、新日本理化株式会社製「リカシッドTMTA-C」、「リカシッドMTA-10」、「リカシッドMTA-15」、「リカシッドTMEGシリーズ」、「リカシッドTDA」などが挙げられる。 More specifically, as tetracarboxylic dianhydride, pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, biphenyl tetracarboxylic dianhydride, oxydiphthalic dianhydride, diphenyl sulfone tetracarboxylic dianhydride, Diphenyl sulfide tetracarboxylic dianhydride, butane tetracarboxylic dianhydride, perylene tetracarboxylic dianhydride, naphthalene tetracarboxylic dianhydride, "Ricacid TMTA-C", "Ricacid MTA- 10 ”,“ Licacid MTA-15 ”,“ Licacid TMEG series ”,“ Licacid TDA ”and so on.
無水マレイン酸共重合樹脂としては、サートマー社製SMAレジンシリーズ、株式会社岐阜セラック製造所製GSMシリーズなどのスチレン-無水マレイン酸共重合樹脂、p-フェニルスチレン-無水マレイン酸共重合樹脂、ポリエチレン-無水マレイン酸などのα-オレフィン-無水マレイン酸共重合樹脂、ダイセル化学工業株式会社製「VEMA」(メチルビニルエ−テルと無水マレイン酸の共重合体)、無水マレイン酸アクリル変性ポリオレフィン(「アウローレンシリーズ」:日本製紙ケミカル株式会社製)、無水マレイン酸共重合アクリル樹脂などが挙げられる。
なかでも、ビフェニル骨格を有するビフェニルテトラカルボン酸二無水物、p-フェニルスチレン-無水マレイン酸共重合樹脂などは、本発明において、ビフェニル骨格を分子内に効率よく導入できる化合物であり、特に好ましい。
Maleic anhydride copolymer resins include SMA resin series from Sartomer, GSM series from Gifu Shellac Co., Ltd., styrene-maleic anhydride copolymer resins, p-phenylstyrene-maleic anhydride copolymer resins, polyethylene- Α-olefin-maleic anhydride copolymer resin such as maleic anhydride, “VEMA” (copolymer of methyl vinyl ether and maleic anhydride) manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., and acrylic anhydride-modified polyolefin (“Aurolen series”) ": Nippon Paper Chemical Co., Ltd.), maleic anhydride copolymer acrylic resin, and the like.
Among them, biphenyltetracarboxylic dianhydride having a biphenyl skeleton, p-phenylstyrene-maleic anhydride copolymer resin, and the like are compounds that can efficiently introduce the biphenyl skeleton into the molecule in the present invention, and are particularly preferable.
具体的に、一般式(1)の化合物としては、 Specifically, as the compound of the general formula (1),
例えば無水フタル酸、無水トリメリット酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルハイミック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルペンタヒドロ無水フタル酸、メチルトリヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルシクロへキセンジカルボン酸無水物、無水ヘット酸、テトラブロモ無水フタル酸などの脂環構造または芳香環構造を有する酸無水物を含む酸無水物が挙げられる。その他酸無水物としては、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル酸、ブチルコハク酸無水物、ヘキシルコハク酸無水物、オクチルコハク酸無水物、ドデシルコハク酸無水物、ブチルマレイン酸無水物、ペンチルマレイン酸無水物、ヘキシルマレイン酸無水物、オクチルマレイン酸無水物、デシルマレイン酸無水物、ドデシルマレイン酸無水物、ブチルグルタミン酸無水物、ヘキシルグルタミン酸無水物、ヘプチルグルタミン酸無水物、オクチルグルタミン酸無水物、デシルグルタミン酸無水物、ドデシルグルタミン酸無水物などが挙げられる。この中から、1種類もしくは2種類以上の酸無水物を組み合わせて使用することができる。 For example, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhymic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methylpentahydrophthalic anhydride, methyltrihydrophthalic anhydride, trialkyltetrahydroanhydride Examples of the acid anhydride include an acid anhydride having an alicyclic structure or an aromatic ring structure such as phthalic acid, methylcyclohexene dicarboxylic acid anhydride, het acid anhydride, and tetrabromophthalic anhydride. Other acid anhydrides include succinic anhydride, maleic anhydride, glutaric anhydride, butyl succinic anhydride, hexyl succinic anhydride, octyl succinic anhydride, dodecyl succinic anhydride, butyl maleic anhydride, pentyl malein Acid anhydride, hexyl maleic anhydride, octyl maleic anhydride, decyl maleic anhydride, dodecyl maleic anhydride, butyl glutamic anhydride, hexyl glutamic anhydride, heptyl glutamic anhydride, octyl glutamic anhydride, decyl glutamic acid Anhydride, dodecylglutamic acid anhydride, etc. are mentioned. Among these, one type or two or more types of acid anhydrides can be used in combination.
<酸無水物基に反応しうる官能基とポリアルキレンオキシ基と不飽和二重結合とを有する化合物(B)>
酸無水物基に反応しうる官能基としては、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基などが挙げられる。
酸無水物基に反応しうる官能基とポリアルキレンオキシ基と不飽和二重結合とを有する化合物(B)としては、アルキレンオキシ基を有する(メタ)アクリルモノマーが挙げられる。
<Compound (B) having functional group capable of reacting with acid anhydride group, polyalkyleneoxy group and unsaturated double bond>
Examples of the functional group capable of reacting with the acid anhydride group include a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group, and an amino group.
Examples of the compound (B) having a functional group capable of reacting with an acid anhydride group, a polyalkyleneoxy group, and an unsaturated double bond include (meth) acrylic monomers having an alkyleneoxy group.
アルキレンオキシ基を有するアクリルモノマーとしては、エチレンオキサイド鎖を有するモノマー、プロピレンオキシ基を有するモノマー、およびその両者を有するモノマーが挙げられる。 Examples of the acrylic monomer having an alkyleneoxy group include a monomer having an ethylene oxide chain, a monomer having a propyleneoxy group, and a monomer having both.
エチレンオキシ基を有するモノマーとしては、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等が挙げられる。
プロピレンオキシ基を有するモノマーとしては、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート等を挙げることができる。
Examples of the monomer having an ethyleneoxy group include methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate and polyethylene glycol (meth) acrylate.
Examples of the monomer having a propyleneoxy group include methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate and polypropylene glycol (meth) acrylate.
本発明では、後述のイオン化合物との相溶性を考慮して、エチレンオキサシ基を有するモノマーが好ましく、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレートが特に好ましい。 In the present invention, in view of compatibility with the ionic compound described later, a monomer having an ethylene oxide group is preferable, and methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate is particularly preferable.
