[go: up one dir, main page]

JP2005127850A - Radiological image conversion panel and manufacturing method of radiological image conversion panel - Google Patents

Radiological image conversion panel and manufacturing method of radiological image conversion panel Download PDF

Info

Publication number
JP2005127850A
JP2005127850A JP2003363426A JP2003363426A JP2005127850A JP 2005127850 A JP2005127850 A JP 2005127850A JP 2003363426 A JP2003363426 A JP 2003363426A JP 2003363426 A JP2003363426 A JP 2003363426A JP 2005127850 A JP2005127850 A JP 2005127850A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
image conversion
phosphor layer
conversion panel
moisture
radiation image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003363426A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takehiko Shoji
武彦 庄子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Original Assignee
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Medical and Graphic Inc filed Critical Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Priority to JP2003363426A priority Critical patent/JP2005127850A/en
Priority to EP04256434A priority patent/EP1526554A2/en
Priority to US10/968,302 priority patent/US20050087698A1/en
Publication of JP2005127850A publication Critical patent/JP2005127850A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Radiography Using Non-Light Waves (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inexpensive radiological image conversion panel having an improved specific performance coincident with a photographing purpose without damaging productivity. <P>SOLUTION: In this manufacturing method of the radiological image conversion panel, a stimulable phosphor layer 12 is provided on a substrate 11 and sealed by a moisture-proof protection film 20. The stimulable phosphor layer 12 is covered with the moisture-proof protection film 20 without allowing to adhere to the stimulable phosphor layer 12, and then one kind or two or more kinds of gases selected from among rare gases, nitrogen gas and carbon dioxide gas are filled between the stimulable phosphor layer 12 and the moisture-proof protection film 20, to thereby manufacture this radiological image conversion panel having the improved specific performance for contrast, humidity resistance and brightness deterioration prevention. Many kinds of radiological image conversion panels can be manufactured by an approximately same process, and the inexpensive radiological image conversion panel having the improved specific performance coincident with the photographing purpose in a facility can be provided without damaging productivity. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、輝尽性蛍光体を用いた放射線画像変換パネル及び放射線画像変換パネルの製造方法に関する。   The present invention relates to a radiation image conversion panel using a stimulable phosphor and a method for manufacturing a radiation image conversion panel.

従来、放射線画像を得るために銀塩を使用しないで放射線像を画像化する方法として、基板上に輝尽性蛍光体層が設けられた放射線画像変換パネルを用いて放射線像を記録する方法が開発されている。   Conventionally, as a method of imaging a radiation image without using a silver salt in order to obtain a radiation image, there is a method of recording a radiation image using a radiation image conversion panel in which a stimulable phosphor layer is provided on a substrate. Has been developed.

放射線画像変換パネルを用いて放射線像を記録するには、被写体を透過した放射線を輝尽性蛍光体層で吸収し、被写体各部の放射線透過密度に対応する放射線エネルギーを蓄積させる。輝尽性蛍光体中に蓄積された放射線エネルギーは、輝尽性蛍光体層に可視光線、赤外線などの電磁波(励起光)を照射して時系列的に励起させることにより、輝尽発光として放出させることができる。この光の強弱による信号を、例えば光電変換して電気信号とすることで、ハロゲン化銀写真感光材料などの記録材料、CRTなどの表示装置上に可視像として再生することができる。   In order to record a radiation image using the radiation image conversion panel, radiation transmitted through the subject is absorbed by the stimulable phosphor layer, and radiation energy corresponding to the radiation transmission density of each part of the subject is accumulated. Radiation energy accumulated in the photostimulable phosphor is emitted as photostimulated luminescence by irradiating the photostimulable phosphor layer with electromagnetic waves (excitation light) such as visible light and infrared rays in time series. Can be made. A signal based on the intensity of the light is converted into an electric signal by photoelectric conversion, for example, and can be reproduced as a visible image on a recording material such as a silver halide photographic light-sensitive material or a display device such as a CRT.

このような放射線画像変換パネルは医療用のX線画像診断機器等にも多く用いられている。放射線画像変換パネルは、一般にシート上の基板に輝尽性蛍光体が積層され、放射線撮影用カセッテに収納されて取り扱われることが多い。   Such radiation image conversion panels are often used in medical X-ray diagnostic imaging equipment and the like. In general, the radiation image conversion panel is often handled by storing a photostimulable phosphor on a substrate on a sheet and storing it in a radiation imaging cassette.

放射線撮影用カセッテ(以下、「カセッテ」という)とは、放射線画像変換パネルを収納可能な平たい筐体であって、搬送時または撮影時における輝尽性蛍光体の物理的損傷を防止するとともに、撮影後の輝尽性蛍光体に励起光が照射されて蓄積された画像情報が消滅するのを防止するものである。図3に示すように、放射線画像変換パネル30は、輝尽性蛍光体層31がカセッテ40の前面板41に対向するように配置されてカセッテ40に収納される。   A radiographic cassette (hereinafter referred to as “cassette”) is a flat housing that can accommodate a radiographic image conversion panel, and prevents physical damage to the photostimulable phosphor during transportation or imaging. It is intended to prevent the extinction of image information accumulated by irradiating the stimulable phosphor after imaging with excitation light. As shown in FIG. 3, the radiation image conversion panel 30 is disposed in the cassette 40 so that the photostimulable phosphor layer 31 faces the front plate 41 of the cassette 40.

放射線撮影は、放射線画像変換パネル30を収納したカセッテ40の前面板41の外側面に対向して被写体50を配置し、被写体50を透過したX線をカセッテ40を透過させて放射線画像変換パネル30に照射して行う。この方法による放射線撮影は、銀塩を使用する方式と比較して極めて少ない被爆線量で情報量の豊富な放射線画像を得ることができる。   In the radiography, the subject 50 is disposed so as to face the outer surface of the front plate 41 of the cassette 40 in which the radiographic image conversion panel 30 is housed, and the X-rays transmitted through the subject 50 are transmitted through the cassette 40 and the radiographic image conversion panel 30. Irradiate to. In radiography by this method, a radiographic image with abundant information can be obtained with an extremely small exposure dose as compared with a method using silver salt.

放射線画像変換パネルを使用した撮影は、撮影部位や撮影環境によっては、放射線画像変換パネルの特定の性能が不足する場合がある。具体的には、腰椎部撮影では被写体やカセッテの前面板を透過する際に散乱した低エネルギーの放射線(散乱線)の影響により画像のコントラストが不足しがちである。また高管電圧低線量の胸部肺野撮影では輝度が不足して粒状性が悪化する場合がある。さらに高温多湿の環境下での使用は吸湿による劣化が早まるという問題があった。これらの特性を向上させるために、従来、輝尽性蛍光体層自体や輝尽性蛍光体層を封止する保護層の改良が実施されてきた。   In imaging using the radiation image conversion panel, the specific performance of the radiation image conversion panel may be insufficient depending on the imaging region and the imaging environment. Specifically, in lumbar imaging, the contrast of the image tends to be insufficient due to the influence of low-energy radiation (scattered rays) scattered when passing through the subject or the front plate of the cassette. Moreover, in chest lung field radiography with a high tube voltage and a low dose, the luminance is insufficient and the graininess may deteriorate. Furthermore, the use under high temperature and high humidity has a problem that deterioration due to moisture absorption is accelerated. In order to improve these characteristics, the photostimulable phosphor layer itself and the protective layer for sealing the photostimulable phosphor layer have been improved.

輝尽性蛍光体としては、下記一般式(1)で示された輝尽性蛍光体、特にeが0.003≦e≦0.005の範囲内の数値を示す輝尽性蛍光体を用いることで、高感度の放射線画像変換パネルが得られることが示されている(例えば、特許文献1参照)。   As the photostimulable phosphor, a photostimulable phosphor represented by the following general formula (1), particularly a photostimulable phosphor showing e in the range of 0.003 ≦ e ≦ 0.005 is used. Thus, it has been shown that a highly sensitive radiation image conversion panel can be obtained (see, for example, Patent Document 1).

M1X・aM2X'2・bM3X''3:eA ・・・(1)
[ここで、M1はLi、Na、K、Rb及びCsからなる群から選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiからなる群から選ばれる少なくとも一種の二価金属であり、M3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びInからなる群から選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、X、X'及びX''はF、Cl、Br及びIからなる群から選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、AはEu、Tb、In、Ga、Cs、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属であり、a、b、eはそれぞれ0≦a<0.5、0≦b<0.5、0.0001<e≦1.0の範囲の数値を示す。]
M 1 X · aM 2 X ' 2 · bM 3 X''3: eA ··· (1)
[Wherein M 1 is at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs, and M 2 is Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu and Ni. M 3 is Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, at least one divalent metal selected from the group consisting of Is at least one trivalent metal selected from the group consisting of Lu, Al, Ga and In, and X, X ′ and X ″ are at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I. , A is from the group consisting of Eu, Tb, In, Ga, Cs, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu and Mg It is at least one metal selected, and a, b, and e represent numerical values in the range of 0 ≦ a <0.5, 0 ≦ b <0.5, and 0.0001 <e ≦ 1.0, respectively. ]

最近では、CsBrなどのハロゲン化アルカリを母体にEuを賦活した輝尽性蛍光体を用いた放射線パネルが提案され、特にEuを賦活剤とすることで従来不可能であったX線変換効率の向上が可能になると期待されている。   Recently, a radiation panel using a photostimulable phosphor activated with Eu based on an alkali halide such as CsBr has been proposed. In particular, by using Eu as an activator, X-ray conversion efficiency which has been impossible in the past has been proposed. It is expected that improvement will be possible.

また、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリエチレンテレフタレートフィルム上に金属酸化物や窒化珪素などの薄膜を蒸着したものを防湿性保護フィルムとして使用し、輝尽性蛍光体層の吸湿による劣化を防ぐことが知られている(例えば、特許文献2参照)。   It is also known to use polyethylene terephthalate film or polyethylene terephthalate film deposited with a thin film such as metal oxide or silicon nitride as a moisture-proof protective film to prevent deterioration of the stimulable phosphor layer due to moisture absorption. (For example, refer to Patent Document 2).

