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JP2005187547A - Resin composition, carrier material with resin, and multilayer printed wiring board - Google Patents

Resin composition, carrier material with resin, and multilayer printed wiring board Download PDF

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JP2005187547A
JP2005187547A JP2003428230A JP2003428230A JP2005187547A JP 2005187547 A JP2005187547 A JP 2005187547A JP 2003428230 A JP2003428230 A JP 2003428230A JP 2003428230 A JP2003428230 A JP 2003428230A JP 2005187547 A JP2005187547 A JP 2005187547A
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JP
Japan
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resin
resin composition
wiring board
carrier material
carboxyl group
Prior art date
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Application number
JP2003428230A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshirou Komiyatani
壽郎 小宮谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

【課題】 本発明は、簡単で、確実にはんだバンプを溶融させて回路基板の層間の電気的接合を行うことが出来る樹脂組成物、樹脂付キャリア材料および多層プリント配線板を提供することである。
【解決手段】 カルボキシル基およびフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物と、平均粒子径が0.1〜1μmである無機フィラーと、カルボキシル基変性の合成ゴムとを含有し、また前記カルボキシル基およびフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物が多価フェノールであり、さらに前記カルボキシル基およびフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物が樹脂固形分の5〜25重量%であり、さらにはエポキシ樹脂を含む樹脂組成物である。
【選択図】 図4
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition, a carrier material with a resin, and a multilayer printed wiring board that can easily and reliably melt solder bumps and perform electrical bonding between circuit board layers. .
SOLUTION: A compound having a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group, an inorganic filler having an average particle size of 0.1 to 1 μm, and a synthetic rubber modified with a carboxyl group, and the carboxyl group and the phenolic hydroxyl group. The compound having a group is a polyhydric phenol, the compound having a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group is 5 to 25% by weight of the resin solid content, and further a resin composition containing an epoxy resin.
[Selection] Figure 4

Description

本発明は、樹脂組成物、樹脂付キャリア材料および多層プリント配線板に関する。   The present invention relates to a resin composition, a carrier material with a resin, and a multilayer printed wiring board.

近年の電子機器の高密度化に伴い、これに用いられるプリント配線板の多層化が進んでおり、フレキシブルプリント配線板も多層構造のものが多用されている。このプリント配線板はフレキシブルプリント配線板とリジッドプリント配線板との複合基板であるリジッドフレックスプリント配線板であり、用途が拡大している。   Along with the recent increase in the density of electronic devices, the multilayered printed wiring board is being used, and a flexible printed wiring board having a multilayer structure is often used. This printed wiring board is a rigid flex printed wiring board that is a composite substrate of a flexible printed wiring board and a rigid printed wiring board, and its application is expanding.

従来の多層フレキシブルプリント配線板やリジッドフレックスプリント配線板の製造方法は、片面回路基板と接着剤層を交互に複数積層した後積層形成し、そこに層間接続用の貫通孔をあけ、該貫通孔に層間接続用スルーホールめっきを施した後、最外層の回路等の加工を行う方法や、片面回路基板の絶縁材側に銅はくを貫通しない穴を明け、金属または合金により導体ポストを形成し、全層表面被覆処理を行い、接着剤層と配線板を加圧し必要回数繰り返し行い多層化する工法が提案されている。(例えば特許文献1)
前者の製造方法では、一般的に用いられる層間の電気的接続方式として、全層を貫く貫通孔を明けそこへ、スルーホールめっきする形で各層間を電気的に接続する手法が用いられる。しかし、この電気的接続方法では、加工方法が簡単ではあるが回路の設計上非常に制約が多くなる。また最も劣る点としては、貫通スルーホールめっきで全層を電気的に接続するため、最外層はスルーホールめっき接続ランドが多くなりまた占める面積割合も増えるため、部品の実装、回路配線に致命的となる回路実装密度を上げることができない。また、今後の市場要求が高まる高密度実装、高密度配線の作製が困難な仕様となる。
A conventional method for producing a multilayer flexible printed wiring board or a rigid flex printed wiring board is obtained by alternately laminating a plurality of single-sided circuit boards and adhesive layers, and then forming through-holes for interlayer connection. After applying through-hole plating for interlayer connection, a method of processing the outermost layer circuit, etc., or making a hole that does not penetrate copper foil on the insulating material side of a single-sided circuit board, and forming a conductor post with metal or alloy Then, a method has been proposed in which the entire surface is coated, the adhesive layer and the wiring board are pressed, and the layers are repeatedly formed as many times as necessary. (For example, Patent Document 1)
In the former manufacturing method, as a generally used electrical connection method between layers, a method of electrically connecting each layer by forming a through hole penetrating all the layers and through-hole plating there is used. However, in this electrical connection method, although the processing method is simple, there are many restrictions on circuit design. Also, the most inferior point is that all layers are electrically connected by through-hole plating, and the outermost layer has more through-hole plating connection lands and the area ratio increases, which is critical for component mounting and circuit wiring. The circuit packaging density can not be increased. In addition, high-density packaging and high-density wiring will be difficult to produce, which will increase market demand in the future.

