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JP2004309459A - Stage device - Google Patents

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JP2004309459A
JP2004309459A JP2004032392A JP2004032392A JP2004309459A JP 2004309459 A JP2004309459 A JP 2004309459A JP 2004032392 A JP2004032392 A JP 2004032392A JP 2004032392 A JP2004032392 A JP 2004032392A JP 2004309459 A JP2004309459 A JP 2004309459A
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JP
Japan
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moving body
stage device
movable
surface plate
axis
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2004032392A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hidekazu Hiraoka
英一 平岡
Yoshiyuki Tomita
良幸 冨田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Priority to TW93106865A priority patent/TWI261007B/en
Publication of JP2004309459A publication Critical patent/JP2004309459A/en
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a stage device satisfying required performance and suitable for increasing the size, in a stage device provided with a stone surface plate. <P>SOLUTION: In this stage device, a moving body 14 supported by static pressure bearing pads 14a-14c is slidably movable along an X-axis direction and a Y-axis direction, on the surface-worked stone surface plate 20. A size of the stone surface plate is brought into a size corresponding to a sliding area of the moving body, and the stone surface plate is fixed onto a base 100 by a casting made of cast iron or a steel structure having a receiving part 100a therefor. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明はステージ装置に関し、特に、石定盤上を、可動部がX軸、Y軸の少なくとも一方の方向に移動可能に構成されたステージ装置に関する。   The present invention relates to a stage device, and more particularly, to a stage device in which a movable portion is movable on a stone surface plate in at least one of an X axis and a Y axis.

この種のステージ装置の一例として、サーフェス型位置決めステージ装置と呼ばれるX−Yステージ装置を図3を参照して説明する。図3において、架台1上に固定された石定盤10上には2本のガイド部材2、3が所定の間隔をおいて互いに平行にY軸方向に延びるように配設されている。ガイド部材2、3にはそれぞれ移動体4、5が配置されている。移動体4、5はそれぞれリニアモータ駆動方式によりガイド部材2、3に沿って移動するものである。   As an example of this type of stage device, an XY stage device called a surface-type positioning stage device will be described with reference to FIG. In FIG. 3, two guide members 2 and 3 are arranged on a stone surface plate 10 fixed on a gantry 1 at predetermined intervals so as to extend in parallel with each other in the Y-axis direction. Moving bodies 4 and 5 are arranged on the guide members 2 and 3, respectively. The moving bodies 4 and 5 move along the guide members 2 and 3 by a linear motor drive system, respectively.

簡単に説明すると、ガイド部材2、3にはそれぞれ多数の磁石から成る磁石装置が組み込まれている。一方、移動体4、5はそれぞれ磁石装置と作用し合う可動コイルを有している。これにより、移動体4、5はそれぞれガイド部材2、3に沿ってスライド移動可能となっている。なお、位置決め制御のために、移動体4、5、後述する移動体14の位置を計測するための計測装置、例えばリニアスケール及びセンサが備えられるが、この種の計測装置を含むリニアモータ自体は周知であるので、詳しい説明は省略する。   Briefly, each of the guide members 2 and 3 incorporates a magnet device including a large number of magnets. On the other hand, each of the moving bodies 4 and 5 has a movable coil that interacts with the magnet device. Thereby, the moving bodies 4 and 5 can slide along the guide members 2 and 3, respectively. In addition, for positioning control, a measuring device for measuring the positions of the moving bodies 4 and 5 and a moving body 14 described later, for example, a linear scale and a sensor are provided. Since it is well known, detailed description is omitted.

ここで、ガイド部材2と移動体4に着目すると、図3(b)に示すように、移動体4はガイド部材2を跨ぐような断面略逆U形状を有し、その内面には静圧軸受けパッド12が備えられ、ガイド部材2と移動体4との間に介在している。これにより、移動体4のガイド部材2に沿った移動がスムーズに行われるようになっている。また、移動体4の下面には静圧軸受けパッド13が備えられ、石定盤10と移動体4との間に介在している。これにより、移動体4の石定盤10上での移動がスムーズに行われるようになっている。同様に、移動体5にも静圧軸受けパッド12及び13が備えられている。なお、図3(a)では、移動体4の上部の一部を切り取って示している。   Here, paying attention to the guide member 2 and the moving body 4, as shown in FIG. 3B, the moving body 4 has a substantially inverted U-shaped cross section so as to straddle the guide member 2, and the inner surface thereof has a static pressure. A bearing pad 12 is provided and interposed between the guide member 2 and the moving body 4. Thereby, the movement of the moving body 4 along the guide member 2 is performed smoothly. Further, a static pressure bearing pad 13 is provided on the lower surface of the moving body 4 and is interposed between the stone surface plate 10 and the moving body 4. Thereby, the moving body 4 can be smoothly moved on the stone surface plate 10. Similarly, the moving body 5 is also provided with static pressure bearing pads 12 and 13. In FIG. 3A, a part of the upper part of the moving body 4 is cut out.

