JP2004309459A - Stage device - Google Patents
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- 239000004575 stone Substances 0.000 claims abstract description 48
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 claims description 19
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 10
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 5
- 229910001208 Crucible steel Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 238000005266 casting Methods 0.000 abstract description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 11
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 9
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
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- Machine Tool Units (AREA)
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Abstract
Description
本発明はステージ装置に関し、特に、石定盤上を、可動部がX軸、Y軸の少なくとも一方の方向に移動可能に構成されたステージ装置に関する。 The present invention relates to a stage device, and more particularly, to a stage device in which a movable portion is movable on a stone surface plate in at least one of an X axis and a Y axis.
この種のステージ装置の一例として、サーフェス型位置決めステージ装置と呼ばれるX−Yステージ装置を図3を参照して説明する。図3において、架台1上に固定された石定盤10上には2本のガイド部材2、3が所定の間隔をおいて互いに平行にY軸方向に延びるように配設されている。ガイド部材2、3にはそれぞれ移動体4、5が配置されている。移動体4、5はそれぞれリニアモータ駆動方式によりガイド部材2、3に沿って移動するものである。
As an example of this type of stage device, an XY stage device called a surface-type positioning stage device will be described with reference to FIG. In FIG. 3, two
簡単に説明すると、ガイド部材2、3にはそれぞれ多数の磁石から成る磁石装置が組み込まれている。一方、移動体4、5はそれぞれ磁石装置と作用し合う可動コイルを有している。これにより、移動体4、5はそれぞれガイド部材2、3に沿ってスライド移動可能となっている。なお、位置決め制御のために、移動体4、5、後述する移動体14の位置を計測するための計測装置、例えばリニアスケール及びセンサが備えられるが、この種の計測装置を含むリニアモータ自体は周知であるので、詳しい説明は省略する。
Briefly, each of the
ここで、ガイド部材2と移動体4に着目すると、図3(b)に示すように、移動体4はガイド部材2を跨ぐような断面略逆U形状を有し、その内面には静圧軸受けパッド12が備えられ、ガイド部材2と移動体4との間に介在している。これにより、移動体4のガイド部材2に沿った移動がスムーズに行われるようになっている。また、移動体4の下面には静圧軸受けパッド13が備えられ、石定盤10と移動体4との間に介在している。これにより、移動体4の石定盤10上での移動がスムーズに行われるようになっている。同様に、移動体5にも静圧軸受けパッド12及び13が備えられている。なお、図3(a)では、移動体4の上部の一部を切り取って示している。
Here, paying attention to the
移動体4と5の間はビーム6で連結されている。ビーム6には移動体14が配置されている。移動体14はビーム6をガイドとして、図3(a)のX軸方向に移動可能である。図3(a)では、便宜上、移動体14の上部を切り取った状態で示している。移動体14も上述したリニアモータ駆動方式により移動するものである。このために、ビーム6に磁石装置が組み込まれ、移動体14はこの磁石装置と作用し合う可動コイルを有している。
The
移動体14はビーム6を跨ぐような断面略逆U形状を有し、その内面には静圧軸受パッド15a、15b、15c、15dが備えられ、ビーム6と移動体14との間に介在している。石定盤10と移動体14との間にも静圧軸受けパッド14a、14b、14cが配置されている。つまり、移動体14の下面に静圧軸受けパッド14a〜14cが取り付けられている。これにより、移動体14はビーム6に沿ってスムーズに移動可能であるとともに、石定盤10上をスムーズに移動可能にされている。なお、ビーム6の下面にも静圧軸受パッド16が備えられ、ビーム6と石定盤10との間に介在している。これにより、ビーム6は石定盤10上をスムーズに移動可能にされている。
The moving
このようなサーフェス型位置決めステージ装置は、例えば特許文献1に開示されている。
Such a surface-type positioning stage device is disclosed in
この種のサーフェス型位置決めステージ装置は、例えば液晶露光装置用とする場合、移動体14は被処理物体、つまり液晶基板を搭載して移動させるためのテーブル、特に吸着機構等により液晶基板を保持する機能を持つテーブルとして構成される。
When this type of surface-type positioning stage device is used, for example, for a liquid crystal exposure device, the moving
いずれにしても、これまでのサーフェス型位置決めステージ装置は、架台1の上に一体物の石定盤10が設置され、その上に可動部、そのガイド部、可動部の駆動装置、可動部の位置計測装置等が設置される。また、可動部は圧縮空気の吹き出しによって浮上する静圧軸受パッドにより支えられ、ガイド部に沿って石定盤10上を非接触で移動する。