フレキシブルプリント配線板の製造方法は、安価に製造するために、1枚のシートに複数個配列した多面取りパターンにて作成する。そのため、多層フレキシブルプリント配線板も同様の製造方法を経ることで、安価に製造することができる。しかし、この製造方法では、シート内にパターニング不良があると、パターニング不良部分が積層された多層フレキシブルプリント配線板は不良となり、積層工程におけるプロセス歩留まりが低下する。   In order to manufacture the flexible printed wiring board at a low cost, the flexible printed wiring board is produced by a multi-cavity pattern arranged in a single sheet. Therefore, a multilayer flexible printed wiring board can also be manufactured inexpensively through the same manufacturing method. However, in this manufacturing method, if there is a patterning defect in the sheet, the multilayer flexible printed wiring board in which the patterning defect part is laminated becomes defective, and the process yield in the lamination process is lowered.

また、多層フレキシブルプリント配線板やリジッドフレックスプリント配線板と、多層リジッドプリント配線板との最大の相違点は、柔軟性がある部分の有無である。この柔軟性がある部分の作製では、柔軟性がある部分が積層されないように外層を除くか、或いは積層後外層を除かなければならず、シート積層した場合、シートあたりの配線板取り数が悪くなってしまう。更に各層大きさの異なるパターン設計の場合、1シート当たりの配線板取り数は、各層回路基板取り数の内もっとも少ない回路基板取り数に制限されてしまい、シートあたりの配線板取り数が悪くなってしまう。   Further, the greatest difference between a multilayer flexible printed wiring board or a rigid flex printed wiring board and a multilayer rigid printed wiring board is the presence or absence of a flexible portion. In the production of this flexible part, the outer layer must be removed so that the flexible part is not laminated, or the outer layer must be removed after lamination, and when the sheets are laminated, the number of wiring boards per sheet is reduced. It gets worse. Furthermore, in the case of pattern design with different size of each layer, the number of wiring boards per sheet is limited to the smallest number of circuit boards obtained from each layer circuit board, resulting in poor number of wiring boards per sheet. End up.

後者の製造方法では、導体ポストの受け側基材をレーザー加工にて穴あけし、デスミアを行い、表面被覆開口部を作製する特殊工程がありこれらの技術確立、歩留まりの問題がある。また層数が増えるに従い、製造に時間、コストがかかり、表面被覆の材料コストも高くなる問題がある。
特開平11−54934号公報
In the latter manufacturing method, there is a special process in which the receiving base material of the conductor post is drilled by laser processing, desmearing, and a surface coating opening is produced, and there is a problem of establishment of these techniques and yield. In addition, as the number of layers increases, there are problems in that manufacturing takes time and costs, and the material cost of the surface coating increases.
JP 11-54934 A

本発明は、簡単で、確実にはんだバンプを溶融させて回路基板の層間の電気的接合を行うことが出来る樹脂組成物、樹脂付キャリア材料および多層プリント配線板を提供することである。   An object of the present invention is to provide a resin composition, a carrier material with a resin, and a multilayer printed wiring board that can easily and reliably melt a solder bump and perform electrical bonding between layers of a circuit board.

このような目的は、下記(1)〜(11)に記載の本発明により達成される。
(1)カルボキシル基およびフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物と、
平均粒子径が0.1〜1μmである無機フィラーと、
カルボキシル基変性の合成ゴムとを含有することを特徴とする樹脂組成物。
(2)前記カルボキシル基およびフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物が多価フェノールである上記(1)に記載の樹脂組成物。
(3)前記カルボキシル基およびフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物が樹脂固形分の5〜25重量%である上記(1)または(2)に記載の樹脂組成物。
(4)さらにはエポキシ樹脂を含むものである上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の樹脂組成物。
(5)前記エポキシ樹脂がジシクロペンタジエン骨格を有することを特徴とする上記(4)に記載の樹脂組成物。
(6)さらにはノボラック型フェノール樹脂を含むものである上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の樹脂組成物。
(7)前記ノボラック型フェノール樹脂が含有する2核体が、10%以下で且つフリーフェノールが0.1%以下である上記(6)に記載の樹脂組成物。
(8)前記無機フィラーが球状のシリカである上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の樹脂組成物。
(9)上記(1)ないし(8)のいずれかに記載の樹脂組成物で構成される樹脂層と、キャリア材料とで構成されることを特徴とする樹脂付きキャリア材料。
(10)前記キャリア材料は、金属箔または樹脂フィルムである上記(9)に記載の樹脂付きキャリア材料。
(11)上記(9)または(10)に記載の樹脂付きキャリア材料を内層回路板の片面または両面に重ね合わせて加熱、加圧してなる多層プリント配線板。
Such an object is achieved by the present invention described in the following (1) to (11).
(1) a compound having a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group;
An inorganic filler having an average particle size of 0.1 to 1 μm;
A resin composition comprising a carboxyl group-modified synthetic rubber.
(2) The resin composition according to (1), wherein the compound having a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group is a polyhydric phenol.
(3) The resin composition according to the above (1) or (2), wherein the compound having a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group is 5 to 25% by weight of the resin solid content.
(4) The resin composition according to any one of (1) to (3), which further contains an epoxy resin.
(5) The resin composition as described in (4) above, wherein the epoxy resin has a dicyclopentadiene skeleton.
(6) The resin composition according to any one of the above (1) to (5), which further contains a novolac type phenol resin.
(7) The resin composition according to the above (6), wherein the novolak type phenolic resin contains 10% or less of dinuclear substance and 0.1% or less of free phenol.
(8) The resin composition according to any one of (1) to (7), wherein the inorganic filler is spherical silica.
(9) A carrier material with a resin, comprising a resin layer composed of the resin composition according to any one of (1) to (8) above and a carrier material.
(10) The carrier material with a resin according to (9), wherein the carrier material is a metal foil or a resin film.
(11) A multilayer printed wiring board obtained by superposing and heating and pressurizing the carrier material with resin according to (9) or (10) above on one or both sides of an inner layer circuit board.

