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JP2003243162A - Manufacturing method and manufacturing apparatus for electro-optical device, electro-optical device, and electronic equipment - Google Patents

Manufacturing method and manufacturing apparatus for electro-optical device, electro-optical device, and electronic equipment

Info

Publication number
JP2003243162A
JP2003243162A JP2002034701A JP2002034701A JP2003243162A JP 2003243162 A JP2003243162 A JP 2003243162A JP 2002034701 A JP2002034701 A JP 2002034701A JP 2002034701 A JP2002034701 A JP 2002034701A JP 2003243162 A JP2003243162 A JP 2003243162A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
electro
adhesive
optical device
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2002034701A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Hayashi
建二 林
Yoshihiko Ushiyama
佳彦 牛山
Hidekazu Kobayashi
英和 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2002034701A priority Critical patent/JP2003243162A/en
Publication of JP2003243162A publication Critical patent/JP2003243162A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing device of an electro-optic device which can laminate together a substrate and a sealing member in a desired state even if the substrate and the sealing member are undulated or slanted. <P>SOLUTION: The manufacturing device of an organic EL device equipped with a substrate 1 and a sealing substrate 2 is provided with an embrocation unit 31 capable of placing an adhesive 21 on a region R where the substrate 1 and the sealing substrate 2 are laminated together, a stage ST2 supporting the substrate 1, and a crimping device 50 which crimps and bond the sealing substrate 2 to the substrate 1 supported by the stage ST2 with a given force while swingably holding the sealing substrate 2. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電気光学装置の製
造方法及び製造装置、電気光学装置、並びにこの電気光
学装置を有する電子機器に関し、特に有機EL素子等の
発光素子を備えた電気光学装置の製造方法及び製造装
置、電気光学装置、並びに電子機器に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing an electro-optical device, an electro-optical device, and an electronic apparatus having the electro-optical device, and more particularly to an electro-optical device including a light emitting element such as an organic EL element. The present invention relates to a manufacturing method and manufacturing apparatus, an electro-optical device, and an electronic device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液晶装置、有機EL(エレクトロ
ルミネッセンス;electroluminescence)装置等の電気
光学装置においては、基板上に複数の回路素子、電極、
液晶又はEL素子等が積層された構成を有するものがあ
る。例えば有機EL装置においては、発光物質を含む発
光層を陽極及び陰極の電極層で挟んだ構成の発光素子を
有しており、陽極側から注入された正孔と、陰極側から
注入された電子とを発光能を有する発光層内で再結合
し、励起状態から失括する際に発光する現象を利用して
いる。
2. Description of the Related Art Conventionally, in electro-optical devices such as liquid crystal devices and organic EL (electroluminescence) devices, a plurality of circuit elements, electrodes,
Some have a structure in which liquid crystal or EL elements are laminated. For example, an organic EL device has a light emitting element in which a light emitting layer containing a light emitting substance is sandwiched between electrode layers of an anode and a cathode, and holes injected from the anode side and electrons injected from the cathode side are included. The phenomenon of emitting light when recombination between and in the light-emitting layer having light-emitting ability and when the excited state is collapsed is used.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来の電気光学装置には、以下のような問題が
存在する。上記の構成を有する有機EL装置は電流駆動
型の発光素子を備えているため、発光させる際には陽極
と陰極との間に電流を流さなければならない。その結
果、発光時において素子が発熱し、素子の周囲に酸素や
水分があった場合にはこれらの酸素や水分による素子構
成材料の酸化が促進されて素子が劣化する。特に、陰極
に用いられるアルカリ金属やアルカリ土類金属は酸化し
やすい特性を持っている。酸化や水による素子の劣化の
代表的なものはダークスポットの発生およびその成長で
ある。ダークスポットとは発光欠陥点のことである。そ
して、有機EL装置の駆動に伴って発光素子の劣化が進
むと、発光輝度が低下したり、発光が不安定になる等、
経時的な安定性が低く、且つ寿命が短いという問題があ
った。
However, the above-mentioned conventional electro-optical device has the following problems. Since the organic EL device having the above-described configuration includes the current-driven light emitting element, a current must be passed between the anode and the cathode when emitting light. As a result, the element generates heat during light emission, and when oxygen or moisture is present around the element, oxidation of the element constituent material due to the oxygen or moisture is promoted to deteriorate the element. In particular, the alkali metal or alkaline earth metal used for the cathode has the property of being easily oxidized. The typical deterioration of the device due to oxidation and water is the generation and growth of dark spots. The dark spot is a light emission defect point. Then, as the deterioration of the light emitting element progresses along with the driving of the organic EL device, the emission brightness decreases, the light emission becomes unstable, and the like.
There is a problem that stability with time is low and life is short.

【0004】そこで、上記の劣化を抑えるための対策の
一例として、発光素子が配置された基板と封止部材とを
接着剤を介して一体化し、基板と封止部材と接着剤とで
形成された空間に発光素子を配置し、大気と遮断する技
術が知られている。ところが、基板が大型化すると、基
板と封止部材とを貼り合わせる際、基板のうねりや厚み
誤差によって精度良く貼り合わせられない場合が生じ
る。特に、接着剤を介して貼り合わせる際、封止部材は
基板に対して傾斜して貼り合わせられたりする場合があ
り、所望の状態に貼り合わせることができないといった
問題があった。
Therefore, as an example of a measure for suppressing the above deterioration, the substrate on which the light emitting element is arranged and the sealing member are integrated with each other with an adhesive, and the substrate, the sealing member and the adhesive are formed. There is known a technique of arranging a light emitting element in a closed space to shield the atmosphere from the atmosphere. However, when the size of the substrate is increased, when the substrate and the sealing member are attached to each other, it may not be possible to attach them accurately with each other due to the waviness of the substrate and a thickness error. In particular, when bonding with an adhesive, the sealing member may be tilted with respect to the substrate and may not be bonded in a desired state.

【0005】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、基板と封止部材とを貼り合わせる際、基板や封
止部材がうねりを有していたり基板に対して封止部材が
傾斜していても、所望の状態に貼り合わせることをがで
きる電気光学装置の製造方法及び製造装置、並びに電気
光学装置、この電気光学装置を有する電子機器を提供す
ることを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances. When the substrate and the sealing member are attached to each other, the substrate and the sealing member have undulations or the sealing member is inclined with respect to the substrate. It is an object of the present invention to provide an electro-optical device manufacturing method and a manufacturing apparatus, an electro-optical device, and an electronic apparatus including the electro-optical device that can be bonded to each other even in a desired state.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明の電気光学装置の製造方法は、第1の部材上
に配置される発光素子と、前記第1の部材に貼り合わせ
られる第2の部材とを備えた電気光学装置の製造方法に
おいて、前記第1の部材と前記第2の部材とが貼り合わ
せられる貼り合わせ領域に接着剤を配置する第1の工程
と、前記第1の部材及び前記第2の部材のうち少なくと
もいずれか一方を揺動自在に支持しつつ前記第1の部材
と前記第2の部材とを貼り合わせる第2の工程とを有す
ることを特徴とする。
In order to solve the above problems, in the method of manufacturing an electro-optical device of the present invention, a light emitting element disposed on a first member and the first member are bonded together. In a method of manufacturing an electro-optical device including a second member, a first step of arranging an adhesive in a bonding area where the first member and the second member are bonded, and the first step. And a second step of bonding the first member and the second member while swingably supporting at least one of the member and the second member.

【0007】本発明によれば、接着剤を介して第1の部
材と第2の部材とを貼り合わせる際、第1の部材及び第
2の部材の少なくともいずれか一方を揺動自在に支持し
つつ貼り合わせるようにしたので、第1の部材あるいは
第2の部材の貼り合わせ領域にうねりや凹凸があった
り、第1の部材に対して第2の部材が傾斜して配置され
ているような場合でも、接着剤を介して貼り合わせられ
る第1の部材あるいは第2の部材は揺動によってうねり
や傾斜をキャンセルできる。したがって、第1の部材と
第2の部材とは均一の接着剤厚さで貼り合わせられ、良
好な接着性が得られる。そして、第1の部材と第2の部
材とは所望の状態で貼り合わせられるので、高い封止性
を得ることができ、発光素子の劣化を防いで所望の性能
を発揮する電気光学装置を製造できる。
According to the present invention, when the first member and the second member are attached to each other via the adhesive, at least one of the first member and the second member is swingably supported. Since they are bonded together, the bonding area of the first member or the second member has undulations or irregularities, or the second member is inclined with respect to the first member. Even in such a case, the first member or the second member bonded by the adhesive agent can cancel the undulation or inclination by swinging. Therefore, the first member and the second member are bonded together with a uniform adhesive thickness, and good adhesiveness is obtained. Since the first member and the second member are bonded together in a desired state, a high sealing property can be obtained, and an electro-optical device that exhibits the desired performance by preventing deterioration of the light emitting element is manufactured. it can.

【0008】また、本発明の電気光学装置の製造方法に
おいては、前記第2の工程は、前記第1の部材と前記第
2の部材とを所定の力で圧着する工程を有する構成が採
用される。これにより、接着剤の厚みを調整することが
できる。
In the method of manufacturing an electro-optical device according to the present invention, the second step has a structure including a step of pressing the first member and the second member with a predetermined force. It Thereby, the thickness of the adhesive can be adjusted.

【0009】また、本発明の電気光学装置の製造方法に
おいては、前記圧着しつつ、前記接着剤を硬化させる構
成が採用される。これにより、圧着によって第1の部材
と第2の部材との位置関係を固定した状態で接着剤が硬
化されるので、硬化後に接着剤の厚みが大きく変化する
ことがない。
Further, in the method of manufacturing an electro-optical device of the present invention, a configuration is adopted in which the adhesive is cured while the pressure is applied. As a result, the adhesive is cured while the positional relationship between the first member and the second member is fixed by pressure bonding, so that the thickness of the adhesive does not change significantly after curing.

【0010】また、本発明の電気光学装置の製造方法に
おいては、前記接着剤は光硬化性材料であり、前記第2
の工程は、前記接着剤に対して所定の波長を有する光を
照射する工程を有する構成が採用される。これにより、
接着剤に対して光を照射するだけで、短時間で接着剤を
硬化できる。
Further, in the method of manufacturing an electro-optical device according to the present invention, the adhesive is a photocurable material, and the second
The step of adopting a configuration having a step of irradiating the adhesive with light having a predetermined wavelength is adopted. This allows
The adhesive can be hardened in a short time only by irradiating the adhesive with light.

【0011】また、本発明の電気光学装置の製造方法に
おいては、前記第2の工程を、前記第1の工程に対して
高い温度雰囲気下で行う構成が採用される。これによ
り、貼り合わせ領域に配置された接着剤の流動性が増す
ので、接着剤が拡がりやすくなり、圧着や貼り合わせ工
程を円滑に行うことができる。
Further, in the method of manufacturing an electro-optical device of the present invention, a configuration is adopted in which the second step is performed in a high temperature atmosphere with respect to the first step. As a result, the fluidity of the adhesive disposed in the bonding area is increased, so that the adhesive easily spreads, and the pressure bonding and the bonding process can be performed smoothly.

【0012】また、本発明の電気光学装置の製造方法に
おいては、前記第1の部材に対して前記第2の部材を複
数貼り合わせる構成が採用される。これにより、1つの
第1の部材から多数の電気光学装置を製造することがで
きるので生産性を向上できる。
Further, in the method of manufacturing the electro-optical device of the present invention, a construction in which a plurality of the second members are attached to the first member is adopted. With this, a large number of electro-optical devices can be manufactured from one first member, so that productivity can be improved.

【0013】また、本発明の電気光学装置の製造方法に
おいては、前記発光素子は、前記第1の部材と前記第2
の部材との間に配置される構成が採用される。これによ
り、第2の部材(あるいは第1の部材)は封止部材とし
て用いられることとなり、第1の部材と第2の部材とで
形成される空間内部で発光素子を気密に封止できる。
In the method of manufacturing an electro-optical device according to the present invention, the light emitting element includes the first member and the second member.
The structure arranged between the member and the member is adopted. As a result, the second member (or the first member) is used as a sealing member, and the light emitting element can be hermetically sealed inside the space formed by the first member and the second member.

【0014】また、本発明の電気光学装置の製造方法に
おいては、前記第1の工程において前記接着剤を前記貼
り合わせ領域に配置する際、不連続に配置する構成が採
用される。これにより、第2の工程において第1の部材
と第2の部材とを圧着する場合、第1の部材と第2の部
材との間で形成される空間の圧力が上昇し、この圧力上
昇によって第1の部材と第2の部材とで位置ずれが発生
するおそれがあるが、第1の材料または第2の材料は不
連続に配置されているので、形成された不連続部分(隙
間)から第1の部材と第2の部材との間で形成される空
間内部のガスが外部に排出可能となる。したがって、空
間内部の圧力上昇が抑えられ、空間内部の圧力上昇に基
づく位置ずれの発生を防止できる。
Further, in the method of manufacturing the electro-optical device of the present invention, when the adhesive is arranged in the bonding area in the first step, it is arranged discontinuously. Accordingly, when the first member and the second member are pressure-bonded in the second step, the pressure of the space formed between the first member and the second member increases, and this pressure increase The first member and the second member may be misaligned, but since the first material or the second material is discontinuously arranged, the formed discontinuous portion (gap) The gas inside the space formed between the first member and the second member can be discharged to the outside. Therefore, the pressure increase inside the space is suppressed, and it is possible to prevent the occurrence of displacement due to the pressure increase inside the space.

