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JP2005048140A - ガラス基材のコーティング剤 - Google Patents

ガラス基材のコーティング剤 Download PDF

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JP2005048140A
JP2005048140A JP2003284287A JP2003284287A JP2005048140A JP 2005048140 A JP2005048140 A JP 2005048140A JP 2003284287 A JP2003284287 A JP 2003284287A JP 2003284287 A JP2003284287 A JP 2003284287A JP 2005048140 A JP2005048140 A JP 2005048140A
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coating
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Masakazu Araki
正和 荒木
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Abstract

【課題】ディスプレーに供されるガラス基材の可撓性を向上させる。
【解決手段】ガラス基材のコーティング剤であって、該コーティング剤がポリエーテルサルホンを有し、該コーティング剤の溶媒が芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エステル類、ケトン類、ニトリル類、スルホキシド類のいずれかであることを特徴とするコーティング剤であり、好ましくは、コーティング剤がシリカ前駆体を有する。さらに好ましくは、溶媒が芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エステル類、ケトン類、ニトリル類、スルホキシド類のいずれかに属する化学種から2種以上選択されてなる。
【選択図】 なし

Description

本発明は、有機ELディスプレー、液晶ディスプレー等の薄型ディスプレーに使用される薄い厚みのガラス基材の可撓性を向上させるためのコーティング剤に関する。
有機ELディスプレー、液晶ディスプレー等の薄型ディスプレーは、携帯機器、電子ペーパー、カード、電子書籍等への応用展開が期待され、該ディスプレーには、薄型軽量化、可撓化が要求されている。従って、それらに使用されるガラス基材にもより一層の薄型化、可撓性が要求されている。ガラス基材の厚さを500μm以下としていくと、ある程度の可撓性が得られるが、十分なレベルではないので、ガラス基材にポリマー層を設けることで可撓性を向上させる開発が行われている。
特許文献1では、透明な樹脂基材の少なくとも片面にガラスからなる薄板を設けてなる液晶ディスプレー用ガラス基材が開示されている。特許文献2では、厚さ≦200μmのガラスとプラスチックとからなる可撓性を有するガラス基材、特許文献3では、10μm乃至500μm厚さのガラス基材に、1μm乃至200μm厚さのシリコーンポリマーやポリエーテルサルホン等の樹脂層をUV処理等で接着剤を使用することなく直接適用されたガラス基材が開示されている。
特開平4−235527号公報 特開平11−329715号公報 特表2002−534305号公報
ディスプレー製造時には昇降温プロセスがあり、基材には熱負荷が加わる。特に薄膜トランジスタ(TFT)を搭載した高精細ディスプレーにおいては、350℃以上の温度下での安定性が必要となる。従って、ガラス基材に設けられるポリマー層は、耐熱性に優れることが好ましい。特許文献3には耐熱性に優れるポリエーテルサルホンが被覆されたガラス基材が開示されているが、押し出し法による被覆なので、膜厚の制御が困難であり、均質な膜被覆ガラスを得ることが難しい。
本発明は、耐熱性に優れるポリエーテルサルホンをガラス基材に効果的に被覆する手段、さらには、ポリエーテルサルホンによる被覆膜とガラス基材との密着性を向上させる手段を提供することを課題とする。
本発明は、上記課題を鑑み、耐熱性に優れるが、溶媒への溶解性が低いポリエーテルサルホンをガラス基材に効果的に被覆することができるコーティング剤を開発した。すなわち本発明のコーティング剤は、ディスプレーに供されるガラス基材の可撓性を向上させるためのコーティング剤であって、該コーティング剤がポリエーテルサルホンを有し、該コーティング剤の溶媒が芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エステル類、ケトン類、ニトリル類、スルホキシド類のいずれかであることを特徴とする。該溶媒は、ポリエーテルサルホンをコーティング剤中で安定なものとするために、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エステル類、ケトン類、ニトリル類、スルホキシド類のいずれかに属する化学種から2種以上選択されてなることが好ましい。