本発明にアルキレンオキシ基を有する(メタ)アクリルモノマーを使用する目的は、導電性を発現させるためである。さらに、イオン化合物(B)とアルキレンオキシ基との間で錯体を形成させ、導電性を発現させるためである。よって、アルキレンオキシ基の役割は非常に大きく、単に錯体形成の場を与えるだけでなく、イオン化合物の移動媒体としての働きも同時に担っている。言い換えると、本発明における導電性は、イオン化合物の量とアルキレンオキシ基を有するモノマーの含有量によって大きく変動する。好ましいアルキレンオキシ基の含有量は、オリゴマー全体の20wt%以上、85wt%以下である。アルキレンオキシ基の含有量が、オリゴマー全体の20wt%より少ないと表面抵抗値が1011Ω/□より大きくなり、アルキレンオキシ基の含有量が、オリゴマー全体の85wt%より多いと、十分硬化しなくなってしまう。 The purpose of using the (meth) acrylic monomer having an alkyleneoxy group in the present invention is to develop conductivity. Further, this is because a complex is formed between the ionic compound (B) and the alkyleneoxy group to develop conductivity. Therefore, the role of the alkyleneoxy group is very large and not only provides a field for complex formation but also serves as a transfer medium for the ionic compound. In other words, the conductivity in the present invention varies greatly depending on the amount of the ionic compound and the content of the monomer having an alkyleneoxy group. A preferable alkyleneoxy group content is 20 wt% or more and 85 wt% or less of the whole oligomer. If the content of alkyleneoxy groups is less than 20 wt% of the whole oligomer, the surface resistance value becomes larger than 10 11 Ω / □, and if the content of alkyleneoxy groups is more than 85 wt% of the whole oligomer, it will not be cured sufficiently. End up.
<化合物(C)をさらに、カルボキシル基と反応しうる官能基を有する化合物(D)と反応させてなる化合物(E)>
化合物(E)は、前記化合物(C)のカルボキシル基と、化合物(D)のカルボキシル基と反応しうる官能基とを反応させたものである。
<Compound (E) obtained by further reacting compound (C) with compound (D) having a functional group capable of reacting with a carboxyl group>
Compound (E) is obtained by reacting the carboxyl group of compound (C) with a functional group capable of reacting with the carboxyl group of compound (D).
<カルボキシル基と反応しうる官能基を有する化合物(D)> <Compound (D) having a functional group capable of reacting with a carboxyl group>
カルボキシル基と反応しうる官能基としてはエポキシ基、オキサゾリン基、またはアミノ基、またはカルボジイミド基、またはイソシアネート基、またはイソチオシアネート基が挙げられる。
化合物(C)の硬度を上げるためには、カルボキシル基と反応しうる官能基と重合性二重結合とを有する化合物が有用である。カルボキシル基と反応しうる官能基と重合性二重結合とを有する化合物としては、カルボキシル基と反応しうる官能基と重合性二重結合とを共に有する化合物として、公知のものを使用することができる。例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、4ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、グリシジルアリルエーテル、2,3−エポキシ−2−メチルプロピル(メタ)アクリレート、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート、4−ビニル−1−シクロヘキセン1,2エポキシドなどが挙げられる。
化合物(C)の屈折率を上げるためには、カルボキシル基と反応しうる官能基とビフェニル骨格を有する化合物が使用できる。
このような化合物としては、
o-フェニルフェノールグリシジルエーテル、p-フェニルフェノールグリシジルエーテル、モノスチレン化フェノールグリシジルエーテル、4−シアノ−4−ヒドロキシビフェニルグリシジルエーテル、4,4‘−ビフェノールモノグリシジルエーテル、4,4‘−ビフェノールジグリシジルエーテル、o-フェニルフェノールビニルエーテル、p-フェニルフェノールビニルエーテル、モノスチレン化フェノールビニルエーテル、4−シアノ−4−ヒドロキシビフェニルビニルエーテル、4,4‘−ビフェノールモノビニルエーテル、4,4‘−ビフェノールジビニルエーテル、およびこれらの誘導体、またはこれらの臭素化物などが挙げられ、またビフェニル骨格とオキサゾリン、またはアミノ基、またはカルボジイミド基、またはイソシアネート基、またはイソチオシアネート基を有する化合物等が挙げられる。
Examples of the functional group capable of reacting with a carboxyl group include an epoxy group, an oxazoline group, an amino group, a carbodiimide group, an isocyanate group, or an isothiocyanate group.
In order to increase the hardness of the compound (C), a compound having a functional group capable of reacting with a carboxyl group and a polymerizable double bond is useful. As a compound having a functional group capable of reacting with a carboxyl group and a polymerizable double bond, a known compound may be used as a compound having both a functional group capable of reacting with a carboxyl group and a polymerizable double bond. it can. For example, glycidyl (meth) acrylate, 4 hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether, glycidyl allyl ether, 2,3-epoxy-2-methylpropyl (meth) acrylate, (3,4-epoxycyclohexyl) methyl (meth) acrylate 4-vinyl-1-cyclohexene 1,2 epoxide and the like.
In order to increase the refractive index of the compound (C), a compound having a functional group capable of reacting with a carboxyl group and a biphenyl skeleton can be used.
Such compounds include:
o-phenylphenol glycidyl ether, p-phenylphenol glycidyl ether, monostyrenated phenol glycidyl ether, 4-cyano-4-hydroxybiphenyl glycidyl ether, 4,4'-biphenol monoglycidyl ether, 4,4'-biphenol diglycidyl Ether, o-phenylphenol vinyl ether, p-phenylphenol vinyl ether, monostyrenated phenol vinyl ether, 4-cyano-4-hydroxybiphenyl vinyl ether, 4,4′-biphenol monovinyl ether, 4,4′-biphenol divinyl ether, and these Or a brominated product thereof, and also includes a biphenyl skeleton and an oxazoline, an amino group, a carbodiimide group, or an isocyanate group, Others include the compounds having an isothiocyanate group.
<高屈折率化合物とするために>
本発明で用いられる化合物(C)または化合物(E)は、さらに、フェニル基の導入量を増やせば、屈折率が1.50よりも高い硬化物を形成し得る感光性組成物となり高屈折率の物性が必要である用途に使用することができる。具体的には、化合物(A)、化合物(B)、化合物(D)が、フェニル基を有していることにより達成できる。屈折率が1.50より高いものを目指すときのフェニル基の導入量は、オリゴマー全体の5wt%以上、50wt%以下である。フェニル基の含有量が、オリゴマー全体の5wt%より少ないと屈折率が1.50を越えなくなり、フェニル基の含有量が、オリゴマー全体の50wt%より多いと、接着性が発現しなくなってしまう。
<To make a high refractive index compound>
The compound (C) or compound (E) used in the present invention becomes a photosensitive composition capable of forming a cured product having a refractive index higher than 1.50 if the introduction amount of the phenyl group is further increased. It can be used for applications that require the physical properties of Specifically, this can be achieved by the fact that the compound (A), the compound (B), and the compound (D) have a phenyl group. The amount of phenyl group introduced when the refractive index is higher than 1.50 is 5 wt% or more and 50 wt% or less of the whole oligomer. If the phenyl group content is less than 5 wt% of the whole oligomer, the refractive index will not exceed 1.50, and if the phenyl group content is more than 50 wt% of the whole oligomer, adhesion will not be exhibited.