【0015】また、本発明の電気光学装置の製造方法に
おいては、前記第2の工程を、不活性ガス雰囲気下で行
う構成が採用される。これにより、第2の工程中におい
て発光素子の劣化を防止できる。ここで、不活性ガスと
は発光素子に対して不活性なガスであり、窒素ガスやア
ルゴンガスが挙げられる。
Further, in the method of manufacturing an electro-optical device of the present invention, a configuration is adopted in which the second step is performed in an inert gas atmosphere. This can prevent deterioration of the light emitting element during the second step. Here, the inert gas is a gas inert to the light emitting element, and examples thereof include nitrogen gas and argon gas.

【0016】本発明の電気光学装置の製造装置は、第1
の部材上に配置される発光素子と、前記第1の部材に貼
り合わせられる第2の部材とを備えた電気光学装置の製
造装置において、前記第1の部材と前記第2の部材とが
貼り合わせられる貼り合わせ領域に対して接着剤を配置
可能な塗布装置と、前記第1の部材を支持する支持装置
と、前記第2の部材を揺動自在に保持しつつ前記支持装
置に支持されている前記第1の部材に対して所定の力で
圧着させて貼り合わせる圧着装置とを備えることを特徴
とする。
The electro-optical device manufacturing apparatus according to the present invention comprises:
In a manufacturing apparatus of an electro-optical device comprising a light emitting element arranged on the member of (1) and a second member bonded to the first member, the first member and the second member are bonded to each other. A coating device capable of arranging an adhesive in a bonding region to be bonded, a support device supporting the first member, and a support device supporting the second member while swingably holding the second member. A crimping device for crimping and bonding the first member to the first member with a predetermined force.

【0017】本発明によれば、接着剤を介して第1の部
材と第2の部材とを貼り合わせる際、支持装置に支持さ
れた第1の部材に対して、圧着装置により第2の部材を
揺動自在に支持しつつ所定の力で圧着させることによ
り、第1の部材あるいは第2の部材の貼り合わせ領域に
うねりや凹凸があったり、第1の部材に対して第2の部
材が傾斜して配置されているような場合でも、接着剤を
介して貼り合わせられる第1の部材あるいは第2の部材
は揺動によってうねりや傾斜をキャンセルできる。した
がって、第1の部材と第2の部材とは均一の接着剤厚さ
で貼り合わせられ、良好な接着性が得られる。そして、
第1の部材と第2の部材とは所望の状態で貼り合わせら
れるので、高い封止性を得ることができ、発光素子の劣
化を防いで所望の性能を発揮する電気光学装置を製造で
きる。
According to the present invention, when the first member and the second member are attached to each other via the adhesive, the second member is pressed against the first member supported by the supporting device by the crimping device. By squeezing with a predetermined force while swingably supporting the undulation, there is undulation or unevenness in the bonding area of the first member or the second member, or the second member with respect to the first member. Even in the case where the first member or the second member bonded together via an adhesive can be undulated or tilted by rocking even if they are arranged at an angle. Therefore, the first member and the second member are bonded together with a uniform adhesive thickness, and good adhesiveness is obtained. And
Since the first member and the second member are bonded together in a desired state, a high sealing property can be obtained, and it is possible to manufacture an electro-optical device that prevents deterioration of the light emitting element and exhibits desired performance.

【0018】また、本発明の電気光学装置の製造装置に
おいては、前記第2の部材は前記第1の部材の所定面に
対して貼り合わせられ、前記圧着装置は、少なくとも、
前記所定面に平行な第1の軸線まわり方向と、前記所定
面に平行且つ前記第1の軸線と直交する第2の軸線まわ
り方向とに前記第2の部材を揺動自在に保持する構成が
採用される。これにより、第1の部材及び第2の部材の
うねりなどをキャンセルしながら、第1の部材と第2の
部材とを位置決めしつつ貼り合わせることができる。
Further, in the electro-optical device manufacturing apparatus of the present invention, the second member is bonded to a predetermined surface of the first member, and the pressure bonding device is at least
A configuration in which the second member is swingably held in a direction around a first axis parallel to the predetermined surface and a direction around a second axis parallel to the predetermined surface and orthogonal to the first axis is provided. Adopted. Accordingly, the first member and the second member can be positioned and bonded while canceling the undulations of the first member and the second member.

【0019】また、本発明の電気光学装置の製造装置に
おいては、前記塗布装置を収容する第1室と、前記支持
装置及び前記圧着装置を収容する第2室と、前記第1室
及び前記第2室の温度を制御する制御装置とを備える構
成が採用される。これにより、所望の温度雰囲気下で接
着剤の塗布工程や圧着工程を行うことができる。
Further, in the electro-optical device manufacturing apparatus of the present invention, a first chamber for accommodating the coating device, a second chamber for accommodating the supporting device and the pressure bonding device, the first chamber and the first chamber. A configuration including a control device that controls the temperatures of the two chambers is adopted. As a result, the adhesive application process and the pressure bonding process can be performed in a desired temperature atmosphere.

【0020】また、本発明の電気光学装置の製造装置に
おいては、前記制御装置は、前記第2室の温度を前記第
1室より高く設定する構成が採用される。これにより、
貼り合わせ領域に配置された接着剤の流動性が増すの
で、接着剤が拡がりやすくなり、圧着や貼り合わせ工程
を円滑に行うことができる。
Further, in the electro-optical device manufacturing apparatus according to the present invention, the control device is configured to set the temperature of the second chamber higher than that of the first chamber. This allows
Since the fluidity of the adhesive disposed in the bonding area is increased, the adhesive is easily spread, and the pressure bonding and the bonding process can be smoothly performed.

【0021】また、本発明の電気光学装置の製造装置に
おいては、前記圧着装置のうち前記第2の部材を保持す
る保持部には、前記接着剤に対して所定の波長を有する
光を照射可能な照射部が設けられている構成が採用され
る。これにより、圧着工程において、第2の部材を圧着
装置で保持してしつつ第1の部材に対して圧着させなが
ら、光を照射することができる。
Further, in the electro-optical device manufacturing apparatus of the present invention, the holding portion for holding the second member of the pressure bonding apparatus can irradiate the adhesive with light having a predetermined wavelength. A configuration in which a different irradiation unit is provided is adopted. Thus, in the crimping step, light can be emitted while the second member is held by the crimping device and crimped to the first member.

【0022】本発明の電気光学装置は、上記いずれかに
記載の電気光学装置の製造装置で製造されたことを特徴
とする。
An electro-optical device according to the present invention is manufactured by the electro-optical device manufacturing apparatus described in any one of the above.

【0023】本発明によれば、第1の部材と第2の部材
とは、凹凸や傾斜をキャンセルされた状態で均一な接着
剤厚さで貼り合わされているので、良好な接着状態が維
持される。
According to the present invention, the first member and the second member are adhered with a uniform adhesive thickness in a state where the unevenness and the inclination are canceled, so that a good adhesive state is maintained. It

【0024】本発明の電子機器は、上記記載の電気光学
装置を備えたことを特徴とする。
Electronic equipment of the present invention is characterized by including the electro-optical device described above.

【0025】本発明によれば、発光素子の劣化が抑制さ
れた高寿命で、且つ薄型の電子機器を得ることができ
る。
According to the present invention, it is possible to obtain a thin and long-life electronic device in which deterioration of the light emitting element is suppressed.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、本発明の電気光学装置の製
造方法及び製造装置、電気光学装置並びに電子機器の実
施の形態を、図面を参照しながら説明する。ここでは、
本発明の電気光学装置を、例えば、有機EL装置とする
場合の例を用いて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of an electro-optical device manufacturing method and device, an electro-optical device, and an electronic apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings. here,
The electro-optical device of the present invention will be described using an example in which the electro-optical device is an organic EL device.

【0027】図1は有機EL装置(電気光学装置)の要
部断面図である。図1において、有機EL装置(電気光
学装置)Aは、基板(第1の部材)1と、基板1上に配
置された発光素子3と、基板1に貼り合わせられる封止
部材としての封止基板(第2の部材)2とを備えてい
る。
FIG. 1 is a sectional view of a main part of an organic EL device (electro-optical device). In FIG. 1, an organic EL device (electro-optical device) A includes a substrate (first member) 1, a light emitting element 3 arranged on the substrate 1, and sealing as a sealing member bonded to the substrate 1. And a substrate (second member) 2.

【0028】ここで、図1に示す有機EL装置Aは、発
光素子3からの発光を基板1側から装置外部に取り出す
形態であり、基板1の形成材料としては、光を透過可能
な透明あるいは半透明材料、例えば、透明なガラス、石
英、サファイア、あるいはポリエステル、ポリアクリレ
ート、ポリカーボネート、ポリエーテルケトンなどの透
明な合成樹脂などが挙げられる。特に、基板1の形成材
料としては、安価なソーダガラスが好適に用いられる。
Here, the organic EL device A shown in FIG. 1 has a form in which light emitted from the light emitting element 3 is taken out from the substrate 1 side to the outside of the device. The material for forming the substrate 1 is transparent or transparent to light. Examples include translucent materials such as transparent glass, quartz, sapphire, and transparent synthetic resins such as polyester, polyacrylate, polycarbonate, and polyetherketone. In particular, inexpensive soda glass is preferably used as the material for forming the substrate 1.

【0029】一方、基板1と反対側から発光を取り出す
形態の場合には、基板1は不透明であってもよく、その
場合、アルミナ等のセラミック、ステンレス等の金属シ
ートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、熱硬化性
樹脂、熱可塑性樹脂などを用いることができる。
On the other hand, when the emitted light is taken out from the side opposite to the substrate 1, the substrate 1 may be opaque. In that case, a ceramic sheet such as alumina or a metal sheet such as stainless steel is subjected to an insulation treatment such as surface oxidation. A resin, a thermosetting resin, a thermoplastic resin or the like can be used.

【0030】発光素子3は、基板1上に形成された陽極
5と、ホール輸送層6と、陽極5が正孔輸送層6と接合
する表面を露出させるように形成された絶縁層7と、有
機発光層8と、電子輸送層9と、陰極10とから概略構
成されている。
The light emitting element 3 includes an anode 5 formed on the substrate 1, a hole transport layer 6, and an insulating layer 7 formed so as to expose a surface where the anode 5 is in contact with the hole transport layer 6. The organic light emitting layer 8, the electron transport layer 9, and the cathode 10 are roughly configured.

【0031】陽極5の材料としては、アルミニウム(A
l)、金(Au)、銀(Ag)、マグネシウム(M
g)、ニッケル(Ni)、亜鉛−バナジウム(Zn
V)、インジウム(In)、スズ(Sn)などの単体
や、これらの化合物或いは混合物や、金属フィラーが含
まれる導電性接着剤などで構成されるが、ここではIT
O(Indium Tin Oxide)を用いている。この陽極5の形
成は、好ましくはスパッタリング、イオンプレーティン
グ、真空蒸着法によって行われ形成するが、スピンコー
タ、グラビアコータ、ナイフコータなどによるWETプ
ロセスコーティング法や、スクリーン印刷、フレキソ印
刷などを用いて形成してもよい。そして、陽極5の光透
過率は、80%以上に設定することが好ましい。
The material of the anode 5 is aluminum (A
l), gold (Au), silver (Ag), magnesium (M
g), nickel (Ni), zinc-vanadium (Zn
V), indium (In), tin (Sn), and other simple substances, their compounds or mixtures, and conductive adhesives containing metal fillers.
O (Indium Tin Oxide) is used. The anode 5 is preferably formed by sputtering, ion plating, or vacuum deposition, but is formed by the WET process coating method using a spin coater, a gravure coater, a knife coater, screen printing, flexo printing, or the like. May be. The light transmittance of the anode 5 is preferably set to 80% or more.

【0032】正孔輸送層6としては、例えば、カルバゾ
ール重合体とTPD:トリフェニル化合物とを共蒸着し
て10〜1000nm(好ましくは、100〜700n
m)の膜厚に形成する。ここで、正孔輸送層6の形成材
料としては、特に限定されることなく公知のものが使用
可能であり、例えばピラゾリン誘導体、アリールアミン
誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導
体等が挙げられる。具体的には、特開昭63−7025
7号、同63−175860号公報、特開平2−135
359号、同2−135361号、同2−209988
号、同3−37992号、同3−152184号公報に
記載されているもの等が例示されるが、トリフェニルジ
アミン誘導体が好ましく、中でも4,4’−ビス(N
(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ)ビフェ
ニルが好適とされる。
As the hole transport layer 6, for example, a carbazole polymer and a TPD: triphenyl compound are co-evaporated to have a thickness of 10 to 1000 nm (preferably 100 to 700 n).
The film thickness is m). Here, the material for forming the hole transport layer 6 is not particularly limited, and known materials can be used, and examples thereof include a pyrazoline derivative, an arylamine derivative, a stilbene derivative, and a triphenyldiamine derivative. Specifically, JP-A-63-7025
No. 7, 63-175860, and JP-A-2-135.
359, 2-135361, 2-209988.
No. 3,37,992, and No. 3-152184 are exemplified, but triphenyldiamine derivatives are preferable, and 4,4′-bis (N
(3-Methylphenyl) -N-phenylamino) biphenyl is preferred.