移動体4と5の間はビーム6で連結されている。ビーム6には移動体14が配置されている。移動体14はビーム6をガイドとして、図3(a)のX軸方向に移動可能である。図3(a)では、便宜上、移動体14の上部を切り取った状態で示している。移動体14も上述したリニアモータ駆動方式により移動するものである。このために、ビーム6に磁石装置が組み込まれ、移動体14はこの磁石装置と作用し合う可動コイルを有している。   The moving bodies 4 and 5 are connected by a beam 6. A moving body 14 is arranged on the beam 6. The moving body 14 is movable in the X-axis direction in FIG. FIG. 3A shows a state in which the upper portion of the moving body 14 is cut off for convenience. The moving body 14 also moves by the above-described linear motor driving method. For this purpose, a magnet device is incorporated in the beam 6, and the moving body 14 has a moving coil that interacts with the magnet device.

移動体14はビーム6を跨ぐような断面略逆U形状を有し、その内面には静圧軸受パッド15a、15b、15c、15dが備えられ、ビーム6と移動体14との間に介在している。石定盤10と移動体14との間にも静圧軸受けパッド14a、14b、14cが配置されている。つまり、移動体14の下面に静圧軸受けパッド14a〜14cが取り付けられている。これにより、移動体14はビーム6に沿ってスムーズに移動可能であるとともに、石定盤10上をスムーズに移動可能にされている。なお、ビーム6の下面にも静圧軸受パッド16が備えられ、ビーム6と石定盤10との間に介在している。これにより、ビーム6は石定盤10上をスムーズに移動可能にされている。   The moving body 14 has a substantially inverted U-shaped cross section so as to straddle the beam 6, and has hydrostatic bearing pads 15 a, 15 b, 15 c, and 15 d on its inner surface, and is interposed between the beam 6 and the moving body 14. ing. Static pressure bearing pads 14a, 14b, 14c are also arranged between the stone surface plate 10 and the moving body 14. That is, the hydrostatic bearing pads 14a to 14c are attached to the lower surface of the moving body 14. Thereby, the moving body 14 can move smoothly along the beam 6 and can move smoothly on the stone surface plate 10. Note that a hydrostatic bearing pad 16 is also provided on the lower surface of the beam 6 and is interposed between the beam 6 and the stone surface plate 10. Thereby, the beam 6 can be smoothly moved on the stone surface plate 10.

このようなサーフェス型位置決めステージ装置は、例えば特許文献1に開示されている。   Such a surface-type positioning stage device is disclosed in Patent Document 1, for example.

この種のサーフェス型位置決めステージ装置は、例えば液晶露光装置用とする場合、移動体14は被処理物体、つまり液晶基板を搭載して移動させるためのテーブル、特に吸着機構等により液晶基板を保持する機能を持つテーブルとして構成される。   When this type of surface-type positioning stage device is used, for example, for a liquid crystal exposure device, the moving body 14 holds the liquid crystal substrate by an object to be processed, that is, a table for mounting and moving the liquid crystal substrate, particularly a suction mechanism. It is configured as a table with functions.

いずれにしても、これまでのサーフェス型位置決めステージ装置は、架台1の上に一体物の石定盤10が設置され、その上に可動部、そのガイド部、可動部の駆動装置、可動部の位置計測装置等が設置される。また、可動部は圧縮空気の吹き出しによって浮上する静圧軸受パッドにより支えられ、ガイド部に沿って石定盤10上を非接触で移動する。   In any case, in the conventional surface-type positioning stage device, an integrated stone surface plate 10 is installed on a gantry 1 and a movable portion, a guide portion thereof, a driving device of the movable portion, and a movable portion are mounted thereon. A position measuring device and the like are installed. The movable portion is supported by a hydrostatic bearing pad that floats by blowing compressed air, and moves on the stone surface plate 10 along the guide portion in a non-contact manner.

ところで、静圧軸受パッドが移動する石定盤10の表面は平面度数μmで、滑らかに仕上げ加工されているが、静圧軸受パッドが移動する範囲は、図3(a)に示すように石定盤10全面のうちの一部分に限定されている。   By the way, the surface of the stone surface plate 10 on which the hydrostatic bearing pad moves has a flatness of several μm and is finished smoothly, but the range in which the hydrostatic bearing pad moves is as shown in FIG. It is limited to a part of the entire surface of the surface plate 10.

