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JP2004136683A - インクジェットプリンタのプリントヘッド及びその製造方法 - Google Patents

インクジェットプリンタのプリントヘッド及びその製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 インクジェットプリンタのプリントヘッドのリード端部と基板との間の電気的ショート,及びリード端部とボンドパッドの接合不良を防止する。
【解決手段】 インクカートリッジから供給されるインクを吐出する少なくとも一つのインク吐出部と,インク吐出部を制御する制御信号を伝送する回路部の配線131のリード端部132がそれぞれ接続された少なくとも一つのボンドパッド109とが配置された主チップエリア113と,主チップエリア113の縁部に位置し,半導体ウェハに形成される複数のヘッドチップを互いに切り離す切削線が設けられた切削領域を構成するスクライブレーンエリア115と,から成る基板101上に形成されたヘッドチップを含み,上記ヘッドチップのスクライブレーンエリアに,ヘッドチップを物理的及び電気的に保護し,主チップエリア113及び基板101と電気的に分離されるように形成される緩衝パターン部114を備えた。
【選択図】  図10f

Description

 本発明は,インクジェットプリンタのプリントヘッド及びその製造方法にかかる。
 一般に,インクジェットプリンタは,インクを収容するインクカートリッジ10を備える。このインクカートリッジ10には,コンタクトパッド36を介してプリンタ本体と電気的に信号をやり取りするプリントヘッド1が取り付けられる。図1には,インクカートリッジ10とプリントヘッド1との結合関係が示されている。
 図2は,従来のインクジェットプリンタのプリントヘッドの部分平面図であり,図3は図2のI−I線断面図である。
 従来のインクジェットプリンタのプリントヘッド1はヘッドチップ20と回路部30とを含む。ヘッドチップ20は,泡を生成するためのヒーター25(図3)とインク吐出ノズル24とから構成される複数のインク吐出部を有する。回路部30は,上記それぞれのインク吐出部を駆動及び制御する配線34及び/またはスイッチング回路が形成された可撓性のプリント回路板(flexible printed circuit board)からなる。
 ヘッドチップ20は,シリコン基板21と,基板21上に配置されインク室29を画成する室プレート37と,インク室29の上方に配置されインク吐出ノズル24が形成されるノズルプレート23とを備える。シリコン基板21の上面には,回路部30の配線34のリード端部32に接着(ボンディング)されたボンドパッド26とヒーター25が形成される。更に,基板21には,インクカートリッジ10からそれぞれのインク室29へとインクを供給するためのインク供給マニピュレータ22が基板21の下面から上面へと貫通して形成される。
 ノズルプレート23と室プレート37が形成された基板21は,インクカートリッジ10の基板搭載用溝14に接着剤50を用いて取り付けられる。
 上述したようなプリントヘッド1の動作について説明する。先ず,インクカートリッジ10のインク供給口12から供給されるインクは,プリントヘッド1の基板20の下面からインク供給マニピュレータ22を通って室プレート37とノズルプレート23により画成されたインク室29に流入する。インク室29に一時的に滞留したインクは,ヒーター25から発生する熱により瞬間的に加熱される。この際,インクは爆発性の泡を発生し,この泡によりインク室29内のインクの一部がインク室29上に形成されたインク吐出ノズル24からプリントヘッド1の外へと吐出される。
 しかし,上述したような従来のプリントヘッド1は,その製造時において,各配線34のリード端部32をヘッドチップ20の各ボンドパッド26に接続する際に,絶縁層39が損傷される,という問題点があった。回路部30の配線34のリード端部32は,基板21に形成された対応するボンドパッド26に圧電方式で接着される。このように,通常は銅からなるリード端部32とアルミニウムからなるボンドパッド26とが,例えば超音波や熱などを用いて圧力を加えて接着を行なう圧電方式で相互接着される際には,ヘッドチップ20のスクライブレーンエリアの絶縁層39がリード端部32により押圧される。スクライブレーンエリアは,半導体ウェハの各チップとチップの間の切削領域であり,この切削領域にはチップとチップを切り離す切削線が設けられる。図3においては,矢印で挟まれた領域が上記スクライブレーンエリアである。
 上述したように,リード端部32をボンドパッド26に接着する際にスクライブレーンエリアの絶縁層39がリード端部32により押圧されると,図5に示すように,切削面45には押し傷46が形成されて,スクライブレーンエリアの基板21の絶縁層39が損傷される。このように絶縁層39が損傷されると,リード端部32をボンドパッド26に接着する際にリード端部32と基板21との間に電気的ショートが発生し,ヘッドチップ20に不良が生じる恐れがあった。
 また,上記絶縁層39が損傷された状態でプリントヘッド1がインクカートリッジ10に取り付けられて印刷が行なわれると,損傷されたスクライブレーンエリアの絶縁層39は,ワイピング(インク吐出面の清掃)動作等により継続的にストレスを受け,最終的にはリード端部32が接地されたシリコン基板21に当たって,電気的なショートが発生する恐れがあった。このように,従来のプリントヘッド1は,リード端部32とボンドパッド26とを接合する際に,及び/または,印刷の際に,リード端部32と基板21との間に電気的ショートが発生する恐れがある,という問題点があった。