【0033】なお、正孔輸送層6に代えて正孔注入層を
形成するようにしてもよく、さらに正孔注入層と正孔輸
送層を両方形成するようにしてもよい。その場合、正孔
注入層の形成材料としては、例えば銅フタロシアニン
(CuPc)や、ポリテトラヒドロチオフェニルフェニ
レンであるポリフェニレンビニレン、1,1−ビス−
(4−N,N−ジトリルアミノフェニル)シクロヘキサ
ン、トリス(8−ヒドロキシキノリノール)アルミニウ
ム等が挙げられるが、特に銅フタロシアニン(CuP
c)を用いるのが好ましい。
The hole injection layer may be formed in place of the hole transport layer 6, or both the hole injection layer and the hole transport layer may be formed. In that case, examples of the material for forming the hole injection layer include copper phthalocyanine (CuPc), polyphenylene vinylene that is polytetrahydrothiophenylphenylene, and 1,1-bis-
(4-N, N-ditolylaminophenyl) cyclohexane, tris (8-hydroxyquinolinol) aluminum and the like can be mentioned, but especially copper phthalocyanine (CuP
Preference is given to using c).

【0034】別法として、正孔輸送層6は、例えばイン
クジェット法により、正孔注入、輸送層材料を含む組成
物インクを陽極5上に吐出した後に、乾燥処理及び熱処
理を行うことで陽極5上に形成される。すなわち、上述
した正孔輸送層材料あるいは正孔注入層材料を含む組成
物インクを陽極5の電極面上に吐出した後に、乾燥処理
及び熱処理を行うことにより、陽極5上に正孔輸送層
(正孔注入層)が形成される。例えば、インクジェット
ヘッド(不図示)に正孔輸送層材料あるいは正孔注入層
材料を含む組成物インクを充填し、インクジェットヘッ
ドの吐出ノズルを陽極5の電極面に対向させ、インクジ
ェットヘッドと基板1とを相対移動させながら、吐出ノ
ズルから1滴当たりの液量が制御されたインキ滴を電極
面に吐出する。次に、吐出後のインク滴を乾燥処理して
組成物インクに含まれる極性溶媒を蒸発させることによ
り、正孔輸送層(正孔注入層)が形成される。
Alternatively, the hole transport layer 6 may be formed by ejecting a composition ink containing a hole injecting and transport layer material onto the anode 5 by, for example, an ink jet method, and then performing a drying treatment and a heat treatment. Formed on. That is, after the composition ink containing the hole transport layer material or the hole injection layer material described above is ejected onto the electrode surface of the anode 5, the hole transport layer (on the anode 5 is subjected to a drying treatment and a heat treatment. A hole injection layer) is formed. For example, an ink jet head (not shown) is filled with a composition ink containing a hole transport layer material or a hole injection layer material, the ejection nozzle of the ink jet head is opposed to the electrode surface of the anode 5, and the ink jet head and the substrate 1 are While relatively moving the ink droplets, ink droplets whose liquid amount per droplet is controlled are discharged from the discharge nozzle onto the electrode surface. Next, the ejected ink droplets are dried to evaporate the polar solvent contained in the composition ink to form a hole transport layer (hole injection layer).

【0035】なお、組成物インクとしては、例えば、ポ
リエチレンジオキシチオフェン等のポリチオフェン誘導
体と、ポリスチレンスルホン酸等との混合物を、イソプ
ロピルアルコール等の極性溶媒に溶解させたものを用い
ることができる。ここで、吐出されたインク滴は、親イ
ンク処理された陽極5の電極面上に広がる。その一方
で、撥インク処理された絶縁層7の上面にはインク滴が
はじかれて付着しない。したがって、インク滴が所定の
吐出位置からはずれて絶縁層7の上面に吐出されたとし
ても、該上面がインク滴で濡れることがなく、はじかれ
たインク滴が陽極5上に転がり込むものとされている。
As the composition ink, it is possible to use, for example, a mixture of a polythiophene derivative such as polyethylenedioxythiophene and polystyrene sulfonic acid dissolved in a polar solvent such as isopropyl alcohol. Here, the ejected ink droplets spread on the electrode surface of the anode 5 that has been subjected to the ink-philic treatment. On the other hand, ink drops are repelled and do not adhere to the upper surface of the insulating layer 7 that has been subjected to the ink repellent treatment. Therefore, even if the ink droplet is ejected from the predetermined ejection position onto the upper surface of the insulating layer 7, the upper surface is not wetted by the ink droplet, and the repelled ink droplet is supposed to roll onto the anode 5. There is.

【0036】なお、この正孔輸送層6形成工程以降は、
正孔輸送層6及び有機発光層8の酸化を防止すべく、窒
素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気で行う
ことが好ましい。
After the step of forming the hole transport layer 6,
In order to prevent the hole transport layer 6 and the organic light emitting layer 8 from being oxidized, it is preferable to carry out in an inert gas atmosphere such as a nitrogen atmosphere or an argon atmosphere.

【0037】絶縁層7は、例えば、TEOSや酸素ガス
などを原料としてプラズマCVD法により基板全面にシ
リコン酸化膜または窒化膜を製膜した後、フォトリソグ
ラフィー技術及びエッチング技術を用いてパターン形成
することができる。
The insulating layer 7 is formed by forming a silicon oxide film or a nitride film on the entire surface of the substrate by plasma CVD using TEOS, oxygen gas or the like as a raw material, and then patterning it by using a photolithography technique and an etching technique. You can

【0038】有機発光層8は、上記正孔輸送層6と同様
に、例えばインクジェット法やマスク蒸着法により、発
光層用材料を含む組成物インクを正孔輸送層6上に吐出
した後に乾燥処理または熱処理を施すことで、正孔輸送
層6上に形成される。有機発光層8を構成する発光材料
としては、フルオレン系高分子誘導体や、(ポリ)パラ
フェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポ
リフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチ
オフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン系色素、ロ
ーダミン系色素、その他ベンゼン誘導体に可溶な低分子
有機EL材料、高分子有機EL材料等を用いることがで
きる。なお、インクジェット法に適している材料として
は、例えばパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニ
レン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバ
ゾール、ポリチオフェン誘導体が挙げられ、マスク蒸着
法に適している材料としてはペリレン系色素、クマリン
系色素、ローダミン系色素が挙げられる。
Similar to the hole transport layer 6, the organic light emitting layer 8 is dried by ejecting the composition ink containing the material for the light emitting layer onto the hole transport layer 6 by, for example, an inkjet method or a mask vapor deposition method. Alternatively, it is formed on the hole transport layer 6 by performing heat treatment. As the light emitting material forming the organic light emitting layer 8, a fluorene polymer derivative, a (poly) paraphenylene vinylene derivative, a polyphenylene derivative, a polyfluorene derivative, a polyvinylcarbazole, a polythiophene derivative, a perylene dye, a coumarin dye, and a rhodamine dye are used. A low molecular weight organic EL material, a high molecular weight organic EL material or the like which is soluble in a dye or other benzene derivative can be used. Materials suitable for the inkjet method include, for example, paraphenylene vinylene derivative, polyphenylene derivative, polyfluorene derivative, polyvinylcarbazole, and polythiophene derivative, and materials suitable for the mask vapor deposition method are perylene-based dyes and coumarin-based materials. Examples thereof include dyes and rhodamine dyes.

【0039】また、電子輸送層9としては、金属と有機
配位子から形成される金属錯体化合物、好ましくは、A
lq3(トリス(8-キノリノレート)アルミニウム錯
体)、Znq2(ビス(8-キノリノレート)亜鉛錯体)、
Bebq2(ビス(8-キノリノレート)ベリリウム錯
体)、Zn−BTZ(2-(o-ヒドロキシフェニル)ベ
ンゾチアゾール亜鉛)、ペリレン誘導体などを10〜1
000nm(好ましくは、100〜700nm)の膜厚
になるように蒸着して積層する。
As the electron transport layer 9, a metal complex compound formed from a metal and an organic ligand, preferably A
1q3 (tris (8-quinolinolate) aluminum complex), Znq2 (bis (8-quinolinolate) zinc complex),
Bebq2 (bis (8-quinolinolate) beryllium complex), Zn-BTZ (2- (o-hydroxyphenyl) benzothiazole zinc), perylene derivative, etc.
It is vapor-deposited and laminated so as to have a film thickness of 000 nm (preferably 100 to 700 nm).

【0040】陰極10は、電子輸送層9へ効率的に電子
注入を行える仕事関数の低い金属、好ましくは、Ca、
Au、Mg、Sn、In、Ag、Li、Alなどの単
体、又はこれらの合金、又は化合物で形成することがで
きる。本実施形態では、Caを主体とする陰極、及びA
lを主体とする反射層の2層構成になっている。
The cathode 10 is a metal having a low work function, which is preferably Ca, which can efficiently inject electrons into the electron transport layer 9.
It can be formed of a simple substance such as Au, Mg, Sn, In, Ag, Li or Al, or an alloy or compound thereof. In the present embodiment, a cathode mainly composed of Ca and A
It has a two-layer structure of a reflective layer mainly composed of l.

【0041】なお、図示しないが、本実施の形態の有機
EL装置Aはアクティブマトリクス型であり、実際には
複数のデータ線と複数の走査線とが格子状に配置され、
これらデータ線や走査線に区画されたマトリクス状に配
置された各画素毎にスイッチングトランジスタやドライ
ビングトランジスタ等の駆動用TFTを介して上記の発
光素子3が接続されている。そして、データ線や走査線
を介して駆動信号が供給されると電極間に電流が流れ、
発光素子3が発光して透明な基板1の外面側に光が出射
され、その画素が点灯する。なお、本発明は、アクティ
ブマトリクス型に限られず、パッシブ駆動型の表示素子
にも適用できることはいうまでもない。
Although not shown, the organic EL device A of the present embodiment is an active matrix type, and actually has a plurality of data lines and a plurality of scanning lines arranged in a grid pattern.
The light emitting element 3 is connected to each pixel arranged in a matrix divided into these data lines and scanning lines via a driving TFT such as a switching transistor or a driving transistor. Then, when a drive signal is supplied through the data line or the scanning line, a current flows between the electrodes,
The light emitting element 3 emits light, and light is emitted to the outer surface side of the transparent substrate 1 to light up the pixel. It goes without saying that the present invention is not limited to the active matrix type and can be applied to a passive drive type display element.

【0042】封止基板2は、外部から電極5,10を含
む発光素子3に対して大気が侵入するのを遮断するもの
であって基板1に貼り合わせられる。封止基板2の形成
材料としては、ガラスや石英、サファイア、合成樹脂等
の透明あるいは半透明材料が挙げられる。ガラスとして
は、例えば、ソーダ石灰ガラス、鉛アルカリガラス、ホ
ウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、シリカガラス
などが挙げられる。合成樹脂としては、ポリオレフィ
ン、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネー
ト、ポリエーテルケトンなどの透明な合成樹脂などが挙
げられる。
The sealing substrate 2 blocks the entry of air into the light emitting element 3 including the electrodes 5 and 10 from the outside, and is bonded to the substrate 1. Examples of the material for forming the sealing substrate 2 include transparent or translucent materials such as glass, quartz, sapphire, and synthetic resin. Examples of the glass include soda lime glass, lead alkali glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, silica glass and the like. Examples of the synthetic resin include transparent synthetic resins such as polyolefin, polyester, polyacrylate, polycarbonate, and polyetherketone.

【0043】封止基板2は断面視下向きコ字状に形成さ
れており、基板1上面のうち発光素子3が設けられてい
る部分の外側の領域(貼り合わせ領域)Rと封止基板2
の下端面(貼り合わせ領域)Cとで貼り合わせられるこ
とによって、平板状の基板1と封止基板2との間で封止
空間Kが形成される。電極5,10を含む発光素子3は
この封止空間Kに配置される。また、封止基板2のうち
封止空間K側には乾燥剤11が設けられている。乾燥剤
11により、封止空間Kに配置されている発光素子3の
水分による劣化が抑制される。
The sealing substrate 2 is formed in a U shape facing downward in cross section, and the region (bonding region) R outside the portion where the light emitting element 3 is provided on the upper surface of the substrate 1 and the sealing substrate 2 are sealed.
The sealing space K is formed between the flat substrate 1 and the sealing substrate 2 by being bonded to the lower end surface (bonding region) C of the. The light emitting element 3 including the electrodes 5 and 10 is arranged in the sealed space K. Further, a desiccant 11 is provided on the sealing space K side of the sealing substrate 2. The desiccant 11 suppresses deterioration of the light emitting element 3 arranged in the sealed space K due to moisture.

