JP2005246943A - Method for manufacturing glass substrate/laminated protection sheet and automatic device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、IT情報電子部品機器の生活機能を備えた、各種の有機EL(エレクトロルミネッセンス)用ガラス基板等FPD(フラットパネルディスプレイ)用ガラス基板、LCD(液晶ディスプレイ)用ガラス基板PDP(プラズマディスプレイパネル)用ガラス基板等に係わる、ガラス基板用積層保護シート製造方法並びに、ガラス基板の従来からなる加工方法に加えた、ワークホルダーそれぞれに附加した、超音波振動付洗浄加工方法及び、フッ化水素酸溶液を使用した、超音波振動付エッチング加工方法、超音波振動付温風乾燥加工方法でありまた、液剤が毒物として取り扱うのは非常に危険とするものでこれらの付帯を盛り込みんだ自動装置。The present invention is a glass substrate for FPD (flat panel display), such as various organic EL (electroluminescence) glass substrates, and a glass substrate PDP (plasma display) for LCD (liquid crystal display), which has a life function of IT information electronic component equipment. In addition to a conventional method for manufacturing a laminated protective sheet for glass substrates, a conventional processing method for glass substrates, and a glass substrate for panels), a cleaning method with ultrasonic vibration added to each work holder, and hydrogen fluoride It is an etching method with ultrasonic vibration and a hot-air drying method with ultrasonic vibration that uses an acid solution. Also, it is extremely dangerous for the liquid agent to be handled as a poison. .
次に記載した制するものがある。
以上まであったが、特許を受けようとする発明に関連する従来の技術として、本発明である請求項1.2.3.4.に該当する内容には、類似するものが無かった。
技術としてはそれぞれの洗浄工程、エッチング工程、乾燥工程、それに加えた超音波振動子では、エッチング溶液槽また、ウエハーおよびガラス基板等による箱ものにあるいは、収納するパッケージケース自体に、超音波振動発信機より超音波振動子に、周波数により大きさを適度に設定いるのがほとんどであった。
エッチング溶液も沢山あって、其の濃度・界面活性剤からなる混合液、この配合液の割合等が示されているものの、○から○パーセントの比率配合と記載されているが、これでは疑問です。
従来は、本件に係わる業界としては、一般の中小企業が取り扱えない業種であった、それは設備投資に莫大な費用がかかり過ぎて、大企業には太刀打ち出来ないのが現状である。
そこで本件は特に、エッチング加工処理を行うのは、フッ化水素酸溶液等を主剤とする液薬は法定毒物指定の為、取り扱うのに非常に危険なエッチング溶液である。
これを行政指導の届け出のもとに、技術的支援を世に提供し、一般の中小企業が誰でも使えるよう試み、本件請求項4までとなる発明をしたものである。There are the following controls.
As described above, as a conventional technique related to the invention for which a patent is sought, the present invention is the present invention 1.2.3.4. There were no similar items in the category.
As the technology, in each cleaning process, etching process, drying process, and ultrasonic vibrator added to it, ultrasonic vibration is transmitted to an etching solution tank, a box made of a wafer and a glass substrate or the package case itself to be stored. In most cases, the size of the ultrasonic transducer was appropriately set according to the frequency.
There are a lot of etching solutions, and the concentration / surfactant mixture, the ratio of this mixture, etc. are shown. .
Conventionally, the industry related to this case was an industry that cannot be handled by general small and medium-sized enterprises. It is too expensive for capital investment, and it is difficult for large enterprises to compete.
Therefore, in this case, the etching process is particularly performed with an etching solution that is very dangerous to handle because a liquid medicine mainly composed of a hydrofluoric acid solution is designated as a legally toxic substance.
Based on the notification of administrative guidance, we provide technical support to the world and try to make it available to general SMEs for anyone, and invented the invention up to claim 4.
1、本発明はガラス基板の表面加工方法には、物理的な方法と化学的な方法の二つあり物理的な方法には、ショットブラストによる吹き付ける加工、化学的な方法に溶液浸けによるフッ化水素酸溶液等を主剤とする、エッチング液による加工であり、本件は其の両者であるが、しかしながら最近では、以下に示すような品質改善が要求される。
2、素のガラス基板に対する表面キズを無くす、事前加工である機械研磨の平坦性不足、割れや、表面傷の発生、研磨模様の残留、研磨能力の限界等、避けられない事もある。
3、積層シートの素材PV/PVC/PET/ユポ等シート、微粘着付PET等・シート、PETセパレート等・シートによる品質其の物である傷・打痕・剥れ・捲れ・破損・切り傷等の不具合。
4、ガラス用基板にフッ化水素酸を主剤とする、エッチング液を貯溜するエッチング溶液槽の底部に窒素ガス気泡発生装置を設け、この窒素ガス気泡発生装置から発生した気泡によって、前記エッチング溶液に平均を保つ新鮮なブレンド混合液の不備だった。
5、エッチング溶液槽の底部、窒素ガス上昇気泡により、加工液をブレンド混合させることによりガラス基板表面の均一な加工を実現しようとしているが、上昇した気泡と加工液とが液表面に達した後に、下降する流れが上昇流の均一性を阻害するので、表面が均一に加工されないということもある。
6、ガラス基板の加工方法である従来では、超純水製造装置から生じる液を、シャワー形態より洗い流し、下方へ落ち循環使用していたが、まだ異物等の残留物が洗われず残っていた。
7、フッ化水素酸及び、界面活性剤に使用する液剤は、法定毒物指定の為、取り扱うのに非常に危険なために、手に触れないような作業また加工方法が無いか希望していた。1. In the present invention, there are two methods for processing the surface of a glass substrate: a physical method and a chemical method. Physical methods include a spraying process by shot blasting and a chemical method by fluorination by solution immersion. This is processing using an etchant mainly composed of a hydrogen acid solution or the like, and this case is both of them. However, recently, quality improvement as shown below is required.