また、散乱線を除去する方法としては、カセッテ前面板の内側面に金属などからなる放射線吸収層を設けて低エネルギーの放射線を吸収する方法がある(例えば特許文献3参照)。
特開2003−028995号公報 特開2002−107495号公報 特開2003−114299号公報
As a method for removing scattered radiation, there is a method of providing a radiation absorbing layer made of metal or the like on the inner surface of a cassette front plate to absorb low-energy radiation (see, for example, Patent Document 3).
JP 2003-028995 A JP 2002-107495 A JP 2003-114299 A

放射線画像変換パネルの輝度、コントラスト、粒状性、耐湿性などの性能を全て同時に向上させるのは困難であるため、特定の性能を向上させた放射線画像変換パネルを用途に応じて使用することになる。しかし、特定の性能を向上させた放射線画像変換パネルを少量多品種化することは生産性が損なわれる。   Since it is difficult to improve all the performance of the radiation image conversion panel, such as brightness, contrast, graininess, and moisture resistance at the same time, a radiation image conversion panel with improved specific performance will be used depending on the application. . However, increasing the variety of radiation image conversion panels with improved specific performance in a small number of types impairs productivity.

本発明の課題は、生産性を損なわずに撮影目的に合致した特定の性能を向上させた安価な放射線画像変換パネルを提供することにある。   An object of the present invention is to provide an inexpensive radiation image conversion panel that has improved specific performance in conformity with an imaging purpose without impairing productivity.

以上の課題を解決するため、請求項1に記載の発明は、基板11に設けた輝尽性蛍光体層12を防湿性保護フィルム20で封止してなる放射線画像変換パネルにおいて、前記輝尽性蛍光体層12と前記防湿性保護フィルム20との間には希ガスが充填されていることを特徴とする。   In order to solve the above problems, the invention described in claim 1 is directed to a radiation image conversion panel in which the stimulable phosphor layer 12 provided on the substrate 11 is sealed with a moisture-proof protective film 20. A rare gas is filled between the fluorescent layer 12 and the moisture-proof protective film 20.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の放射線画像変換パネルであって、前記希ガスはHe、Ne、Ar、Kr、Xeの少なくとも1種または2種以上であることを特徴とする。   The invention according to claim 2 is the radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the rare gas is at least one or more of He, Ne, Ar, Kr, and Xe. To do.

請求項1または2に記載の発明によれば、前記輝尽性蛍光体層12と前記防湿性保護フィルム20との間に充填された希ガスが、被写体や周辺材により散乱した弱いX線を吸収して励起され、10-2秒程度で発光した後に再び弱いX線を吸収することを繰り返すため、散乱X線による輝尽性蛍光体層12の表面付近のノイズが除去され、再生画像のコントラストを向上させることができる。 According to the first or second aspect of the invention, the weak X-rays scattered between the photostimulable phosphor layer 12 and the moisture-proof protective film 20 are scattered by a subject or a peripheral material. In order to repeat absorption of weak X-rays after absorption and excitation, light emission in about 10 −2 seconds, noise near the surface of the photostimulable phosphor layer 12 due to scattered X-rays is removed, and the reproduced image Contrast can be improved.

請求項3に記載の発明は、基板11に設けた輝尽性蛍光体層12を防湿性保護フィルム20で封止してなる放射線画像変換パネルにおいて、前記輝尽性蛍光体層12と前記防湿性保護フィルム20との間には窒素ガスが充填されていることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the radiation image conversion panel formed by sealing the stimulable phosphor layer 12 provided on the substrate 11 with the moisture-proof protective film 20, the stimulable phosphor layer 12 and the moisture-proof layer are provided. Nitrogen gas is filled between the protective film 20 and the protective film 20.

請求項3に記載の発明によれば、前記輝尽性蛍光体層12と前記防湿性保護フィルム20との間には窒素ガスが充填されていることにより、放射線画像変換パネル内に空気中の水蒸気が入ることを防ぐことができ、輝尽性蛍光体層12の耐湿性を向上させることができる。   According to the invention described in claim 3, since the stimulable phosphor layer 12 and the moisture-proof protective film 20 are filled with nitrogen gas, the radiation image conversion panel is in the air. Water vapor can be prevented from entering, and the moisture resistance of the photostimulable phosphor layer 12 can be improved.

請求項4に記載の発明は、基板11に設けた輝尽性蛍光体層12を防湿性保護フィルム20で封止してなる放射線画像変換パネルにおいて、前記輝尽性蛍光体層12と前記防湿性保護フィルム20との間には二酸化炭素ガスが充填されていることを特徴とする。   The invention according to claim 4 is a radiation image conversion panel in which the photostimulable phosphor layer 12 provided on the substrate 11 is sealed with a moisture-proof protective film 20, and the photostimulable phosphor layer 12 and the moisture-proof layer. Carbon dioxide gas is filled between the protective film 20 and the protective film 20.

請求項4に記載の発明によれば、前記輝尽性蛍光体層12と前記防湿性保護フィルム20との間には二酸化炭素ガスが充填されていることにより、輝尽性蛍光体層12の輝尽発光輝度を5〜10%向上させることができるとともに、断続的に照射されるX線による放射線画像変換パネルの輝度劣化を防止することができる。   According to the invention described in claim 4, carbon dioxide gas is filled between the photostimulable phosphor layer 12 and the moisture-proof protective film 20. The stimulated emission luminance can be improved by 5 to 10%, and luminance deterioration of the radiation image conversion panel due to intermittently irradiated X-rays can be prevented.

請求項5に記載の発明は、基板11に輝尽性蛍光体層12を設け、該輝尽性蛍光体層12を防湿性保護フィルム20で封止する放射線画像変換パネルの製造方法であって、輝尽性蛍光体層12に密着させずに防湿性保護フィルム20で輝尽性蛍光体層12を被覆し、次いで輝尽性蛍光体層12と防湿性保護フィルム20との間に希ガス、窒素ガス、二酸化炭素ガスのいずれか1種または2種以上の気体を充填することを特徴とする。   Invention of Claim 5 is a manufacturing method of the radiation image conversion panel which provides the photostimulable phosphor layer 12 in the board | substrate 11, and seals this photostimulable phosphor layer 12 with the moisture-proof protective film 20. The photostimulable phosphor layer 12 is covered with the moisture-proof protective film 20 without being in close contact with the photostimulable phosphor layer 12, and then the rare gas is interposed between the photostimulable phosphor layer 12 and the moisture-proof protective film 20. In addition, any one or more of nitrogen gas and carbon dioxide gas is filled.

請求項5に記載の発明によれば、輝尽性蛍光体層12に密着させずに防湿性保護フィルム20で輝尽性蛍光体層12を被覆し、次いで輝尽性蛍光体層12と防湿性保護フィルム20との間に希ガス、窒素ガス、二酸化炭素ガスのいずれか1種または2種以上の気体を充填することにより、コントラスト、耐湿性、輝度劣化防止のいずれか任意の性能を向上させた放射線画像変換パネルを製造することができる。   According to the invention described in claim 5, the stimulable phosphor layer 12 is covered with the moisture-proof protective film 20 without being in close contact with the stimulable phosphor layer 12, and then the stimulable phosphor layer 12 and the moisture-proof layer are covered. Any one of contrast, moisture resistance, and luminance deterioration prevention can be improved by filling one or more gases of rare gas, nitrogen gas and carbon dioxide gas with the protective film 20. A radiation image conversion panel can be manufactured.

本発明によれば、輝尽性蛍光体層と前記防湿性保護フィルムとの間に希ガス、窒素ガス、二酸化炭素ガスのいずれか1種または2種以上の気体を充填して輝尽性蛍光体層を封止することにより、コントラスト、耐湿性、輝度劣化防止の特定の性能を向上させた放射線画像変換パネルを製造することができる。したがって、ほぼ同一の工程で多種の放射線画像変換パネルを製造することができ、生産性を損なわずに施設での撮影目的に合致した特定の性能を向上させた安価な放射線画像変換パネルを提供することができる。   According to the present invention, the stimulable phosphor layer is filled with one or more gases of noble gas, nitrogen gas and carbon dioxide gas between the moisture-proof protective film and the photostimulable fluorescence. By sealing the body layer, it is possible to manufacture a radiation image conversion panel in which specific performances of contrast, moisture resistance, and luminance deterioration prevention are improved. Therefore, it is possible to manufacture various types of radiation image conversion panels in almost the same process, and to provide an inexpensive radiation image conversion panel with improved specific performance that matches the purpose of imaging in a facility without impairing productivity. be able to.

以下、本発明について詳細に説明する。本発明の放射線画像変換パネルは、図1に示すように、基板11の一方の面に輝尽性蛍光体層12が形成されてなる蛍光体プレート10と、蛍光体プレート10の少なくとも輝尽性蛍光体層12を被覆して封止する防湿性保護フィルム20とからなる。また、輝尽性蛍光体層12と防湿性保護フィルム20との間には希ガス、窒素ガス、二酸化炭素ガスの少なくとも1種類の気体が封入されている。   Hereinafter, the present invention will be described in detail. As shown in FIG. 1, the radiation image conversion panel of the present invention includes a phosphor plate 10 having a stimulable phosphor layer 12 formed on one surface of a substrate 11, and at least the photostimulability of the phosphor plate 10. It comprises a moisture-proof protective film 20 that covers and seals the phosphor layer 12. Further, between the photostimulable phosphor layer 12 and the moisture-proof protective film 20, at least one kind of gas such as rare gas, nitrogen gas and carbon dioxide gas is enclosed.