 また,プリントヘッド1は,ボンドパッド26の下部メタル27とコンタクトプラグ28とが,その間の層間絶縁層41に形成された広いビアホール42を介して連結されており,図4に示すように,コンタクトプラグ28はその上面に広くて平らな凹み溝28aを有する。従って,リード端部32をコンタクトプラグ28の上面に圧電方式で接着する際には,リード端部32とコンタクトプラグ28とが接合されにくく,リード端部32とコンタクトプラグ28との接合不良が発生し易くなる,という問題点があった。
 更にこの状態でプリントヘッド1がワイピング動作を行い,接合不良が発生したリード端部32にワイパーが頻繁に接触すると,リード端部32がコンタクトプラグ28から外れてしまい,当該インク吐出部のインク噴射が行なわれなくなって印刷不良が発生する恐れがある,という問題点があった。
 また,従来のプリントヘッド1は,インク供給マニピュレータ22が基板21を貫通して形成されているので,基板21の機械的強度が脆弱であり,外部からの僅かな衝撃によっても,基板21がインク供給マニピュレータ22を中心に破損される恐れがある,という問題点があった。
 更にまた,従来のプリントヘッド1は,印刷時にヒーター25等によりヘッドチップ20内で発生する熱がインクカートリッジ10等を通じて外へ放出されるのではなく,ヘッドチップ20内に蓄積されるので,ヘッドチップ20の寿命が短縮されたり,インク吐出効率が劣化する恐れがある,という問題点もあった。
 そこで,本発明は,このような問題に鑑みてなされたもので,その目的とするところは,リード端部とボンドパッドの接合時及び/または印刷時に発生するリード端部と基板との間の電気的ショートと,リード端部とボンドパッドの接合不良とを防止することができるインクジェットプリンタのプリントヘッドを提供することにある。
 上記課題を解決するために,本発明のある観点によれば,インクカートリッジから供給されるインクを吐出する少なくとも一つのインク吐出部と,上記インク吐出部を制御する制御信号を伝送する回路部の配線のリード端部がそれぞれ接続された少なくとも一つのボンドパッドとが配置された主チップエリアと,上記主チップエリアの縁部に位置し,半導体ウェハに形成される複数のヘッドチップを互いに切り離す切削線が設けられた切削領域を構成するスクライブレーンエリアと,から成る基板上に形成されたヘッドチップを含み,上記ヘッドチップのスクライブレーンエリアに,上記ヘッドチップを物理的及び電気的に保護し,上記主チップエリア及び上記基板と電気的に分離されるように形成される緩衝パターン部を備えたこと,を特徴とするインクジェットプリンタのプリントヘッドが提供される。
 このような本発明にかかるインクジェットプリンタのプリントヘッドによれば,上記ヘッドチップのスクライブレーンエリアに設けた上記緩衝パターン部は,上記ヘッドチップを物理的に保護するので,従来リード端部をボンドパッドに接続する際に生じていたスクライブレーンエリアの絶縁層の破損が防止される。更に,上記緩衝パターン部は上記ヘッドチップを電気的にも保護するので,従来リード端部をボンドパッドに接続する際または印刷の際にリード端部と基板との間で発生していた電気的ショートを防止することができる。
 このとき,上記緩衝パターン部は,上記基板上に形成された少なくとも一つの絶縁層と,上記絶縁層上に形成され,所定形状の複数の孔を有する板,一定の間隔で配列された複数の所定形状の板,網状の板,または格子状の板の何れかの形態を有する少なくとも一つの補強パターンとを含むように構成すれば,上記絶縁層は上記ヘッドチップの主チップエリア及び基板を電気的に保護する役割りを果たして電気的ショートが発生するのを防止し,上記補強パターンは上記スクライブレーンエリアの機械的強度を補強して上記ヘッドチップを物理的に保護する役割りを果たし,上記ヘッドチップが物理的に破損されるのを防止することができる。
 また,上記緩衝パターン部の絶縁層は,上記基板上に形成された素子分離膜と,上記素子分離膜上に形成された第1の層間絶縁層とを含むようにすれば,上記基板の絶縁効果をより高めることができる。
 また,上記緩衝パターン部は,上記補強パターンを二つ含み,該二つの補強パターンの間には層間絶縁層が形成されるようにすれば,上記緩衝パターン部の機械的強度をより増加させることができる。
 このとき,上記緩衝パターン部の補強パターンは,上記ボンドパッドを形成する材料と同じ材料で形成されるようにすれば,プリントヘッドの製造工程を簡素化することができる。また,上記ボンドパッドは導電性を有する金属からなるので,印刷時に上記ヘッドチップにて発生する熱は,上記ボンドパッドと同一の導電性材料からなる上記補強パターンを通じて効率よく外部に放出される。
 また,上記緩衝パターン部は,上記補強パターン上に形成された少なくとも一つの保護層を更に含む如く構成すれば,上記緩衝パターン部が保護されると同時に上記緩衝パターン部の機械的強度も増加する。このとき,上記緩衝パターン部の保護層は,上記補強パターン上に形成されたパッシベーション層と,上記主チップエリアのインク吐出部を構成するインク室及びインク吐出ノズルが形成されるときに,上記パッシベーション層上に形成される室/ノズルプレート層とを含むようにすることが望ましい。