<触媒>
カルボキシル基とエポキシ基との反応を進行させるときには、必要に応じて、アミン類等の触媒を添加して行っても良い。使用される触媒としたは公知の触媒を使用することができる。触媒は、以下の化合物が挙げられる。触媒の好ましい具体例を以下に示すが、本発明は、これらに何ら限定されるものではない。
<Catalyst>
When the reaction between the carboxyl group and the epoxy group is allowed to proceed, a catalyst such as amines may be added as necessary. As the catalyst to be used, a known catalyst can be used. Examples of the catalyst include the following compounds. Although the preferable specific example of a catalyst is shown below, this invention is not limited to these at all.
(1)3級アミン類及び/又はその塩類トリエチルアミン、トリブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、2,4,6-トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、N−メチルピペラジン等
(2)イミダゾール類及び/又はその塩類2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、2,4−ジシアノ−6−[2−メチルイミダゾリル−(1)]−エチル−S−トリアジン等
(1) Tertiary amines and / or salts thereof Triethylamine, tributylamine, benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, N-methylpiperazine, etc. (2) Imidazoles and / or salts thereof 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 2,4-dicyano-6- [2-methylimidazolyl- (1 )]-Ethyl-S-triazine, etc.
(3)ジアザビシクロ化合物類
1,5−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデカン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン、1,4−ジアビシクロ[2.2.2]オクタン等
(4)ホスフィン類
トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(ジメトキシフェニル)ホスフィン、トリス(ヒドロキシプロピル)ホスフィン、トリス(シアノエチル)ホスフィン等
(5)ホスホニウム塩類
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリシアノエチルホスホニウムテトラフェニルボレート等
(3) Diazabicyclo compounds
1,5-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecane, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonene, 1,4-diabicyclo [2.2.2] octane, etc. (4) Phosphines tributylphosphine, Triphenylphosphine, tris (dimethoxyphenyl) phosphine, tris (hydroxypropyl) phosphine, tris (cyanoethyl) phosphine, etc. (5) Phosphonium salts tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, methyltributylphosphonium tetraphenylborate, methyltricyanoethylphosphonium tetraphenylborate etc
本発明で用いられるエポキシ化合物と触媒の配合割合は、エポキシ化合物100重量部に対し、触媒が0.01〜10重量部である。触媒が0.01重量部未満であると反応が遅くなり、10重量部を越えると硬化物の耐水性が低下するため好ましくない。 The compounding ratio of the epoxy compound and the catalyst used in the present invention is 0.01 to 10 parts by weight of the catalyst with respect to 100 parts by weight of the epoxy compound. If the catalyst is less than 0.01 parts by weight, the reaction is slow, and if it exceeds 10 parts by weight, the water resistance of the cured product is lowered, which is not preferable.
カルボキシル基とエポキシ基との反応を進行させるときには、用いるエポキシ化合物の軟化温度が反応温度範囲よりも低い場合には無溶剤にて行うことができる。また、用いるエポキシ化合物の軟化温度に関わらず適当な溶剤を用いて行うこともできる。この時用いる溶剤としては、エポキシ基、水酸基、有機酸と反応しないものであれば特に制限なく、用いることができる。例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、アセトン、ベンゼン等の公知の溶剤を使用できる。 When the reaction between the carboxyl group and the epoxy group is allowed to proceed, it can be carried out without solvent if the softening temperature of the epoxy compound used is lower than the reaction temperature range. Moreover, it can also carry out using a suitable solvent irrespective of the softening temperature of the epoxy compound to be used. The solvent used at this time is not particularly limited as long as it does not react with an epoxy group, a hydroxyl group, or an organic acid. For example, known solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, toluene, acetone, and benzene can be used.
本発明の感光性材料には、必要に応じて、バインダー樹脂、不飽和化合物、光重合開始剤などを添加できる。バインダー樹脂としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹脂などに重合性不飽和二重結合を導入したものが挙げられる。重合性不飽和二重結合の導入方法はどのようなものであっても構わない。これらの樹脂を単独で添加しても良いし、他の樹脂を含む、複数の樹脂を混合して添加しても良い。 A binder resin, an unsaturated compound, a photopolymerization initiator, and the like can be added to the photosensitive material of the present invention as necessary. Examples of the binder resin include polyurethane resin, polyurea resin, polyurethane urea resin, polyester resin, polyether resin, polycarbonate resin, epoxy resin, amino resin, styrene resin, acrylic resin, melamine resin, polyamide resin, phenol resin, and vinyl resin. And the like having a polymerizable unsaturated double bond introduced therein. Any method for introducing a polymerizable unsaturated double bond may be used. These resins may be added alone, or a plurality of resins including other resins may be mixed and added.
<光重合開始剤>
光重合開始剤は、紫外線により感光性組成物を硬化させる場合に添加される。なお、電子線により硬化させる場合には開始剤は特に必要ではない。
光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルフォスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物等が使用できる。
<Photopolymerization initiator>
The photopolymerization initiator is added when the photosensitive composition is cured by ultraviolet rays. In addition, an initiator is not particularly necessary when curing with an electron beam.
The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it has a function capable of initiating vinyl polymerization by photoexcitation. For example, a monocarbonyl compound, a dicarbonyl compound, an acetophenone compound, a benzoin ether compound, an acylphosphine oxide compound, an aminocarbonyl A compound etc. can be used.
