JP2003288710A - 記録媒体駆動装置およびヘッドスライダ - Google Patents
記録媒体駆動装置およびヘッドスライダInfo
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
との衝突を防止することができる記録媒体駆動装置およ
びヘッドスライダを提供する。 【解決手段】 スライダ本体23の空気流出側端面には
保護膜25が積層される。保護膜25にはヘッド素子2
4が埋め込まれる。電流の供給に応じてヘッド素子24
が発熱すると、保護膜25の熱膨張は引き起こされる。
ヘッド素子24の先端は媒体対向面36aよりも過度に
記録媒体13に接近する。保護用突起49の浮上高さH
pはヘッド素子24の熱膨張時浮上高さHwよりも小さ
く設定される。保護用突起49は、保護膜25の熱膨張
時であってもヘッド素子24の軌道65よりも記録媒体
13に近い軌道66を辿る。記録媒体13の表面に突起
やコンタミネーションといった障害物が存在しても、保
護用突起49はヘッド素子24の前方で障害物に衝突す
ることができる。
Description
クといった記録媒体に対して情報の書き込みや読み出し
を実現する記録媒体駆動装置に関し、特に、こういった
記録媒体駆動装置に組み込まれてヘッド素子を支持する
ヘッドスライダに関する。
野では、磁気情報の読み出しにあたって磁気抵抗効果膜
が広く用いられる。磁気抵抗効果膜には磁気ディスクか
ら信号磁界が作用する。磁界の向きに応じて磁気抵抗効
果膜の電気抵抗値は変化する。この抵抗値の変化に基づ
き2値の磁気情報は判別される。
は、ときおり、突起やコンタミネーションといった障害
物が散在する。磁気ディスクの回転中に磁気抵抗効果膜
に例えばコンタミネーションが衝突すると、いわゆるサ
ーマルアスペリティが引き起こされる。周知の通り、こ
ういったサーマルアスペリティは正確な磁気情報の読み
出しを阻害する。
にあたって薄膜コイルパターンが利用される。薄膜コイ
ルパターンに電流が供給されると、薄膜コイルパターン
で磁界は生成される。こういった磁界が磁気ディスクの
表面まで誘導される。誘導される磁界の働きで磁気ディ
スクに磁気情報は書き込まれる。書き込み信号の周波数
が高められるに従って、薄膜コイルパターンの発熱量は
増加する。
ンは、スライダ本体の空気流出側端面に積層される例え
ばAl2 O3 (アルミナ)製の保護膜に埋め込まれる。
保護膜はスライダ本体(例えばAl2 O3 −TiC製)
に比べて大きな熱膨張率を有する。薄膜コイルパターン
の発熱は保護膜の熱膨張を引き起こす。保護膜は磁気デ
ィスクに向かって大きく隆起してしまう。こうして磁気
抵抗効果膜は磁気ディスクに過度に接近する。その結
果、例えば磁気抵抗効果膜が磁気ディスク上の障害物に
対して衝突する確率は著しく高まる。
で、一層確実に記録媒体上の突起物とヘッド素子との衝
突を防止することができる記録媒体駆動装置およびヘッ
ドスライダを提供することを目的とする。特に、本発明
は、書き込み信号の周波数が高められても、記録媒体上
の突起物とヘッド素子との衝突を確実に防止することが
できる記録媒体駆動装置およびヘッドスライダを提供す
ることを目的とする。
に、第1発明によれば、記録媒体と、媒体対向面で記録
媒体に向き合わせられ、規定の浮上姿勢で記録媒体から
浮上するヘッドスライダと、ヘッドスライダ内でスライ
ダ本体の空気流出側端面に積層される保護膜と、保護膜
に埋め込まれて、媒体対向面で先端を露出させるヘッド
素子と、ヘッド素子の空気流入端側で媒体対向面から立
ち上がる保護用突起とを備え、保護用突起は、保護膜の
熱膨張時にヘッド素子で確立される浮上高さよりも小さ
い浮上高さで記録媒体から浮上することを特徴とする記
録媒体駆動装置が提供される。
ヘッドスライダとの間に所定の相対変位が生成される
と、ヘッドスライダは記録媒体の表面から浮上する。相
対変位の速度が定常状態に進入すると、スライダ本体の
空気流出端は記録媒体の表面から規定の浮上高さで維持
されることができる。こうした浮上中にヘッド素子は読
み出し動作や書き込み動作を実施する。
ってヘッド素子には電流が供給される。電流の供給に応
じて発熱が引き起こされる。こうした発熱は保護膜の熱
膨張を引き起こす。その結果、保護膜は記録媒体の表面
に向かって隆起する。ヘッド素子の先端は媒体対向面よ
りも過度に記録媒体に接近する。こうして記録媒体の表
面とヘッド素子の先端との間には膨張時浮上高さが確立
される。ヘッド素子の先端は、スライダ本体の空気流出
端の軌道よりも記録媒体に近い軌道を辿る。
浮上高さはヘッド素子の熱膨張時浮上高さよりも小さく
設定される。したがって、保護用突起は、保護膜の熱膨
張時であってもヘッド素子の軌道よりも記録媒体に近い
軌道を辿ることができる。記録媒体の表面に突起やコン
タミネーションといった障害物が存在しても、保護用突
起はヘッド素子の前方で障害物に衝突することができ
る。こうしてヘッド素子は保護用突起の背後で障害物と
の衝突から保護されることができる。
ダの媒体対向面で規定される空気軸受け面に形成されれ
ばよい。ヘッド素子の先端は空気軸受け面で露出する。
空気軸受け面は、媒体対向面に形成されるレール上に規
定されればよい。しかも、レールの頂上面と空気軸受け
面の空気流入側端との間には段差が区画されてもよい。
ヘッドスライダの媒体対向面には、保護用突起よりも高
い頂上を規定する支持突起が形成されてもよい。
狭まってもよい。すなわち、保護用突起には、媒体対向
面に直交する前側基準線から、前側基準線よりも空気流
出側で媒体対向面に直交する後側基準線に向かって広が
る前側壁面が形成されてもよい。その他、保護用突起に
は、媒体対向面に直交する第1および第2基準線から、
第1および第2基準線の間に確立されて第1および第2
基準線よりも空気流入側で媒体対向面に直交する第3基
準線に向かって各々広がる第1および第2前側壁面が形
成されてもよい。こういった保護用突起によれば、保護
用突起の壁面に正面から(垂直方向から)コンタミネー
ションが衝突することはない。コンタミネーションは、
