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JP2005340167A - 色素増感太陽電池の光電極基板の製造方法、色素増感太陽電池の光電極基板、及び色素増感太陽電池 - Google Patents

色素増感太陽電池の光電極基板の製造方法、色素増感太陽電池の光電極基板、及び色素増感太陽電池 Download PDF

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Abstract

【課題】電解液が透明電極膜に直接接触するのを防止でき、リーク電流の発生を防止できるようにする。
【解決手段】色素増感太陽電池1は、光電極基板2と対向電極基板3との間に電解液4が封入されている。このうち、光電極基板2は、基板部材5の表面5aに透明電極膜6を形成し、この透明電極膜6の上にチタンの膜を形成し、前記チタンの膜を陽極酸化法により酸化チタン膜7とし、この酸化チタン膜7の上に多孔性半導体電極膜8を形成し、この多孔性半導体電極膜8に増感色素を吸着・担持させるようになっている。
【選択図】図1

Description

本発明は、色素増感太陽電池に関するものであり、特に、この色素増感太陽電池の構成部品として使用される光電極基板及びその製造方法に関するものである。
近年、環境問題の観点から、光エネルギーを電気エネルギーに変換する太陽電池が注目を集めている中、製造コストを低くできることから、色素増感太陽電池が特に注目を集めている。元来、色素増感太陽電池は、光電変換効率が低いために実用性に乏しかったが、最近、半導体電極の表面積を大きくして多量の色素を吸着させることにより、飛躍的に光電変換効率を高くできる技術が開発されている(例えば、特許文献1参照)。
このような技術を用いた従来例としては、図12に示すようなものが知られている。この図12に模式的に示す色素増感太陽電池101は、光電極基板102と対向電極基板103との間に電解液104を封入するようになっている。
このうち、光電極基板102は、基板部材105の表面105aに透明電極膜106を形成するようになっている。次に、その透明電極膜106の表面上に酸化チタン等の多孔性半導体電極膜107を形成し、その多孔性半導体電極膜107に色素を吸着させるようになっている。なお、多孔性半導体電極膜107は、透明電極膜106上に半導体粒子を含有する懸濁液を塗布し、乾燥後焼成する方法によって形成されるようになっている。
一方、対向電極基板3は、対向基板部材108上に対向電極110として白金等の触媒をコーティングするようになっている。
そして、この対向電極110と多孔性半導体電極膜107とが所定の間隔を開けて対面するように、基板部材105と対向基板部材108とが対向配置され、対向電極110と多孔性半導体電極膜107の間に電解液104が封入され、色素増感太陽電池101が構成されるようになっている。
特表平5−504023号公報(第1頁、図1)。
しかしながら、上述のような従来の色素増感太陽電池101は、電解液104と透明電極膜106との間に介在する多孔質半導体電極膜107が多孔質体であるため、電解液104が多孔質半導体電極膜107内に浸透して透明電極膜106に直接接触するような場合がある。このような場合には、リーク電流が発生し、色素増感太陽電池101の発電特性が低下することになる。
このような問題を解決するために、透明電極膜106と多孔性半導体電極膜107との間にスパッタリング法やゾルーゲル法などによる酸化チタン膜を形成する方法が採用されている。しかし、これらの方法によって形成された酸化チタン膜は、その品質が色素増感太陽電池101として好ましい性質のものでなく、リーク電流を防げたとしても、多孔性半導体電極膜107と透明電極膜106との間を流れる電流を妨げるようになっていた。また、透明電極膜106の上にゾルーゲル法によって酸化チタン膜を形成する態様においては、酸化チタン膜の成膜時に透明電極膜106の表面にゴミ等の異物が付着していると、その異物の付着部分の酸化チタン膜にピンホールが生じ、そのピンホールから電解液104が透明電極膜106側に侵入し、結局リーク電流が生じてしまうという問題を生じる。