また、コーティング剤から得られる膜のガラス基材への密着性を向上させるためにコーティング剤にシリカ前駆体を含有させることが好ましい。この含有量としては、シリカ前駆体から形成されるシリカが、ポリエーテルサルホン及びシリカの合計量を基準として、0.5重量%〜20重量%となるように、コーティング剤にシリカ前駆体を含有させることが好ましい。0.5重量%未満では、シリカによるガラス基材への密着性の効果がほとんど現れず、20重量%超では、均質なコーティング剤を得ることが困難だからである。
前記コーティング剤をガラス基材に塗布して得られた膜被覆ガラスは、膜を被覆していないガラス基材と比べて、可撓性が向上する。該ガラス基材としては、500μm以下の厚みのガラス基材を好適に使用できる。
本発明のコーティング剤から得られた膜被覆ガラス基材は、可撓性に優れている。また、ディスプレー製造時に350℃以上に保持しても、可視光透過率等の光学特性が保持されるので、TFTを搭載した有機ELディスプレーや液晶ディスプレー用のガラス基材として優れる。
本発明のディスプレーに供されるガラス基材の可撓性を向上させるためのコーティング剤は、ポリエーテルサルホンを有し、該コーティング剤の溶媒が芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エステル類、ケトン類、ニトリル類、スルホキシド類のいずれかである。該ポリエーテルサルホンは、粉末状のものを使用すると溶媒に溶解させやすく好ましい。粉末粒子のサイズには特に限定はなく、10μm〜2mmの範囲、より好ましくは、100μm〜500μmの範囲で使用することが可能である。
溶媒には、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;塩化メチル、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレンなどのハロゲン化炭化水素;酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類;アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類;非プロトン性極性溶媒(N−メチルピロリドン、アセトニトリルなどのニトリル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類など)等を使用することができる。
溶媒に対してのポリエーテルサルホンの含有量は、成膜後の膜厚を鑑みて1重量%〜20重量%の範囲が好ましい。
ポリエーテルサルホンを含有するコーティング剤を安定なものとするために、前記であげた化学種を2種以上使用した混合溶媒とすることが好ましい。「N−メチルピロリドン−トルエン」、「N−メチルピロリドン−キシレン」、「N−メチルピロリドン−ジクロロメタン」、「1,1,2−トリクロロエタン−ジクロロメタン」のような2液混合系、「ジメチルホルムアミド−シクロヘキサノン−メチルエチルケトン」のような3液混合系のような混合溶媒の適用が特に好ましい。
又、コーティング材から得られる膜表面の均一性を向上させるために、溶媒に表面調整剤として界面活性剤を添加することも可能である。該界面活性剤にはシリコーン系、フッ素系、カルボン酸塩系、硫酸エステル塩系、スルホン酸塩系、アミン塩酸類、臭素系、塩素系、ベタイン系、イミダゾリン系、アミンオキサイド系、エーテル系、エステル系のいずれかを使用することができる。
コーティング剤に含有されることのあるシリカ前駆体には、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等を使用でき、経済性、加水分解の速度等を鑑みテトラエトキシシランやメチルトリエトキシシランの使用が好ましい。
本発明のコーティング剤のガラス基材への塗布は、ディップコート、フローコート、スピンコート、ロールコート、スプレーコート、スクリーン印刷、フレキソ印刷等の公知手段によって行うことができる。コーティング剤をガラス基材に塗布した後、乾燥工程、250℃〜400℃の焼成工程を経て、ポリエーテルサルホンからなる膜、又は、「ポリエーテルサルホン−シリカ」の組成物からなる膜が被覆された膜被覆ガラスを得ることができる。
該被覆膜の膜厚は、0.5μm及至10μm、より好ましくは1μm及至5μmが好ましい。該被覆膜の膜厚が0.5μm未満では、ガラス基材の可撓性向上の効果が小さく、該被覆膜の膜厚を10μm超では、可撓性向上の効果は小さいからである。該膜の形成は基材の片面であっても、両面であっても差し支えない。また、該被膜がガラス基材の端面に形成されると、端面の耐衝撃性を増し、ガラス端面に存在しうる微小な亀裂の拡大が回避され、ガラス基材の強度が増しより好ましい。
又、膜被覆ガラスのガラス基材には、ソーダ石灰ガラス、硼珪酸塩ガラス、アルミノ珪酸ガラス、アルミノ硼珪酸ガラス、好ましくは低アルカリガラス、無アルカリガラス等の有機ELディスプレー、液晶ディスプレー等の薄型ディスプレー用途に使用されているガラス基材を使用することができる。又、ポリマー層のガラス基材との接着を促進するために、水洗浄、超音波洗浄、アルカリ洗浄、ガラス洗浄剤洗浄、オゾン含有雰囲気中でのUV照射、コロナ処理、プライマー処理のいずれか、または2種以上を施すこともできる。これら薄型ディスプレー用ガラス基材は、可撓性を有していることが好ましいので、厚さが500μm以下のガラス基材を使用することができる。ガラス基材の厚さは薄型ディスプレー用基材として必要とされている10μm乃至400μm、好適には、10μm乃至100μm、より好適には、10μm乃至50μmのものを使用することができる。10μmより薄いガラス基材の製造は困難であり、一方、厚さ500μm超のガラス基材の可撓性が小さく、本発明のコーティング剤を適用しても可撓性向上の効果が得られないからである。