保護用突起の壁面の働きで、ヘッド素子の軌道からはじ
き出されやすい。したがって、コンタミネーションとヘ
ッド素子との衝突は一層確実に回避されることができ
る。仮に、コンタミネーションが垂直方向から保護用突
起の壁面に衝突すると、コンタミネーションは浮上ヘッ
ドスライダと記録媒体の表面との間に巻き込まれること
がある。こうして巻き込まれたコンタミネーションはヘ
ッド素子に衝突してしまう。
面で空気軸受け面に刻まれる窪み内に配置されてもよ
い。例えば、ヘッドスライダの空気流出端でヘッドスラ
イダが記録媒体の表面で受け止められる際に、保護用突
起は空気軸受け面に先立って記録媒体に接触することが
できる。保護用突起の働きで空気軸受け面と記録媒体と
の接触は回避される。こうしてヘッドスライダと記録媒
体との接触面積の増大は回避される。しかも、保護用突
起は空気軸受け面よりも低い位置から立ち上がる。浮上
高さの変更を伴わずに保護用突起の高さは実質的に増大
する。こうして記録媒体の表面に広がる潤滑剤や水分の
はい上がりは確実に防止されることができる。ヘッドス
ライダと記録媒体との間では吸着力(いわゆるメニスカ
ス効果)や摩擦力の増大は回避される。
浮上姿勢の変化に応じて変化する気流の全入射方向にわ
たって、ヘッド素子に向かって直進する空気の流れを遮
る大きさに形成されることが望まれる。こうした保護用
突起によれば、いずれの入射角でコンタミネーションそ
の他の障害物がヘッドスライダの媒体対向面に進入して
きても、保護用突起は確実にヘッド素子の前方で障害物
に衝突することができる。ヘッド素子は確実に保護され
る。
イダ本体の空気流出側端面に積層される保護膜と、保護
膜に埋め込まれて、空気軸受け面で先端を露出させるヘ
ッド素子と、ヘッド素子の空気流入側で空気軸受け面か
ら立ち上がる保護用突起とを備え、保護用突起は空気流
入側に向かうにつれて狭まることを特徴とするヘッドス
ライダが提供される。
と、スライダ本体の空気流出側端面に積層される保護膜
と、保護膜に埋め込まれて、空気軸受け面で先端を露出
させるヘッド素子と、ヘッド素子の空気流入側で空気軸
受け面から立ち上がる保護用突起とを備え、保護用突起
には、空気軸受け面に直交する前側基準線から、前側基
準線よりも空気流出側で空気軸受け面に直交する後側基
準線に向かって広がる前側壁面が形成されることを特徴
とするヘッドスライダが提供される。
本体と、スライダ本体の空気流出側端面に積層される保
護膜と、保護膜に埋め込まれて、空気軸受け面で先端を
露出させるヘッド素子と、ヘッド素子の空気流入側で空
気軸受け面から立ち上がる保護用突起とを備え、保護用
突起には、空気軸受け面に直交する第1および第2基準
線から、第1および第2基準線の間に確立されて第1お
よび第2基準線よりも空気流入側で空気軸受け面に直交
する第3基準線に向かって各々広がる第1および第2前
側壁面が形成されることを特徴とするヘッドスライダが
提供される。
護用突起の壁面に正面から(垂直方向から)コンタミネ
ーションが衝突することはない。コンタミネーション
は、保護用突起の壁面の働きで、ヘッド素子の軌道から
はじき出されやすい。したがって、コンタミネーション
とヘッド素子との衝突は一層確実に回避されることがで
きる。仮に、コンタミネーションが垂直方向から保護用
突起の壁面に衝突すると、コンタミネーションは浮上ヘ
ッドスライダと記録媒体の表面との間に巻き込まれるこ
とがある。こうして巻き込まれたコンタミネーションは
ヘッド素子に衝突してしまう。
イダ本体の空気流出側端面に積層される保護膜と、保護
膜に埋め込まれて、空気軸受け面で先端を露出させるヘ
ッド素子と、ヘッド素子の空気流入側で空気軸受け面に
刻まれる窪みと、窪み内でスライダ本体から立ち上が
り、空気軸受け面よりも高い頂上を規定する保護用突起
とを備えることを特徴とするヘッドスライダが提供され
る。
ッドスライダが記録媒体の表面で受け止められる際に、
保護用突起は空気軸受け面に先立って記録媒体に接触す
ることができる。保護用突起の働きで空気軸受け面と記
録媒体との接触は回避される。こうしてヘッドスライダ
と記録媒体との接触面積の増大は回避される。しかも、
保護用突起は空気軸受け面よりも低い位置から立ち上が
る。浮上高さの変更を伴わずに保護用突起の高さは実質
的に増大する。こうして記録媒体の表面に広がる潤滑剤
や水分のはい上がりは確実に防止されることができる。
ヘッドスライダと記録媒体との間では吸着力(いわゆる
メニスカス効果)や摩擦力の増大は回避される。
と同様に、保護用突起は、ヘッドスライダの浮上姿勢の
変化に応じて変化する気流の全入射方向にわたって、ヘ
ッド素子に向かって直進する空気の流れを遮る大きさに
形成されることが望まれる。こうしたヘッドスライダに
よれば、いずれの入射角でコンタミネーションその他の
障害物が媒体対向面に進入してきても、保護用突起は確
実にヘッド素子の前方で障害物に衝突することができ
る。ヘッド素子は確実に保護される。
に確立される規定の高さよりも高い高さでヘッドスライ
ダの媒体対向面に突起を形成する工程と、回転する研磨
用ディスクの表面にヘッドスライダの媒体対向面を向き
合わせる工程と、製品に組み込まれる際に確立される浮
上高さよりも低い浮上高さまで研磨用ディスクの表面に
向かってヘッドスライダを接近させ、研磨用ディスクお
よび突起の接触に基づき突起を研磨する工程とを備える
ことを特徴とするヘッドスライダの製造方法が提供され
る。
する相対移動速度に基づき正確な浮上高さで記録媒体か
ら浮上することができる。こうした浮上高さに基づき突
起の研磨量が設定されれば、突起は正確な高さまで削り
出されることができる。こうして製造されたヘッドスラ
イダが製品に組み込まれると、製品に組み込まれる際に
確立される浮上高さと研磨時の浮上高さとの差に基づき
突起の先端の浮上高さは決定されることができる。製品
では、突起の先端は規定の浮上高さで記録媒体から浮上
し続けることができる。
ィスクの回転速度は、製品で実現される回転速度よりも
低い回転速度に設定されればよい。こうした回転速度に
よれば、ヘッドスライダに生成される浮力は、製品に組
