JP2003287635A - Optical waveguide component - Google Patents
Optical waveguide componentInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光導波路に関する
発明であり、より特定的には、外部の光ファイバと光結
合されて、光を伝播する光導波路に関する発明である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical waveguide, and more specifically to an optical waveguide that propagates light by being optically coupled to an external optical fiber.
【0002】[0002]
【従来の技術】光通信分野において、高度な光信号処理
を行うために各種機能を持つ光集積回路の研究開発が盛
んに行われている。ここで、光導波路は、光集積回路に
おいて重要な部品である。なお、光導波路とは、相対的
に屈折率の高いコア領域を相対的に屈折率の低いクラッ
ド層で覆うことによってコア領域に光を閉じ込めて伝播
させるものである。2. Description of the Related Art In the field of optical communication, research and development of an optical integrated circuit having various functions for performing advanced optical signal processing has been actively conducted. Here, the optical waveguide is an important component in the optical integrated circuit. The optical waveguide is a waveguide in which light is confined and propagated in the core region by covering the core region having a relatively high refractive index with a clad layer having a relatively low refractive index.
【0003】図7は、従来の埋め込み型の三次元光導波
路の製造過程を示した図である。当該三次元光導波路
は、図7(d)に示されるように、相対的に屈折率の高
いガラスであるコア820を、相対的に屈折率の低いガ
ラスである上部クラッド層825で覆ったものである。
以下に、当該従来の埋め込み型三次元光導波路が製造さ
れる手順について、図面を参照しながら説明する。FIG. 7 is a diagram showing a manufacturing process of a conventional embedded type three-dimensional optical waveguide. In the three-dimensional optical waveguide, as shown in FIG. 7D, a core 820 made of glass having a relatively high refractive index is covered with an upper clad layer 825 made of glass having a relatively low refractive index. Is.
The procedure for manufacturing the conventional embedded three-dimensional optical waveguide will be described below with reference to the drawings.
【0004】まず、図7(a)に示されるように、所定
の屈折率を有する下部クラッド層805および当該下部
クラッド層805より高い屈折率を有するコア層810
が、火炎堆積法によって基板800上に形成される。次
に、図7(b)に示されるように、金属薄膜815が、
コア層810上に形成される。その後、図7(c)に示
されるように、金属薄膜815の真下以外のコア層81
0が、エッチング処理によって取り除かれ、さらに、金
属薄膜815が取り除かれる。最後に、図7(d)に示
されるように、上部クラッド層825が、火炎堆積法に
よって、下部クラッド805およびコア820の上に形
成される。これにより、図7(d)に示される従来の埋
め込み型三次元光導波路が完成する。First, as shown in FIG. 7A, a lower cladding layer 805 having a predetermined refractive index and a core layer 810 having a higher refractive index than the lower cladding layer 805.
Are formed on the substrate 800 by the flame deposition method. Next, as shown in FIG. 7B, the metal thin film 815 is
It is formed on the core layer 810. After that, as shown in FIG. 7C, the core layer 81 other than directly below the metal thin film 815 is formed.
0 is removed by the etching process, and further the metal thin film 815 is removed. Finally, as shown in FIG. 7D, the upper clad layer 825 is formed on the lower clad 805 and the core 820 by the flame deposition method. As a result, the conventional embedded type three-dimensional optical waveguide shown in FIG. 7D is completed.
【0005】ここで、下部クラッド805およびコア層
810の形成方法としては、前記の火炎堆積法以外に
も、CVD(Chemical Vapor Depo
siton)法、真空蒸着法およびスパッタ法などが提
案されている。しかし、これらの方法は、いずれも成膜
速度が遅いので、10μm程度の厚膜を形成する場合に
は、長時間を要するという問題を有する。さらに、これ
らの方法では、作成された膜内に大きな応力が発生し、
均一な膜質を得ることが難しいという問題もある。これ
らことから、現在のところ、火炎堆積法が、上記従来の
埋め込み型三次元光導波路の製造方法として最適である
とされている。Here, as a method of forming the lower clad 805 and the core layer 810, in addition to the above-mentioned flame deposition method, CVD (Chemical Vapor Depo) is used.
Sitton method, vacuum deposition method, sputtering method, and the like have been proposed. However, all of these methods have a problem that it takes a long time to form a thick film of about 10 μm because the film forming rate is slow. Furthermore, in these methods, large stress is generated in the formed film,
There is also a problem that it is difficult to obtain a uniform film quality. From these, at present, it is considered that the flame deposition method is the most suitable as a method for manufacturing the above-mentioned conventional embedded three-dimensional optical waveguide.
【0006】また、一般に、コア形状は、シングルモー
ド光ファイバとの結合が考慮されるので、当該コアの高
さおよび厚さは、7〜8μmに設定される。この場合、
クラッドに対するコアの比屈折率差は、シングルモード
光ファイバと同様の0.3%とする場合が多い。これに
対して、クラッドとコアとの比屈折率差を0.4〜0.
75%と大きくして、コアへの光の閉じ込めを強めるこ
とにより、コアの曲げ部の曲率半径を小さくして、光導
波路の小型化および集積化を図る場合がある。[0006] In general, since the core shape is considered to be coupled with a single mode optical fiber, the height and thickness of the core are set to 7 to 8 µm. in this case,
The relative refractive index difference of the core with respect to the clad is often 0.3%, which is the same as in the single mode optical fiber. On the other hand, the relative refractive index difference between the clad and the core is 0.4 to 0.
In some cases, the radius of curvature of the bent portion of the core is reduced by increasing the confinement of light to the core by increasing the ratio to 75% to reduce the size and integration of the optical waveguide.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した火
炎堆積法は、基板あるいは酸水素バーナを移動させなが
ら当該基板上にスートを堆積させるものであるので、膜
厚の制御が難しい。従って、精密な膜厚制御が必要とな
るコア層の形成に当該火炎堆積法が適用される場合に
は、均一な膜厚を得るための高価な制御機構が火炎堆積
法を行う装置に必要となる。その結果として、上記従来
の埋め込み型三次元光導波路の製造コストが上昇する。By the way, in the above-mentioned flame deposition method, soot is deposited on the substrate or the oxyhydrogen burner while moving the substrate, so that it is difficult to control the film thickness. Therefore, when the flame deposition method is applied to the formation of the core layer that requires precise film thickness control, an expensive control mechanism for obtaining a uniform film thickness is required for the apparatus that performs the flame deposition method. Become. As a result, the manufacturing cost of the conventional embedded three-dimensional optical waveguide increases.
【0008】そこで、上記問題点を解決する発明とし
て、特開平11-52159号公報に示される光導波路
の製造方法がある。当該公報には、大量生産が可能であ
る安価な光導波路を製造する方法が開示されている。よ
り具体的には、まず、コアパターン形状を有する溝が、
ガラス基板に型押し成形によって形成される。次に、紫
外線硬化性樹脂が、コア材料として当該形成された溝に
充填される。その後、当該コア材料は、第2のガラス基
板で挟まれ、紫外光が照射されて硬化される。以上の工
程を経て当該光導波路が製造される。当該光導波路の製
造方法によれば、火炎堆積装置等の高価な装置が必要と
ならないので、安価でかつ大量に光導波路を製造するこ
とが可能となる。Therefore, as an invention for solving the above problems, there is an optical waveguide manufacturing method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 11-52159. This publication discloses a method for manufacturing an inexpensive optical waveguide that can be mass-produced. More specifically, first, a groove having a core pattern shape is
It is formed on a glass substrate by stamping. Next, an ultraviolet curable resin is filled in the formed groove as a core material. Then, the core material is sandwiched between the second glass substrates and irradiated with ultraviolet light to be cured. The optical waveguide is manufactured through the above steps. According to the method for manufacturing an optical waveguide, an expensive device such as a flame deposition device is not required, and therefore it is possible to manufacture optical waveguides inexpensively and in large quantities.
【0009】しかし、特開平11―52159号公報記
載の発明においては、基板材料としてガラスが使用さ
れ、コア材料としてポリマーが使用されている。このよ
うに、基板材料とコア材料とが異なる光導波路は、周囲
の温度変化に対して損失が発生しやすいという問題点を
有する。より具体的には、周囲の温度が変化すると、基
板材料とコア材料との屈折率が逆転する。その結果、光
導波路において、大きな光の漏れが発生することがあ
る。以下に、当該現象の詳細について図面を参照しなが
ら説明する。However, in the invention described in JP-A-11-52159, glass is used as the substrate material and polymer is used as the core material. As described above, the optical waveguide in which the substrate material and the core material are different from each other has a problem that loss is likely to occur due to a change in ambient temperature. More specifically, when the ambient temperature changes, the refractive indices of the substrate material and the core material reverse. As a result, large light leakage may occur in the optical waveguide. The details of the phenomenon will be described below with reference to the drawings.