そこで、本発明は、電解液が透明電極膜に直接接触するのを防止でき、リーク電流の発生を防止できるようにすることを目的としている。
請求項1の発明は、対向電極基板の対向電極との間に電解液が封入されて色素増感太陽電池を構成する色素増感太陽電池の光電極基板の製造方法に関するものである。この光電極基板の製造方法は、基板部材の表面に透明電極膜を形成し、この透明電極膜の上にチタンの膜を形成し、前記チタンの膜を陽極酸化法により酸化チタン膜とし、この酸化チタン膜の上に多孔性半導体電極膜を形成し、この多孔性半導体電極膜に増感色素を吸着・担持させることを特徴としている。
請求項2の発明は、請求項1の発明に係る色素増感太陽電池の光電極基板の製造方法において、前記透明電極膜の上に前記チタンの膜が所望のパターンで形成されたことを特徴としている。
また、請求項3の発明は、対向電極基板の対向電極との間に電解液が封入されて色素増感太陽電池を構成する色素増感太陽電池の光電極基板に関するものである。この色素増感太陽電池は、基板部材の表面に透明電極膜を形成し、この透明電極膜の上に結晶方位の揃った酸化チタン膜を形成し、この酸化チタン膜の上に多孔性半導体電極膜を形成し、この多孔性半導体電極膜に増感色素を吸着・担持させてなることを特徴としている。
また、請求項4の発明は、請求項3の発明に係る色素増感太陽電池の光電極基板において、前記チタン膜が所望のパターンで形成されたことを特徴としている。
また、本発明は、請求項2に記載の色素増感太陽電池の光電極基板と、この光電極基板と対向する対向電極を有する対向電極基板と、これら光電極基板と対向電極基板との間に封入される電解液と、を備えてなることを特徴とする色素増感太陽電池に関するものである。
以上のような構成の本発明によれば、透明電極膜の上に陽極酸化法により形成された酸化チタン膜は、結晶の成長方向が一方向に揃った結晶性(例えばアナターゼ型)のTiOであって、スパッタリングやゾルーゲル法で形成した酸化チタン膜よりも電気抵抗値が低く、電気的ピンホールの発生を防止できるため、多孔性半導体電極膜から透明電極膜への電荷の移動を円滑化し、色素増感太陽電池としての発電特性を損なうことなく、リーク電流の発生を防止できる。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき詳述する。
(色素増感太陽電池の構造)
図1は、本発明の実施の形態に係る色素増感太陽電池1を示すものである。この図1に示すように、本実施の形態に係る色素増感太陽電池1は、光電極基板2と対向電極基板3との間に電解液4を封入して構成されている。
このうち、光電極基板2は、透明のプラスチック製基板部材5の表面5aに透明電極膜6が形成されている。また、その透明電極膜6の上には、陽極酸化処理をされてなる酸化チタン(TiO)膜7が形成され、この酸化チタン膜7の上には、増感色素を吸着・担持する多孔性半導体電極膜8が重ねて形成されている。一方、対向電極基板3は、プラスチック製対向基板部材10の表面に対向電極11が形成されている。
なお、基板部材5及び対向基板部材10は、アクリル、ポリエチレン(PET)、ポリオレフィン、ポリカーボネート(PC)等のプラスチックで形成されている。
(色素増感太陽電池の製造方法)
上述のような構造の色素増感太陽電池1は、以下のようにして形成される。
まず、図2に示すように、光電極基板2の透明のプラスチック製基板部材5は、アルゴンガスが導入された図示しない真空装置内において、酸化インジウム錫(ITO)をターゲット材とし、高周波放電により生成したプラズマを使用してスパッタリング処理が施され、その表面5a上にITOの透明電極膜6が成膜される。
