JP2004013078A - ビーム光走査装置 - Google Patents

Abstract

【課題】正確で高精度な制御を行って画質の悪化を防ぐ。
【解決手段】主制御部５１は、可動ビームａを、その通過位置がセンサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置になるよう制御し、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を測定するが、その際、センサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置に追い込みながら、随時センサＳＰとセンサＳＯの差分出力も測定し、同様にセンサＳＪとセンサＳＩのギャップの中心位置になるよう制御する。
【選択図】　　図１２

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、複数のレーザ光ビームにより単一の感光体ドラム上を同時に走査露光して上記感光体ドラム上に単一の静電潜像を形成するデジタル複写機やレーザプリンタなどの画像形成装置において、上記複数のレーザ光ビームを走査するビーム光走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、たとえば、レーザ光ビーム（以降、単にビーム光と称す）による走査露光と電子写真プロセスとにより画像形成を行うデジタル複写機が種々開発されている。
【０００３】
最近では、画像形成速度の高速化を図るために、マルチビーム方式、つまり、複数のビーム光を発生させ、これら複数のビーム光により複数ラインずつの同時走査が行われるようにしたデジタル複写機が開発されている。
【０００４】
このようなマルチビーム方式のデジタル複写機においては、ビーム光を発生する複数の半導体レーザ発振器、これら複数のレーザ発振器から出力される各ビーム光を感光体ドラムへ向けて反射し、各ビーム光により感光体ドラム上を走査するポリゴンミラーなどの多面回転ミラー、及びコリメータレンズやｆ−θレンズなどを主体に構成される、ビーム光走査装置としての光学系ユニットを備えている。
【０００５】
従来、このようなマルチビーム方式のデジタル複写機においては、高画質で画像を形成するために、前記光学系ユニットにおいては、ビーム光の走査方向露光位置制御（主走査方向のビーム光位置制御）およびビーム光の通過位置制御（副走査方向のビーム光位置制御）が行われている。
【０００６】
このような技術の具体例が、特開平１１−２７０８９４号公報で提案されている。これには、ビーム光を高精度で広範囲に検知して、ビーム光の位置制御を行うことを目的とし、１対のセンサが感光体ドラムの表面を走査するビーム光の副走査方向通過点を検知するものについて記載されている。
【０００７】
ビーム光の走査位置は、前記対となっている各センサの出力の差を積分した値により判定される。このようなビーム光の走査位置を示す積分値は、前記対のセンサに接続された処理回路によって算出される。この処理回路は、複数のオペアンプを有し、各センサが検知した電気信号の差を積分器により積分するようになっている。
【０００８】
また、特開２００１−２９０２４号公報では、ビーム光を検知する対のセンサを、のこぎり歯状の２つのパターンから構成するものについて提案されている。また、この提案では、前記特開平１１−２７０８９４号公報と同様に、前記対のセンサの出力差を積分する処理回路によりビーム光の走査位置を判定する。
【０００９】
さらに、特開平１１−２７０８９４号公報あるいは特開２００１−２９０２４号公報では、前記対のセンサからの出力信号を処理する処理回路の出力が飽和してしまう場合、前記対のセンサからの出力信号に対する補正を行って、ビーム光の走査位置を検知するものについて提案されている。
【００１０】
また、補正量を効率的に決定して制御する方法についても提案されている。
【００１１】
しかしながら、せっかく制御を行っても、ガルバノミラーのドリフトや経時変化等により、制御した位置からずれて出力画像の質が悪化することがある。
【００１２】
また、ビーム位置を検知する際にウィンドウコンパレータを使用して指示幅を調節し、その範囲の上か下か中かを判断して測定を行う。上中下の判定方法は、ポリゴン面数分データを取って行っているが、ウインドウの幅を設定する際に時間がかかって正確な判定ができなかった。
【００１３】
さらに、ノイズ等によりＤ／Ａ変換器への設定データが頻繁に書き換えられて正確な制御が出来ず、正確な制御結果を出力することができなかった。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
上記したように、ガルバノミラーのドリフトや経時変化等により画質が悪化し、ウインドウの幅を設定する際に時間がかかって正確な判定ができず、ノイズ等により正確な制御が出来ずに正確な制御結果を出力することができないといった問題があった。
【００１５】
そこで、この発明は、正確で高精度な制御を行って画質の悪化を防ぐことのできるビーム光走査装置を提供することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
この発明のビーム光走査装置は、ビーム光を出力する発光手段と、この発光手段から出力されるビーム光が被走査面上を主走査方向に走査するよう前記被走査面に向けて前記ビーム光を走査させるビーム光走査手段と、このビーム光走査手段によって走査されるビーム光の通過位置を検知する第１の検知手段と、この第１の検知手段の検知結果に対する処理で補正が必要か否かを判断し、補正の必要があれば補正量を設定して検知結果に対する処理を行う処理手段と、前記ビーム光走査手段で走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置を変更する変更手段と、この変更手段で通過位置が変更されたビーム光が基準位置であるか否かを検知する第２の検知手段と、この第２の検知手段で検知されたビーム光の通過位置が基準位置でなかった際、前記変更手段を用いてビーム光の通過位置を基準位置の方向に任意量で基準位置になるまで変更し、変更する毎に前記第１の検知手段による検知と前記処理手段による処理とを制御する第１の制御手段と、この第１の制御手段の制御で前記第２の検知手段で検知されたビーム光の通過位置が基準位置になった際、前記第１の検知手段による検知と前記処理手段による補正しない処理とを制御する第２の制御手段とから構成されている。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の一実施の形態について図面を参照して説明する。
【００１８】
まず、この発明の各実施例が適用されるビーム光走査装置、及び画像形成装置について説明する。
【００１９】
図１は、ビーム光走査装置が適用される画像形成装置としてのデジタル複写機の構成を模式的に示すものである。このデジタル複写機は、画像を読取るスキャナ部１、および、画像を被画像形成媒体上に形成するプリンタ部２を有している。スキャナ部１は、図示矢印方向に移動可能な第１キャリジ３と第２キャリジ４、結像レンズ５、および、光電変換素子６などから構成されている。
【００２０】
図１において、原稿Ｏは透明ガラスからなる原稿台７上に下向きに置かれ、開閉自在に設けられた原稿固定カバー８によって原稿台７上に押え付けられる。
【００２１】
原稿Ｏは光源９によって照明され、その反射光はミラー１０，１１，１２、および、結像レンズ５を介して光電変換素子６の受光面に集光される。ここで、上記光源９およびミラー１０を搭載した第１キャリジ３と、ミラー１１，１２を搭載した第２キャリジ４は、光路長を常に一定にするように２：１の相対速度で移動する。第１キャリジ３および第２キャリジ４は、キャリジ駆動用モータ（図示せず）によって読取タイミング信号に同期して右から左方向に移動する。
【００２２】
以上のようにして、原稿台７上に載置された原稿Ｏの画像は、スキャナ部１によって１ラインごとに順次読取られ、その読取り出力は、図示しない画像処理部において画像の濃淡を示す８ビットのデジタル画像信号に変換される。
【００２３】
プリンタ部２は、光学系ユニット（ビーム光走査装置）１３、および、被画像形成媒体である用紙Ｐ上に画像形成が可能な電子写真方式を組合わせた画像形成部１４から構成されている。すなわち、原稿Ｏからスキャナ部１で読取られた画像信号は、図示しない画像処理部で処理された後、半導体レーザ発振器からのレーザ光ビーム（以降、単にビーム光と称す）に変換される。
【００２４】
以下の説明では、半導体レーザ発振器を複数個（例えば４個）使用するマルチビーム光学系の光学系ユニット１３について説明する。なお、半導体レーザ発振器が１個だけで構成されたシングルビーム光学系の光学系ユニットは、複数のビーム光に対する相対位置制御以外はマルチビーム光学系の光学系ユニットと同様な動作を行う。
【００２５】
光学系ユニット１３内に設けられた複数の半導体レーザ発振器は、図示しない画像処理部から出力されるレーザ変調信号にしたがって発光動作を行い、複数のビーム光を発生する。これら複数のビーム光は、ポリゴンミラーで反射されて走査光となり、ユニット外部へ出力される。光学系ユニット１３の詳細については後述される。
【００２６】
光学系ユニット１３から出力される複数のビーム光は、像担持体としての感光体ドラム１５上の露光位置Ｘの地点に、必要な解像度を持つスポット光として結像され、感光体ドラム１５上を主走査方向（感光体ドラムの回転軸方向）に走査する。更に感光体ドラム１５が回転することによって、感光体ドラム１５上には、画像信号に応じた静電潜像が形成される。
【００２７】
感光体ドラム１５の周辺には、その表面を帯電する帯電チャージャ１６、現像器１７、転写チャージャ１８、剥離チャージャ１９、および、クリーナ２０などが配設されている。感光体ドラム１５は、駆動モータ（図示せず）により所定の外周速度で回転駆動され、その表面に対向して設けられている帯電チャージャ１６によって帯電される。帯電された感光体ドラム１５上の露光位置Ｘに複数のビーム光が副走査方向（感光体ドラム表面が移動する方向）に並んでスポット結像される。
【００２８】
感光体ドラム１５上に形成された静電潜像は、現像器１７からのトナー（現像剤）によりトナー像として現像される。感光体ドラム１５上に形成されたトナー像は、給紙系によりタイミングをとって供給される用紙Ｐ上に転写チャージャ１８によって転写される。
【００２９】
上記給紙系は、底部に設けられた給紙カセット２１内の用紙Ｐを、給紙ローラ２２と分離ローラ２３とにより１枚ずつ分離して供給する。そして、レジストローラ２４まで送られ、所定のタイミングで転写位置まで供給される。転写チャージャ１８の下流側には、用紙搬送機構２５、定着器２６、画像形成済みの用紙Ｐを排出する排紙ローラ２７が配設されている。これにより、トナー像が転写された用紙Ｐは、定着器２６でトナー像が定着され、その後、排紙ローラ２７を経て外部の排紙トレイ２８に排紙される。
【００３０】
また、用紙Ｐへの転写が終了した感光体ドラム１５は、その表面の残留トナーがクリーナ２０によって取り除かれて、初期状態に復帰し、次の画像形成の待機状態となる。
【００３１】
以上のプロセス動作を繰り返すことにより、画像形成動作が連続的に行われる。
【００３２】
以上説明したように、原稿台７上に置かれた原稿Ｏは、スキャナ部１で読取られ、その読取り情報は、プリンタ部２で一連の処理を施された後、用紙Ｐ上にトナー画像として記録されるものである。
【００３３】
次に、光学系ユニット（ビーム光走査装置）１３について説明する。
【００３４】
図２は、マルチビーム光学系の光学系ユニット１３の構成と感光体ドラム１５の位置関係を示している。なお、シングルビーム光学系の光学系ユニットは、１つだけのビーム光を制御する構成となる以外は図２と同様に構成される。
【００３５】
図２に示すように、マルチビーム光学系の光学系ユニット１３は、たとえば、４つのビーム光を発光する半導体レーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを内蔵している。それぞれのレーザ発振器３１ａ〜３１ｄは、同時に１走査ラインずつ画像形成を行うことが可能である。これにより、マルチビーム光学系の光学系ユニットでは、ポリゴンミラーの回転数を極端に上げることなく、高速の画像形成が可能である。
【００３６】
半導体レーザ発振器３１ａはレーザドライバ３２ａで駆動される。この半導体レーザ発振器３１ａから出力されるビーム光は、図示しないコリメータレンズを通過した後、ハーフミラー３４ａとハーフミラー３４ｂを通過し、多面回転ミラーとしてのポリゴンミラー３５に入射する。