【0044】基板1と封止基板2とは、接着剤21によ
って接着されている。図2は図1のB−B矢視図であ
る。図2に示すように、基板1の上面において、封止基
板2と貼り合わせられる貼り合わせ領域Rには、接着剤
21が配置されている。接着剤21は、ロ字状の貼り合
わせ領域Rの全体に亘って連続するように配置されてい
る。
The substrate 1 and the sealing substrate 2 are adhered by the adhesive 21. FIG. 2 is a view taken along the line BB of FIG. As shown in FIG. 2, on the upper surface of the substrate 1, an adhesive 21 is arranged in a bonding region R that is bonded to the sealing substrate 2. The adhesive 21 is arranged so as to be continuous over the entire square-shaped bonding region R.

【0045】接着剤21は光硬化性接着剤(光硬化性材
料)によって構成されている。接着剤21を組成する光
硬化性接着剤としては、200〜400nmの紫外線領
域に反応し、紫外線光が照射されることにより短時間
(例えば1〜10秒)で硬化する紫外線(UV)硬化性
接着剤が挙げられる。紫外線硬化性接着剤としては、例
えば、エステルアクリレート、ウレタンアクリレート、
エポキシアクリレート、メラミンアクリレート、エーテ
ルアクリレートなどの各種アクリレート、各種メタクリ
レート等の樹脂を用いたラジカル系接着剤や、エポキシ
化合物、ビニルエーテル化合物、オキタセン化合物など
のカチオン重合を用いたカチオン系接着剤、チオール・
エン付加型樹脂系接着剤などが挙げられ、中でも、酸素
による阻害が無く、光照射後も重合反応が進行するカチ
オン系接着剤が好ましい。カチオン系接着剤としては、
カチオン重合タイプの紫外線硬化型エポキシ系接着剤が
好ましい。カチオン重合タイプの紫外線硬化型エポキシ
系接着剤とは、主たる光重合開始剤として紫外線光等の
光照射による光分解でルイス酸触媒を放出するルイス酸
塩型硬化剤を含み、光照射により発生されたルイス酸が
触媒となって主成分であるエポキシ基を有するオリゴマ
ーがカチオン重合型の反応機構により重合し、硬化する
タイプの接着剤である。
The adhesive 21 is composed of a photocurable adhesive (photocurable material). The photo-curable adhesive that constitutes the adhesive 21 is an ultraviolet (UV) curable adhesive that reacts in the ultraviolet region of 200 to 400 nm and is cured in a short time (for example, 1 to 10 seconds) by being irradiated with ultraviolet light. An adhesive may be used. Examples of the ultraviolet curable adhesive include ester acrylate, urethane acrylate,
Radical adhesives using resins such as various acrylates such as epoxy acrylates, melamine acrylates, ether acrylates, and methacrylates, cationic adhesives using cationic polymerization of epoxy compounds, vinyl ether compounds, octacene compounds, thiols
Examples thereof include ene-addition type resin adhesives, and among them, cationic adhesives that are not inhibited by oxygen and that undergo a polymerization reaction even after irradiation with light are preferable. As a cationic adhesive,
A cationic polymerization type UV-curable epoxy adhesive is preferred. A cationic polymerization type UV-curable epoxy adhesive includes a Lewis acid salt type curing agent that releases a Lewis acid catalyst by photolysis by irradiation with light such as UV light as a main photopolymerization initiator, and is generated by light irradiation. Further, it is a type of adhesive in which the Lewis acid serves as a catalyst and an oligomer having an epoxy group as a main component is polymerized and cured by a cationic polymerization type reaction mechanism.

【0046】上記接着剤の主成分であるエポキシ化合物
としては、エポキシ化オレフィン化合物、芳香族エポキ
シ化合物、脂肪族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合
物、ノボラックエポキシ化合物などが挙げられる。ま
た、上記光重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウムの
ルイス酸塩、ジアリルヨードニウムのルイス酸塩、トリ
アリルスルホニウムのルイス酸塩、トリアリルセレニウ
ムのルイス酸塩などが挙げられる。
Examples of the epoxy compound which is the main component of the adhesive include epoxidized olefin compounds, aromatic epoxy compounds, aliphatic epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds and novolac epoxy compounds. Examples of the photopolymerization initiator include Lewis acid salts of aromatic diazonium, Lewis acid salts of diallyl iodonium, Lewis acid salts of triallyl sulfonium, Lewis acid salts of triallyl selenium, and the like.

【0047】本実施形態においては、アクリル系のラジ
カル重合系接着剤又はエポキシ系のカチオン重合系接着
剤であって、粘度調整や防湿性を考慮して70wt%以
下で粒径5μm以下の無機フィラー(粘土鉱物、超微粒
子材料)が添加され、更に厚み制御のために0.5〜
5.0wt%の範囲で粒径4〜10μmの球状又は針状
スペーサ(無機酸化物系)が添加されている。また、接
着剤21の塗布厚さは4〜10μmに設定されている。
また、これらの無機系材料と接着剤成分との分散性など
を良くするため、シランカップリング剤などに代表され
る界面活性剤を適時添加してもよい。
In the present embodiment, an acrylic radical polymerization adhesive or an epoxy cationic polymerization adhesive, which is an inorganic filler having a particle diameter of 5 μm or less at 70 wt% or less in consideration of viscosity adjustment and moisture resistance. (Clay mineral, ultrafine particle material) is added, and 0.5-
A spherical or acicular spacer (inorganic oxide type) having a particle size of 4 to 10 μm is added in the range of 5.0 wt%. The coating thickness of the adhesive 21 is set to 4 to 10 μm.
Further, in order to improve the dispersibility of these inorganic materials and the adhesive component, a surfactant represented by a silane coupling agent or the like may be added at appropriate times.

【0048】また、本実施形態において、封止基板2と
しては、紫外線光を透過可能なガラス(好ましくは無ア
ルカリガラス)が用いられており、接着剤21と接する
下端面Cの表面粗さが、Ra(算術表面粗さ)1μm以
下、Rmax(最大高さ)3μm以下であるものが用い
られている。また、封止基板2の凹部(封止空間K側)
は、平面ガラスをサンドブラスト又は切削研磨により
0.3〜0.6mm程度に彫り込まれている。
Further, in the present embodiment, glass (preferably alkali-free glass) capable of transmitting ultraviolet light is used as the sealing substrate 2, and the surface roughness of the lower end surface C in contact with the adhesive 21 is , Ra (arithmetic surface roughness) of 1 μm or less and Rmax (maximum height) of 3 μm or less are used. In addition, the concave portion of the sealing substrate 2 (the sealing space K side)
Is engraved with a flat glass by sandblasting or cutting and polishing to a size of about 0.3 to 0.6 mm.

【0049】以上、1つの有機EL装置Aについて説明
した。ここで、本実施形態では、図3に示すように、1
つの基板1に対して複数の発光素子3が設けられ、これ
ら複数の発光素子3のそれぞれに対応するように、複数
の封止基板2が基板1に貼り合わせられる。そして、1
つの基板1上に複数の有機EL装置Aが製造されたら、
それぞれを分割するように基板1が切断される。
The one organic EL device A has been described above. Here, in this embodiment, as shown in FIG.
A plurality of light emitting elements 3 are provided for one substrate 1, and a plurality of sealing substrates 2 are attached to the substrate 1 so as to correspond to the plurality of light emitting elements 3, respectively. And 1
When a plurality of organic EL devices A are manufactured on one substrate 1,
The substrate 1 is cut so as to divide each.

【0050】次に、上述した構成を有する有機EL装置
Aにおいて、基板1と封止基板2とを貼り合わせる工程
について説明する。本実施形態に係る貼り合わせ工程
は、基板1と封止基板2とが貼り合わせられる貼り合わ
せ領域Rに塗布装置を用いて接着剤21を配置する工程
(第1の工程)と、圧着装置で封止基板2を揺動自在に
保持しつつ基板1に対して貼り合わせる工程(第2の工
程)とを有している。そこで、まず、貼り合わせ領域R
に対して接着剤21を配置可能な塗布装置について図4
を参照しながら説明する。
Next, the step of bonding the substrate 1 and the sealing substrate 2 in the organic EL device A having the above-mentioned structure will be described. The bonding step according to the present embodiment includes a step of arranging the adhesive 21 in the bonding region R where the substrate 1 and the sealing substrate 2 are bonded by using a coating device (first step), and a pressure bonding device. And a step (second step) of attaching the sealing substrate 2 to the substrate 1 while swingably holding the sealing substrate 2. Therefore, first, the bonding region R
FIG. 4 shows a coating device in which the adhesive 21 can be arranged with respect to FIG.
Will be described with reference to.

【0051】図4に示すように、基板1に接着剤21を
塗布可能な塗布装置系S1は、基板1を支持可能なステ
ージST1と、ステージST1に支持されている基板1
に対して接着剤21を配置可能な塗布装置31とを備え
ている。なお、図4では、1つの有機EL装置Aに対応
する部分の基板1が模式的に描かれているが、実際には
図3で説明したように、1つの基板1上に接着剤21を
配置すべき貼り合わせ領域Rは複数ある。
As shown in FIG. 4, the coating apparatus system S1 capable of coating the substrate 21 with the adhesive 21 includes a stage ST1 capable of supporting the substrate 1 and the substrate 1 supported by the stage ST1.
And a coating device 31 on which the adhesive 21 can be placed. Note that, in FIG. 4, the portion of the substrate 1 corresponding to one organic EL device A is schematically drawn, but actually, as described in FIG. 3, the adhesive 21 is provided on one substrate 1. There are a plurality of bonding areas R to be arranged.

【0052】ステージST1は、水平面内の一方向であ
るX軸方向、水平面内においてX軸方向と直交する方向
であるY軸方向、X軸方向及びY軸方向に直交するZ軸
方向のそれぞれに移動可能となっている。ステージST
1は、例えば真空チャック、あるいは静電チャックによ
って基板1を保持する。そして、ステージST1に載置
された基板1に対して、塗布装置31より、接着剤21
が配置される。
The stage ST1 is arranged in each of the X-axis direction which is one direction in the horizontal plane, the Y-axis direction which is the direction orthogonal to the X-axis direction in the horizontal plane, and the Z-axis direction which is orthogonal to the X-axis direction and the Y-axis direction. It is movable. Stage ST
1 holds the substrate 1 by, for example, a vacuum chuck or an electrostatic chuck. Then, the adhesive 21 is applied to the substrate 1 placed on the stage ST1 from the coating device 31.
Are placed.

【0053】塗布装置31は、基板1に対して接着剤2
1を定量的に滴下可能な滴下装置によって構成されてい
る。滴下装置は流動体を定量的に吐出可能であって、流
動体を定量的に断続して滴下可能な装置である。したが
って、滴下装置である塗布装置21から滴下される接着
剤は流動体とされている。
The coating device 31 applies the adhesive 2 to the substrate 1.
1 is composed of a dropping device capable of quantitatively dropping. The dropping device is a device that can quantitatively discharge the fluid and can intermittently and intermittently drip the fluid. Therefore, the adhesive dropped from the coating device 21, which is a dropping device, is a fluid.

【0054】流動体とは、滴下装置のノズルから吐出可
能(滴下可能)な粘度を備えた媒体をいう。ノズル等か
ら吐出可能な流動性(粘度)を備えていれば十分で、材
料(この場合接着剤)を有機溶媒に溶解あるいは分散し
たものや、材料を融点以上に加熱して流動体としたもの
が挙げられる。また、流動体中には、前述したようにス
ペーサー等の固体物質が混入されていても全体として流
動体であればよい。また、溶媒の他に染料や顔料その他
の機能性材料を添加したものであってもよい。
The fluid is a medium having a viscosity capable of being discharged (dripping) from the nozzle of the dropping device. It is enough that the material has fluidity (viscosity) that can be discharged from a nozzle, etc., and the material (in this case, an adhesive) is dissolved or dispersed in an organic solvent, or the material is heated to a temperature above its melting point to form a fluid. Is mentioned. In addition, even if a solid substance such as a spacer is mixed in the fluid as described above, it may be a fluid as a whole. In addition to the solvent, a dye, a pigment or other functional material may be added.

【0055】滴下装置としては、ディスペンサやインク
ジェット装置が挙げられる。例えば、接着剤の塗布方法
としてインクジェット方式を採用することにより、安価
な設備で基板1上面の任意の位置に任意の塗布厚さで接
着剤を付着させることができる。なお、インクジェット
方式としては、圧電体素子の体積変化により流動体を吐
出させるピエゾジェット方式であっても、熱の印加によ
り急激に蒸気が発生することにより流動体を吐出させる
方式であってもよい。
Examples of the dropping device include a dispenser and an ink jet device. For example, by adopting an inkjet method as a method of applying the adhesive, the adhesive can be attached to an arbitrary position on the upper surface of the substrate 1 at an arbitrary coating thickness with inexpensive equipment. The inkjet method may be a piezo jet method in which the fluid is ejected by a change in the volume of the piezoelectric element, or a method in which the fluid is ejected by rapidly generating steam by applying heat. .