本発明のコーティング剤から得られた膜被覆ガラスは、有機ELディスプレー、液晶ディスプレー等の薄型ディスプレー以外にも、色素増感型太陽電池等の太陽電池、センサー等にも使用することができる。
以下実施例により本発明をより詳細に説明する。各実施例で得られた試料は、次に列挙する試験方法で評価した。
(1)高温で保持後の光学特性の評価
試料を400℃で、15分間分、30分間、45分間、60分間保持した後、保持時間毎の試料の可視光透過率、及び曇り度の指標であるヘーズ値を測定した。可視光透過率は分光光度計[U−4000;日立製作所]で、光波長380nm〜780nmでの透過率を測定し、JIS R 3106「板ガラス類の透過率・反射率・放射率・日射熱取得率の試験方法」に準拠し可視光透過率を求めた。ヘーズ値はヘーズメーター[NDH−20D;日本電色工業]で測定し、JIS K 7105「プラスチックの光学的特性試験方法」に準拠し求めた。
(2)可撓性の評価
試料を、径の異なるアクリル製の円筒物に巻き付け、該巻き付けで試料が割れなかった円筒物の中で最小の円筒の曲率半径を限界曲率とし、試料の可撓性の指標とした。
(3)膜のガラス基材への密着性評価
膜のガラス基材への密着性は、碁盤目ピール試験で評価した。碁盤目ピール試験は被覆膜に縦横各10本ずつ碁盤目状の切り込みを入れ、粘着テープ(例えば、メンディングテープ)で剥離させた際に剥離の有無を見る試験で、0/100は100コマ中に剥離したコマが0コマであることを示す。
実施例1
271重量部のN−メチルピロリドンを271重量部、124重量部のキシレン、100重量部のポリエーテルサルホン(住友化学工業社製SEP5003P)、及び1重量部の表面調整剤(ビックケミー社製BYK−300)を2時間撹拌混合することでコーティング剤を得た。
該コーティング剤を厚さ400μmのソーダ石灰ガラス(100mm×100mm)、厚さ100μmの硼珪酸ガラス(50mm×50mm)の2種類のガラス基材にスピンコート法により塗布した。その後100℃で30分、350℃で30分焼成し、ポリエーテルサルホンからなる膜厚4μmの膜が形成された膜被覆ガラスを得た。
ソーダ石灰ガラスからなる膜被覆ガラスで、上記光学特性及び上記密着性の評価を行い、硼珪酸ガラスからなる膜被覆ガラスで上記可撓性の評価を行った。
高温で保持後の光学特性の評価結果に関し可視光透過率の結果を表1、ヘーズ値の結果を表2にまとめる。ポリエーテルサルホンからなる膜被覆ガラスはガラス基材単体に近い可視光透過率、及びヘーズ値を示し、400℃環境下での放置試験でも、可視光透過率、及びヘーズ値の変化がほとんどなく、耐熱性が優れた膜被覆ガラスであった。又、可撓性に関しても表3に示すとおり、膜を形成していないガラス基材と比べ、小さい曲率半径の円筒にまで巻き付けることができ、可撓性に優れていた。
Figure 2005048140
Figure 2005048140
Figure 2005048140
実施例2
N−メチルピロリドン271重量部、及びキシレン124重量部の混合溶媒に粉末状のポリエーテルサルホン100重量部を混合し2時間撹拌した。これにシリカ前駆体としてテトラエトキシシラン39重量部、及び表面調整剤(BYK−300)を1重量部添加後、3時間撹拌混合することでコーティング剤を得た以外は、実施例1と同様の操作を行い、ポリエーテルサルホン及びシリカからなる膜厚4μmの膜が形成された膜被覆ガラスを得た。
該膜被覆ガラスは、ガラス基材単体に近い可視光透過率、及びヘーズ値を示し、400℃環境下での放置試験でも、可視光透過率、及びヘーズ値の変化がほとんどなく、耐熱性が優れた膜被覆ガラスであった。又、可撓性に関しても、膜を形成していないガラス基材と比べ、小さい曲率半径の円筒にまで巻き付けることができ、可撓性に優れていた。さらには、本膜被覆ガラスは、表4に示すとおり、実施例1の膜被覆ガラスと比べ、膜のガラス基材への密着性が優れていた。
Figure 2005048140
実施例3
N−メチルピロリドン271重量部とキシレン124重量部の混合溶媒に粉末状のポリエーテルサルホン100重量部を混合し2時間撹拌した。これにシリカ前駆体としてテトラエトキシシラン7重量部、及び表面調整剤(BYK−300)を1重量部添加し、3時間撹拌混合しコーティング剤を得た以外は、実施例1と同様の操作を行い、ポリエーテルサルホン及びシリカからなる膜厚4μmの膜が形成された膜被覆ガラスを得た。
該膜被覆ガラスは、ガラス基材単体に近い可視光透過率、及びヘーズ値を示し、400℃環境下での放置試験でも、可視光透過率、及びヘーズ値の変化がほとんどなく、耐熱性が優れた膜被覆ガラスであった。又、可撓性に関しても、膜を形成していないガラス基材と比べ、小さい曲率半径の円筒にまで巻き付けることができ、可撓性に優れていた。さらには、本膜被覆ガラスは、表4に示すとおり、実施例1の膜被覆ガラスと比べ、膜のガラス基材への密着性が優れていた。
比較例1
比較のために実施例1で使用したガラス基材に膜を被覆しなかった。実施例1乃至実施例3の膜被覆ガラスと比べ、可撓性が劣っていた。
比較例2
N−メチルピロリドン271重量部とキシレン124重量部の混合溶媒に粉末状のポリエーテルサルホン100重量部を混合し2時間撹拌した。これにシリカ前駆体としてテトラエトキシシラン115重量部、及び表面調整剤(BYK−300)を1重量部添加したところ、白色沈殿が析出した。