次に、透明電極膜6が形成された基板部材5は、ターゲットとしてのチタンと共に真空装置内に入れられる。その後、真空装置内にアルゴンガスが導入され、DC放電により生じたプラズマを使用してスパッタリング処理が施され、図3に示すように、基板部材5の透明電極膜6上にチタンの膜12が形成される。この真空装置内でのチタンの成膜作業を連続して行うことにより、透明電極膜6とチタンの膜12との界面に不純物等のバリア層を生じることがなく、チタンの膜12を透明電極膜6上に積層して形成することができる。その結果、透明電極膜6とチタンの膜12との界面には、ゴミの付着に起因する電気的ピンホールを生じることがない。
次に、プラズマ陽極酸化法によりチタンの膜12の酸化処理を行う。このチタンの膜12のプラズマ陽極酸化は、真空装置内において、透明電極膜6及びチタンの膜12が順次重ねて形成された基板部材5を陽極に設置した後、酸素ガスを導入し、高周波放電により生じたプラズマを使用して行う。このように、基板部材5を陽極に設置することにより、酸素の負イオンが基板部材5側に入射し、表面のチタンの膜12と結合し、酸化チタン(TiO)膜7となる(図3及び図4参照)。
なお、陽極酸化によるチタンの膜12の酸化処理は、上述したプラズマ陽極酸化法に限られず、湿式の陽極酸化法を使用するようにしてもよい。この湿式の陽極酸化でチタンの膜12の酸化処理を行う場合は、陰極に白金電極を設置し、これに対向させる形で陽極に基板部材5を設置し、これらを電解液中に浸漬する。そして、基板部材5の表面5aのチタンの膜12と白金電極を電気的に接続した後、この基板部材5のチタンの膜12と白金電極との間に電位差を生じさせる。これにより、白金電極上からは水素が発生し、チタンの膜12には酸素が取り込まれて、チタンの膜12が酸化チタン膜7となる(図3及び図4参照)。
以上のように、プラズマ陽極酸化法や湿式の陽極酸化法(以下、単に陽極酸化法と略称する)で形成された酸化チタンは、原理的にチタンの膜12の表面に対して垂直な方向に成長するため、結晶方向が揃った緻密な膜(酸化チタン膜7)になる(図3及び図4参照)。また、陽極酸化法により形成された酸化チタン膜7は、結晶の成長方向が一方向に揃った結晶系(例えばアナターゼ型)となり、色素増感太陽電池1に使用される後述の多孔性半導体電極膜8とも一致する。
次に、陽極酸化法により形成された酸化チタン膜7の上には、図5に示すように、多孔性の二酸化チタン(TiO)からなる多孔性半導体電極膜8が電析法により形成される。そして、この多孔性半導体電極膜8には、光電変換機能を有する増感色素(例えば、ルテニウム錯体等)が吸着・担持される。
このように、光電極基板2は、図5に示すように、基板部材5の表面5a上に、透明電極膜6と、陽極酸化された酸化チタン膜7と、増感色素を吸着・担持する多孔質半導体電極膜8とが、順に重ねて形成されている。なお、多孔性半導体電極膜8は、二酸化チタンの他に、酸化亜鉛等で形成してもよい。また、多孔性半導体電極膜8は、電析法の他に、焼成法,水熱処理法で形成するようにしてもよい。
一方、図1に示すように、対向基板部材10の表面10aには、白金(Pt)からなる対向電極11がコーティングされる。これにより、対向基板部材10の表面10aに白金の対向電極11を備えた対向電極基板3が形成される。なお、対向電極11として、白金の代わりに黒鉛を使用するようにしてもよい。
以上のようにして形成された光電極基板2の多孔性半導体電極膜8と対向電極基板3の対向電極11とが対向するように向かい合わせて配置し、これら多孔性半導体電極膜8と対向電極11との間に電解液4を封入して、本実施の形態に係る色素増感太陽電池1が形成される(図1参照)。なお、電解液4としては、ヨウ素−ヨウ素化合物、臭素−臭素化合物などの酸化還元対を含有するレドックス電解液が通常使用される。
(色素増感太陽電池の作用)