【0010】まず、ガラスの屈折率の温度特性ng
(T)は、ガラスの室温屈折率をng0、温度変化量を
ΔTおよびガラスの屈折率の温度変化係数を5×10-7
としたときに、ng(T)=ng0×(1−5×10-7
ΔT)なる関係式にある。一方、ポリマーの屈折率の温
度特性np(T)は、ポリマーの室温屈折率をnp0お
よびポリマーの屈折率の温度変化係数を6×10-5とし
たときに、np(T)=np0×(1−6×10-5Δ
T)なる関係式にある。なお、これらの数値は代表的な
材料を示している。このように、ポリマーの屈折率の温
度変化係数は、ガラスの屈折率の温度変化係数よりも大
きい。従って、周囲の温度が上昇した場合には、ポリマ
ーを材料とするコアの屈折率が、ガラスを材料とする基
板の屈折率よりも小さくなるという現象が起こり、光が
導波しなくなってしまう。例えば、基板材料がガラスで
ありかつコア材料がポリマーである光導波路がシングル
モード光ファイバと同じ比屈折率差(0.3%)および
同じコア径(8μm角)に設定された場合には、高温に
なるとクラッドとコアの屈折率の逆転が起こり、光が導
波されなくなる。図8は、室温の屈折率がそれぞれ、ガ
ラス基板が1.504であり、ポリマーコアが1.50
7であり、コア幅および厚みがそれぞれ8μmである光
導波路に対するシングルモード光ファイバとの結合損失
の温度特性を示したグラフである。図8に示されるよう
に、結合損失が、70℃付近から急激に大きくなってい
ることがわかる。なお、結合損失が、低温で増加してい
るのは、コアの屈折率がクラッドの屈折率に対して大き
くなりすぎて、高次モードが励振され、シングルモード
光ファイバとのモード不整合による損失が増加している
ためである。First, the temperature characteristic of the refractive index of glass ng
(T) is the room temperature refractive index of ng 0 , the temperature change amount is ΔT, and the glass refractive index temperature change coefficient is 5 × 10 −7.
, Ng (T) = ng 0 × (1-5 × 10 −7)
ΔT). On the other hand, the temperature characteristic np (T) of the refractive index of the polymer is np (T) = np 0 when the room temperature refractive index of the polymer is np 0 and the temperature change coefficient of the refractive index of the polymer is 6 × 10 −5. × (1-6 × 10 -5 Δ
T). Note that these numerical values show typical materials. Thus, the temperature change coefficient of the refractive index of the polymer is larger than the temperature change coefficient of the refractive index of glass. Therefore, when the ambient temperature rises, a phenomenon occurs in which the refractive index of the core made of polymer is smaller than the refractive index of the substrate made of glass, and light is no longer guided. For example, when the optical waveguide in which the substrate material is glass and the core material is a polymer is set to have the same relative refractive index difference (0.3%) and the same core diameter (8 μm square) as the single mode optical fiber, When the temperature becomes high, the refractive indices of the clad and the core are reversed, and the light is not guided. FIG. 8 shows that the glass substrate has a refractive index of 1.504 and the polymer core has a refractive index of 1.50 at room temperature.
7 is a graph showing the temperature characteristic of the coupling loss with the single mode optical fiber for the optical waveguide having the core width and the thickness of 8 μm. As shown in FIG. 8, it can be seen that the coupling loss rapidly increases from around 70 ° C. Note that the coupling loss increases at low temperature because the core refractive index becomes too large relative to the cladding refractive index, and higher-order modes are excited, resulting in loss due to mode mismatch with the single-mode optical fiber. Is increasing.
【0011】そこで、上述した70℃付近における結合
損失の増大を防止する方法として、室温でのコアとクラ
ッドとの比屈折率差を大きくすることにより(例えば比
屈折率差を0.3%から0.5%にする)、光導波路が
使用される温度変化範囲内での屈折率の逆転を防ぐ方法
が考えられる。しかし、比屈折率差が大きくなると、図
9に示されるように光が高次モードに励振され易くな
る。なお、図9は、クラッドとコアとの比屈折率を0.
47%とし、コアの形状を8μm角にしたときの光強度
分布のシミュレーション結果を示した図である。このよ
うな光の高次モードの励振を防止するためには、コア幅
およびコア高さを小さくする方法がある。しかしなが
ら、比屈折率差を大きくしかつ、コア幅およびコアの厚
みを小さくすると、図10に示されるようにモードフィ
ールド径が小さくなる。その結果、シングルモード光フ
ァイバとの結合損失が増加し、さらに、光軸調整が非常
に困難になる。なお、図10は、クラッドとコアの比屈
折率差を0.47%にし、コアの形状を4μm角にした
ときの光強度分布のシミュレーション結果を示した図で
ある。Therefore, as a method of preventing the above-mentioned increase in the coupling loss around 70 ° C., by increasing the relative refractive index difference between the core and the cladding at room temperature (for example, the relative refractive index difference from 0.3% is reduced). A method of preventing the reversal of the refractive index within the temperature change range where the optical waveguide is used can be considered. However, when the relative refractive index difference becomes large, the light is likely to be excited in the higher-order mode as shown in FIG. In FIG. 9, the relative refractive index between the clad and the core is 0.
It is a figure showing the simulation result of light intensity distribution when it was 47% and the shape of the core was 8 μm square. In order to prevent such excitation of higher order modes of light, there is a method of reducing the core width and the core height. However, if the relative refractive index difference is increased and the core width and the core thickness are decreased, the mode field diameter decreases as shown in FIG. As a result, the coupling loss with the single-mode optical fiber increases, and the optical axis adjustment becomes very difficult. FIG. 10 is a diagram showing a simulation result of the light intensity distribution when the relative refractive index difference between the clad and the core is 0.47% and the shape of the core is 4 μm square.
【0012】モードフィールド径の狭小化の問題に対し
て、特開2000−258648号公報には、基板に形
成されたコアの両脇に当該基板の屈折率よりも大きい屈
折率を有するサイドコアを形成することで、導波路のモ
ードフィールド径の拡大を図る発明が開示されている。To solve the problem of narrowing the mode field diameter, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-258648 discloses that side cores having a refractive index higher than that of the substrate are formed on both sides of the core formed on the substrate. By doing so, an invention for increasing the mode field diameter of the waveguide is disclosed.
【0013】しかしながら、特開2000−25864
8号公報記載の方法においては、図11に示されるよう
に、モードフィールド径が拡大するのは、基板表面の水
平方向のみであり、基板表面の垂直方向のモードフィー
ルド径は、依然として小さいままである。従って、光導
波路とシングルモード光ファイバとの高効率の結合は、
困難なままである。なお、図11は、サイドコアを有す
る光導波路において、コアおよびサイドコアとクラッド
との比屈折率を0.47%としたときの光強度分布のシ
ミュレーション結果を示した図である。However, JP-A-2000-25864
In the method described in Japanese Patent Publication No. 8, as shown in FIG. 11, the mode field diameter expands only in the horizontal direction of the substrate surface, and the mode field diameter in the vertical direction of the substrate surface remains small. is there. Therefore, the highly efficient coupling between the optical waveguide and the single mode optical fiber is
It remains difficult. Note that FIG. 11 is a diagram showing a simulation result of a light intensity distribution when the relative refractive index of the core and the side core and the clad is 0.47% in the optical waveguide having the side core.
【0014】そこで、本発明の目的は、コアとクラッド
または基板との比屈折率差が大きい場合でも、シングル
モード光ファイバと高効率で結合できる光導波路を提供
することである。Therefore, an object of the present invention is to provide an optical waveguide which can be coupled with a single mode optical fiber with high efficiency even when the relative refractive index difference between the core and the clad or the substrate is large.
【0015】また、本発明のその他の目的は、火炎堆積
法等の複雑な加工法を用いることなく簡単な加工方法に
よって作成できる光導波路を提供することである。さら
に、本発明のその他の目的は、周囲の温度が変化して
も、光の漏れが発生しにくい光導波路を提供することで
ある。Another object of the present invention is to provide an optical waveguide which can be manufactured by a simple processing method without using a complicated processing method such as a flame deposition method. Still another object of the present invention is to provide an optical waveguide in which light does not easily leak even when the ambient temperature changes.
【0016】[0016]
【課題を解決するための手段】本発明の第1の発明は、
外部の光ファイバと光結合されて、光を伝播する光導波
路であって、所定の屈折率を有する基板と、基板の表面
に埋め込まれた状態で形成され、基板の屈折率より大き
な屈折率を有し、内部に光を伝播するコアと、コアの近
傍に形成され、基板の屈折率より大きな屈折率を有する
補助コアと、コアおよび補助コアを覆うように、基板の
上に形成され、コアの屈折率以下の屈折率を有する薄膜
層とを備える。The first invention of the present invention is as follows:
It is an optical waveguide that propagates light by being optically coupled to an external optical fiber, is formed with a substrate having a predetermined refractive index and a substrate embedded in the surface of the substrate, and has a refractive index larger than that of the substrate. A core that propagates light inside, an auxiliary core that is formed near the core and has a refractive index higher than that of the substrate, and a core that is formed on the substrate to cover the core and the auxiliary core. A thin film layer having a refractive index equal to or lower than the refractive index of.