み込まれる際に確立される浮力よりも減少する。ヘッド
スライダは、製品に組み込まれる際に確立される浮上高
さよりも低い浮上高さで研磨用ディスクに向き合わせら
れる。こうして突起の研磨量は正確に設定されることが
できる。
明の一実施形態を説明する。
ハードディスク駆動装置(HDD)の内部構造を概略的
に示す。このHDD11は、例えば平たい直方体の内部
空間を区画する箱形の筐体本体12を備える。収容空間
には、記録媒体としての1枚以上の磁気ディスク13が
収容される。磁気ディスク13はスピンドルモータ14
の回転軸に装着される。スピンドルモータ14は、例え
ば7200rpmや10000rpmといった規定の回
転速度で磁気ディスク13を回転させることができる。
筐体本体12には、筐体本体12との間で収容空間を密
閉する蓋体すなわちカバー(図示されず)が結合され
る。
表面に向き合うキャリッジ15がさらに収容される。こ
のキャリッジ15は、支軸16回りで揺動する揺動アー
ム17と、この揺動アーム17の先端に固定されて、先
端で個別に浮上ヘッドスライダ18を支持するヘッドサ
スペンション19とを備える。揺動アーム17の揺動は
例えばボイスコイルモータ(VCM)といった電磁アク
チュエータ21の働きを通じて達成される。こうした揺
動アーム17の揺動によれば、浮上ヘッドスライダ18
は半径方向に磁気ディスク13を横切ることができる。
この移動に基づき浮上ヘッドスライダ18は磁気ディス
ク13上の所望の記録トラックに位置決めされる。周知
の通り、複数枚の磁気ディスク13が筐体本体12内に
組み込まれる場合には、隣接する磁気ディスク13同士
の間に2本のヘッドサスペンション19すなわち2個の
浮上ヘッドスライダ18が配置される。
スライダ18の構造を示す。この浮上ヘッドスライダ1
8は、平たい直方体に形成されるAl2 O3 −TiC
(アルチック)製のスライダ本体23と、このスライダ
本体23の空気流出側端面に積層されて、読み出し書き
込みヘッド24を内蔵するAl2 O3 (アルミナ)製の
ヘッド素子内蔵膜25とを備える。スライダ本体23お
よびヘッド素子内蔵膜25には、磁気ディスク13に向
き合う媒体対向面すなわち浮上面26が規定される。磁
気ディスク13の回転に基づき生成される気流27は浮
上面26に受け止められる。
ち空気流入側でベース面28から立ち上がる1筋のフロ
ントレール29が形成される。フロントレール29は、
ベース面28上に所定の厚み(1.5〜2.0μm程
度)で広がりつつ、スライダ本体23の空気流入端に沿
ってスライダ幅方向に延びる。同様に、浮上面26に
は、気流27の下流側すなわち空気流出側でベース面2
8から立ち上がる1対のリアレール31a、31bが形
成される。リアレール31a、31bはスライダ幅方向
に配列される。リアレール31a、31bの間には気流
27の流通路32が区画される。各リアレール31a、
31bは、ベース面28上にフロントレール29と同一
の厚みで広がりつつ、スライダ本体23の空気流出端に
向かって延びる。
ダ幅方向に延びる1筋の前方空気軸受け面33が規定さ
れる。前方空気軸受け面33の空気流入端ではフロント
レール29の頂上面に段差34が形成される。この段差
34は、空気流出端を除く前方空気軸受け面33の周囲
に満遍なく形成されてもよい。こうして段差34が形成
されると、フロントレール29の頂上面には、前方空気
軸受け面33よりも低いレベルで広がる低レベル面35
が規定される。前方空気軸受け面33と低レベル面35
との高低差は例えば200nm程度に設定される。磁気
ディスク13の回転時、磁気ディスク13の表面に沿っ
て生成される気流27は低レベル面35から段差34を
伝って前方空気軸受け面33に導かれる。段差34の働
きで前方空気軸受け面33では大きな正圧すなわち浮力
が生成される。
には、スライダ幅方向に配列される第1および第2後方
空気軸受け面36a、36bがそれぞれ規定される。第
1後方空気軸受け面36aの空気流入端ではリアレール
31aの頂上面に段差37が形成される。同様に、第2
後方空気軸受け面36bの空気流入端ではリアレール3
1bの頂上面に段差38が形成される。段差38は第2
後方空気軸受け面36bの周囲に沿って空気流出端に向
かって延びてもよい。こうして段差37、38が形成さ
れると、2つのリアレール31a、31bの頂上面に
は、第1および第2後方空気軸受け面36a、36bよ
りも低いレベルでそれぞれ広がる低レベル面39、41
が規定される。第1および第2後方空気軸受け面36
a、36bと低レベル面39、41との高低差は例えば
200nm程度に設定される。磁気ディスク13の回転
時、磁気ディスク13の表面に沿って生成される気流2
7は低レベル面39、41から段差37、38を伝って
第1および第2後方空気軸受け面36a、36bに導か
れる。段差37、38の働きで第1および第2後方空気
軸受け面36a、36bでは大きな正圧すなわち浮力が
生成される。
後方空気軸受け面36a、36bに比べて前方空気軸受
け面33で大きな正圧すなわち浮力が生成される。した
がって、磁気ディスク13の回転に伴いスライダ本体2
3が磁気ディスク13の表面から浮上すると、スライダ
本体23はピッチ角αの傾斜姿勢で維持されることがで
きる。ここで、ピッチ角αとは、気流27の流れ方向に
沿ったスライダ本体前後方向の傾斜角をいう。しかも、
第1後方空気軸受け面36aは第2後方空気軸受け面3
6bに比べて小さく形成される。したがって、スライダ
本体23に気流27が作用すると、第1後方空気軸受け
面36aに比べて第2後方空気軸受け面36bに大きな
浮力が生成される。磁気ディスク13の回転に伴いスラ
イダ本体23が磁気ディスク13の表面から浮上する
と、スライダ本体23はロール角βの傾斜姿勢で維持さ
れることができる。ここで、ロール角βとは、気流27
の流れ方向に直交するスライダ幅方向の傾斜角をいう。
け面36aで読み出し書き込みヘッド24は先端すなわ
ち読み出しギャップや書き込みギャップを露出させる。
このとき、媒体対向面すなわち第1後方空気軸受け面3
6aには、読み出し書き込みヘッド24の先端に覆い被