2. Surface scratches on the raw glass substrate are eliminated. Insufficient flatness of mechanical polishing, which is a pre-processing, cracks, surface scratches, residual polishing patterns, and limitations on polishing ability may be unavoidable.
3. Laminated sheet material PV / PVC / PET / YUPO sheet, PET with fine adhesion, sheet, PET separate, etc., quality by the sheet, scratches, dents, peeling, curling, breakage, cuts, etc. Bugs.
4. A nitrogen gas bubble generating device is provided at the bottom of an etching solution tank that stores hydrofluoric acid as a main component on a glass substrate and the etching solution is stored in the etching solution by bubbles generated from the nitrogen gas bubble generating device. There was a deficiency in the fresh blend mixture that kept the average.
5. An attempt is made to achieve uniform processing of the glass substrate surface by blending and mixing the processing liquid with the bottom of the etching solution tank and nitrogen gas rising bubbles, but after the rising bubbles and the processing liquid reach the liquid surface Since the descending flow hinders the uniformity of the ascending flow, the surface may not be processed uniformly.
6. Conventionally, the processing method of the glass substrate was that the liquid generated from the ultrapure water production apparatus was washed away from the shower form and circulated downward, but the residue such as foreign matters still remained without being washed.
7. Because the liquid used for hydrofluoric acid and surfactant is legally toxic, it is very dangerous to handle. .
1、積層(ラミネート化)されたシートに、トリミング及び、打ち抜きに用いるエッチング処理された金型である[図−02]に示すよう、トリミング抜き及び、打ち抜きする積層化された容量を示す[図−3]は切り刃の段差を形成する事より外周抜き、中ほどの穴抜き、窓抜きのリピートとした図形の抜き積層としたものを厚み方向に対し、途中まで切り刃を設けた抜き等を示す断面図である。
合成樹脂シートの積層の成り立ちは、(1)−本素材−(PV/PVC/PET/ユポ等シート)、(2)−PET素材等・シート、(3)−PETセパレート等・シート、(33)−保護シート(マスキングシート)を設け、ガラス基板上面または、両面にゴム質のローラー圧着を行い、積層シートを組み立てた(35)−ガラス基板用積層シート[図−14]である。
但し、これらの工程中一部のエリアーを剥がすことが、懸命となる[図−05]、[図−10]、[図−12]である。
2、前項目(1)より成り立つ(35)−ガラス基板積層シートに対し、異物、油脂、電化性による不純物性を取り除くことからなる、離脱・散らす・再付着防止(スパッタ防止)のために、[図−27]、[図−28]、[図−29]に記載する、超音波振動子を加え設ける(43)−超音波振動子及びホルダー、(44)−ガラス基板保持治具[図−15]と[図−16]に使用する姿図を示すもので、これらを(76a)−自動搬送装置set用い、絶えず搬送しながら超音波振動を作動させた温水洗浄方法並びに、超音波振動温風乾燥方法とする加工である。
従来この点では、収納ケースに入ったまま、其の何枚かを一度に加工していることと、また積み重ねたりもしたこと収納しす過ぎて、溶液が加工するワーク全体に行き届かなく、斑になったり加工表面に斑点模様が生じたり、後で不具合を生じていたこともある、またエッチング溶液槽の中に超音波振動する機能もあったが、これは収納ケースをエッチング加工するものであれば良いのですが本発明は、積層加工した(35)−ガラス基板積層シートに設けたる(28)−空窓[図−16]に示すよう、一部のエリアーである(01)−積層シート素材−(PV/PVC/PET/ユポ等シート)、(02)−微粘着付PET等・シート、(03)−PETセパレート等・シートを剥がし残ったエリアーが本件である(28)−空窓、部分のみにエッチング加工をする場所である。
本発明では、積層(ラミネート化)されたシートの、粘着力の活用となる積層保護シート、と云える物でもある、これらをワーク一枚ごとに順次搬送されて来る物に対し、(43)−超音波振動子及びホルダーにこれを組み込み、(44)−ガラス基板保持治具は、搬送用の自動ホールディングの為にこれを用いる超音波振動機能を設けた方法とするもので、この効果として何より、スパッタ防止対策の一環として、これらの(35)−ガラス基板積層シートに対し、超音波振動を加え設けたエッチング加工方法である。
3、第2の再付着防止対策として、前項目(2)より成る(35)ガラス基板積層シートに対し、化学表面処理方法であるフッ化水素酸溶液等を用いる、エッチング処理の際に、溶解物となった物質、フッ化物等の反応生成物がガラス基板表面の再付着防止の為、また陰イオン系界面活性剤とアミン系両性界面活性剤は、フッ化物等の反応生成物が、ガラス基板のエッチングに、再付着するのを防止するための添加物の注入方法となる界面活性剤である。
これを使用し、表面に再付着するのを防止するための添加するものであるが、併用とする化学加工液を化学加工液の溶液槽から順次連続して取り除き(沈殿物を含む)フィルターを通し、これを強制的に攪拌しながら窒素ガスを混入させ、新しい新鮮濃度の高い、化学加工液を連続して供給する事が出来るものでありまた、化学加工液がガラス基板の加工面に対して、実質的に平行に近い液流を生じさせながら、加工液の下方の底部から窒素ガス等の微細気泡を、連続発生させる方法化学加工を併用させる事により、この化学加工装置を設ける事が面粗さが更に均一になり、加工時間の短縮にもつながり、更に平坦性をも向上させることが出来る。
4、[図−20]に示すはガラス基盤用エッチング溶液槽装置の全体を示す一般断面図を示し、エッチング加工する(74)−エッチング溶液槽に、(72)−エッチング溶液を自動に流し挿入させ、(62)−界面化活性剤−A/Bを自動計測を使用した混合液にも、自動注入させるものである。
別に(59)−窒素ガスを用いる、[図−19]に記載するよう(58)−気泡発生装置により、(60)−気泡パイプラインを通り、[図−20]に示すよう(74)−エッチング溶液槽の中にある、(72)−エッチング溶液の加工液下方の底部から窒素ガス等の微細気泡生じさせ、これを繰り返し与え(62)−界面化活性剤−A/Bに融混合を強制的に、(55)−攪拌装置を設けてある両サイドから、(59)−窒素ガスを混入しながら攪拌させることまた、(35)−ガラス基板積層シートに対し、溶液の液流を頂くよう其の面に合せたエッチング効果となるものである。
この場合仕様条件として何時も新しい化学加工液の提供と其の液流を生じさせる事また、窒素ガスによる微細気泡などを含んだものが、新鮮な濃度の良いものを連続して供給する事が出来る。
5、ウエット方式であるガラス基板のエッチング化学加工方法は、化学加工液中にガラス基板を浸漬しこのガラス基板の表面を構成するトリミング・ブランク形状の一部、あるいは全部・両側の一部若しくは全部の板厚に対し、段差深さを設ける加工であり、化学加工液としては、フッ化水素酸を主剤にした、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸から選択する無機酸を含有することで、陰イオン系界面活性剤を含有するものである。
6、エッチング加工及び、洗浄工程、乾燥工程を併せ持つ自動装置には、[図−21]、[図−22]、[図−23]に示すよう本体フレームの骨格を示し、このなかにそれぞれの持つ、各種の装置及び各計器類・測定器・各種の電磁弁・各種のガスようボンベの外付けに配置されているまた、本図[図−23]の示す別途の装置として、エッチング加工したものをある程度、(99)−ストックして置く為の(97)−基板用パッケージケースを1F・2F・3Fへ収納する機能を設けたものである。1. As shown in FIG. 02, which is a die that has been subjected to trimming and punching on a laminated (laminated) sheet, [FIG. 02] shows a laminated capacity to be trimmed and punched. -3] is formed by forming a step of the cutting blade, removing the outer periphery, punching a hole in the middle, and punching and stacking a figure that is a repeat of window punching, etc. FIG.