具体的にモノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、4-メチル-ベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、メチル-o-ベンゾイルベンゾエート、4-フェニルベンゾフェノン、4-(4-メチルフェニルチオ)フェニル-エネタノン、3,3'-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、4-(1,3-アクリロイル-1,4,7,10,13-ペンタオキソトリデシル)ベンゾフェノン、3,3'4,4'-テトラ(t-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-N,N,N-トリメチルベンゼンメタアンモニウムクロリド、2-ヒドロキシ-3-(4-ベンゾイル-フェノキシ)-N,N,N-トリメチル-1-プロパンアミン塩酸塩、4-ベンゾイル-N,N-ジメチル-N-[2-(1-オキソ-2-プロペニルオキシエチル)メタアンモニウム臭酸塩、2-/4-iso-プロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン、2-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメチル-9-オキソ-9Hチオキサントン-2-イロキシ)-N,N,N-トリメチル-1-プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン-3-メチルナフト(1,2-d)チアゾリン等が挙げられる。
ジカルボニル化合物としては、1,7,7-トリメチル-ビシクロ[2.1.1]ヘプタン-2,3-ジオン、ベンザイル、2-エチルアントラキノン、9,10-フェナントレンキノン、メチル-α-オキソベンゼンアセテート、4-フェニルベンザイル等が挙げられる。
Specific monocarbonyl compounds include benzophenone, 4-methyl-benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl-o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4- (4-methylphenylthio) phenyl-enetanone 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 4- (1,3-acryloyl-1,4,7,10,13-pentaoxotridecyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra ( t-Butylperoxycarbonyl) benzophenone, 4-benzoyl-N, N, N-trimethylbenzenemethammonium chloride, 2-hydroxy-3- (4-benzoyl-phenoxy) -N, N, N-trimethyl-1-propanamine Hydrochloride, 4-benzoyl-N, N-dimethyl-N- [2- (1-oxo-2-propenyloxyethyl) methammonium bromide, 2- / 4-iso-propylthioxanthone, 2,4-diethyl Thioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 2-hydroxy-3- (3,4-dimethyl-9-oxo-9Hthioxanthone-2-yloxy) -N, N, N-trimethyl-1-propanamine hydrochloride, benzoyl And methylene-3-methylnaphtho (1,2-d) thiazoline.
Examples of the dicarbonyl compound include 1,7,7-trimethyl-bicyclo [2.1.1] heptane-2,3-dione, benzyl, 2-ethylanthraquinone, 9,10-phenanthrenequinone, methyl-α-oxobenzeneacetate, 4-phenylbenzyl and the like can be mentioned.
アセトフェノン化合物としては、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)2-ヒドロキシ-ジ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-スチリルプロパン-1-オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2,2-ジエトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノ-フェニル)ブタン-1-オン、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルボニル)オキシム、3,6-ビス(2-メチル-2-モルホリノ-プロパノニル)-9-ブチルカルバゾール等が挙げられる。 Examples of acetophenone compounds include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- ( 4-Isopropylphenyl) 2-hydroxy-di-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-styrylpropan-1-one polymerization , Diethoxyacetophenone, dibutoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2,2-diethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-methyl-1- [4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholino-phenyl) butan-1-one, 1-phenyl-1,2- Propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 3,6-bis (2-methyl-2-morpholino-propanonyl) -9- Chill carbazole, and the like.
ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル等が挙げられる。
アシルフォスフィンオキシド化合物としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4-n-プロピルフェニル-ジ(2,6-ジクロロベンゾイル)ホスフィンオキシド等が挙げられる。
Examples of the benzoin ether compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzoin normal butyl ether.
Examples of the acylphosphine oxide compound include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and 4-n-propylphenyl-di (2,6-dichlorobenzoyl) phosphine oxide.
アミノカルボニル化合物としては、メチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、エチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2-nブトキシエチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、イソアミル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2-(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、4,4'-ビス-4-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4'-ビス-4-ジエチルアミノベンゾフェノン、2,5'-ビス-(4-ジエチルアミノベンザル)シクロペンタノン等が挙げられる。 Examples of aminocarbonyl compounds include methyl-4- (dimethylamino) benzoate, ethyl-4- (dimethylamino) benzoate, 2-nbutoxyethyl-4- (dimethylamino) benzoate, isoamyl-4- (dimethylamino) benzoate, 2- (dimethylamino) ethyl benzoate, 4,4'-bis-4-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-bis-4-diethylaminobenzophenone, 2,5'-bis- (4-diethylaminobenzal) cyclopenta Non etc. are mentioned.
これらは上記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力があればどのようなものでも構わない。これらは単独使用または併用することができ、使用量に制限はないが、被硬化物の乾燥重量の合計100重量部に対して1〜20重量部の範囲で添加されるのが好ましい。また、増感剤として公知の有機アミンを加えることもできる。 These are not limited to the above compounds, and any compounds can be used as long as they have the ability to initiate polymerization by ultraviolet rays. These can be used alone or in combination, and the amount used is not limited, but it is preferably added in the range of 1 to 20 parts by weight relative to 100 parts by weight of the total dry weight of the cured product. Moreover, a well-known organic amine can also be added as a sensitizer.
<有機溶剤>
本発明の硬化性組成物は、有機溶剤を含まない硬化性組成物としても、有機溶剤を含む硬化性組成物としても用いることができる。
有機溶剤を含む場合には、各種基材に塗布し、前記有機溶剤を揮発させた後に硬化に必要な紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照射すればよい。
本発明の被覆剤に用いられる有機溶剤としては、公知のものを使用することができる。具体的には、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、トルエン、メチルプロピレングリコールアセテート等が挙げられる。
<Organic solvent>
The curable composition of the present invention can be used as a curable composition containing no organic solvent or as a curable composition containing an organic solvent.
In the case of containing an organic solvent, it may be applied to various substrates, and after the organic solvent is volatilized, active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams necessary for curing may be irradiated.
Known organic solvents can be used as the organic solvent used in the coating agent of the present invention. Specific examples include cyclohexanone, methyl ethyl ketone, toluene, methyl propylene glycol acetate and the like.