基板11としては、水分の透過性が低いものが好ましく、各種のガラス、高分子材料、金属などが用いられる。特にセルロースアセテートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム等のプラスチックフィルムや石英、ホウ珪酸ガラス、化学的強化ガラス等の板ガラス、あるいはアルミニウムシート、鉄シート、銅シート等の金属シート及び該金属酸化物の被覆層を有する金属シートが好ましい。これら基板11の表面は滑面であってもよいし、輝尽性蛍光体との接着性を向上させる目的でマット面としてもよい。   The substrate 11 preferably has a low moisture permeability, and various types of glass, polymer materials, metals, and the like are used. In particular, cellulose acetate film, polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyamide film, polyimide film, triacetate film, plastic film such as polycarbonate film, flat glass such as quartz, borosilicate glass, chemically tempered glass, aluminum sheet, iron sheet A metal sheet such as a copper sheet and a metal sheet having a coating layer of the metal oxide are preferable. The surface of the substrate 11 may be a smooth surface, or may be a mat surface for the purpose of improving the adhesion with the stimulable phosphor.

また、これら基板11の層厚は用いる基板11の厚さによって異なるが、一般的には80μm〜5000μmであり、取り扱い上の点から、さらに好ましくは80μm〜3000μmである。さらに、基板11の輝尽性蛍光体層12を設ける面に、輝尽性蛍光体との接着性を向上させる下引層を設けてもよい。   Moreover, although the layer thickness of these board | substrates 11 changes with thickness of the board | substrate 11 to be used, it is generally 80 micrometers-5000 micrometers, and from the point on handling, More preferably, they are 80 micrometers-3000 micrometers. Furthermore, you may provide the undercoat layer which improves the adhesiveness with a stimulable fluorescent substance in the surface in which the stimulable fluorescent substance layer 12 of the board | substrate 11 is provided.

輝尽性蛍光体層12は50μm以上、好ましくは300〜500μmの層厚に形成される。輝尽性蛍光体層12に用いる輝尽性蛍光体としては、一般式(1)で表されるものを使用することができる。   The photostimulable phosphor layer 12 is formed with a layer thickness of 50 μm or more, preferably 300 to 500 μm. As the photostimulable phosphor used for the photostimulable phosphor layer 12, those represented by the general formula (1) can be used.

M1X・aM2X'2・bM3X''3:eA ・・・(1) M 1 X · aM 2 X ' 2 · bM 3 X''3: eA ··· (1)

ここで、M1はLi、Na、K、Rb及びCsからなる群から選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、特にK、Rb及びCsからなる群から選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であることが好ましい。 Here, M 1 is at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs, and in particular, is at least one alkali metal selected from the group consisting of K, Rb and Cs. preferable.

M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiからなる群から選ばれる少なくとも一種の二価金属であり、特に、Be、Mg、Ca、Sr及びBaから選ばれる少なくとも一種の二価金属であることが好ましい。 M 2 is at least one divalent metal selected from the group consisting of Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu and Ni, in particular, at least selected from Be, Mg, Ca, Sr and Ba A kind of divalent metal is preferable.

M3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びInからなる群から選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、特に、Y、La、Ce、Sm、Eu、Gd、Lu、Al、Ga及びInからなる群から選ばれる少なくとも一種の三価金属であることが好ましい。 At least one M 3 represents that Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Al, selected from the group consisting of Ga and In In particular, at least one trivalent metal selected from the group consisting of Y, La, Ce, Sm, Eu, Gd, Lu, Al, Ga and In is preferable.

X、X'及びX''はF、Cl、Br及びIからなる群から選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、特にXはBr及びIからなる群から選ばれる少なくとも一種のハロゲンであることが好ましい。   X, X ′ and X ″ are at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I, and in particular, X is preferably at least one halogen selected from the group consisting of Br and I. .

AはEu、Tb、In、Ga、Cs、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属であり、特にEu、Cs、Sm、Tl及びNaからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属であることが好ましい。   A is selected from the group consisting of Eu, Tb, In, Ga, Cs, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu, and Mg. And at least one metal selected from the group consisting of Eu, Cs, Sm, Tl and Na.

a、b、eはそれぞれ0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<e≦0.2の範囲の数値を示し、特にbは0≦b≦10-2 の範囲の数値を示すことが好ましい。 a, b, and e each represent a numerical value in the range of 0 ≦ a <0.5, 0 ≦ b <0.5, and 0 <e ≦ 0.2. Particularly, b preferably represents a numerical value in the range of 0 ≦ b ≦ 10 −2. .

また、上記柱状結晶13は下記一般式(2)で表される輝尽性蛍光体を有することが好ましい。   The columnar crystal 13 preferably has a stimulable phosphor represented by the following general formula (2).

CsX:A ・・・(2)   CsX: A (2)

ここで、XはBrまたはIを表し、AはEu、In、GaまたはCeを表す。   Here, X represents Br or I, and A represents Eu, In, Ga, or Ce.

上記の輝尽性蛍光体は、例えば下記(a)〜(d)の蛍光体原料を用いて以下に述べる製造方法により製造される。   The photostimulable phosphor is manufactured by the following manufacturing method using, for example, the following phosphor materials (a) to (d).

(a)LiF、LiCl、LiBr、LiI、NaF、NaCl、NaBr、NaI、KF、KCl、KBr、KI、RbF、RbCl、RbBr、RbI、CsF、CsCl、CsBr及びCsIからなる群から選ばれる少なくとも1種もしくは2種以上の化合物。   (A) At least one selected from the group consisting of LiF, LiCl, LiBr, LiI, NaF, NaCl, NaBr, NaI, KF, KCl, KBr, KI, RbF, RbCl, RbBr, RbI, CsF, CsCl, CsBr and CsI Species or two or more compounds.

(b)BeF2、BeCl2、BeBr2、BeI2、MgF2、MgCl2、MgBr2、MgI2、CaF2、CaCl2、CaBr2、CaI2、SrF2、SrCl2、SrBr2、SrI2、BaF2、BaCl2、BaBr2、BaI2、ZnF2、ZnCl2、ZnBr2、ZnI2、CdF2、CdCl2、CdBr2、CdI2、CuF2、CuCl2、CuBr2、CuI2、NiF2、NiCl2、NiBr2及びNiI2からなる群から選ばれる少なくとも1種もしくは2種以上の化合物。 (B) BeF 2, BeCl 2 , BeBr 2, BeI 2, MgF 2, MgCl 2, MgBr 2, MgI 2, CaF 2, CaCl 2, CaBr 2, CaI 2, SrF 2, SrCl 2, SrBr 2, SrI 2 , BaF 2, BaCl 2, BaBr 2, BaI 2, ZnF 2, ZnCl 2, ZnBr 2, ZnI 2, CdF 2, CdCl 2, CdBr 2, CdI 2, CuF 2, CuCl 2, CuBr 2, CuI 2, NiF 2 , at least one compound selected from the group consisting of NiCl 2 , NiBr 2 and NiI 2 .

(c)ScF3、ScCl3、ScBr3、ScI3、YF3、YCl3、YBr3、YI3、LaF3、LaCl3、LaBr3、LaI3、CeF3、CeCl3、CeBr3、CeI3、PrF3、PrCl3、PrBr3、PrI3、NdF3、NdCl3、NdBr3、NdI3、PmF3、PmCl3、PmBr3、PmI3、SmF3、SmCl3、SmBr3、SmI3、EuF3、EuCl3、EuBr3、EuI3、GdF3、GdCl3、GdBr3、GdI3、TbF3、TbCl3、TbBr3、TbI3、DyF3、DyCl3、DyBr3、DyI3、HoF3、HoCl3、HoBr3、HoI3、ErF3、ErCl3、ErBr3、ErI3、TmF3、TmCl3、TmBr3、TmI3、YbF3、YbCl3、YbBr3、YbI3、LuF3、LuCl3、LuBr3、LuI3、AlF3、AlCl3、AlBr3、AlI3、GaF3、GaCl3、GaBr3、GaI3、InF3、InCl3、InBr3及びInI3からなる群から選ばれる少なくとも1種もしくは2種以上の化合物。 (C) ScF 3, ScCl 3 , ScBr 3, ScI 3, YF 3, YCl 3, YBr 3, YI 3, LaF 3, LaCl 3, LaBr 3, LaI 3, CeF 3, CeCl 3, CeBr 3, CeI 3 , PrF 3 , PrCl 3 , PrBr 3 , PrI 3 , NdF 3 , NdCl 3 , NdBr 3 , NdI 3 , PmF 3 , PmCl 3 , PmBr 3 , PmI 3 , SmF 3 , SmCl 3 , SmBr 3 , SmF 3 , SmI 3 3, EuCl 3, EuBr 3, EuI 3, GdF 3, GdCl 3, GdBr 3, GdI 3, TbF 3, TbCl 3, TbBr 3, TbI 3, DyF 3, DyCl 3, DyBr 3, DyI 3, HoF 3, HoCl 3, HoBr 3, HoI 3 , ErF 3, ErCl 3, ErBr 3, ErI 3, TmF 3, TmCl 3, TmBr 3, TmI 3, YbF 3, YbCl 3, YbBr 3, YbI 3, LuF 3, LuCl 3 , LuBr 3 , LuI 3 , AlF 3 , AlCl 3 , AlBr 3 , AlI 3 , GaF 3 , GaCl 3 , GaBr 3 , GaI 3 , InF 3 , InCl 3 , InBr 3 and InI 3 and at least one selected from the group consisting of Species or two or more compounds.

(d)Eu、Tb、In、Ga、Cs、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgからなる群から選ばれる少なくとも一種もしくは2種以上の金属。   (D) From the group consisting of Eu, Tb, In, Ga, Cs, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu and Mg At least one or two or more metals selected.