The composition of the synthetic resin sheet is as follows: (1)-This material-(PV / PVC / PET / YUPO etc. sheet), (2)-PET material etc./sheet, (3)-PET separate etc. sheet (33) -A protective sheet (masking sheet) is provided, and a laminated sheet is assembled by performing rubber roller pressing on the upper surface or both surfaces of the glass substrate. (35)-laminated sheet for glass substrate [FIG. 14].
However, it is [Figure-05], [Figure-10], and [Figure-12] that it is hard to remove some areas during these steps.
2. Consisting of the previous item (1) (35)-For removing, scattering, and preventing re-adhesion (prevention of spatter) consisting of removing impurities, oils, and impurities due to electrification to the glass substrate laminate sheet. (43) -Ultrasonic vibrator and holder, (44) -Glass substrate holding jig [Figure-27], [Figure-28], [Figure-29] -15] and [FIG. 16] are diagrams showing the use of (76a) -the hot water cleaning method in which the ultrasonic vibration is operated while being continuously transported using the automatic transport device set, and the ultrasonic vibration This is a hot air drying method.
Conventionally, in this respect, some of them are processed at once while they are in the storage case, and they are also stacked and stored too much, so that the solution does not reach the whole workpiece to be processed, There was a spot or pattern on the processing surface, and there was a problem later, and there was also a function of ultrasonic vibration in the etching solution tank, but this is for etching the storage case However, the present invention is a partially processed area as shown in (35) -laminated glass substrate laminated sheet (28) -empty window [FIG. 16] (01)- Laminated sheet material-(PV / PVC / PET / YUPO etc. sheet), (02)-PET, etc. with slight adhesion, (03)-PET separate, etc.-The area where the sheet has been left off is this case (28)- Empty window, part of It is a place for the etching process to.
In the present invention, the laminated (laminated) sheet is also a laminated protective sheet that makes use of the adhesive force, and these are sequentially conveyed for each workpiece (43) -This is incorporated in the ultrasonic vibrator and holder, (44)-The glass substrate holding jig is a method provided with an ultrasonic vibration function using this for automatic holding for conveyance. Above all, as part of anti-sputtering measures, these (35) -glass substrate laminated sheets are an etching processing method provided by applying ultrasonic vibration.
3. As a second re-adhesion prevention measure, the (35) glass substrate laminate sheet consisting of the previous item (2) is dissolved during the etching process using a hydrofluoric acid solution or the like which is a chemical surface treatment method. In order to prevent re-deposition of reaction products such as substances and fluorides on the glass substrate surface, and anionic surfactants and amine-based amphoteric surfactants, reaction products such as fluoride are It is a surfactant that serves as a method for injecting additives for preventing re-deposition during etching of the substrate.
Use this to add to prevent re-adhesion to the surface, but remove the chemical processing liquid to be used together sequentially from the chemical processing liquid solution tank (including precipitates). Through this, nitrogen gas is mixed while forcibly stirring, and a new high-concentration chemical processing liquid can be continuously supplied. The chemical processing liquid is applied to the processing surface of the glass substrate. The chemical processing apparatus can be provided by using a chemical processing method that continuously generates fine bubbles such as nitrogen gas from the bottom of the processing liquid while generating a substantially parallel liquid flow. The surface roughness becomes even more uniform, leading to shortening of the processing time and further improving the flatness.
4, [Fig. 20] shows a general cross-sectional view of the entire glass substrate etching solution tank apparatus, and (72) -etching solution is automatically poured and inserted into the etching process (74) -etching solution tank And (62) -surfactant-A / B is also automatically injected into a mixed solution using automatic measurement.
Separately (59) using nitrogen gas (58) as described in [FIG. 19] (60) through the bubble pipeline by the bubble generator (74) as shown in [FIG. 20] In the etching solution tank, (72)-Microbubbles such as nitrogen gas are generated from the bottom of the etching solution under the processing solution, and this is repeatedly given (62)-Interfacial activator-A / B is melt-mixed Forcibly (55)-Stirring from both sides where the stirrer is provided (59)-Nitrogen gas mixed in (35)-Get liquid flow of the solution to the glass substrate laminate sheet The etching effect is adapted to the surface.