これに対し、液晶露光装置用のサーフェス型位置決めステージ装置とする場合、液晶基板が大型化(第5世代基板:1500×1800mm、第7世代基板:1800×2000mm)するにつれ石定盤も大型化し、一体物の石定盤の製作が困難になる。つまり、液晶露光装置に使用されるサーフェス型位置決めステージ装置は、テーブル上の吸着機構に搭載されて露光対象となる液晶基板の世代が新しくなるにつれて基板寸法が大型化し、従来の構成では製作の限界を越える可能性がある。   On the other hand, in the case of a surface-type positioning stage device for a liquid crystal exposure apparatus, as the size of the liquid crystal substrate increases (5th generation substrate: 1500 × 1800 mm, 7th generation substrate: 1800 × 2000 mm), the size of the stone surface plate also increases. In addition, it becomes difficult to manufacture an integrated stone surface plate. In other words, the surface-type positioning stage device used in the liquid crystal exposure apparatus is mounted on a suction mechanism on the table, and the size of the substrate increases as the generation of the liquid crystal substrate to be exposed becomes newer. May be exceeded.

特開2000−356693号公報(図1)JP-A-2000-356993 (FIG. 1)

そこで、本発明の課題は、石定盤を備えるステージ装置の構成を改良することによって、要求される性能を満足したうえで大型化に適したステージ装置を提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to provide a stage device suitable for a large size while satisfying required performance by improving the configuration of a stage device having a stone surface plate.

本発明によれば、石定盤上を、可動部がX軸、Y軸の少なくとも一方の方向に移動可能に構成されたステージ装置において、前記石定盤のサイズを前記可動部の移動領域に対応する大きさとし、該石定盤をその受け部を持つ鋳鉄製の鋳物あるいは鋼構造物によるベースに固定したことを特徴とするステージ装置が提供される。   According to the present invention, in a stage device in which a movable portion is movable on at least one of the X axis and the Y axis on a stone surface plate, the size of the stone surface plate is set to a movement area of the movable portion. There is provided a stage device having a corresponding size, wherein the stone surface plate is fixed to a base made of a cast iron casting or a steel structure having a receiving portion.

本発明の第1の態様によるステージ装置においては、前記ベースは、その中央部に前記受け部を有してその両側には互いに平行にX軸、Y軸の一方の方向に延びる2つのガイド部材設置部を有し、これら2つのガイド部材設置部にそれぞれ互いに平行に延びるガイド部材が設置され、これら2本のガイド部材にはそれぞれ、該ガイド部材に沿って移動可能に第1の移動体が備えられ、これら2つの第1の移動体間がX軸、Y軸の他方の方向に延びるビームで連結され、該ビームには該ビームに沿って移動可能に第2の移動体が備えられることにより、該第2の移動体が前記可動部として前記石定盤上で前記X軸方向及びY軸方向に移動可能にされている。   In the stage device according to the first aspect of the present invention, the base has the receiving portion at a central portion thereof, and has two guide members extending in one of the X-axis and the Y-axis parallel to each other on both sides thereof. A guide member having an installation portion and extending in parallel with each other is installed on each of the two guide member installation portions, and a first movable body is provided on each of the two guide members so as to be movable along the guide member. The two first moving bodies are connected by a beam extending in the other direction of the X axis and the Y axis, and the beam is provided with a second moving body movably along the beam. Thereby, the second movable body is movable as the movable portion on the stone platen in the X-axis direction and the Y-axis direction.

本発明の第1の態様によるステージ装置においてはまた、前記第1の移動体と前記ガイド部材との間に介在するように少なくとも1つの静圧軸受けパッドが前記第1の移動体に設けられると共に、前記第1の移動体と前記石定盤との間に介在するように静圧軸受けパッドが前記第1の移動体に設けられ、前記第2の移動体と前記ビームとの間に介在するように少なくとも1つの静圧軸受けパッドが前記第2の移動体に設けられると共に、前記第2の移動体と前記石定盤との間に介在するように複数の静圧軸受けパッドが前記第2の移動体に設けられている。   In the stage device according to the first aspect of the present invention, at least one static pressure bearing pad is provided on the first moving body so as to be interposed between the first moving body and the guide member. A static pressure bearing pad is provided on the first moving body so as to be interposed between the first moving body and the stone surface plate, and is interposed between the second moving body and the beam; At least one hydrostatic bearing pad is provided on the second moving body, and a plurality of hydrostatic bearing pads are provided on the second moving body so as to be interposed between the second moving body and the stone surface plate. Of the moving object.

本発明の第2の態様によるステージ装置においては、前記ベースは、その中央部に前記受け部を有してその両側には互いに平行にX軸、Y軸の一方の方向に延びる2つのガイド部材設置部を有し、これら2つのガイド部材設置部にそれぞれ互いに平行に延びるガイド部材が設置され、これら2本のガイド部材に沿って移動可能な移動体が備えられ、該移動体が前記可動部として前記X軸、Y軸の一方の方向に移動可能にされている。   In the stage device according to the second aspect of the present invention, the base has the receiving portion at a central portion thereof, and two guide members extending in one of the X-axis and the Y-axis parallel to each other on both sides thereof. A guide member having an installation portion is provided at each of the two guide member installation portions, the guide member extending parallel to each other, and a movable body movable along the two guide members is provided. And can be moved in one of the X-axis and the Y-axis.