本発明により、簡単で、確実にはんだバンプを溶融させて回路基板の層間の電気的接合を行うことが出来る、樹脂組成物、樹脂付キャリア材料および多層プリント配線板を提供することが出来る。   According to the present invention, it is possible to provide a resin composition, a resin-coated carrier material, and a multilayer printed wiring board that can easily and reliably melt solder bumps and perform electrical bonding between circuit board layers.

以下、本発明の樹脂組成物、樹脂付キャリア材料および多層プリント配線板について、詳細に説明する。   Hereinafter, the resin composition, the carrier material with resin, and the multilayer printed wiring board of the present invention will be described in detail.

本発明の樹脂組成物は、はんだバンプを溶融させて層間の電気的接合時に半田表面の酸化膜および被接続面である銅箔表面の酸化膜を還元し強度の大きい良好な接合を可能にする。更に、本発明の樹脂組成物は、はんだ接合後に洗浄などにより除去する必要がなく、そのまま加熱することにより、三次元架橋した樹脂となり密着力に優れた、回路基板および多層フレキシブルプリント配線板の層間材料となる。   The resin composition of the present invention enables good bonding with high strength by melting solder bumps and reducing the oxide film on the solder surface and the oxide film on the copper foil surface, which is the connected surface, during electrical bonding between layers. . Furthermore, the resin composition of the present invention does not need to be removed by washing or the like after soldering, and is heated as it is to form a three-dimensionally cross-linked resin, which has excellent adhesion, and is an interlayer between circuit boards and multilayer flexible printed wiring boards. Become a material.

本発明の樹脂組成物はカルボキシル基およびフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物と、平均粒子径が0.1〜1μmである無機フィラーと、カルボキシル基変性の合成ゴムとを含むことを特徴とするものである。   The resin composition of the present invention comprises a compound having a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group, an inorganic filler having an average particle size of 0.1 to 1 μm, and a synthetic rubber modified with a carboxyl group. is there.

本発明の樹脂組成物は、カルボキシル基およびフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物を用いる。   The resin composition of the present invention uses a compound having a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group.

前記カルボキシル基およびフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物は分子中にカルボキシル基とフェノール性ヒドロキシル基が少なくともそれぞれが1つ以上存在するもので液状、固体は問わない。   The compound having a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group has at least one carboxyl group and at least one phenolic hydroxyl group in the molecule and may be liquid or solid.

限定されるものでは無いが、本発明で用いることが出来る化合物として以下のものが挙げられる。例えば、サリチル酸、シキミ酸、バニリン酸、フェノールフタリン、センダ−クロムAL、1,2−ジカルボキシ−cis−4,5−ジヒドロキシシクロヘキサ−2,6−ジエン等の1種または2種以上の組合せで使用可能である。中でもシキミ酸、フェノールフタリン、1,2−ジカルボキシ−cis−4,5−ジヒドロキシシクロヘキサ−2,6−ジエン等、フェノール性ヒドロキシル基が2個以上あるものがベース樹脂であるエポキシ樹脂との反応に三次元的に取り込まれるため好ましい。   Although it does not limit, the following are mentioned as a compound which can be used by this invention. For example, one or more of salicylic acid, shikimic acid, vanillic acid, phenolphthalin, sender-chromium AL, 1,2-dicarboxy-cis-4,5-dihydroxycyclohexa-2,6-diene, etc. Can be used in combination. Among them, an epoxy resin whose base resin is one having two or more phenolic hydroxyl groups, such as shikimic acid, phenolphthalene, 1,2-dicarboxy-cis-4,5-dihydroxycyclohexa-2,6-diene, and the like This is preferable because it is incorporated three-dimensionally into the reaction.

また、その配合量は配合成分の内、樹脂固形分の5〜25重量%が好ましい。5重量%未満であると銅箔表面の酸化膜を還元し強度の大きい良好な接合が不充分となり、25重量%を超えるとフィルム性能としてのハンドリングが悪くなる。   Further, the blending amount is preferably 5 to 25% by weight of the resin solid content in the blending components. If the amount is less than 5% by weight, the oxide film on the surface of the copper foil is reduced, resulting in insufficient strength and good bonding. If the amount exceeds 25% by weight, handling as film performance is deteriorated.

本発明の樹脂組成物は、エポキシ樹脂を含むことが好ましい。   The resin composition of the present invention preferably contains an epoxy resin.

前記エポキシ樹脂としては特に限定されるものでは無いが、例えば、ビスフェノールA系、ビスフェノールF系、フェノールノボラック系、クレゾールノボラック系、ビフェニル骨格やナフタレン骨格、ジシクロペンタジエン骨格を持つアルキルフェノール系、などのエポキシ樹脂が1種または2種以上で用いられる。中でも低吸水が特徴であるジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂が好ましい。   The epoxy resin is not particularly limited. For example, bisphenol A, bisphenol F, phenol novolac, cresol novolac, biphenyl skeleton, naphthalene skeleton, alkylphenol-based epoxy having dicyclopentadiene skeleton, etc. Resin is used by 1 type (s) or 2 or more types. Among them, an epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton characterized by low water absorption is preferable.