In this case, it is always possible to provide a new chemical working fluid as a specification condition and to generate a liquid flow thereof, and it is possible to continuously supply a freshly-concentrated one containing fine bubbles by nitrogen gas. .
5. Etching chemical processing method of glass substrate which is a wet method, a glass substrate is immersed in a chemical processing solution, part of trimming / blank shape constituting the surface of this glass substrate, or all, part or all of both sides The chemical working fluid contains an inorganic acid selected from hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and nitric acid. It contains an ionic surfactant.
6. The automatic device that has both etching process, cleaning process and drying process shows the skeleton of the main body frame as shown in [Fig.-21], [Fig.-22], and [Fig.-23]. Various devices and instruments, measuring instruments, various solenoid valves, and various gas cylinders are externally attached. Etching was performed as a separate device shown in this figure [Fig. 23]. A function is provided for storing a package case for a substrate in (1), 2F, and 3F.
1、エッチング加工する為[図−01]に示す、それぞれ異なるシートより合わせ持つ積層(ラミネート)シート化を設けたる効果として、従来より(35)−ガラス基板積層シートの製作工程後にシヨットブラスト加工をしていたがこれは必要が無くなり、本件の効果としてエッチング加工した、表面の粗さをコントロール制御が出来るもので、各装置に作動する機能が付加している機器等に、コントロール制御が出来る機能であり、これらの入力操作には内外部よりからの、マニアルデーター入力より可能としたものを備えているまた、[図−23]に示すよう図中の(98)−加工エリアー内において、(72)−エッチング溶液等から生じる、薬液に係わる浸蝕する害に対し、出来るだけ避ける為に(100)−無線コントルール中継器機並びに、(76a)−自動搬送装置set等、各種の(80)−昇降リフト−1/2他などによる電気的制御のなかを(78)−中央無線制御センサーより作動させる事からなる電波障害対策を設けている。
従って、裏を反すとエッチング加工は毒物扱いの為に、誰でもが使用出来る[図−23]に示すように安全な箱物の中で加工する自動装置。
2、(28)−空窓を設ける為[図−02]と[図−03]に示すよう、(18)−エッチングハーフカット打ち抜き用金型を用いする事からなる、エッチングする形状に係わるトリミングの自由図形及び、打ち抜きする自由な図形選択が出来る。
3、エッチング加工する為の(28)−空窓を設ける様子を[図−09]に示すよう、(24)−圧着ローラーA加圧作業をした後に、[図−10]に示すよう、一部のエリアーを剥がす事からなり得る(28)−空窓。
4、(35)−ガラス基板積層シートを搬送中また、傷、打痕、破損等による保護対策より、[図−13]に示す(23)−ガラス基板上面に設ける(30)−保護シート並びに、(35)−ガラス基板積層シート。
5、細かな微細部まで洗浄が出来る、また再付着防止の効果、加工時間短縮につながる、超音波振動を満足した、(43)−超音波振動子及びホルダー及び、(44)−ガラス基板保持治具を設けた事[図−27]、[図−28]、[図−29]の構造を示し、これを温水洗浄機能として使用した[図−15]、[図−16]、並びに、温風乾燥機能とした[図−17]、[図−18]である。
6、(35)−ガラス基板積層シートの搬送において、異なる商品よりホールディングが不可の場合が有りそれは、ワークに与える傷・破損・打痕跡・シートへの切れ等が生じるために設けられた、(43)−超音波振動子及びホルダーと、(44)−ガラス基板保持治具を用意し、間接的にワークをホールドする物を用意するために、超音波振動機構を[図−27]、[図−28]、[図−29]の構造を示しエッチング加工より、(35)−ガラス基板積層シートの搬送させるためこれらを設けたものである。
結果として、細かな微細部までエッチング加工が出来る、また再付着防止になる、加工時間短縮よりなる効果が生まれたもので、超音波振動の周波数も、コントロール制御より活用が出来た。
7、界面活性剤より(62)−界面化活性剤−A/Bを示す([図−27]に記載)には、二通りの異なる溶液混合自動容器を設けてある為、それぞれの薬剤混合(各種重量の調合監視制度機能付)比率が外部入力制御可能であり、界面活性剤による混合された液剤を、(74)−エッチング溶液槽に、同時注入が可能である。
また、ウエット方式である為エッチング加工溶液に、注いだエッチング加工効果を視ながら諸条件の変更作業が出来る事から、試液混合のテスト、量産加工が出来る(62)−界面化活性剤−A/Bである。
8、74−エッチング溶液槽の中で行う、各種の使用するエッチング薬液に攪拌させる方法として、(59)−窒素ガスを頂きこれを、(58)−気泡発生装置からなる(55)−攪拌装置の別途の活用方法が、これによって生まれたものである。
9、ガラス基板の品質を変更した加工を行うのには、液剤である(72)−エッチング溶液の混合を変更する事が出来る装置であるため、化学加工液としては、フッ化水素酸を主剤にした、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸から選択する無機酸を含有することで、陰イオン系界面活性剤を含有するものも可能。
10、ガラス基板の量産機能が高くなり、同時に複数枚とするリピート性による順次加工処理される事が次のステップにつながる事である、従来より加工している工程では、要る枚数分だけを取り出していた作業であった。
本件は、決して手で取り出したりする行為には、危険で無理な作業であると、これを認識するものであって、また基板と基板の隙間を少し取り、収納するBOXを用いこれを液槽に浸漬させ、数十分間経過後に、これを取り出し別途の部屋に移動させた上で、洗浄加工を行っていたのが実情であった。
本発明は、洗浄工程及びエッチング工程並びに、乾燥工程において通産した時間では、一分程で、工程が終了するもので、エッチング工程では浸漬させる時間を一枚通しで30分を基に算出すると、本発明は一枚当り/45〜50secondに値するもので量産計画が、立てられる効果です。1. As an effect of providing a laminated sheet having different sheets as shown in [FIG. 01] for etching processing, the conventional (35) glass shatter blasting process is performed after the manufacturing process of the glass substrate laminated sheet. However, this is no longer necessary, and as an effect of this case, it is possible to control and control the roughness of the surface etched, and it is possible to control and control equipment that has functions that operate on each device. These input operations are made possible by manual data input from inside and outside, and as shown in [Fig. 23], (98) in the processing area ( 72)-To avoid as much as possible against the erosion damage related to chemicals caused by etching solution etc. (100)-During wireless control (78)-Radio interference caused by operating from the central radio control sensor (76)-Electric control by various (80)-Lifting lift-1/2 etc. Measures are in place.