<顔料>
本発明の感光性組成物に用いられる顔料としては、有機顔料、無機顔料の両方が挙げられる。顔料は硬化物を着色する目的で用いることができる。本発明において、無機顔料のうち、着色を目的とはしない、いわゆる体質顔料は後述する無機粒子に含めるものとする。
顔料としては、カーボンブラック、アイアンオキサイドブラック、アニリンブラック、酸化チタン、フタロシアニン系、モノアゾ系、ジスアゾ系、ニトロ系、ニトロソ系、ペリレン系、イソインドリノン系、キナクリドン系等の顔料、通常ペイントやインキに使用される材料が挙げられるが、特に褪色性の良好な転写物を得るには顔料が好ましい。中でも、カーボンブラック、ファストイエロー、カドミウムイエロー、黄色酸化鉄、アイアンオキサイドブラック、クロモフタルイエロー、アンスラピリミジンイエロー、イソインドリノンイエロー、ニッケルアゾイエロー、銅アゾメチンイエロー、ベンゾイミダゾロンイエロー、キノフタロンイエロー、ニッケルジオキシンイエロー、フラバンスロンイエロー、黄鉛、チタンイエロー、ジスアゾイエロー、ベンゾイミダゾロンオレンジ、ピランスロンオレンジ、ペリノンオレンジ、パラレッド、レーキレッド、ナフトールレッド、ピラゾロンレッド、パーマネントレッド、マダーレーキ、チオインジゴボルドー、ベンガラ、鉛丹、カドミウムレッド、キナクリドンマゼンタ、ペリレンバーミリオン、ペリレンレッド、クロモフタルスカーレット、アンスアンスロンレッド、ジアンントラキノリルレッド、ペリレンマルーン、ベンゾイミダゾロンカーミン、ペリレンスカーレット、キナクリドンレッド、ピランスロンレッド、マンガンバイオレット、ジオキサジンバイオレット、フタロシアンニンブルー、紺青、コバルトブルー、群青、インダンスロンブルー、フタロシアニングリーン、ピグメントグリーン、酸化クロム、ビリジアン、ベンゾイミダゾロンブラウン、ブロンズパウダー、鉛白、亜鉛華、リトポン、酸化チタン、パール顔料が好ましい。
<Pigment>
Examples of the pigment used in the photosensitive composition of the present invention include both organic pigments and inorganic pigments. The pigment can be used for the purpose of coloring the cured product. In the present invention, among inorganic pigments, so-called extender pigments that are not intended for coloring are included in the inorganic particles described later.
Examples of pigments include carbon black, iron oxide black, aniline black, titanium oxide, phthalocyanine, monoazo, disazo, nitro, nitroso, perylene, isoindolinone, quinacridone, and other paints and inks. In particular, a pigment is preferable for obtaining a transfer product having good fading properties. Among them, carbon black, fast yellow, cadmium yellow, yellow iron oxide, iron oxide black, chromophthal yellow, anthrapyrimidine yellow, isoindolinone yellow, nickel azo yellow, copper azomethine yellow, benzoimidazolone yellow, quinophthalone yellow, nickel dioxin Yellow, flavanthrone yellow, yellow lead, titanium yellow, disazo yellow, benzimidazolone orange, pyranthrone orange, perinone orange, para red, lake red, naphthol red, pyrazolone red, permanent red, madder lake, thioindigo Bordeaux, Bengala, Red lead, cadmium red, quinacridone magenta, perylene vermilion, perylene red, chromophthale , Anthanthrone Red, Dianthraquinolyl Red, Perylene Maroon, Benzimidazolone Carmine, Perylene Scarlet, Quinacridone Red, Pyranthrone Red, Manganese Violet, Dioxazine Violet, Phthalocyanine Blue, Bituminous, Cobalt Blue, Ultramarine Blue, In Dunslon blue, phthalocyanine green, pigment green, chromium oxide, viridian, benzimidazolone brown, bronze powder, lead white, zinc white, lithopone, titanium oxide and pearl pigment are preferred.
<無機粒子>
本発明の感光性組成物は、種々の目的のためにさまざまな無機粒子を含むことができる。
感光性組成物は、一般に熱硬化性被覆剤に比して硬化歪みが大きく、基材に対する密着性を確保することが難しい。本発明の被覆剤は、無機粒子を含まなくても基材に対する密着性に優れるものではあるが、硬化塗膜の硬度を高め、硬化塗膜表面の傷付きを防止する観点から無機粒子を含有することが好ましい。
また、導電性の求められる用途に用いられる場合には、導電性付与の観点から導電性を有する無機粒子を含有することもできる。
<Inorganic particles>
The photosensitive composition of the present invention can contain various inorganic particles for various purposes.
In general, a photosensitive composition has a larger curing strain than a thermosetting coating agent, and it is difficult to ensure adhesion to a substrate. The coating agent of the present invention is excellent in adhesion to the substrate even if it does not contain inorganic particles, but contains inorganic particles from the viewpoint of increasing the hardness of the cured coating film and preventing scratches on the surface of the cured coating film. It is preferable to do.
Moreover, when used for the use by which electroconductivity is calculated | required, the inorganic particle which has electroconductivity can also be contained from a viewpoint of electroconductivity provision.
本発明の感光性組成物に用いられる無機粒子としては、珪素酸化物,マグネシウム酸化物,珪素酸化物とマグネシウム酸化物の共酸化物,カルシウム酸化物,バリウム酸化物,硼素酸化物,アルミニウム酸化物,インジウム酸化物,ゲルマニウム酸化物,錫酸化物,亜鉛酸化物,チタン酸化物,ジルコウム酸化物,セシウム酸化物、インジウム錫酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化アルミニウムが挙げられる。
これらの無機粒子は、本発明の被覆剤の用いられる用途に応じて、適宜単独で、あるいは、適宜複数を併用することができる。
尚、本発明の感光性物を紫外線で硬化する場合、感光性組成物が不透明になると無機粒子は硬化性の観点から好ましくないので、着色はしても透明性に優れる無機粒子が好ましい。
<イオン化合物>
Examples of the inorganic particles used in the photosensitive composition of the present invention include silicon oxide, magnesium oxide, a co-oxide of silicon oxide and magnesium oxide, calcium oxide, barium oxide, boron oxide, and aluminum oxide. , Indium oxide, germanium oxide, tin oxide, zinc oxide, titanium oxide, zirconium oxide, cesium oxide, indium tin oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, and aluminum hydroxide.
These inorganic particles can be used alone or in combination as appropriate depending on the use of the coating agent of the present invention.
In addition, when the photosensitive material of the present invention is cured with ultraviolet rays, inorganic particles are not preferable from the viewpoint of curability when the photosensitive composition becomes opaque. Therefore, inorganic particles that are excellent in transparency even when colored are preferable.
<Ionic compounds>
イオン化合物は、導電性向上のために、必要に応じて添加される。本発明に用いるイオン化合物としては、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化リチウム、過塩素酸リチウム、塩化アンモニウム、塩素酸カリウム、塩化アルミニウム、塩化銅、塩化第一鉄、塩化第二鉄、硫酸アンモニウム、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、チオシアン酸ナトリウム等の無機塩類、
酢酸ナトリウム、アルギン酸ソーダ、リグニンスルホン酸ソーダ、トルエンスルホン酸ソーダ等の有機塩類が挙げられる。
これらは単独もしくは混合して使用することができる。導電性及び安全性等の観点から、塩化ナトリウム、塩化カリウム、過塩素酸リチウム等が好ましい。
An ionic compound is added as needed to improve conductivity. Examples of ionic compounds used in the present invention include sodium chloride, potassium chloride, lithium chloride, lithium perchlorate, ammonium chloride, potassium chlorate, aluminum chloride, copper chloride, ferrous chloride, ferric chloride, ammonium sulfate, potassium nitrate, Inorganic salts such as sodium nitrate, sodium carbonate, sodium thiocyanate,
Organic salts such as sodium acetate, sodium alginate, sodium lignin sulfonate, and sodium toluene sulfonate are listed.