本発明の樹脂組成物は、ノボラック型フェノール樹脂を含むことが好ましい。   The resin composition of the present invention preferably contains a novolac type phenol resin.

前記ノボラック型フェノール樹脂は、好ましくは含有する2核体が10%以下で且つフリーフェノールが0.1%以下である。これによりはんだ溶融による接合プロセスにおける高温時でも発泡を抑えられる。   The novolac type phenol resin preferably contains 10% or less of dinuclear substance and 0.1% or less of free phenol. Thereby, foaming can be suppressed even at a high temperature in the joining process by solder melting.

本発明の樹脂組成物は、平均粒子径が0.1〜1μmである無機フィラーを用いる。   The resin composition of this invention uses the inorganic filler whose average particle diameter is 0.1-1 micrometer.

前記無機フィラーは平均粒子径が0.1〜1μmで球状のシリカが好ましい。平均粒子径が0.1μm未満では樹脂のチキソ性が大きくなりはんだバンプの接合時にはんだフィレットが形成されにくい。また、積層時においてはんだバンプが樹脂を押しのけてランドと接触させるが本発明の無機フィラー平均粒子径では樹脂と共にはんだバンプ下から排除されるが、1μmを超えると排除されにくくなりはんだバンプとランドとの間に噛み込んで接続信頼性を低下させてしまう恐れがある。   The inorganic filler is preferably spherical silica having an average particle size of 0.1 to 1 μm. If the average particle diameter is less than 0.1 μm, the thixotropy of the resin is increased, and it is difficult to form a solder fillet when solder bumps are joined. Also, during lamination, the solder bumps push the resin and come into contact with the lands, but the inorganic filler average particle size of the present invention is excluded from the bottom of the solder bumps together with the resin. There is a risk that the connection reliability will be reduced by biting between the two.

本発明の樹脂組成物は、カルボキシル基変性の合成ゴムを用いる。   The resin composition of the present invention uses a carboxyl group-modified synthetic rubber.

前記カルボキシル基変性の合成ゴムの種類は特に限定されないが市販されているカルボキシル基変性NBRなどが一例として挙げられる。カルボキシル基が存在しないと本接着剤の被着体となるポリイミドフィルム表面との密着力が劣り吸湿半田耐熱性に合格しないことがある。   The type of the carboxyl group-modified synthetic rubber is not particularly limited, and examples thereof include commercially available carboxyl group-modified NBR. If no carboxyl group is present, the adhesive strength with the polyimide film surface to be adhered to the adhesive may be poor and may not pass moisture-absorbing solder heat resistance.

次に、樹脂付キャリア材料について説明する。   Next, the carrier material with resin will be described.

本発明の樹脂付キャリア材料は、前記樹脂組成物で構成される層と、キャリア材料とで構成される樹脂付キャリア材料である。   The carrier material with a resin of the present invention is a carrier material with a resin composed of a layer composed of the resin composition and a carrier material.

前記キャリア材料としては、特に限定されないが銅または銅系合金、アルミまたはアルミ系合金等で構成される金属箔、フッ素系樹脂、ポリイミド樹脂、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂等で構成される樹脂フィルム等が挙げられる。   The carrier material is not particularly limited, and is composed of a metal foil made of copper or a copper alloy, aluminum or an aluminum alloy, a fluorine resin, a polyimide resin, a polybutylene terephthalate, a polyester resin such as polyethylene terephthalate, or the like. Resin film and the like.

前記樹脂付キャリア材料は、特に限定されないが、通常ワニスをキャリア材料に塗工する方法で行われる。 ワニスを調製するのに用いられる溶媒は、樹脂組成物に対して良好な溶解性を示すことが望ましいが、悪影響を及ばさない範囲で貧溶媒を使用しても構わない。良溶媒としては、DMF、MEK、シクロヘキサノン等が挙げられる。   The carrier material with resin is not particularly limited, but is usually performed by a method of applying varnish to the carrier material. The solvent used for preparing the varnish desirably exhibits good solubility in the resin composition, but a poor solvent may be used as long as it does not adversely affect the varnish. Examples of the good solvent include DMF, MEK, and cyclohexanone.

また、ワニスを調製する場合、樹脂組成物の固形分は、特に限定されないが20〜80重量%が好ましく、特に30〜60重量%が好ましい。   Moreover, when preparing a varnish, although solid content of a resin composition is not specifically limited, 20 to 80 weight% is preferable and 30 to 60 weight% is especially preferable.

また、前述のワニスを、キャリア材料に塗工し80〜200℃で乾燥することにより樹脂付キャリア材料を得ることが出来る。   Moreover, the carrier material with a resin can be obtained by applying the above-mentioned varnish to a carrier material and drying at 80 to 200 ° C.

塗工、乾燥後の樹脂厚さは、特に限定はされないが、はんだバンプの高さの±20%以内にあわせるのが好ましい。−20%未満であると成形性が難しくはんだバンプ周辺にボイドを発生しやすくなり、+20%を越えるとはんだバンプが被接合面に届かなくなることが有る。   The resin thickness after coating and drying is not particularly limited, but is preferably adjusted to within ± 20% of the height of the solder bump. If it is less than -20%, formability is difficult and voids are likely to be generated around the solder bump. If it exceeds + 20%, the solder bump may not reach the surface to be joined.