上記(a)〜(d)の蛍光体原料を一般式(1)のa、b、eの範囲を満たすように秤量し、純水にて混合する。この際、乳鉢、ボールミル、ミキサーミル等を用いて充分に混合してもよい。   The phosphor materials of the above (a) to (d) are weighed so as to satisfy the ranges of a, b and e in the general formula (1) and mixed with pure water. At this time, the mixture may be sufficiently mixed using a mortar, ball mill, mixer mill or the like.

次に、得られた混合液のpH値Cを0<C<7に調整するように所定の酸を加えた後、水分を蒸発気化させる。   Next, a predetermined acid is added so that the pH value C of the obtained mixed solution is adjusted to 0 <C <7, and then water is evaporated.

次に、得られた原料混合物を石英ルツボあるいはアルミナルツボ等の耐熱性容器に充填して電気炉内で焼成を行う。焼成温度は500〜1000℃が好ましい。焼成時間は原料混合物の充填量、焼成温度等によって異なるが、0.5〜6時間が好ましい。   Next, the obtained raw material mixture is filled in a heat-resistant container such as a quartz crucible or an alumina crucible and fired in an electric furnace. The firing temperature is preferably 500 to 1000 ° C. The firing time varies depending on the filling amount of the raw material mixture, the firing temperature and the like, but is preferably 0.5 to 6 hours.

焼成雰囲気としては少量の水素ガスを含む窒素ガス雰囲気、少量の一酸化炭素を含む炭酸ガス雰囲気等の弱還元性雰囲気、窒素ガス雰囲気、希ガス雰囲気等の中性雰囲気あるいは少量の酸素ガスを含む弱酸化性雰囲気が好ましい。   The firing atmosphere includes a nitrogen gas atmosphere containing a small amount of hydrogen gas, a weak reducing atmosphere such as a carbon dioxide gas atmosphere containing a small amount of carbon monoxide, a neutral atmosphere such as a nitrogen gas atmosphere and a rare gas atmosphere, or a small amount of oxygen gas. A weak oxidizing atmosphere is preferred.

なお、前記の焼成条件で一度焼成した後、焼成物を電気炉から取り出して粉砕し、しかる後、焼成物粉末を再び耐熱性容器に充填して電気炉に入れ、前記と同じ焼成条件で再焼成を行なえば輝尽性蛍光体の発光輝度を更に高めることができ、また、焼成物を焼成温度より室温に冷却する際、焼成物を電気炉から取り出して空気中で放冷することによっても所望の輝尽性蛍光体を得ることができるが、焼成時と同じ、弱還元性雰囲気、中性雰囲気あるいは弱酸化性雰囲気のままで冷却してもよい。   After firing once under the aforementioned firing conditions, the fired product is taken out from the electric furnace and pulverized, and then the fired product powder is again filled in a heat-resistant container and placed in the electric furnace, and again under the same firing conditions as described above. If the firing is performed, the luminous brightness of the photostimulable phosphor can be further increased, and when the fired product is cooled to the room temperature from the firing temperature, the fired product is taken out of the electric furnace and allowed to cool in the air. Although a desired photostimulable phosphor can be obtained, it may be cooled in the same weakly reducing atmosphere, neutral atmosphere or weakly oxidizing atmosphere as at the time of firing.

また、焼成物を電気炉内で加熱部より冷却部へ移動させて、弱還元性雰囲気、中性雰囲気あるいは弱酸化性雰囲気で急冷することにより、得られた輝尽性蛍光体の輝尽による発光輝度をより一層高めることができる。   In addition, by moving the fired product from the heating part to the cooling part in an electric furnace and quenching in a weakly reducing atmosphere, neutral atmosphere or weakly oxidizing atmosphere, the resulting stimulable phosphor is excited. The light emission luminance can be further increased.

輝尽性蛍光体層12は、上記の輝尽性蛍光体を用いて基板11の一方の面へ気相堆積法や塗布法により形成される。気相堆積法としては、蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法、その他を用いることができる。   The photostimulable phosphor layer 12 is formed on one surface of the substrate 11 by vapor deposition or coating method using the photostimulable phosphor. As the vapor deposition method, an evaporation method, a sputtering method, a CVD method, an ion plating method, or the like can be used.

蒸着法では、まず、基板11を蒸着装置内に設置した後、装置内を排気して1.333×10-4Pa程度の真空度とする。次いで、輝尽性蛍光体を蒸発源として蒸着装置内の蒸発装置に設置し、抵抗加熱法、エレクトロンビーム法等の方法で加熱蒸発させて、基板11表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに成長させる。 In the vapor deposition method, first, after the substrate 11 is installed in a vapor deposition apparatus, the inside of the apparatus is evacuated to a vacuum degree of about 1.333 × 10 −4 Pa. Next, the stimulable phosphor is set as an evaporation source in an evaporation apparatus in the vapor deposition apparatus, and is heated and evaporated by a method such as a resistance heating method or an electron beam method, so that the stimulable phosphor is formed on the surface of the substrate 11 with a desired thickness. Let it grow.

この結果、結着材を含有しない輝尽性蛍光体層12が形成される。上記の蒸着工程では複数回に分けて輝尽性蛍光体層12を形成することも可能である。   As a result, the photostimulable phosphor layer 12 containing no binder is formed. In the above vapor deposition step, the photostimulable phosphor layer 12 can be formed in a plurality of times.

また、上記の蒸着工程では複数の抵抗加熱機あるいはエレクトロンビームを用いて複数の輝尽性蛍光体原料を蒸発源として共蒸着し、基板11上で目的とする輝尽性蛍光体を合成すると同時に輝尽性蛍光体層12を形成することも可能である。   In the vapor deposition step, a plurality of photostimulable phosphor materials are co-deposited using a plurality of resistance heaters or electron beams as an evaporation source, and at the same time, the target photostimulable phosphor is synthesized on the substrate 11. It is also possible to form the photostimulable phosphor layer 12.

上記の気相堆積法による輝尽性蛍光体層12の作成において、輝尽性蛍光体層12が形成される基板11の温度は、50℃〜400℃に設定することが好ましく、蛍光体の特性上は100℃〜250℃が好ましく、基板11に樹脂を用いる場合には樹脂の耐熱性を考慮して50℃〜150℃、さらに好ましくは50℃〜100℃がよい。   In the production of the photostimulable phosphor layer 12 by the above vapor deposition method, the temperature of the substrate 11 on which the photostimulable phosphor layer 12 is formed is preferably set to 50 ° C. to 400 ° C. From the viewpoint of characteristics, 100 ° C. to 250 ° C. is preferable. When a resin is used for the substrate 11, the heat resistance of the resin is taken into consideration, and 50 ° C. to 150 ° C., more preferably 50 ° C. to 100 ° C.

図2は、基板11上に輝尽性蛍光体層12が蒸着により形成される様子を示す図である。基板ホルダ15に固定された基板11面の法線方向(R)に対する輝尽性蛍光体の蒸気流16の入射角度をθ2(図では60°)とし、形成される柱状結晶13の基板11面の法線方向(R)に対する角度をθ1(図では30°)とすると、経験的にはθ1はθ2の約半分となり、この角度で柱状結晶13が形成される。 FIG. 2 is a diagram illustrating a state in which the photostimulable phosphor layer 12 is formed on the substrate 11 by vapor deposition. The incident angle of the stimulable phosphor vapor flow 16 with respect to the normal direction (R) of the surface of the substrate 11 fixed to the substrate holder 15 is θ 2 (60 ° in the figure), and the substrate 11 of the columnar crystal 13 formed is formed. Assuming that the angle with respect to the normal direction (R) of the surface is θ 1 (30 ° in the figure), empirically θ 1 is about half of θ 2 , and the columnar crystal 13 is formed at this angle.

輝尽性蛍光体の柱状結晶13の成長角は10〜70°がよく、好ましくは20°〜55°である。成長角を10〜70°にするには、入射角を20〜80°にすればよく20〜55°にするには入射角を40〜70°にすればよい。成長角が大きいと基板11に対して柱状結晶13が倒れすぎ、膜が脆くなる。   The growth angle of the columnar crystal 13 of the stimulable phosphor is preferably 10 to 70 °, preferably 20 to 55 °. To make the growth angle 10-70 °, the incident angle should be 20-80 °, and to make it 20-55 °, the incident angle should be 40-70 °. When the growth angle is large, the columnar crystal 13 falls too much with respect to the substrate 11, and the film becomes brittle.

輝尽性蛍光体または輝尽性蛍光体原料の蒸気流を基板11面に対しある入射角をつけて供給するには、基板11を蒸発源に対し互いに傾斜させる配置を取る方法がある。あるいは、基板11と蒸発源とを互いに平行に設置し、蒸発面からスリット等により斜め成分のみ基板11上に蒸着させるように規制する等の方法をとることができる。   In order to supply the vapor flow of the stimulable phosphor or the stimulable phosphor material at an incident angle with respect to the surface of the substrate 11, there is a method in which the substrate 11 is arranged to be inclined with respect to the evaporation source. Alternatively, a method may be employed in which the substrate 11 and the evaporation source are installed in parallel to each other and only an oblique component is deposited on the substrate 11 through a slit or the like from the evaporation surface.

これらの場合において、基板11と蒸発源との最短部の間隔は輝尽性蛍光体の平均飛程に合わせて概ね10cm〜60cmに設置するのが好ましい。   In these cases, it is preferable that the distance between the shortest portion of the substrate 11 and the evaporation source is approximately 10 cm to 60 cm in accordance with the average range of the stimulable phosphor.

柱状結晶13からなる輝尽性蛍光体層12において変調伝達関数(MTF)をよくするためには、柱状結晶13の大きさは1μm〜50μm程度がよく、更に好ましくは、1μm〜30μmである。即ち、柱状結晶13が1μmより細い場合は、柱状結晶13により輝尽励起光が散乱される為にMTFが低下するし、柱状結晶13が50μm以上の場合も輝尽励起光の指向性が低下し、MTFは低下する。   In order to improve the modulation transfer function (MTF) in the stimulable phosphor layer 12 composed of the columnar crystals 13, the size of the columnar crystals 13 is preferably about 1 μm to 50 μm, and more preferably 1 μm to 30 μm. That is, when the columnar crystal 13 is thinner than 1 μm, the MTF decreases because the stimulated excitation light is scattered by the columnar crystal 13, and the directivity of the stimulated excitation light also decreases when the columnar crystal 13 is 50 μm or more. However, the MTF decreases.