【００３７】
ポリゴンミラー３５は、ポリゴンモータドライバ３７で駆動されるポリゴンモータ３６によって一定速度で回転されている。これにより、ポリゴンミラー３５からの反射光は、ポリゴンモータ３６の回転数で定まる角速度で、感光体ドラムを一定方向に走査する。ポリゴンミラー３５によって走査されたビーム光は、図示しないｆ−θレンズを通過し、そのｆ−θ特性により一定速度で、ビーム光の位置、通過タイミング、およびパワー等を検知するビーム光検知部３８の受光面、および、感光体ドラム１５上を走査する。
【００３８】
半導体レーザ発振器３１ｂは、レーザドライバ３２ｂで駆動される。この半導体レーザ発振器３１ｂから出力されるビーム光は、図示しないコリメータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｂで反射し、さらにハーフミラー３４ａで反射する。ハーフミラー３４ａからの反射光は、ハーフミラー３４ｂを通過し、ポリゴンミラー３５に入射する。ポリゴンミラー３５以降の経路は、上述したレーザ発振器３１ａの場合と同じで、図示しないｆ−θレンズを通過し、一定速度でビーム光検知部３８の受光面および感光体ドラム１５上を走査する。
【００３９】
半導体レーザ発振器３１ｃは、レーザドライバ３２ｃで駆動される。この半導体レーザ発振器３１ｃから出力されるビーム光は、図示しないコリメータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｃで反射し、さらにハーフミラー３４ｃを通過し、ハーフミラー３４ｂで反射し、ポリゴンミラー３５に入射する。ポリゴンミラー３５以降の経路は、上述したレーザ発振器３１ａ，３１ｂの場合と同じで、図示しないｆ−θレンズを通過し、一定速度でビーム光検知部３８の受光面および感光体ドラム１５上を走査する。
【００４０】
半導体レーザ発振器３１ｄは、レーザドライバ３２ｄで駆動される。この半導体レーザ発振器３１ｄから出力されるビーム光は、図示しないコリメータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｄで反射し、さらにハーフミラー３４ｃで反射し、ハーフミラー３４ｂで反射し、ポリゴンミラー３５に入射する。ポリゴンミラー３５以降の経路は、上述したレーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃの場合と同じで、図示しないｆ−θレンズを通過し、一定速度でビーム光検知部３８の受光面および感光体ドラム１５上を走査する。
【００４１】
なお、レーザドライバ３２ａ〜３２ｄは、それぞれオートパワーコントロール（ＡＰＣ）回路を内蔵しており、後で説明する主制御部（ＣＰＵ）５１から設定される発光パワーレベルで常にレーザ発振器３１ａ〜３１ｄを発光動作させる。
【００４２】
このようにして、別々のレーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから出力された各ビーム光は、ハーフミラー３４ａ，３４ｂ，３４ｃで合成され、４つのビーム光がポリゴンミラー３５の方向に進むことになる。したがって、４つのビーム光は、同時に感光体ドラム１５上を走査することができる。
【００４３】
ガルバノミラー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄは各々ガルバノミラー駆動回路３９ｂ，３９ｃ，３９ｄにより駆動され、レーザ発振器３１ａから出力されたビーム光に対して、レーザ発振器３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから出力されたビーム光の副走査方向の位置を調整（制御）する。
【００４４】
また、ビーム光検知部３８には、その取付位置およびビーム光の走査方向に対する傾きを調整するためのビーム光検知部調整モータ３８ａ，３８ｂが設けられている。
【００４５】
ビーム光検知部３８は、上記４つのビーム光の通過位置、通過タイミングおよびパワー（すなわち光量）を検知する。ビーム光検知部３８は感光体ドラム１５の端部近傍に配設され、その受光面は感光体ドラム１５の表面と等価である。このビーム光検知部３８からの検知信号を基に、それぞれのビーム光に対応するガルバノミラー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄの制御（副走査方向の画像形成位置制御）、レーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの発光パワーの制御、および、発光タイミングの制御（主走査方向の画像形成位置制御）が行われる（詳細は後述する）。これらの制御を行うための信号を生成するために、ビーム光検知部３８には、ビーム光検知部出力処理回路（処理回路）４０が接続されている。
【００４６】
次に、デジタル複写機の制御系について説明する。
【００４７】
図３は、マルチビーム光学系の光学系ユニットが搭載されたデジタル複写機の制御系統の構成を示している。５１はデジタル複写機の全体的な制御を司る主制御部で、たとえば、ＣＰＵから構成される。この制御部５１には、メモリ５２、コントロールパネル５３、外部通信インタフェイス（Ｉ／Ｆ）５４、レーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄ、ポリゴンモータドライバ３７、ガルバノミラー駆動回路３９ｂ，３９ｃ，３９ｄ、ビーム光検知部出力処理回路４０、同期回路５５、および、画像データインタフェイス（Ｉ／Ｆ）５６などが接続されている。
【００４８】
同期回路５５には、画像データＩ／Ｆ５６が接続されており、画像データＩ／Ｆ５６には、画像処理部５７およびページメモリ５８が接続されている。画像処理部５７にはスキャナ部１が接続され、ページメモリ５８には外部インタフェイス（Ｉ／Ｆ）５９が接続されている。
【００４９】
ここで、画像を形成する際の画像データの流れを簡単に説明すると、以下のような流れとなる。
【００５０】
まず、複写動作の場合は、先に説明したように、原稿台７上にセットされた原稿Ｏの画像は、スキャナ部１で読取られ、画像処理部５７へ送られる。画像処理部５７は、スキャナ部１からの画像信号に対し、たとえば、周知のシェーディング補正、各種フィルタリング処理、階調処理、ガンマ補正などを施こす。
【００５１】
画像処理部５７からの画像データは、画像データＩ／Ｆ５６へと送られる。画像データＩ／Ｆ５６は、４つのレーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄへ画像データを振り分ける役割を果たしている。
【００５２】
同期回路５５は、各ビーム光のビーム光検知部３８上を通過するタイミングに同期したクロックを発生し、このクロックに同期して、画像データＩ／Ｆ５６から各レーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄへ、画像データをレーザ変調信号として送出する。
【００５３】
また、同期回路５５は、非画像領域で各レーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを強制的に発光動作させ、各ビーム光のパワーを制御するためのサンプルタイマや、ビーム光検知部３８上を各ビームが走査するときにレーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを発光動作させ各ビーム光の主走査方向位置を検知するための論理回路などが含まれている。
【００５４】
このようにして、各ビーム光の走査と同期を取りながら画像データを転送することで、主走査方向に同期がとれた（正しい位置への）画像形成が行われるものである。
【００５５】
コントロールパネル５３は、複写動作の起動や、枚数設定などを行うマンマシンインタフェースである。
【００５６】
本デジタル複写機は、複写動作のみでなく、ページメモリ５８に接続された外部Ｉ／Ｆ５９を介して外部から入力される画像データをも画像形成できる構成となっている。なお、外部Ｉ／Ｆ５９から入力される画像データは、一旦ページメモリ５８に格納された後、画像データＩ／Ｆ５６を介して同期回路５５へ送られる。
【００５７】
また、本デジタル複写機が、たとえば、ネットワークなどを介して外部から制御される場合には、外部通信Ｉ／Ｆ５４がコントロールパネル５３の役割を果たす。
【００５８】
ガルバノミラー駆動回路３９ｂ，３９ｃ，３９ｄは、主制御部５１からの指示値にしたがってガルバノミラー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄを駆動する回路である。したがって、主制御部５１は、ガルバノミラー駆動回路３９ｂ，３９ｃ，３９ｄを介して、ガルバノミラー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄの各角度を自由に制御することができる。
【００５９】
ポリゴンモータドライバ３７は、先に述べた４つのビーム光を走査するポリゴンミラー３５を回転させるためのポリゴンモータ３６を駆動するドライバである。主制御部５１は、このポリゴンモータドライバ３７に対し、回転開始、停止と回転数の切換えを行うことができる。ビーム光検知部３８によりビーム光の通過位置を確認する際、ポリゴンモータ３６は画像形成時より低い回転数で回転される。
【００６０】
レーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄは先に説明したように、画像データにしたがってレーザ光を発光させる以外に、主制御部５１からの強制発光信号により、画像データとは無関係に強制的にレーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを発光動作させる機能を持っている。
【００６１】
また、主制御部５１は、それぞれのレーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄが発光するビームのパワーを、各レーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄを用いて設定する。発光パワーの設定は、プロセス条件の変化や、ビーム光の通過位置検知などに応じて変更される。
【００６２】
メモリ５２は、制御に必要な情報を記憶するためのものである。このメモリ５２には、たとえば、各ガルバノミラー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄの制御量、ビーム光の通過位置を検知するための処理回路の種々の特性（例えば、増幅器のオフセット値など）、および、ビーム光の到来順序などが記憶される。このメモリ５２に記憶された値により、例えば、電源投入後の制御動作をできるだけ即座に行えるようになっている。
【００６３】
次に、ビーム光走査装置の第１の動作例について説明する。
【００６４】
第１の動作例では、１本のビーム光を用いて走査を行うシングルビーム光学系を有したビーム光走査装置におけるビーム光の通過位置検知および制御について説明する。
【００６５】
図４は、ビーム光検知部３８の構成とビーム光の走査方向の関係を示している。１つの半導体レーザ発振器からのビーム光は、左から右へとポリゴンミラー３５の回転によって走査され、ビーム光検知部３８上を横切る。
【００６６】
ビーム光検知部３８は、縦に長い２つのセンサＳＬ，ＳＱ、これらの２つのセンサＬ，ＳＱの間に挟まれるように配設された一対のセンサ（センサパターン）ＳＰ，ＳＯ、および、これら各センサを一体的に保持する保持基板から構成されている。
【００６７】
センサＳＬは、ビーム光の通過を検知して、後述する積分器のリセット信号（積分開始信号）を発生するセンサである。このリセット信号は、積分コンデンサに充電された電荷を基準電圧まで放電させるための信号で、リセットが終了すると同時に積分動作が開始される。
【００６８】
センサＳＱは、センサＳＬと同様にビーム光の通過を検知して、後述するアナログ信号をデジタル信号に変換する信号変換器（Ａ／Ｄ変換器やウィンドウコンパレータ）の変換開始信号を発生するセンサである。ここに、Ａ／Ｄ変換器の場合はＡ／Ｄ変換開始信号として、また、ウィンドウコンパレータの場合はコンパレータ出力を保持するタイミング信号として使用される。
【００６９】
