JP2005156855A - 多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路 - Google Patents
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Abstract
【課題】 高密度集積化と熱干渉の影響排除という二つの課題を同時に解決することができる、多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路を提供する。
【解決手段】マッハツェンダ干渉計型光回路を1チップ上に複数有する、多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路における各チャンネルのマッハツェンダ干渉計型光回路間に溝7と共に断熱壁8を設ける。これにより、隣接するマッハツェンダ干渉計型光回路から放射される熱を効果的に抑え、熱干渉を抑制することができる。
【選択図】 図1
【解決手段】マッハツェンダ干渉計型光回路を1チップ上に複数有する、多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路における各チャンネルのマッハツェンダ干渉計型光回路間に溝7と共に断熱壁8を設ける。これにより、隣接するマッハツェンダ干渉計型光回路から放射される熱を効果的に抑え、熱干渉を抑制することができる。
【選択図】 図1
Description
本願発明は、多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路に関し、特に、熱干渉による影響を抑制する構成を備えることにより、従来技術に比べて小型化、高集積化を実現することができる多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路に関する。
WDM(Wavelength Division Multiplexing)通信システムは、一般に、各々異なる波長を有する、複数のチャンネルの光信号をAWG(Arrayed Waveguide Grating)で多重化し、伝送を行うものである。
現在の波長多重通信システムでは伝送容量の増大に伴って、通信に必要なチャンネル数が飛躍的に増大している。それに伴い、伝送後の全てのチャンネルの受信感度を維持するべく、各チャンネルの光信号のレベルを各チャンネル毎にVOA(Variable Optical Attenuator)を用いて精確に制御する必要がある.こうした制御を行うことができ、かつシステムの低価格化、小型化を実現するには、制御性の良い光素子を高密度に集積化することが必須となる。かかる目的を実現するVOAとして、PLC(Planar Lightwave Circuit)技術を用いて作製した多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路がある。
マッハツェンダ干渉計型光回路とは、光導波路を2本のアーム導波路の一端と接続するようY字型に分岐し、その2本のアーム導波路の他端が1本の導波路とY字型に接続するような構成となっており、2本のアーム導波路のうち少なくとも1本には、温度調節のためのヒーター等が備えられている。このヒータ等により光の位相を変化させて、適切に光の減衰を行うことができる回路である。
まず、マッハツェンダ干渉計型光回路における、熱光学位相シフタの動作原理について述べる。外部電源によりヒータに電力が供給されると、ヒータが発熱し、光導波路の温度を上昇させる。すると、温度の上昇に伴って光導波路の屈折率が変化し、光導波路の実効長が変化する。この実効長の変化により、入力端から光導波路に入射された光の出力端における位相が変化する。
この熱光学位相シフタをマッハツェンダ干渉計の片側アーム導波路に装荷し、2つのアーム導波路を通った光の位相差を0から伝播させる光の半波長分(π)の間で任意に調整することで、マッハツェンダ干渉計を透過してくる光の強度を任意に減衰させることができる可変光減衰器となる。
このようなマッハツェンダ干渉計を1チップ上に複数個並列する、多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路を構成することによって、入力した光信号を、各チャンネル毎に、適切に減衰を行うことができる。