なお、柱状結晶13の大きさは、柱状結晶13を基板11と平行な面から観察したときの各柱状結晶13の断面積の円換算した直径の平均値であり、少なくとも100個以上の柱状結晶13を視野中に含む顕微鏡写真から計算する。   Note that the size of the columnar crystal 13 is an average value of the diameters in terms of a circle of the cross-sectional area of each columnar crystal 13 when the columnar crystal 13 is observed from a plane parallel to the substrate 11, and is at least 100 columnar crystals or more. Calculated from a micrograph containing 13 in the field of view.

また、各柱状結晶13間の間隙の大きさは30μm以下がよく、更に好ましくは5μm以下がよい。間隙が30μmを越える場合は蛍光体層中の蛍光体の充填率が低くなり、感度が低下してしまう。   Further, the size of the gap between the columnar crystals 13 is preferably 30 μm or less, and more preferably 5 μm or less. When the gap exceeds 30 μm, the filling rate of the phosphor in the phosphor layer is lowered and the sensitivity is lowered.

柱状結晶13の太さは基板11温度、真空度、蒸気流入射角度等によって影響を受け、これらを制御することによって所望の太さの柱状結晶13を作製することが可能である。   The thickness of the columnar crystal 13 is affected by the temperature of the substrate 11, the degree of vacuum, the vapor flow incident angle, and the like, and the columnar crystal 13 having a desired thickness can be produced by controlling these.

また、柱状結晶13の間に形成された間隙に結着剤等の充填物を充填してもよく、輝尽性蛍光体層12の補強となるほか、高光吸収の物質、高光反射の物質を充填してもよい。充填物により補強効果をもたせるほか、輝尽性蛍光体層12に入射した輝尽励起光の横方向への光拡散の低減に有効である。   In addition, the gap formed between the columnar crystals 13 may be filled with a filler such as a binder, and in addition to reinforcing the stimulable phosphor layer 12, a highly light-absorbing substance and a highly light-reflecting substance may be used. It may be filled. In addition to providing a reinforcing effect by the filler, it is effective for reducing the light diffusion in the lateral direction of the stimulated excitation light incident on the stimulable phosphor layer 12.

スパッタリング法では、蒸着法と同様、基板11をスパッタリング装置内に設置した後、装置内を一旦排気して1.333×10-4Pa程度の真空度とし、次いでスパッタリング用のガスとしてAr、Ne等の不活性ガスをスパッタリング装置内に導入して1.333×10-1Pa程度のガス圧とする。次に、輝尽性蛍光体をターゲットとして、スパッタリングすることにより、基板11上に輝尽性蛍光体層12を所望の厚さに成長させる。 In the sputtering method, as in the vapor deposition method, after the substrate 11 is placed in the sputtering apparatus, the inside of the apparatus is once evacuated to a vacuum of about 1.333 × 10 −4 Pa, and then Ar, Ne as sputtering gases. An inert gas such as is introduced into the sputtering apparatus to obtain a gas pressure of about 1.333 × 10 −1 Pa. Next, the photostimulable phosphor layer 12 is grown on the substrate 11 to a desired thickness by sputtering using the photostimulable phosphor as a target.

スパッタリング工程では蒸着法と同様に各種応用処理を用いることができる。CVD法やイオンプレーティング法、その他においても同様である。   Various applied treatments can be used in the sputtering process as in the vapor deposition method. The same applies to the CVD method, the ion plating method, and others.

なお、気相堆積法における輝尽性蛍光体層12の成長速度は、0.05μm/min〜300μm/minであることが好ましい。成長速度が0.05μm/min未満の場合には放射線画像変換パネルの生産性が悪く好ましくない。また成長速度が300μm/minを超える場合には成長速度のコントロールが難しく好ましくない。   The growth rate of the photostimulable phosphor layer 12 in the vapor deposition method is preferably 0.05 μm / min to 300 μm / min. When the growth rate is less than 0.05 μm / min, the productivity of the radiation image conversion panel is poor and is not preferable. Further, when the growth rate exceeds 300 μm / min, it is difficult to control the growth rate, which is not preferable.

塗布法では、まず、輝尽性蛍光体及び結合剤を適当な溶剤に添加し、これらを充分に混合して輝尽性蛍光体及び結合剤の粒子が均一に分散した塗布液を調整し、基板11となる基板材料上に塗布して作成する。この際、結合剤は輝尽性蛍光体1質量部に対して0.01〜1質量部の範囲で使用される。しかしながら、放射線画像変換パネルの感度及び鮮鋭性の点では結合剤は少ないことが好ましく、塗布の容易さとの兼ね合いから0.03〜0.2質量部の範囲がより好ましい。   In the coating method, first, the stimulable phosphor and the binder are added to an appropriate solvent, and these are mixed well to prepare a coating solution in which the particles of the stimulable phosphor and the binder are uniformly dispersed, It is formed by coating on a substrate material to be the substrate 11. Under the present circumstances, a binder is used in 0.01-1 mass part with respect to 1 mass part of stimulable fluorescent substance. However, in terms of sensitivity and sharpness of the radiation image conversion panel, it is preferable that the amount of the binder is small, and the range of 0.03 to 0.2 parts by mass is more preferable in view of the ease of application.

塗布液の調整に用いられる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール等の低級アルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等の低級脂肪酸と低級アルコールとのエステル、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル、トリオール、キシロース等の芳香族化合物、メチレンクロライド、エチレンクロライド等のハロゲン化炭化水素及びこれらの混合物などが挙げられる。   Examples of the solvent used for preparing the coating solution include lower alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol and n-butanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate and n-butyl acetate. Esters of lower fatty acids and lower alcohols such as dioxane, ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether, aromatic compounds such as triol and xylose, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and ethylene chloride, and these A mixture etc. are mentioned.

なお塗布液には、塗布液中における輝尽性蛍光体の分散性を向上させるための分散剤や、塗布後の輝尽性蛍光体層12中における輝尽性蛍光体と結合剤との結合力を向上させるための可塑剤などの種々の添加剤が混合されていてもよい。   In the coating solution, a dispersing agent for improving the dispersibility of the stimulable phosphor in the coating solution, or a combination of the stimulable phosphor and the binder in the stimulable phosphor layer 12 after coating is used. Various additives such as a plasticizer for improving the strength may be mixed.

分散剤の例としては、フタル酸、ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤等を挙げることができる。また、可塑剤の例としては、燐酸トリフェニル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフェニル等の燐酸エステル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチル等のフタル酸エステル、グリコール酸エチルフタリルエチル、グリコール酸ブチルフタリルブチル等のグリコール酸エステル、トリエチレングリコールとアジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリコールとコハク酸とのポリエステル等のポリエチレングリコールと脂肪族二塩基酸とのポリエステルなどを挙げることができる。   Examples of the dispersant include phthalic acid, stearic acid, caproic acid, lipophilic surfactant and the like. Examples of plasticizers include phosphate esters such as triphenyl phosphate, tricresyl phosphate and diphenyl phosphate, phthalate esters such as diethyl phthalate and dimethoxyethyl phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate And the like, polyesters of triethylene glycol and adipic acid, polyesters of polyethylene glycol and aliphatic dibasic acid such as polyesters of diethylene glycol and succinic acid, and the like.

塗布液の調整は、ボールミル、サンドミル、アトライター、三本ロールミル、高速インペラー分散機、Kadyミル、及び超音波分散機等の分散装置を用いて行われる。調整された塗布液をドクターブレード、ロールコーター、ナイフコーターなどを用いて基板材料上に塗布する。次いで、形成された塗膜を徐々に加熱することにより乾燥させることにより輝尽性蛍光体層12が形成される。   The coating liquid is adjusted using a dispersing device such as a ball mill, a sand mill, an attritor, a three-roll mill, a high-speed impeller disperser, a Kady mill, and an ultrasonic disperser. The adjusted coating solution is applied onto the substrate material using a doctor blade, roll coater, knife coater or the like. Next, the stimulable phosphor layer 12 is formed by drying the formed coating film by gradually heating it.

塗布法により輝尽性蛍光体層12を設けたら、基板材料を輝尽性蛍光体層12とともに所定の大きさに断裁する。断裁は一般のどのような方法でも可能であるが、作業性、精度の面から化粧断裁機、打ち抜き機などを使用することが好ましい。なお基板材料が充分小さい場合には、断裁を行わずに基板材料を基板11として使用してもよい。   When the photostimulable phosphor layer 12 is provided by the coating method, the substrate material is cut into a predetermined size together with the photostimulable phosphor layer 12. Cutting can be performed by any general method, but it is preferable to use a decorative cutting machine, a punching machine, or the like in terms of workability and accuracy. When the substrate material is sufficiently small, the substrate material may be used as the substrate 11 without performing cutting.

気相堆積法や塗布法により形成される輝尽性蛍光体層12の膜厚は、目的とする放射線画像変換パネルの特性、輝尽性蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との混合比などによって異なるが、10〜1000μmの範囲から選ばれるのが好ましく、10〜500μmの範囲から選ばれることがより好ましい。   The film thickness of the photostimulable phosphor layer 12 formed by the vapor deposition method or the coating method depends on the characteristics of the intended radiation image conversion panel, the type of stimulable phosphor, and the mixing ratio of the binder and the phosphor. Although it varies depending on the above, it is preferably selected from the range of 10 to 1000 μm, more preferably selected from the range of 10 to 500 μm.