 このとき,上記緩衝パターン部は,上記主チップエリアの縁部に位置するスクライブレーンエリアのうち,上記ボンドパッドが配置される領域と隣接する両側部に位置するスクライブレーンエリアに形成されるようにすれば,上記緩衝パターン部によりスクライブレーンエリアの機械的強度が補強されると同時に,リード端部をボンドパッドに接続する際にスクライブレーンエリアが押圧されることによりヘッドチップに生じる圧力が緩和されるので,従来のプリントヘッドにおいて,特にスクライブレーンエリアの絶縁層に生じていたヘッドチップの破損を防止することができる。
 また,上記緩衝パターン部は,上記主チップエリアの縁部に位置するスクライブレーンエリアの4つの縁部全てのスクライブレーンエリアに形成されるようにすれば,上記ヘッドチップの機械的強度をより高めることができる。
 また,上記配線のリード端部は,上記ボンドパッドの上面に形成された凹み溝の側壁に密着して接合されるようにすれば,上記リード端部とボンドパッドとが堅固に接合されるので,接合不良を防止すると同時に印刷時の衝撃により上記リード端部がボンドパッドから外れるのを防止することができる。
 上記課題を解決するために,本発明の別の観点によれば,インクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法であって,基板上に形成され,主チップエリアと該主チップエリアの縁部に位置するスクライブレーンエリアとを有するヘッドチップの上記スクライブレーンエリアに,前記ヘッドチップを物理的及び電気的に保護する緩衝パターン部を,上記主チップエリア及び上記基板と電気的に分離されるように形成する段階を含むこと,を特徴とするインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法が提供される。
 このような本発明にかかるインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法によれば,上記ヘッドチップのスクライブレーンエリアに設けた上記緩衝パターン部は,上記ヘッドチップを物理的に保護するので,従来リード端部をボンドパッドに接続する際に生じていたスクライブレーンエリアの絶縁層の破損が防止される。更に,上記緩衝パターン部は上記ヘッドチップを電気的にも保護するので,従来リード端部をボンドパッドに接続する際または印刷の際にリード端部と基板との間で発生していた電気的ショートを防止することができる。
 このとき,上記緩衝パターン部を形成する段階は,上記スクライブレーンエリアに少なくとも一つの絶縁層を形成する段階と,上記絶縁層が形成されたスクライブレーンエリアに所定形状の複数の孔を有する板,一定の間隔で配列された複数の所定形状の板,網状の板,または格子状の板の何れかの形態を有する少なくとも一つの補強パターンを形成する段階とを含むようにすれば,上記絶縁層は上記ヘッドチップの主チップエリア及び基板を電気的に保護する役割りを果たして電気的ショートが発生するのを防止し,上記補強パターンは上記スクライブレーンエリアの機械的強度を補強して上記ヘッドチップを物理的に保護する役割りを果たし,上記ヘッドチップが物理的に破損されるのを防止することができる。
 このとき,上記絶縁層を形成する段階は,上記基板上に形成された素子分離膜を形成する段階と,上記素子分離膜上に第1の層間絶縁層を形成する段階とを含むようにするのが望ましい。そして,上記補強パターンを形成する段階は,上記第1の層間絶縁層上に第1の補強パターンを形成する段階と,上記第1の補強パターンが形成された基板に第2の層間絶縁層を形成する段階と,上記第2の層間絶縁層上に第2の補強パターンを形成する段階とを含むようにするのが望ましい。また,上記第1の補強パターンを形成する段階は,第1の金属層を蒸着する段階と,フォトレジストをマスクとして上記第1の金属層をパターニングする段階とを含み,上記第2の補強パターンを形成する段階は,第2の金属層を蒸着する段階と,フォトレジストをマスクとして上記第2の金属層をパターニングする段階とを含むようにすることが望ましい。
 また,上記補強パターンを形成する段階は,上記主チップエリアにおいて,インクカートリッジから供給されるインクを吐出するインク吐出部を制御する制御信号を伝送する回路部の配線のリード端部に接続されるボンドパッドが形成される段階と同時に行われるようにすれば,インクジェットプリンタのプリントヘッドの製造工程を簡素化することができる。
 ここで,上記補強パターンの第2の層間絶縁層を形成する段階で,上記第2の層間絶縁層は上記ヘッドチップの全面に形成され,上記ボンドパッドを形成する段階は,上記第2の層間絶縁層を形成する段階の後に上記第2の補強パターンの第2の金属層を蒸着する段階と同時に行なわれる,上記第2の層間絶縁層の主チップエリアに広いホールからならビアホールを形成する段階を含むようにすれば,上記補強パターンの第2の金属層と上記ビアホールとを同時に形成することができ,インクジェットプリンタのプリントヘッドの製造工程を簡素化することができる。
 そして,上記緩衝パターン部を形成する段階は,上記補強パターン上に形成される少なくとも一つの保護層を形成する段階を更に含むようにすれば,上記緩衝パターン部が保護されると同時に上記緩衝パターン部の機械的強度も増加する。このとき,上記保護層を形成する段階は,上記補強パターン上にパッシベーション層を形成する段階と,上記主チップエリアのインク吐出部を構成するインク室及びインク吐出ノズルが形成されるときに,上記パッシベーション層上に室/ノズルプレート層を形成する段階とを含むようにすることが望ましい。