ただし、隣接するマッハツェンダ干渉計などの影響により、熱光学位相シフタを装荷していない方の導波路の温度が上昇することがある。こうした熱光学位相シフタの制御性の悪化を防ぐことが必須であり、また、所望の減衰量を得るための消費電力を低減することが求められている。
しかし、図9に示すように、こうしたPLCを用いた多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路を作製したとしても、パターンの存在しない余白部分が多くなり、一度の作製プロセスによる素子収量が少量で、素子が高価になるという問題点がある。
さらにアーム導波路に熱光学位相シフタを装荷したマッハツェンダ干渉計型光回路においては、隣接チャンネルとの熱干渉が大きく、チャンネル各個の制御性が劣化してしまうという問題もある。
上記における問題点のうち、特に後者の熱干渉の問題を解決する方法として光減衰部の位置を基板の伝播方向と平行にずらすような配置が考えられる(例えば、特許文献1参照)。しかし、上記の特許文献1に記載した方法は収量が少なくなってしまい、素子サイズはチャンネル数増加に対して小型化できるどころか逆に大型化を招くことが予測され、光素子を高密度に集積化する、という目的を果たすことができるものではない。
また、通常の多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光減衰器では、図9に示すように、干渉計の片側アーム導波路に設けられた熱光学位相シフタでの発熱が隣接する干渉計に影響を及ぼし(熱干渉、または熱クロストーク)、チャンネル各個の制御性悪化や出力光強度の変動を招くという問題が生じる。例えば電圧0Vの時に損失が最小となるノーマリーオン型光減衰器では、10[dB]減衰動作時に隣接チャンネルから5%程度の熱干渉を受けただけで、つまり、隣接チャンネルのヒータから導波路に流入する熱が、そのヒータが発する熱量の5%程度であっただけで、計算上損失が±2[dB]程度変動してしまう。偏光による変動が0.5[dB]以下であるのに比較して、熱干渉による影響は非常に大きな変動量であるため、減衰器として適切に動作させるには、これを防ぐ必要がある。
熱干渉を防ぐため第1に考えられる方法は、熱の干渉量は距離に反比例して小さくなることを考慮して、チャンネル間の距離を広げることである。しかし、5%の熱干渉が生じるチャンネル間距離は約500[μm]と、通常のマッハツェンダ干渉計のアーム間距離を考慮すれば大きな値である。このアーム間距離を熱干渉低減のためにさらに広げると素子が大きくなるため、回路全体の小型化が実現できず、高密度集積化という課題を解決できない。
第2の方法として考えられるのはチャンネル間に熱伝導率の低い材料を置くことである。例えば図10及び図11のように、溝を掘って単に空気を層を設けることでも、隣接チャンネルとの距離を変えずに熱干渉を抑制することができる(導波路の周囲に溝を設ける技術については特許文献2を参照)。この方法を用いると、第1の方法と同じ程度の距離であれば熱干渉は1%程度であり、10[dB]減衰動作時に損失変動が±0.4[dB]程度と、偏光による変動と同等程度にまで改善する。しかし偏光による変動と熱干渉による変動は足し合わせが可能な成分であるため、この方法を用いたとしても最大で±1[dB]程度の変動が生じることになり、依然として問題は残る。また、断熱溝を設けてもある程度以下の距離であれば、輻射により隣のマッハツェンダ干渉計のアーム導波路との間で熱干渉が発生してしまい、各チャンネルの独立性を維持することは困難である。
このように従来においては、光素子の高密度集積化と熱干渉の影響排除という二つの課題を同時に解決することは困難とされてきた。
そこで本願発明においては、この二つの課題を解決するため、複数個のマッハツェンダ干渉計型光回路を含んだ光素子において以下の手段を用いる。第1の手段は、マッハツェンダ干渉計型光回路のチャンネル間に断熱溝を形成し、かつ、断熱溝中間部に吸熱用の壁を置くことを特徴とする。
また、第2の手段では前記第1の手段における吸熱用の壁の中に導波路が含まれることを特徴とする。
さらに、第3の手段として、マッハツェンダ干渉計型光回路を1チャンネルおきに光導波方向に互い違いにずらすと同時に、その1チャンネルおきの間隔を、通常のマッハツェンダ干渉計の間隔よりも狭めるよう配置することを特徴とする。