以上のようにして形成された色素増感太陽電池1は、光電極基板2に外部から太陽光が入射すると、多孔性半導体電極膜8に吸着・担持された増感色素が励起され、電子的な基底状態から励起状態へと遷移する。励起された増感色素の電子は、多孔性半導体電極膜8を構成するTiOの伝導帯へ注入され、酸化チタン膜7を経由して、透明電極膜6から図示しない外部回路を経由して対向電極11に移動する。対向電極11に移動した電子は、電解液4中のイオンに運ばれて増感色素に戻る。このような作用を繰り返して電気エネルギーが取り出される。
以上のような本実施の形態に係る色素増感太陽電池1によれば、透明電極膜6の上に陽極酸化法により形成された酸化チタン膜7は、結晶の成長方向が一方向に揃った結晶性(例えばアナターゼ型)のTiOであって、スパッタリングやゾルーゲル法で形成した酸化チタン膜よりも電気抵抗値が低く、電気的ピンホールの発生を防止できる。その結果、本実施の形態の色素増感太陽電池1によれば、多孔性半導体電極膜8から透明電極膜6への電荷の移動を円滑化し、色素増感太陽電池1としての発電特性を損なうことなく、電気的ピンホールに起因する透明電極膜6と電解液4との短絡を防止でき、リーク電流の発生を防止できる。
本実施の形態によれば、透明電極膜6と多孔性半導体電極膜8との間に結晶の成長方向が一方向に揃った結晶系(例えばアナターゼ型)の酸化チタン膜7が介在する構造であり、透明電極膜6の上にチタンの膜12をスパッタリング法で形成し、そのチタンの膜12を陽極酸化で酸化チタン膜7としており、酸化チタン膜7と多孔性半導体電極膜8が同種の材料であって親和性が高いため、透明電極膜の上に直接的に多孔性半導体電極膜を形成する特許文献1の場合に比較し、透明電極膜6と多孔性半導体電極膜8の機械的密着性及び電気的接合状態が良好である。
なお、本実施の形態の色素増感太陽電池1は、基板部材5及び対向基板部材10をプラスチック材料で形成する態様を例示したが、これに限られず、ガラス板を使用するようにしてもよい。
また、本実施の形態の色素増感太陽電池1は、基板部材5側から太陽光を入射させるため、基板部材5を光透過性に優れた透明プラスチック材料で形成するようになっている。したがって、本実施の形態において、対向基板部材10は、必ずしも光透過性に優れたプラスチック材料で形成する必要はない。しかし、対向基板部材10側から太陽光を入射させる場合には、対向基板部材10を光透過性に優れたプラスチック材料で形成すると共に、対向電極11を透明なものにする必要がある。このように、対向基板部材10側から太陽光を入射させる場合には、基板部材5及び透明電極膜6に光透過性の悪い材料を使用してもよい。
また、上述の実施の形態においては、透明電極膜6上に形成したチタン膜の全てを陽極酸化法により酸化チタン膜7にする場合について述べたが、必ずしも完全に陽極酸化する必要はない。言い換えれば、透明電極膜6上に陽極酸化されないチタン膜が残存していても、そのチタン膜の膜厚が光電極基板へ入射する光の透過率を著しく落とさない程度であれば、本発明による効果が十分期待できる。より具体的には、陽極酸化されずに透明電極膜6上に存在するチタン膜の膜厚が5nm以下であれば、例え、透明電極膜6上に陽極酸化されないチタン膜が残存していてもよい。
次に、本発明の光電極基板の製造方法の1実施例を説明する。すなわち、本実施例1における光電極基板の製造方法は、基板部材としてのPEN(ポリエチレンナフタレン)の表面にITO膜が形成されたITO付き基板部材(一辺が5cmの四角形で、且つ、125μmの厚さの板状部材であって、電気抵抗値が10Ω/□の板状部材)が使用される。そして、このITO付き基板部材がターゲット材としてのチタンと共に真空装置内に入れられ、真空装置内にアルゴンガスが50sccm導入され、Rf放電(13.56MHz、400W)により生じたプラズマを使用したスパッタリング処理による成膜が60秒実施され、ITOの表面に10nmの膜厚のチタンの膜12が形成される(図3参照)。