【0017】上記第1の発明によれば、コアの近傍に補
助コアが設けられ、コアの上部に薄膜層が設けられるの
で、モードフィールド径の拡大が図られると共に多次モ
ードの発生が防止される。より具体的には、コアが小さ
い場合でも、モードフィールドが拡大されて、光ファイ
バと効率よく結合できる。また、コアが大きい場合で
も、多次モードが防止されるので、本実施形態にかかる
光導波路と光ファイバとが効率よく結合可能となる。According to the first aspect of the present invention, since the auxiliary core is provided in the vicinity of the core and the thin film layer is provided on the upper part of the core, the mode field diameter can be increased and the occurrence of multi-order modes can be prevented. It More specifically, even when the core is small, the mode field is expanded and can be efficiently coupled with the optical fiber. Further, even if the core is large, multi-order modes are prevented, so that the optical waveguide according to the present embodiment and the optical fiber can be efficiently coupled.
【0018】本発明の第2の発明は、第1の発明に従属
する発明であって、薄膜層上に形成され、薄膜層より小
さな屈折率を有するクラッド層をさらに備える。A second invention of the present invention is an invention subordinate to the first invention, further comprising a cladding layer formed on the thin film layer and having a refractive index smaller than that of the thin film layer.
【0019】上記第2の発明によれば、薄膜層上にクラ
ッドが設けられるので、薄膜層が保護される。また、空
気層が薄膜層上に接しなくなるので、薄膜層上部の境界
面における全反射が緩和される。その結果、モードフィ
ールドの形状が円形に近づけられ、光導波路が、光ファ
イバと容易に高効率で結合される。According to the second aspect of the invention, since the clad is provided on the thin film layer, the thin film layer is protected. Further, since the air layer is not in contact with the thin film layer, total reflection at the boundary surface above the thin film layer is alleviated. As a result, the shape of the mode field is approximated to a circle, and the optical waveguide is easily and efficiently coupled with the optical fiber.
【0020】本発明の第3の発明は、第1の発明に従属
する発明であって、補助コアは、コアを導波する光の進
行方向に対して垂直な断面において、コアの両側方に位
置するように形成されることを特徴とする。A third invention of the present invention is an invention subordinate to the first invention, wherein the auxiliary core is provided on both sides of the core in a cross section perpendicular to a traveling direction of light guided through the core. It is characterized in that it is formed so as to be located.
【0021】上記第3の発明によれば、補助コアが、コ
アを導波する光の進行方向に対して垂直な断面におい
て、コアの両側方に位置するように形成されるので、モ
ードフィールド径がコアの両側方に拡大される。その結
果、モードフィールドの形状が円形に近づけられ、光導
波路が、光ファイバと容易に高効率で結合される。According to the third aspect of the invention, since the auxiliary core is formed so as to be positioned on both sides of the core in the cross section perpendicular to the traveling direction of the light guided through the core, the mode field diameter is reduced. Are expanded to both sides of the core. As a result, the shape of the mode field is approximated to a circle, and the optical waveguide is easily and efficiently coupled with the optical fiber.
【0022】本発明の第4の発明は、第3の発明に従属
する発明であって、補助コアは、基板の表面に埋め込ま
れた状態で形成されることを特徴とする。A fourth invention of the present invention is an invention subordinate to the third invention, characterized in that the auxiliary core is formed in a state of being embedded in the surface of the substrate.
【0023】上記第4の発明によれば、補助コアが基板
の表面に埋め込まれて形成されるので、補助コアの形成
が容易になる。より具体的には、基板に補助コアパター
ンが形成されて、当該補助コアパターンに光学部材を充
填するという処理によって、補助コアが作成可能とな
る。According to the fourth aspect of the invention, since the auxiliary core is formed by being embedded in the surface of the substrate, the auxiliary core can be easily formed. More specifically, the auxiliary core pattern can be formed by the process of forming the auxiliary core pattern on the substrate and filling the auxiliary core pattern with the optical member.
【0024】本発明の第5の発明は、第4の発明に従属
する発明であって、コア、補助コアおよび薄膜層は、同
一の素材によって形成されることを特徴とする。A fifth invention of the present invention is an invention subordinate to the fourth invention, characterized in that the core, the auxiliary core and the thin film layer are formed of the same material.
【0025】上記第5の発明によれば、コア、補助コア
および薄膜層が同一素材によって作成されるので、これ
らを同時に同一の作成方法によって形成することが可能
となる。より具体的には、コア、補助コアおよび薄膜層
が、スピンコート法によって、同時に作成可能となる。According to the fifth aspect, since the core, the auxiliary core and the thin film layer are made of the same material, they can be simultaneously formed by the same making method. More specifically, the core, the auxiliary core and the thin film layer can be simultaneously formed by the spin coating method.
【0026】本発明の第6の発明は、第1の発明に従属
する発明であって、コアの屈折率と基板の屈折率との比
屈折率差が、光結合される光ファイバのコアとクラッド
との比屈折率差より大きいことを特徴とする。A sixth invention of the present invention is an invention subordinate to the first invention, wherein the relative refractive index difference between the refractive index of the core and the refractive index of the substrate is the optical fiber core to be optically coupled. It is characterized in that it is larger than the relative refractive index difference with the clad.
【0027】上記第6の発明によれば、コアの屈折率と
基板の屈折率との比屈折率差が、光ファイバのコアとク
ラッドとの比屈折率差より大きいので、コアへの光の閉
じ込めを強化することが可能である。一方、上記第1の
発明において、補助コア等が設けられることで、モード
フィールド径の拡大が図られている。すなわち、これら
を組み合わせることで、モードフィールドの形状の調整
が可能となる。その結果、光ファイバと効率よく結合可
能な光導波路の作成が可能となる。According to the sixth aspect of the invention, since the relative refractive index difference between the refractive index of the core and the refractive index of the substrate is larger than the relative refractive index difference between the core and the clad of the optical fiber, the light to the core is It is possible to strengthen the containment. On the other hand, in the above-mentioned first invention, the mode field diameter is enlarged by providing the auxiliary core and the like. That is, by combining these, the shape of the mode field can be adjusted. As a result, it becomes possible to create an optical waveguide that can be efficiently coupled with an optical fiber.
【0028】本発明の第7の発明は、第1の発明に従属
する発明であって、コア、補助コアおよび薄膜層は、そ
れぞれの屈折率の温度変化係数が略同一である素材によ
って形成されることを特徴とする。A seventh invention of the present invention is an invention subordinate to the first invention, wherein the core, the auxiliary core and the thin film layer are formed of materials having substantially the same temperature change coefficient of refractive index. It is characterized by
【0029】上記第7の発明によれば、コア、補助コア
および薄膜層が、それぞれの屈折率の温度変化係数が略
同一である素材によって形成されるので、周囲の温度が
変化しても、コア周辺の基板の屈折率と当該コアの屈折
率との差が大きく変わることがなくなる。その結果、光
導波路における光の損失が発生しにくくなる。According to the seventh aspect of the invention, since the core, the auxiliary core and the thin film layer are made of materials having the same temperature change coefficient of the refractive index, even if the ambient temperature changes, The difference between the refractive index of the substrate around the core and the refractive index of the core does not change significantly. As a result, light loss in the optical waveguide is less likely to occur.
【0030】本発明の第8の発明は、第2の発明に従属
する発明であって、基板は、ポリマーで形成されてお
り、コア、補助コアおよびクラッドは、SiO2を主成
分とするガラスで形成されていることを特徴とする。An eighth invention of the present invention is an invention subordinate to the second invention, wherein the substrate is made of a polymer, and the core, the auxiliary core and the clad are glass containing SiO 2 as a main component. It is characterized by being formed by.
【0031】上記第8の発明によれば、基板がポリマー
で形成されているので、当該基板を安価で作成すること
が可能となる。また、コア、補助コアおよびクラッド
が、ガラスで作成されるので、損失が少なく信頼性の高
い光導波路の作成が可能となる。さらに、コア、補助コ
アおよびクラッドが同一の素材によって作成されるの
で、周囲の温度が変換しても、コア周辺の基板の屈折率
と当該コアの屈折率との差が大きく変わることがなくな
る。その結果、当該光導波路における光の漏れが発生し
にくくなる。According to the eighth aspect of the invention, since the substrate is made of polymer, the substrate can be manufactured at low cost. Further, since the core, the auxiliary core, and the clad are made of glass, it is possible to produce a highly reliable optical waveguide with little loss. Furthermore, since the core, the auxiliary core, and the clad are made of the same material, the difference between the refractive index of the substrate around the core and the refractive index of the core does not change significantly even if the ambient temperature changes. As a result, it becomes difficult for light to leak in the optical waveguide.
【0032】本発明の第9の発明は、第2の発明に従属
する発明であって、コア、補助コアおよびクラッドは、
ポリマーで形成されていることを特徴とする。A ninth invention of the present invention is an invention subordinate to the second invention, wherein the core, the auxiliary core and the clad are
It is characterized by being formed of a polymer.
【0033】上記第9の発明によれば、コア、補助コア
およびクラッドがポリマーで形成されているので、これ
らが安価で容易に作成可能となる。また、コア、補助コ
アおよびクラッドが同一の素材によって作成されるの
で、周囲の温度が変換しても、コア周辺の基板の屈折率
と当該コアの屈折率との差が大きく変わることがなくな
る。その結果、当該光導波路における光の漏れが発生し
にくくなる。According to the ninth aspect of the invention, since the core, the auxiliary core and the clad are made of polymer, they can be easily manufactured at low cost. Further, since the core, the auxiliary core, and the clad are made of the same material, even if the ambient temperature is changed, the difference between the refractive index of the substrate around the core and the refractive index of the core does not significantly change. As a result, it becomes difficult for light to leak in the optical waveguide.