第1の手段を用いることにより、熱干渉を偏光による変動に比べて非常に小さく抑えられる。従ってチップのサイズを変更せずとも熱干渉による損失変動は無視できるレベルにまで改善できることが期待される。
また、第2の手段を用いることにより、上記第1の手段における効果に加え、チップの大きさをほとんど変えることなくマッハツェンダ干渉計のチャンネル数をおよそ2倍にすることができ、1チャンネル当たりにかかるチップ作製コストをほぼ半減できる。その一方で、多チャンネルのマッハツェンダ干渉計型光回路が高密度に集積化されることで、構造パラメータ(導波路サイズ、屈折率等)のわずかな偏差による各チャンネルのばらつきが、従来の同チャンネル数素子に比べて実質半分に抑えられ、チップの集積度が向上する。
第3の手段を用いることにより、断熱溝間に吸熱壁が設けられ、熱干渉を大幅に低減することができる。また、マッハツェンダ干渉計型光回路の消光動作時に発生する、散乱光による光クロストーク特性の劣化を防ぐという効果も奏することができる。さらに、チップの大きさは従来技術の大きさと同等としたとき、マッハツェンダ干渉計のチャンネル数は2倍以上になる。
以上の方法を用いることにより、素子の大型化を防ぎつつ、熱干渉も最小限にすることができ、課題の解決を図ることができる。
本発明を実施する最良の形態としては、マッハツェンダ干渉計型光回路における各アーム導波路間に溝と共に断熱壁を設ける。これにより、効果的に熱放射を抑え、熱干渉を抑制することができる。
本発明の実施例について、マッハツェンダ干渉計型光回路を並行に並べた間に吸熱壁を設ける例について述べる。
まず、マッハツェンダ干渉計型光回路の構成及び材料について、図1を参照しながら以下において述べる。図1は(a)が本実施例におけるマッハツェンダ干渉計型光回路を上から見た図であり、(b)はA−A’断面図である。
本発明におけるマッハツェンダ干渉計型光回路は、基板1の上に、クラッド層15を設ける。クラッド層15は後述する下側クラッド層とこの下側クラッド層上に設けられた上側クラッド層を有する。また下側クラッド層上には基板1の表面に平行な方向に延びるコアが設けられており、上側クラッド層はコアを覆うように設けられている。このコア及びコアの周囲のクラッド層15により光導波路16が形成されている。この光導波路16は直線状に形成されていても曲線状に形成されていてもよい。こうして図2を参照の通り、チャンネル間の溝と壁によって、ヒータから生じる熱が他のマッハツェンダ干渉計型光回路に与える影響を抑制することができる。
ここで、実施における一例として具体的な光導波路及び光回路の大きさを示す。基板1は厚さが0.8[mm]、上側クラッド層及び下側クラッド層の膜厚は夫々14[μm]及び15[μm]程度、コアの長手方向に直交する断面の形状は高さが5.5[μm]、幅が5.5[μm]の矩形とすることが考えられる。
クラッド層15の表面には薄膜ヒータ5が設けられている。図3を参照の通り、薄膜ヒータ5は両端部の電極部分5aと、電極部分5a間のヒータ部分5bを備えている。なお、図3は(a)が本実施例におけるマッハツェンダ干渉計型光回路を上から見た図であり、(b)はA−A’断面図である。
また光導波路16の両側には、光導波路が延びる方向と並行に延びる溝7が、光導波路16を挟むように2ヶ所に形成されている。
具体的な形状の一例を挙げると、薄膜ヒータ5の一例は、膜厚0.2[μm]のクロムからなる薄膜、電極部分5aの形状は正方形であり、ヒータ部分5bの形状は幅が10[μm]、長さが4[mm]の細線状であることが考えられる。また、溝7の長手方向の長さは4[mm]、溝7の幅、即ち光導波路が延びる方向に直交する方向の長さは250[μm]、溝7の深さは29[μm]、溝7間の距離、即ち光導波路16のリッジ幅は25[μm]である。
次に本実施例に係るマッハツェンダ干渉計型光回路の製造方法について説明する。先ず図4(a)に示すとおり、基板1上に石英を主成分とし、BPSG(ホウ素・リン添加シリカガラス)からなるガラス膜を、AP−CVD(常圧化学気相成膜法)により成膜する。この生成された膜が下側クラッド層2となる。
さらに、例えばゲルマニウム及びリンの混入量が調節されたGPSG(ゲルマニウム・リン添加シリカガラス)など、下側クラッド層2よりも屈折率が大きい材料を用いて、下側クラッド層2上に薄膜3aを形成する。
ここで、具体的な回路の大きさは、基板1が例えば厚さが0.8[mm]、ガラスの薄膜の厚さは14[μm]程度であることが考えられる。この薄膜3aはAP−CVDにより、例えば5.5[μm]の厚さに成膜され、このとき、コア3と下側クラッド層2との比屈折率差Δは0.65%となる。