一対のセンサＳＰ，ＳＯはビーム光の通過位置を検知するための対のパターンである。センサＳＰのパターン及びセンサＳＯのパターンは、それぞれ複数の三角形あるいは台形で形成されている。複数の三角形あるいは台形で形成されるセンサＳＰ及びセンサＳＯは、各三角形あるいは台形がそれぞれ対となるように配置される。例えば、センサＳＰ及びセンサＳＯは、それぞれのこぎり歯状の形状で形成され、交互に噛み合うような形で所定の間隔をおいて配置されている。
【００７０】
図４に示す例では、上記センサＳＰを形成する複数の三角形あるいは台形状のパターンをそれぞれセンサパターンＳＰ１〜ＳＰ５とする。また、上記センサＳＯを形成する複数の三角形あるいは台形状のパターンをそれぞれセンサパターンＳＯ１〜ＳＯ５とする。すると、上記センサＳＰの各センサパターンＳＰ１〜ＳＰ５は、上記センサＳＯの各センサパターンＳＯ１〜ＳＯ５とそれぞれ対になるように組み合わせて配置されている。
【００７１】
図４に示すように、上記センサパターンＳＰ１は、ビーム光の通過位置が図面に対して上方向に行くほど、ビーム光がセンサパターンＳＰ１を横切る（通過する）距離が長くなる形状となっている。また、上記センサパターンＳＯ１は、ビーム光の通過位置が図面に対して下方向に行くほど、ビーム光がセンサパターンＳＯ１を横切る距離が長くなる形状となっている。
【００７２】
すなわち、ビーム光の走査する方向（主走査方向）と直交する方向（副走査方向）の通過位置変化に対して、一方のセンサパターンＳＰ１（またはＳＯ１）の出力が増加方向に連続的に変化し、他方のセンサパターンＳＯ１（またはＳＰ１）の出力が減少方向に連続的に変化する。
【００７３】
これらのセンサＳＰ，ＳＯは、フォトダイオードなどの光検知部材によって構成され、保持基板上に一体的に構成されている。よって、ビーム光の通過に伴って（図４では、左から右にビームは移動する）、センサパターンＳＰ１，ＳＯ１，ＳＰ２，ＳＯ２，ＳＰ３，ＳＯ３，ＳＰ４，ＳＯ４，ＳＰ５，ＳＯ５の順に光が検知され、センサＳＰ及びセンサＳＯから検知出力が出力される。
【００７４】
図５は、図４に示したビーム光検知部３８を用いた場合のビーム光検知部出力処理回路４０の主要部（副走査方向のビーム位置検知部）を示すブロック図である。
【００７５】
図５に示すように、ビーム光検知部出力処理回路４０の主要部は、センサＳＰ及びセンサＳＯの検知出力の差を演算する。さらに、ビーム光検知部出力処理回路４０は、センサＳＰ、ＳＯの検知出力の差を積分器６２によって積分する。この積分器６２により積分した結果（積分出力）がウィンドウコンパレータＣＭＰ１及びＣＭＰ２等を介して主制御部（ＣＰＵ）５１に供給されるようになっている。
【００７６】
以下に、ビーム光検知部出力処理回路４０の主要部について詳細に説明する。ここでは、１本のビーム光に対する検知動作について説明する。
【００７７】
センサＳＰ及びセンサＳＯは、ビーム光の通過に伴って電流を出力する。センサＳＰ及びセンサＳＯはそれぞれ電流／電圧変換アンプＩＶ１，ＩＶ２に接続されており、センサＳＰ、ＳＯの電流出力は電圧出力に変換される。
【００７８】
電流／電圧変換アンプ（ＩＶ１，ＩＶ２）の出力は差動増幅器６１に接続されており、差分を演算し適当なゲインで増幅された後に積分器６２によって積分される。
【００７９】
積分器６２は、積分コンデンサに電荷を貯めて積分出力として出力するため、使用する前に、積分コンデンサに貯まった電荷を放電させる動作が必要である（以下、この動作を積分のリセットとする。）。
【００８０】
積分のリセット動作は、ビーム光検知部に設けられたセンサの出力の組合せによって生成されるリセット信号によって実行される。このリセット信号は、センサＳＡ（図示しない）とセンサＳＬから、リセット信号生成回路６３によって生成される。
【００８１】
すなわち、ビーム光の通過に伴い、センサＳＡ，ＳＬの出力信号が出力され、センサＳＡとＳＬ間に積分器６２はリセットされる。そしてリセット直後にセンサパターンＳＰ，ＳＯの出力信号が出力され、積分される。
【００８２】
積分器６２の出力信号は、ウィンドウコンパレータ（ＣＭＰ１，ＣＭＰ２）に入力される。ウィンドウコンパレータ（ＣＭＰ１、ＣＭＰ２）は、積分器６２の出力信号（アナログ電圧）と主制御部（ＣＰＵ）５１から与えられる閾値としての電圧値とを比較する。
【００８３】
このウィンドウコンパレータ（ＣＭＰ１，ＣＭＰ２）による比較結果はフリップフロップ回路（Ｆ／Ｆ１，Ｆ／Ｆ２）に入力され保持される。フリップフロップ回路（Ｆ／Ｆ１，Ｆ／Ｆ２）にはセンサパターンＳＱから出力されるパルス状の信号が入力され、ＳＱの出力タイミング（パルス信号の立上り）でウィンドウコンパレータ（ＣＭＰ１，ＣＭＰ２）の出力を保持する。
【００８４】
フリップフロップ回路（Ｆ／Ｆ１，Ｆ／Ｆ２）の出力はＣＰＵ６４に送信される。ＣＰＵ５１には、ビーム検知部３８上の図示しないタイミングセンサＳＲの出力信号が割り込み信号として接続されている。これにより、上記ＣＰＵ５１は、このタイミングセンサＳＲの出力信号が出力される（割り込み信号を受信する）毎にフリップフロップ回路（Ｆ／Ｆ１，Ｆ／Ｆ２）のデータを読取る。
【００８５】
次に、上記ウィンドウコンパレータ（ＣＭＰ１，ＣＭＰ２）の動作について詳細に説明する。
【００８６】
図５に示すように、積分器６２の出力は、コンパレータＣＭＰ１の反転入力部及びコンパレータＣＭＰ２の非反転入力部に供給される。コンパレータＣＭＰ１の非反転入力部にはＤ／Ａ変換器（Ｄ／Ａ１）を介して主制御部５１に接続される。コンパレータＣＭＰ２の反転入力部はＤ／Ａ変換器（Ｄ／Ａ２）を介して主制御部５１に接続される。
【００８７】
ＣＰＵ５１は、Ｄ／Ａ変換器（Ｄ／Ａ１）を介して、ウィンドウコンパレータＣＭＰ１の非反転入力部に閾値Ｖｔｈ１を供給する。これと共に、ＣＰＵ５１は、Ｄ／Ａ変換器（Ｄ／Ａ２）を介して、ウィンドウコンパレータＣＭＰ２の反転入力部に閾値Ｖｔｈ２を供給する。なお、ここでは、閾値Ｖｔｈ１＞閾値Ｖｔｈ２とする。
【００８８】
コンパレータＣＭＰ１及びＣＭＰ２は、積分器６２の出力電圧が閾値Ｖｔｈ１より小さく、かつ、閾値Ｖｔｈ２より大きい場合にのみ、共に”１”を出力する。ウィンドウコンパレータＣＭＰ１，ＣＭＰ２の出力、つまりフリップフロップ回路（Ｆ／Ｆ１，Ｆ／Ｆ２）の出力が”１，１”のとき、ＣＰＵ５１は、閾値Ｖｔｈ１〜Ｖｔｈ２の範囲（ウインドウ）内に積分器６２の出力が存在すると判断する。ＣＰＵ５１は、前記ウインドウの幅を徐々に狭め位置を変更することにより、積分器６２の出力電圧、つまりビーム光通過位置情報を正確に判断する。主制御部５１は、このようにして得たビーム光通過位置情報に基づきビーム光の通過位置を制御する。
【００８９】
なお、図５では省略してあるが、各センサＳＯ、ＳＰの出力電流を電圧値に変換する電流／電圧変換増幅器や、電流／電圧変換増幅器の出力を２値化する２値化回路などの信号処理回路が実際には設けられている。
【００９０】
次に、ビーム光が図４に示したビーム光検知部３８を通過する際の処理動作について図５を参照して説明する。
【００９１】
ビーム光は、ポリゴンミラー３５によって図示した矢印方向に走査される。各センサＳＬ，ＳＰ，ＳＯ，ＳＱは、ビーム光の通過に伴って電流を発生する。センサＳＬから出力された電流は、電流／電圧変換増幅器（図示せず）によって電圧値に変換され、さらに２値化回路（図示せず）によって２値化される。２値化された信号は、リセット信号生成回路６３に入力される。リセット信号生成回路６３は、２値化された信号と、図示しないＳＡセンサの出力信号とを合成してリセット信号を生成する。このリセット信号は、積分器６２のリセット信号として入力され、積分器６２がリセットされる。また、このリセット信号は、フリップフロップ回路Ｆ／Ｆ１、Ｆ／Ｆ２のクリア信号も兼ねており、フリップフロップ回路Ｆ／Ｆ１、Ｆ／Ｆ２をクリアする。
【００９２】
ビーム光がセンサＳＰ，ＳＯを通過すると、センサＳＰ，ＳＯはビーム光が走査する位置に応じたパルス状の電流を出力する。これらの出力電流は電流／電圧変換アンプ（ＩＶ１，ＩＶ２）によって電圧値に変換される。電圧に変換された信号の差分は差動増幅器６１によって増幅され、積分器６２によって積分される。積分器６２の出力は、アナログ／デジタル変換器として機能するウィンドウコンパレータＣＭＰ１，ＣＭＰ２に入力され、Ｄ／Ａ変換器（Ｄ／Ａ１，Ｄ／Ａ２）を介して設定された閾値と比較され、デジタル信号に変換される。
【００９３】
さらに、ビーム光がセンサＳＱを通過すると、センサＳＱの出力電流が電流／電圧変換増幅器（図示しない）によって電圧値に変換され、その後、２値化回路によって２値化される。２値化された信号は、フリップフロップ回路Ｆ／Ｆ１、Ｆ／Ｆ２に入力される。ウィンドウコンパレータＣＭＰ１，ＣＭＰ２の出力は、２値化された信号の前縁（立上り）でフリップフロップ回路Ｆ／Ｆ１、Ｆ／Ｆ２によって保持される。
【００９４】
また、図示しないセンサＳＲからの信号は、主制御部５１に割込み信号として入力されている。この信号によって主制御部５１はウィンドウコンパレータＣＭＰ１，ＣＭＰ２の出力、つまりフリップフロップ回路Ｆ／Ｆ１、Ｆ／Ｆ２の出力を読込む。
【００９５】
次に、ビーム光の通過位置がＰ２の場合について説明する。
【００９６】
図６は、ビーム光がＳＰとＳＯの副走査方向のほぼセンター位置（Ｐ２）を通過する場合の処理回路の各部の信号を示した図である。
【００９７】
図６に示すように、ビーム光の通過位置は、センサＳＰ，及びセンサＳＯのほぼセンター位置Ｐ２である。このため、ビーム光がセンサＳＰを構成する各センサパターンＳＰ１〜ＳＰ５を通過する距離と，センサＳＯを構成する各センサパターンＳＯ１〜ＳＯ５を通過する距離とは等しい。すなわち、電流／電圧変換アンプＩ／Ｖ１，Ｉ／Ｖ２からの出力は、パルス幅のほぼ等しい位相のずれた信号となって出力される。
【００９８】
電流／電圧変換アンプＩ／Ｖ１，Ｉ／Ｖ２の出力は、差動増幅器６１によってその差分を演算され、所定のゲインで増幅された出力となる。差動増幅器６１の出力は、積分器６２によって積分される。差動増幅器６１の出力は、（ＳＰ１とＳＯ１），（ＳＰ２とＳＯ２），（ＳＰ３とＳＯ３），（ＳＰ４とＳＯ４），（ＳＰ５とＳＯ５）といった組合せで積分されるような形となる。これにより、積分器６２からの出力信号は、最終的に、処理回路の基準電圧（Ｖｒｅｆ）と同じ値になる。
【００９９】
すなわち、ビーム光の通過位置がＰ２の場合、差動増幅器６１の出力は、振幅が等しく、方向が逆の信号となるため、その積分結果が基準電圧に対して±０となる。
【０１００】
図７は、ビーム光がセンサＳＰ，及びセンサＳＯのセンター位置Ｐ２よりも下側の位置Ｐ３を通過した場合の処理回路の各部の信号を示した図である。
【０１０１】
この場合、図７に示すように、ビーム光の通過位置は、センサＳＰ，及びセンサＳＯのほぼセンター位置Ｐ２よりも下側の位置Ｐ３である。このため、ビーム光がセンサＳＰを構成する各センサパターンＳＰ１〜ＳＰ５通過する距離よりも，センサＳＯを構成する各センサパターンＳＯ１〜ＳＯ５を通過する距離の方が長くなる。
【０１０２】
よって、それぞれの電流／電圧変換アンプＩ／Ｖの出力は、電流／電圧変換アンプＩ／Ｖ２の方がパルス幅の長い信号となる。よって差動増幅器６１の出力も図示した信号となる。差動増幅器６１の出力は、積分器６２によって、図６の場合と同様に、（ＳＰ１とＳＯ１），（ＳＰ２とＳＯ２），（ＳＰ３とＳＯ３），（ＳＰ４とＳＯ４），（ＳＰ５とＳＯ５）のペアで積分されるような形となる。これにより、積分器６２からの出力信号は、差動増幅器６１の出力に応じて増減を繰り返しながら、最終的に、−ＶＰ３となり、基準電圧Ｖｒｅｆよりも下側に出力される。
【０１０３】
また、ビーム光の通過位置が上記センター位置Ｐ２よりも上側の位置Ｐ１である場合、図７に示すような下側の位置Ｐ３の場合と逆の積分結果が得られる。つまり、ビーム光の通過位置が上側の位置Ｐ１である場合、積分器６２からの出力信号は、最終的に、＋ＶＰ３となり、基準電圧Ｖｒｅｆよりも上側に出力される。
【０１０４】
従って、本処理回路４０では、ビーム光の通過位置がセンサＳＰ、及びセンサＳＯのセンター位置Ｐ１の場合に基準電圧Ｖｒｅｆを出力する。また、本処理回路４０では、ビーム光の通過位置がセンター位置Ｐ１よりも上側の位置Ｐ１の場合に、基準電圧Ｖｒｅｆよりも大きい値を出力する。また、本処理回路４０では、ビーム光の通過位置がセンター位置Ｐ１よりも下側の位置Ｐ３の場合には、基準電圧Ｖｒｅｆよりも小さい値を出力する。
【０１０５】
このように、センサＳＰ，及びセンサＳＯの出力の差分信号を積分することによってビーム光の通過位置を検知することができる。
【０１０６】