【0056】塗布装置31は、ステージST1に載置さ
れている基板1に対して移動可能に設けられており、X
軸方向、Y軸方向、Z軸方向のそれぞれに移動可能に設
けられている。したがって、塗布装置31は、ステージ
ST1上に載置されている基板1に対して移動しつつ接
着剤を吐出することにより、接着剤21を所定のパター
ンで配置可能となっている。なお、接着剤21を基板1
上に塗布するに際し、ステージST1側を移動させつつ
塗布してもよい。
The coating device 31 is provided so as to be movable with respect to the substrate 1 placed on the stage ST1, and X
It is movably provided in each of the axial direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction. Therefore, the coating device 31 can arrange the adhesive 21 in a predetermined pattern by discharging the adhesive while moving with respect to the substrate 1 placed on the stage ST1. The adhesive 21 is applied to the substrate 1
When applying on top, you may apply, moving the stage ST1 side.

【0057】また、塗布装置31は、基板1表面との距
離を検出可能な検出装置41を備えている。検出装置4
1は光学式センサによって構成されており、検出光を基
板1上に照射し、前記照射した検出光に基づいて基板1
から発生した光を受光することによって、基板1との距
離を検出可能であり、図4(b)に示すように、塗布装
置31と基板1とのZ方向における距離を検出可能であ
る。塗布装置31は、検出装置41の検出結果に基づい
て、基板1に対する高さ方向(Z方向)の位置を調整さ
れるようになっており、最適な高さ位置(Z方向におけ
る位置)から基板1に対して接着剤を滴下するようにな
っている。こうすることにより、基板1の表面が凹凸を
有していても、塗布装置31のノズル31aと基板1と
の干渉を抑えて基板1の損傷が防止される。なお、検出
装置41は塗布装置31に固定されている構成でもよい
し、塗布装置31に対して独立して設けられた構成でも
よい。塗布装置31に対して独立して設けられた構成で
は、検出装置は、塗布装置のノズル先端と基板1との距
離を光学的に検出する。
Further, the coating device 31 includes a detection device 41 capable of detecting the distance from the surface of the substrate 1. Detection device 4
Reference numeral 1 denotes an optical sensor, which irradiates the substrate 1 with detection light, and the substrate 1 is irradiated with the detection light.
The distance from the substrate 1 can be detected by receiving the light generated from the substrate 1. As shown in FIG. 4B, the distance between the coating device 31 and the substrate 1 in the Z direction can be detected. The coating device 31 is adapted to adjust the position in the height direction (Z direction) with respect to the substrate 1 based on the detection result of the detection device 41, and to adjust the substrate from the optimum height position (position in the Z direction). The adhesive is dropped onto the first layer. By doing so, even if the surface of the substrate 1 has irregularities, the interference between the nozzles 31a of the coating device 31 and the substrate 1 is suppressed and damage to the substrate 1 is prevented. The detection device 41 may be fixed to the coating device 31 or may be provided separately from the coating device 31. In the configuration provided independently of the coating device 31, the detection device optically detects the distance between the nozzle tip of the coating device and the substrate 1.

【0058】塗布装置31は、基板1上において予め設
定されている貼り合わせ領域Rに対して接着剤21を配
置する。接着剤21を配置する際に、塗布装置31はX
軸方向及びY軸方向に移動しつつ、接着剤21を、貼り
合わせ領域Rに対して塗布する。このとき、上述したよ
うに、塗布装置31は、検出装置41の検出結果に基づ
いて、基板1との距離を調整しながら塗布動作(吐出動
作)を行う。こうして、接着剤21は所定のパターンで
配置される。
The coating device 31 disposes the adhesive 21 on the bonding area R set in advance on the substrate 1. When arranging the adhesive 21, the coating device 31 moves X
The adhesive 21 is applied to the bonding region R while moving in the axial direction and the Y-axis direction. At this time, as described above, the coating device 31 performs the coating operation (ejection operation) while adjusting the distance from the substrate 1 based on the detection result of the detection device 41. In this way, the adhesive 21 is arranged in a predetermined pattern.

【0059】ここで、塗布装置31は、図5に示すよう
に、接着剤21を貼り合わせ領域Rにおける少なくとも
2箇所以上で不連続に、その他の部分で連続的に配置す
る。本実施形態では、図5(a)に示すように、貼り合
わせ領域Rのうち対向する2つのエッジ部のそれぞれが
不連続に、残りの部分が連続に配置される。すなわち、
接着剤21は貼り合わせ領域Rにおけるエッジ部におい
て不連続となるように配置される。なお、図5(b)に
示すように、接着剤21は貼り合わせ領域Rの4つのエ
ッジ部で不連続に配置されてもよいし、図5(c)に示
すように、辺部において不連続に配置されてもよい。
Here, as shown in FIG. 5, the coating device 31 disposes the adhesive 21 discontinuously in at least two places in the bonding region R and continuously in the other parts. In the present embodiment, as shown in FIG. 5A, the two opposing edge portions of the bonding region R are discontinuously arranged, and the remaining portions are continuously arranged. That is,
The adhesive 21 is arranged so as to be discontinuous at the edge portion in the bonding region R. Note that, as shown in FIG. 5B, the adhesive 21 may be discontinuously arranged at the four edge portions of the bonding region R, or as shown in FIG. You may arrange | position continuously.

【0060】また、塗布装置31と貼り合わせ領域Rと
の位置合わせは、例えば基板1に設けられている不図示
の位置合わせ用マーク(アライメントマーク)を用いて
行うことが可能である。例えば、不図示のアライメント
マーク位置検出用センサでアライメントマーク位置を光
学的に検出し、この検出結果に基づいて、アライメント
マークに対して一義的に位置が設定されている貼り合わ
せ領域Rと、塗布装置31との位置合わせが行われる。
The alignment between the coating device 31 and the bonding area R can be performed using, for example, an alignment mark (alignment mark) (not shown) provided on the substrate 1. For example, an alignment mark position detection sensor (not shown) optically detects the alignment mark position, and based on the detection result, the bonding region R where the position is uniquely set with respect to the alignment mark, and the coating The alignment with the device 31 is performed.

【0061】また、塗布装置31を含む塗布装置系S1
は、第1チャンバ(第1室)H1内に収容されている。
この第1チャンバH1内部は制御装置CONTによって
所定の温度に調整されている。
Further, a coating apparatus system S1 including the coating apparatus 31.
Are housed in the first chamber (first chamber) H1.
The inside of the first chamber H1 is adjusted to a predetermined temperature by the controller CONT.

【0062】次に、封止基板2を揺動自在に保持しつつ
基板1に対して圧着させて貼り合わせる圧着装置につい
て図6を参照しながら説明する。図6は圧着装置40を
含む圧着装置系S2の概略斜視図である。なお、図6で
は、1つの有機EL装置Aに対応する部分の基板1が模
式的に描かれているが、実際には図3で説明したよう
に、1つの基板1上に封止基板2を貼り合わせるべき貼
り合わせ領域Rは複数ある。
Next, a crimping device for crimping and bonding the sealing substrate 2 to the substrate 1 while swingably holding the sealing substrate 2 will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a schematic perspective view of the crimping device system S2 including the crimping device 40. Note that, in FIG. 6, the substrate 1 of the portion corresponding to one organic EL device A is schematically drawn, but actually, as described in FIG. 3, the sealing substrate 2 is provided on one substrate 1. There are a plurality of bonding regions R to be bonded.

【0063】図6に示すように、基板1に封止基板2を
貼り合わせる圧着装置系S2は、接着剤21が配置され
た基板1を支持可能なステージ(支持装置)ST2と、
封止基板2を揺動自在に保持しつつステージST2に支
持されている基板1に対して所定の力で圧着させて貼り
合わせる圧着装置50とを備えている。
As shown in FIG. 6, a pressure bonding device system S2 for bonding the sealing substrate 2 to the substrate 1 includes a stage (supporting device) ST2 capable of supporting the substrate 1 on which the adhesive 21 is arranged,
A pressure-bonding device 50 that pressure-bonds the sealing substrate 2 to the substrate 1 supported by the stage ST2 with a predetermined force and holds the sealing substrate 2 while swinging the sealing substrate 2 is provided.

【0064】ステージST2は、水平面内の一方向であ
るX軸(第1の軸線)方向、水平面内においてX軸方向
と直交する方向であるY軸(第2の軸線)方向、X軸方
向及びY軸方向に直交するZ軸方向のそれぞれに移動可
能となっている。ここで、ステージST2は基板1を水
平に支持するので、X軸方向は基板1の上面(所定面)
に平行な方向、Y軸方向は基板1の上面(所定面)に平
行且つX軸方向と直交する方向となっている。ステージ
ST2は、例えば真空チャック、あるいは静電チャック
によって基板1を保持する。そして、ステージST2に
載置された基板1に対して、圧着装置50に保持された
封止基板2が圧着されて貼り合わせられる。
The stage ST2 has an X-axis (first axis) direction which is one direction in the horizontal plane, a Y-axis (second axis line) direction which is a direction orthogonal to the X-axis direction in the horizontal plane, an X-axis direction and It is movable in each of the Z-axis directions orthogonal to the Y-axis direction. Here, since the stage ST2 supports the substrate 1 horizontally, the upper surface (predetermined surface) of the substrate 1 in the X-axis direction.
And the Y-axis direction are parallel to the upper surface (predetermined surface) of the substrate 1 and orthogonal to the X-axis direction. The stage ST2 holds the substrate 1 by, for example, a vacuum chuck or an electrostatic chuck. Then, the sealing substrate 2 held by the pressure bonding device 50 is pressure-bonded to the substrate 1 placed on the stage ST2 and bonded.

【0065】圧着装置50は、本体部51と、本体部5
1に連結部52を介して連結され、封止基板2を保持す
る保持部53とを備えている。圧着装置50は、ステー
ジST2に載置されている基板1に対して移動可能に設
けられており、X軸方向、Y軸方向、Z軸方向のそれぞ
れに移動可能に設けられている。そして、下方(−Z軸
方向)に移動することにより、保持している封止基板2
をステージST2に支持されている基板1に対して圧着
する。
The crimping device 50 comprises a body 51 and a body 5.
1 and a holding portion 53 that holds the sealing substrate 2 and that is connected via a connecting portion 52. The pressure bonding device 50 is provided so as to be movable with respect to the substrate 1 placed on the stage ST2, and is provided so as to be movable in each of the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction. Then, the sealing substrate 2 being held is moved by moving downward (−Z axis direction).
Is pressed against the substrate 1 supported by the stage ST2.

【0066】圧着装置50のうち保持部53は平板状に
形成されており、封止基板2の上面に当接して接続可能
となっている。連結部52は、本体部51に対して保持
部53を揺動可能に支持する揺動部材52A、52B、
52Cと、支点部52Gとを有している。揺動部材52
A〜52Cは、例えばスプリングやエアシリンダなどの
弾性変形可能部材によって構成されている。また、支点
部52Gは、上端及び下端にボールジョイントを有して
おり、このボールジョイントを介して本体部51及び保
持部53に対して連結されている。そして、支点部52
Gは保持部53の平面視中央部に連結されており、揺動
部材52A〜52Cのそれぞれは、保持部53の周りを
囲むように等間隔で配置され、保持部53に連結されて
いる。保持部53は、本体部51に対して、揺動部材5
2A〜52Cによって少なくとも3点で支持されること
により、少なくとも、X軸まわり方向と、Y軸回り方向
とに揺動自在に支持され、本実施形態では、ステージS
T2に対する傾斜方向に揺動自在に支持されている。し
たがって、保持部53は、保持した封止基板2を、ステ
ージST2に支持されている基板1の上面(所定面)に
対して、少なくとも、X軸まわり方向及びY軸まわり方
向に揺動自在に保持し、本実施形態では、封止基板2を
基板1の上面に対する傾斜方向に揺動自在に保持してい
る。
The holding portion 53 of the crimping device 50 is formed in a flat plate shape and can be connected to the upper surface of the sealing substrate 2 by contacting it. The connecting portion 52 includes swing members 52A and 52B that swingably support the holding portion 53 with respect to the main body portion 51.
It has 52C and a fulcrum part 52G. Swing member 52
A to 52C are configured by elastically deformable members such as springs and air cylinders. Further, the fulcrum portion 52G has ball joints at the upper and lower ends, and is connected to the main body portion 51 and the holding portion 53 via the ball joints. And the fulcrum part 52
G is connected to the central portion of the holding portion 53 in plan view, and the swinging members 52A to 52C are arranged at equal intervals so as to surround the holding portion 53 and are connected to the holding portion 53. The holding portion 53 is different from the main body portion 51 in the swinging member 5.
By being supported by at least three points by 2A to 52C, it is supported so as to be swingable at least in the X axis rotation direction and the Y axis rotation direction. In the present embodiment, the stage S
It is swingably supported in the direction of inclination with respect to T2. Therefore, the holding unit 53 can swing the held sealing substrate 2 at least in the X-axis direction and the Y-axis direction with respect to the upper surface (predetermined surface) of the substrate 1 supported by the stage ST2. In this embodiment, the sealing substrate 2 is held so as to be swingable in the direction of inclination with respect to the upper surface of the substrate 1.