次に、多層プリント配線板について説明する。   Next, a multilayer printed wiring board will be described.

本発明の多層プリント配線板は、上記樹脂付キャリア材料の樹脂層をはんだバンプ付き内層回路基板の片面又は両面に重ね合わせ、はんだバンプを溶融させて層間の電気的接合時にはんだ表面の酸化膜および被接続面である銅箔表面の酸化膜を還元し強度の大きい良好な接合からなる多層プリント配線板である。更に、本発明の樹脂組成物は、はんだ接合後に洗浄などにより除去する必要がなく、そのまま加熱することにより、三次元架橋した樹脂となり密着力に優れた、多層プリント配線板である。   The multilayer printed wiring board of the present invention has a resin layer of the above-mentioned carrier material with resin superimposed on one or both sides of an inner circuit board with solder bumps, melts the solder bumps, It is a multilayer printed wiring board formed by reducing the oxide film on the surface of the copper foil, which is the connected surface, and having good strength and good bonding. Furthermore, the resin composition of the present invention is a multilayer printed wiring board that does not need to be removed by washing or the like after solder bonding, and is heated as it is to become a three-dimensionally crosslinked resin and has excellent adhesion.

加熱する温度は、特に限定されないが、接着剤が軟化する第1の温度として100〜160℃が好ましく、その後はんだを溶融させる第2の温度として220〜260℃が好ましい。前記接着剤の三次元架橋は、はんだを溶融させるとき同時に行う、また必要によりアフターベーキングによってより密着力を向上させることもできる。その際の温度は特に限定されないが、160〜200℃が好ましい。   Although the temperature to heat is not specifically limited, 100-160 degreeC is preferable as 1st temperature which an adhesive agent softens, and 220-260 degreeC is preferable as 2nd temperature after which a solder is fuse | melted after that. The three-dimensional crosslinking of the adhesive is performed at the same time as melting the solder, and if necessary, the adhesion can be further improved by after-baking. Although the temperature in that case is not specifically limited, 160-200 degreeC is preferable.

加圧する圧力は、特に限定されないが、前記第一の温度では、0.01〜1MPaが好ましく、0.1〜0.5MPaがより好ましい。前記第2の温度では、0.001〜0.01MPaが好ましい。   Although the pressure to pressurize is not particularly limited, 0.01 to 1 MPa is preferable and 0.1 to 0.5 MPa is more preferable at the first temperature. The second temperature is preferably 0.001 to 0.01 MPa.

以下、実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれによって何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

本発明の樹脂組成物、樹脂付キャリア材料および多層プリント配線板の有効性を確認する為に以下に示す多層配線板を作成し次の評価を行った。結果は表1に示す。
・はんだ接合部:はんだ接合部の断面を、顕微鏡を用いて目視で観察した。
・吸湿リフロー:30℃/60%/168時間処理後、最高温度260℃のはんだリフロ ーを3回通し剥離やデラミが無いものを合格とした。
・温度サイクル試験:−65℃/30分⇔125℃/30分、1000サイクル処理前後 の導通抵抗を確認し、変化率が10%以下の場合を合格とした。
・絶縁抵抗:30℃/85%/DC50V/240時間処理後の絶縁抵抗が108Ω以上 の場合を合格とした。
(多層フレキシブル配線板の作製)
1.外層片面配線板の作製
厚み25μmのポリイミドフィルムからなる支持基材102上に厚み12μmの銅箔101が付いたフレキシブル銅張り積層板110(宇部興産製 ユピセルN)を、支持基材102側の面から、UVレーザーにより100μm径の支持基材開口部103を形成し、過マンガン酸カリウム水溶液によるデスミアを施す。この支持基材開口部103内に電解銅メッキを施し銅箔のある反対面側の絶縁基材表面より高さ15μmとした後、はんだメッキを厚み15μmになるように施し、導体ポスト1045を形成する。次に、片面積層板110の銅箔101をエッチングし、配線パターン106を形成し、液状レジスト(日立化成製 SR9000W)を印刷し、表面被膜107を施す。次いで、本発明の厚み25μmのシート状還元機能付き樹脂付キャリア材料(自社開発品 DBF)111を真空ラミネーターにてラミネートすることにより形成した。最後に、積層部のサイズに外形加工し、外層片面配線板120を得た。
In order to confirm the effectiveness of the resin composition of the present invention, the carrier material with resin, and the multilayer printed wiring board, the following multilayer wiring board was prepared and evaluated as follows. The results are shown in Table 1.
Solder joint: A cross section of the solder joint was visually observed using a microscope.
-Moisture absorption reflow: After treatment at 30 ° C / 60% / 168 hours, a solder reflow with a maximum temperature of 260 ° C was passed 3 times, and the product without peeling or delamination was regarded as acceptable.
-Temperature cycle test: -65 ° C / 30 minutes 125 ° C / 30 minutes, conduction resistance before and after 1000 cycle treatment was confirmed, and the rate of change was 10% or less.
Insulation resistance: The case where the insulation resistance after treatment at 30 ° C./85%/DC50V/240 hours was 10 8 Ω or more was regarded as acceptable.
(Production of multilayer flexible wiring board)
1. Production of outer-layer single-sided wiring board A flexible copper-clad laminate 110 (Upicel N manufactured by Ube Industries) with a 12 μm-thick copper foil 101 on a support substrate 102 made of a polyimide film with a thickness of 25 μm Then, a supporting substrate opening 103 having a diameter of 100 μm is formed by UV laser, and desmearing with an aqueous potassium permanganate solution is performed. Electrolytic copper plating is performed in the support base material opening 103 so as to have a height of 15 μm from the surface of the insulating base on the opposite side of the copper foil, and then solder plating is applied to a thickness of 15 μm to form a conductor post 1045. To do. Next, the copper foil 101 of the single area layer plate 110 is etched to form a wiring pattern 106, a liquid resist (SR9000W manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is printed, and a surface film 107 is applied. Subsequently, it formed by laminating | stacking the 25-micrometer-thick sheet | seat carrier material with a resin with a reduction | restoration function (in-house developed product DBF) 111 of this invention with a vacuum laminator. Finally, an outer shape was processed to the size of the laminated portion to obtain an outer layer single-sided wiring board 120.