その後、電解液(純水1Lに対してリン酸二水素アンモニウム0.1gを加えてなる液体)が注入された陽極酸化槽の陰極に白金を設置し、陽極酸化槽の陽極にチタンの膜12が形成されたITO膜付き基板部材が設置され、陽極のチタンの膜12と白金とが電気的に接続され、陰極と陽極の間に電位差を生じさせる。この陰極と陽極間の電位差は、1分間に0〜5Vまで徐々に電圧を上げ、5Vに到達したらその電圧を維持するようになっている。この陽極酸化処理は、陽極酸化によってチタンの膜12に形成されるバリア層(酸化チタン膜)の増加とともに電流値が低下するが、この電流値の低下が停止するまで続けられる。このような陽極酸化処理を施すことにより、透明電極膜6の上に結晶の成長方向が一方向に揃った結晶系(例えばアナターゼ型)の酸化チタン膜7が20nmの膜厚に形成される(図4参照)。
次に、この陽極酸化された酸化チタン膜7の上に低温製膜用チタニア塗布ペーストを50μmの厚さとなるように塗布し、150℃の温度で5分間加熱することにより、酸化チタン膜7の上に5μmの膜厚の多孔性半導体電極膜8が形成される(図5参照)。そして、この多孔性半導体電極膜8にルテニウム錯体(Ruビピルジル錯体)色素を吸着させる。このようにして、プラスチック製基板部材5の表面5aに透明電極膜6が形成され、その透明電極膜6の上に陽極酸化処理をされてなる酸化チタン(TiO)膜7が形成され、この酸化チタン膜7の上に増感色素を吸着・担持する多孔性半導体電極膜8が重ねて形成された、本発明に係る光電極基板2が完成する(図5参照)。
図6は、本発明に係る色素増感太陽電池1(本実施例の光電極基板2を使用した色素増感太陽電池1)と従来の色素増感太陽電池101の電流・電圧特性を実験により比較した図である。なお、本発明の色素増感太陽電池1と従来の色素増感太陽電池101は、光電極基板2,102が相違する点を除き、他の構成が同一の構成となるようにして測定した電流・電圧特性を示すものである。また、実験に使用した光源は、光照射エネルギーが10mW/cmのものである。
また、図7は、図6に示す実験結果を表にまとめたものである。この図7の表において、Iscは短絡光電流を示し、Vocは開放端電圧を示し、FFは曲線因子を示し、ηは変換効率を示している。
これら図6及び図7に示すように、本発明の色素増感太陽電池1の曲線因子FFは、従来の色素増感太陽電池101の曲線因子FFの1.2倍程度に性能が向上している。また、本発明の色素増感太陽電池1の変換効率ηは、従来の色素増感太陽電池101の変換効率ηの1.5倍に性能が向上している。このような、本発明の色素増感太陽電池1と従来の色素増感太陽電池101との性能の差は、本発明に係る光電極基板2の陽極酸化処理をされて形成された酸化チタン膜7に起因するものと考えられる。
図8は、本発明の色素増感太陽電池1と従来の色素増感太陽電池101のそれぞれにおいて、光電極基板2,102と対向電極基板3,103間に電圧を印加した際に流れる電流を対比して示す図である。この図から理解されるように、本発明の色素増感太陽電池1では電流の逆流を生じることがないのに対し、従来の色素増感太陽電池101では電流の逆流を生じている。これは、本発明の光電極基板2は陽極酸化処理により形成された酸化チタン膜7がITOから電解液4側へのリーク電流を防止できるのに対し(図1参照)、従来の光電極基板102はITOから電解液104側へのリーク電流を効果的に防止できない点にあるものと考えられる(図12参照)。
図9は、本発明の光電極基板2の製造方法の第1の変形例を示す図である。
すなわち、本変形例は、図9に示すように、表面にITOの透明電極膜6が形成された基板部材5(以下、ITO付き基板部材5’と略称する)を使用し、先ずこの透明電極膜6上にマスク材9によって所望のパターンでマスキングを施した後、露出した矩形状の複数の透明電極膜6の表面にスパッタリングでチタンの膜12(例えば10nmの膜厚のチタンの膜12)を形成する。これにより、透明電極膜6上に所望のパターンのチタンの膜12を複数形成することができる。