以上のようにして蛍光体プレートを形成したら、輝尽性蛍光体層12を被覆し封止する防湿性保護フィルム20を設ける。防湿性保護フィルム20としては、酢酸セルロース、ニトロセルロース、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、ポリ四フッ化エチレン、ポリ三フッ化−塩化エチレン、四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体などの樹脂フィルムを用いることができる。樹脂フィルムは加工が容易で厚みを100μm以下と薄くしても製造工程中の強度には問題がなく、薄層であるため初期画質の点で好ましい。   When the phosphor plate is formed as described above, a moisture-proof protective film 20 that covers and seals the photostimulable phosphor layer 12 is provided. As the moisture-proof protective film 20, cellulose acetate, nitrocellulose, polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polycarbonate, polyester, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene, polyvinylidene chloride, nylon, polytetrafluoroethylene, poly Resin films such as trifluoride-ethylene chloride, ethylene tetrafluoride-hexafluoropropylene copolymer, vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer can be used. The resin film is easy to process, and even if the thickness is reduced to 100 μm or less, there is no problem in strength during the manufacturing process, and since it is a thin layer, it is preferable in terms of initial image quality.

また、これらの防湿性保護フィルム20は、透湿度及び酸素透過性が低い無機物質の層を積層して有していてもよい。このような無機物質としては、SiOx(SiO、SiO2)、Al2O3、ZrO2、SnO2,SiC、SiN等があるが、このうち特にAl2O3やSiOxは光透過率が高くかつ透湿度及び酸素透過性が高い、すなわちクラックやマイクロポアが少なく緻密な膜を形成することができるので特に好ましい。SiOx、Al2O3は単独で積層しても良いが、両方を共に積層すると透湿度及び酸素透過性をより高くすることができるので、SiOx、Al2O3の両方を積層してもよい。 Moreover, these moisture-proof protective films 20 may have laminated | stacked the layer of the inorganic substance with low moisture permeability and oxygen permeability. Examples of such inorganic substances include SiO x (SiO, SiO 2 ), Al 2 O 3 , ZrO 2 , SnO 2 , SiC, and SiN. Of these, Al 2 O 3 and SiO x are particularly light transmissive. It is particularly preferable because it has a high moisture permeability and oxygen permeability, that is, it can form a dense film with few cracks and micropores. SiO x and Al 2 O 3 may be laminated alone, but if both are laminated together, moisture permeability and oxygen permeability can be increased, so both SiO x and Al 2 O 3 are laminated. Also good.

無機物質の防湿性保護フィルム20への積層は、PVD法、スパッタリング法、CVD法、PE-CVD(Plasma enhanced CVD)等の方法が使用できる。積層は、蛍光体層を樹脂フィルムで被覆したのちに行ってもよいし、蛍光体層を被覆する前に行ってもよい。積層厚は0.01μmから1μm程度であることが好ましい。   The lamination of the inorganic substance on the moisture-proof protective film 20 can be performed by a method such as PVD method, sputtering method, CVD method, PE-CVD (Plasma enhanced CVD). Lamination may be performed after the phosphor layer is coated with the resin film, or may be performed before the phosphor layer is coated. The laminated thickness is preferably about 0.01 μm to 1 μm.

また、アルミフィルム等の金属フィルムをラミネートしてなる積層フィルムを使用してもよい。あるいは、あらかじめ蒸着層が形成された市販の防湿性樹脂フィルムを用いてもよい。このような防湿性樹脂フィルムとしては、例えば、凸版印刷(株)GL−AEなどがある。上記のフィルムを複数枚積層して防湿性保護フィルム20としてもよい。   Moreover, you may use the laminated film formed by laminating | stacking metal films, such as an aluminum film. Or you may use the commercially available moisture-proof resin film in which the vapor deposition layer was formed previously. Examples of such a moisture-proof resin film include Toppan Printing Co., Ltd. GL-AE. A plurality of the above films may be laminated to form the moisture-proof protective film 20.

防湿性保護フィルム20による輝尽性蛍光体層12の封止方法としては、周知のどのような方法でもかまわない。例えば最外層を熱融着性の樹脂フィルムとした防湿性保護フィルム20を、蛍光体プレート10の上下に配置し、防湿性防湿性樹脂フィルムの蛍光体プレート側面よりも外側部分をインパルスヒーターにより加熱して圧着することで、輝尽性蛍光体層12を封止することができる。   As a method for sealing the photostimulable phosphor layer 12 with the moisture-proof protective film 20, any known method may be used. For example, a moisture-proof protective film 20 having an outermost layer as a heat-fusible resin film is disposed above and below the phosphor plate 10 and the outer side of the moisture-proof moisture-proof resin film is heated by an impulse heater. Then, the photostimulable phosphor layer 12 can be sealed by pressure bonding.

防湿性保護フィルム20による輝尽性蛍光体層12の封止は、He、Ne、Ar、Kr、Xe等の希ガス、窒素ガス、二酸化炭素ガスの少なくとも1種類の気体、または2種類以上の混合気体の雰囲気下で行う。上記気体の圧力は500〜8000Paであることが好ましく、4500〜7500Paであることかさらに好ましい。   Sealing of the photostimulable phosphor layer 12 with the moisture-proof protective film 20 is performed using at least one kind of gas such as He, Ne, Ar, Kr, Xe, or the like, nitrogen gas, carbon dioxide gas, or two or more kinds. It is carried out in a mixed gas atmosphere. The pressure of the gas is preferably 500 to 8000 Pa, more preferably 4500 to 7500 Pa.

上記気体の雰囲気下で輝尽性蛍光体層12を防湿性保護フィルム20で封止することにより、輝尽性蛍光体層12と防湿性保護フィルム20との間に希ガス、窒素ガス、二酸化炭素ガスのいずれか1種または2種以上の気体を充填することができる。これにより放射線画像変換パネルの特定の性能を向上させることができる。   By sealing the photostimulable phosphor layer 12 with the moisture-proof protective film 20 in the gas atmosphere, a rare gas, nitrogen gas, or carbon dioxide is interposed between the photostimulable phosphor layer 12 and the moisture-proof protective film 20. Any one or two or more gases of carbon gas can be filled. Thereby, the specific performance of the radiation image conversion panel can be improved.

He、Ne、Ar、Kr、Xe等の希ガスを充填した放射線画像変換パネルでは、輝尽性蛍光体層12と防湿性保護フィルム20との間に充填された希ガスが、被写体や周辺材により散乱されたX線を吸収して励起され、10-2秒程度で発光した後に再び弱いX線を吸収することを繰り返す。このため、散乱X線による輝尽性蛍光体層12の表面付近のノイズを除去することができ、再生画像のコントラストを向上させることができる。 In the radiation image conversion panel filled with a rare gas such as He, Ne, Ar, Kr, or Xe, the rare gas filled between the stimulable phosphor layer 12 and the moisture-proof protective film 20 is used as a subject or a peripheral material. The X-rays scattered by are absorbed and excited, and after emitting light in about 10 −2 seconds, the weak X-rays are absorbed again. For this reason, noise near the surface of the photostimulable phosphor layer 12 due to scattered X-rays can be removed, and the contrast of the reproduced image can be improved.

窒素ガスを充填した放射線画像変換パネルでは、輝尽性蛍光体層12と防湿性保護フィルム20との間に窒素ガスが充填されていることにより、放射線画像変換パネル内への空気中の水蒸気の浸入を防ぐことができ、輝尽性蛍光体層12の耐湿性を向上させることができる。特にこの効果は防湿性保護フィルム20として、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリエチレンナフタレートフィルムの上に金属酸化物、窒化珪素等の薄膜を蒸着したものを使用した場合に効果が大きい。   In the radiation image conversion panel filled with nitrogen gas, the nitrogen gas is filled between the photostimulable phosphor layer 12 and the moisture-proof protective film 20, so that the water vapor in the air into the radiation image conversion panel is reduced. Infiltration can be prevented and the moisture resistance of the photostimulable phosphor layer 12 can be improved. This effect is particularly significant when the moisture-proof protective film 20 is a film obtained by depositing a thin film such as a metal oxide or silicon nitride on a polyethylene terephthalate film or a polyethylene naphthalate film.

二酸化炭素ガスを充填した放射線画像変換パネルでは、後述する実験で示されるように、輝尽性蛍光体層12の輝尽発光輝度を5〜10%向上させることができるとともに、X線による放射線画像変換パネルの輝度劣化を防止することができる。   In the radiation image conversion panel filled with carbon dioxide gas, as shown in an experiment to be described later, the stimulable emission brightness of the stimulable phosphor layer 12 can be improved by 5 to 10%, and the radiation image by X-rays The luminance deterioration of the conversion panel can be prevented.

放射線画像変換パネルの輝尽性蛍光体層12と防湿性保護フィルム20との間に充填される気体は、輝尽性蛍光体層12を防湿性保護フィルム20で封止する際の雰囲気を変えることで任意に変更することが可能である。したがって、ほぼ同一の工程で多種の放射線画像変換パネルを製造することができ、施設での撮影目的に合致した特定の性能を向上させた放射線画像変換パネルを安価に提供することができる。   The gas filled between the photostimulable phosphor layer 12 and the moisture-proof protective film 20 of the radiation image conversion panel changes the atmosphere when the photostimulable phosphor layer 12 is sealed with the moisture-proof protective film 20. It is possible to change arbitrarily. Therefore, a variety of radiation image conversion panels can be manufactured through substantially the same process, and a radiation image conversion panel with improved specific performance that meets the purpose of imaging in a facility can be provided at low cost.

以下、本発明を実施例により説明する。なお、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples. In addition, this invention is not limited by these Examples.

以下に記載の方法に従って、各種放射線画像変換パネルを作製した。   Various radiation image conversion panels were produced according to the method described below.