In any case, in the conventional surface-type positioning stage device, an integrated
ところで、静圧軸受パッドが移動する石定盤10の表面は平面度数μmで、滑らかに仕上げ加工されているが、静圧軸受パッドが移動する範囲は、図3(a)に示すように石定盤10全面のうちの一部分に限定されている。
By the way, the surface of the
これに対し、液晶露光装置用のサーフェス型位置決めステージ装置とする場合、液晶基板が大型化(第5世代基板:1500×1800mm、第7世代基板:1800×2000mm)するにつれ石定盤も大型化し、一体物の石定盤の製作が困難になる。つまり、液晶露光装置に使用されるサーフェス型位置決めステージ装置は、テーブル上の吸着機構に搭載されて露光対象となる液晶基板の世代が新しくなるにつれて基板寸法が大型化し、従来の構成では製作の限界を越える可能性がある。 On the other hand, in the case of a surface-type positioning stage device for a liquid crystal exposure apparatus, as the size of the liquid crystal substrate increases (5th generation substrate: 1500 × 1800 mm, 7th generation substrate: 1800 × 2000 mm), the size of the stone surface plate also increases. In addition, it becomes difficult to manufacture an integrated stone surface plate. In other words, the surface-type positioning stage device used in the liquid crystal exposure apparatus is mounted on a suction mechanism on the table, and the size of the substrate increases as the generation of the liquid crystal substrate to be exposed becomes newer. May be exceeded.
そこで、本発明の課題は、石定盤を備えるステージ装置の構成を改良することによって、要求される性能を満足したうえで大型化に適したステージ装置を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide a stage device suitable for a large size while satisfying required performance by improving the configuration of a stage device having a stone surface plate.
本発明によれば、石定盤上を、可動部がX軸、Y軸の少なくとも一方の方向に移動可能に構成されたステージ装置において、前記石定盤のサイズを前記可動部の移動領域に対応する大きさとし、該石定盤をその受け部を持つ鋳鉄製の鋳物あるいは鋼構造物によるベースに固定したことを特徴とするステージ装置が提供される。 According to the present invention, in a stage device in which a movable portion is movable on at least one of the X axis and the Y axis on a stone surface plate, the size of the stone surface plate is set to a movement area of the movable portion. There is provided a stage device having a corresponding size, wherein the stone surface plate is fixed to a base made of a cast iron casting or a steel structure having a receiving portion.
本発明の第1の態様によるステージ装置においては、前記ベースは、その中央部に前記受け部を有してその両側には互いに平行にX軸、Y軸の一方の方向に延びる2つのガイド部材設置部を有し、これら2つのガイド部材設置部にそれぞれ互いに平行に延びるガイド部材が設置され、これら2本のガイド部材にはそれぞれ、該ガイド部材に沿って移動可能に第1の移動体が備えられ、これら2つの第1の移動体間がX軸、Y軸の他方の方向に延びるビームで連結され、該ビームには該ビームに沿って移動可能に第2の移動体が備えられることにより、該第2の移動体が前記可動部として前記石定盤上で前記X軸方向及びY軸方向に移動可能にされている。 In the stage device according to the first aspect of the present invention, the base has the receiving portion at a central portion thereof, and has two guide members extending in one of the X-axis and the Y-axis parallel to each other on both sides thereof. A guide member having an installation portion and extending in parallel with each other is installed on each of the two guide member installation portions, and a first movable body is provided on each of the two guide members so as to be movable along the guide member. The two first moving bodies are connected by a beam extending in the other direction of the X axis and the Y axis, and the beam is provided with a second moving body movably along the beam. Thereby, the second movable body is movable as the movable portion on the stone platen in the X-axis direction and the Y-axis direction.