また、図８及び図９は、センサＳＰ及びセンサＳＯを構成するのこぎり歯状のセンサパターンがビーム径よりも充分に小さい場合の例を示す。例えば、図８に示すように、ビーム光の通過位置がセンター位置Ｐ１の場合、図６に示す場合と同様に、ビーム光検知部出力処理回路４０は、基準電圧Ｖｒｅｆを出力する。また、図９に示すように、ビーム光の通過位置がセンター位置Ｐ１よりも下側の位置Ｐ３の場合、図７に示す場合と同様に、ビーム光検知部出力処理回路４０は、基準電圧Ｖｒｅｆよりも小さい値を出力する。
【０１０７】
なお、図８及び図９に示すような場合も、ビーム光検知部出力処理回路４０における動作は、図６及び図７に示す場合と同様であるため、詳細な動作の説明を省略する。
【０１０８】
図１０は、ビーム光によるセンサＳＰ及びセンサＳＯの走査位置と積分器６２の出力値の関係を示す図である。図１０に示すように、センサＳＰ及びセンサＳＯのビーム光の走査位置が中心よりもずれるにしたがって、上記積分器６２の出力が基準電圧Ｖｒｅｆからずれる。すなわち、積分器６２の出力と基準電圧Ｖｒｅｆと比較することにより、ビーム光の走査位置が中心からどのようにずれているかが判別できる。
【０１０９】
次に、ビーム光走査装置の第２の動作例について説明する。
【０１１０】
この第２の動作例では、複数本（たとえば、４本）のビーム光を用いて走査を行うマルチビーム光学系を有したビーム光走査装置の動作例である。各ビーム光に対する通過位置検知および制御の原理は、前述した第１の動作例と同様であるので、説明を省略する。
【０１１１】
ここでは、図４のビーム光検知部３８を使用したマルチビーム光の通過位置制御について説明する。マルチビーム光学系は、４つのレーザ発振器を有し、それぞれのビーム光を副走査方向に移動させるための４つのアクチュエータ（本例ではガルバノミラー）を有する４ビームのマルチビーム光学系を想定して説明する。また、本マルチビーム光学系は、たとえば、６００ｄｐｉの解像度を有するものとする。
【０１１２】
前述した第１の動作例で説明したように、ビーム光検知部３８は図７のような検知特性を有する。積分出力は、およそ｜ＶＵ−ＶＬ｜／Ｈ＝Ｖｕｎｉｔ［Ｖ／μｍ］であるので、４ビームのピッチを解像度６００ｄｐｉに調整するためには、隣接ビーム光の積分出力の差がおよそＶｕｎｉｔ×４２．３［Ｖ］となるように、ガルバノミラーを調整すればよい。
【０１１３】
たとえば、第１のビーム光の通過目標位置をＰ２に設定する場合には、まず、第１のレーザ発振器を発光させ、ポリゴンミラーを回転させる。そして、センサパターン内をビーム光が通過するように、第１のビーム光用のガルバノミラーを動作させる。センサパターン内をビーム光が通過するようになったら、積分出力がＶｒｅｆとなるように、ガルバノミラーを使用して、第１のビーム光の通過位置を調整する。
【０１１４】
次に、第２のビーム光の通過位置の調整を行う。まず、第２のレーザ発振器を発光させ、ポリゴンミラーを回転させる。そして、第１のビーム光と同様に、センサパターン内をビーム光が通過するように、第２のビーム光用のガルバノミラーを動作させる。その後、積分出力がＶｒｅｆ−Ｖｕｎｉｔ×４２．３［Ｖ］となるように、第２のビーム光用のガルバノミラーを使用して、第２のビーム光の通過位置を調整する。
【０１１５】
このような動作によって、第１のビーム光と第２のビーム光の通過位置のピッチは、４２．３［μｍ］に制御される。以下同様に、第３、第４のビーム光も隣接ビーム光の積分出力の差が４２．３［μｍ］に相当するＶｕｎｉｔ×４２．３［Ｖ］となるように、それぞれのガルバノミラーを調整する。
【０１１６】
以上の動作によって、４つのビーム光の通過位置は、例えば、４２．３［μｍ］ピッチ等の所定の間隔に制御される。
【０１１７】
次に、ビーム光走査装置の第３の動作例について説明する。
【０１１８】
この第３の動作例では、前述した第２の動作例と同様、マルチビーム光学系を有したビーム光走査装置の動作例である。この第３の動作例では、複数のビーム光のうちの少なくとも１つは固定され、この固定ビーム光の通過位置を基準にして、残りのビーム光の通過位置を所定のピッチに制御（相対位置制御）する。
【０１１９】
図１１は、ビーム光検知部３８の構成例を示している。このビーム光検知部３８は、ビーム光の走査方向と直交する方向に長い形状のセンサＳＡ，ＳＢ，ＳＧ，ＳＬ，ＳＱ，ＳＲ，ビーム光の走査方向に長い形状のセンサＳＩ，ＳＪ，ＳＫ、前記第１、第２の動作例で説明したセンサパターンと同様に構成されるセンサＳＰ，ＳＯが、保持基板３８ａ上に構成されている。
【０１２０】
図１１では、２つのセンサＳＡ，ＳＬの各出力で積分器６２のリセット信号を生成する。さらに、図１１では、積分出力をアナログ信号からデジタル信号に変換する変換開始タイミング信号をセンサＳＱの出力信号で、主制御部５１への読込みタイミング信号をセンサＳＲの出力信号で行う。
【０１２１】
一方、センサＳＩ，ＳＪ，ＳＫは、各ビーム光間の副走査方向の間隔を調整するためのセンサである。センサＳＩ，ＳＪ，ＳＫは、保持基板３８ａ上の副走査方向のほぼ中央部に配設されており、副走査方向に４２．３［μｍ］のピッチ（解像度６００ｄｐｉ）で平行に配列されている。センサＳＪ及びＳＫ間のギャップＧ１の副走査方向位置は第１の通過目標である。センサＳＪ及びＳＫはビーム光が該第１の通過目標を通過していることを確認するためのものである。また、センサＳＩ及びＳＪ間のギャップＧ２の副走査方向位置は第２の通過目標である。センサＳＩ及びＳＪはビーム光が該第２の通過目標を通過していることを確認するためのものである。
【０１２２】
また、センサＳＤ，ＳＥ、センサＳＭ，ＳＮは、走査されるビーム光のビーム光検知部３８に対する相対的な傾きを検知するためのパターンである。センサＳＤとＳＥおよびＳＭとＳＮは、それぞれ上下に配設されてペアを組んでいて、センサＳＤとＳＥ、ＳＭとＳＮの中心位置は同一直線上である。
【０１２３】
さらに、ビーム光検知部３８には、補正用パルスを生成するためのタイミングセンサＳＳが設けられている。
【０１２４】
図１２は、図１１のようなビーム光検知部３８を用いた場合のビーム光検知部出力処理回路４０の構成と、図２及び図３に示すビーム光検知部出力処理回路４０の周辺部の構成を示している。
【０１２５】
センサＳＯ，ＳＰの各出力信号は、それぞれ差動増幅器７０の各入力端子に入力される。センサＳＩ，ＳＪの各出力信号は、それぞれ差動増幅器７１の各入力端子に入力される。センサＳＪ，ＳＫの各出力信号は、それぞれ差動増幅器７２の各入力端子に入力される。なお、主制御部（ＣＰＵ）５１は差動増幅器７０，７１，７２の増幅率を設定できる。
【０１２６】
差動増幅器７０，７１，７２の各出力信号は、それぞれ選択回路（アナログスイッチ）７３に送られる。選択回路７３は、主制御部５１からのセンサ選択信号により、積分器７４へ入力する信号を該出力信号から１つ選択する。選択回路７３により選択された信号は、積分器７４に入力されて積分される。
【０１２７】
積分器７４の出力信号は、ウィンドウコンパレータ７５に入力される。ウィンドウコンパレータ７５は、積分器７４の積分出力（アナログ信号）をデジタル信号に変換するものである。このウィンドウコンパレータ７５は、主制御部５１からＤ／Ａ変換器７６を介して閾値が設定される。上記Ｄ／Ａ変換器７６は、２つのＤ／Ａ変換器（Ｄ／Ａ１、Ｄ／Ａ２）により構成される。
【０１２８】
上記ウィンドウコンパレータ７５の出力は、フリップフロップ回路（Ｆ／Ｆ）７７に送られる。フリップフロップ回路（Ｆ／Ｆ）７７は、ウィンドウコンパレータ７５の出力を保持する。フリップフロップ回路７７の出力は、主制御部５１に送られる。
【０１２９】
センサＳＡの出力信号は、クリア信号としてフリップフロップ回路７７に送られる。センサＳＡ，ＳＨ，ＳＬの各出力信号は、それぞれリセット信号生成回路７８に送られる。リセット信号生成回路７８は、主制御部５１からの選択信号に応答してセンサＳＡ，ＳＨ，ＳＬの出力信号からリセット信号を発生し、積分器７４をリセットする。積分器７４は該リセット信号によりリセットされた後、積分動作を開始する。
【０１３０】
センサＳＬ，ＳＱの各出力信号は、それぞれ変換開始信号回路７９に送られる。変換開始信号７９は、主制御部５１からの選択信号に応答して、センサＳＬ，ＳＱの出力信号の一方を選択し、その選択した信号を変換開始信号としてフリップフロップ回路７７に送る。センサＳＲの出力信号は、割込み信号として主制御部５１に送られる。
【０１３１】
主制御部５１は、センサＳＲからの割込み信号を受信した後、フリップフロップ回路７７の出力を読込むことにより、最新のビーム光通過位置情報を得る。そして、主制御部５１は、このようにして得たビーム光通過位置情報に基づき、ガルバノミラー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄの制御量を演算し、その演算結果を必要に応じてメモリ５２に記憶するとともに、ガルバノミラー駆動回路３９ｂ，３９ｃ，３９ｄへ送出する。
【０１３２】
ガルバノミラー駆動回路３９ｂ，３９ｃ，３９ｄには、上記演算結果を保持するためのラッチ４４ｂ，４４ｃ，４４ｄが設けられており、主制御部５１が一旦データを書込むと、次にデータを更新するまでは、その値を保持する。
【０１３３】
ラッチ４４ｂ，４４ｃ，４４ｄに保持されているデータは、Ｄ／Ａ変換器４５ｂ，４５ｃ，４５ｄによりアナログ信号（電圧）に変換され、ガルバノミラー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄを駆動するためのドライバ４６ｂ，４６ｃ，４６ｄに入力される。ドライバ４６ｂ，４６ｃ，４６ｄは、Ｄ／Ａ変換器４５ｂ，４５ｃ，４５ｄから入力されたアナログ信号（電圧）にしたがってガルバノミラー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄを駆動制御する。
【０１３４】
したがって、第３の動作例では制御対象のビーム光を発生する半導体レーザ発振器を発光動作させ、ウィンドウコンパレータ７５の出力を読込み、その読込んだ情報に基づきガルバノミラー３３ｂ，３３ｃ，３３ｄを制御することで、ビーム光の通過位置を制御することができる。
【０１３５】
なお、図１２では省略してあるが、各センサの出力電流を電圧値に変換する電流／電圧変換増幅器や、電流／電圧変換増幅器の出力を２値化する２値化回路などの信号処理回路が設けられている。
【０１３６】
図１２の構成において、センサＳＰとＳＯを用いてビーム光の通過位置検知および制御を行う場合、主制御部５１は、選択回路７３に差動増幅器７０を選択するための選択信号を送る。これにより、主制御部５１は、センサＳＰとセンサＳＯを選択する。
【０１３７】
同様に主制御部５１は、リセット信号生成回路７８及び変換開始信号回路７９にセンサ選択信号を送る。これにより、主制御部５１は、積分器７４のリセット信号とデジタル／アナログ変換開始信号を発生する。この場合、積分器７４のリセット信号はセンサＳＡの出力の前縁で立ち上がり、センサＳＨの出力の後縁で立ち下がる。変換開始信号はセンサＳＬの出力信号から発生される。
【０１３８】
センサＳＩとセンサＳＪ、又はセンサＳＪとセンサＳＫを用いてビーム光の通過位置検知および制御を行う場合、主制御部５１は、選択回路７３に差動増幅器７２又は差動増幅器７１を選択するための選択信号を送る。これにより、主制御部５１は、センサＳＩとセンサＳＪ、センサＳＪとセンサＳＫのいずれかのペアを選択する。
【０１３９】
同様に主制御部５１は、リセット信号生成回路７８及び変換開始信号回路７９にセンサ選択信号を送る。これにより、主制御部５１は、積分器７４のリセット信号とデジタル／アナログ変換開始信号を発生する。この場合、積分器７４のリセット信号はセンサＳＡの出力の前縁で立ち上がり、センサＳＬの出力の後縁で立ち下がる。変換開始信号はセンサＳＱの出力信号から発生される。
【０１４０】
また、いずれのセンサが選択されても、センサＳＲの信号出力タイミングで、フリップフロップ回路７７に保持された積分器７４の積分出力は、主制御部５１に読込まれる。
【０１４１】
なお、既に述べたように、４つのビーム光のうち１つのビーム光は固定されているため、残りの３つのビーム光を副走査方向に移動するガルバノミラーは３つである。すなわち、第２、第３、第４のビーム光用のガルバノミラーは、それぞれ、３３ｂ，３３ｃ，３３ｄである。
【０１４２】
さらに図１２に示す回路は、差動増幅器７０の前段に差動増幅器１０２及び１０３が設けられ、さらに、補正用パルスを生成するためのタイミングセンサＳＳ、及び補正パルス生成回路１０１が設けられている。
【０１４３】
また、図１２に示す回路において、補正パルス生成回路１０１には、主制御部５１と、タイミングセンサＳＳ及びタイミングセンサＳＱとが接続され、差動増幅器１０２及び差動増幅器１０３には、それぞれセンサパターンＳＯあるいはＳＰが接続されているものである。