【0067】そして、圧着装置50及びステージST2
を含む圧着装置系S2は、第2チャンバ(第2室)H2
内に収容されている。この第2チャンバH2内部は制御
装置CONTによって所定の温度に調整されている。こ
こで、制御装置CONTは、第2チャンバH2内部の温
度を、塗布装置系S1を収容している第1チャンバH1
内部の温度より高くなるように設定する。
Then, the pressure bonding device 50 and the stage ST2
Is a second chamber (second chamber) H2.
It is housed inside. The inside of the second chamber H2 is adjusted to a predetermined temperature by the controller CONT. Here, the controller CONT controls the temperature inside the second chamber H2 to the first chamber H1 which houses the coating apparatus system S1.
Set so that it is higher than the internal temperature.

【0068】図7(a)は圧着装置50の側面図、図7
(b)は圧着装置50のうち保持部53を下方(−Z
側)から見た図である。図7に示すように、圧着装置5
0は、紫外線光を射出する光源装置54と、光源装置5
4からの紫外線光を、保持部53下面に設けられている
照射部55に導く光ファイバ(分岐装置)56とを備え
ている。光源装置54からの紫外線光を射出可能な照射
部55は保持部53の複数箇所に設けられており、本実
施形態では、図7(b)に示すように、平面視矩形状の
保持部53の四隅にそれぞれ設けられている。そして、
光ファイバ56は、1つの光源装置54から射出された
紫外線光を、複数の照射部55のそれぞれに分岐するも
のである。光源装置54からの紫外線光は、光ファイバ
56を介して複数の照射部55のそれぞれから射出す
る。
FIG. 7A is a side view of the crimping device 50, and FIG.
In (b), the holding portion 53 of the crimping device 50 is moved downward (-Z
It is the figure seen from the side. As shown in FIG. 7, the crimping device 5
Reference numeral 0 denotes a light source device 54 that emits ultraviolet light, and a light source device 5
An optical fiber (branching device) 56 that guides the ultraviolet light from 4 to the irradiation unit 55 provided on the lower surface of the holding unit 53 is provided. The irradiation unit 55 capable of emitting the ultraviolet light from the light source device 54 is provided at a plurality of positions of the holding unit 53, and in the present embodiment, as shown in FIG. 7B, the holding unit 53 having a rectangular shape in plan view. It is provided in each of the four corners. And
The optical fiber 56 is for branching the ultraviolet light emitted from one light source device 54 to each of the plurality of irradiation units 55. The ultraviolet light from the light source device 54 is emitted from each of the plurality of irradiation units 55 via the optical fiber 56.

【0069】更に、圧着装置50は、保持部53の下面
に設けられた吸着穴62と、吸着穴62に対して流路6
3を介して接続されている真空ポンプ(吸着装置)64
とを備えている。本実施形態において、吸着穴62は保
持部53下面のほぼ中央部に設けられており、流路63
は支点部52G内部を通過する。圧着装置50は、保持
部53を封止基板2に当接させ、真空ポンプ64を作動
することにより、吸着穴62を介して真空吸着により封
止基板2を保持し、搬送可能となっている。
Further, the crimping device 50 has the suction holes 62 provided on the lower surface of the holding portion 53 and the flow path 6 with respect to the suction holes 62.
Vacuum pump (adsorption device) 64 connected via 3
It has and. In the present embodiment, the suction hole 62 is provided in the substantially central portion of the lower surface of the holding portion 53, and the flow passage 63 is provided.
Passes inside the fulcrum portion 52G. The pressure bonding device 50 holds the sealing substrate 2 by vacuum suction through the suction holes 62 by bringing the holding portion 53 into contact with the sealing substrate 2 and operating the vacuum pump 64, so that the sealing substrate 2 can be transported. .

【0070】なお、吸着穴62の配置位置や数は任意に
設定可能である。例えば、図8(a)に示すように、吸
着穴62は2つでもよいし、図8(b)に示すように3
つでもよい。また、照射部55の配置位置や数も任意に
設定可能である。ここで、吸着穴62は、平面視におい
て照射部55より保持部53中央側(つまり内側)配置
されていることが好ましい。なお、圧着装置50は静電
チャックなど他の方法によって封止基板2を保持しても
よい。
The position and number of the suction holes 62 can be set arbitrarily. For example, two suction holes 62 may be provided as shown in FIG. 8A, or three suction holes 62 may be provided as shown in FIG.
You can choose one. Further, the arrangement position and the number of the irradiation units 55 can be set arbitrarily. Here, it is preferable that the suction hole 62 is disposed on the center side (that is, inside) of the holding unit 53 with respect to the irradiation unit 55 in a plan view. The pressure bonding device 50 may hold the sealing substrate 2 by another method such as an electrostatic chuck.

【0071】ここで、図9を参照しながら、圧着装置系
S2の全体構成の概略について説明する。図9(a)は
圧着装置系S2の平面図であり、図9(b)は図9
(a)の側面図である。圧着装置系S2において、圧着
装置50は、X軸方向に延びるガイド部72に案内され
つつX軸方向に移動可能な移動装置71に支持されてい
る。ガイド部72は支持台70に支持されている。ま
た、移動装置71は圧着装置50をY軸方向及びZ軸方
向のそれぞれに移動可能に支持している。
Here, with reference to FIG. 9, an outline of the entire structure of the crimping device system S2 will be described. 9A is a plan view of the crimping device system S2, and FIG. 9B is a plan view thereof.
It is a side view of (a). In the pressure bonding device system S2, the pressure bonding device 50 is supported by a moving device 71 that is movable in the X axis direction while being guided by a guide portion 72 extending in the X axis direction. The guide portion 72 is supported by the support base 70. Further, the moving device 71 supports the crimping device 50 so as to be movable in each of the Y-axis direction and the Z-axis direction.

【0072】ステージST2に支持された基板1上に
は、図3を用いて説明したように、複数の封止基板2が
貼り合わせられるようになっている。封止基板2は基板
1に対して貼り合わせられる前に、封止基板トレーTに
載置され、ライブラリLBに保管されている。ライブラ
リLBの封止基板トレーTは、搬送装置73によってY
軸方向に搬送されるようになっている。具体的には、封
止基板トレーTは、搬送装置73によって、図9(a)
に示す位置P1とライブラリLBとの間で搬送される。
なお、搬送装置73はY軸方向に延びるガイド部74に
案内されながらY軸方向に移動する。また、圧着装置5
0も移動装置71によってX軸方向に移動することによ
り、位置P1に配置された封止基板トレーTにアクセス
可能となっている。
On the substrate 1 supported by the stage ST2, a plurality of sealing substrates 2 are bonded together as described with reference to FIG. The sealing substrate 2 is placed on the sealing substrate tray T and stored in the library LB before being bonded to the substrate 1. The sealed substrate tray T of the library LB is transferred by the transfer device 73 to Y.
It is designed to be transported in the axial direction. Specifically, the sealing substrate tray T is moved by the transfer device 73 as shown in FIG.
The sheet is conveyed between the position P1 shown in and the library LB.
The transport device 73 moves in the Y-axis direction while being guided by the guide portion 74 extending in the Y-axis direction. Also, the crimping device 5
By moving 0 also in the X-axis direction by the moving device 71, the sealed substrate tray T arranged at the position P1 can be accessed.

【0073】圧着装置50でステージST2に載置され
た基板1に封止基板2を貼り合わせる際には、ライブラ
リLBに保管されている封止基板2が封止基板トレーT
ごと搬送装置73によって位置P1に移動され、配置さ
れる。そして、位置P1に配置された封止基板トレーT
上の封止基板2に対して圧着装置50が移動装置71に
よってアクセスする。圧着装置50は、位置P1におい
て封止基板トレーT上の封止基板2を吸着保持する。次
いで、圧着装置50は保持した封止基板2をアライメン
ト装置75に搬送し、このアライメント装置75上に載
置する。
When the sealing substrate 2 is attached to the substrate 1 placed on the stage ST2 by the pressure bonding device 50, the sealing substrate 2 stored in the library LB is transferred to the sealing substrate tray T.
It is moved to the position P1 by the carrier device 73 and is arranged. Then, the sealing substrate tray T arranged at the position P1
The crimping device 50 accesses the upper sealing substrate 2 by the moving device 71. The pressure bonding device 50 sucks and holds the sealing substrate 2 on the sealing substrate tray T at the position P1. Next, the pressure bonding device 50 conveys the held sealing substrate 2 to the alignment device 75 and places it on the alignment device 75.

【0074】アライメント装置75は、基板1の貼り合
わせ領域Rと封止基板2の下端面Cとが一致するよう
に、封止基板2の姿勢を制御する。すなわち、アライメ
ント装置75は、不図示のアライメントセンサと、載置
した封止基板2をZ軸まわりに回転可能なテーブル75
aとを有しており、アライメントセンサでテーブル75
aに載置された封止基板2の位置(姿勢)を検出しつつ
テーブル75aをZ軸まわりに回転させ、ステージST
2上において基板1の貼り合わせ領域Rと封止基板2の
下端面Cとが一致するように、封止基板2の姿勢を調整
する。
The alignment device 75 controls the posture of the sealing substrate 2 so that the bonding region R of the substrate 1 and the lower end surface C of the sealing substrate 2 are aligned with each other. That is, the alignment device 75 includes an alignment sensor (not shown) and a table 75 that can rotate the mounted sealing substrate 2 around the Z axis.
a and has a table 75 with an alignment sensor.
The table 75a is rotated around the Z axis while detecting the position (orientation) of the sealing substrate 2 placed on the stage ST.
The posture of the sealing substrate 2 is adjusted so that the bonding region R of the substrate 1 and the lower end surface C of the sealing substrate 2 are aligned with each other on 2.

【0075】アライメント装置75で封止基板2の姿勢
を調整したら、この封止基板2を圧着装置50が吸着保
持し、ステージST2上に搬送する。ステージST2上
の基板1と封止基板2との位置合わせは、例えば基板1
に設けられている不図示の位置合わせ用マーク(アライ
メントマーク)を用いて行うことが可能である。例え
ば、不図示のアライメントマーク位置検出用センサでア
ライメントマーク位置を光学的に検出し、この検出結果
に基づいて、圧着装置50に保持されている封止基板2
とステージST2上の基板1との位置合わせが行われ
る。そして、位置合わせしつつステージST2に支持さ
れている基板1に対して封止基板2が貼り合わせられ
る。
After the orientation of the sealing substrate 2 is adjusted by the alignment device 75, the pressure bonding device 50 sucks and holds the sealing substrate 2 and conveys it onto the stage ST2. The substrate 1 on the stage ST2 and the sealing substrate 2 are aligned with each other by, for example, the substrate 1
It is possible to perform it by using an alignment mark (alignment mark) (not shown) provided in the. For example, the alignment mark position detection sensor (not shown) optically detects the alignment mark position, and based on the detection result, the sealing substrate 2 held by the pressure bonding device 50.
And the substrate 1 on the stage ST2 are aligned. Then, the sealing substrate 2 is attached to the substrate 1 supported by the stage ST2 while being aligned.

【0076】上述した動作を繰り返すことにより、基板
1上に複数の封止基板2が貼り合わせられる。位置P1
に配置されている封止基板トレーTが空になったら、搬
送装置73は空の封止基板トレーTをライブラリLBに
戻す。
By repeating the above-mentioned operation, the plurality of sealing substrates 2 are bonded onto the substrate 1. Position P1
When the sealed substrate tray T arranged at is empty, the transport device 73 returns the empty sealed substrate tray T to the library LB.

【0077】次に、基板1と封止基板2とを貼り合わせ
る工程について図10を参照しながら説明する。まず、
図10(a)に示すように、発光素子3を備えた基板1
の貼り合わせ領域Rに対して、塗布装置31により接着
剤21が配置される。塗布装置31は、図5を用いて説
明したように、貼り合わせ領域Rにおいて接着剤21を
不連続に配置する。
Next, the step of bonding the substrate 1 and the sealing substrate 2 together will be described with reference to FIG. First,
As shown in FIG. 10A, the substrate 1 including the light emitting element 3 is provided.
The adhesive 21 is arranged by the coating device 31 in the bonding region R of. As described with reference to FIG. 5, the coating device 31 disposes the adhesive 21 in the bonding region R discontinuously.

【0078】ここで、第1チャンバH1内部は、発光素
子3の劣化を防ぐために、窒素ガスやアルゴンガスなど
の不活性ガスで満たされている。したがって、接着剤2
1の塗布工程(第1の工程)は不活性ガス雰囲気下で行
われる。
Here, in order to prevent the deterioration of the light emitting element 3, the inside of the first chamber H1 is filled with an inert gas such as nitrogen gas or argon gas. Therefore, the adhesive 2
The first coating step (first step) is performed in an inert gas atmosphere.