本発明の第1の態様によるステージ装置においてはまた、前記第1の移動体と前記ガイド部材との間に介在するように少なくとも1つの静圧軸受けパッドが前記第1の移動体に設けられると共に、前記第1の移動体と前記石定盤との間に介在するように静圧軸受けパッドが前記第1の移動体に設けられ、前記第2の移動体と前記ビームとの間に介在するように少なくとも1つの静圧軸受けパッドが前記第2の移動体に設けられると共に、前記第2の移動体と前記石定盤との間に介在するように複数の静圧軸受けパッドが前記第2の移動体に設けられている。 In the stage device according to the first aspect of the present invention, at least one static pressure bearing pad is provided on the first moving body so as to be interposed between the first moving body and the guide member. A static pressure bearing pad is provided on the first moving body so as to be interposed between the first moving body and the stone surface plate, and is interposed between the second moving body and the beam; At least one hydrostatic bearing pad is provided on the second moving body, and a plurality of hydrostatic bearing pads are provided on the second moving body so as to be interposed between the second moving body and the stone surface plate. Of the moving object.
本発明の第2の態様によるステージ装置においては、前記ベースは、その中央部に前記受け部を有してその両側には互いに平行にX軸、Y軸の一方の方向に延びる2つのガイド部材設置部を有し、これら2つのガイド部材設置部にそれぞれ互いに平行に延びるガイド部材が設置され、これら2本のガイド部材に沿って移動可能な移動体が備えられ、該移動体が前記可動部として前記X軸、Y軸の一方の方向に移動可能にされている。 In the stage device according to the second aspect of the present invention, the base has the receiving portion at a central portion thereof, and two guide members extending in one of the X-axis and the Y-axis parallel to each other on both sides thereof. A guide member having an installation portion is provided at each of the two guide member installation portions, the guide member extending parallel to each other, and a movable body movable along the two guide members is provided. And can be moved in one of the X-axis and the Y-axis.
本発明の第2の態様によるステージ装置においてはまた、前記移動体と前記ガイド部材との間に介在するように少なくとも1つの静圧軸受けパッドが前記移動体に設けられている。 In the stage device according to the second aspect of the present invention, at least one hydrostatic bearing pad is provided on the moving body so as to be interposed between the moving body and the guide member.
本発明の第2の態様によるステージ装置においては更に、被処理基板が前記定盤上に置かれ、前記移動体には該被処理基板に対して検査あるいは加工を行うための検査機器あるいは加工機が搭載される。 In the stage apparatus according to the second aspect of the present invention, a substrate to be processed is placed on the surface plate, and the moving body is provided with an inspection device or a processing machine for inspecting or processing the substrate to be processed. Is mounted.
本発明によれば、ステージ装置におけるベースと石定盤の構成を改良することによって、要求される性能を満足したうえで大型の、例えば基板処理用として製作可能なステージ装置を提供することができる。これは、液晶基板等の被処理物体が大型化する場合、それに応じて石定盤、ベースも大型化するが、従来の一体物の石定盤の大型化に比べて本発明における石定盤のサイズの増加は小さくて済むからである。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, by improving the structure of the base and the stone surface plate in the stage device, it is possible to provide a large-sized stage device that can be manufactured, for example, for substrate processing while satisfying required performance. . This is because, when an object to be processed such as a liquid crystal substrate is enlarged, the stone slab and the base are correspondingly enlarged, but the stone slab according to the present invention is larger than the conventional single-piece stone slab. This is because the increase in the size of the object can be small.
図1を参照して、本発明をサーフェス型位置決めステージ装置に適用した第1の実施の形態について説明する。図1において、図3と同じ部分には同一番号を付している。本形態は、以下のような点に特徴を有する。 A first embodiment in which the present invention is applied to a surface type positioning stage device will be described with reference to FIG. 1, the same parts as those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals. This embodiment is characterized in the following points.