次に、マスク材9を除去し、チタンの膜12の周囲の透明電極膜6をウエットエッチングで除去する。その結果、ITO付き基板部材5’は、チタンの膜12の周囲に基板部材5が露出する。
次に、ITO付き基板部材5’を湿式の陽極酸化槽内に入れ、ITO付き基板部材5’上に残留する透明電極膜6の表面のチタンの膜12を陽極酸化し、所望のパターンに酸化チタン膜7を複数形成するようになっている。
そして、これら複数の酸化チタン膜7上に多孔性半導体電極膜8を形成し、その多孔性半導体電極膜8に増感色素を吸着させることにより、本変形例の光電極基板2が完成する(図5参照)。
なお、本実施例に係る光電極基板2の酸化チタン膜7の配置パターンは、同一矩形形状の酸化チタン膜7をITO付き基板部材5’上に並列に4個配置する態様のものであるが、これに限らず、並列配置する酸化チタン膜7の個数、各酸化チタン膜7の平面形状、各酸化チタン膜7の大きさ、各酸化チタン膜7の配列方法等を適宜変更するようにしてもよい。
図10は、本発明の光電極基板2の製造方法の第2の変形例を示す図である。
すなわち、本変形例は、図10に示すように、表面にITOの透明電極膜6が形成された基板部材5(以下、ITO付き基板部材5’と略称する)を使用し、先ずこの透明電極膜6上にマスク材9によって所望のパターンでマスキングを施した後、露出した矩形状の複数の透明電極膜6の表面にスパッタリングでチタンの膜12(例えば10nmの膜厚のチタンの膜12)を形成する。これにより、透明電極膜6上に所望のパターンのチタンの膜12を複数形成することができる。ここまでは、上述の第1の変形例と同様である。
次に、ITO付き基板部材5’を湿式の陽極酸化槽内に入れ、チタンの膜12を陽極酸化し、複数の酸化チタン膜7を形成する。
次に、マスク材9を除去し、チタンの膜12の周囲の透明電極膜6をウエットエッチングで除去する。その結果、ITO付き基板部材5’は、チタンの膜12の周囲に基板部材5が露出する。
次に、再度、ITO付き基板部材5’を湿式の陽極酸化槽内に入れ、所望のパターンに酸化チタン膜7を再度陽極酸化する。
そして、これら複数の酸化チタン膜7上に多孔性半導体電極膜8を形成し、その多孔性半導体電極膜8に増感色素を吸着させることにより、本変形例の光電極基板2が完成する(図5参照)。
なお、本実施例に係る光電極基板2の酸化チタン膜7の配置パターンは、同一矩形形状の酸化チタン膜7をITO付き基板部材5’上に並列に4個配置する態様のものであるが、これに限らず、並列配置する酸化チタン膜7の個数、各酸化チタン膜7の平面形状、各酸化チタン膜7の大きさ、各酸化チタン膜7の配列方法等を適宜変更するようにしてもよい。
図11は、本発明の光電極基板2の製造方法の第3の変形例を示す図である。
すなわち、本変形例は、図11に示すように、表面にITOの透明電極膜6が形成された基板部材5(以下、ITO付き基板部材5’と略称する)を使用し、先ずこの透明電極膜6上にマスク材9によって所望のパターンでマスキングを施した後、露出した矩形状の複数の透明電極膜6の表面にスパッタリングでチタンの膜12(例えば10nmの膜厚のチタンの膜12)を形成する。これにより、透明電極膜6上に所望のパターンのチタンの膜12を複数形成することができる。ここまでは、上述の第1及び第2の変形例と同様である。
次に、チタンの膜12を形成したITO付き基板部材5’の表面の全面にレジスト19を塗布し、ITO付き基板部材5’の裏面側から露光してレジスト19を現像する。
次に、チタンの膜12の周囲の透明電極膜6をウエットエッチングで除去する。その結果、ITO付き基板部材5’は、チタンの膜12の周囲に基板部材5が露出する。その後、チタンの膜12の表面に形成されたレジスト19を剥離する。
次に、ITO付き基板部材5’を湿式の陽極酸化槽内に入れ、ITO付き基板部材5’上に残留する透明電極膜6の表面のチタンの膜12を陽極酸化し、所望のパターンに酸化チタン膜7を複数形成するようになっている。