 本発明によれば,ヘッドチップの縁部のスクライブレーンエリアに緩衝パターン部をを設けることにより,ヘッドチップが物理的及び電気的に保護されて回路部の配線のリード端部とボンドパッドとの接合時及び/または印刷時に発生するリード端部と基板との間の電気的ショートを防止することができると同時に,例えばワイピング動作等による印刷時にヘッドチップに加えられる衝撃が緩和されてヘッドチップが破損されるのを防止することができる。
 以下に添付図面を参照しながら,本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお,本明細書及び図面において,実質的に同一の機能構成を有する構成要素については,同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
 図6は,本発明の実施の形態にかかるにかかるプリントヘッドを構成するヘッドチップが,半導体ウェハに数十個〜数百個形成された際の,半導体ウェハ100の一部分の概略構成を示す平面図である。
 本実施形態にかかるプリントヘッドは,図1及び図2に示した従来のプリントヘッド1と同様に,インクカートリッジ(図示せず)から供給されるインクを吐出するヘッドチップ110と,ヘッドチップ110によるインクの吐出を駆動及び制御するための配線131(図10f)及び/またはスイッチング回路が形成される回路部(図示せず)と,を含む。上記回路部は,例えば可撓性のプリント回路板などである。
 プリントヘッド1のヘッドチップ110は,主チップエリア111と,主チップエリア111の縁部に配置されて主チップエリア111と他の主チップエリアとを切り離す切削線117が設けられる切削領域を構成するスクライブレーンエリア115とに分けられる。主チップエリア111には,インクカートリッジ(図示せず)から供給されるインクを吐出するインク吐出部(図示せず)と,上記インク吐出部を制御すべくパッド領域113に設けられて下部配線(図示せず)及び回路部の配線131のリード端部132に接続される複数のボンドパッド109とが配置される。
 主チップエリア111に配置される上記インク吐出部は,図1及び図2に示した従来のプリントヘッド1と同様に,基板101(図10f)に設けられた泡を発生するためのヒーター(図示せず)とインク吐出ノズル(図示せず)とから構成される。
 先ず,本実施形態にかかるプリントヘッドの,ボンドパッド109とリード端部132との接合構成について説明する。図7の(a)及び(b)は,ボンドパッド109とリード端部132との接合を示す平面図及び断面図であり,図10fはヘッドチップ110の部分断面図である。
 ボンドパッド109は,下部配線を構成する下部メタル104aと,下部メタル104aの上方に配置されて回路部の配線131のリード端部132に接続されるコンタクトプラグ106aとから構成される。コンタクトプラグ106aは,層間絶縁層105に形成されたコンタクトホールまたはビアホール105aの上にスパッタリング等のような方法で形成されるが,その際にコンタクトプラグ106aの上面には広い凹み溝121が形成される。
 ここで,本実施形態にかかるプリントヘッドにおいては,リード端部132とコンタクトプラグ106aとの接合力を増大させるために,リード端部132を凹み溝121の一側壁に,例えば超音波や熱などを用いて圧力を加えて接着(圧電接合)する。すなわち,従来のプリントヘッドは,凹み溝の中央にリード端部を接合していたのに対し,本実施形態では接合位置を凹み溝121の一側壁とすることにより,リード端部132と凹み溝121とを堅固に接合している。従って,本実施形態にかかるプリントヘッド110では,回路部の配線131のリード端部132をボンドパッド109に接合する際に生じる得る接合不良の発生を抑制することができる。
 次に,本実施形態にかかるプリントヘッドの,緩衝パターン部114について説明する。図8及び図10fに示すように,プリントヘッド1のヘッドチップ110のスクライブレーンエリア115には,ヘッドチップ110を物理的及び電気的に保護するのに適する形状に形成された緩衝パターン部114が設けられる。図8は,図6の半導体ウェハ100に形成された隣接する2つのヘッドチップ110の境界部分を示す図であり,それぞれのヘッドチップ110のパッド領域113に隣接する各スクライブレーンエリア115が示されている。切削線117の上側及び下側に位置する両ヘッドチップ110の図示されていない反対側の側部にも,それぞれパッド領域113とスクライブレーンエリア115が設けられている。
 緩衝パターン部114は,図6及び図8に示された各ヘッドチップ110の両側部,即ち各ヘッドチップ110の上側部及び下側部にそれぞれ配置された複数の方形の孔134を有する二つの下部補強パターン(第1の補強パターン)104と,下部補強パターン104の孔134とずらして配列された複数の方形の孔135を有する二つの上部補強パターン(第2の補強パターン)106と,ヘッドチップ110の4つの側部において上部補強パターン106と下部補強パターン104との間に配置された層間絶縁層105とを備える。
 選択的に,緩衝パターン部114′は,図9に示すように,ヘッドチップ110′の上上側部及び下側部においてそれぞれ一定の間隔で配列された複数の小さな方形の板からなる下板パターン104′と,下板パターン104′に対してずらして配列された複数の小さな方形の板からなる上板パターン106′と,ヘッドチップ110の4つの側部において上板パターン106′と下板パターン104′との間に配置された層間絶縁層(図示せず)とから構成されてもよい。