【０１４４】
図１２に示す回路では、まず、ビーム光の位置に基づく積分器７４の出力が主制御部５１に入力される。これにより、主制御部５１は、積分器７４の出力に基づいて補正の必要性を判断する。この判断により補正の必要があると判断した場合、主制御部５１は、補正対象とするセンサＳＯあるいはＳＰを選択するとともに、補正量として補正パルスの値を示す指示値を設定する。この際、主制御部５１は、補正制御を行う旨を示す制御実行信号と、補正対象とするセンサを示すセンサ選択信号と、補正パルスの値を示す指示値とを補正パルス生成回路１０１へ出力する。また、主制御部５１は、選択回路７３に差動増幅器７０を選択するように制御信号を送信する。
【０１４５】
補正パルス生成回路１０１は、主制御部５１からのセンサ選択信号により選択されたセンサＳＯ（あるいはＳＰ）に接続されている差動増幅器１０２（あるいは１０３）にＣＰＵ５１により指示された電圧値の補正パルスを設定する。この際、センサ選択信号により選択されていないセンサＳＰ（あるいはＳＯ）に接続されている差動増幅器１０３（あるいは１０２）には、補正パルスは基準電圧に設定される。上記補正パルスは、タイミングセンサＳＳがビーム光を検知したタイミングで上記差動増幅器１０２、１０３に供給される。
【０１４６】
このような補正パルスが供給された差動増幅器１０２及び１０３では、それぞれセンサＳＯ、ＳＰからの出力信号を入力した際に、補正パルスとセンサＳＯ、ＳＰとの差を差動増幅器７０に供給する。これにより、差動増幅器７０には、それぞれセンサＳＯ、ＳＰからの出力信号が主制御部５１が設定した値で補正された状態で入力される。
【０１４７】
次に、図１３に示すフローチャートを参照して、第３の動作例に係るマルチビーム光学系のビーム光相対位置制御について説明する。図１３のフローチャートでは、図１２に示すように構成された回路における動作を示している。
【０１４８】
まず、主制御部５１は、固定ビーム光のレーザを所定の値で発光させる（ステップＳ１）。主制御部５１は、たとえば、第１のレーザドライバ３２ａに所定の指示値を送り、第１のレーザ発振器３１ａを所定のパワーで発光させる。これにより、主制御部５１は、第１のビーム光を出力する。ここでは、すでにポリゴンミラーモータは回転しているものとする。
【０１４９】
続いて主制御部５１は、補正値としての指示値を選択して補正パルス生成回路１０１へ送る。
【０１５０】
同時に、主制御部５１は、選択回路７３に差動増幅器７０を選択するための選択信号を送る。これにより、主制御部５１は、センサパターンＳＰとセンサパターンＳＯとの差動出力を積分器７４に送る。
【０１５１】
同様に、主制御部５１は、リセット信号生成回路７８及び変換開始信号回路７９にセンサ選択信号を送信する。これにより、主制御部５１は、センサＳＰとセンサＳＯとの差分信号を積分する際のリセット信号とアナログ／デジタル変換開始信号を発生する。本ステップによって、主制御部５１は、センサＳＰとセンサＳＯとの差分出力を取込むことが可能になる。
【０１５２】
ビーム光検知部出力処理回路４０は、センサＳＯ及びＳＰを有するビーム光検知部３８により検知された固定ビームの通過位置に応じた出力信号をＣＰＵ５１に出力する。ＣＰＵ５１は、ビーム光検知部出力処理回路４０に供給した指示値により決定される補正値に基づく検知特性を判断する。この判断により判断した指示値に対応する検知特性とビーム光検知部出力処理回路４０からの出力信号とに基づいて、ＣＰＵ５１は、固定ビームの通過位置を検知する。この検知された固定ビームの通過位置は、ＣＰＵ５１によりメモリ５２に記録される（ステップＳ２）。
【０１５３】
以下のステップは、本ステップＳ２で検知した第１のビーム光の通過位置を基準として、その他の３つのビーム光の通過位置が所定のピッチ（例えば４２．３μｍ）になるよう制御する。
【０１５４】
続いて主制御部５１は、移動可能な第２のビーム光を所定のパワーで発光させる（ステップＳ３）。たとえば、主制御部５１は、第２のレーザドライバ３２ｂに所定の指示値を送り、第２のレーザ発振器３１ｂを所定のパワーで発光させる。
【０１５５】
主制御部５１は、上記同様に、適当な指示値を選択し、その指示値に基づいた検知特性により、センサＳＰとＳＯとの差分出力をモニタしている。このため、主制御部５１は、第２のビーム光の通過位置を把握することができる。主制御部５１は、センサＳＰとセンサＳＯの検知領域内を前記第２のビーム光が通過するように、ガルバノミラー３３ｂを動作させる（ステップＳ４）。その後、主制御部５１は、センサＳＰとセンサＳＯとの中心近傍を第２のビーム光が通過するように、ガルバノミラー３３ｂを動作させる。なお、本ステップのビーム光通過位置調整には微細な精度は要求されない。
【０１５６】
続いて主制御部５１は、ステップＳ４で粗調整した第２のビーム光を、その通過位置がセンサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置になるように制御する（ステップＳ５）。各センサＳＩ，ＳＪ，ＳＰは、センサＳＰとセンサＳＯのほぼ中心位置に配置されている。したがって、主制御部５１は、ビーム光の通過位置を大きく変化させることなしに（さらに、時間を要することなく）、センサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置に制御することができる。以下、ステップＳ５の処理を詳細に説明する。
【０１５７】
まず、主制御部５１は、選択回路７３に差動増幅器７１を選択するための選択信号を送ることにより、センサＳＫとセンサＳＪとの差動出力を積分器７４に入力する。同様に、主制御部５１は、リセット信号生成回路７８及び変換開始信号回路７９にセンサ選択信号を送る。これにより、主制御部５１は、センサＳＫとセンサＳＪとの差分信号を積分する際のリセット信号とアナログ／デジタル変換開始信号を発生する。本設定によって、主制御部５１は、センサＳＫとセンサＳＪとの差分出力を取込むことが可能になる。
【０１５８】
続いて主制御部５１は、第２のビーム光用のガルバノミラー３３ｂを動作させて、センサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置に第２のビーム光の通過位置を制御する。ガルバノミラー３３ｂを動作させるためには、まず、主制御部５１は、Ｄ／Ａ変換器４５ｂに指示値をセットする。Ｄ／Ａ変換器４５ｂによってアナログ化された信号はドライバ４６ｂに入力され、ドライバ４６ｂはＤ／Ａ変換値に応じた電流をガルバノミラー３３ｂに出力する。ガルバノミラー３３ｂは、ドライバ４６ｂの出力電流値に応じて動作する。したがって、主制御部５１は、Ｄ／Ａ変換器４５ｂへの指示値を変更することによって、第２のビーム光の通過位置を変更することができる。
【０１５９】
続いて主制御部５１は、ステップＳ５におけるガルバノミラー３３ｂの設定を保持したまま、再度、センサＳＰとセンサＳＯとの差分出力を読込む。この際、主制御部５１は、補正なしを選択し、ビーム光の位置を検知する。これは、センサＳＩ、ＳＫ、ＳＪは、センサＳＰ、ＳＯのほぼセンター位置に配置されているため、補正が必要ないからである。このような位置検知によりビーム光がセンサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置に制御されると、主制御部５１は、この時の処理回路４０の出力値（ＰＯＫＪ）をメモリ５２に記憶する（ステップＳ６）。このＰＯＫＪは、ビーム光の通過位置がセンサＳＫとセンサＳＪとのギャップの中心位置であることを示す処理回路４０の出力値となる。
【０１６０】
続いて主制御部５１は、ステップＳ６でセンサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置に制御された第２のビーム光を、センサＳＪとセンサＳＩのギャップの中心位置に制御する（ステップＳ７）。
【０１６１】
まず、主制御部５１は、選択回路７３に差動増幅器７２を選択するための選択信号を送ることにより、センサＳＪとセンサＳＩとの差動出力を積分器４２に入力する。同様に主制御部５１は、リセット信号生成回路７８、変換開始信号回路７９にセンサ選択信号を送る。これにより、主制御部５１は、センサＳＪとセンサＳＩとの差分信号を積分する際のリセット信号とアナログ／デジタル変換開始信号を発生する。本設定によって、主制御部５１は、センサＳＪとセンサＳＩとの差分出力を取込むことが可能になる。
【０１６２】
続いて主制御部５１は、第２のビーム光用のガルバノミラー３３ｂを動作させて、センサＳＪとセンサＳＩのギャップの中心位置に第２のビーム光の通過位置をステップＳ５と同様に制御する。
【０１６３】
続いて主制御部５１は、第２のビーム光がセンサＳＪとセンサＳＩのギャップの中心位置を通過しているとき、再度、センサＳＰとセンサＳＯとの差分出力を読込む。この際、主制御部５１は、Ｄ／Ａ値として補正なしを選択し、ビーム光の位置を検知する。これは、センサＳＩ、ＳＫ、センサＳＪは、センサＳＰ、ＳＯのほぼセンター位置に配置されているため、補正が必要ないからである。このような位置検知によりビーム光がセンサＳＪとセンサＳＩのギャップの中心位置に制御されると、主制御部５１は、この時の処理回路４０の出力値（ＰＯＪＩ）をメモリ５２に記憶する（ステップＳ８）。このＰＯＪＩは、ビーム光の通過位置がセンサＳＪとセンサＳＩのギャップの中心位置であることを示す処理回路４０の出力値となる。
【０１６４】
続いて主制御部５１は、ステップＳ６でメモリ５２に記憶した値ＰＯＫＪと、ステップＳ８でメモリ５２に記憶した値ＰＯＪＩとの差を演算する（ステップＳ９）。センサＳＫとセンサＳＪの中心位置とセンサＳＪとセンサＳＩの中心位置との間のピッチは、４２．３μｍである。このため、ステップＳ５（ステップＳ６）からステップＳ７（ステップＳ８）にビーム光を移動させた場合の移動距離は４２．３μｍに相当する。したがって、本ステップＳ９で演算したＰＯＫＪとＰＯＪＩとの差は、センサＳＰとセンサＳＯとの差分出力の差で、第２のビーム光の移動距離（４２．３μｍ）に相当する値である。
【０１６５】
また、第３の動作例では、ＣＰＵ５１により設定された指示値に対応する検知特性を用いてビーム光の位置を検知するようにしている。このため、第１のビーム光と第２のビーム光との相対的な距離を所定のピッチ（４２．３μｍ）にするには、上記ステップＳ２で選択された検知特性に基づいて第２のビーム光の位置を制御しなければならない。
【０１６６】
つまり、上記ステップＳ２で選択した指示値を設定した状態で、第２のビーム光による出力が、（上記ステップ２でメモリ５２に記憶した値）−（ＰＯＫＪ−ＰＯＪＩ）となるように制御する。これにより、固定ビーム光（第１のビーム光）の通過位置と移動可能な第２のビーム光の通過位置とが所定のピッチ（４２．３μｍ）に制御される。本ステップの処理では、センサＳＰとセンサＳＯとの差分出力を使用する。
【０１６７】
固定ビーム光である第１のビーム光の通過位置は、ステップＳ２で検知され、メモリ５２に記憶されている。主制御部５１は、移動可能な第２のビーム光の通過位置が第１のビーム光に対して４２．３μｍのピッチとなるように、ガルバノミラー３３ｂを動作させ、第２のビーム光の通過位置を制御する。
【０１６８】
すなわち、主制御部５１は、まず、ステップＳ２と同様なＤ／Ａ値を処理回路４０に設定して第２のビーム光を発光させる。そして、主制御部５１は、第２のビーム光の通過位置を表わす処理回路４０の出力値が、ステップＳ２でメモリ５２に記憶した値からステップＳ９で求めた値（ＰＯＫＪ−ＰＯＪＩ）を引いた値に一致するように、第２のビーム光の通過位置を変更する（ステップＳ１０）。
【０１６９】
以上説明した動作によって、第１のビーム光と第２のビーム光の通過位置は４２．３μｍのピッチに制御される。また、第３、第４のビーム光についても、上記同様な動作を行うことにより、各ビーム光は４２．３μｍのピッチに制御される。
【０１７０】
以上が、マルチビーム光学系を有するビーム光走査装置におけるビーム光の相対位置検知の仕組みである。
【０１７１】
次に、このような構成において第１の実施例について説明する。
【０１７２】
図１４は、図１１にある基準ピッチのセンサＳＩ，ＳＪ，ＳＫと相対位置のセンサＳＯ，ＳＰと相対位置のセンサ出力とを示したものである。
【０１７３】
センサＳＩ，ＳＪ，ＳＫは、相対位置検知制御の説明で述べているように、ビーム光の通過位置検知及び制御に用いる。
【０１７４】