本発明の第2の態様によるステージ装置においてはまた、前記移動体と前記ガイド部材との間に介在するように少なくとも1つの静圧軸受けパッドが前記移動体に設けられている。   In the stage device according to the second aspect of the present invention, at least one hydrostatic bearing pad is provided on the moving body so as to be interposed between the moving body and the guide member.

本発明の第2の態様によるステージ装置においては更に、被処理基板が前記定盤上に置かれ、前記移動体には該被処理基板に対して検査あるいは加工を行うための検査機器あるいは加工機が搭載される。   In the stage apparatus according to the second aspect of the present invention, a substrate to be processed is placed on the surface plate, and the moving body is provided with an inspection device or a processing machine for inspecting or processing the substrate to be processed. Is mounted.

本発明によれば、ステージ装置におけるベースと石定盤の構成を改良することによって、要求される性能を満足したうえで大型の、例えば基板処理用として製作可能なステージ装置を提供することができる。これは、液晶基板等の被処理物体が大型化する場合、それに応じて石定盤、ベースも大型化するが、従来の一体物の石定盤の大型化に比べて本発明における石定盤のサイズの増加は小さくて済むからである。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, by improving the structure of the base and the stone surface plate in the stage device, it is possible to provide a large-sized stage device that can be manufactured, for example, for substrate processing while satisfying required performance. . This is because, when an object to be processed such as a liquid crystal substrate is enlarged, the stone slab and the base are correspondingly enlarged, but the stone slab according to the present invention is larger than the conventional single-piece stone slab. This is because the increase in the size of the object can be small.

図1を参照して、本発明をサーフェス型位置決めステージ装置に適用した第1の実施の形態について説明する。図1において、図3と同じ部分には同一番号を付している。本形態は、以下のような点に特徴を有する。   A first embodiment in which the present invention is applied to a surface type positioning stage device will be described with reference to FIG. 1, the same parts as those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals. This embodiment is characterized in the following points.

(1)図3で説明した一体物の石定盤10と架台1の代わりに、ベース100と石定盤20との組み合わせを用いる。ベース100は鋳鉄による鋳物、あるいは角パイプ、形鋼等による鋼構造物とし、移動体14の移動領域に相当する領域を切り欠いた構造とする。   (1) A combination of a base 100 and a stone surface plate 20 is used instead of the integrated stone surface plate 10 and the gantry 1 described in FIG. The base 100 is a casting made of cast iron or a steel structure made of a square pipe, a shaped steel, or the like, and has a structure in which a region corresponding to a moving region of the moving body 14 is cut out.

(2)そして、ベース100の切り欠かれた部分、つまり移動体14の移動領域に対応する部分に石定盤20を設置する。石定盤20の表面は平面度数μmで、滑らかに仕上げ加工されている。また、石定盤20のレベルはベース100に対し調整されて設置される。   (2) Then, the stone surface plate 20 is installed in a cutout portion of the base 100, that is, a portion corresponding to the moving area of the moving body 14. The surface of the stone platen 20 has a flatness of several μm and is finished smoothly. Also, the level of the stone surface plate 20 is adjusted and installed with respect to the base 100.

(3)ビーム6の駆動装置であるリニアモータやガイド部はベース100側に配置される。   (3) The linear motor and the guide portion, which are the driving device of the beam 6, are arranged on the base 100 side.

(4)このような構造とすることにより、従来技術において一体物の石定盤を持つ構造で困難であった液晶基板等の被処理物体の大型化に対応したステージ装置の製作が可能となる。   (4) By adopting such a structure, it becomes possible to manufacture a stage device that can handle a large-sized object to be processed such as a liquid crystal substrate, which has been difficult in the prior art with a structure having an integrated stone surface plate. .

以下に、本形態によるサーフェス型位置決めステージ装置を詳細に説明する。図1において、鋼構造物によるベース100に形成された石定盤用の受け部100aに石定盤20が設置され、レベル出しを行った上で固定される。ベース100は、受け部100aの両側にガイド部材を設置するための設置部を有する。この設置部にガイド部材2、3が互いに平行にY軸方向に延びるように配設されている。ガイド部材2、3にはそれぞれ移動体4、5が配置されている。   Hereinafter, the surface type positioning stage device according to the present embodiment will be described in detail. In FIG. 1, a stone surface plate 20 is installed on a stone surface plate receiving portion 100a formed on a base 100 made of a steel structure, and is fixed after leveling. The base 100 has installation sections for installing guide members on both sides of the receiving section 100a. Guide members 2 and 3 are arranged in this installation portion so as to extend in the Y-axis direction in parallel with each other. Moving bodies 4 and 5 are arranged on the guide members 2 and 3, respectively.