さるDLC(ダイヤモンドライクカーボン)保護層が形
成されてもよい。前述のピッチ角αおよびロール角βの
働きによって、第1後方空気軸受け面36aの空気流出
端と磁気ディスク13の表面との距離は最も縮小する。
したがって、読み出し書き込みヘッド24は、第1後方
空気軸受け面36aの空気流出端に近接して配置される
ことから、磁気ディスク13に効率的に磁気情報を書き
込んだり、磁気ディスク13から効率的に磁気情報を読
み出したりすることができる。読み出し書き込みヘッド
24には、例えば、薄膜コイルパターンを利用した薄膜
磁気ヘッドといった書き込み素子や、巨大磁気抵抗効果
(GMR)素子やトンネル接合磁気抵抗効果素子(TM
R)といった読み取り素子が採用されればよい。読み取
り素子は、例えば、第1後方空気軸受け面36aに沿っ
てスライダ幅方向に延びるスピンバルブ膜やトンネル接
合膜といった磁気抵抗効果膜を備えればよい。
には、スライダ本体23のベース面28から立ち上がっ
て、空気流出端に向かって延びる1対のサイドレール4
3が接続される。こうしたサイドレール43によれば、
磁気ディスク13の回転時にフロントレール29に正面
から衝突する気流はフロントレール29のスライダ幅方
向両端を回り込んでフロントレール29の背後に入り込
むことはできない。したがって、前方空気軸受け面33
に沿ってフロントレール29を通過する気流27は容易
にディスク面垂直方向に広がることができる。こうした
気流27の急激な広がりに基づき負圧は生成される。こ
の負圧が前述の浮力に釣り合うと、スライダ本体23の
浮上量は規定される。1対のサイドレール43と1対の
リアレール31a、31bとの間には、スライダ幅方向
両側からフロントレール29を迂回する気流を流通路3
2に導く間隙44が形成される。サイドレール43は、
フロントレール29の低レベル面35と同一なレベルで
広がる頂上面を規定する。
から立ち上がる1対の前方支持突起(パッド)45が形
成される。これらの前方支持突起45は、ベース面28
の空気流入端にできる限り近接した位置に配置される。
前方支持突起45は、前方空気軸受け面33や第1およ
び第2後方空気軸受け面36a、36bよりも高い頂上
面を規定する。
サイドレール43には、サイドレール43の頂上面から
立ち上がる第1後方支持突起(パッド)46aが形成さ
れる一方で、リアレール31bには、低レベル面41か
ら立ち上がる第2後方支持突起(パッド)46bが形成
される。第1および第2後方支持突起46a、46b
は、前方支持突起45よりも空気流出側で、ベース面2
8の空気流出端から空気流入側に偏倚した位置に配置さ
れる。第1および第2後方支持突起46a、46bは、
前方支持突起45と同様に、前方空気軸受け面33や第
1および第2後方空気軸受け面36a、36bよりも高
い頂上面を規定する。第1および第2後方支持突起46
a、46bの高さは前方支持突起45のそれと等しく設
定されればよい。
アレール31aには窪みすなわち1筋の溝47が刻まれ
る。この溝47はスライダ本体23の空気流出端に沿っ
てスライダ幅方向に延びる。溝47はスライダ本体23
上で完全に第1後方空気軸受け面36aを横切る。こう
いった溝47は読み出し書き込みヘッド24よりも空気
流入側に配置される。同様に、第2後方支持突起46b
の空気流出側でリアレール31bには1筋の溝48が刻
まれる。溝48は、同様に、スライダ本体23の空気流
出端に沿ってスライダ幅方向に延びる。こうして溝48
はスライダ本体23上で完全に第2後方空気軸受け面3
6bを横切る。溝47、48の溝幅は10〜100μm
の範囲で適宜に設定されればよく、溝47、48の深さ
は例えば5〜10nm程度に設定されればよい。
し書き込みヘッド24の前方すなわち空気流入側で第1
後方空気軸受け面36aから立ち上がる保護用突起49
が形成される。この保護用突起49は溝47内に配置さ
れる。図3から明らかなように、保護用突起49は第1
後方空気軸受け面36aよりも高い頂上を規定する。こ
の頂上は、第1後方空気軸受け面36aを含む仮想平面
51からHa=10nm程度で突き出ればよい。このと
き、各支持突起45、46a、46bは、各空気軸受け
面33、36a、36bを含む仮想平面51よりもHb
=40nm程度で突き出る。
は空気流入側に向かうにつれてスライダ幅方向に狭ま
る。すなわち、保護用突起49には、第1後方空気軸受
け面36aから垂直に立ち上がる第1および第2前側壁
面52、53が規定される。第1前側壁面52は、第1
後方空気軸受け面36aに直交する前側基準線54に沿
って規定される稜線と、前側基準線54よりもスライダ
本体23の外周側で第1後方空気軸受け面36aに直交
する第1後側基準線55に沿って規定される稜線との間
に広がる。同様に、第2前側壁面53は、第1後方空気
軸受け面36aに直交する前側基準線54に沿って規定
される稜線と、前側基準線54よりもスライダ本体23
の内周側で第1後方空気軸受け面36aに直交する第2
後側基準線56に沿って規定される稜線との間に広が
る。このとき、第1および第2後側基準線55、56は
それぞれ前側基準線54よりも空気流出側に配置され
る。ここで、「外周側」や「内周側」は、浮上ヘッドス
ライダ18が磁気ディスク13に向き合わせられる際に
磁気ディスク13の内周や外周に基づき決定されればよ
い。ただし、第1前側壁面52は、少なくとも前側基準
線54および第1後側基準線55を含む仮想平面に沿っ
て広がる平坦面を備えればよい。同様に、第2前側壁面
53は、少なくとも前側基準線54および第2後側基準
線56を含む仮想平面に沿って広がる平坦面を備えれば
よい。第1および第2前側壁面52、53は必ずしも稜
線を共有する必要はない。
スク13上の最外周トラックに対して浮上ヘッドスライ
ダ18が位置決めされると、例えば入射角θ=10°〜
20°程度の範囲で第1後方空気軸受け面36aに向か
って気流58は流入する。このとき、保護用突起49の
大きさは、読み出し書き込みヘッド24に含まれる磁気
抵抗効果膜59に向かって直進する気流58を完全に遮