Therefore, an automatic device that processes in a safe box as shown in [Fig.
2. (28)-Trimming related to the shape to be etched, which consists of using (18)-Etching half-cut punching die as shown in [Fig.-02] and [Fig.-03] in order to provide an empty window Free graphics and free graphics to be punched can be selected.
3. As shown in [Fig.-09], (28)-A state of providing an empty window for etching, (24) -After pressing the pressure roller A, as shown in [Fig.-10] (28)-An empty window.
4, (35)-during the conveyance of the glass substrate laminate sheet, and from protective measures due to scratches, dents, breakage, etc. (23) shown in [Figure 13]-(30)-provided on the upper surface of the glass substrate- (35) -Laminated glass substrate sheet.
5. It can clean even fine parts, and it has the effect of preventing re-adhesion and shortens the processing time, satisfying ultrasonic vibration. (43)-Ultrasonic vibrator and holder, and (44)-Glass substrate holding [Fig. 27], [Fig. 28], [Fig. 29] shown in FIG. 27, and [Fig. 15], [Fig. 16], and [Fig. [Fig. 17] and [Fig. 18] are the hot air drying functions.
6, (35)-In the conveyance of the glass substrate laminated sheet, there is a case where holding is impossible from different products, which is provided to cause scratches, damage, dent marks, cuts on the sheet, etc. 43)-Ultrasonic vibrator and holder, and (44) -Glass substrate holding jig are prepared, and an ultrasonic vibration mechanism is used in order to prepare an object for holding a workpiece indirectly [Fig. 27], [ FIG. 28] and [FIG. 29] are shown, and these are provided to transport the (35) -glass substrate laminated sheet by etching.
As a result, it was possible to etch even fine details, prevent re-adhesion, and shorten the processing time. The frequency of ultrasonic vibration could also be utilized from control control.
7. From surfactant, (62) -surfactant-A / B is shown (described in [Fig.-27]), because there are two different solution mixing automatic containers, The ratio can be controlled by external input, and the liquid mixture mixed with the surfactant can be simultaneously injected into the (74) -etching solution tank.
In addition, since it is a wet system, various conditions can be changed while looking at the etching processing effect poured into the etching processing solution, so that it is possible to test mixing of test solutions and mass production processing (62) -Surfactant-activator-A / B.
8, 74-As a method of stirring various etching chemicals used in an etching solution tank, (59)-Nitrogen gas was supplied and (58)-consisting of a bubble generating device (55)-stirring device This is the result of a separate method of use.
9. Since it is a device that can change the mixture of (72) -etching solution, which is a liquid agent, to perform processing with the quality of the glass substrate changed, hydrofluoric acid is the main ingredient as the chemical processing liquid It is possible to contain an anionic surfactant by containing an inorganic acid selected from hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid and nitric acid.
10. The mass production function of glass substrates is enhanced, and the sequential processing with repeatability to make multiple sheets at the same time will lead to the next step. It was a work that had been taken out.
This case recognizes that it is dangerous and impossible to take out by hand, and also removes a little space between the board and uses the BOX to store it. The actual situation was that after several tens of minutes, the substrate was taken out and moved to a separate room and washed.
In the present invention, the time passed through the washing process, the etching process, and the drying process is about one minute, and the process is completed.In the etching process, the time for immersion is calculated based on 30 minutes through one sheet. The present invention is equivalent to 45 to 50 seconds per sheet, and is an effect that a mass production plan can be made.