These can be used alone or in combination. From the viewpoints of conductivity and safety, sodium chloride, potassium chloride, lithium perchlorate and the like are preferable.
また、その含有量は、化合物(C)100重量部に対して、0.1〜50重量部であることが好ましい。さらに好ましくは1〜30重量部である。0.1重量部未満では十分なイオン導電性が得られず、50重量部よりも多くイオン化合物を含有しても導電性向上の効果がほとんど期待できなくなり、さらにオリゴマーとの相溶性の低下により塗膜の白化が起こりやすくなるので好ましくない。 Moreover, it is preferable that the content is 0.1-50 weight part with respect to 100 weight part of compounds (C). More preferably, it is 1-30 weight part. If the amount is less than 0.1 part by weight, sufficient ionic conductivity cannot be obtained, and even if it contains more than 50 parts by weight of an ionic compound, the effect of improving the conductivity can hardly be expected, and further the compatibility with the oligomer decreases. Since whitening of the coating film easily occurs, it is not preferable.
<その他>
この他、本発明の感光性組成物には目的を損なわない範囲で任意成分として、さらに溶剤、染料、酸化防止剤、重合禁止剤、レベリング剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、電磁波シールド剤、球状フィラー等を添加することができる。
<Others>
In addition to the above, the photosensitive composition of the present invention includes optional components as long as the purpose is not impaired, and further includes solvents, dyes, antioxidants, polymerization inhibitors, leveling agents, humectants, viscosity modifiers, antiseptics, antibacterial agents. An antistatic agent, an antiblocking agent, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an electromagnetic wave shielding agent, a spherical filler, and the like can be added.
本発明の感光性組成物は、公知のラジエーション硬化方法により硬化させ硬化物とすることができ、活性エネルギー線としては、電子線、紫外線、400〜500nmの可視光を使用することができる。
照射する電子線の線源には熱電子放射銃、電界放射銃等が使用できる。また、紫外線および400〜500nmの可視光の線源(光源)には、例えば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。具体的には、点光源であること、輝度の安定性から、超高圧水銀ランプ、キセノン水銀ランプが用いられることが多い。照射する活性エネルギー線量は、5〜2000mJの範囲で適時設定できるが、工程上管理しやすい50〜1000mJの範囲であることが好ましい。
また、これら紫外線または電子線と、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱の併用も可能である。
The photosensitive composition of the present invention can be cured by a known radiation curing method to obtain a cured product, and as an active energy ray, an electron beam, an ultraviolet ray, or visible light of 400 to 500 nm can be used.
A thermionic emission gun, a field emission gun, or the like can be used as the electron beam source to be irradiated. For example, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a gallium lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, or the like can be used as a source (light source) of ultraviolet light and visible light of 400 to 500 nm. Specifically, an ultra-high pressure mercury lamp or a xenon mercury lamp is often used because of the point light source and the stability of luminance. The active energy dose to be irradiated can be set in a timely manner within a range of 5 to 2000 mJ, but is preferably within a range of 50 to 1000 mJ that can be easily managed in the process.
Further, these ultraviolet rays or electron beams can be used in combination with heat by infrared rays, far infrared rays, hot air, high frequency heating or the like.
本発明の感光性樹脂組成物は、基材に塗工後、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化を行っても良いし、塗工に続いてラジエーション硬化させた後に自然または強制乾燥しても構わないが、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化した方が好ましい。電子線で硬化させる場合は、水による硬化阻害又は有機溶剤の残留による塗膜の強度低下を防ぐため、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化を行うのが好ましい。ラジエーション硬化のタイミングは塗工と同時でも構わないし、塗工後でも構わない。
本発明の感光性組成物は、ポリエチレンテレフタレート基材に塗布することが好適であるが、ポリエチレンテレフタレート以外の各種基材に適用することも可能である。
The photosensitive resin composition of the present invention may be subjected to radiation curing after natural or forced drying after coating on a substrate, or may be naturally or forcedly dried after radiation curing following coating. However, it is preferable that the radiation curing is performed after natural or forced drying. In the case of curing with an electron beam, it is preferable to perform radiation curing after natural or forced drying in order to prevent curing inhibition by water or reduction of the strength of the coating film due to residual organic solvent. The timing of radiation curing may be simultaneous with coating or after coating.
The photosensitive composition of the present invention is preferably applied to a polyethylene terephthalate substrate, but can also be applied to various substrates other than polyethylene terephthalate.
[ポリエチレンテレフタレート積層体]
本発明のポリエチレンテレフタレート積層体は、上記の感光性組成物をポリエチレンテレフタレート上に塗布し、これを硬化し、硬化塗膜をポリエチレンテレフタレート上に形成してなるものである。
[Polyethylene terephthalate laminate]
The polyethylene terephthalate laminate of the present invention is obtained by coating the above photosensitive composition on polyethylene terephthalate, curing it, and forming a cured coating film on the polyethylene terephthalate.
本発明のポリエチレンテレフタレート積層体におけるポリエチレンテレフタレート基材としては、全く何も表面処理を施さないポリエチレンテレフタレートはもちろん、表面をコロナ処理してなるポリエチレンテレフタレートを用いることもできる。基材たるポリエチレンテレフタレートは、フィルム状(シート状ともいう)であることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚みは、用途によっても様々であるが、約12〜250μm程度であることが好ましい。
また、硬化塗膜の厚みも用途によっても様々であるが、約0.1〜10μm程度であることが好ましい。
As the polyethylene terephthalate substrate in the polyethylene terephthalate laminate of the present invention, not only polyethylene terephthalate that is not subjected to any surface treatment but also polyethylene terephthalate obtained by corona-treating the surface can be used. The polyethylene terephthalate as the base material is preferably in the form of a film (also referred to as a sheet). The thickness of the polyethylene terephthalate film varies depending on the application, but is preferably about 12 to 250 μm.
Moreover, although the thickness of a cured coating film also changes with uses, it is preferable that it is about 0.1-10 micrometers.
[表面抵抗値]
本発明でいう表面抵抗値とは、23℃湿度50%での表面抵抗率であり、例えば、ADVANTEST製のR8340A、R12704Aで測定できる。本発明の感光組成物は、10cm×10cm以上の大きさの塗膜をR12704Aの測定部位に設置し測定した。その表面抵抗値は、1011Ω/□よりも低いものである。
[Surface resistance value]
The surface resistance referred to in the present invention is the surface resistivity at 23 ° C. and 50% humidity, and can be measured by, for example, R8340A and R12704A manufactured by ADVANTEST. The photosensitive composition of the present invention was measured by installing a coating film having a size of 10 cm × 10 cm or more at a measurement site of R12704A. The surface resistance value is lower than 10 11 Ω / □.