る大きさに設定される。しかも、保護用突起49は、磁
気抵抗効果膜59に隣接して磁気抵抗効果膜の幅Wで仕
切られる領域61に向かって直進する気流58を遮るこ
とが望まれる。ここで、入射角θは、スライダ本体前後
方向を決定する前後方向基準線62から浮上面26の平
面視で時計回りに測定されればよい。
2は、前後方向基準線62に直交する垂直仮想平面63
に前側基準線54で交差する平面に沿って広がる。この
平面と垂直仮想平面63との間には、入射角θの絶対量
よりも大きな交差角度γが確立される。したがって、第
1前側壁面52は、浮上面26に受け止められる気流5
8の全ての入射角θ(例えば0°〜20°)にわたっ
て、垂直方向から気流58を受け止めることはない。
スク13上の最内周トラックに対して浮上ヘッドスライ
ダ18が位置決めされると、例えば入射角θ=−10°
〜−20°程度の範囲で第1後方空気軸受け面36aに
向かって気流58は流入する。このとき、保護用突起4
9の大きさは、読み出し書き込みヘッド24に含まれる
磁気抵抗効果膜59に向かって直進する気流58を完全
に遮る大きさに設定される。しかも、保護用突起49
は、磁気抵抗効果膜59に隣接して磁気抵抗効果膜の幅
Wで仕切られる領域61に向かって直進する気流58を
遮ることが望まれる。こうして、保護用突起49は、浮
上面26に受け止められる気流58の全ての入射角θ
(例えば−20°〜20°)にわたって、磁気抵抗効果
膜59および隣接する領域61に向かって直進する気流
58を遮ることができる。
3は、前後方向基準線62に直交する垂直仮想平面63
に前側基準線54で交差する平面に沿って広がる。この
平面と垂直仮想平面63との間には、入射角θの絶対量
よりも大きな交差角度ηが確立される。したがって、第
1前側壁面52は、浮上面26に受け止められる気流5
8の全ての入射角θ(例えば−20°〜0°)にわたっ
て、垂直方向から気流58を受け止めることはない。
気ディスク13の表面に沿って気流が生成される場面を
想定する。磁気ディスク13の表面に浮上ヘッドスライ
ダ18が向き合わせられると、気流の働きで浮上ヘッド
スライダ18には浮力が生成される。磁気ディスク13
の回転が定常状態に進入すると、図7に示されるよう
に、スライダ本体23の空気流出端は磁気ディスク13
の表面に平行な軌道面64に沿って移動する。磁気ディ
スク13の回転が規定の回転速度に維持される限り、ス
ライダ本体23の浮上高さは変動しない。
き込みヘッド24には書き込み信号すなわち電流が供給
される。電流の供給に応じて、例えば読み出し書き込み
ヘッド24に含まれる薄膜コイルパターンでは磁界が生
成される。生成された磁界は磁性コアの働きで第1後方
空気軸受け面36aから漏れ出る。こうして漏れ出る磁
界の働きで磁気ディスク13に磁気情報は書き込まれ
る。
供給に応じて発熱が引き起こされる。書き込み信号の周
波数が高まれば高まるほど、薄膜コイルパターンの発熱
量は増大する。薄膜コイルパターンの発熱はヘッド素子
内蔵膜25の熱膨張を引き起こす。その結果、図7から
明らかなように、ヘッド素子内蔵膜25は磁気ディスク
13の表面に向かって大きく隆起する。読み出し書き込
みヘッド24の先端は第1後方空気軸受け面36aより
も過度に磁気ディスク13に接近する。こうして磁気デ
ィスク13の表面と読み出し書き込みヘッド24(特に
磁気抵抗効果膜)との間には書き込み時浮上高さHwが
確立される。読み出し書き込みヘッド24の先端は、空
気流出端の軌道面64よりも磁気ディスク13に近い軌
道65を辿る。
では、保護用突起49の浮上高さHpは書き込み時浮上
高さHwよりも小さく設定される。したがって、保護用
突起49の頂上は、ヘッド素子内蔵膜25の熱膨張時で
あっても読み出し書き込みヘッド24の軌道65よりも
磁気ディスク13に近い軌道面66を辿る。磁気ディス
ク13の表面に突起やコンタミネーションといった障害
物が存在しても、保護用突起49は読み出し書き込みヘ
ッド24の前方で障害物に衝突することができる。こう
して読み出し書き込みヘッド24は保護用突起49の背
後で障害物との衝突から保護されることができる。磁気
抵抗効果膜59ではサーマルアスペリティの発生は阻止
されることができる。
浮上面26に受け止められる気流の全ての入射角θにわ
たって、磁気抵抗効果膜59および隣接する領域61に
向かって直進する気流58を遮る。すなわち、いずれの
入射角θでコンタミネーションその他の障害物が浮上面
26に進入してきても、保護用突起49は確実に読み出
し書き込みヘッド24の前方で障害物に衝突することが
できる。読み出し書き込みヘッド24は確実に保護され
る。本発明者の検証によれば、コンタミネーションその
他の障害物が直接に磁気抵抗効果膜59に衝突しなくと
も、隣接する領域61にコンタミネーションその他の障
害物が衝突すると磁気抵抗効果膜59には悪影響が及ぶ
ことが確認された。保護用突起49は、磁気抵抗効果膜
59だけでなく、隣接する領域61でもコンタミネーシ
ョンその他の衝突を阻止することから、磁気抵抗効果膜
59の保護は一層確実に実現されることができる。
でコンタミネーションが浮上面26に進入してきても、
コンタミネーションは垂直方向から第1および第2前側
壁面52、53に衝突することはない。第1および第2
前側壁面52、53は必ず傾斜方向からコンタミネーシ
ョンを受け止める。コンタミネーションは第1および第
2前側壁面52、53から外周側や内周側にはじき出さ
れやすい。したがって、コンタミネーションと読み出し
書き込みヘッド24との衝突は一層確実に回避されるこ
とができる。仮に、コンタミネーションが垂直方向から
第1および第2前側壁面52、53に衝突すると、コン
タミネーションはスライダ本体23と磁気ディスク13
の表面との間に巻き込まれることがある。こうして巻き
込まれたコンタミネーションは読み出し書き込みヘッド
24に衝突してしまう。
スク13の表面に接触する場面を想定する。通常、スラ
イダ本体23は4つの支持突起45、46a、46bで
磁気ディスク13の表面に支持される。前方空気軸受け