 緩衝パターン部114(または114′)の上部補強パターン106及び下部補強パターン104(または上板パターン106′及び下板パターン104′)は,前述した構造のうちの如何なる構造で構成されても,下部配線,及び下部配線との接続のために主チップエリア111に形成されるボンドパッド109の下部メタル104aとコンタクトプラグ106aとに使用される導電性材料,即ちアルミニウムまたはアルミニウム合金で形成される。また,緩衝パターン部114(または114′)は,主チップエリア111内に形成される下部配線や,ヒーター,ゲート(図示せず)及びソース・ドレイン(図示せず)のようなスイッチング素子(図示せず)や,ボンドパッド109と電気的に絶縁されるように配置される。
 また,図10fに示すように,緩衝パターン部114(または114′)は,基板101上に形成された素子分離膜102と,素子分離膜102上に形成された熱酸化膜のような絶縁体膜からなる第1の層間絶縁層103と,上部補強パターン106または上板パターン106′の上方に形成されたパッシベーション層(保護層)107と,室/ノズルプレート層108と,を更に含むことができる。室/ノズルプレート層108は,主チップエリア111においてインク室(図示せず)及びインク吐出ノズル(図示せず)を形成するための室プレート/ノズルプレート(図示せず)が形成される際に,スクライブレーンエリア115において上部補強パターン106または上板パターン106′の上方に形成される層である。
 上述したような素子分離膜102,第1の層間絶縁層103,パッシベーション層107,及び室/ノズルプレート層108は,上部補強パターン106及び下部補強パターン104(または上板パターン106′及び下板パターン104′)と共に,基板101を機械的及び電気的に補強及び絶縁する役割を果たす。
 このように,本発明の緩衝パターン部114(または114′)は,上部補強パターン106及び下部補強パターン104(または上板パターン106′及び下板パターン104′)と,複数の絶縁層及び保護層,すなわち素子分離膜102,第1の層間絶縁層103,パッシベーション層107,及び室/ノズルプレート層108とを介して,ヘッドチップ110の縁部を電気的に絶縁及び機械的に補強するバッファの役割を果たす。
 従って,緩衝パターン部114(または114′)を備えることにより,基板101が絶縁されてボンドパッド109に回路部の配線131のリード端部132を接合する際及び/または印刷の際に発生するリード端部132と基板101との間の電気的ショートが防止され,また,ヘッドチップ110に十分な機械的強度が提供されて印刷時のワイピング(インク吐出面の清掃)動作等によるヘッドチップ110の破損が防止される。
 更に,ヘッドチップ110の縁部に金属を含む緩衝パターン部114(または114′)を備えることにより,印刷時にヘッドチップ110から発生する熱が金属を含む緩衝パターン部114,114′を通ってヘッドチップ110の外部のインクカートリッジ等へと効率よく放出されるようになり,ヘッドチップ110の温度が上昇するのを防止することができる。
 上述した本実施形態において,緩衝パターン部の上部及び下部補強パターン106,104,及び/または,上板及び下板パターン106′,104′は,ヘッドチップ110の上側部及び下側部に配置されたが,当業者であれば,ヘッドチップ110の機械的強度と除熱能力を高めるためにヘッドチップ110の上側部及び下側部以外の他の側部にも設けることができるものと了解される。
 更に,本実施形態では,緩衝パターン部の上部及び下部補強パターン106,104は方形の孔を有する四角形の板であり,上板及び下板パターン106′,104′は複数の方形の小さな板から構成されたが,本発明はこれに限定されるものではなく,補強構造を提供する他の好適な形態,例えば,円形状の孔を有する板,複数の円形状の小さな板,網状の板,または格子状の板等からも構成され得る。
 また,本実施形態では,緩衝パターン部は,上部及び下部の二枚の補強パターン106,104の間に層間絶縁層105が挟まれる構造を有したが,一枚の補強パターンと層間絶縁層とから構成される構造を有してもよい。
 次に,本実施形態にかかるインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法について,図10a〜図10fを参照して詳細に説明する。
 先ず,図10aに示すように,例えばシリコン基板のような半導体基板101に,ヘッドチップ110の主チップエリア111のスイッチング素子とインク供給マニピュレータ(図示せず)が形成される活性領域,及びスクライブレーンエリア115の接地領域等を画成する素子分離膜102を酸化膜として形成する。素子分離膜102は,通常の素子分離工程,例えば,素子間を酸化膜で分離するLOCOS(選択酸化:LOCal
Oxidation of Silicon)工程またはトレンチ(溝)を掘って素子を分離するトレンチ素子分離工程により,酸化膜として形成される。
 続いて,ゲート及びソース・ドレイン等のようなスイッチング素子が所定の領域(図示せず)に公知の方法で形成される。そして,図10bに示すように,第1の層間絶縁層103(Inter−layer
Dielectric Layer)を,保護層として基板101の全面に形成する。この第1の層間絶縁層103は,熱酸化膜のような絶縁体膜で形成する。