【0034】[0034]
【発明の実施の形態】以下、本発明にかかる実施形態に
ついて、図面を参照しながら説明する。図1は、本発明
の実施形態にかかる光導波路の外観射視図である。図1
に示される光導波路は、基板10、コア20、サイドコ
ア30A、サイドコア30B、薄膜層40および上部ク
ラッド50を備える。なお、請求項中では、当該サイド
コア30Aおよびサイドコア30Bを補助コアと称して
いる。基板10上には、コア20、サイドコア30A、
サイドコア30Bおよび薄膜層40が形成される。当該
基板10の材質には、石英系ガラス、LiNbO3、L
iTaO3、ZnO、PLZT、金属酸化物(Ta
2O5)および有機系ポリマーなどが用いられる。コア2
0は、内部に光を伝播し、上記基板10よりも大きい屈
折率を有する材質で作成される。当該コア20の材質に
は、例えば、Ge−SiO2、アクリル系紫外線硬化樹
脂およびフッ素化ポリイミドが用いられる。サイドコア
30Aおよびサイドコア30Bは、モードフィールド径
を基板10表面に対して水平方向に拡大する役割を果た
し、コア20と同様に基板10よりも大きい屈折率を有
する材質で作成される。薄膜層40は、モードフィール
ド径を基板10表面に対して垂直方向に拡大する役割を
果たし、コア20と同様に基板10よりも大きい屈折率
を有する材質で作成される。上部クラッド50は、薄膜
層40上に形成され、その材質には、コア20よりも小
さい屈折率有する材質が用いられる。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an external perspective view of an optical waveguide according to an embodiment of the present invention. Figure 1
The optical waveguide shown in is provided with a substrate 10, a core 20, a side core 30A, a side core 30B, a thin film layer 40, and an upper clad 50. In the claims, the side cores 30A and 30B are referred to as auxiliary cores. On the substrate 10, the core 20, the side core 30A,
The side core 30B and the thin film layer 40 are formed. The material of the substrate 10 is quartz glass, LiNbO 3 , L
iTaO 3 , ZnO, PLZT, metal oxide (Ta
2 O 5 ) and organic polymers are used. Core 2
0 is made of a material that propagates light inside and has a refractive index larger than that of the substrate 10. As the material of the core 20, for example, Ge—SiO 2 , acrylic ultraviolet curing resin, and fluorinated polyimide are used. The side cores 30A and 30B play a role of enlarging the mode field diameter in the horizontal direction with respect to the surface of the substrate 10, and are made of a material having a refractive index larger than that of the substrate 10 like the core 20. The thin film layer 40 plays a role of expanding the mode field diameter in the direction perpendicular to the surface of the substrate 10, and is made of a material having a refractive index larger than that of the substrate 10 like the core 20. The upper clad 50 is formed on the thin film layer 40, and the material thereof has a refractive index smaller than that of the core 20.
【0035】ここで、サイドコア30A、サイドコア3
0Bおよび薄膜層40が設けられると、モードフィール
ド径が拡大する理由について説明する。当該モードフィ
ールド径は、基板10とコア20との比屈折率差に依存
している。より具体的には、基板10とコア20との比
屈折率差が大きいと、光がコア20に強く閉じ込められ
て、モードフィールド径は小さなものとなる。一方、基
板10とコア20との比屈折率差が小さいと、光がコア
20に強く閉じ込められることがなくなるので、モード
フィールド径は大きなものとなる。従って、モードフィ
ールド径を大きくしたい場合には、基板10とコア20
との比屈折率差を小さくすればよい。しかし、従来技術
において説明した通り、基板10とコア20との比屈折
率差を小さくすれば、周囲の温度変化によって、基板1
0の屈折率の大きさとコア20の屈折率の大きさとが逆
転してしまい、光導波路が光を導波しなくなる。この問
題を解決すべく、本実施形態にかかる光導波路では、サ
イドコア30A、サイドコア30Bおよび薄膜層40
が、コア20の周囲に設けられる。これによると、コア
20周辺の基板10の屈折率は、サイドコア30Aとサ
イドコア30Bと薄膜層40と基板10とが混合された
状態の屈折率とみなすことができ、本来の基板10の屈
折率より大きくなったものとみなすことができる。その
結果、コア20と当該コア20周辺の基板10との比屈
折率が小さくなったものとみなすことができので、光導
波路のモードフィールド径が拡大される。また、サイド
コア30A、サイドコア30Bおよび薄膜層40が同一
の光学部材により形成されることで、当該光導波路の周
囲の温度が変化した場合でも、コア20周辺の基板10
の屈折率の大きさとコア20の屈折率の大きさとが逆転
しにくくなる。従って、光導波路の周囲の温度が変化し
ても、当該光導波路において、光の損失が発生しにくく
なる。これは、コア20周辺の基板10の屈折率の温度
変化係数が、サイドコア30Aとサイドコア30Bと薄
膜層40と基板10とが混合された状態での屈折率の温
度変化係数とみなすことができ、その結果、当該コア2
0周辺の基板の温度変化係数と、コア20の屈折率の温
度変化係数とが大きく変わらなくなるからである。Here, the side core 30A and the side core 3
The reason why the mode field diameter increases when 0B and the thin film layer 40 are provided will be described. The mode field diameter depends on the relative refractive index difference between the substrate 10 and the core 20. More specifically, when the relative refractive index difference between the substrate 10 and the core 20 is large, light is strongly confined in the core 20, and the mode field diameter becomes small. On the other hand, when the relative refractive index difference between the substrate 10 and the core 20 is small, light is not strongly confined in the core 20, so the mode field diameter becomes large. Therefore, when it is desired to increase the mode field diameter, the substrate 10 and the core 20
It suffices to reduce the relative refractive index difference between and. However, as described in the related art, if the relative refractive index difference between the substrate 10 and the core 20 is reduced, the substrate 1 may be changed due to the ambient temperature change.
The magnitude of the refractive index of 0 and the magnitude of the refractive index of the core 20 are reversed, and the optical waveguide does not guide light. In order to solve this problem, in the optical waveguide according to this embodiment, the side core 30A, the side core 30B, and the thin film layer 40 are included.
Are provided around the core 20. According to this, the refractive index of the substrate 10 around the core 20 can be regarded as the refractive index in a state in which the side core 30A, the side core 30B, the thin film layer 40, and the substrate 10 are mixed, and is more than the original refractive index of the substrate 10. It can be regarded as a grown one. As a result, it can be considered that the relative refractive index between the core 20 and the substrate 10 around the core 20 is reduced, and the mode field diameter of the optical waveguide is expanded. Further, since the side core 30A, the side core 30B, and the thin film layer 40 are formed of the same optical member, even if the temperature around the optical waveguide changes, the substrate 10 around the core 20 does not change.
It becomes difficult for the magnitude of the refractive index of and the magnitude of the refractive index of the core 20 to be reversed. Therefore, even if the temperature around the optical waveguide changes, light loss is unlikely to occur in the optical waveguide. This can be regarded as the temperature change coefficient of the refractive index of the substrate 10 around the core 20 as the temperature change coefficient of the refractive index when the side core 30A, the side core 30B, the thin film layer 40 and the substrate 10 are mixed. As a result, the core 2
This is because the temperature change coefficient of the substrate around 0 and the temperature change coefficient of the refractive index of the core 20 do not significantly change.
【0036】なお、コア20、サイドコア30A、サイ
ドコア30Bおよび薄膜層40は、それぞれ別の光学部
材によって形成されてもよい。ただし、これらが別の素
材で形成される場合には、それぞれ光学部材の屈折率の
温度変化係数が同程度であることが好ましい。The core 20, the side core 30A, the side core 30B, and the thin film layer 40 may be formed of different optical members. However, when they are formed of different materials, it is preferable that the temperature change coefficients of the refractive index of the optical members are similar to each other.
【0037】以上のように構成された光導波路につい
て、以下に図面を参照しながらその製造過程について説
明する。図2は、当該光導波路の製造過程を示した図で
ある。The manufacturing process of the optical waveguide configured as described above will be described below with reference to the drawings. FIG. 2 is a diagram showing a manufacturing process of the optical waveguide.
【0038】まず、図2(a)に示されるように、基板
10には、凹型のコアパターン100、サイドコアパタ
ーン110Aおよびサイドコアパターン110Bが形成
される。これらの溝の形成方法としては、パターンが凸
型に形成された金型を基板10に対して圧着して当該パ
ターンを転写する方法が用いられる。なお、当該基板1
0の材料には、上述した通り、石英系ガラス、LiNb
O3、LiTaO3、ZnO、PLZT、金属酸化物(T
a2O5)および有機系ポリマー等が用いられる。First, as shown in FIG. 2A, a concave core pattern 100, side core patterns 110A and side core patterns 110B are formed on the substrate 10. As a method for forming these grooves, there is used a method in which a mold having a convex pattern is pressed onto the substrate 10 to transfer the pattern. The substrate 1
As described above, the material of No. 0 is silica glass, LiNb.