面33並びに第1および第2後方空気軸受け面36a、
36bと磁気ディスク13との接触は回避される。した
がって、空気軸受け面33、36a、36bで磁気ディ
スク13の表面に接触する場合に比べて、スライダ本体
23と磁気ディスク13との接触面積は著しく減少す
る。その結果、磁気ディスク13の表面に広がる潤滑剤
すなわち潤滑油膜からスライダ本体23に作用する吸着
力(いわゆるメニスカス効果)は著しく弱められる。
体23に2つの後方支持突起46a、46bを支点にモ
ーメントMが働く場面を想定する。こうしたモーメント
Mが作用すると、スライダ本体23では空気流入端が磁
気ディスク13から遠ざかる。こういった状態で浮上ヘ
ッドスライダ18が磁気ディスク13の表面に接触する
と、スライダ本体23は前方支持突起45を浮かせたま
ま後方支持突起46a、46bで磁気ディスク13の表
面に受け止められる。同時に、第1後方支持突起46a
の後方で保護用突起49の頂上端は磁気ディスク13の
表面に受け止められる。こうしてスライダ本体23と磁
気ディスク13との間で接触面積の増大は回避される。
しかも、第2後方支持突起46bの後方では第2後方空
気軸受け面36bの空気流出端が磁気ディスク13の表
面に受け止められるものの、溝48の働きで潤滑剤のは
い上がりは阻止される。したがって、吸着力(いわゆる
メニスカス効果)や摩擦力の増大は確実に回避されるこ
とができる。
8の製造方法を簡単に説明する。まず、例えばアルチッ
ク(Al2 O3 −TiC)製のウェハーが用意される。
ウェハーの表面には予めアルミナ(Al2 O3 )膜が積
層される。このアルミナ膜の表面で、周知の通りに、多
数の読み出し書き込みヘッド24は構築されていく。読
み出し書き込みヘッド24は1浮上ヘッドスライダ18
に切り出される1ブロックごとに構築される。構築され
た読み出し書き込みヘッド24はアルミナ膜に覆われ
る。こうしてウェハー上では、厚み50μm程度のアル
ミナ膜に埋め込まれた読み出し書き込みヘッド24が得
られる。
築されると、ウェハーからいわゆるウェハーバーは切り
出される。個々のウェハーバーには1列のブロックが含
まれる。切り出されたウェハーバーの切断面には個々の
ブロックごとに浮上ヘッドスライダ18の浮上面26が
形作られていく。その後、ウェハーバーから個々のブロ
ックごとに浮上ヘッドスライダ18は切り出される。
の形成にあたって、まず、ウェハーバー71の切断面に
は各ブロック72ごとに支持突起45、46a、46b
の先端部分が削り出される。削り出しに先立って、ウェ
ハーバー71の切断面にはDLC(ダイヤモンドライク
カーボン)層が被膜されてもよい。DLC層の被覆にあ
たってSi密着層またはSiC密着層は下敷きされる。
DLC層は支持突起45、46a、46bの先端で硬質
な保護膜を形成する。
にあたって、ウェハーバー71の切断面には、各支持突
起45、46a、46bの外形形状を象ったフォトレジ
スト膜(図示されず)が形成される。例えば反応性イオ
ンエッチング(RIE)が実施されると、フォトレジス
ト膜の周囲でウェハーバー71は削り取られていく。そ
の結果、フォトレジスト膜の下方で支持突起45、46
a、46bの先端部分は削り出される。形成後、フォト
レジスト膜は除去される。
バー71の切断面には保護用突起49が形成される。こ
の形成にあたっていわゆるリフトオフが用いられる。リ
フトオフの詳細は後述される。
ク72を横切る溝73が形成される。この溝73は浮上
ヘッドスライダ18の溝47、48に対応する。ウェハ
ーバー71の切断面には再びフォトレジスト膜(図示さ
れず)が形成される。このフォトレジスト膜では、溝7
3の形状を象った空間が規定される。しかも、フォトレ
ジスト膜は、その空間内で、保護用突起49の頂上面を
覆う。例えば反応性イオンエッチング(RIE)が実施
されると、フォトレジスト膜の周囲でウェハーバー71
は削り取られていく。その結果、フォトレジスト膜の間
で溝73は刻まれる。溝73内には保護用突起49が残
存する。溝73の形成後、フォトレジスト膜は除去され
る。
軸受け面33、36a、36bは削り出される。削り出
しにあたって、ウェハーバー71の切断面には、支持突
起45、46a、46bの外形形状を象ったフォトレジ
スト膜(図示されず)や、空気軸受け面33、36a、
36bの外形形状を象ったフォトレジスト膜(図示され
ず)が形成される。例えば反応性イオンエッチング(R
IE)が実施されると、フォトレジスト膜の周囲でウェ
ハーバー71は削り取られていく。その結果、フォトレ
ジスト膜の下方で支持突起45、46a、46bおよび
空気軸受け面33、36a、36bは削り出される。形
成後、フォトレジスト膜は除去される。
レール31a、31bは削り出される。削り出しにあた
って、ウェハーバー71の切断面には、各レール29、
31a、31bの外形形状を象ったフォトレジスト膜
(図示されず)が形成される。例えば反応性イオンエッ
チング(RIE)が実施されると、フォトレジスト膜の
周囲でウェハーバー71は削り取られていく。その結
果、フォトレジスト膜の下方でフロントレール29およ
びリアレール31a、31bは削り出される。レール2
9、31a、31bの頂上面には、空気軸受け面33、
36a、36bや支持突起45、46a、46b、保護
用突起49が残存する。形成後、フォトレジスト膜は除
去される。
されるように、ウェハーバー71の切断面に形成される
フォトレジスト膜74では、保護用突起49の形状を象
った空間75が規定される。このとき、空間75は保護
用突起49の外形よりも一回り大きく形成される。その
後、ウェハーバー71の切断面では一様に所定の材料が
積層される。積層には例えばスパッタリングが用いられ
ればよい。その結果、空間75内には保護用突起49の
素材76が形成される。空間75では、フォトレジスト
膜75の壁面に沿って素材76の頂上面から立ち上がる
バリ77が形成される。その後、フォトレジスト膜74
は除去される。フォトレジスト膜74上に積層された材
料は同時に除去される。
あたって素材76の頂上面にはフォトレジスト膜78が