以下に製造例、実施例をもって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、重量平均分子量はGPCにより測定された標準ポリスチレン換算分子量を示す。
また、特に断らない限り、数字は重量基準で記載した。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to production examples and examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, a weight average molecular weight shows the standard polystyrene conversion molecular weight measured by GPC.
Unless otherwise specified, the numbers are based on weight.
合成例1
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物(三菱化学株式会社製)27.9g、上記「ビフェニルテトラカルボン酸二無水物」中のカルボン酸無水物基100モル%に対して水酸基として100モル%に当たるポリエチレングリコールモノアクリレート(ブレンマーAE−350、日本油脂株式会社製)72.1g、ヒドロキノン0.1g(和光純薬工業株式会社製)、シクロヘキサノン100.0gを仕込み90℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業株式会社製)1.0gを加え、90℃で6時間撹拌し、室温まで冷却したのち反応を終了した。この反応溶液は黄色透明で固形分50%、数平均分子量MN1,180、重量平均分子量MW1,810であった。
Synthesis example 1
In a 4-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube and thermometer, 27.9 g of biphenyltetracarboxylic dianhydride (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), in the above “biphenyltetracarboxylic dianhydride” 72.1 g of polyethylene glycol monoacrylate (Blenmer AE-350, manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) equivalent to 100 mol% as a hydroxyl group with respect to 100 mol% of carboxylic acid anhydride groups of 0.1 mol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) ), 100.0 g of cyclohexanone was charged and the temperature was raised to 90 ° C. Next, 1.0 g of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added as a catalyst, stirred at 90 ° C. for 6 hours, cooled to room temperature, and the reaction was terminated. . This reaction solution was transparent yellow, had a solid content of 50%, a number average molecular weight MN1,180, and a weight average molecular weight MW1,810.
合成例2
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物(三菱化学株式会社製)20.9g、上記「ビフェニルテトラカルボン酸二無水物」中のカルボン酸無水物基100モル%に対して水酸基として100モル%に当たるポリエチレングリコールモノアクリレート(ブレンマーAE−400、日本油脂株式会社製)79.1g、ヒドロキノン0.1g(和光純薬工業株式会社製)、シクロヘキサノン100.0gを仕込み90℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業株式会社製)1.0gを加え、90℃で6時間撹拌し、室温まで冷却したのち反応を終了した。この反応溶液は黄色透明で固形分50%、数平均分子量MN1,650、重量平均分子量MW2,660であった。
Synthesis example 2
In a 4-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube, thermometer, 20.9 g of biphenyltetracarboxylic dianhydride (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), in the above “biphenyltetracarboxylic dianhydride” Polyethylene glycol monoacrylate (Blenmer AE-400, manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) 79.1 g and hydroquinone 0.1 g (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) ), 100.0 g of cyclohexanone was charged and the temperature was raised to 90 ° C. Next, 1.0 g of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added as a catalyst, stirred at 90 ° C. for 6 hours, cooled to room temperature, and the reaction was terminated. . This reaction solution was transparent yellow, had a solid content of 50%, a number average molecular weight MN1,650, and a weight average molecular weight MW2,660.
合成例3
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに無水フタル酸(和光純薬株式会社製)22.1g、上記「無水フタル酸」中のカルボン酸無水物基100モル%に対して水酸基として100モル%に当たるポリエチレングリコールモノメタクリレート(ブレンマーPE−200、日本油脂株式会社製)77.9g、ヒドロキノン0.1g(和光純薬工業株式会社製)、シクロヘキサノン100.0gを仕込み90℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業株式会社製)1.0gを加え、90℃で6時間撹拌し、室温まで冷却したのち反応を終了した。この反応溶液は黄色透明で固形分50%、数平均分子量MN810、重量平均分子量MW1,010であった。
Synthesis example 3
In a four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dry air introduction tube, and a thermometer, 22.1 g of phthalic anhydride (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), carboxylic anhydride group 100 in the above “phthalic anhydride” Polyethylene glycol monomethacrylate (Blenmer PE-200, manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) 77.9 g, hydroquinone 0.1 g (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and cyclohexanone 100.0 g corresponding to 100 mol% as a hydroxyl group with respect to mol% The temperature was raised to 90 ° C. Next, 1.0 g of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added as a catalyst, stirred at 90 ° C. for 6 hours, cooled to room temperature, and the reaction was terminated. . This reaction solution was transparent yellow, had a solid content of 50%, a number average molecular weight MN810, and a weight average molecular weight MW1,010.
合成例4
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物(三菱化学株式会社製)25.2g、上記「ビフェニルテトラカルボン酸二無水物」中のカルボン酸無水物基100モル%に対して水酸基として100モル%に当たるポリプロピレングリコールモノメタクリレート(ブレンマーPE−350、日本油脂株式会社製)74.8g、ヒドロキノン0.1g(和光純薬工業株式会社製)、シクロヘキサノン100.0gを仕込み90℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業株式会社製)1.0gを加え、90℃で6時間撹拌し、室温まで冷却したのち、グリシジルメタクリレート(日本触媒株式会社製)24.3g、o−フェニルフェノールグリシジルエーテル(商品名OPP−G、三光株式会社製)39.0g、N,N−ジメチルベンジルアミン(和光純薬株式会社製)1.31g、シクロヘキサノン5.0gを仕込み90℃で6時間攪拌し、反応を終了した。この反応溶液は黄色透明で固形分60%、数平均分子量MN1,600、重量平均分子量MW2,630であった。
Synthesis example 4
In a 4-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube and thermometer, 25.2 g of biphenyltetracarboxylic dianhydride (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), in the above “biphenyltetracarboxylic dianhydride” Polypropylene glycol monomethacrylate (Blenmer PE-350, manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) corresponding to 100 mol% as a hydroxyl group with respect to 100 mol% of carboxylic acid anhydride groups of 74.8 g, hydroquinone 0.1 g (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) ), 100.0 g of cyclohexanone was charged and the temperature was raised to 90 ° C. Next, 1.0 g of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added as a catalyst, stirred at 90 ° C. for 6 hours, cooled to room temperature, and then glycidyl methacrylate ( Nippon Shokubai Co., Ltd.) 24.3 g, o-phenylphenol glycidyl ether (trade name OPP-G, Sanko Co., Ltd.) 39.0 g, N, N-dimethylbenzylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 1.31 g Then, 5.0 g of cyclohexanone was added and stirred at 90 ° C. for 6 hours to complete the reaction. This reaction solution was transparent yellow, had a solid content of 60%, a number average molecular weight MN1,600, and a weight average molecular weight MW2,630.