O 3 , LiTaO 3 , ZnO, PLZT, metal oxide (T
a 2 O 5 ) and organic polymers are used.
【0039】次に、図2(b)に示されるように、凹型
のコアパターン100中に、基板10よりも屈折率の大
きな光学部材が充填されて、コア20が作成される。な
お、当該光学部材には、上述した通り、Ge−SiO2
系の光学部材、アクリル系紫外線硬化樹脂およびフッ素
化ポリイミド等が用いられる。ここで、当該光学部材を
充填する方法としては、スピンコート法が挙げられる。
なお、当該光学部材を充填する方法として、上記スピン
コート法以外に、火炎堆積法や蒸着法が用いられてもよ
い。それでは、以下に、上記光学部材の充填について詳
しく説明する。Next, as shown in FIG. 2B, the concave core pattern 100 is filled with an optical member having a refractive index larger than that of the substrate 10 to form the core 20. Incidentally, in the optical member, as described above, Ge-SiO 2
System optical members, acrylic ultraviolet curable resins, fluorinated polyimides and the like are used. Here, as a method of filling the optical member, a spin coating method can be mentioned.
In addition to the spin coating method, a flame deposition method or a vapor deposition method may be used as a method for filling the optical member. Now, the filling of the optical member will be described in detail below.
【0040】まず、上記光学部材が、スピンコート法に
よって基板10上に塗布される。これにより、コアパタ
ーン100だけでなくサイドコアパターン110Aおよ
びサイドコアパターン110Bに対しても同時に上記光
学部材が充填可能となる。その上、薄膜層40の形成も
同時に行うことが可能となるので、本実施形態にかかる
光導波路の製造時間の短縮が図られる。また、コア2
0、サイドコア30Aおよびサイドコア30Bが同一の
光学部材で形成されることにより、これらの屈折率の温
度変化係数が同一になる。その結果、コア20周辺の基
板10の屈折率の温度変換係数は、コア20の屈折率の
温度変化係数に近づく。また、当該スピンコート法によ
れば、火炎堆積法等に比べて装置が簡単なものですむの
で、製造コストの削減も図られる。なお、薄膜層40の
膜厚は、塗布される光学部材の粘性係数とスピナーの回
転数で制御することが可能である。なお、Ge−SiO
2系の光学部材がコア20等の材料として用いられる場
合には、ゾル−ゲル法によってゲル化されたGe−Si
O2系の光学部材が、スピンコート法によって基板10
上に塗布される。First, the optical member is applied onto the substrate 10 by the spin coating method. As a result, not only the core pattern 100 but also the side core patterns 110A and 110B can be filled with the optical member at the same time. In addition, since the thin film layer 40 can be formed at the same time, the manufacturing time of the optical waveguide according to this embodiment can be shortened. Also, core 2
0, the side core 30A, and the side core 30B are formed of the same optical member, so that the temperature change coefficients of the refractive indexes thereof are the same. As a result, the temperature conversion coefficient of the refractive index of the substrate 10 around the core 20 approaches the temperature change coefficient of the refractive index of the core 20. Further, according to the spin coating method, the apparatus is simpler than that of the flame deposition method and the like, so that the manufacturing cost can be reduced. The film thickness of the thin film layer 40 can be controlled by the viscosity coefficient of the applied optical member and the rotation speed of the spinner. In addition, Ge-SiO
When a 2- system optical member is used as the material of the core 20 or the like, Ge-Si gelated by the sol-gel method is used.
The O 2 based optical member is formed on the substrate 10 by spin coating.
Applied over.
【0041】最後に、図2(c)に示されるように、上
部クラッド50が、薄膜層40上に形成される。上述し
た通り、当該上部クラッド50は、コア20、サイドコ
ア30Aおよびサイドコア30Bよりも低い屈折率を有
する光学部材で作成される。以上で、本実施形態にかか
る光導波路の製造過程の説明を終了する。Finally, as shown in FIG. 2C, the upper cladding 50 is formed on the thin film layer 40. As described above, the upper clad 50 is made of an optical member having a lower refractive index than the core 20, the side core 30A and the side core 30B. This is the end of the description of the manufacturing process of the optical waveguide according to the present embodiment.
【0042】ここで、各構成部の大きさおよび位置の最
適化について説明する。まず、サイドコアの幅は最適化
されなければならない。これは、サイドコアの幅が大き
すぎると、サイドコアにも光が導波し、一方、サイドコ
アの幅が小さすぎると、モードフィールド径の拡大を有
効に図ることができないからである。また、サイドコア
およびコアの距離も最適化されなければならない。これ
は、サイドコアとコアとの距離が近すぎると、光がサイ
ドコアと結合して、光の伝播損失が大きくなり、一方、
サイドコアとコアとの距離が遠すぎると、モードフィー
ルド径の拡大を有効に図ることができないからである。
また、薄膜層の厚みも最適化されなければならない。こ
れは、当該薄膜層が厚すぎると、光が薄膜層へ漏れ出
し、損失の原因となり、一方、薄膜層が薄すぎると、モ
ードフィールド径の拡大を有効に図ることができないか
らである。さらに、上部クラッドの厚みに関しても最適
化されなければならない。これは、当該上部クラッドが
薄すぎると、空気層の影響によって、モードフィールド
の形状が歪んでしまい、一方、当該上部クラッドが厚す
ぎると、上部クラッドに光が漏れやすくなるからであ
る。Here, optimization of the size and position of each component will be described. First, the width of the side core has to be optimized. This is because if the width of the side core is too large, light is also guided to the side core, while if the width of the side core is too small, the mode field diameter cannot be effectively expanded. Also, the distance between the side core and the core must be optimized. This is because if the side cores are too close to each other, the light couples with the side cores, resulting in a large light propagation loss.
This is because if the distance between the side cores is too large, the mode field diameter cannot be effectively expanded.
Also, the thickness of the thin film layer must be optimized. This is because if the thin film layer is too thick, light leaks into the thin film layer and causes loss, while if the thin film layer is too thin, it is not possible to effectively increase the mode field diameter. In addition, the upper cladding thickness must also be optimized. This is because if the upper cladding is too thin, the shape of the mode field is distorted due to the influence of the air layer, while if the upper cladding is too thick, light easily leaks to the upper cladding.
【0043】ここで、上部クラッドの厚さに最適化が必
要な理由について詳しく説明する。上述したように、上
部クラッドが厚すぎると、上部クラッドに光が漏れやす
くなる。これは、薄膜層と当該薄膜層付近の上部クラッ
ドとの屈折率の差が小さくなり、薄膜層への光の閉じ込
めが弱くなるからである。より具体的には、薄膜層と当
該薄膜層付近の上部クラッドとの屈折率の差は、上部ク
ラッドの上にある空気層の屈折率の影響を受ける。その
ため、当該上部クラッドが薄いときには、薄膜層付近の
上部クラッドの屈折率は、空気層の屈折率の影響を強く
受けて、小さくなったものとみなすことができる。一
方、当該上部クラッドが厚いときには、薄膜層付近の上
部クラッドの屈折率は、空気層の屈折率の影響をあまり
受けないので、当該上部クラッド本来の屈折率となる。
従って、上部クラッドが厚すぎると、薄膜層と当該薄膜
層付近の上部クラッドとの屈折率の差が小さくなり、上
部クラッドに光が漏れやすくなる。このことから、上部
クラッドは、ある程度薄く作成されることが必要である
といえる。しかし、上部クラッドが薄すぎると、薄膜層
と当該薄膜層付近の上部クラッドとの屈折率の差が大き
くなり、薄膜層およびコアへの光の閉じ込めが強化され
すぎてしまう。その結果、モードフィールドの形状が歪
なものとなってしまう。以上のことから、上部クラッド
の厚さは、最適化される必要があるといえる。Here, the reason why the thickness of the upper cladding needs to be optimized will be described in detail. As described above, if the upper clad is too thick, light easily leaks into the upper clad. This is because the difference in the refractive index between the thin film layer and the upper cladding near the thin film layer becomes small, and the light confinement in the thin film layer becomes weak. More specifically, the difference in the refractive index between the thin film layer and the upper clad near the thin film layer is affected by the refractive index of the air layer above the upper clad. Therefore, when the upper clad is thin, the refractive index of the upper clad near the thin film layer is strongly influenced by the refractive index of the air layer, and can be regarded as decreased. On the other hand, when the upper clad is thick, the refractive index of the upper clad near the thin film layer is not affected by the refractive index of the air layer so much that the refractive index is the original refractive index of the upper clad.
Therefore, if the upper clad is too thick, the difference in refractive index between the thin film layer and the upper clad in the vicinity of the thin film layer becomes small, and light easily leaks to the upper clad. From this, it can be said that the upper clad needs to be made thin to some extent. However, if the upper clad is too thin, the difference in refractive index between the thin film layer and the upper clad in the vicinity of the thin film layer becomes large, and light is confined too much in the thin film layer and the core. As a result, the shape of the mode field becomes distorted. From the above, it can be said that the thickness of the upper clad needs to be optimized.