(1)図3で説明した一体物の石定盤10と架台1の代わりに、ベース100と石定盤20との組み合わせを用いる。ベース100は鋳鉄による鋳物、あるいは角パイプ、形鋼等による鋼構造物とし、移動体14の移動領域に相当する領域を切り欠いた構造とする。
(1) A combination of a
(2)そして、ベース100の切り欠かれた部分、つまり移動体14の移動領域に対応する部分に石定盤20を設置する。石定盤20の表面は平面度数μmで、滑らかに仕上げ加工されている。また、石定盤20のレベルはベース100に対し調整されて設置される。
(2) Then, the
(3)ビーム6の駆動装置であるリニアモータやガイド部はベース100側に配置される。
(3) The linear motor and the guide portion, which are the driving device of the
(4)このような構造とすることにより、従来技術において一体物の石定盤を持つ構造で困難であった液晶基板等の被処理物体の大型化に対応したステージ装置の製作が可能となる。 (4) By adopting such a structure, it becomes possible to manufacture a stage device that can handle a large-sized object to be processed such as a liquid crystal substrate, which has been difficult in the prior art with a structure having an integrated stone surface plate. .
以下に、本形態によるサーフェス型位置決めステージ装置を詳細に説明する。図1において、鋼構造物によるベース100に形成された石定盤用の受け部100aに石定盤20が設置され、レベル出しを行った上で固定される。ベース100は、受け部100aの両側にガイド部材を設置するための設置部を有する。この設置部にガイド部材2、3が互いに平行にY軸方向に延びるように配設されている。ガイド部材2、3にはそれぞれ移動体4、5が配置されている。
Hereinafter, the surface type positioning stage device according to the present embodiment will be described in detail. In FIG. 1, a
移動体4、5はそれぞれリニアモータ駆動方式により移動するものである。つまり、ガイド部材2、3にはそれぞれ多数の磁石から成る磁石装置が組み込まれている。移動体4、5はそれぞれ磁石装置と作用し合う可動コイルを有している。これにより、移動体4、5はそれぞれガイド部材2、3に沿ってY軸方向にスライド移動可能となっている。また、位置決め制御のために、移動体4、5、後述する移動体14の位置を計測するための計測装置、例えばリニアスケール及びセンサが設置されるが、この種の計測装置を含むリニアモータは周知であるので、詳しい説明は省略する。
The moving
ガイド部材2と移動体4について言えば、図1(b)に示すように、移動体4はガイド部材2を跨ぐような断面略逆U形状を有する。移動体4の内面には1個以上の静圧軸受けパッド12が備えられ、ガイド部材2と移動体4との間に介在している。移動体4の案内面となるガイド部材2の側面も表面仕上げ加工が施されていることは言うまでも無い。これにより、移動体4のガイド部材2に沿った移動がスムーズに行われる。また、図1(b)に示すように、移動体4の下面には1個以上の静圧軸受けパッド13が備えられ、定盤20と移動体4との間に介在している。これにより、石定盤20上での移動がスムーズに行われる。
As for the
以上の構成は、ガイド部材3と移動体5についてもまったく同じである。つまり、移動体5にも静圧軸受けパッド12、13が備えられている。
The above configuration is exactly the same for the
なお、上記の静圧軸受けパッドに代えて、いわゆる直動ガイドを用いても良く、これは以降で述べられる移動体14における静圧軸受けパッドにおいても同様である。
It should be noted that a so-called linear motion guide may be used instead of the above-described static pressure bearing pad, and the same applies to a static pressure bearing pad of the moving
移動体4と5の間はビーム6で連結されている。ビーム6には移動体14が配置されている。移動体14はビーム6をガイドとして、図1(a)のX軸方向に移動可能である。図1(a)では、便宜上、移動体14の上部を切り取った状態で示している。移動体14も上述したリニアモータ駆動方式により移動するものである。このために、ビーム6に磁石装置が組み込まれ、移動体14はこの磁石装置と作用し合う可動コイルを有している。
The moving
移動体14はビーム6を跨ぐような断面略逆U形状を有し、その内面には静圧軸受パッド15a、15b、15c、15dが備えられ、ビーム6と移動体14との間に介在している。石定盤20と移動体14との間にも静圧軸受けパッド14a、14b、14cが配置されている。つまり、移動体14の下面に静圧軸受けパッド14a〜14cが取り付けられている。移動体14の案内面となるビーム6の側面も表面仕上げ加工が施されていることは言うまでも無い。これにより、移動体14はビーム6に沿ってスムーズに移動可能であるとともに、石定盤20上をスムーズに移動可能にされている。つまり、移動体14は、X軸方向、Y軸方向に移動可能である。
The moving
なお、ビーム6の下面にも静圧軸受パッド16が備えられ、ビーム6と石定盤20との間に介在している。これにより、ビーム6が石定盤20上をスムーズに移動可能にされている。
Note that a