ビーム光の通過位置を検知する場合、センサＳＩ，ＳＪ，ＳＫから、センサＳＫ，ＳＪ、センサＳＪ，ＳＩのいずれかの組合せを主制御部５１で選択し、ビームａがセンサ上を走査した際に出力される電流を１／Ｖ変換し、それぞれの差分出力を得ることによってビーム位置を検知することが出来る。
【０１７５】
相対位置制御は、まず、図１４に示すようにセンサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置に可動ビームａの通過位置を制御し、そのときのセンサＳＯ，ＳＰの差をとり、その差分を積分した値（電圧Ｖ１）を記憶する。
【０１７６】
続いて同様に、図１５に示すようにセンサＳＪとセンサＳＩのギャップの中心位置に可動ビームａの通過位置を制御し、そのときのセンサＳＰとセンサＳＯとの差をとり、その差分を積分した値（電圧Ｖ２）を記憶する。
【０１７７】
図１６に示すように、Ｖ_１−Ｖ_２が印字したい解像度になるよう、例えば、６００ｄｐｉの場合に４２．３μｍの定数倍となる間隔に追い込んだときの電圧はＶ_ｌ−Ｖ_２になる。
【０１７８】
しかし、センサＳＰとセンサＳＯとの出力までの構成は、複数のオペアンプを有し、各センサが検知した電気信号の差を積分器により積分するような回路構成になっている。オペアンプはオフセットの要因を持っており、図１７に示すように、オフセットが有る場合のセンサＳＰとセンサＳＯとは、感度を良くするために測定レンジが狭くなっているため、図１８に示すようにビーム位置が測定できるところまで補正を行ってから測定、制御を行う。
【０１７９】
また、図１９に示すように、オフセットが逆方向（図上）にある場合も同様に図２０に示すようにビーム位置が測定できるところまで補正を行ってから測定、制御を行う。
【０１８０】
ここで、従来の制御動作を図２１のフローチャートを参照して説明する。
【０１８１】
まず、主制御部５１は、上述したように固定ビームの初期化を行い（Ｓ１１）、固定ビームの水平同期信号を確認し（Ｓ１２）、続いて可動ビームの初期化を行い（Ｓ１３）、可動ビームの出力信号を確認し（Ｓ１４）、センサＳＫ，センサＳＪ，センサＳＩとセンサＳＰ，センサＳＯとのオフセットを測定する（Ｓ１５）。
【０１８２】
続いて、主制御部５１は、可動ビームを、その通過位置がセンサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置になるよう制御し（Ｓ１６）、センサＳＰとセンサＳＯでビーム位置が測定できるところまで補正を行ってからセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ１７）、可動ビームを、その通過位置がセンサＳＪとセンサＳＩのギャップの中心位置になるよう制御し（Ｓ１８）、センサＳＰとセンサＳＯでビーム位置が測定できるところまで補正を行ってからセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認する（Ｓ１９）。
【０１８３】
そして、主制御部５１は、固定ビームのセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ２０）、相対位置制御を行う（Ｓ２１）。
【０１８４】
このような従来の制御方法の場合、可動ビームａの通過位置がセンサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置、あるいはセンサＳＪとセンサＳＩのギャップの中心位置になるよう制御しても、ビーム位置が測定できるところまで補正を行っている間にガルバノミラーのドリフトや経時変化等により、実際に測定、制御したい位置から可動ビームがずれて正確な測定、制御が出来ないという問題があった。
【０１８５】
そこで、本第１の実施例における制御動作を図２２のフローチャートを参照して説明する。
【０１８６】
ステップＳ１１〜１５までは、従来の制御動作と同様であるので、同一符号を付して説明を省略する。
【０１８７】
主制御部５１は、ステップＳ１５に続いて、可動ビームａを、その通過位置がセンサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置になるよう制御し（Ｓ３１）、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を測定する（Ｓ３２）。その際、センサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置に追い込みながら、随時センサＳＰとセンサＳＯの差分出力も測定する。
【０１８８】
図２３は、第１の実施例におけるセンサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置にビームａを追い込んでいく過程（段階的あるいは所定量あるいは任意量づつ１回あるいは複数回で中心位置にビームａの通過位置を制御する）を示すものである。
【０１８９】
図に示すように、主制御部５１は、まず、センサＳＫとセンサＳＪに対するビームａ_０の位置でセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認する（Ｓ３１，３２）。ここで、センサＳＰとセンサＳＯは、ビーム位置が測定できるところまで補正されてから測定される。
【０１９０】
主制御部５１は、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認した後（Ｓ３３）、さらに、センサＳＫとセンサＳＪに対するビームａ_１の位置でセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認する（Ｓ３１，３２）。ここで、センサＳＰとセンサＳＯは、ビーム位置が測定できる補正ａ_１まで補正されてから測定される（なお、補正する必要がない場合は補正をしない）。
【０１９１】
主制御部５１は、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認した後（Ｓ３３）、さらに、センサＳＫとセンサＳＪに対するビームａ_２の位置でセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認する（Ｓ３１，３２）。ここで、センサＳＰとセンサＳＯは、ビーム位置が測定できる補正ａ_２まで補正されてから測定される（なお、補正する必要がない場合は補正をしない）。
【０１９２】
主制御部５１は、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認した後（Ｓ３３）、さらに、センサＳＫとセンサＳＪに対するビームａ_３の位置でセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認する（Ｓ３１，３２）。ここで、センサＳＰとセンサＳＯは、ビーム位置が測定できる補正ａ_３まで補正されてから測定される（なお、補正する必要がない場合は補正をしない）。
【０１９３】
主制御部５１は、最終的に、センサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置にビームａ追い込んだ際（ビームａ_３の位置）、ビームａ_３の位置でセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ３１，３２）、追い込みを終了して次のステップに進む（Ｓ３３）。
【０１９４】
ここで、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認する際、１つ前の動作で補正ａ_３を行っているので補正する必要が無く、センサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置にビームａを追い込んで、直ちにセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認することができる。これにより、ガルバノミラーのドリフトや経時変化の影響を受けにくく、より正確な測定、制御を行うことができる。
【０１９５】
図２４は、第１の実施例におけるセンサＳＪとセンサＳＩのギャップの中心位置にビームａを追い込んでいく過程を示すものである。
【０１９６】
図に示すように、主制御部５１は、まず、センサＳＪとセンサＳＩに対するビームａ_０の位置でセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認する（Ｓ３４，３５）。ここで、センサＳＰとセンサＳＯは、ビーム位置が測定できるところまで補正されてから測定される。
【０１９７】
主制御部５１は、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認した後（Ｓ３６）、さらに、センサＳＪとセンサＳＩに対するビームａ_１の位置でセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認する（Ｓ３４，３５）。ここで、センサＳＰとセンサＳＯは、ビーム位置が測定できる補正ａ_１まで補正されてから測定される。
【０１９８】
主制御部５１は、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認した後（Ｓ３６）、さらに、センサＳＪとセンサＳＩに対するビームａ_２の位置でセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認する（Ｓ３４，３５）。ここで、センサＳＰとセンサＳＯは、ビーム位置が測定できる補正ａ_２まで補正されてから測定される（なお、補正する必要がない場合は補正をしない）。
【０１９９】
主制御部５１は、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認した後（Ｓ３６）、さらに、センサＳＪとセンサＳＩに対するビームａ_３の位置でセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認する（Ｓ３４，３５）。ここで、センサＳＰとセンサＳＯは、ビーム位置が測定できる補正ａ_３まで補正されてから測定される（なお、補正する必要がない場合は補正をしない）。
【０２００】
主制御部５１は、最終的に、センサＳＪとセンサＳＩのギャップの中心位置にビームａ追い込んだ際（ビームａ_３の位置）、ビームａ_３の位置でセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ３４，３５）、追い込みを終了して次のステップに進む（Ｓ３６）。
【０２０１】
ここで、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認する際、１つ前の動作で補正ａ_３を行っているので補正する必要が無く、センサＳＪとセンサＳＩのギャップの中心位置にビームａを追い込んで、直ちにセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認することができる。これにより、ガルバノミラーのドリフトや経時変化の影響を受けにくく、より正確な測定、制御を行うことができる。
【０２０２】
続いて、主制御部５１は、固定ビームのセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ３７）、相対位置制御を行う（Ｓ３８）。
【０２０３】
次に、第２の実施例について説明する。
【０２０４】
本第２の実施例では、可動ビームを複数本有する場合に、センサＳＫとセンサＳＪ、及びセンサＳＪとセンサＳＩに１本ずつ追い込んでいくのではなく、２本を少しずつ追い込んで、センサＳＰとセンサＳＯの差分を測定する。それにより、ガルバノミラーのドリフトや経時変化等の影響を受けにくくなり、より正確な測定、制御ができる。
【０２０５】
第２の実施例における制御動作を図２５のフローチャートを参照して説明する。
【０２０６】
ステップＳ１１〜１５までは、従来の制御動作と同様であるので、同一符号を付して説明を省略する。
【０２０７】
主制御部５１は、ステップＳ１５に続いて、ビームａを、その通過位置がセンサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置になるよう制御し（Ｓ４１）、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を測定し（Ｓ４２）、さらに、ビームａを、その通過位置がセンサＳＪとセンサＳＩのギャップの中心位置になるよう制御し（Ｓ４３）、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を測定し（Ｓ４４）、それぞれの中心位置に追い込むまでステップＳ４１〜４４を繰り返す（Ｓ４５）。