【0079】塗布装置31によって接着剤21を基板1
に配置するに際し、制御装置CONTは、第1チャンバ
H1を所定の温度及び圧力に調整する。ここで、制御装
置CONTは、基板1に配置された接着剤21のパター
ン形状を保持可能な程度に第1チャンバH1内部の温度
を所定温度(例えば接着剤21の自重変形温度以下)に
設定する。具体的には、常温あるいは常温以下(例えば
10〜30℃程度)に設定する。第1チャンバH1を低
い温度に設定することにより、基板1に配置された接着
剤21の流動性を低くすることができるので、基板1に
配置された接着剤21のパターン形状を保持することが
できる。また、第1チャンバH1内部の圧力は大気圧程
度に設定されていることが好ましい。
The adhesive 21 is applied to the substrate 1 by the coating device 31.
In arranging the first chamber H1, the controller CONT adjusts the first chamber H1 to a predetermined temperature and pressure. Here, the control device CONT sets the temperature inside the first chamber H1 to a predetermined temperature (for example, the self-weight deformation temperature of the adhesive 21 or less) so that the pattern shape of the adhesive 21 arranged on the substrate 1 can be held. . Specifically, it is set at room temperature or below room temperature (for example, about 10 to 30 ° C.). By setting the first chamber H1 at a low temperature, the fluidity of the adhesive 21 placed on the substrate 1 can be lowered, and therefore the pattern shape of the adhesive 21 placed on the substrate 1 can be maintained. it can. Further, the pressure inside the first chamber H1 is preferably set to about atmospheric pressure.

【0080】基板1に接着剤21を配置したら、不図示
の搬送装置によって基板1を圧着装置系S2のステージ
ST2に搬送する。基板1とステージST2との位置合
わせは、例えば基板1に設けられている不図示の位置合
わせ用マーク(アライメントマーク)を用いて行うこと
が可能である。そして、不図示のアライメントマーク位
置検出用センサでアライメントマーク位置を光学的に検
出し、この検出結果に基づいて、ステージST2に対す
る基板1の位置合わせが行われる。
After the adhesive 21 is placed on the substrate 1, the substrate 1 is transported to the stage ST2 of the pressure bonding device system S2 by a transport device (not shown). The alignment of the substrate 1 and the stage ST2 can be performed using, for example, an alignment mark (alignment mark) (not shown) provided on the substrate 1. Then, the alignment mark position detection sensor (not shown) optically detects the alignment mark position, and the substrate 1 is aligned with the stage ST2 based on the detection result.

【0081】そして、図10(b)に示すように、圧着
装置50によって基板1に対して封止基板2を貼り合わ
せる。圧着装置50は、封止基板2の下端面Cと、基板
1のうち接着剤21が配置されている貼り合わせ領域R
とを位置合わせしつつ、下端面Cと貼り合わせ領域Rと
を当接し、基板1と封止基板2とを所定の力で圧着す
る。本実施形態において、圧着装置50による圧着力
は、例えば98〜980kPaに設定される。
Then, as shown in FIG. 10B, the sealing substrate 2 is attached to the substrate 1 by the pressure bonding device 50. The pressure bonding device 50 includes a lower end surface C of the sealing substrate 2 and a bonding region R of the substrate 1 where the adhesive 21 is arranged.
While aligning and, the lower end surface C and the bonding region R are brought into contact with each other, and the substrate 1 and the sealing substrate 2 are pressure-bonded with a predetermined force. In the present embodiment, the crimping force by the crimping device 50 is set to 98 to 980 kPa, for example.

【0082】ここで、封止基板2を保持する保持部53
は本体部51に対して揺動自在に支持されているので、
基板1の貼り合わせ領域Rや封止基板2の下端面Cに凹
凸があったり、基板1や封止基板2にうねりがあった
り、基板1に対して封止基板2が傾斜しているような場
合でも、揺動によってうねりや傾斜をキャンセルでき
る。したがって、基板1と封止基板2とは均一の接着剤
厚さで貼り合わせられる。
Here, a holding portion 53 for holding the sealing substrate 2
Is swingably supported with respect to the main body 51,
It seems that the bonding region R of the substrate 1 or the lower end surface C of the sealing substrate 2 has irregularities, the substrate 1 or the sealing substrate 2 has undulations, and the sealing substrate 2 is inclined with respect to the substrate 1. Even in such a case, it is possible to cancel the swell and tilt by swinging. Therefore, the substrate 1 and the sealing substrate 2 are attached with a uniform adhesive thickness.

【0083】基板1と封止基板2とが貼り合わせられる
第2チャンバH2内部も、第1チャンバH1同様、発光
素子3の劣化を防ぐために、窒素ガスやアルゴンガスな
どの不活性ガスで満たされている。したがって、基板1
と封止基板2との貼り合わせ工程(第2の工程)も不活
性ガス雰囲気下で行われる。また、第2チャンバH2
は、制御装置CONTによって所定の温度及び圧力に設
定されている。制御装置CONTは、第2チャンバH2
内部の温度を少なくとも第1チャンバH1内部の温度よ
り高い温度(例えば接着剤21の自重変形温度以上)に
設定する。これにより、基板1に配置された接着剤21
の流動性は高くなり接着剤21が拡がり易くなる。具体
的には、第2チャンバH2は、例えば20〜50℃程度
に設定される。第2チャンバH2を高い温度に設定する
ことにより、基板1に配置された接着剤21の流動性を
高くすることができるので、基板2に配置された接着剤
21は拡がり易くなり、接着動作を円滑に行うことがで
きる。
Like the first chamber H1, the inside of the second chamber H2 in which the substrate 1 and the sealing substrate 2 are bonded together is filled with an inert gas such as nitrogen gas or argon gas in order to prevent deterioration of the light emitting element 3. ing. Therefore, the substrate 1
The bonding step (second step) between the sealing substrate 2 and the sealing substrate 2 is also performed in an inert gas atmosphere. In addition, the second chamber H2
Is set to a predetermined temperature and pressure by the controller CONT. The control device CONT includes the second chamber H2.
The internal temperature is set to a temperature higher than at least the internal temperature of the first chamber H1 (for example, the self-weight deformation temperature of the adhesive 21 or higher). As a result, the adhesive 21 placed on the substrate 1
Has a high fluidity, and the adhesive 21 easily spreads. Specifically, the second chamber H2 is set to, for example, about 20 to 50 ° C. By setting the second chamber H2 at a high temperature, it is possible to increase the fluidity of the adhesive 21 arranged on the substrate 1, so that the adhesive 21 arranged on the substrate 2 easily spreads, and the bonding operation is performed. It can be done smoothly.

【0084】なお、接着剤21の流動性を高めるために
接着剤21を加熱するには、第2チャンバH2内部のガ
ス温度を高くする他に、ステージST2あるいは保持部
53を加熱することにより、接着剤21を加熱するよう
にしてもよい。また、第2チャンバH2内部の圧力は第
1チャンバH1内部の圧力より低く(例えば大気圧以
下)設定されていることが好ましい。
In order to heat the adhesive 21 in order to increase the fluidity of the adhesive 21, the gas temperature inside the second chamber H2 is raised and the stage ST2 or the holding portion 53 is heated. The adhesive 21 may be heated. In addition, the pressure inside the second chamber H2 is preferably set lower than the pressure inside the first chamber H1 (for example, below atmospheric pressure).

【0085】ここで、貼り合わせ領域Rに配置されてい
る接着剤21は、基板1と封止基板2との圧着により所
定厚さに設定されるとともに、塗布領域を拡げられる。
つまり、圧着前において、図5に示したように、貼り合
わせ領域Rのエッジ部を不連続になるように塗布されて
いた接着剤21は、圧着後において、図2に示すよう
に、エッジ部の不連続部分を連続させる。圧着後におい
て、接着剤21が連続することにより、形成された封止
空間K内部と外部とのガスの流通が遮断される。ここ
で、圧着後において接着剤21が貼り合わせ領域Rや下
端面Cからはみ出さないように、且つ不連続部分が圧着
後においてつながるように、圧着前における接着剤21
の塗布量や塗布位置が予め最適に設定されている。
Here, the adhesive 21 placed in the bonding area R is set to a predetermined thickness by pressure bonding between the substrate 1 and the sealing substrate 2, and the application area can be expanded.
That is, as shown in FIG. 5, before the pressure bonding, the adhesive 21 applied so as to make the edge portion of the bonding region R discontinuous is changed to the edge portion after the pressure bonding as shown in FIG. The discontinuous part of is made continuous. After the pressure bonding, the adhesive 21 continues to block the flow of gas between the inside and the outside of the formed sealed space K. Here, in order to prevent the adhesive 21 from sticking out from the bonding region R or the lower end surface C after the pressure bonding and to connect the discontinuous portions after the pressure bonding, the adhesive 21 before the pressure bonding
The application amount and application position of are previously set optimally.

【0086】圧着前において接着剤21に不連続部分を
設けたことにより、圧着時において基板1と封止基板2
との間で形成される空間のガスが不連続部分を介し外部
に排出されるので、空間内部の圧力上昇を抑え、空間内
部の圧力上昇による基板1と封止基板2との位置ずれの
発生を抑え、圧着動作を円滑に行うことができる。そし
て、圧着後において接着剤21が貼り合わせ領域R全体
で連続することにより、封止空間K内部と外部とのガス
の流通が規制される。
Since the adhesive 21 is provided with the discontinuous portion before the pressure bonding, the substrate 1 and the sealing substrate 2 are bonded during the pressure bonding.
Since the gas in the space formed between and is discharged to the outside through the discontinuous portion, the pressure increase inside the space is suppressed, and the positional deviation between the substrate 1 and the sealing substrate 2 is caused by the pressure increase inside the space. Therefore, the crimping operation can be performed smoothly. Then, after the pressure bonding, the adhesive 21 is continuous in the entire bonding region R, so that the flow of gas between the inside and the outside of the sealed space K is regulated.

【0087】基板1と封止基板2とを貼り合わせたら、
図10(c)に示すように、圧着装置50によって基板
1と封止基板2とを圧着させた状態で、照射部55より
接着剤21に対して所定の波長を有する光(紫外線光)
が照射される。本実施形態において、光源装置54(図
7参照)からは、例えば波長360nmの紫外線光が射
出される。光源装置54から射出された紫外線光は、光
ファイバ56を介して複数の照射部55のそれぞれか
ら、封止基板2に対して照射される。ここで、照射部5
5は、貼り合わせ領域Rに配置されている接着剤21に
対応する位置に設けられているので、照射部55から射
出された紫外線光は、封止基板2の壁部を透過して接着
剤21を照射する。なお、封止基板2はガラスなど紫外
線光を透過可能な材料によって形成されているので、紫
外線光の透過は妨げられない。
When the substrate 1 and the sealing substrate 2 are bonded together,
As shown in FIG. 10C, light (ultraviolet light) having a predetermined wavelength with respect to the adhesive 21 from the irradiation unit 55 in a state where the substrate 1 and the sealing substrate 2 are pressure-bonded by the pressure bonding device 50.
Is irradiated. In the present embodiment, for example, ultraviolet light having a wavelength of 360 nm is emitted from the light source device 54 (see FIG. 7). The ultraviolet light emitted from the light source device 54 is applied to the sealing substrate 2 from each of the plurality of irradiation units 55 via the optical fiber 56. Here, the irradiation unit 5
Since 5 is provided at a position corresponding to the adhesive 21 arranged in the bonding area R, the ultraviolet light emitted from the irradiation unit 55 passes through the wall portion of the sealing substrate 2 and the adhesive 21 is irradiated. Since the sealing substrate 2 is made of a material such as glass that can transmit ultraviolet light, the transmission of ultraviolet light is not hindered.

【0088】照射部55からの紫外線光は、図2に示す
ように、貼り合わせ領域Rに配置されている接着剤21
の所定の領域AR1を照射する。接着剤21のうちの一
部である領域AR1の部分は、紫外線光が照射されるこ
とによって短時間で硬化する。こうして、圧着装置50
は基板1と封止基板2とを圧着しつつ、接着剤21の領
域AR1を硬化させる。基板1と封止基板2とは、硬化
した領域AR1の接着剤21によって仮止めされる。
As shown in FIG. 2, the ultraviolet light from the irradiation section 55 is applied to the adhesive 21 placed in the bonding area R.
The predetermined area AR1 of is irradiated. A part of the area AR1 which is a part of the adhesive 21 is cured in a short time by being irradiated with the ultraviolet light. Thus, the crimping device 50
Cures the area AR1 of the adhesive 21 while pressing the substrate 1 and the sealing substrate 2 under pressure. The substrate 1 and the sealing substrate 2 are temporarily fixed by the adhesive 21 in the cured area AR1.

【0089】なお、接着剤21の塗布量(単位面積当た
りの塗布量)は、仮止め工程を短時間で行うために、且
つ、後工程での搬送工程などで基板1と封止基板2とが
剥がれたり位置ずれしたりしない程度に、予め最適に設
定されている。また、照射部55による紫外線光の照射
範囲(すなわち領域AR1)も、後工程での搬送工程な
どで基板1と封止基板2とが剥がれたり位置ずれしたり
しないように、且つ、仮止めを可能な限り短時間で行う
ように、予め最適に設定されている。
The amount of the adhesive 21 applied (the amount applied per unit area) is the same as that of the substrate 1 and the sealing substrate 2 in order to perform the temporary fixing process in a short time and in the carrying process in the subsequent process. It is optimally set in advance so that it will not be peeled off or displaced. In addition, the irradiation range of the ultraviolet light by the irradiation unit 55 (that is, the area AR1) is also temporarily fixed so that the substrate 1 and the sealing substrate 2 are not peeled off or displaced from each other in a transfer process or the like in a subsequent process. It is optimally set in advance so as to be performed in the shortest possible time.