形成される。フォトレジスト膜78は正確に保護用突起
49の外形形状を象る。前述のようにRIEが実施され
ると、素材76の外周は削り取られていく。こうしてバ
リ77は除去される。ウェハーバー71の切断面から立
ち上がる保護用突起49は得られる。
8はヘッドサスペンション19の先端に取り付けられ
る。このとき、製造された浮上ヘッドスライダ18で
は、保護用突起49の高さは、HDD11に組み込まれ
る際に確立される規定の高さTpよりも高い高さTrで
形成される。その後、HDD11に組み込まれる際と同
等な条件で、浮上ヘッドスライダ18は研磨用ディスク
に向き合わせられる。
定される規定の回転速度で研磨用ディスク79が回転す
ると、浮上ヘッドスライダ18は、HDD11に組み込
まれる際に確立される規定の浮上高さHrで研磨用ディ
スク79の表面から浮上する。前述と同様に、スライダ
本体23の空気流出端は研磨用ディスク79に平行な規
定の軌道面64に沿って移動する。その一方で、規定の
回転速度よりも低い研磨用回転速度で研磨用ディスク7
9が回転すると、浮上ヘッドスライダ18は、HDD1
1に組み込まれる際に確立される浮上高さHrよりも低
い浮上高さHLまで研磨用ディスク79の表面に向かっ
て接近する。この接近に伴い、保護用突起49の先端は
研磨用ディスク79の表面に接触する。こうした保護用
突起49と研磨用ディスク79との接触に基づき保護用
突起49の先端は削り取られる。こうした研磨の結果、
保護用突起49の高さは規定の高さTpまで削り込まれ
ることができる。こうして保護用突起49の高さは調整
される。
転すると、浮上ヘッドスライダ18は正確に浮上高さH
Lで研磨用ディスク79の表面から浮上することができ
る。こうした浮上高さHLに基づき保護用突起49の高
さTpは正確に設定されることができる。こうして製造
された浮上ヘッドスライダ18がHDD11に組み込ま
れると、規定の浮上高さHrと研磨時の浮上高さHLと
の差に基づき保護用突起49の先端の浮上高さは決定さ
れることができる。HDD11では、保護用突起49の
先端は規定の浮上高さで磁気ディスク13の表面から浮
上し続けることができる。
8がHDD11に組み込まれる以前に実施されればよ
い。ただし、こういった研磨はHDD11内で実現され
てもよい。この場合には、HDD11に組み込まれる磁
気ディスク13は研磨用ディスクとして機能する。
うな形態の浮上ヘッドスライダ18だけでなく、その他
の形態に係るヘッドスライダに適用されてもよい。しか
も、前述のような浮上ヘッドスライダ18は、HDD1
1といった磁気ディスク駆動装置だけでなく、その他の
種類の記録媒体駆動装置に組み込まれてもよい。
録媒体に向き合わせられ、規定の浮上姿勢で記録媒体か
ら浮上するヘッドスライダと、ヘッドスライダ内でスラ
イダ本体の空気流出側端面に積層される保護膜と、保護
膜に埋め込まれて、媒体対向面で先端を露出させるヘッ
ド素子と、ヘッド素子の空気流入端側で媒体対向面から
立ち上がる保護用突起とを備え、保護用突起は、保護膜
の熱膨張時にヘッド素子で確立される浮上高さよりも小
さい浮上高さで記録媒体から浮上することを特徴とする
記録媒体駆動装置。
装置において、前記保護用突起は空気流入側に向かうに
つれて狭まることを特徴とする記録媒体駆動装置。
媒体駆動装置において、前記保護用突起には、媒体対向
面に直交する前側基準線から、前側基準線よりも空気流
出側で媒体対向面に直交する後側基準線に向かって広が
る前側壁面が形成されることを特徴とする記録媒体駆動
装置。
媒体駆動装置において、前記保護用突起には、媒体対向
面に直交する第1および第2基準線から、第1および第
2基準線の間に確立されて第1および第2基準線よりも
空気流入側で媒体対向面に直交する第3基準線に向かっ
て各々広がる第1および第2前側壁面が形成されること
を特徴とする記録媒体駆動装置。
の記録媒体駆動装置において、前記保護用突起は、前記
媒体対向面で空気軸受け面に刻まれる窪み内に配置され
ることを特徴とする記録媒体駆動装置。
の記録媒体駆動装置において、前記保護用突起は、前記
浮上姿勢の変化に応じて変化する気流の全入射方向にわ
たって、前記ヘッド素子に向かって直進する空気の流れ
を遮る大きさに形成されることを特徴とする記録媒体駆
動装置。
体の空気流出側端面に積層される保護膜と、保護膜に埋
め込まれて、空気軸受け面で先端を露出させるヘッド素
子と、ヘッド素子の空気流入側で空気軸受け面から立ち
上がる保護用突起とを備え、保護用突起は空気流入側に
向かうにつれて狭まることを特徴とするヘッドスライ
ダ。
体の空気流出側端面に積層される保護膜と、保護膜に埋
め込まれて、空気軸受け面で先端を露出させるヘッド素
子と、ヘッド素子の空気流入側で空気軸受け面から立ち
上がる保護用突起とを備え、保護用突起には、空気軸受
け面に直交する前側基準線から、前側基準線よりも空気
流出側で空気軸受け面に直交する後側基準線に向かって
広がる前側壁面が形成されることを特徴とするヘッドス
ライダ。
体の空気流出側端面に積層される保護膜と、保護膜に埋
め込まれて、空気軸受け面で先端を露出させるヘッド素
子と、ヘッド素子の空気流入側で空気軸受け面から立ち
上がる保護用突起とを備え、保護用突起には、空気軸受
け面に直交する第1および第2基準線から、第1および
第2基準線の間に確立されて第1および第2基準線より
も空気流入側で空気軸受け面に直交する第3基準線に向
かって各々広がる第1および第2前側壁面が形成される
ことを特徴とするヘッドスライダ。
本体の空気流出側端面に積層される保護膜と、保護膜に
埋め込まれて、空気軸受け面で先端を露出させるヘッド
素子と、ヘッド素子の空気流入側で空気軸受け面に刻ま
れる窪みと、窪み内でスライダ本体から立ち上がり、空
気軸受け面よりも高い頂上を規定する保護用突起とを備
えることを特徴とするヘッドスライダ。
記載のヘッドスライダにおいて、前記保護用突起は、前
記浮上姿勢の変化に応じて変化する気流の全入射方向に
わたって、前記ヘッド素子に向かって直進する空気の流
れを遮る大きさに形成されることを特徴とするヘッドス
ライダ。