【0044】なお、上記のような問題に対して、基板と
コアとの比屈折率の差が約0.5%である光導波路にお
いては、サイドコアの幅は2〜4μm程度、それぞれ向
かい合うコアの端面とサイドコアの端面との距離は2〜
4μm程度、薄膜層の膜厚は1〜3μm程度、上部クラ
ッドは3〜4μm程度が適切であることがシミュレーシ
ョン結果より分かっている。With respect to the above problem, in the optical waveguide in which the relative refractive index difference between the substrate and the core is about 0.5%, the width of the side core is about 2 to 4 μm, and the width of the side core is about 2 μm. The distance between the end face and the end face of the side core is 2 to
It is known from the simulation result that it is appropriate that the thickness of the thin film layer is about 4 μm, the thickness of the thin film layer is about 1 to 3 μm, and the upper cladding is about 3 to 4 μm.
【0045】以下に、本発明の第1の具体例について、
シミュレーション結果を踏まえて説明する。まず、図3
は、シングルモード光ファイバの光強度分布をシミュレ
ーションした結果である。等高線状の円は、出力光の強
度分布の等高線を示したものであり、その数値は、入力
光の強度を1としたときの各部分の出力光の強度を示し
た数値である。当該等高線および数値の意味は、以下の
シミュレーションにおいて共通である。なお、当該シン
グルモード光ファイバの直径は8μmであり、比屈折率
差は0.3%である。一方、図10は、コアとクラッド
とのみからなる光導波路の光強度分布をシミュレーショ
ンした結果である。なお、当該コアは4μm角であり、
コアとクラッドとの比屈折率差は0.47%である。図
3と図10とを比較すると、光導波路のモードフィール
ド径が、シングルモード光ファイバのモードフィールド
径よりも小さくなっていることが分かる。従って、これ
らを結合させれば、大きな結合損失が発生する。The first embodiment of the present invention will be described below.
An explanation will be given based on the simulation results. First, FIG.
Is the result of simulating the light intensity distribution of the single mode optical fiber. The contour line circles show contour lines of the intensity distribution of the output light, and the numerical value is a numerical value showing the intensity of the output light of each part when the intensity of the input light is 1. The meanings of the contour lines and numerical values are common in the following simulations. The diameter of the single mode optical fiber is 8 μm, and the relative refractive index difference is 0.3%. On the other hand, FIG. 10 is a result of simulating the light intensity distribution of the optical waveguide including only the core and the clad. The core is 4 μm square,
The relative refractive index difference between the core and the clad is 0.47%. Comparing FIG. 3 and FIG. 10, it can be seen that the mode field diameter of the optical waveguide is smaller than the mode field diameter of the single mode optical fiber. Therefore, if these are combined, a large coupling loss occurs.
【0046】そこで、上記光導波路のモードフィールド
径を拡大させるべく、薄膜層40、サイドコア30Aお
よび30Bが設けられたものが、図4に示される本発明
の第1の具体例にかかる光導波路である。図4は、上記
本発明の第1の具体例にかかる光導波路の光強度分布を
シミュレーションした結果である。なお、本発明の第1
の具体例にかかる光導波路のコア20は4μm角であ
り、コア20と基板10との比屈折率差は0.47%で
あり、サイドコア30Aおよび30Bの幅および厚みは
それぞれ3μmおよび4μmであり、コア20とサイド
コア30Aおよび30Bとの距離は3μmであり、薄膜
層の膜厚は1μmであり、上部クラッド50の膜厚は3
μmである。Therefore, the thin film layer 40 and the side cores 30A and 30B provided in order to increase the mode field diameter of the optical waveguide are the optical waveguides according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. is there. FIG. 4 is a result of simulating the light intensity distribution of the optical waveguide according to the first example of the present invention. The first aspect of the present invention
The core 20 of the optical waveguide according to the specific example is 4 μm square, the relative refractive index difference between the core 20 and the substrate 10 is 0.47%, and the widths and thicknesses of the side cores 30A and 30B are 3 μm and 4 μm, respectively. , The distance between the core 20 and the side cores 30A and 30B is 3 μm, the thickness of the thin film layer is 1 μm, and the thickness of the upper clad 50 is 3 μm.
μm.
【0047】図4によれば、サイドコア30A、サイド
コア30Bおよび薄膜層40が光導波路に設けられるこ
とによって、モードフィールド径を拡大することが可能
であることが分かる。また、上記のような構成を取るこ
とによって、本具体例の光導波路のモードフィールド径
の大きさと、シングルモード光ファイバのモードフィー
ルド径の大きさとを近づけることができた。その結果、
当該光導波路とシングルモード光ファイバとの結合効率
の向上を図ることが可能となった。It can be seen from FIG. 4 that the mode field diameter can be increased by providing the side core 30A, the side core 30B and the thin film layer 40 in the optical waveguide. Moreover, by adopting the above-mentioned configuration, the size of the mode field diameter of the optical waveguide of this example and the size of the mode field diameter of the single mode optical fiber can be made close to each other. as a result,
It has become possible to improve the coupling efficiency between the optical waveguide and the single mode optical fiber.
【0048】また、本具体例によれば、基板10の屈折
率と上部クラッド50の屈折率とが等しく、上部クラッ
ド50の厚みが3μmである。本具体例において、当該
上部クラッド50の厚みが3μmと設定されることで、
光が当該クラッド50に漏れることが防止されると共
に、当該光導波路のモードフィールド径をシングルモー
ド光ファイバのフィールド径に近づけることができた。
なお、上部クラッド50の屈折率が基板10の屈折率よ
りも大きい場合には、当該上部クラッド50は薄くな
り、上部クラッド50の屈折率が基板10の屈折率より
も大きい場合には、当該上部クラッド50は厚くなる。
これは、上述したように、上部クラッド50の屈折率
が、当該上部クラッド50上の空気層の影響を受けるか
らである。このように、上部クラッド50の厚みが変化
すると、薄膜層40付近の上部クラッド50の屈折率が
変化したとみなせるので、これらを調節して、当該光導
波路のモードフィールド径の調節が行われてもよい。Further, according to this example, the refractive index of the substrate 10 and the refractive index of the upper clad 50 are equal, and the thickness of the upper clad 50 is 3 μm. In this specific example, by setting the thickness of the upper clad 50 to 3 μm,
It was possible to prevent light from leaking into the clad 50 and to make the mode field diameter of the optical waveguide close to the field diameter of the single mode optical fiber.
When the refractive index of the upper clad 50 is larger than that of the substrate 10, the upper clad 50 is thin, and when the refractive index of the upper clad 50 is larger than that of the substrate 10, the upper clad 50 is The clad 50 becomes thicker.
This is because, as described above, the refractive index of the upper clad 50 is affected by the air layer on the upper clad 50. In this way, when the thickness of the upper clad 50 changes, it can be considered that the refractive index of the upper clad 50 near the thin film layer 40 changes. Therefore, these are adjusted to adjust the mode field diameter of the optical waveguide. Good.
【0049】次に、本発明の第2の具体例について、シ
ミュレーション結果を踏まえて説明する。まず、図9
は、コアとクラッドとのみからなる光導波路の光強度分
布をシミュレーションした結果である。なお、当該コア
は8μm角であり、コアとクラッドとの比屈折率差は
0.47%である。図9に示されるように、コアが大き
くなると、多次モードの光が励振されてしまう。このよ
うな光導波路とシングルモード光ファイバとを結合させ
ると、モード不整合が生じて、大きな結合損失が発生す
る。Next, a second specific example of the present invention will be described based on simulation results. First, FIG.
Is the result of simulating the light intensity distribution of an optical waveguide consisting of a core and a clad. The core is 8 μm square, and the relative refractive index difference between the core and the clad is 0.47%. As shown in FIG. 9, when the core becomes large, light of a multi-order mode is excited. When such an optical waveguide and a single mode optical fiber are coupled, mode mismatch occurs and a large coupling loss occurs.
【0050】そこで、上記多モードの光の励振を防止す
べく、薄膜層40、サイドコア30Aおよび30Bが設
けられたものが、図5に示される本発明の第2の具体例
にかかる光導波路である。図5は、本発明の第2の具体
例にかかる光導波路の光強度分布をシミュレーションし
た結果である。なお、本発明の第2の具体例にかかる光
導波路のコア20幅は7μmであり、コア20高さは6
μmであり、コア20と基板10との比屈折率差は0.
47%であり、サイドコア30Aおよび30Bの幅およ
び厚みはそれぞれ3μmおよび6μmであり、コア20
とサイドコア30Aおよび30Bとの距離は3μmであ
り、薄膜層の膜厚は1μmであり、上部クラッド50の
膜厚は4μmである。Therefore, the thin film layer 40 and the side cores 30A and 30B provided in order to prevent the excitation of the multimode light are the optical waveguides according to the second embodiment of the present invention shown in FIG. is there. FIG. 5 is a result of simulating the light intensity distribution of the optical waveguide according to the second example of the present invention. The width of the core 20 of the optical waveguide according to the second example of the present invention is 7 μm, and the height of the core 20 is 6 μm.
μm, and the relative refractive index difference between the core 20 and the substrate 10 is 0.
47%, and the width and thickness of the side cores 30A and 30B are 3 μm and 6 μm, respectively.