次に図4(b)に示すように、フォトリソグラフィ及びRIE(反応性イオンエッチング)により薄膜3aがパターニングされ、基板1の表面に平行な方向に延び、この延びた方向に直交するコア3が形成される。次にコア3を埋め込むようにBPSG等で形成された上側クラッド層4がAP−CVDにより形成され、埋め込み型の光導波路を形成する。
具体的な回路の大きさの一例を挙げると、コア3は断面が矩形状で幅が5.5[μm]、上側クラッド層4の膜厚は15[μm]である。
次に図4(c)に示すように、上側クラッド層4の表面におけるコア3の直上域に、クロム薄膜等の金属膜6を電子ビーム蒸着法により成膜する。続いてフォトリソグラフィ及びウェットエッチングにより金属膜6を所定の形状にパターニングし、薄膜ヒータ5を形成する。
具体的な例としては、金属膜6の膜厚は0.2[μm]である。
次に図4(d)に示すように、上側クラッド層4及び薄膜ヒータ5を覆うようにレジスト6を成膜する。レジスト6にはフォトリソグラフィにより、薄膜ヒータ5の両側に2ヶ所の開口部6aを形成する。続いてレジスト6をマスクとしてRIEによりエッチングが行われクラッド層15の薄膜ヒータ5の両脇に相当する領域を選択的に除去し、基板1に達する深さの溝7を形成する。
具体的な例としては、開口部6a間の距離は例えば25[μm]である。
図4(d)の溝を形成する段階で、隣接するヒータ5を備えた光導波路との間に設けた断熱溝の中間部にレジストマスクを残し、吸熱壁8を形成する。
壁を設けたことにより、輻射熱が隣接チャンネルに到達せず、断熱壁に吸熱される。壁が無かった場合には熱干渉は1%程度であるのに対し、上記の作成方法によって、これまで述べた具体的数値の例に従って装置を構成した場合、熱干渉は0.2%にまで大幅に低減できる。隣接するマッハツェンダ干渉計のアーム導波路間隔はチップサイズの小型化と熱干渉の低減のトレードオフを考えて、通常300〜500[μm]程度とすることが望ましい。この場合における吸熱壁8の幅は、例えばリッジ幅と同じ25[μm]程度が具体的な例として考えられ、基本的な導波路配置設計を変えずとも溝の中に十分設置できる大きさであり、集積化にあたっての障壁となるものではない。
なお、特に、各チャンネルの導波路は略並行であることが望ましい。
また、上記の本実施例に加えて、図5のように、回路の表面を容器9で覆って密封し、溝7の内部の圧力を減圧するなどして、溝内の熱伝導率を大気中の空気よりも低くするような構成としてもよい。また減圧する他にも、希ガスや、空気中からヘリウムを除いたものなどの熱伝導率の低い気体を溝の中に充填させるようにしてもよい。
第2の実施例として、吸熱壁の内部に導波路を設けた例を図6に示す。図6は(a)が本実施例におけるマッハツェンダ干渉計型光回路を上から見た図であり、(b)はA−A’断面図である。マッハツェンダ干渉計のアーム導波路等のように、吸熱壁8の内部に導波路16を設けることで、回路を第1の実施例よりもさらに効率良く集積化することができる。
通常隣接マッハツェンダ干渉計のアーム間距離は300〜500[μm]であるため、この間に断熱溝を形成すると250〜450[μm]程度の溝幅ができる。この中間部に例えば25[μm]の幅の吸熱壁を作成した場合、その内部中心を導波路が通っていても、隣接する熱光学位相シフタからの輻射熱で位相がわずかに変動するが、その変動がアーム導波路で生じたものでなければ、損失や偏波依存性などには全く問題が生じない。本実施例における、導波路16を設置する方法は、導波路形成用フォトマスクで吸熱壁部分に導波路パターンを描けば良い。その他の作製方法は、第1の実施例と全く同じ方法を用いる。
本実施例を用いることにより、上述の第1の実施例で述べたような溝のみを設けた場合に比べて、導波路を構成するクラッド層およびコア層を溝形成エッチング時に除去せずに利用するため、光回路設計上において限られた領域を有効に利用することができ、チップの高集積化を図ることができる。
なお、本実施例の場合の熱干渉量については 上述した第1の実施例の場合と構造上なんら変わらないため、実施例1において記載した具体的数値の一例をもって構成した場合には、0.2%という極めて低い値を実現できる。
第3の実施例として、マッハツェンダ干渉計を互い違いに配置した例を図7に示す。