合成例5
合成例1で合成したオリゴマー100gに過塩素酸リチウム(日本カーリット株式会社製)2.0gを加えて完全に溶解するまで攪拌して混合を終了した。
Synthesis example 5
To 100 g of the oligomer synthesized in Synthesis Example 1, 2.0 g of lithium perchlorate (manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd.) was added and stirred until completely dissolved to complete mixing.
比較例1
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物(三菱化学株式会社製)50.6g、上記「ビフェニルテトラカルボン酸二無水物」中のカルボン酸無水物基100モル%に対して水酸基として100モル%に当たる4−ヒドロキシブチルアクリレート(4HBA、日本化成株式会社製)49.4g、ヒドロキノン0.05g(和光純薬工業株式会社製)、シクロヘキサノン100.0gを仕込み90℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業株式会社製)1.0gを加え、90℃で6時間撹拌し、室温まで冷却したのち反応を終了した。この反応溶液は黄色透明で固形分50%、数平均分子量MN570、重量平均分子量MW630であった。
Comparative Example 1
In a 4-neck flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dry air inlet tube, and a thermometer, 50.6 g of biphenyltetracarboxylic dianhydride (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), in the above “biphenyltetracarboxylic dianhydride” 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA, manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.) 49.4 g, hydroquinone 0.05 g (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 100.0 g of cyclohexanone was charged and the temperature was raised to 90 ° C. Next, 1.0 g of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added as a catalyst, stirred at 90 ° C. for 6 hours, cooled to room temperature, and the reaction was terminated. . This reaction solution was transparent yellow, had a solid content of 50%, a number average molecular weight MN570, and a weight average molecular weight MW630.
比較例2
比較例1で合成したオリゴマー20.0gにポリエチレングリコールモノアクリレート(ブレンマーAE−350、日本油脂株式会社製)80.0gを加えて完全に溶解するまで攪拌して混合を終了した。
Comparative Example 2
80.0 g of polyethylene glycol monoacrylate (Blemmer AE-350, manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) was added to 20.0 g of the oligomer synthesized in Comparative Example 1 and the mixture was stirred until completely dissolved to complete mixing.
各合成例で得られた各オリゴマー溶液に、メチルイソブチルケトンを加えて粘度が10〜100mPa・Sになるように調整する。この樹脂溶液の固形分100重量部に対して、光重合開始剤イルカギュア184を5重量部加え、ポリエチレンテレフタレートフィルムにバーコーダーで乾燥塗膜が5μmになるように塗工し、80℃−2分乾燥し、メタルハライドランプで400mJの紫外線を照射し、試験用積層体を作製した。室温で1週間経過したものを以下の測定に用いた。 Methyl isobutyl ketone is added to each oligomer solution obtained in each synthesis example to adjust the viscosity to 10 to 100 mPa · S. 5 parts by weight of photopolymerization initiator ircagua 184 is added to 100 parts by weight of the solid content of this resin solution, and applied to a polyethylene terephthalate film with a bar coder so that the dry coating film becomes 5 μm, and 80 ° C. for 2 minutes. It dried and irradiated the ultraviolet ray of 400mJ with the metal halide lamp, and produced the laminated body for a test. What passed 1 week at room temperature was used for the following measurements.
<PETへの密着性>
密着性試験は上記塗工物でゴバン目セロハンテープ剥離試験を行い
硬化塗膜が90%以上残存するものを○
硬化塗膜の残存率が90%より低いものを×
として評価した。
<Adhesion to PET>
In the adhesion test, the above-mentioned coated product is subjected to a goblet cellophane tape peel test, and a cured coating film of 90% or more remains ○
A cured film with a residual rate of less than 90% x
As evaluated.
<屈折率>
上記塗工物をアッベ屈折計(アタゴ株式会社)を用いて屈折率を測定した。
屈折率が
1.50以上のものを○
1.50未満のものを×
と判定した。
<Refractive index>
The refractive index of the coated product was measured using an Abbe refractometer (Atago Co., Ltd.).
○ with a refractive index of 1.50 or more
Less than 1.50 x
It was determined.
<表面抵抗値>
デジタル超高抵抗/微少電流計R8340(株式会社アドバンテスト製)を用いて塗工物の表面抵抗値を測定した。尚、6×1010(Ω/□)を「6E+10」と表現する。
表面抵抗値が
1011Ω/□以下のものを○
1011Ω/□より高いものを×
と判定した。
<Surface resistance value>
The surface resistance value of the coated material was measured using a digital ultrahigh resistance / microammeter R8340 (manufactured by Advantest Co., Ltd.). Note that 6 × 10 10 (Ω / □) is expressed as “6E + 10”.
○ When the surface resistance is 10 11 Ω / □ or less
Higher than 10 11 Ω / □
It was determined.
<硬化性>
上記塗工物を指で触ったときに、
タックがないものを ○
タックがあるものを ×
と判定した。
When you touch the coated material with your finger,
○ that has no tack
What has tack ×
It was determined.
Claims (7)
酸無水物基に反応しうる官能基とポリアルキレンオキシ基と不飽和二重結合とを有する化合物(B)と、
を反応させてなる化合物(C)を含んでなり、
塗膜にして光硬化させたときの表面抵抗値が1011Ω/□よりも低いものである感光性組成物。
A compound (B) having a functional group capable of reacting with an acid anhydride group, a polyalkyleneoxy group, and an unsaturated double bond;
Comprising a compound (C) obtained by reacting
A photosensitive composition having a surface resistance value lower than 10 11 Ω / □ when a coating film is photocured.
酸無水物基に反応しうる官能基とポリアルキレンオキシ基と不飽和二重結合とを有する化合物(B)と、
を反応させてなる化合物(C)をさらに、
カルボキシル基と反応しうる官能基を有する化合物(D)と反応させてなり、
塗膜にして光硬化させたときの表面抵抗値が1011Ω/□よりも低いものである化合物(E)含んでなる感光性組成物。
A compound (B) having a functional group capable of reacting with an acid anhydride group, a polyalkyleneoxy group, and an unsaturated double bond;
Compound (C) obtained by reacting
Reacting with a compound (D) having a functional group capable of reacting with a carboxyl group,
A photosensitive composition comprising a compound (E) having a surface resistance value lower than 10 11 Ω / □ when a coating film is photocured.
前記感光性組成物に光を照射する工程とを含む積層体の製造方法。 A step of laminating the photosensitive composition according to any one of claims 1 to 5 on a substrate;
The manufacturing method of a laminated body including the process of irradiating the said photosensitive composition with light.
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- 2004-08-02 JP JP2004225250A patent/JP2006045278A/en active Pending
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