移動体4、5はそれぞれリニアモータ駆動方式により移動するものである。つまり、ガイド部材2、3にはそれぞれ多数の磁石から成る磁石装置が組み込まれている。移動体4、5はそれぞれ磁石装置と作用し合う可動コイルを有している。これにより、移動体4、5はそれぞれガイド部材2、3に沿ってY軸方向にスライド移動可能となっている。また、位置決め制御のために、移動体4、5、後述する移動体14の位置を計測するための計測装置、例えばリニアスケール及びセンサが設置されるが、この種の計測装置を含むリニアモータは周知であるので、詳しい説明は省略する。   The moving bodies 4 and 5 move by a linear motor drive system. That is, each of the guide members 2 and 3 incorporates a magnet device including a large number of magnets. Each of the moving bodies 4 and 5 has a movable coil that interacts with a magnet device. Thus, the moving bodies 4 and 5 can slide along the guide members 2 and 3 in the Y-axis direction, respectively. For positioning control, a measuring device for measuring the positions of the moving bodies 4 and 5 and a moving body 14 described later, for example, a linear scale and a sensor are installed. Since it is well known, detailed description is omitted.

ガイド部材2と移動体4について言えば、図1(b)に示すように、移動体4はガイド部材2を跨ぐような断面略逆U形状を有する。移動体4の内面には1個以上の静圧軸受けパッド12が備えられ、ガイド部材2と移動体4との間に介在している。移動体4の案内面となるガイド部材2の側面も表面仕上げ加工が施されていることは言うまでも無い。これにより、移動体4のガイド部材2に沿った移動がスムーズに行われる。また、図1(b)に示すように、移動体4の下面には1個以上の静圧軸受けパッド13が備えられ、定盤20と移動体4との間に介在している。これにより、石定盤20上での移動がスムーズに行われる。   As for the guide member 2 and the moving body 4, as shown in FIG. 1B, the moving body 4 has a substantially inverted U-shaped cross section so as to straddle the guide member 2. One or more hydrostatic bearing pads 12 are provided on the inner surface of the moving body 4, and are interposed between the guide member 2 and the moving body 4. It goes without saying that the surface of the guide member 2 serving as the guide surface of the moving body 4 is also subjected to surface finishing. Thereby, the movement of the moving body 4 along the guide member 2 is performed smoothly. Further, as shown in FIG. 1B, one or more hydrostatic bearing pads 13 are provided on the lower surface of the moving body 4, and are interposed between the surface plate 20 and the moving body 4. Thereby, movement on the stone surface plate 20 is performed smoothly.

以上の構成は、ガイド部材3と移動体5についてもまったく同じである。つまり、移動体5にも静圧軸受けパッド12、13が備えられている。   The above configuration is exactly the same for the guide member 3 and the moving body 5. That is, the moving body 5 is also provided with the static pressure bearing pads 12 and 13.

なお、上記の静圧軸受けパッドに代えて、いわゆる直動ガイドを用いても良く、これは以降で述べられる移動体14における静圧軸受けパッドにおいても同様である。   It should be noted that a so-called linear motion guide may be used instead of the above-described static pressure bearing pad, and the same applies to a static pressure bearing pad of the moving body 14 described below.

移動体4と5の間はビーム6で連結されている。ビーム6には移動体14が配置されている。移動体14はビーム6をガイドとして、図1(a)のX軸方向に移動可能である。図1(a)では、便宜上、移動体14の上部を切り取った状態で示している。移動体14も上述したリニアモータ駆動方式により移動するものである。このために、ビーム6に磁石装置が組み込まれ、移動体14はこの磁石装置と作用し合う可動コイルを有している。   The moving bodies 4 and 5 are connected by a beam 6. A moving body 14 is arranged on the beam 6. The moving body 14 is movable in the X-axis direction in FIG. FIG. 1A shows a state in which the upper part of the moving body 14 is cut off for convenience. The moving body 14 also moves by the above-described linear motor driving method. For this purpose, a magnet device is incorporated in the beam 6, and the moving body 14 has a moving coil that interacts with the magnet device.

移動体14はビーム6を跨ぐような断面略逆U形状を有し、その内面には静圧軸受パッド15a、15b、15c、15dが備えられ、ビーム6と移動体14との間に介在している。石定盤20と移動体14との間にも静圧軸受けパッド14a、14b、14cが配置されている。つまり、移動体14の下面に静圧軸受けパッド14a〜14cが取り付けられている。移動体14の案内面となるビーム6の側面も表面仕上げ加工が施されていることは言うまでも無い。これにより、移動体14はビーム6に沿ってスムーズに移動可能であるとともに、石定盤20上をスムーズに移動可能にされている。つまり、移動体14は、X軸方向、Y軸方向に移動可能である。   The moving body 14 has a substantially inverted U-shaped cross section so as to straddle the beam 6, and has hydrostatic bearing pads 15 a, 15 b, 15 c, and 15 d on its inner surface, and is interposed between the beam 6 and the moving body 14. ing. Static pressure bearing pads 14a, 14b, 14c are also arranged between the stone surface plate 20 and the moving body 14. That is, the hydrostatic bearing pads 14a to 14c are attached to the lower surface of the moving body 14. Needless to say, the side surface of the beam 6 serving as the guide surface of the moving body 14 is also subjected to surface finishing. Thus, the moving body 14 can move smoothly along the beam 6 and can move smoothly on the stone surface plate 20. That is, the moving body 14 is movable in the X-axis direction and the Y-axis direction.