<基板の作製> 500μm厚の透明結晶化ガラスの一方の面に光反射層を設け、基板とした。光反射層は、酸化チタン(フルウチ化学社製)と酸化ジルコニウム(フルウチ化学社製)とを、蒸着装置を用いて基板上に蒸着することで、膜形成した。光反射層は波長400nmの光の反射率が85%、波長660nmの光の反射率が20%となるように膜厚を調整した。   <Production of Substrate> A light reflecting layer was provided on one surface of a 500 μm-thick transparent crystallized glass to obtain a substrate. The light reflecting layer was formed into a film by depositing titanium oxide (manufactured by Furuuchi Chemical Co., Ltd.) and zirconium oxide (manufactured by Furuuchi Chemical Co., Ltd.) on a substrate using a vapor deposition apparatus. The thickness of the light reflecting layer was adjusted so that the reflectance of light having a wavelength of 400 nm was 85% and the reflectance of light having a wavelength of 660 nm was 20%.

<蛍光体プレートの作製> 上記基板にCsBr:Euからなる輝尽性蛍光体を蒸着し、輝尽性蛍光体層を形成した。まず蒸着装置内の真空チャンバー内に固定して240℃に加温した。次いで真空チャンバー内に窒素ガスを導入し、真空度を0.1Paとした。基板の光反射層を設けた面を蒸着源に向けた。蒸着源と基板との距離は60cmとした。また蒸着源と基板との間にはアルミニウム製のスリットを配置し、基板面の法線方向に対して30°の角度で輝尽性蛍光体の蒸気が入射するようにした。基板を面方向に搬送しながら蒸着を行い、300μm厚の柱状構造を有する輝尽性蛍光体層を基板に形成し、蛍光体プレートを得た。   <Preparation of phosphor plate> A photostimulable phosphor made of CsBr: Eu was deposited on the substrate to form a photostimulable phosphor layer. First, it was fixed in a vacuum chamber in a vapor deposition apparatus and heated to 240 ° C. Next, nitrogen gas was introduced into the vacuum chamber, and the degree of vacuum was set to 0.1 Pa. The surface of the substrate provided with the light reflecting layer was directed to the vapor deposition source. The distance between the deposition source and the substrate was 60 cm. In addition, an aluminum slit was disposed between the deposition source and the substrate so that the stimulable phosphor vapor was incident at an angle of 30 ° with respect to the normal direction of the substrate surface. Vapor deposition was carried out while conveying the substrate in the surface direction, and a stimulable phosphor layer having a columnar structure with a thickness of 300 μm was formed on the substrate to obtain a phosphor plate.

<防湿性保護フィルムの作製> 蛍光体プレートの輝尽性蛍光体層側に設ける防湿性保護フィルムは、各種マット加工の施された膜厚12μmのポリエチレンテレフタレート(PET12)と、アルミナを蒸着した膜厚12μmのPET(VMPET12、東洋メタライジング社製)とを、ドライラミネーションで貼り合わせて形成した。ドライラミネーションには、2液反応型のウレタン系接着材を使用した。   <Preparation of moisture-proof protective film> The moisture-proof protective film provided on the stimulable phosphor layer side of the phosphor plate is a film obtained by depositing polyethylene terephthalate (PET12) having a thickness of 12 μm on which various mats have been processed, and alumina. A 12 μm-thick PET (VMPET12, manufactured by Toyo Metallizing Co., Ltd.) was attached by dry lamination. For dry lamination, a two-component reaction type urethane adhesive was used.

また、蛍光体プレートの基板側に設ける防湿性保護フィルムは、9μm厚のアルミ箔と、100μm厚のPETとをドライラミネーションで貼り合わせ、アルミ箔側に熱融着性ラッカーを塗布して形成した。   Moreover, the moisture-proof protective film provided on the substrate side of the phosphor plate was formed by laminating 9 μm thick aluminum foil and 100 μm thick PET by dry lamination and applying a heat-fusible lacquer on the aluminum foil side. .

<蛍光体パネルの封止> 蛍光体パネルの両面に上記防湿性保護フィルムを配置した。これを真空チャンバー内に設置し、圧力を200Paまで減圧後、ヘリウムガスを流入しチャンバー内をガス置換した。その後、チャンバー内の気圧を7000Paに再調節し、この減圧下でインパルスシーラーを用いて蛍光体パネルの周縁部で防湿性保護フィルム同士を融着し、蛍光体パネルを封止し、放射線画像変換パネルを得た。インパルスシーラーのヒーターは8mm幅のものを使用した。   <Sealing of phosphor panel> The moisture-proof protective film was disposed on both sides of the phosphor panel. This was installed in a vacuum chamber, and after reducing the pressure to 200 Pa, helium gas was introduced to replace the gas in the chamber. After that, the atmospheric pressure in the chamber is readjusted to 7000 Pa, and under this reduced pressure, the moisture-proof protective film is fused together at the periphery of the phosphor panel using an impulse sealer, the phosphor panel is sealed, and radiation image conversion is performed. I got a panel. The impulse sealer heater was 8 mm wide.

実施例1のヘリウムガスをネオンガスに代えて放射線画像変換パネルを得た。   A radiation image conversion panel was obtained by replacing the helium gas of Example 1 with neon gas.

実施例1のヘリウムガスをアルゴンガスに代えて放射線画像変換パネルを得た。   A radiation image conversion panel was obtained by replacing the helium gas of Example 1 with argon gas.

実施例1のヘリウムガスをクリプトンガスに代えて放射線画像変換パネルを得た。   A radiation image conversion panel was obtained by replacing the helium gas of Example 1 with krypton gas.

実施例1のヘリウムガスをキセノンガスに代えて放射線画像変換パネルを得た。   A radiation image conversion panel was obtained by replacing the helium gas of Example 1 with xenon gas.

実施例1のヘリウムガスを二酸化炭素ガスに代えて放射線画像変換パネルを得た。   A radiation image conversion panel was obtained by replacing the helium gas of Example 1 with carbon dioxide gas.

実施例1のヘリウムガスを窒素ガスに代えて放射線画像変換パネルを得た。   A radiation image conversion panel was obtained by replacing the helium gas of Example 1 with nitrogen gas.

〔比較例1〕
実施例1のヘリウムガスを大気に代えて放射線画像変換パネルを得た。
〔比較例2〕
実施例1のヘリウムガスを酸素ガスに代えて放射線画像変換パネルを得た。
[Comparative Example 1]
A radiation image conversion panel was obtained by replacing the helium gas of Example 1 with the atmosphere.
[Comparative Example 2]
A radiation image conversion panel was obtained by replacing the helium gas of Example 1 with oxygen gas.

上記実施例1〜7、及び比較例1、2の放射線画像変換パネルについて、下記の評価を行った。   The following evaluation was performed on the radiation image conversion panels of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2.

<コントラスト評価> 放射線画像変換パネルに40mm厚の鉛ディスクを写し込み、管電圧80kVpのX線を均一に照射した。その後、放射線画像変換パネルを輝尽性蛍光体層側から半導体レーザー(660nm)で走査して輝尽性蛍光体層を励起し、輝尽発光を受光器(分光感度S−5の光電子増倍管)で受光して画像を読み取った。得られた画像をレーザー書き込み式のフィルムプリンターで出力した。出力した画像を目視で観察し、鉛ディスク部(白)とその周辺部(黒)とのコントラストを下記の基準に則り5段階で評価した。なお、評価2以下は、実用上診断に適さないものと判断した。
5: 鉛ディスク周縁部、並びに白黒の明度差が明瞭に確認される。
4: 鉛ディスク周縁部がわずかにぼやけるものの、白黒の明度差はほぼ明瞭に確認される。
3: 鉛ディスク周縁部がぼやけて見え、白黒の明度差がやや明瞭でない。
2: 鉛ディスク周縁部、並びに白黒の明度差が不明瞭であり、鉛ディスクサイズを再現していない。
1: 鉛ディスク形状、並びに白黒の明度差が不明瞭であり、中心部の白色度も低い。
<Contrast Evaluation> A 40 mm-thick lead disk was copied onto the radiation image conversion panel, and X-rays with a tube voltage of 80 kVp were uniformly irradiated. Thereafter, the radiation image conversion panel is scanned from the photostimulable phosphor layer side with a semiconductor laser (660 nm) to excite the photostimulable phosphor layer, and stimulated emission is received by a photoreceiver (photoelectron multiplication of spectral sensitivity S-5). Tube) to receive the light and read the image. The obtained image was output by a laser writing type film printer. The output image was visually observed, and the contrast between the lead disk portion (white) and its peripheral portion (black) was evaluated in five stages according to the following criteria. In addition, it was judged that evaluation 2 or less is unsuitable for diagnosis practically.
5: The brightness difference between the periphery of the lead disk and black and white is clearly confirmed.
4: Although the peripheral edge of the lead disk is slightly blurred, the brightness difference between black and white is almost clearly confirmed.
3: The peripheral edge of the lead disk looks blurry, and the brightness difference between black and white is not clear.
2: The brightness difference between the lead disk periphery and black and white is not clear, and the lead disk size is not reproduced.
1: The lead disk shape and the brightness difference between black and white are unclear, and the whiteness of the center is low.

<初期輝度> 放射線画像変換パネルに管電圧80kVpのX線を基板側から照射した。その後、放射線画像変換パネルを輝尽性蛍光体層側から半導体レーザー(660nm)で走査して輝尽性蛍光体層を励起し、輝尽発光を受光器(分光感度S−5の光電子増倍管)で受光して、その強度を測定し、比較例1の放射線画像変換パネルの初期輝度を1.0とした、相対値で表示した。   <Initial luminance> X-rays having a tube voltage of 80 kVp were irradiated from the substrate side to the radiation image conversion panel. Thereafter, the radiation image conversion panel is scanned from the photostimulable phosphor layer side with a semiconductor laser (660 nm) to excite the photostimulable phosphor layer, and stimulated emission is received by a photoreceiver (photoelectron multiplication of spectral sensitivity S-5). The intensity was measured and displayed as a relative value with the initial luminance of the radiation image conversion panel of Comparative Example 1 being 1.0.