、,
1、本件の発明する内容には、従来より一部から成り立つものも在ったが、それらは何れもコスト高で時間がかかり実施するには程遠いこともあった、大企業ならではの得意な分野であったが本件では、これらを解消したく発明に至ったものである、其の内容と特徴等を次より記載するものである。
2、第1は、本発明はガラス基板の表面加工方法には、物理的な方法と化学的な方法の二つあり物理的な方法には、ショットブラストによる吹き付ける加工、化学的な方法に溶液浸けのフッ化水素酸溶液等を主剤とする、エッチング液による加工である、前者であるショットブラストからの吹き付ける加工等をこの先を検討しなくては成らない課題である。
何故なら、ショットブラストによる吹き付ける加工は、粉末の粉を吹きかける事から生じてくるものが有るそれは加工中、保護シートの捲れが生じてくるものがあり、従来より吹き付けの斑が存在しているまた、加工表面をミクロン単位の加工仕上がりとして将来に渡り、考慮する性質がある。
3、従来では、エッチング液による加工方法として加工する場所また、保護シートのある場所は以前から有ったが、本件はショットブラストによる加工も踏まえた、内容にも対応していることから記載するもので、ガラス基板上面または、両面にローラー圧着を行い、積層シートを組み立てた(35)−ガラス基板積層シートである[図−14]を特長するものであり、其のままでエッチング液による加工処理方法として使用ができる姿勢でありまた、ショットブラストによる加工も対応が出来るものである。
4、本発明では、積層(ラミネート化)されたシートの、粘着力の活用となる積層保護シート、と云えるものでもある、これらをワーク一枚ごとに順次搬送されて来る物に対し(43)−超音波振動子及びホルダーにこれを組み込み、(44)−ガラス基板保持治具は、搬送用の自動ホールディングの為にこれを用いる超音波振動機能を設けた方法とするもので、この効果として何より、スパッタ防止対策の一環として、これらの(35)−ガラス基板積層シートに対し、間接的に超音波振動を加え設けたエッチング加工方法である。
また、(35)ガラス基板積層シートに対し化学表面処理方法であるフッ化水素酸溶液等を用いるエッチング処理の際に、溶解物となった物質、フッ化物等の化学加工液の溶液槽から順次連続して取り除き(沈殿物を含む)フィルターを通し、これを強制的に攪拌しながら窒素ガスを混入させ、新しい新鮮濃度の高い、化学加工液を連続して供給する事が出来るものでありまた、化学加工液がガラス基板の加工面に対して、実質的に平行に近い液流を生じさせながら、加工液の下方の底部から窒素ガス等の微細気泡を、連続発生させる方法化学加工を併用させる事により、この化学加工の装置を設ける事が、面粗さが更に均一になり、加工時間の短縮にもつながり、更に平坦性をも向上させることが出来る。
5、本発明である、[図−20]に示すはガラス基盤用エッチング溶液槽の装置全体を示す一般断面図を示しエッチング加工する(74)−エッチング溶液槽に、(72)−エッチング溶液を自動に流し挿入させ、(62)−界面化活性剤−A/Bの2容器からなる、自動計測を使用した混合液に自動注入させるものであり、別途に(59)−窒素ガスを用いる、[図−19]に記載するよう(58)−気泡発生装置により、(60)−気泡パイプラインを通り、[図−20]に示すよう(74)−エッチング溶液槽の中にある、(72)−エッチング溶液の加工液下方の底部から窒素ガス等の微細気泡生じさせ、これを繰り返し与え(62)−界面化活性剤−A/Bに融混合を強制的に、(55)−攪拌装置を設けてある両サイドから、(59)−窒素ガスを混入しながら攪拌させることまた、(35)−ガラス基板積層シートに対し、溶液の液流を頂くよう其の面に合せたエッチング効果となるものである。
この場合仕様条件として何時も新しい化学加工液の提供と其の液流を生じさせる事また、窒素ガスによる微細気泡等を含んだものが、新鮮な濃度の良いものを連続して供給する事が出来る要因である。
6、エッチング加工及び、洗浄工程、乾燥工程を併せ持つ自動装置には、[図−21]、[図−22]、[図−23]に示すよう本体フレームの骨格を示し、このなかにそれぞれの持つ、各種の装置及び各計器類・測定器・各種の電磁弁・各種のガスようボンベの外付けに配置されているまた、本図[図−23]の示す別途の装置として、エッチング加工したものをある程度の(99)−ストックして置く為の(97)−基板用パッケージケースを1F・2F・3Fへ収納する機能を設け、電気制御の作動には、本件、[図−21]と[図−27]に示すよう、電気制御による作動及び動作と其のナンバーを順次付加し、(96)−中央コントロールBOXより操作する事より始動するもので、次より記載する。
No−01−始動−(スタート)
No−02−移動工程−(第1室−ワーク移動)
No−03−洗浄工程−(102−第2室NO−1温水シャワー洗浄)
No−04−洗浄工程−(103−第2室NO−2温水シャワー流し)
No−05−乾燥工程−(104−第2室NO−1温風シャワー)
No−06−乾燥工程−(105−第2室NO−2温風シャワー)
No−07−移動工程−(ワーク移動)
No−08−エッチング加工工程−(第4室−浸漬下降作動)
No−09−エッチング加工工程−(第5室−浸漬上昇作動)
No−10−移動工程−(ワーク移動)
No−11−洗浄工程−(106−第6室NO−1温水シャワー洗浄)
No−12−洗浄工程−(107−第6室NO−2温水シャワー流し)
No−13−乾燥工程−(108−第6室NO−1温風シャワー)
No−14−乾燥工程−(109−第6室NO−2温風シャワー)
No−15−移動工程−(第6室−ワーク移動)
No−16−移動工程−(80−昇降リフト−1/2)
No−17−移動工程−(99−ストック)
以上が動作基凖となるものであり、このナンバーから広がる電磁弁・バルブ開閉等の作動、計器・測定機器・各装置等からの送受信信号を(96)−中央コントロールBOXから(100)−無線コントルール中継器機を通し、作動及び動作をさせるプログラム制御である。1. Some of the contents invented in this case consisted of some parts, but all of them are expensive and time-consuming and sometimes far from being implemented. However, in the present case, the contents, features, etc., which have led to the invention to solve these problems, are described below.
2. First, the present invention has two methods for processing the surface of a glass substrate: a physical method and a chemical method. This is a problem that requires further study of the former, such as a process of spraying from shot blasting, which is a process using an etchant, which mainly uses a soaking hydrofluoric acid solution.
This is because the shot blasting process may be caused by spraying powder powder, which may cause the protection sheet to sag during processing, and the spraying spots are more present than before. In the future, the processing surface is considered to be processed in micron units.
3. In the past, there was a place to process as a processing method with an etching solution and a place with a protective sheet, but this case is described because it also corresponds to the contents taking into account the processing by shot blasting It is characterized by (35)-a glass substrate laminate sheet (Fig. 14), which is a glass substrate laminate sheet assembled by laminating a roller sheet on the upper surface or both surfaces of the glass substrate. The posture can be used as a processing method, and processing by shot blasting can also be handled.
4. In the present invention, the laminated (laminated) sheets are also referred to as laminated protective sheets that make use of the adhesive force, and these are sequentially conveyed for each workpiece (43 -This is incorporated into the ultrasonic vibrator and holder, (44)-The glass substrate holding jig is a method provided with an ultrasonic vibration function using this for automatic holding for conveyance. Above all, as a part of anti-sputtering measures, these (35) -glass substrate laminate sheets are provided by indirectly applying ultrasonic vibration to the etching processing method.