2.内層フレキシブル配線板の作製
銅箔201が12μm、支持基材202がポリイミドフィルム厚み25μmの2層両面板210(三井化学製 NEX23FE(25T))を、ドリルによる穴明け後、ダイレクトメッキし、電解銅メッキによりスルーホール203を形成し表裏の電気的導通を形成した後、エッチングにより、配線パターン及び導体2層ポスト105を受けることができるパッド204を形成する。その後、フレキシブル部330に相当する部分の配線パターン205に、厚み12.5μmのポリイミド(鐘淵化学工業製 アピカルNPI)に厚み25μmの熱硬化性接着剤(自社開発材料)により表面被覆206を形成した。最後に、外形サイズに裁断し、内層フレキシブル配線板220を得た。
3.多層フレキシブル配線板の作製
外層片面配線板120を内層フレキシブル配線板220に、位置合わせ用のピンガイド付き治具を用いてレイアップした。その後、250℃のスポットヒーターにて部分的に位置決めのため仮接着した。次いで、真空式プレスにて100℃、0.1MPa、60秒で積層し、導体ポストを導体パッドに接触するまで成形することと、導体パッドがある内層フレキシブル配線板220の回路を成形埋め込みした。次いで、油圧式プレスで260℃、0.005MPaで60秒間プレスし、本発明の厚み25μmのシート状還元機能付き樹脂付キャリア材料(自社開発品 DBF)111を介して、導体ポスト1045が、内層フレキシブル配線板220のパッド204と半田熔融接合しはんだ接合及びはんだフィレットを形成し、層間を接合した。引き続き、接着剤を硬化させるために温度を180℃、60分間加熱し、層間を積層した多層フレキシブル配線板310を得た。
2. Production of Inner Layer Flexible Wiring Board Two-layer double-sided board 210 (Mitsui Chemicals NEX23FE (25T)) having a copper foil 201 of 12 μm and a supporting base material 202 of polyimide film thickness of 25 μm is directly plated after drilling and electrolytic copper After the through hole 203 is formed by plating and electrical conduction between the front and back sides is formed, a pad 204 that can receive the wiring pattern and the conductor two-layer post 105 is formed by etching. After that, a surface coating 206 is formed on the wiring pattern 205 corresponding to the flexible portion 330 by using a thermosetting adhesive (in-house developed material) having a thickness of 25 μm on a polyimide having a thickness of 12.5 μm (Apical NPI manufactured by Kaneka Chemical Industry). did. Finally, it cut | judged to the external size and the inner-layer flexible wiring board 220 was obtained.
3. Production of Multilayer Flexible Wiring Board The outer-layer single-sided wiring board 120 was laid up on the inner-layer flexible wiring board 220 using a jig with a pin guide for alignment. Thereafter, it was temporarily bonded for positioning with a spot heater at 250 ° C. Next, lamination was performed at 100 ° C. and 0.1 MPa for 60 seconds using a vacuum press, and the conductor post was molded until it contacted the conductor pad, and the circuit of the inner-layer flexible wiring board 220 with the conductor pad was molded and embedded. Next, the conductor post 1045 is pressed on the inner layer through a hydraulic carrier press at 260 ° C. and 0.005 MPa for 60 seconds, and through a 25 μm thick sheet-like carrier material with a reducing function (in-house developed DBF) 111 of the present invention. Solder fusion bonding was performed with the pad 204 of the flexible wiring board 220 to form solder bonding and a solder fillet, and the layers were bonded. Subsequently, in order to cure the adhesive, the temperature was heated at 180 ° C. for 60 minutes to obtain a multilayer flexible wiring board 310 in which the layers were laminated.

層間接合部の断面写真を図1に示す。   A cross-sectional photograph of the interlayer junction is shown in FIG.

(実施例1)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業(株)製 エピクロン840−S)を40重量部、ノボラック型フェノール樹脂(住友ベークライト(株)製 PR−53647)を20重量部、カルボキシル基変性の合成ゴム(日本ゼオン(株)製 ニッポール1072J)を20重量部、サリチル酸(関東化学(株)製 試薬)を20重量部、平均粒子径0.5μmの球状シリカ((株)アドマテックス製 SE2050)30重両部、アセトン100重量部を測り取り混合攪拌して溶解しワニスを得た。
(Example 1)
40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (Epiclon 840-S manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), 20 parts by weight of novolac type phenolic resin (PR-53647 manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.), carboxyl group-modified synthesis 20 parts by weight of rubber (Nippol 1072J manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), 20 parts by weight of salicylic acid (reagent manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.), and spherical silica having an average particle size of 0.5 μm (SE2050 manufactured by Admatechs Co., Ltd.) 30 Both heavy parts and 100 parts by weight of acetone were measured, mixed, stirred and dissolved to obtain a varnish.