 次に,ヘッドチップ110のスイッチング素子の,例えばソース・ドレイン等に接続される下部配線(図示せず)を形成すべく,下部配線を形成する導電性に優れパターニングし易い金属,例えばアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる下部金属層を,基板101の全面にスパッタリング法で蒸着する。そして,該下部金属層上にフォトレジスト(図示せず)を塗布した後,下部配線用マスクを用いた露光及び現像によりエッチングマスク(図示せず)を形成してから,該エッチングマスクを用いて下部金属層をパターニングする。このような工程を経て,ヘッドチップ110の主チップエリア111には,ソース・ドレインに接続される下部配線が形成される。
 次に,図10cに示すように,主チップエリア111のパッド領域113には,下部配線に接続されるボンドパッド109の下部メタル104aを形成する。一方,主チップエリア111のスクライブレーンエリア115には,下部補強パターン104と,接地またはヘッドチップ110の切削時に基板101を保護する役割を果たすPCT防止パターン104bとを形成する。
 図8に示すように,下部補強パターン104は,複数の方形の孔134を有する四角形状の板状の構成を有する。この下部補強パターン104は,ヘッドチップ110を補強する役割を果たすのみならず,素子分離膜102及び第1の層間絶縁層103を介して基板101と絶縁されているため,基板101と回路部の配線131のリード端部132との間の電気的ショートを防止する役割を果たす。
 上述したように,下部配線,ボンドパッド109の下部メタル104a,及び下部補強パターン104を形成した後,基板101の全面に第2の層間絶縁層105(Inter−metal Dielectric Layer)を形成する。第2の層間絶縁層105の例としては,TEOS(tetra ethyl ortho silicate:テトラ・エチル・オルト・シリケート)酸化膜や,CVD(Chemical Vapor Deposition:化学気相成長)法により形成される酸化膜などが挙げられる。この第2の層間絶縁層105は,下部配線と後に形成する上部配線とを,及び下部補強パターン104と上部補強パターン106とを,互いに絶縁する役割を果たす。
 次に,図10dに示すように,ヘッドチップ110の第2の層間絶縁層105の所定の部分をフォトリソグラフィ方法でパターニングする。その結果,第2の層間絶縁層105には,パッド領域113の下部メタル104aの一部を露出させる広いコンタクトホールまたはビアホール105aが形成される。
 ビアホール105aを形成した後,基板101の全面にはアルミニウムまたはアルミニウム合金の上部金属層をスパッタリング等の方法で蒸着する。そして,該上部金属層上にフォトレジスト(図示せず)を塗布した後,上部配線用マスク(図示せず)を用いた露光及び現像によりエッチングマスク(図示せず)を形成してから,該エッチングマスクを用いて上部金属層をパターニングする。このような工程を経て,ビアホール105aには,図10eに示すように,広い凹み溝121を有するコンタクトプラグ106aが形成される。
 このようにしてパッド領域113においてコンタクトプラグ106aが形成される一方で,スクライブレーンエリア115では上部補強パターン106が形成される。
 上部補強パターン106は,図8に示すように,複数の方形の孔135が下部補強パターン104の孔134とずらして配列された四角形状の板状の構成を有する。このように形成された上部補強パターン106は,下部補強パターン104と共にヘッドチップ110の強度を補強するのみならず,第2の層間絶縁層105を介して下部補強パターン104と絶縁されているため,基板101と回路部の配線131のリード端部132との間の電気的ショートを防止する役割を果たす。
 上部補強パターン106を形成した後,基板101の主チップエリア111の所定の領域にヒーター(図示せず)を形成する。なお,ヒーターは,比抵抗の高い金属と低い金属薄膜を順にラミネートした後,金属薄膜のうち,部分的に抵抗の低い金属を選択的にエッチングする方法,またはシリコン基板101の全面に不純物がドープされたポリシリコンを蒸着した後,これをパターニングする方法により形成する。
 ヒーターを形成した後,基板101の全面には,例えばP−SiNのようなシリコン窒化膜からなるパッシベーション層(保護層)107を形成してから,ヘッドチップ110のボンドパッド109をオープン(開口)するためにエッチングマスクを用いてパッシベーション層107をエッチングする。
 その後,インク室及びノズル等を,公知の室プレート及びノズルプレートを形成する工程により形成する。この際,ヘッドチップ110を更に補強及び絶縁するために,図10fに示すように,スクライブレーンエリア115にも室/ノズルプレート層108を形成する。
 その後,回路部の配線131のリード端部132を,図7の(a)及び(b)に示すように,ボンドパッド109のコンタクトプラグ106aの上面に形成された凹み溝121の一側壁に圧電接合方式で接合する。上述したような工程を経て,本実施形態にかかるインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造が完了する。
 以上,添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが,本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば,特許請求の範囲に記載された範疇内において,各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり,それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