In addition, (35) in the etching process using a hydrofluoric acid solution or the like which is a chemical surface treatment method for the glass substrate laminate sheet, sequentially from a solution tank of chemical processing liquids such as dissolved substances and fluorides It can be continuously removed and passed through a filter (including precipitates), mixed with nitrogen gas while forcibly stirring it, and continuously supplied with fresh, high-concentration chemical processing liquid. Combined with chemical processing, chemical processing liquid continuously generates fine bubbles such as nitrogen gas from the bottom of the processing liquid while generating a liquid flow substantially parallel to the processing surface of the glass substrate By providing the chemical processing apparatus, the surface roughness becomes more uniform, the processing time can be shortened, and the flatness can be further improved.
5. The present invention, shown in [FIG. 20], shows a general cross-sectional view of the entire glass substrate etching solution tank, and is etched (74) -etching solution tank with (72) -etching solution It is made to flow and insert automatically, and is automatically injected into a mixed solution using automatic measurement, consisting of two containers of (62) -surfactant-A / B, separately (59) -using nitrogen gas, As shown in [Fig. 19] (58)-By the bubble generating device, (60)-Through the bubble pipeline, as shown in [Fig. 20] (74)-In the etching solution tank (72 )-Microbubbles such as nitrogen gas are generated from the bottom of the etching solution under the processing solution and repeatedly given to this (62)-Interfacial activator-A / B is forcibly mixed, (55)-Stirrer From both sides where 9) - it is stirred while mixing nitrogen gas addition, (35) - A glass substrate laminated sheet, in which the etching effect tailored to its surface to receive the liquid flow of the solution.
In this case, it is always possible to provide a new chemical working fluid as a specification condition and to generate a liquid flow thereof, and those containing fine bubbles by nitrogen gas can be continuously supplied with a fresh concentration. It is a factor.
6. The automatic device that has both etching process, cleaning process and drying process shows the skeleton of the main body frame as shown in [Fig.-21], [Fig.-22], and [Fig.-23]. Various devices and instruments, measuring instruments, various solenoid valves, and various gas cylinders are externally attached. Etching was performed as a separate device shown in this figure [Fig. 23]. Something (99) for stocking (97)-A function to store the package case for the board in 1F, 2F, and 3F is provided. As shown in [Fig.-27], the operation and operation by electric control and their numbers are added in sequence, and (96) -the operation is started by operating from the central control BOX, which will be described below.
No-01-Start-(Start)
No-02-Movement process- (First chamber-Work movement)
No-03-Washing process- (102-No. 2 chamber NO-1 hot water shower washing)
No-04-cleaning process- (103-second chamber NO-2 warm water shower sink)
No-05-Drying process- (104-No. 2 room NO-1 warm air shower)
No-06-Drying process- (105-No. 2 room NO-2 warm air shower)
No-07-Movement process-(Work movement)
No-08-Etching process- (4th chamber-dipping operation)
No-09-Etching process- (5th chamber-immersion raising operation)
No-10-Movement process- (Workpiece movement)
No-11-Cleaning step-(106-6th chamber NO-1 hot water shower cleaning)
No-12-cleaning process- (107-sixth chamber NO-2 warm water shower sink)
No-13-Drying process- (108-No.6 room NO-1 warm air shower)
No-14-drying process-(109-6th chamber NO-2 warm air shower)
No-15-Movement process-(6th chamber-Work movement)
No-16-moving process-(80-lift lift -1/2)
No-17-Transfer process- (99-stock)
The above is the basis of operation, and the operation of solenoid valves, valve opening and closing, etc., expanding from this number, and transmission / reception signals from instruments, measuring instruments, devices, etc. (96)-from central control BOX (100)-wireless It is a program control that operates and operates through the control rule repeater.
01−積層シート素材−(PV/PVC/PET/ユポ等シート)
02−微粘着付PET等・シート
03−PETセパレート等・シート
04−A−PETシート巻取り駆動用ローラー
05−B−PETシート巻取り駆動用ローラー
06−A−セパレート・ローラー
07−セパレート・ローラー
08−微粘着剤付
09−粘着剤付
10−A−送りローラー
11−B−送りローラー
12−押えローラーa
13−押えローラーb
14−A−圧着駆動用ローラー
15−B−圧着駆動用ローラー
16−積層シート・長さカット
17−積層シート・ラミネート素材
18−エッチングハーフカット打ち抜き用金型
19−位置決め用切り刃穴
20−トリミング&ブランク抜き切り刃
21−刃付け段差
22−(03)一部のみ剥がし
23−ガラス基板
24−圧着ローラーA加圧
25−斜線部−(03)の一部空間
26−スプリング
27−クッション付位置決めピン
28−空窓
29−廃棄
30−保護シート
31−微粘着剤
32−従事ローラー
33−圧着ローラーB加圧
34−カット
35−ガラス基板積層シート
36−ガス圧力計
37−エアーライン
38−エアー供給
39−バルブ開閉器
40−温水シャワー洗浄液
41−液量・圧力計
42−液流ライン
43−超音波振動子及びホルダー
44−ガラス基板保持治具
45−ノズルホルダー