【０２０８】
主制御部５１は、最終的に、センサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置にビームａ追い込んだ際（Ｓ４１）、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ４２）、センサＳＪとセンサＳＩのギャップの中心位置にビームａ追い込んだ際（Ｓ４３）、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ４４）、追い込みを終了して次のステップに進む（Ｓ４５）。
【０２０９】
続いて、主制御部５１は、固定ビームのセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ４６）、相対位置制御を行う（Ｓ４７）。
【０２１０】
次に、第３の実施例について説明する。
【０２１１】
図２１で説明した従来の副走査制御は、センサＳＫとセンサＳＪ、及びセンサＳＪとセンサＳＩに可動ビームａを追い込んで、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を測定した後、図２６に示すように固定ビームｂの位置を確認する。
【０２１２】
しかしながら、固定ビームｂの位置によって、もしくはセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力までの回路等のオフセット等の影響がある場合、図２７や図２８に示すように、固定ビームの位置を測定できるところまで補正を行ってから測定、制御を行わなければならない（補正の必要がない場合は補正する必要はない）。
【０２１３】
固定ビームｂの位置を測定できるところまで補正を行う間に、センサＳＰとセンサＳＯの感度が温度等で変化した場合、可動ビームａを追い込んでセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を測定した時の感度と異なるため、正確な制御をすることが出来ない場合がある。
【０２１４】
そこで、第３の実施例では、可動ビームａを追い込んでセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を測定するときと、固定ビームの位置を測定するときとの時間差を無くすようにする。すなわち、可動ビームａを追い込んでセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力の測定をしながら固定ビーム位置も測定することにより、ガルバノミラーのドリフトや径時的変化の影響を受けにくくなり、より正確な測定、制御ができる。
【０２１５】
第３の実施例における制御動作を図２９のフローチャートを参照して説明する。
【０２１６】
ステップＳ１１〜１５までは、従来の制御動作と同様であるので、同一符号を付して説明を省略する。
【０２１７】
主制御部５１は、ステップＳ１５に続いて、ビームａを、その通過位置がセンサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置になるよう制御し（Ｓ５１）、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を測定し（Ｓ５２）、さらに、可動ビームａを、その通過位置がセンサＳＪとセンサＳＩのギャップの中心位置になるよう制御し（Ｓ５３）、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を測定し（Ｓ５４）、さらに固定ビームｂのセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ５５）、それぞれの中心位置に追い込むまでステップＳ５１〜５５を繰り返す（Ｓ５６）。
【０２１８】
主制御部５１は、最終的に、センサＳＫとセンサＳＪのギャップの中心位置にビームａ追い込んだ際（Ｓ５１）、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ５２）、センサＳＪとセンサＳＩのギャップの中心位置にビームａ追い込んだ際（Ｓ５３）、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ５４）、固定ビームｂのセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ５５）、追い込みを終了して次のステップに進む（Ｓ５６）。
【０２１９】
続いて、主制御部５１は、相対位置制御を行う（Ｓ５７）。
【０２２０】
次に、第４の実施例について説明する。
【０２２１】
図３０は可動ビームを複数有する構成の場合、図３１は可動ビームが１本の場合に、上述した追い込みが終了した後、さらに、正確な制御が行われているかをチェックする確認制御を加えたものである。
【０２２２】
すなわち、相対位置制御を行って固定ビームに対して可動ビームを所定の間隔に制御した後、さらに、固定ビームの位置を確認し、前回測定した値と異なっていた場合、もう一度可動ビームに対する測定、制御を行う。
【０２２３】
また、振動等で何度制御しても前回の固定ビームの位置と異なっていた場合、いつまでたっても制御が終らないため、任意の回数確認したら最後に測定した値を測定値と判断して次の制御へ移るようにする。
【０２２４】
このような制御により、相対位置制御（固定ビームに対して可動ビームを所定の間隔に制御）をより正確に制御することができる。
【０２２５】
第４の実施例における可動ビームを複数有する場合の制御動作を図３０のフローチャートを参照して説明する。
【０２２６】
ステップＳ１１〜１５までは、従来の制御動作と同様であるので、同一符号を付して説明を省略する。
【０２２７】
また、ステップＳ６１〜６６は、図２９で説明したステップＳ５１〜５６と同様であるので説明を省略する。
【０２２８】
主制御部５１は、追い込みが終了した際（Ｓ６６）、固定ビームｂのセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ６７）、相対位置制御を行い（Ｓ６８）、続いて、再度、固定ビームｂのセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ６９）、この時点での差分出力がステップＳ６７で確認した値と異なっていた場合、ステップＳ６１からもう一度可動ビームに対する測定、制御を行う。
【０２２９】
第４の実施例における可動ビームが１本の場合の制御動作を図３１のフローチャートを参照して説明する。
【０２３０】
ステップＳ１１〜１５までは、従来の制御動作と同様であるので、同一符号を付して説明を省略する。
【０２３１】
また、ステップＳ７１〜７６は、図２２で説明したステップＳ３１〜３６と同様であるので説明を省略する。
【０２３２】
主制御部５１は、追い込みが終了した際（Ｓ７６）、固定ビームｂのセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ７７）、相対位置制御を行い（Ｓ７８）、続いて、再度、固定ビームｂのセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ７９）、この時点での差分出力がステップＳ７７で確認した値と異なっていた場合、ステップＳ７１からもう一度可動ビームに対する測定、制御を行う。
【０２３３】
次に、第５の実施例について説明する。
【０２３４】
上述した第４の実施例のように、固定ビームの位置が変動しているかチェックを行った後、固定ビームが変動していた場合に測定しなおしていては制御時間がかかってしまう。
【０２３５】
そこで、第５の実施例では、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力が変化した場合、図３２に示すように固定ＯＰ出力変化対応制御を行うことによって短時間で、より高画質な印字を行うことができる。
【０２３６】
図３３は可動ビームを複数有する構成の場合、図３４は可動ビームが１本の構成の場合における固定ＯＰ出力変化対応制御へ移行するフローチャートである。
【０２３７】
すなわち、図３３のフローチャートに示すように、固定ビームが変動していた場合（Ｓ８９）、固定ＯＰ出力変化対応制御へ移行し（Ｓ９０）、この制御が終了してステップＳ８８へ移行する。
【０２３８】
また、図３４のフローチャートに示すように、固定ビームが変動していた場合（Ｓ９９）、固定ＯＰ出力変化対応制御へ移行し（Ｓ１００）、この制御が終了してステップＳ９８へ移行する。
【０２３９】
続いて、固定ＯＰ出力変化対応制御の動作を図３２のフローチャートを参照して説明する。
【０２４０】
主制御部５１は、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力が変化した場合（Ｓ１０１）、ウィンドウコンパレータ７５を用いて、前回の値を基準に今回の値が「下側（ＬＯＷ）」であるか否かを確認する（Ｓ１０２）。
【０２４１】
下側であった場合、主制御部５１は、反対方向に任意に決めたステップ数（ｎ）だけガルバノミラーを動かす（Ｓ１０３，１０４）。ただし、ｎは大きすぎる値にしないものとする。
【０２４２】
また、ステップＳ１０２で下側でなかった場合、主制御部５１は、ウィンドウコンパレータ７５を用いて、前回の値を基準に今回の値が「上側（ＨＩＧＨ）」であるか否かを確認する（Ｓ１０５）。
【０２４３】
上側であった場合、主制御部５１は、反対方向に任意に決めたステップ数（ｎ）だけガルバノミラーを動かす（Ｓ１０６，１０７）。ただし、ｎは大きすぎる値にしないものとする。
【０２４４】
こうして、主制御部５１は、センサ設定（ＯＰ−Ｐ）を行う（Ｓ１０８）。
【０２４５】
このようにして、実際制御したい位置により近い位置に制御することができる。
【０２４６】
次に、第６の実施例について説明する。
【０２４７】
デジタル複写機で連続印刷する場合、紙が出力されてから次の紙が出力されるまでに間があり、その間に紙間副走査制御を行う。紙間中は他に主走査制御等があるが、第６の実施例の制御は、紙間中に、上述した図３２の固定ＯＰ出力変化対応制御を行う。
【０２４８】
第６の実施例の動作を図３５のフローチャートを参照して説明する。
【０２４９】
紙間中に、主制御部５１は、固定ビームｂのセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ１１１）、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力が変化していた場合（Ｓ１１２）、固定ＯＰ出力変化対応制御を行う（Ｓ１１３）。
【０２５０】
このように制御することにより、ガルバノミラーのステップ数（ｎ）を小さくすればするほど、連続印字すればするほど（最終的には目標値±ｎステップになるが）、ガルバノミラーのドリフトやセンサの経時変化等があっても制御したい目標位置に可動ビームを制御することができる。
【０２５１】
次に、第７の実施例について説明する。
【０２５２】
デジタル複写機で全ての制御を終え、例えば、コピーボタン等の画像出力信号がくるまで、待機している間にスタンバイ副走査制御を行う。
【０２５３】
第７の実施例は、待機している間（スタンバイ中）に、上述した図３２の固定ＯＰ出力変化対応制御を行う。
【０２５４】
第７の実施例の動作を図３６のフローチャートを参照して説明する。
【０２５５】
待機中に、主制御部５１は、固定ビームｂのセンサＳＰとセンサＳＯの差分出力を確認し（Ｓ１２１）、センサＳＰとセンサＳＯの差分出力が変化していた場合（Ｓ１２２）、固定ＯＰ出力変化対応制御を行う（Ｓ１２３）。
【０２５６】
そして、印刷予告がない場合（Ｓ１２４）、主制御部５１は、ステップＳ１２１に移行して制御を行う。
【０２５７】
このように制御することにより、ガルバノミラーのステップ数（ｎ）を小さくすればするほど、待機時間が長ければ長いほど（最終的には目標値±ｎステップになるが）、ガルバノミラーのドリフトやセンサの経時変化等があっても制御したい目標位置に可動ビームを制御することができる。
【０２５８】
次に、第８の実施例について説明する。
【０２５９】
上述したが、ビーム位置を検知する際、ウィンドウコンパレータ７５を使用して指示幅を調節し、その範囲の「上」、「中」、「下」を判断して測定をしている。この「上中下」の判定は、図３７のフローチャートに示すように、Ｎ＝ポリゴン面数分×任意の値のデータをとって判定を行っている。
【０２６０】