これは、マッハツェンダ干渉計型光回路を1チャンネルおきに光導波方向に互い違いにずらし、同時に通常のマッハツェンダ干渉計の間隔よりも狭めて配置することで、素子の大型化を防ぎつつも、熱干渉も最小限にするものである。
具体的には、図7に示すように、2つ以上のマッハツェンダ干渉計型光回路を1つおきに光導波方向に互い違いにずらして配置する。こうしてマッハツェンダ干渉計を光導波方向に互い違いに配置し、かつマッハツェンダ干渉計間の水平距離を近づけることでチップの小型化が可能となる。
このように、干渉計の配置を光導波方向に互い違いにずらした場合に、導波路の伸びる方向と略垂直方向に並列に並んだマッハツェンダ干渉計型光回路の一方を奇数番号チャンネル、もう一方を偶数番号チャンネルとする。
この奇数番号チャンネルのマッハツェンダ干渉計が熱干渉に関係する仮想隣接チャンネルと考えると、それらのアーム導波路間に配置した偶数チャンネルの導波路が吸熱壁としての役割も果たすことになる。逆に、偶数番号チャンネルのマッハツェンダ干渉計が熱干渉に関係する仮想隣接チャンネルと考えると、それらのアーム導波路間に配置した奇数チャンネルの導波路が吸熱壁としての役割も果たすことになる。
この導波路を内包した吸熱壁は、第2の実施例における、導波路を内包した吸熱壁を用いる。なお、1つおきにずらす例について述べたが、2つおき、3つおき等、規則性をもってマッハツェンダ干渉計を光導波方向にずらした配置をとることも、本願発明の思想に含まれるものとする。
これにより、熱干渉を抑えつつチップサイズも小型化できる、という効果を奏することができる。
同一のマッハツェンダ干渉計における2つのアーム導波路間の距離をd1とし、実際に隣接する偶数または奇数チャンネル間のマッハツェンダ干渉計の距離をd2とする。するとd1がd2以下となるよう構成することで、さらにチップ全体の小型化を図ることができる。
この、d1は、実施例2における距離と同程度とすることもできる。本実施例によれば、集積率は従来技術の2倍以上となる一方で、熱干渉については十分に防ぐことができる。
この、d1は、実施例2における距離と同程度とすることもできる。本実施例によれば、集積率は従来技術の2倍以上となる一方で、熱干渉については十分に防ぐことができる。
上記においては水平距離について述べたが、装置の更なる小型化を図るために、光導波方向についても各チャンネルのアーム導波路について距離を狭めることが望ましい。そのために、図8のように、奇数チャンネルの導波路からアーム導波路への分岐点(図8における、17a、17c)が偶数チャンネルの同じく分岐点(同17b、17d)より、アーム導波路側にあるよう構成することにより、更なる小型化を図ることができる。
以上、本発明における実施例について述べたが、本発明はかかる実施例に限定されるものではなく、適宜変更したものについても含まれるものとする。特に実施例中の数値や材料に関しても実施例に限られるものではない。
1 基板
2 下側クラッド層
3 コア
4 上側クラッド層
5 薄膜ヒータ
5a 電極部分
5b ヒータ
6 レジスト
7 溝
8 吸熱壁
9 容器
11 導波路
12 アーム導波路
13 空白部分
14 熱干渉の及ぶ範囲
15 クラッド層
16 導波路
17a、17b、17c、17d 分岐点
18 熱の流れを表す矢印
2 下側クラッド層
3 コア
4 上側クラッド層
5 薄膜ヒータ
5a 電極部分
5b ヒータ
6 レジスト
7 溝
8 吸熱壁
9 容器
11 導波路
12 アーム導波路
13 空白部分
14 熱干渉の及ぶ範囲
15 クラッド層
16 導波路
17a、17b、17c、17d 分岐点
18 熱の流れを表す矢印
Claims (9)
- 2つの導波路と、2つのアーム導波路とを有し、前記2つのアーム導波路のうち少なくとも1つには、該アーム導波路の温度を調節できる構成を備えており、前記2つの導波路のうちの一の導波路が前記2つのアーム導波路の一端とY字型に接続され、前記一の導波路と異なる他の導波路が前記2つのアーム導波路の他端とY字型に接続されているマッハツェンダ干渉計型光回路、を複数有し、各マッハツェンダ干渉計型光回路の前記導波路は略並行である多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路において、