上記のようなサーフェス型位置決めステージ装置は、移動体14に被処理物体を搭載するためのテーブルが設けられるか、あるいは移動体14自体がテーブルとして利用される。そして、被処理物体が基板状のものである場合には、このテーブルには減圧機構による吸着機構が備えられる。このようなステージ装置は、例えば液晶露光装置に適しているが、これに限られるものではなく、大型化することが要求されるステージ装置全般に適用可能である。また、上記の形態は、移動体14がX軸、Y軸の両方に移動可能なステージ装置であるが、移動体14がX軸、Y軸の一方のみに移動可能なステージ装置にも適用され得る。この場合、移動体14に相当する部分はビーム6に固定される。勿論、移動体14に相当する部分無しでビーム6自体が移動体として利用されても良い。この場合、移動体4、5とビーム6とから成る部分が移動体と呼ばれても良い。
In the surface type positioning stage device as described above, a table for mounting the object to be processed on the moving
図2を参照して、本発明の第2の実施の形態について説明する。この第2の実施の形態によるステージ装置は、定盤上に置かれた被処理基板を検査するための撮像装置を搭載することで検査用ステージ装置として使用される。 A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The stage device according to the second embodiment is used as an inspection stage device by mounting an imaging device for inspecting a substrate to be processed placed on a surface plate.
図2において、図1と同じ部分には同一番号を付している。本形態と第1の実施の形態の相違は、定盤20上に被処理基板が置かれることに加えて、ビーム6−1に撮像装置30を搭載した点にある。この場合、被処理基板の保持のために、定盤20には、減圧機構による吸着機構が1個以上埋め込まれるのが好ましい。また、撮像装置30は、ビーム6−1の側面に沿って図中、X軸方向に移動可能であると共に、X軸、Y軸に対して直角なZ軸方向にも移動可能にしている。撮像装置30をZ軸方向に可動とする理由の1つとしては、撮像範囲を可変とすることがあげられる。ガイド部材2と移動体4、ガイド部材3と移動体5との間の構造は第1の実施の形態とまったく同じで良い。
2, the same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. The difference between the present embodiment and the first embodiment is that, in addition to the substrate to be processed being placed on the
このようなX軸、Z軸方向の移動を可能にするための駆動機構については図示は省略しているが、その一例について簡単に説明する。ビーム6−1の側面にX軸方向に延びるガイド部材を設けてX軸駆動源により可動部をこのガイド部材に沿って移動可能にする。そして、この可動部にはZ軸駆動源を介して撮像装置30をZ軸方向に移動可能に搭載する。X軸駆動源としては、例えばリニアモータを使用することができ、Z軸駆動源には、例えばボイスコイルモータを使用することができる。このような駆動源自体は周知であるので、詳しい説明は省略する。勿論、駆動源はリニアモータ、ボイスコイルモータに限らない。
A drive mechanism for enabling such movement in the X-axis and Z-axis directions is not shown, but an example thereof will be briefly described. A guide member extending in the X-axis direction is provided on a side surface of the beam 6-1 so that the movable portion can be moved along the guide member by an X-axis drive source. Then, the
なお、ビーム6−1の下面側には静圧軸受パッドは備えられず、被処理基板は、移動体4、5の下面側の静圧軸受パッドの移動領域に入らない大きさにされることは言うまでも無い。また、移動体4、5のY軸方向の長さは、Y軸方向に関する検査領域の拡大という観点から、できるだけ短くされるのが好ましいことは言うまでも無い。
Note that no hydrostatic bearing pads are provided on the lower surface side of the beam 6-1, and the substrate to be processed is sized so as not to enter the moving area of the hydrostatic bearing pads on the lower surface side of the moving
このようなステージ装置は、定盤20上に置かれた被処理基板の処理後の状態を撮像装置30で撮像し、得られた画像を基に被処理基板の表面状態の検査を行う装置に適し、定盤20上に置かれる被処理基板の大型化に対応できるようになる。
Such a stage apparatus is an apparatus that takes an image of the processed state of the substrate to be processed placed on the
ところで、液晶基板の製造過程においてガラス基板に特定の材料による薄膜を塗布形成するために、スピンコータ機に代えてテーブルコータ機と呼ばれるものが使用されるようになってきている。本発明は、テーブルコータ機用のステージ装置にも適用可能である。この場合、テーブルコータ機は、図2に示すようなステージ装置において、ビーム6−1にノズル部が搭載される。つまり、図1に示す移動体14は備えられず、定盤20上にガラス基板が置かれる。そして、ガラス基板の保持のために、定盤20には減圧機構による吸着機構が1個以上埋め込まれる。