前記離型可能な基材として静電防止処理をした厚み25μmのPETフィルムにコンマナイフ方式のコーターにて乾燥後の厚みが25μmとなるように塗工、乾燥してシート状還元機能付き樹脂付キャリア材料(DBF)を作成した。これを先述したの通りに接着剤層として使用し多層フレキシブル配線板を作成した。次いで上述した評価を行った。   As a releasable base material, an antistatic PET film having a thickness of 25 μm is coated with a comma knife coater so that the thickness after drying is 25 μm, and dried, with a resin having a sheet-like reducing function Carrier material (DBF) was prepared. This was used as an adhesive layer as described above to prepare a multilayer flexible wiring board. Subsequently, the above-described evaluation was performed.

(実施例2)
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業(株)製 エピクロン830−S)を30重量部、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業(株)製 HP−7200)30重量部、ノボラック型フェノール樹脂(住友ベークライト(株)製 NMD−101)を25重量部、カルボキシル基変性の合成ゴム(日本ゼオン(株)製 ニッポール1072J)を10重量部、シキミ酸(関東化学(株)製 試薬)を5重量部、アセトン100重量部を測り取り混合攪拌して溶解しワニスを得た。それを実施例1と同様に接着剤厚みが25μmとなるようにコンマコーターにて塗工乾燥し、次いで多層フレキシブル配線板を作成、評価を行った。
(Example 2)
30 parts by weight of bisphenol F-type epoxy resin (Epicron 830-S, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), 30 parts by weight of dicyclopentadiene type epoxy resin (HP-7200, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), novolak Type phenolic resin (NMD-101 manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.), 25 parts by weight, synthetic rubber modified with carboxyl group (Nippol 1072J manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), Shikimic acid (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) 5 parts by weight and 100 parts by weight of acetone were measured, mixed, stirred and dissolved to obtain a varnish. It was coated and dried with a comma coater so that the adhesive thickness was 25 μm as in Example 1, and then a multilayer flexible wiring board was prepared and evaluated.

(実施例3)
実施例1のサリチル酸をフェノールフタリン(関東化学(株)製 試薬)とした以外は同様にして多層フレキシブル配線板を作成した。次いで先述した評価を行った。
(Example 3)
A multilayer flexible wiring board was prepared in the same manner except that salicylic acid of Example 1 was changed to phenolphthaline (a reagent manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.). Next, the evaluation described above was performed.

(実施例4)
実施例1の無機フィラーを平均粒子径1μmのアルミナとした以外は同様にして多層フレキシブル配線板を作成した。次いで先述した評価を行った。
Example 4
A multilayer flexible wiring board was prepared in the same manner except that the inorganic filler of Example 1 was alumina having an average particle diameter of 1 μm. Next, the evaluation described above was performed.

(比較例1)
実施例1のフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物として配合したサリチル酸を全く配合しない他は実施例1と同様にして多層フレキシブル配線板を作成、先述した評価を行った。
(Comparative Example 1)
A multilayer flexible wiring board was prepared in the same manner as in Example 1 except that no salicylic acid was added as a compound having a phenolic hydroxyl group in Example 1, and the above-described evaluation was performed.

(比較例2)
実施例1のカルボキシル基変性の合成ゴムをカルボキシル基を含有しない同類のもの(日本ゼオン(株)製 ニッポールDN1201)とした以外は同様にして多層フレキシブル配線板を作成、先述した評価を行った。
(Comparative Example 2)
A multilayer flexible wiring board was prepared in the same manner as described above except that the carboxyl group-modified synthetic rubber of Example 1 was a similar one containing no carboxyl group (Nippol DN1201 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), and the evaluation described above was performed.

(比較例3)
実施例1の無機フィラーを平均粒子径5μmのシリカとした以外は同様にして多層フレキシブル配線板を作成した。次いで先述した評価を行った。
(Comparative Example 3)
A multilayer flexible wiring board was prepared in the same manner except that the inorganic filler of Example 1 was silica having an average particle diameter of 5 μm. Next, the evaluation described above was performed.

Figure 2005187547
Figure 2005187547

・はんだ接合部:はんだ接合部の断面を顕微鏡を用いて目視で観察した。
・シート状還元機能付き層間接着剤で接合した各層間の厚みを断面観察により測定し、基 板中央部と端部4箇所で比較し、その差が20%以内であれば合格とした。
・吸湿リフロー:30℃/60%/168時間処理後、最高温度260℃のはんだリフロ ーを3回通し剥離やデラミが無いものを合格とした。
・温度サイクル試験:−65℃/30分⇔125℃/30分、1000サイクル処理前後 の導通抵抗を確認し、変化率が10%以下の場合を合格とした。
・絶縁抵抗:30℃/85%/DC50V/240時間処理後の絶縁抵抗が108Ω以上 の場合を合格とした。
Solder joint: A cross section of the solder joint was visually observed using a microscope.
-The thickness of each layer joined with the interlayer adhesive with a sheet-like reducing function was measured by cross-sectional observation, compared at the center of the substrate and the four locations at the end, and if the difference was within 20%, it was considered acceptable.
-Moisture absorption reflow: After treatment at 30 ° C / 60% / 168 hours, a solder reflow with a maximum temperature of 260 ° C was passed 3 times, and the product without peeling or delamination was regarded as acceptable.
-Temperature cycle test: -65 ° C / 30 minutes 125 ° C / 30 minutes, conduction resistance before and after 1000 cycle treatment was confirmed, and the rate of change was 10% or less.
Insulation resistance: The case where the insulation resistance after treatment at 30 ° C./85%/DC50V/240 hours was 10 8 Ω or more was regarded as acceptable.