第1のマッハツェンダ干渉計型光回路のアーム導波路と前記第1のマッハツェンダ干渉計型光回路に隣接する第2のマッハツェンダ干渉計型光回路のアーム導波路との間に、溝と壁を設けたことを特徴とする、多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路。 - 前記第1のマッハツェンダ干渉計型光回路の前記2つのアーム導波路と、前記第2のマッハツェンダ干渉計型光回路の前記2つのアーム導波路は、導波路方向と略垂直方向に並行して配置されていることを特徴とする、請求項1に記載の多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路。
- 前記壁は、その中に導波路を備えることを特徴とする、請求項1に記載の多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路。
- 前記壁の中に備えられた前記導波路は、マッハツェンダ干渉計型光回路の導波路に該当する部分であることを特徴とする、請求項2記載の多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路。
- 前記溝は、前記第1のマッハツェンダ干渉計型光回路のアーム導波路と前記第2のマッハツェンダ干渉計型光回路のアーム導波路との間に複数存在し、前記壁は前記複数の溝の間に配置されていることを特徴とする、請求項1記載の多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路。
- 前記溝には大気圧の空気が入っていることを特徴とする、請求項1記載の多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路。
- 前記溝には大気圧の空気よりも熱伝導率の低い気体が入っていることを特徴とする、請求項1記載の多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路。
- 2つの導波路と、2つのアーム導波路とを有し、前記2つのアーム導波路のうち少なくとも1つには、該アーム導波路の温度を調節できる構成を備えており、前記2つの導波路のうちの一の導波路が前記2つのアーム導波路の一端とY字型に接続され、前記一の導波路と異なる他の導波路が前記2つのアーム導波路の他端とY字型に接続されているマッハツェンダ干渉計型光回路、を複数有し、各マッハツェンダ干渉計型光回路の前記導波路は略並行である多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路において、
第1のマッハツェンダ干渉計型光回路、及び前記第1のマッハツェンダ干渉計型光回路に隣接する第2のマッハツェンダ干渉計型光回路、及び、前記第2のマッハツェンダ干渉計型光回路に隣接し前記第1のマッハツェンダ干渉計型光回路とは異なる第3のマッハツェンダ干渉計型光回路、を少なくとも有し、
前記第1のマッハツェンダ干渉計型光回路のアーム導波路と、前記第3のマッハツェンダ干渉計型光回路のアーム導波路との距離が、前記第2のマッハツェンダ干渉計型光回路における2本のアーム導波路間の距離以下であることを特徴とする、多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路。 - 前記第1のマッハツェンダ干渉計型光回路及び前記第3のマッハツェンダ干渉計型光回路は、導波路の延びる方向と略垂直方向に並列に配置されており、前記第1のマッハツェンダ干渉計型光回路における導波路と2つのアーム導波路がY字型に接続されている分岐点のうち、前記第2のマッハツェンダ干渉計型光回路に近い分岐点及び、前記第3のマッハツェンダ干渉計型光回路における導波路と2つのアーム導波路がY字型に接続されている分岐点のうち前記第2のマッハツェンダ干渉計型光回路に近い点の2点を結んだ直線を境として、前記第1及び第3のマッハツェンダ干渉計型光回路のアーム導波路の有る側と前記前記第1及び第3のマッハツェンダ干渉計型光回路のアーム導波路の無い側に分けた場合に、
前記第2のマッハツェンダ干渉計型光回路の導波路からアーム導波路への分岐点のうち前記第1及び第3のマッハツェンダ干渉計型光回路に近い分岐点が、前記第1及び第3のマッハツェンダ干渉計型光回路のアーム導波路の有る側に存在することを特徴とする、請求項7に記載の多チャンネルマッハツェンダ干渉計型光回路。
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