The distance between the side cores 30A and 30B is 3 μm, the film thickness of the thin film layer is 1 μm, and the film thickness of the upper clad 50 is 4 μm.
【0051】図5によれば、本来は、多次モードの光の
励振が発生するような条件であっても、サイドコア30
A、サイドコア30Bおよび薄膜層40が光導波路に設
けられることによって、多次モードの光の励振が発生し
ていないことが分かる。また、上記のような構成を取る
ことによって、本具体例の光導波路のモードフィールド
径の大きさと、シングルモード光ファイバのモードフィ
ールド径の大きさとを近づけることができた。その結
果、当該光導波路とシングルモード光ファイバとの結合
効率の向上を図ることが可能となった。According to FIG. 5, the side core 30 is originally provided under the condition that the excitation of the light of the multimode is generated.
It can be seen that since the A, the side core 30B, and the thin film layer 40 are provided in the optical waveguide, the excitation of the multi-order mode light is not generated. Moreover, by adopting the above-mentioned configuration, the size of the mode field diameter of the optical waveguide of this example and the size of the mode field diameter of the single mode optical fiber can be made close to each other. As a result, it has become possible to improve the coupling efficiency between the optical waveguide and the single-mode optical fiber.
【0052】以上のように、本発明にかかる光導波路に
よれば、光導波路の基板10とコア20との比屈折率差
が、シングルモード光ファイバのコアとクラッドとの比
屈折率差(0.3%)よりも大きい場合でも、サイドコ
ア30A、サイドコア30Bおよび薄膜層40が設けら
れることによって、当該光導波路のモードフィールド径
の調節が可能となった。また、コア20、サイドコア3
0A、サイドコア30Bおよび薄膜層40の材質を同一
にすれば、スピンコート法による加工が可能となる。ス
ピンコート法は、火炎堆積法と比較して安価で簡単な加
工法であるので、当該光導波路を容易にかつ安価に作成
することが可能となる。As described above, according to the optical waveguide of the present invention, the relative refractive index difference between the substrate 10 and the core 20 of the optical waveguide is equal to the relative refractive index difference (0 between the core and the clad of the single mode optical fiber). .3%), it is possible to adjust the mode field diameter of the optical waveguide by providing the side core 30A, the side core 30B and the thin film layer 40. Also, the core 20 and the side core 3
If the materials of 0A, the side core 30B, and the thin film layer 40 are the same, processing by the spin coating method becomes possible. The spin coating method is a cheaper and simpler processing method than the flame deposition method, so that the optical waveguide can be easily manufactured at a low cost.
【0053】また、本発明にかかる光導波路は、光導波
路を小型化するために大きな曲がり導波路部分がある光
導波路に適用されることが可能である。より具体的に
は、上記大きな曲がり導波路部分では、当該光導波路の
基板10とコア20との比屈折率差が大きく設定され、
サイドコア30Aおよびサイドコア30Bが設けられな
い。一方、シングルモード光ファイバの結合部分やLD
またはLEDなどの発光素子との結合部分のようにモー
ドフィールド径を大きくしたい場所では、サイドコア3
0Aおよびサイドコア30Bが設けられる。このような
構成がとられることによって、曲がり部分での損失の軽
減が図られると共に、光学素子との結合効率の向上が図
られる。なお、薄膜層40は、光導波路の表面の垂直方
向にモードフィールド径を拡大する効果がある。従っ
て、光導波路の表面に対し水平方向に曲がる導波路に対
しては、薄膜層40が設けられることは、光の損失の原
因とはならない。よって、当該薄膜層40は、当該光導
波路の全域に形成されてもよい。これにより、薄膜層4
0の形成は、スピンコート法のみで実現可能となり、フ
ォトリゾグラフィー法等の複雑な加工技術が不要とな
る。Further, the optical waveguide according to the present invention can be applied to an optical waveguide having a large bending waveguide portion in order to miniaturize the optical waveguide. More specifically, in the large curved waveguide portion, the relative refractive index difference between the substrate 10 and the core 20 of the optical waveguide is set to be large,
The side core 30A and the side core 30B are not provided. On the other hand, the coupling part of single mode optical fiber and LD
Alternatively, in a place where the mode field diameter is desired to be increased, such as a coupling portion with a light emitting element such as an LED, the side core 3
0A and the side core 30B are provided. By adopting such a configuration, it is possible to reduce the loss at the bent portion and to improve the coupling efficiency with the optical element. The thin film layer 40 has the effect of expanding the mode field diameter in the direction perpendicular to the surface of the optical waveguide. Therefore, the provision of the thin film layer 40 does not cause a loss of light for the waveguide that bends in the horizontal direction with respect to the surface of the optical waveguide. Therefore, the thin film layer 40 may be formed over the entire area of the optical waveguide. Thereby, the thin film layer 4
The formation of 0 can be realized only by a spin coating method, and a complicated processing technique such as a photolithography method is unnecessary.
【0054】また、本発明にかかる光導波路は、当該光
導波路の周囲の温度が上昇しても、基板10の屈折率の
大きさとコア20の屈折率の大きさとが逆転しにくい。
その結果、本発明にかかる光導波路は、従来の光導波路
では光の大きな損失が発生するような高温化であって
も、問題なく機能する。さらに、当該光導波路の周囲の
温度が低下しても、基板10の屈折率の大きさとコア2
0の屈折率の大きさとの差が極端に大きくならない。そ
の結果、従来の光導波路において、低温状態で発生する
モード不整合による結合損失が改善される。なお、光導
波路が図4に示される構成を取った場合には、‐20℃
から80℃までの範囲でシングルモードによる光の導波
が可能であることが分かっている。Further, in the optical waveguide according to the present invention, even if the temperature around the optical waveguide rises, the magnitude of the refractive index of the substrate 10 and the magnitude of the refractive index of the core 20 are not easily reversed.
As a result, the optical waveguide according to the present invention functions without problems even at a high temperature at which a large loss of light occurs in the conventional optical waveguide. Further, even if the temperature around the optical waveguide is lowered, the magnitude of the refractive index of the substrate 10 and the core 2
The difference from the size of the refractive index of 0 does not become extremely large. As a result, in the conventional optical waveguide, the coupling loss due to the mode mismatch generated at a low temperature is improved. If the optical waveguide has the configuration shown in FIG.
It is known that the light can be guided by the single mode in the range from to 80 ° C.
【0055】なお、本実施形態にかかる光導波路では、
薄膜層40上に上部クラッド50が設けられているが、
当該上部クラッド50はなくてもよい。これは、薄膜層
40上にある空気層の屈折率が薄膜層40の屈折率より
低いので、空気層によってもコア20を導波する光を閉
じ込めることが可能であるからである。ただし、この場
合には、上部クラッド50が設けられている光導波路よ
りも、薄膜層40の膜厚を大きくする必要がある。これ
は、薄膜層40が薄すぎると、薄膜層40の屈折率が空
気層の影響を強く受け、コア20および薄膜層40への
光の閉じ込めが強化されすぎてしまい、モードフィール
ドの形状が歪になるからである。In the optical waveguide according to this embodiment,
Although the upper clad 50 is provided on the thin film layer 40,
The upper clad 50 may be omitted. This is because the refractive index of the air layer on the thin film layer 40 is lower than that of the thin film layer 40, so that the light guided in the core 20 can be confined also by the air layer. However, in this case, it is necessary to make the film thickness of the thin film layer 40 larger than that of the optical waveguide in which the upper clad 50 is provided. This is because when the thin film layer 40 is too thin, the refractive index of the thin film layer 40 is strongly influenced by the air layer, and the light confinement in the core 20 and the thin film layer 40 is strengthened too much, and the mode field shape is distorted. Because.
【0056】なお、本実施形態にかかる光導波路の材質
の組み合わせの一例として、基板10がポリマーででき
ており、コア20とサイドコア30Aとサイドコア30
Bと上部クラッド50とがSiO2を主成分とするガラ
スでできているものがある。これによると、基板10が
ポリマーでできているので、当該基板10が安価で提供
可能となる。また、コア20にガラスが用いられること
で、損失が低減されると共に、信頼性の高い光導波路が
作成される。さらに、コア20、サイドコア30A、サ
イドコア30Bおよび上部クラッド50が近い材質のガ
ラスで形成されることにより、温度変化に対して安定し
た特性の光導波路の作成が可能となる。As an example of the combination of the materials of the optical waveguide according to this embodiment, the substrate 10 is made of polymer, and the core 20, the side core 30A, and the side core 30 are formed.
In some cases, B and the upper clad 50 are made of glass containing SiO 2 as a main component. According to this, since the substrate 10 is made of a polymer, the substrate 10 can be provided at low cost. Further, since the core 20 is made of glass, loss is reduced and a highly reliable optical waveguide is produced. Further, since the core 20, the side core 30A, the side core 30B, and the upper clad 50 are made of glass of a material close to each other, it is possible to create an optical waveguide having stable characteristics with respect to temperature changes.