なお、ビーム6の下面にも静圧軸受パッド16が備えられ、ビーム6と石定盤20との間に介在している。これにより、ビーム6が石定盤20上をスムーズに移動可能にされている。   Note that a hydrostatic bearing pad 16 is also provided on the lower surface of the beam 6, and is interposed between the beam 6 and the stone surface plate 20. Thereby, the beam 6 can be smoothly moved on the stone surface plate 20.

上記のようなサーフェス型位置決めステージ装置は、移動体14に被処理物体を搭載するためのテーブルが設けられるか、あるいは移動体14自体がテーブルとして利用される。そして、被処理物体が基板状のものである場合には、このテーブルには減圧機構による吸着機構が備えられる。このようなステージ装置は、例えば液晶露光装置に適しているが、これに限られるものではなく、大型化することが要求されるステージ装置全般に適用可能である。また、上記の形態は、移動体14がX軸、Y軸の両方に移動可能なステージ装置であるが、移動体14がX軸、Y軸の一方のみに移動可能なステージ装置にも適用され得る。この場合、移動体14に相当する部分はビーム6に固定される。勿論、移動体14に相当する部分無しでビーム6自体が移動体として利用されても良い。この場合、移動体4、5とビーム6とから成る部分が移動体と呼ばれても良い。   In the surface type positioning stage device as described above, a table for mounting the object to be processed on the moving body 14 is provided, or the moving body 14 itself is used as a table. When the object to be processed is in the form of a substrate, the table is provided with a suction mechanism using a decompression mechanism. Such a stage device is suitable for, for example, a liquid crystal exposure device, but is not limited to this, and can be applied to all stage devices that require a large size. Further, the above embodiment is a stage device in which the moving body 14 can move in both the X axis and the Y axis, but is also applied to a stage device in which the moving body 14 can move in only one of the X axis and the Y axis. obtain. In this case, a portion corresponding to the moving body 14 is fixed to the beam 6. Of course, the beam 6 itself may be used as a moving body without a portion corresponding to the moving body 14. In this case, a portion including the moving bodies 4 and 5 and the beam 6 may be referred to as a moving body.

図2を参照して、本発明の第2の実施の形態について説明する。この第2の実施の形態によるステージ装置は、定盤上に置かれた被処理基板を検査するための撮像装置を搭載することで検査用ステージ装置として使用される。   A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The stage device according to the second embodiment is used as an inspection stage device by mounting an imaging device for inspecting a substrate to be processed placed on a surface plate.

図2において、図1と同じ部分には同一番号を付している。本形態と第1の実施の形態の相違は、定盤20上に被処理基板が置かれることに加えて、ビーム6−1に撮像装置30を搭載した点にある。この場合、被処理基板の保持のために、定盤20には、減圧機構による吸着機構が1個以上埋め込まれるのが好ましい。また、撮像装置30は、ビーム6−1の側面に沿って図中、X軸方向に移動可能であると共に、X軸、Y軸に対して直角なZ軸方向にも移動可能にしている。撮像装置30をZ軸方向に可動とする理由の1つとしては、撮像範囲を可変とすることがあげられる。ガイド部材2と移動体4、ガイド部材3と移動体5との間の構造は第1の実施の形態とまったく同じで良い。   2, the same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. The difference between the present embodiment and the first embodiment is that, in addition to the substrate to be processed being placed on the surface plate 20, the imaging device 30 is mounted on the beam 6-1. In this case, in order to hold the substrate to be processed, it is preferable that one or more suction mechanisms by a decompression mechanism are embedded in the surface plate 20. Further, the imaging device 30 is movable along the side surface of the beam 6-1 in the X-axis direction in the drawing, and is also movable in the Z-axis direction perpendicular to the X-axis and the Y-axis. One of the reasons for making the imaging device 30 movable in the Z-axis direction is to make the imaging range variable. The structure between the guide member 2 and the moving body 4 and the structure between the guide member 3 and the moving body 5 may be exactly the same as in the first embodiment.