そして、これら複数の酸化チタン膜7上に多孔性半導体電極膜8を形成し、その多孔性半導体電極膜8に増感色素を吸着させることにより、本変形例の光電極基板2が完成する(図5参照)。
なお、本実施例に係る光電極基板2の酸化チタン膜7の配置パターンは、同一矩形形状の酸化チタン膜7をITO付き基板部材5’上に並列に4個配置する態様のものであるが、これに限らず、並列配置する酸化チタン膜7の個数、各酸化チタン膜7の平面形状、各酸化チタン膜7の大きさ、各酸化チタン膜7の配列方法等を適宜変更するようにしてもよい。
本実施の形態に係る色素増感太陽電池を複数直列に接続し、また、色素増感太陽電池を複数直列に接続してなる太陽電池列を複数並列に接続して色素増感太陽電池組立体を構成し、所望の電圧値の電気エネルギーを得るようにすることができる。さらに、色素増感太陽電池組立体に蓄電池を接続し、電気エネルギーを蓄えるようにすることができる。
本発明の実施の形態に係る色素増感太陽電池の光電極基板の模式的断面図である。 図1に示す色素増感太陽電池の製造工程を示す第1説明図である。 図1に示す色素増感太陽電池の製造工程を示す第2説明図である。 図1に示す色素増感太陽電池の製造工程を示す第3説明図である。 図1の光電極基板を使用した色素増感太陽電池の模式的断面図である。 実施例1の光電極基板を使用した色素増感太陽電池と従来の色素増感太陽電池の電圧・電圧特性を実験により比較した図である。 図6に示す実験結果を表として表す図である。 本発明の色素増感太陽電池と従来の色素増感太陽電池の性能比較をした図であり、光電極基板と対向電極基板間に電圧を印加した際に流れる電流との関係を比較して示す図である。 本発明の実施例2に係る光電極基板の製造工程を模式的に示す図である。 本発明の実施例3に係る光電極基板の製造工程を模式的に示す図である。 本発明の実施例4に係る光電極基板の製造工程を模式的に示す図である。 従来の色素増感太陽電池を模式的に示す断面図である。
符号の説明
1……色素増感太陽電池、2……光電極基板、3……対向電極基板、4……電解液、5……基板部材、5a……表面、6……透明電極膜、7……酸化チタン膜、8……多孔性半導体電極膜、11……対向電極、12……チタンの膜

Claims (5)

  1. 対向電極基板の対向電極との間に電解液が封入されて色素増感太陽電池を構成する色素増感太陽電池の光電極基板の製造方法において、
    基板部材の表面に透明電極膜を形成し、この透明電極膜の上にチタンの膜を形成し、前記チタンの膜を陽極酸化法により酸化チタン膜とし、この酸化チタン膜の上に多孔性半導体電極膜を形成し、この多孔性半導体電極膜に増感色素を吸着・担持させることを特徴とする色素増感太陽電池の光電極基板の製造方法。
  2. 前記透明電極膜の上に前記チタンの膜が所望のパターンで形成されたことを特徴とする請求項1に記載の色素増感太陽電池の光電極基板の製造方法。
  3. 対向電極基板の対向電極との間に電解液が封入されて色素増感太陽電池を構成する色素増感太陽電池の光電極基板において、
    基板部材の表面に透明電極膜を形成し、この透明電極膜の上に結晶方位の揃った酸化チタン膜を形成し、この酸化チタン膜の上に多孔性半導体電極膜を形成し、この多孔性半導体電極膜に増感色素を吸着・担持させてなることを特徴とする色素増感太陽電池の光電極基板。
  4. 前記チタン膜が所望のパターンで形成されたことを特徴とする請求項3に記載の色素増感太陽電池の光電極基板。
  5. 請求項3又は4に記載の色素増感太陽電池の光電極基板と、この光電極基板と対向する対向電極を有する対向電極基板と、これら光電極基板と対向電極基板との間に封入される電解液と、を備えてなることを特徴とする色素増感太陽電池。
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