【0057】なお、本実施形態にかかる光導波路の材質
の組み合わせのその他の一例として、基板10がガラス
でできており、コア20とサイドコア30Aとサイドコ
ア30Bと上部クラッド50がポリマーでできているも
のがある。これによると、コア20がポリマーでできて
いるので、当該コア20が安価で提供可能となる。ま
た、サイドコア30A、サイドコア30Bおよび上部ク
ラッド50が近い材質のポリマーで形成されることによ
り、温度変化に対して安定した特性の光導波路の作成が
可能となる。As another example of the combination of materials of the optical waveguide according to the present embodiment, the substrate 10 is made of glass, and the core 20, the side core 30A, the side core 30B, and the upper clad 50 are made of polymer. There is. According to this, since the core 20 is made of a polymer, the core 20 can be provided at low cost. Further, the side core 30A, the side core 30B, and the upper clad 50 are formed of a polymer of a material close to each other, so that an optical waveguide having stable characteristics with respect to temperature changes can be created.
【0058】なお、本実施形態にかかる光導波路は、図
6に示されるような構成を取ることも可能である。図1
の光導波路と図6の光導波路との相違点は、図11の光
導波路では、サイドコア30Aおよびサイドコア30B
が基板10中に埋め込まれていることである。このよう
な構成によっても、モードフィールド径を垂直方向およ
び水平方向に拡大することが可能である。The optical waveguide according to the present embodiment can also have the structure shown in FIG. Figure 1
The optical waveguide of FIG. 6 differs from the optical waveguide of FIG. 6 in that in the optical waveguide of FIG.
Is embedded in the substrate 10. Also with such a configuration, the mode field diameter can be expanded in the vertical direction and the horizontal direction.
【0059】[0059]
【発明の効果】以上のように、本発明は、コアの上部に
薄膜層が設けられ、コアの近傍にサイドコアが設けられ
ることで、光導波路のモードフィールドが拡大されると
共にコアでの多次モードのの発生が防止されるので、当
該光導波路と光ファイバとが効率よく結合可能となる。As described above, according to the present invention, the thin film layer is provided on the core and the side core is provided in the vicinity of the core, whereby the mode field of the optical waveguide is expanded and the multi-order in the core is increased. Since the generation of modes is prevented, the optical waveguide and the optical fiber can be efficiently coupled.
【図1】本発明の実施形態にかかる光導波路の外観射視
図である。FIG. 1 is an external perspective view of an optical waveguide according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施形態にかかる光導波路の製造過程
を示した図である。FIG. 2 is a diagram showing a manufacturing process of the optical waveguide according to the embodiment of the present invention.
【図3】シングルモード光ファイバの光強度分布をシミ
ュレーションした結果である。FIG. 3 is a result of simulating a light intensity distribution of a single mode optical fiber.
【図4】本発明の第1の具体例にかかる光導波路の光強
度分布をシミュレーションした結果である。FIG. 4 is a result of simulating the light intensity distribution of the optical waveguide according to the first example of the present invention.
【図5】本発明の第2の具体例にかかる光導波路の光強
度分布をシミュレーションした結果である。FIG. 5 is a result of simulating the light intensity distribution of the optical waveguide according to the second example of the present invention.
【図6】本発明の実施形態にかかる光導波路のその他の
一例の構成を示した外観者視図である。FIG. 6 is an external view showing the configuration of another example of the optical waveguide according to the embodiment of the present invention.
【図7】従来の埋め込み型の三次元光導波路の製造過程
を示した図である。FIG. 7 is a diagram showing a manufacturing process of a conventional embedded three-dimensional optical waveguide.
【図8】室温の屈折率がそれぞれ、ガラス基板が1.5
04であり、ポリマーコアが1.507であり、コア幅
および厚みがそれぞれ8μmである従来の光導波路に対
するシングルモード光ファイバとの結合損失の温度特性
を示したグラフである。FIG. 8: The glass substrate has a refractive index of 1.5 at room temperature.
No. 04, the polymer core is 1.507, and the core width and the thickness are 8 μm, respectively, and are graphs showing the temperature characteristics of the coupling loss with the single mode optical fiber for the conventional optical waveguide.
【図9】クラッドとコアの比屈折率を0.47%とし、
コアの形状を8μm角にしたときのコアとクラッドとの
みからなる従来の光導波路の光強度分布のシミュレーシ
ョン結果を示した図である。FIG. 9 shows a relative refractive index of 0.47% between the clad and the core,
It is the figure which showed the simulation result of the light intensity distribution of the conventional optical waveguide which consists only of a core and a clad when the shape of a core was set to 8 micrometers square.
【図10】クラッドとコアの比屈折率差を0.47%に
し、コアの形状を4μm角にしたとき従来の光導波路の
光強度分布のシミュレーション結果を示した図である。FIG. 10 is a diagram showing a simulation result of a light intensity distribution of a conventional optical waveguide when the relative refractive index difference between the clad and the core is 0.47% and the shape of the core is 4 μm square.
【図11】サイドコアを有する光導波路において、コア
およびサイドコアとクラッドとの比屈折率を0.47%
としたときの光強度分布のシミュレーション結果を示し
た図である。FIG. 11 shows an optical waveguide having a side core, in which the relative refractive index between the core and the side core and the clad is 0.47%.
It is a figure showing the simulation result of light intensity distribution when it was.
10 基板 20 コア 30A,30B サイドコア 40 薄膜層 50 上部クラッド 100 コアパターン 110A,110B サイドコアパターン 800 基板 805 下部クラッド層 810 コア層 815 金属薄膜 820 コア 825 上部クラッド層 10 substrates 20 cores 30A, 30B Side core 40 thin film layers 50 upper clad 100 core pattern 110A, 110B Side core pattern 800 substrates 805 Lower cladding layer 810 core layer 815 Metal thin film 820 core 825 Upper clad layer
Claims (9)
伝播する光導波路であって、 所定の屈折率を有する基板と、 前記基板の表面に埋め込まれた状態で形成され、前記基
板の屈折率より大きな屈折率を有し、内部に光を伝播す
るコアと、 前記コアの近傍に形成され、前記基板の屈折率より大き
な屈折率を有する補助コアと、 前記コアおよび前記補助コアを覆うように、前記基板の
上に形成され、前記コアの屈折率以下の屈折率を有する
薄膜層とを備える、光導波路。1. An optical waveguide that propagates light when optically coupled to an external optical fiber, the substrate having a predetermined refractive index, and the substrate formed to be embedded in the surface of the substrate. A core having a refractive index larger than that of the core, which propagates light inside, an auxiliary core formed near the core and having a refractive index larger than that of the substrate, and covering the core and the auxiliary core. Thus, an optical waveguide comprising a thin film layer formed on the substrate and having a refractive index equal to or lower than the refractive index of the core.
り小さな屈折率を有するクラッド層をさらに備える、請
求項1に記載の光導波路。2. The optical waveguide according to claim 1, further comprising a cladding layer formed on the thin film layer and having a refractive index smaller than that of the thin film layer.
の進行方向に対して垂直な断面において、前記コアの両
側方に位置するように形成されることを特徴とする、請
求項1に記載の光導波路。3. The auxiliary core is formed so as to be located on both sides of the core in a cross section perpendicular to a traveling direction of light guided through the core. The optical waveguide described in.
込まれた状態で形成されることを特徴とする、請求項3
に記載の光導波路。4. The auxiliary core is formed in a state of being embedded in the surface of the substrate.
The optical waveguide described in.
層は、同一の素材によって形成されることを特徴とす
る、請求項4に記載の光導波路。5. The optical waveguide according to claim 4, wherein the core, the auxiliary core, and the thin film layer are formed of the same material.
の比屈折率差が、光結合される前記光ファイバのコアと
クラッドとの比屈折率差より大きいことを特徴とする、
請求項1に記載の光導波路。6. The relative refractive index difference between the refractive index of the core and the refractive index of the substrate is larger than the relative refractive index difference between the core and the cladding of the optical fiber to be optically coupled.
The optical waveguide according to claim 1.
層は、それぞれの屈折率の温度変化係数が略同一である
素材によって形成されることを特徴とする、請求項1に
記載の光導波路。7. The optical waveguide according to claim 1, wherein the core, the auxiliary core, and the thin film layer are formed of materials having substantially the same temperature change coefficient of refractive index.
り、 前記コア、前記補助コアおよび前記クラッドは、SiO
2を主成分とするガラスで形成されていることを特徴と
する、請求項2に記載の光導波路。8. The substrate is made of a polymer, and the core, the auxiliary core and the clad are made of SiO 2.
The optical waveguide according to claim 2, wherein the optical waveguide is formed of glass containing 2 as a main component.
ッドは、ポリマーで形成されていることを特徴とする、
請求項2に記載の光導波路。9. The core, the auxiliary core, and the clad are formed of a polymer.
The optical waveguide according to claim 2.
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---|---|---|---|
JP2002089057A JP2003287635A (en) | 2002-03-27 | 2002-03-27 | Optical waveguide component |
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Cited By (1)
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---|---|---|---|---|
JP2011158907A (en) * | 2011-02-03 | 2011-08-18 | Pgt Photonics Spa | Tunable resonance grating filter |
-
2002
- 2002-03-27 JP JP2002089057A patent/JP2003287635A/en active Pending
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JP2011158907A (en) * | 2011-02-03 | 2011-08-18 | Pgt Photonics Spa | Tunable resonance grating filter |
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