このようなX軸、Z軸方向の移動を可能にするための駆動機構については図示は省略しているが、その一例について簡単に説明する。ビーム6−1の側面にX軸方向に延びるガイド部材を設けてX軸駆動源により可動部をこのガイド部材に沿って移動可能にする。そして、この可動部にはZ軸駆動源を介して撮像装置30をZ軸方向に移動可能に搭載する。X軸駆動源としては、例えばリニアモータを使用することができ、Z軸駆動源には、例えばボイスコイルモータを使用することができる。このような駆動源自体は周知であるので、詳しい説明は省略する。勿論、駆動源はリニアモータ、ボイスコイルモータに限らない。   A drive mechanism for enabling such movement in the X-axis and Z-axis directions is not shown, but an example thereof will be briefly described. A guide member extending in the X-axis direction is provided on a side surface of the beam 6-1 so that the movable portion can be moved along the guide member by an X-axis drive source. Then, the imaging device 30 is mounted on the movable portion via a Z-axis drive source so as to be movable in the Z-axis direction. For example, a linear motor can be used as the X-axis drive source, and a voice coil motor can be used as the Z-axis drive source, for example. Since such a driving source itself is well known, a detailed description is omitted. Of course, the drive source is not limited to a linear motor or a voice coil motor.

なお、ビーム6−1の下面側には静圧軸受パッドは備えられず、被処理基板は、移動体4、5の下面側の静圧軸受パッドの移動領域に入らない大きさにされることは言うまでも無い。また、移動体4、5のY軸方向の長さは、Y軸方向に関する検査領域の拡大という観点から、できるだけ短くされるのが好ましいことは言うまでも無い。   Note that no hydrostatic bearing pads are provided on the lower surface side of the beam 6-1, and the substrate to be processed is sized so as not to enter the moving area of the hydrostatic bearing pads on the lower surface side of the moving bodies 4 and 5. Needless to say. Needless to say, the length of the moving bodies 4 and 5 in the Y-axis direction is preferably as short as possible from the viewpoint of expanding the inspection area in the Y-axis direction.

このようなステージ装置は、定盤20上に置かれた被処理基板の処理後の状態を撮像装置30で撮像し、得られた画像を基に被処理基板の表面状態の検査を行う装置に適し、定盤20上に置かれる被処理基板の大型化に対応できるようになる。   Such a stage apparatus is an apparatus that takes an image of the processed state of the substrate to be processed placed on the surface plate 20 with the imaging device 30 and inspects the surface state of the substrate to be processed based on the obtained image. It is possible to cope with an increase in the size of the substrate to be processed which is suitable and is placed on the surface plate 20.

ところで、液晶基板の製造過程においてガラス基板に特定の材料による薄膜を塗布形成するために、スピンコータ機に代えてテーブルコータ機と呼ばれるものが使用されるようになってきている。本発明は、テーブルコータ機用のステージ装置にも適用可能である。この場合、テーブルコータ機は、図2に示すようなステージ装置において、ビーム6−1にノズル部が搭載される。つまり、図1に示す移動体14は備えられず、定盤20上にガラス基板が置かれる。そして、ガラス基板の保持のために、定盤20には減圧機構による吸着機構が1個以上埋め込まれる。   By the way, in order to apply and form a thin film of a specific material on a glass substrate in a process of manufacturing a liquid crystal substrate, a so-called table coater has been used instead of a spin coater. The present invention is also applicable to a stage device for a table coater. In this case, in the table coater, a nozzle unit is mounted on the beam 6-1 in a stage device as shown in FIG. That is, the moving body 14 shown in FIG. 1 is not provided, and the glass substrate is placed on the surface plate 20. Then, for holding the glass substrate, one or more suction mechanisms by a pressure reducing mechanism are embedded in the surface plate 20.

このようなテーブルコータ機はガントリ型コータ機とも呼ばれている。このようなテーブルコータ機用のステージ装置においても、定盤20上に置かれるガラス基板のような被処理基板の大型化に対応できる。   Such a table coater is also called a gantry type coater. Such a stage apparatus for a table coater can cope with an increase in the size of a substrate to be processed such as a glass substrate placed on the surface plate 20.

本発明をサーフェス型位置決めステージ装置に適用した第1の実施の形態を示した図であり、図1(a)は平面図、図1(b)は側面図である。1A and 1B are diagrams showing a first embodiment in which the present invention is applied to a surface type positioning stage device, wherein FIG. 1A is a plan view and FIG. 1B is a side view. 本発明を検査用ステージ装置に適用した第2の実施の形態を示した図であり、図2(a)は平面図、図2(b)は側面図である。FIG. 2A is a diagram showing a second embodiment in which the present invention is applied to an inspection stage device, where FIG. 2A is a plan view and FIG. 2B is a side view. 従来のサーフェス型位置決めステージ装置の一例を示した図であり、図3(a)は平面図、図3(b)は側面図である。FIG. 3A is a diagram illustrating an example of a conventional surface-type positioning stage device. FIG. 3A is a plan view, and FIG. 3B is a side view.