パッドオンビア構造を取る事が出来る為、より高密度実装に対応し、小さく薄い多層配線板を得る事が出来る。これにより、高機能、小型化が求められるモバイル機器、例えば携帯電話、デジタルビデオカメラ、デジタルカメラ、小型ノートパソコンなどに利用される。   Since a pad-on-via structure can be taken, it is possible to obtain a small and thin multilayer wiring board corresponding to higher density mounting. As a result, it is used in mobile devices that require high functionality and downsizing, such as mobile phones, digital video cameras, digital cameras, and small notebook personal computers.

本発明の接着剤を使用し接合したはんだバンプによる接合部。The joint part by the solder bump joined using the adhesive agent of this invention. 本発明の接着剤層の有効性を確認する為の多層配線板作成用外層片面配線板とその製造方法を説明するための断面図。Sectional drawing for demonstrating the outer layer single-sided wiring board for multilayer wiring board preparation for confirming the effectiveness of the adhesive bond layer of this invention, and its manufacturing method. 本発明の接着剤層の有効性を確認する為の多層配線板作成用の内層用フレキシブル配線板とその製造方法を説明するための断面図。Sectional drawing for demonstrating the flexible wiring board for inner layers for multilayer wiring board preparation for confirming the effectiveness of the adhesive bond layer of this invention, and its manufacturing method. 本発明の接着剤層の有効性を確認する為の4層構成の多層フレキシブル配線板とその製造方法を説明するための断面図。Sectional drawing for demonstrating the multilayer flexible wiring board of the 4 layer structure for confirming the effectiveness of the adhesive bond layer of this invention, and its manufacturing method.

符号の説明Explanation of symbols

101、201:銅箔
102、202:支持基材
106、205:配線パターン
107、206:表面被覆
108:表面被覆開口部
103:支持基材開口部
105:金属被覆層
104:銅ポスト
1045:導体ポスト
110:片面積層板
111:接着剤層
120:外層片面配線板
203:スルーホール
204:パッド
210:両面板
220:内層フレキシブル配線板
310:多層フレキシブル配線板(4層)
320:多層部
330:フレキシブル部
101, 201: Copper foil 102, 202: Support base material 106, 205: Wiring pattern 107, 206: Surface coating 108: Surface coating opening 103: Support base material opening 105: Metal coating layer 104: Copper post 1045: Conductor Post 110: Single area layer board 111: Adhesive layer 120: Outer layer single-sided wiring board 203: Through hole 204: Pad 210: Double-sided board 220: Inner layer flexible wiring board 310: Multilayer flexible wiring board (four layers)
320: Multilayer part 330: Flexible part

Claims (11)

カルボキシル基およびフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物と、
平均粒子径が0.1〜1μmである無機フィラーと、
カルボキシル基変性の合成ゴムとを含有することを特徴とする樹脂組成物。
A compound having a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group;
An inorganic filler having an average particle size of 0.1 to 1 μm;
A resin composition comprising a carboxyl group-modified synthetic rubber.
前記カルボキシル基およびフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物が多価フェノールである請求項1に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1, wherein the compound having a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group is a polyhydric phenol. 前記カルボキシル基およびフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物が樹脂固形分の5〜25重量%である請求項1または2に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1 or 2, wherein the compound having a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group is 5 to 25% by weight of the resin solid content. さらにはエポキシ樹脂を含むものである請求項1ないし3のいずれかに記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 3, further comprising an epoxy resin. 前記エポキシ樹脂がジシクロペンタジエン骨格を有することを特徴とする請求項4に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 4, wherein the epoxy resin has a dicyclopentadiene skeleton. さらにはノボラック型フェノール樹脂を含むものである請求項1ないし5のいずれかに記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 5, further comprising a novolac type phenol resin. 前記ノボラック型フェノール樹脂が含有する2核体が、10%以下で且つフリーフェノールが0.1%以下である請求項6に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 6, wherein the novolac type phenolic resin contains 10% or less of dinuclear substance and 0.1% or less of free phenol. 前記無機フィラーが球状のシリカである請求項1ないし7のいずれかに記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the inorganic filler is spherical silica. 請求項1ないし8のいずれかに記載の樹脂組成物で構成される樹脂層と、キャリア材料とで構成されることを特徴とする樹脂付きキャリア材料。 A carrier material with a resin, comprising a resin layer comprising the resin composition according to claim 1 and a carrier material. 前記キャリア材料は、金属箔または樹脂フィルムである請求項9に記載の樹脂付きキャリア材料。 The carrier material with a resin according to claim 9, wherein the carrier material is a metal foil or a resin film. 請求項9または10に記載の樹脂付きキャリア材料を内層回路板の片面または両面に重ね合わせて加熱、加圧してなる多層プリント配線板。 A multilayer printed wiring board obtained by superposing the carrier material with resin according to claim 9 or 10 on one side or both sides of an inner layer circuit board and heating and pressing.
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