46−ノズル・広角調整付
47−温風ライン
48−温風圧力計
49−バルブ開閉器
50−エアーノズルホルダー
51−エアーノズル・広角調整付
52−吸水ポンプ
53−非常時ランプ
54−熱ヒーター
55−攪拌装置
56−フィルター
57−気泡出口
58−気泡発生装置
59−窒素ガス
60−気泡パイプライン
61−イオン樹脂交換装置
62−界面化活性剤−A/B
63−イオンガス圧力計
64−窒素圧力計
65−窒素ガスボンベ
66−窒素ガス気泡
67−ドレンa−中和
68−ドレンb−中和
69−フロアー
70−中和槽
71−沈殿槽
72−エッチング溶液
73−耐熱板
74−エッチング溶液槽
75−自動消火器センサー
76a−自動搬送装置set
76b−set
76c−set
76d−set
76e−set
76f−set
77−脱臭装置
78−中央無線制御センサー
79−作業台
80−昇降リフト1/2
81−温風乾燥
82−昇降リフト−3−
83−LPガス
84−給排水ポンプ1/2/3/4
85−昇降リフト−3−
86−ローラー移動
87−aフレーム分割
88−bフレーム分割
89−cフレーム分割
90−dフレーム分割
91−eフレーム分割
92−昇降リフト−4
93−超音波振動発信装置
94−温水器
95−R/コンプレッサー
96−中央コントロールBOX
97−基板用パッケージケース
98−加工エリアー
99−ストック
100−無線コントルール中継器機
101−超純水製造装置
102−第2室NO−1温水シャワー洗浄
103−第2室NO−2温水シャワー流し
104−第2室NO−1温風シャワー
105−第2室NO−2温風シャワー
106−第6室NO−1温水シャワー洗浄
107−第6室NO−2温水シャワー流し
108−第6室NO−1温風シャワー
109−第6室NO−2温風シャワー
110−オゾン装置01-Laminated sheet material-(PV / PVC / PET / YUPO sheet)
02-PET with slight adhesion, sheet 03-PET separate, etc.-sheet 04-A-PET sheet winding drive roller 05-B-PET sheet winding drive roller 06-A-separate roller 07-separate roller 08-With slight adhesive 09-With adhesive 10-A-Feeding roller 11-B-Feeding roller 12-Presser roller a
13-Presser roller b
14-A-crimp driving roller 15-B-crimp driving roller 16-laminated sheet / length cut 17-laminated sheet / laminate material 18-etching half-cut punching die 19-positioning cutting hole 20-trimming & Blank cutting blade 21-Cutting step 22-(03) Partially peeled off 23-Glass substrate 24-Pressure roller A pressurization 25-Shaded area-(03) partial space 26-Spring 27-Positioning with cushion Pin 28-Empty window 29-Disposal 30-Protection sheet 31-Slight adhesive 32-Engagement roller 33-Pressure roller B pressurization 34-Cut 35-Glass substrate laminated sheet 36-Gas pressure gauge 37-Air line 38-Air supply 39-Valve switch 40-Hot water shower cleaning liquid 41-Liquid volume / pressure gauge 42-Liquid flow line 43-Ultrasonic vibrator and holder 4-Glass substrate holding jig 45-Nozzle holder 46-Nozzle with wide angle adjustment 47-Hot air line 48-Hot air pressure gauge 49-Valve switch 50-Air nozzle holder 51-Air nozzle with wide angle adjustment 52-Water absorption Pump 53-Emergency lamp 54-Heater 55-Stirrer 56-Filter 57-Bubble outlet 58-Bubble generator 59-Nitrogen gas 60-Bubble pipeline 61-Ion resin exchange device 62-Interfacial activator-A / B
63-ion gas pressure gauge 64-nitrogen pressure gauge 65-nitrogen gas cylinder 66-nitrogen gas bubble 67-drain a-neutralization 68-drain b-neutralization 69-floor 70-neutralization tank 71-precipitation tank 72-etching solution 73-heat-resistant plate 74-etching solution tank 75-automatic fire extinguisher sensor 76a-automatic transfer device set
76b-set
76c-set
76d-set
76e-set
76f-set
77-deodorizing device 78-central radio control sensor 79-workbench 80-lift lift 1/2
81-Hot air drying 82-Elevating lift-3-
83-LP gas 84-water supply / drainage pump 1/2/3/4
85-lift lift-3-
86-roller movement 87-a frame division 88-b frame division 89-c frame division 90-d frame division 91-e frame division 92-lift lift-4
93-Ultrasonic vibration transmitter 94-Water heater 95-R / Compressor 96-Central control BOX
97-Board package case 98-Processing area 99-Stock 100-Radio control rule repeater 101-Ultrapure water production apparatus 102-Second chamber NO-1 warm water shower cleaning 103-Second chamber NO-2 warm water shower sink 104 -2nd chamber NO-1 warm air shower 105-2nd chamber NO-2 warm air shower 106-6th chamber NO-1 warm water shower wash 107-6th chamber NO-2 warm water shower sink 108-6th chamber NO- 1 warm air shower 109-6th chamber NO-2 warm air shower 110-ozone device
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Applications Claiming Priority (1)
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101840872B (en) * | 2009-03-16 | 2011-12-21 | 华映视讯(吴江)有限公司 | Bubble-free encapsulation method |
| KR101237150B1 (en) | 2010-11-29 | 2013-02-25 | (주)토탈솔루션 | Method and apparatus for manufacturing tempered glass sheet |
| CN103204633A (en) * | 2012-01-12 | 2013-07-17 | 上海北玻玻璃技术工业有限公司 | Etching system having many etching modes |
| CN116177898A (en) * | 2023-03-04 | 2023-05-30 | 杭州富阳永恒涂装有限公司 | Glass bottle etching equipment and etching process thereof |
-
2004
- 2004-03-04 JP JP2004107006A patent/JP2005246943A/en active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101840872B (en) * | 2009-03-16 | 2011-12-21 | 华映视讯(吴江)有限公司 | Bubble-free encapsulation method |
| KR101237150B1 (en) | 2010-11-29 | 2013-02-25 | (주)토탈솔루션 | Method and apparatus for manufacturing tempered glass sheet |
| CN103204633A (en) * | 2012-01-12 | 2013-07-17 | 上海北玻玻璃技术工业有限公司 | Etching system having many etching modes |
| CN116177898A (en) * | 2023-03-04 | 2023-05-30 | 杭州富阳永恒涂装有限公司 | Glass bottle etching equipment and etching process thereof |
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