符号の説明Explanation of reference numerals

1 架台
2、3 ガイド部
4、5、14 移動体
6、6−1 ビーム
10、20 石定盤
12、13、14a〜14c、15a〜15d、16 静圧軸受パッド
100 ベース
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Stand 2, 3 Guide part 4, 5, 14 Moving body 6, 6-1 Beam 10, 20 Stone surface plate 12, 13, 14a-14c, 15a-15d, 16 Hydrostatic bearing pad 100 Base

Claims (6)

石定盤上を、可動部がX軸、Y軸の少なくとも一方の方向に移動可能に構成されたステージ装置において、
前記石定盤のサイズを前記可動部の移動領域に対応する大きさとし、該石定盤をその受け部を持つ鋳鉄製の鋳物あるいは鋼構造物によるベースに固定したことを特徴とするステージ装置。
In a stage device in which a movable portion is movable on at least one of the X axis and the Y axis on a stone surface plate,
A stage device, wherein the size of the stone surface plate is set to a size corresponding to a movement area of the movable portion, and the stone surface plate is fixed to a base made of cast iron or steel having a receiving portion.
請求項1に記載のステージ装置において、前記ベースは、その中央部に前記受け部を有してその両側には互いに平行にX軸、Y軸の一方の方向に延びる2つのガイド部材設置部を有し、これら2つのガイド部材設置部にそれぞれ互いに平行に延びるガイド部材が設置され、これら2本のガイド部材にはそれぞれ、該ガイド部材に沿って移動可能に第1の移動体が備えられ、これら2つの第1の移動体間がX軸、Y軸の他方の方向に延びるビームで連結され、該ビームには該ビームに沿って移動可能に第2の移動体が備えられることにより、該第2の移動体が前記可動部として前記石定盤上で前記X軸方向及びY軸方向に移動可能にされていることを特徴とするステージ装置。   2. The stage device according to claim 1, wherein the base has the receiving portion in a central portion thereof, and has two guide member installation portions extending in one of X-axis and Y-axis directions on both sides thereof in parallel with each other. 3. A guide member extending in parallel with each other is installed on each of the two guide member installation portions, and a first moving body is provided on each of the two guide members so as to be movable along the guide member. The two first moving bodies are connected by a beam extending in the other direction of the X-axis and the Y-axis, and the beam is provided with a second moving body movably along the beam. A stage device, wherein a second movable body is movable as the movable portion on the stone platen in the X-axis direction and the Y-axis direction. 請求項2に記載のステージ装置において、前記第1の移動体と前記ガイド部材との間に介在するように少なくとも1つの静圧軸受けパッドが前記第1の移動体に設けられると共に、前記第1の移動体と前記石定盤との間に介在するように静圧軸受けパッドが前記第1の移動体に設けられ、前記第2の移動体と前記ビームとの間に介在するように少なくとも1つの静圧軸受けパッドが前記第2の移動体に設けられると共に、前記第2の移動体と前記石定盤との間に介在するように複数の静圧軸受けパッドが前記第2の移動体に設けられていることを特徴とするステージ装置。   3. The stage device according to claim 2, wherein at least one hydrostatic bearing pad is provided on the first movable body so as to be interposed between the first movable body and the guide member, and the first movable body is provided on the first movable body. 4. A static pressure bearing pad is provided on the first movable body so as to be interposed between the movable body and the stone surface plate, and at least one of the static pressure bearing pads is provided so as to be interposed between the second movable body and the beam. Two static pressure bearing pads are provided on the second moving body, and a plurality of static pressure bearing pads are provided on the second moving body so as to be interposed between the second moving body and the stone surface plate. A stage device, which is provided. 請求項1に記載のステージ装置において、前記ベースは、その中央部に前記受け部を有してその両側には互いに平行にX軸、Y軸の一方の方向に延びる2つのガイド部材設置部を有し、これら2つのガイド部材設置部にそれぞれ互いに平行に延びるガイド部材が設置され、これら2本のガイド部材に沿って移動可能な移動体が備えられ、該移動体が前記可動部として前記X軸、Y軸の一方の方向に移動可能にされていることを特徴とするステージ装置。   2. The stage device according to claim 1, wherein the base has the receiving portion in a central portion thereof, and has two guide member installation portions extending in one of X-axis and Y-axis directions on both sides thereof in parallel with each other. 3. A guide member extending in parallel with each other is provided on each of the two guide member installation portions, and a movable body movable along these two guide members is provided. The movable body is the X as the movable portion. A stage device, which is movable in one of an axis and a Y axis. 請求項4に記載のステージ装置において、前記移動体と前記ガイド部材との間に介在するように少なくとも1つの静圧軸受けパッドが前記移動体に設けられていることを特徴とするステージ装置。   5. The stage device according to claim 4, wherein at least one hydrostatic bearing pad is provided on the movable body so as to be interposed between the movable body and the guide member. 請求項4または5に記載のステージ装置において、被処理基板が前記定盤上に置かれ、前記移動体には該被処理基板に対して検査あるいは加工を行うための検査機器あるいは加工機が搭載されることを特徴とするステージ装置。

6. The stage device according to claim 4, wherein the substrate to be processed is placed on the surface plate, and the moving body is provided with an inspection device or a processing machine for inspecting or processing the substrate to be processed. A stage device characterized by being performed.

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