<X線による輝度低下> 放射線画像変換パネルに断続的に2000レントゲンのX線(80kV)を照射した後、紫外線をカットした6000Luxの蛍光灯下に2日間放置し、完全にX線情報を消去した。その後、初期輝度の測定と同じ方法で輝尽発光強度を測定し、2000レントゲン照射後の相対輝度を、初期輝度を100とした相対値で表示した。   <Luminance reduction due to X-rays> Radiation image conversion panel is irradiated with X-rays (80 kV) of 2000 X-rays intermittently, and then left under a 6000 Lux fluorescent lamp with UV light cut for 2 days to completely erase the X-ray information. did. Thereafter, the stimulated emission intensity was measured by the same method as the measurement of the initial luminance, and the relative luminance after 2000 X-ray irradiation was displayed as a relative value with the initial luminance set to 100.

<湿度による輝度低下> 放射線画像変換パネルを、気温40℃、湿度90%の環境下で50日間の湿度劣化処理を施した後、初期輝度の測定と同じ方法で輝尽発光強度を測定し、湿度劣化処理後の相対輝度を、初期輝度を100とした相対値で表示した。   <Luminance reduction due to humidity> After the radiation image conversion panel was subjected to humidity degradation treatment for 50 days in an environment of 40 ° C. and 90% humidity, the stimulated emission intensity was measured by the same method as the measurement of initial luminance. The relative luminance after the humidity deterioration treatment was displayed as a relative value with the initial luminance set to 100.

以上の評価を表1に示す。

Figure 2005127850
The above evaluation is shown in Table 1.
Figure 2005127850

希ガスを充填した放射線画像変換パネル(実施例1〜5)は、大気を充填した場合(比較例1)と比べ、コントラストが高かった。また、二酸化炭素ガスを充填した放射線画像変換パネル(実施例6)では、比較例1と比べ、初期輝度が高く、またX線の照射による輝度低下も小さかった。また、窒素ガスを充填した放射線画像変換パネル(実施例7)では、比較例1と比べ、湿度劣化処理後の輝度低下が小さかった。また、酸素を充填した場合(比較例2)には、コントラストが低く、初期輝度も低下し、X線の照射による輝度低下、湿度劣化処理後の輝度低下が大きく、実用上診断に適さなかった。   The radiographic image conversion panels (Examples 1 to 5) filled with a rare gas had higher contrast than the case where the atmosphere was filled (Comparative Example 1). Moreover, in the radiation image conversion panel (Example 6) filled with carbon dioxide gas, the initial luminance was higher than that of Comparative Example 1, and the luminance decrease due to X-ray irradiation was also small. In addition, in the radiation image conversion panel (Example 7) filled with nitrogen gas, the luminance decrease after the humidity deterioration process was small as compared with Comparative Example 1. In addition, when oxygen was filled (Comparative Example 2), the contrast was low, the initial luminance was lowered, the luminance was lowered due to X-ray irradiation, and the luminance was lowered after the humidity deterioration treatment, which was not suitable for diagnosis in practice. .

以上のように、放射線画像変換パネルに希ガス、二酸化炭素ガス、窒素ガスのいずれかの気体を充填することにより、コントラスト、輝度、耐久性など特定の性能を向上させることができる。なお、これらの気体は単独で用いてもよいし、2種類以上の気体を混合して用いてもよい。   As described above, by filling the radiographic image conversion panel with any of rare gas, carbon dioxide gas, and nitrogen gas, specific performance such as contrast, brightness, and durability can be improved. In addition, these gases may be used independently and may mix and use 2 or more types of gases.

本発明の放射線画像変換パネルの形態例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the example of a form of the radiographic image conversion panel of this invention. 本発明の放射線画像変換パネルの輝尽性蛍光体層の形成方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the formation method of the photostimulable phosphor layer of the radiographic image conversion panel of this invention. 放射線画像変換パネルを用いた撮像方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the imaging method using a radiographic image conversion panel.

符号の説明Explanation of symbols

10 蛍光体パネル
11 基板
12 輝尽性蛍光体層
13 柱状結晶
15 基板ホルダ
16 蒸気流
20 防湿性保護フィルム
10 phosphor panel 11 substrate 12 stimulable phosphor layer 13 columnar crystal 15 substrate holder 16 vapor flow 20 moisture-proof protective film

Claims (5)

基板に設けた輝尽性蛍光体層を防湿性保護フィルムで封止してなる放射線画像変換パネルにおいて、前記輝尽性蛍光体層と前記防湿性保護フィルムとの間には希ガスが充填されていることを特徴とする放射線画像変換パネル。   In a radiation image conversion panel formed by sealing a photostimulable phosphor layer provided on a substrate with a moisture-proof protective film, a rare gas is filled between the photostimulable phosphor layer and the moisture-proof protective film. A radiation image conversion panel characterized by comprising: 前記希ガスはHe、Ne、Ar、Kr、Xeの少なくとも1種または2種以上であることを特徴とする請求項1に記載の放射線画像変換パネル。   The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the rare gas is at least one or more of He, Ne, Ar, Kr, and Xe. 基板に設けた輝尽性蛍光体層を防湿性保護フィルムで封止してなる放射線画像変換パネルにおいて、前記輝尽性蛍光体層と前記防湿性保護フィルムとの間には窒素ガスが充填されていることを特徴とする放射線画像変換パネル。   In a radiation image conversion panel formed by sealing a photostimulable phosphor layer provided on a substrate with a moisture-proof protective film, nitrogen gas is filled between the photostimulable phosphor layer and the moisture-proof protective film. A radiation image conversion panel characterized by comprising: 基板に設けた輝尽性蛍光体層を防湿性保護フィルムで封止してなる放射線画像変換パネルにおいて、前記輝尽性蛍光体層と前記防湿性保護フィルムとの間には二酸化炭素ガスが充填されていることを特徴とする放射線画像変換パネル。   In a radiation image conversion panel formed by sealing a photostimulable phosphor layer provided on a substrate with a moisture-proof protective film, carbon dioxide gas is filled between the photostimulable phosphor layer and the moisture-proof protective film. Radiation image conversion panel characterized by being made. 基板に輝尽性蛍光体層を設け、該輝尽性蛍光体層を防湿性保護フィルムで封止する放射線画像変換パネルの製造方法であって、輝尽性蛍光体層に密着させずに防湿性保護フィルムで輝尽性蛍光体層を被覆し、次いで輝尽性蛍光体層と防湿性保護フィルムとの間に希ガス、窒素ガス、二酸化炭素ガスのいずれか1種または2種以上の気体を充填することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。   A method for producing a radiation image conversion panel in which a photostimulable phosphor layer is provided on a substrate, and the photostimulable phosphor layer is sealed with a moisture-proof protective film, and is moisture-proof without being in close contact with the photostimulable phosphor layer. The stimulable phosphor layer is covered with a stimulable protective film, and then one or more gases of noble gas, nitrogen gas, and carbon dioxide gas are provided between the stimulable phosphor layer and the moisture-proof protective film. The manufacturing method of the radiographic image conversion panel characterized by the above-mentioned.
JP2003363426A 2003-10-23 2003-10-23 Radiological image conversion panel and manufacturing method of radiological image conversion panel Pending JP2005127850A (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003363426A JP2005127850A (en) 2003-10-23 2003-10-23 Radiological image conversion panel and manufacturing method of radiological image conversion panel
EP04256434A EP1526554A2 (en) 2003-10-23 2004-10-19 Radiation image conversion panel
US10/968,302 US20050087698A1 (en) 2003-10-23 2004-10-20 Radiation image conversion panel

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003363426A JP2005127850A (en) 2003-10-23 2003-10-23 Radiological image conversion panel and manufacturing method of radiological image conversion panel

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005127850A true JP2005127850A (en) 2005-05-19

Family

ID=34642757

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003363426A Pending JP2005127850A (en) 2003-10-23 2003-10-23 Radiological image conversion panel and manufacturing method of radiological image conversion panel

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005127850A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3987469B2 (en) Radiation image conversion panel
JP4665968B2 (en) Radiation image conversion panel
US6864491B2 (en) Radiation image conversion panel
US7199381B2 (en) Radiation image conversion panel
US20050077480A1 (en) Radiographic image conversion panel and method for manufacturing the radiographic image conversion panel
US20040183029A1 (en) Radiographic image conversion panel
JP4378959B2 (en) Manufacturing method of radiation image conversion panel
JP2005164576A (en) Radiographic image conversion panel
US20060049370A1 (en) Method for producing radiation image conversion panel
JP4650433B2 (en) Radiation image conversion panel reading system and radiation image conversion panel
JP2005127850A (en) Radiological image conversion panel and manufacturing method of radiological image conversion panel
JP3538781B2 (en) Alkali halide phosphor, radiation image conversion panel using the phosphor, and radiation image conversion method using the radiation image conversion panel
JP4059184B2 (en) Radiation image conversion panel
US20050087698A1 (en) Radiation image conversion panel
JP2007024713A (en) Radiation image conversion panel
JP2005164312A (en) Radiographic image conversion panel and method for manufacturing it
JP2005098829A (en) Radiographic image conversion panel
JP3228527B2 (en) Manufacturing method of radiation image conversion panel
JP4281524B2 (en) Radiation image conversion panel
JP2005127851A (en) Radiological image conversion panel
JP4492288B2 (en) Radiation image conversion panel
JPWO2006049026A1 (en) Radiation image conversion panel and manufacturing method thereof
JP2004205354A (en) Manufacturing method of radiation image conversion panel and radiation image conversion panel
JP2006125932A (en) Manufacturing method of radiation image conversion panel
JP2005106544A (en) Radiation image conversion panel and method for manufacturing it