By the way, in order to apply and form a thin film of a specific material on a glass substrate in a process of manufacturing a liquid crystal substrate, a so-called table coater has been used instead of a spin coater. The present invention is also applicable to a stage device for a table coater. In this case, in the table coater, a nozzle unit is mounted on the beam 6-1 in a stage device as shown in FIG. That is, the moving
このようなテーブルコータ機はガントリ型コータ機とも呼ばれている。このようなテーブルコータ機用のステージ装置においても、定盤20上に置かれるガラス基板のような被処理基板の大型化に対応できる。
Such a table coater is also called a gantry type coater. Such a stage apparatus for a table coater can cope with an increase in the size of a substrate to be processed such as a glass substrate placed on the
1 架台
2、3 ガイド部
4、5、14 移動体
6、6−1 ビーム
10、20 石定盤
12、13、14a〜14c、15a〜15d、16 静圧軸受パッド
100 ベース
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記石定盤のサイズを前記可動部の移動領域に対応する大きさとし、該石定盤をその受け部を持つ鋳鉄製の鋳物あるいは鋼構造物によるベースに固定したことを特徴とするステージ装置。 In a stage device in which a movable portion is movable on at least one of the X axis and the Y axis on a stone surface plate,
A stage device, wherein the size of the stone surface plate is set to a size corresponding to a movement area of the movable portion, and the stone surface plate is fixed to a base made of cast iron or steel having a receiving portion.
6. The stage device according to claim 4, wherein the substrate to be processed is placed on the surface plate, and the moving body is provided with an inspection device or a processing machine for inspecting or processing the substrate to be processed. A stage device characterized by being performed.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004032392A JP2004309459A (en) | 2003-03-26 | 2004-02-09 | Stage device |
TW93106865A TWI261007B (en) | 2003-03-26 | 2004-03-15 | Stage device |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003085738 | 2003-03-26 | ||
JP2004032392A JP2004309459A (en) | 2003-03-26 | 2004-02-09 | Stage device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004309459A true JP2004309459A (en) | 2004-11-04 |
Family
ID=33478311
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004032392A Withdrawn JP2004309459A (en) | 2003-03-26 | 2004-02-09 | Stage device |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004309459A (en) |
TW (1) | TWI261007B (en) |
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-
2004
- 2004-02-09 JP JP2004032392A patent/JP2004309459A/en not_active Withdrawn
- 2004-03-15 TW TW93106865A patent/TWI261007B/en not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2007103822A (en) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Yokogawa Electric Corp | Positioning stage and transport system using it |
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TWI261007B (en) | 2006-09-01 |
TW200426854A (en) | 2004-12-01 |
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