 本発明は,インクジェットプリンタなどに設けられるプリントヘッドに適用可能である。
従来のインクジェットプリンタのプリントヘッドとインクカートリッジとの結合関係を示す分解斜視図である。 従来のインクジェットプリンタのプリントヘッドの部分平面図である。 図2のI−I線断面図である。 従来のインクジェットプリンタのプリントヘッドの回路部の配線のリード端部とヘッドチップのボンドパッドとの接合関係を示す部分平面図である。 従来のインクジェットプリンタのプリントヘッドのヘッドチップにおいて生じる問題点を例示する写真である。 本発明の実施の形態にかかるインクジェットプリンタのプリントヘッドを構成するヘッドチップが半導体ウェハに形成された際の半導体ウェハの部分平面図である。 同実施の形態における,ボンドパッドと回路部の配線のリード端部との接合関係を示す部分平面図及び断面図である。 同実施の形態において,プリントヘッドのヘッドチップに設けられる緩衝パターン部の一例を示す図である。 同実施の形態において,プリントヘッドのヘッドチップに設けられる緩衝パターン部の他の例を示す図である。 本発明の実施の形態にかかるインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法を示す図である。 同実施の形態にかかるインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法を示す図である。 同実施の形態にかかるインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法を示す図である。 同実施の形態にかかるインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法を示す図である。 同実施の形態にかかるインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法を示す図である。 同実施の形態にかかるインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法を示す図である。
符号の説明
 1       プリントヘッド
 10      インクカートリッジ
 20,110  ヘッドチップ
 21,101  基板
 22      インク供給マニピュレータ
 23      ノズルプレート
 24      インク吐出ノズル
 25      ヒーター
 26,109  ボンドパッド
 27,104a 下部メタル
 28,106a コンタクトプラグ
 28a,121 凹み溝
 29      インク室
 32,132  リード端部
 34,131  配線
 37      室プレート
 41,103,105 層間絶縁層
 100     ウェハ
 102     分離素子膜
 104,106 補強パターン
 104′,106′  板パターン
 107     パッシベーション層
 108     室/ノズルプレート
 111,111′主チップエリア
 113,113′パッド領域
 114,114′緩衝パターン部
 115,115′スクライブレーンエリア
 117     切削線
 134,135 孔

Claims (19)

  1.  インクカートリッジから供給されるインクを吐出する少なくとも一つのインク吐出部と,前記インク吐出部を制御する制御信号を伝送する回路部の配線のリード端部がそれぞれ接続された少なくとも一つのボンドパッドとが配置された主チップエリアと,
     前記主チップエリアの縁部に位置し,半導体ウェハに形成される複数のヘッドチップを互いに切り離す切削線が設けられた切削領域を構成するスクライブレーンエリアと,から成る基板上に形成されたヘッドチップを含み,
     前記ヘッドチップのスクライブレーンエリアに,前記ヘッドチップを物理的及び電気的に保護し,前記主チップエリア及び前記基板と電気的に分離されるように形成される緩衝パターン部を備えたこと,
     を特徴とするインクジェットプリンタのプリントヘッド。
  2.  前記緩衝パターン部は,
     前記基板上に形成された少なくとも一つの絶縁層と,
     前記絶縁層上に形成され,所定形状の複数の孔を有する板,一定の間隔で配列された複数の所定形状の板,網状の板,または格子状の板の何れかの形態を有する少なくとも一つの補強パターンとを含むことを特徴とする請求項1に記載のインクジェットプリンタのプリントヘッド。
  3.  前記緩衝パターン部の絶縁層は,
     前記基板上に形成された素子分離膜と,前記素子分離膜上に形成された第1の層間絶縁層とを含むことを特徴とする請求項2に記載のインクジェットプリンタのプリントヘッド。
  4.  前記緩衝パターン部は,
     前記補強パターンを二つ含み,該二つの補強パターンの間には層間絶縁層が形成されることを特徴とする請求項2に記載のインクジェットプリンタのプリントヘッド。
  5.  前記緩衝パターン部の補強パターンは,
     前記ボンドパッドを形成する材料と同じ材料で形成されたことを特徴とする請求項2に記載のインクジェットプリンタのプリントヘッド。
  6.  前記緩衝パターン部は,
     前記補強パターン上に形成された少なくとも一つの保護層を更に含むことを特徴とする請求項2に記載のインクジェットプリンタのプリントヘッド。
  7.  前記緩衝パターン部の保護層は,
     前記補強パターン上に形成されたパッシベーション層と,