Claims (5)

  1. ディスプレーに供されるガラス基材の可撓性を向上させるためのコーティング剤であって、該コーティング剤がポリエーテルサルホンを有し、該コーティング剤の溶媒が芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エステル類、ケトン類、ニトリル類、スルホキシド類のいずれかであることを特徴とするコーティング剤。
  2. 溶媒が芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エステル類、ケトン類、ニトリル類、スルホキシド類のいずれかに属する化学種から2種以上選択されてなることを特徴とする請求項1に記載のコーティング剤。
  3. コーティング剤がシリカ前駆体を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のコーティング剤。
  4. シリカ前駆体から形成されるシリカが、ポリエーテルサルホン及びシリカの合計量を基準として、0.5重量%〜20重量%となるように、コーティング剤がシリカ前駆体を有することを特徴とする請求項3に記載のコーティング剤。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のコーティング剤を塗布して得られた膜被覆ガラス。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010132526A (ja) * 2008-04-24 2010-06-17 Nitto Denko Corp 透明基板
JP2011016708A (ja) * 2008-11-07 2011-01-27 Nitto Denko Corp 透明基板およびその製造方法
JP2017528529A (ja) * 2014-05-20 2017-09-28 ウィットフォード コーポレーション 改善された硬度及び耐衝撃性を有するゾル‐ゲル組成物
CN107721154A (zh) * 2016-08-10 2018-02-23 三星显示有限公司 窗基板以及具有该窗基板的显示装置
US10221090B2 (en) 2009-10-23 2019-03-05 Nitto Denko Corporation Transparent substrate
KR20200064091A (ko) * 2017-09-29 2020-06-05 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 필름 및 화상 표시 장치

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010132526A (ja) * 2008-04-24 2010-06-17 Nitto Denko Corp 透明基板
JP2011016708A (ja) * 2008-11-07 2011-01-27 Nitto Denko Corp 透明基板およびその製造方法
US10221090B2 (en) 2009-10-23 2019-03-05 Nitto Denko Corporation Transparent substrate
JP2017528529A (ja) * 2014-05-20 2017-09-28 ウィットフォード コーポレーション 改善された硬度及び耐衝撃性を有するゾル‐ゲル組成物
CN107721154A (zh) * 2016-08-10 2018-02-23 三星显示有限公司 窗基板以及具有该窗基板的显示装置
CN107721154B (zh) * 2016-08-10 2022-07-15 三星显示有限公司 窗基板以及具有该窗基板的显示装置
KR20200064091A (ko) * 2017-09-29 2020-06-05 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 필름 및 화상 표시 장치
JPWO2019066078A1 (ja) * 2017-09-29 2021-01-14 大日本印刷株式会社 光学フィルムおよび画像表示装置
JP7196851B2 (ja) 2017-09-29 2022-12-27 大日本印刷株式会社 光学フィルムおよび画像表示装置
KR102635091B1 (ko) * 2017-09-29 2024-02-13 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 필름 및 화상 표시 장치

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