立される規定の高さよりも高い高さでヘッドスライダの
媒体対向面に突起を形成する工程と、回転する研磨用デ
ィスクの表面にヘッドスライダの媒体対向面を向き合わ
せる工程と、製品に組み込まれる際に確立される浮上高
さよりも低い浮上高さまで研磨用ディスクの表面に向か
ってヘッドスライダを接近させ、研磨用ディスクおよび
突起の接触に基づき突起を研磨する工程とを備えること
を特徴とするヘッドスライダの製造方法。
ライダの製造方法において、前記突起の研磨にあたっ
て、前記研磨用ディスクは、前記製品で実現される回転
速度よりも低い回転速度で回転することを特徴とするヘ
ッドスライダの製造方法。
に記録媒体上の突起物とヘッド素子との衝突は防止され
ることができる。
概略的に示す平面図である。
の構造を概略的に示す拡大斜視図である。
が位置決めされる際に気流と保護用突起との関係を概略
的に示すリアレールの拡大平面図である。
が位置決めされる際に気流と保護用突起との関係を概略
的に示すリアレールの拡大平面図である。
に示す浮上ヘッドスライダの部分拡大側面図である。
イダが磁気ディスクに接触する様子を示す浮上ヘッドス
ライダの側面図である。
突起の先端を加工する工程を概略的に示すウェハーバー
の拡大部分平面図である。
用突起を形成する工程を概略的に示すウェハーバーの拡
大部分平面図である。
形成する工程を概略的に示すウェハーバーの拡大部分平
面図である。
気軸受け面を加工する工程を概略的に示すウェハーバー
の拡大部分平面図である。
的に示すウェハーバーの拡大部分断面図である。
護用突起を概略的に示すウェハーバーの拡大部分断面図
である。
用突起の高さを調整する工程を概略的に示す浮上ヘッド
スライダの拡大部分側面図である。
置(HDD)、13記録媒体としての磁気ディスク、1
8 ヘッドスライダ、23 スライダ本体、24 読み
出し書き込みヘッド(ヘッド素子)25 保護膜として
のヘッド素子内蔵膜、26 媒体対向面すなわち浮上
面、36a 空気軸受け面、47 窪みとしての溝、4
9 保護用突起、52 第1前側壁面、53 第2前側
壁面、54 前側基準線、55 後側基準線、56 後
側基準線、58 気流、79 研磨用ディスク。
Claims (10)
- 【請求項1】 記録媒体と、媒体対向面で記録媒体に向
き合わせられ、規定の浮上姿勢で記録媒体から浮上する
ヘッドスライダと、ヘッドスライダ内でスライダ本体の
空気流出側端面に積層される保護膜と、保護膜に埋め込
まれて、媒体対向面で先端を露出させるヘッド素子と、
ヘッド素子の空気流入側で媒体対向面から立ち上がる保
護用突起とを備え、保護用突起は、保護膜の熱膨張時に
ヘッド素子で確立される浮上高さよりも小さい浮上高さ
で記録媒体から浮上することを特徴とする記録媒体駆動
装置。 - 【請求項2】 請求項1に記載の記録媒体駆動装置にお
いて、前記保護用突起は空気流入側に向かうにつれて狭
まることを特徴とする記録媒体駆動装置。 - 【請求項3】 請求項1または2に記載の記録媒体駆動
装置において、前記保護用突起には、媒体対向面に直交
する前側基準線から、前側基準線よりも空気流出側で媒
体対向面に直交する後側基準線に向かって広がる前側壁
面が形成されることを特徴とする記録媒体駆動装置。 - 【請求項4】 請求項1または2に記載の記録媒体駆動
装置において、前記保護用突起には、媒体対向面に直交
する第1および第2基準線から、第1および第2基準線
の間に確立されて第1および第2基準線よりも空気流入
側で媒体対向面に直交する第3基準線に向かって各々広
がる第1および第2前側壁面が形成されることを特徴と
する記録媒体駆動装置。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載の記録媒
体駆動装置において、前記保護用突起は、前記媒体対向
面で空気軸受け面に刻まれる窪み内に配置されることを
特徴とする記録媒体駆動装置。 - 【請求項6】 請求項1〜5のいずれかに記載の記録媒
体駆動装置において、前記保護用突起は、前記浮上姿勢
の変化に応じて変化する気流の全入射方向にわたって、
前記ヘッド素子に向かって直進する空気の流れを遮る大
きさに形成されることを特徴とする記録媒体駆動装置。 - 【請求項7】 スライダ本体と、スライダ本体の空気流
出側端面に積層される保護膜と、保護膜に埋め込まれ
て、空気軸受け面で先端を露出させるヘッド素子と、ヘ
ッド素子の空気流入側で空気軸受け面から立ち上がる保
護用突起とを備え、保護用突起は空気流入側に向かうに
つれて狭まることを特徴とするヘッドスライダ。 - 【請求項8】 スライダ本体と、スライダ本体の空気流
出側端面に積層される保護膜と、保護膜に埋め込まれ
て、空気軸受け面で先端を露出させるヘッド素子と、ヘ
ッド素子の空気流入側で空気軸受け面から立ち上がる保
護用突起とを備え、保護用突起には、空気軸受け面に直
交する前側基準線から、前側基準線よりも空気流出側で
空気軸受け面に直交する後側基準線に向かって広がる前
側壁面が形成されることを特徴とするヘッドスライダ。 - 【請求項9】 スライダ本体と、スライダ本体の空気流
出側端面に積層される保護膜と、保護膜に埋め込まれ
て、空気軸受け面で先端を露出させるヘッド素子と、ヘ
ッド素子の空気流入側で空気軸受け面から立ち上がる保
護用突起とを備え、保護用突起には、空気軸受け面に直
交する第1および第2基準線から、第1および第2基準
線の間に確立されて第1および第2基準線よりも空気流
入側で空気軸受け面に直交する第3基準線に向かって各
々広がる第1および第2前側壁面が形成されることを特
徴とするヘッドスライダ。 - 【請求項10】 スライダ本体と、スライダ本体の空気
流出側端面に積層される保護膜と、保護膜に埋め込まれ
て、空気軸受け面で先端を露出させるヘッド素子と、ヘ
ッド素子の空気流入側で空気軸受け面に刻まれる窪み
と、窪み内でスライダ本体から立ち上がり、空気軸受け
面よりも高い頂上を規定する保護用突起とを備えること
を特徴とするヘッドスライダ。
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