     前記主チップエリアのインク吐出部を構成するインク室及びインク吐出ノズルが形成されるときに,前記パッシベーション層上に形成される室/ノズルプレート層とを含むことを特徴とする請求項6に記載のインクジェットプリンタのプリントヘッド。
  8.  前記緩衝パターン部は,
     前記主チップエリアの縁部に位置するスクライブレーンエリアのうち,前記ボンドパッドが配置される領域と隣接する両側部に位置するスクライブレーンエリアに形成されることを特徴とする請求項1に記載のインクジェットプリンタのプリントヘッド。
  9.  前記緩衝パターン部は,
     前記主チップエリアの縁部に位置するスクライブレーンエリアの4つの縁部全てのスクライブレーンエリアに形成されることを特徴とする請求項1に記載のインクジェットプリンタのプリントヘッド。
  10.  前記配線のリード端部は,
     前記ボンドパッドの上面に形成された凹み溝の側壁に密着して接合されることを特徴とする請求項1に記載のインクジェットプリンタのプリントヘッド。
  11.  インクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法であって,
     基板上に形成され,主チップエリアと該主チップエリアの縁部に位置するスクライブレーンエリアとを有するヘッドチップの前記スクライブレーンエリアに,前記ヘッドチップを物理的及び電気的に保護する緩衝パターン部を,前記主チップエリア及び前記基板と電気的に分離されるように形成する段階を含むこと,
     を特徴とするインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法。
  12.  前記緩衝パターン部を形成する段階は,
     前記スクライブレーンエリアに少なくとも一つの絶縁層を形成する段階と,
     前記絶縁層が形成されたスクライブレーンエリアに所定形状の複数の孔を有する板,一定の間隔で配列された複数の所定形状の板,網状の板,または格子状の板の何れかの形態を有する少なくとも一つの補強パターンを形成する段階とを含むことを特徴とする請求項11に記載のインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法。
  13.  前記絶縁層を形成する段階は,
     前記基板上に形成された素子分離膜を形成する段階と,
     前記素子分離膜上に第1の層間絶縁層を形成する段階とを含むことを特徴とする請求項12に記載のインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法。
  14.  前記補強パターンを形成する段階は,
     前記第1の層間絶縁層上に第1の補強パターンを形成する段階と,
     前記第1の補強パターンが形成された基板に第2の層間絶縁層を形成する段階と,
     前記第2の層間絶縁層上に第2の補強パターンを形成する段階とを含むことを特徴とする請求項12に記載のインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法。
  15.  前記補強パターンを形成する段階は,
     前記主チップエリアにおいて,インクカートリッジから供給されるインクを吐出するインク吐出部を制御する制御信号を伝送する回路部の配線のリード端部に接続されるボンドパッドが形成される段階と同時に行われることを特徴とする請求項14に記載のインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法。
  16.  前記第1の補強パターンを形成する段階は,第1の金属層を蒸着する段階と,フォトレジストをマスクとして前記第1の金属層をパターニングする段階とを含み,
     前記第2の補強パターンを形成する段階は,第2の金属層を蒸着する段階と,フォトレジストをマスクとして前記第2の金属層をパターニングする段階とを含むことを特徴とする請求項15に記載のインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法。
  17.  前記補強パターンの第2の層間絶縁層を形成する段階で,前記第2の層間絶縁層は前記ヘッドチップの全面に形成され,
     前記ボンドパッドを形成する段階は,前記第2の層間絶縁層を形成する段階の後に前記第2の補強パターンの第2の金属層を蒸着する段階と同時に行なわれる,前記第2の層間絶縁層の主チップエリアに広いホールからならビアホールを形成する段階を含むことを特徴とする請求項16に記載のインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法。
  18.  前記緩衝パターン部を形成する段階は,
     前記補強パターン上に形成される少なくとも一つの保護層を形成する段階を更に含むことを特徴とする請求項12に記載のインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法。
  19.  前記保護層を形成する段階は,
     前記補強パターン上にパッシベーション層を形成する段階と,
     前記主チップエリアのインク吐出部を構成するインク室及びインク吐出ノズルが形成されるときに,前記パッシベーション層上に室/ノズルプレート層を形成する段階とを含むことを特徴とする請求項18に記載のインクジェットプリンタのプリントヘッドの製造方法。
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