しかしながら、ウィンドウコンパレータ７５における幅の閾値は、主制御部５１からＤ／Ａ変換器７６を介して設定されるが、設定されてから出力されるまでの間に時間がかかっている。そのため、設定された値が出力される前にデータを取り込んで正確な判定ができないことがある。
【０２６１】
そこで、第８の実施例における判定では、図３８のフローチャートに示すように、「（ｎ＋ポリゴン面数分）×任意の値」のデータ数をとり（Ｓ１４１）、始めのｎ個のデータを無視し、その後の「｛（ｎ＋ポリゴン面数分）×任意の値分｝−（ｎ＋×任意の値分）」、要するに「（ポリゴン面数分）×任意の値」のデータで判定する。なお、「ｎ」はウィンドウコンパレータ７５の幅の閾値をＤ／Ａ変換器７６に設定してから出力されるまでの間の時間分に相当する任意の個数とする。
【０２６２】
すなわち、ステップＳ１４１に示すサンプリングにより、ウィンドウコンパレータ７５の幅の閾値をＤ／Ａ変換器７６に設定し、その値が出力されるまで時間がかかる場合や、レーザパワーを設定して所定のパワーで発光するまでに時間がかかっても正確な判定をすることができる。
【０２６３】
次に、第９の実施例について説明する。
【０２６４】
ノイズ等によりＤ／Ａ変換器４５ｂ、４５ｃ、４５ｄへの設定データが頻繁に書き換えられる場合がある。
【０２６５】
そこで、第９の実施例では、ガルバノミラー３３ｂ、３３ｃ、３３ｄを制御しているＤ／Ａ変換器４５ｂ、４５ｃ、４５ｄヘデータを出力する際、変更するＤ／Ａ変換器だけでなく、全てのＤ／Ａ変換器４５ｂ、４５ｃ、４５ｄへのデータを上書きし、さらに定期的に上書き（リフレッシュ）する。
【０２６６】
それにより、画質劣化につながる危険を持つビーム位置制御の精度を着実に確保することができる。
【０２６７】
以上説明したように上記発明の実施の形態によれば、ガルバノミラーのドリフトを考慮した制御を行って、さらに高精度な制御を行うことができる。
【０２６８】
また、制御の際、ガルバノミラーのドリフトの影響がないか否かの確認も行って、さらに高精度な制御を行うことができる。
【０２６９】
さらに、ウィンドウコンパレータで判定する際、「ｎ個＋必要とするポリゴン面数」のデータを取り、ウィンドウコンパレータへの幅の閾値の設定から設定値が出力されるまでにかかる時間分の初めのｎ個分データを使用しないことにより、ウィンドウコンパレータの設定時のタイムラグに対しても正確な判定を行うことができる。
【０２７０】
また、ガルバノミラーを制御しているＤ／Ａ変換器へデータを出力する際、変更するＤ／Ａ変換器だけでなく、全てのＤ／Ａ変換器へのデータを上書きし、さらに定期的に上書き（リフレッシュ）することにより、画質劣化につながる危険を持つビーム位置制御の精度を着実に確保することができる。
【０２７１】
なお、本願発明は、上記各実施例に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。また、各実施形態は可能な限り適宜組み合わせて実施してもよく、その場合組み合わせた効果が得られる。さらに、上記実施形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件における適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。例えば、実施形態に示される全構成要件から幾つかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題（の少なくとも１つ）が解決でき、発明の効果の欄で述べられている効果（の少なくとも１つ）が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。
【０２７２】
【発明の効果】
以上詳述したようにこの発明によれば、正確で高精度な制御を行って画質の悪化を防ぐことのできるビーム光走査装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】デジタル複写機の概略構成を示す図。
【図２】光学系ユニットの概略構成を示す図。
【図３】光学系の制御系統の構成例を示すブロック図。
【図４】ビーム光検知部の構成図。
【図５】ビーム光検知部からの出力信号を処理する処理回路の構成を示すブロック図。
【図６】ビーム光の通過位置に対するセンサの出力、差動増幅器の出力、及び積分器の出力例を示す図。
【図７】ビーム光の通過位置に対するセンサの出力、差動増幅器の出力、及び積分器の出力例を示す図。
【図８】ビーム光の通過位置に対するセンサの出力、差動増幅器の出力、及び積分器の出力例を示す図。
【図９】ビーム光の通過位置に対するセンサの出力、差動増幅器の出力、及び積分器の出力例を示す図。
【図１０】ビーム光の通過位置と積分出力の関係を示す図。
【図１１】ビーム光検知部の構成例を概略的に示す図。
【図１２】光学系の制御系統の構成例を概略的に示すブロック図。
【図１３】ビーム光の相対位置制御の動作を説明するためのフローチャート。
【図１４】相対位置制御の具体例を示す図。
【図１５】相対位置制御の具体例を示す図。
【図１６】相対位置制御の具体例を示す図。
【図１７】相対位置制御の補正処理の具体例を示す図。
【図１８】相対位置制御の補正処理の具体例を示す図。
【図１９】相対位置制御の補正処理の具体例を示す図。
【図２０】実施例の相対位置制御の具体例を示す図。
【図２１】従来の副走査制御を説明するためのフローチャート。
【図２２】第１の実施例の副走査制御を説明するためのフローチャート。
【図２３】実施例の相対位置制御の具体例を示す図。
【図２４】実施例の相対位置制御の具体例を示す図。
【図２５】第２の実施例の副走査制御を説明するためのフローチャート。
【図２６】固定ビームの位置を検出する具体例を示す図。
【図２７】固定ビームの位置を検出する具体例を示す図。
【図２８】固定ビームの位置を検出する具体例を示す図。
【図２９】第３の実施例の副走査制御を説明するためのフローチャート。
【図３０】第４の実施例の副走査制御を説明するためのフローチャート。
【図３１】第４の実施例の副走査制御を説明するためのフローチャート。
【図３２】固定ビーム出力変化対応制御を説明するためのフローチャート。
【図３３】第５の実施例の副走査制御を説明するためのフローチャート。
【図３４】第５の実施例の副走査制御を説明するためのフローチャート。
【図３５】第６の実施例の紙間副走査制御を説明するためのフローチャート。
【図３６】第７の実施例のスタンバイ副走査制御を説明するためのフローチャート。
【図３７】従来のウィンドウコンパレータの判定を説明するためのフローチャート。
【図３８】第８の実施例のウィンドウコンパレータの判定を説明するためのフローチャート。
【符号の説明】
３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄ…半導体レーザ発振器（発光手段）
３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄ…レーザドライバ
３５…ポリゴンミラー（光走査手段）
３８…ビーム光検知部（検知手段）
３３ｂ，３３ｃ，３３ｄ…ガルバノミラー（変更手段）
３９ｂ，３９ｃ，３９ｄ…ガルバノミラー駆動回路
４４ｂ，４４ｃ，４４ｄ…ラッチ
４５ｂ，４５ｃ，４５ｄ…Ｄ／Ａ変換器
４６ｂ，４６ｃ，４６ｄ…ドライバ
５１…主制御部（第１の制御手段、第２の制御手段）
５２…メモリ
７５…ウィンドウコンパレータ
７６…Ｄ／Ａ変換器
７０，７１，７２，１０２，１０３…差動増幅器
１０１…補正パルス生成回路

Claims (7)

1. ビーム光を出力する発光手段と、
   この発光手段から出力されるビーム光が被走査面上を主走査方向に走査するよう前記被走査面に向けて前記ビーム光を走査させるビーム光走査手段と、
   このビーム光走査手段によって走査されるビーム光の通過位置を検知する第１の検知手段と、
   この第１の検知手段の検知結果に対する処理で補正が必要か否かを判断し、補正の必要があれば補正量を設定して検知結果に対する処理を行う処理手段と、
   前記ビーム光走査手段で走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置を変更する変更手段と、
   この変更手段で通過位置が変更されたビーム光が基準位置であるか否かを検知する第２の検知手段と、
   この第２の検知手段で検知されたビーム光の通過位置が基準位置でなかった際、前記変更手段を用いてビーム光の通過位置を基準位置の方向に任意量で基準位置になるまで変更し、変更する毎に前記第１の検知手段による検知と前記処理手段による処理とを制御する第１の制御手段と、
   この第１の制御手段の制御で前記第２の検知手段で検知されたビーム光の通過位置が基準位置になった際、前記第１の検知手段による検知と前記処理手段による補正しない処理とを制御する第２の制御手段と、
   を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
2. 前記第２の検知手段は、第１の基準位置と第２の基準位置とを有することを特徴とする請求項１記載のビーム光走査装置。
3. 前記第１の制御手段は、前記第２の検知手段で検知される第１の基準位置と第２の基準位置とに任意量でそれぞれ基準位置になるまで変更し、変更する毎に前記第１の検知手段による検知と前記処理手段による処理とを制御することを特徴とする請求項１記載のビーム光走査装置。
4. 前記第２の制御手段は、前記第２の検知手段で検知されたビーム光の前記第１の検知手段による検知と前記処理手段による補正しない処理とを終了した際、予め設けられた前記ビーム光とは異なる固定ビームの前記第１の検知手段による検知と前記処理手段による補正しない処理とを制御することを特徴とする請求項１記載のビーム光走査装置。
5. 用紙が供給されて連続して画像形成する画像形成装置が有するビーム光走査装置において、
   固定ビーム光を出力する第１の発光手段と、
   可動ビーム光を出力する第２の発光手段と、
   前記第１、第２の発光手段から出力されるビーム光が被走査面上を主走査方向に走査するよう前記被走査面に向けて前記ビーム光を走査させるビーム光走査手段と、
   前記第２の発光手段からの可動ビーム光の前記被走査面における通過位置を変更する変更手段と、
   前記連続して画像形成される用紙と用紙の間の画像形成がされない間、前記第１の発光手段からの固定ビーム光の通過位置を検知する検知手段と、
   この検知手段による検知結果が前回の検知結果に対して変化があった際、変化量に基づいて前記変更手段で変更する変更量を制御する制御手段と、
   を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
6. 用紙に画像を形成する画像形成装置が有するビーム光走査装置において、
   固定ビーム光を出力する第１の発光手段と、
   可動ビーム光を出力する第２の発光手段と、
   前記第１、第２の発光手段から出力されるビーム光が被走査面上を主走査方向に走査するよう前記被走査面に向けて前記ビーム光を走査させるビーム光走査手段と、
   前記第２の発光手段からの可動ビーム光の前記被走査面における通過位置を変更する変更手段と、
   前記画像形成装置で画像形成動作がされない間、前記第１の発光手段からの固定ビーム光の通過位置を検知する検知手段と、
   この検知手段による検知結果が前回の検知結果に対して変化があった際、変化量に基づいて前記変更手段で変更する変更量を制御する制御手段と、
   を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。
7. ビーム光を出力する発光手段と、
   この発光手段から出力されるビーム光が被走査面上を主走査方向に走査するよう前記被走査面に向けて前記ビーム光を走査させるポリゴンミラーと、
   前記被走査面上あるいは被走査面上と同等の位置に配置され、前記ポリゴンミラーによって走査されるビーム光を検知する検知手段と、
   この検知手段で検知される検知データを、ダミーデータとして最初にｎ個続いて前記ポリゴンミラーのポリゴン面数個を取得するのを１回として任意回数だけ取得し、この取得した複数個の検知データのうち前記ダミーデータを無視した複数個の検知データを用いて前記ポリゴンミラーによって走査されるビーム光の通過位置を判定する判定手段と、
   を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。

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