【0090】基板1と封止基板2とを接着剤21の領域
AR1で仮止めしたら、図10(d)に示すように、基
板1と封止基板2とは照射装置80に搬送され、照射装
置80により、接着剤21のうち圧着装置50で硬化さ
れた領域AR1を含む全ての領域に対して紫外線光が照
射される。
After the substrate 1 and the sealing substrate 2 are temporarily fixed in the area AR1 of the adhesive 21, the substrate 1 and the sealing substrate 2 are conveyed to the irradiation device 80 and irradiated as shown in FIG. 10 (d). The device 80 irradiates all the regions of the adhesive 21 including the region AR1 cured by the pressure bonding device 50 with the ultraviolet light.

【0091】照射装置80は、所定の波長を有する光
(本実施形態では、波長約300〜380nmの紫外線
光)を射出可能な光源装置81と、光源装置81を支持
する支持装置82とを備えており、貼り合わせ領域Rに
配置された接着剤21全体に対して、紫外線光を透過可
能な封止基板2を介して紫外線光を照射する。こうし
て、貼り合わせ領域Rに配置された接着剤21全体が硬
化し、基板1と封止基板2とが接続される。
The irradiation device 80 includes a light source device 81 capable of emitting light having a predetermined wavelength (in this embodiment, ultraviolet light having a wavelength of about 300 to 380 nm), and a support device 82 for supporting the light source device 81. Therefore, the entire adhesive 21 arranged in the bonding region R is irradiated with the ultraviolet light through the sealing substrate 2 which can transmit the ultraviolet light. In this way, the entire adhesive 21 placed in the bonding region R is cured, and the substrate 1 and the sealing substrate 2 are connected.

【0092】ここで、照射装置80においては、所定の
照度(例えば30〜100mW/cm2)で所定時間
(例えば30〜200秒間)照射が行われる。これによ
り、紫外線硬化性材料からなる接着剤21は全体に亘っ
て硬化される。
Here, in the irradiation device 80, irradiation is performed with a predetermined illuminance (for example, 30 to 100 mW / cm 2 ) for a predetermined time (for example, 30 to 200 seconds). As a result, the adhesive 21 made of the ultraviolet curable material is entirely cured.

【0093】なお、照射装置80において、接着剤21
を硬化させるために上方から紫外線光を封止基板2全体
に亘って照射すると、紫外線光が発光素子3に悪影響を
及ぼす場合が考えられる。したがって、紫外線光を照射
する場合、封止基板2の中央部など発光素子3に対応す
る位置に遮光部材(マスク)を設け、接着剤21が配置
された貼り合わせ領域Rのみに紫外線光が照射されるよ
うにするとよい。
In the irradiation device 80, the adhesive 21
When the ultraviolet light is applied to the entire sealing substrate 2 from above in order to cure the resin, the ultraviolet light may adversely affect the light emitting element 3. Therefore, when irradiating ultraviolet light, a light shielding member (mask) is provided at a position corresponding to the light emitting element 3 such as the central portion of the sealing substrate 2, and the ultraviolet light is irradiated only to the bonding region R where the adhesive 21 is arranged. It should be done.

【0094】以上説明したように、接着剤21を介して
基板1と封止基板2とを貼り合わせる際、封止基板2を
揺動自在に支持しつつ貼り合わせるようにしたので、基
板1や封止基板2の貼り合わせ領域Rにうねりや凹凸が
あったり、基板1または封止基板2が傾斜して配置され
ているような場合でも、揺動によって傾斜や凹凸をキャ
ンセルできる。したがって、基板1と封止基板2とは均
一の接着剤厚さで貼り合わせられ、良好な接着性が得ら
れる。そして、基板1と封止基板2とは所望の状態で貼
り合わせられるので、高い封止性を得ることができ、発
光素子3の劣化を防いで所望の性能を発揮する有機EL
装置Aを製造できる。
As described above, when the substrate 1 and the sealing substrate 2 are bonded to each other via the adhesive 21, the sealing substrate 2 is supported while being swingable, so that the substrate 1 and the sealing substrate 2 are bonded together. Even if the bonding region R of the sealing substrate 2 has undulations or irregularities, or the substrate 1 or the sealing substrate 2 is arranged to be inclined, the inclination or irregularity can be canceled by swinging. Therefore, the substrate 1 and the sealing substrate 2 are bonded together with a uniform adhesive thickness, and good adhesiveness is obtained. Since the substrate 1 and the sealing substrate 2 are bonded to each other in a desired state, a high sealing property can be obtained, deterioration of the light emitting element 3 can be prevented, and the desired performance of the organic EL can be achieved.
Device A can be manufactured.

【0095】また、接着剤21を介して基板1と封止基
板2とを貼り合わせる際、基板1と封止基板2とを所定
の力で圧着するようにしたので、接着剤21の厚みを調
整することができる。
Further, when the substrate 1 and the sealing substrate 2 are bonded to each other via the adhesive 21, the substrate 1 and the sealing substrate 2 are pressure-bonded with each other with a predetermined force. Can be adjusted.

【0096】そして、基板1と封止基板2とを圧着しつ
つ、紫外線光を照射して接着剤21を硬化させるように
したので、圧着によって基板1と封止基板2との位置関
係を固定した状態で接着剤21が硬化されるので、硬化
後に接着剤21の厚みが大きく変化することがない。し
たがって、所望の接着剤厚みで基板1と封止基板2とを
貼り合わせることができる。
Then, while the substrate 1 and the sealing substrate 2 are pressure-bonded to each other, the adhesive 21 is cured by irradiating ultraviolet light, so that the positional relationship between the substrate 1 and the sealing substrate 2 is fixed by pressure bonding. Since the adhesive 21 is cured in this state, the thickness of the adhesive 21 does not change significantly after curing. Therefore, the substrate 1 and the sealing substrate 2 can be attached to each other with a desired adhesive thickness.

【0097】また、接着剤21を介して基板1と封止基
板2とを圧着させる際、接着剤21を加熱するようにし
たので、接着剤21の流動性を高めながら貼り合わせる
ことができ、保持部53の揺動の作用に加えて接着剤厚
みの均一化の実現をより一層得られる。また、流動性を
高めたことによって接着剤21が拡がりやすくなり、圧
着や貼り合わせ工程を円滑に行うことができる。
Further, since the adhesive 21 is heated when the substrate 1 and the sealing substrate 2 are pressure-bonded to each other via the adhesive 21, it is possible to bond the adhesive 21 while improving the fluidity of the adhesive 21. In addition to the action of swinging the holding portion 53, it is possible to further achieve the uniformization of the adhesive thickness. In addition, since the fluidity is increased, the adhesive 21 is easily spread, and the pressure bonding and the bonding process can be smoothly performed.

【0098】本実施形態においては、1つの基板1に対
して複数の封止基板2が貼り合わせられる構成であるの
で、1つの基板1から多数の有機EL装置Aを製造する
ことができ生産性を向上することができる。
In this embodiment, since a plurality of sealing substrates 2 are attached to one substrate 1, a large number of organic EL devices A can be manufactured from one substrate 1 and productivity is improved. Can be improved.

【0099】接着剤21の塗布工程や、基板1と封止基
板2との貼り合わせ工程は、発光素子3に対して不活性
なガス雰囲気下で行われるので、製造工程中における発
光素子3の劣化を防止できる。したがって、高発光性な
ど所望の性能を発揮できる有機EL装置Aを製造するこ
とができる。
Since the step of applying the adhesive 21 and the step of bonding the substrate 1 and the sealing substrate 2 are performed in a gas atmosphere which is inert to the light emitting element 3, the light emitting element 3 during the manufacturing process is Deterioration can be prevented. Therefore, the organic EL device A capable of exhibiting desired performance such as high light emission can be manufactured.

【0100】基板1の貼り合わせ領域Rと塗布装置31
との距離を検出可能な検出装置41を設け、検出装置4
1の検出結果に基づいて、塗布装置31の高さ方向の位
置が調整されるようにしたので、塗布装置31は貼り合
わせ領域Rに対して最適な高さ位置から接着剤を滴下で
き、貼り合わせ領域Rの所望の位置に最適な塗布量で接
着剤を配置できる。
The bonding area R of the substrate 1 and the coating device 31
A detection device 41 that can detect the distance to
Since the position of the coating device 31 in the height direction is adjusted based on the detection result of No. 1, the coating device 31 can drop the adhesive from the optimum height position with respect to the bonding region R, and The adhesive can be arranged at a desired position in the matching region R with an optimum coating amount.

【0101】上記実施形態では、検出装置41の検出結
果に基づいて、塗布装置31と基板1との距離を調整し
つつ塗布動作を行うように説明したが、検出装置41を
用いて基板1の表面形状を予め検出し(このとき塗布動
作は行わない)、この検出結果を記憶装置に記憶してお
き、この記憶しておいた結果に基づいて、塗布装置31
の高さ位置を調整しながら塗布動作を行うようにしても
よい。
In the above embodiment, the coating operation is performed while adjusting the distance between the coating device 31 and the substrate 1 based on the detection result of the detection device 41. However, the detection device 41 is used to detect the substrate 1. The surface shape is detected in advance (the coating operation is not performed at this time), the detection result is stored in the storage device, and the coating device 31 is based on the stored result.
The coating operation may be performed while adjusting the height position of.

【0102】なお、上記実施形態において、接着剤21
は基板1の貼り合わせ領域Rに塗布される構成である
が、もちろん、封止基板2の下端面Cに接着剤を塗布し
てから基板1と封止基板2とを貼り合わせてもよい。ま
た、基板1と封止基板2とを貼り合わせる際、封止基板
2を揺動自在に支持しつつ圧着するように説明したが、
基板1を揺動自在に支持しつつ圧着するようにしてもよ
い。
In the above embodiment, the adhesive 21
Is applied to the bonding region R of the substrate 1, but it goes without saying that the substrate 1 and the sealing substrate 2 may be bonded after the adhesive is applied to the lower end surface C of the sealing substrate 2. Further, when the substrate 1 and the sealing substrate 2 are attached to each other, it is described that the sealing substrate 2 is swingably supported and pressure-bonded.
You may make it press-bond, supporting the board | substrate 1 swingably.

【0103】上記実施形態において、接着剤21は紫外
線硬化性接着剤であるとして説明したが、基板1と封止
基板2とを接着可能な接着剤であればよく、接着剤21
として、短時間で硬化可能なEB(エレクトロンビー
ム)硬化性材料や熱硬化性材料、2液混合硬化性材料な
どを用いることも可能である。
In the above embodiment, the adhesive 21 is described as an ultraviolet curable adhesive, but any adhesive that can bond the substrate 1 and the sealing substrate 2 may be used.
As the material, it is possible to use an EB (electron beam) curable material, a thermosetting material, a two-component mixed curable material, or the like, which can be cured in a short time.

【0104】貼り合わせ領域Rのうち、接着剤21が配
置されている以外の領域に所定の材料を配置し、基板1
と封止基板2との貼り合わせを行ってもよい。この所定
の材料は、基板1と封止基板2とを接着可能な接着剤で
あってもよいし、ポリアクリレート、ポリメタクリレー
ト、またはポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレ
ンやこれらを組み合わせたものなど、任意の合成樹脂材
料であってもよい。このうち、所定の材料の形成材料と
しては、例えば吸湿性を有する材料を採用することが好
ましい。こうすることにより、外部から発光素子3への
水分の侵入を抑制でき、素子劣化を一層防止できる。ま
た、前記所定の材料の配置位置は特に限定されず、接着
剤21の内側や外側など、貼り合わせ領域Rにおいて任
意の位置に配置することができる。
In the bonding area R, a predetermined material is arranged in a region other than the region where the adhesive 21 is arranged, and the substrate 1
And the sealing substrate 2 may be attached. The predetermined material may be an adhesive capable of adhering the substrate 1 and the sealing substrate 2, or any synthetic material such as polyacrylate, polymethacrylate, polyester, polyethylene, polypropylene, or a combination thereof. It may be a resin material. Among these, as a forming material of the predetermined material, for example, a material having a hygroscopic property is preferably adopted. By doing so, it is possible to prevent moisture from entering the light emitting element 3 from the outside and further prevent element deterioration. Further, the arrangement position of the predetermined material is not particularly limited, and the predetermined material can be arranged at any position in the bonding region R, such as inside or outside of the adhesive 21.

【0105】次に、上記実施の形態の有機EL装置Aを
備えた電子機器の例について説明する。図11(a)
は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図11
(a)において、符号1000は携帯電話本体を示し、
符号1001は上記の有機EL装置Aを用いた表示部を
示している。
Next, examples of electronic equipment equipped with the organic EL device A of the above-described embodiment will be described. FIG. 11 (a)
FIG. 4 is a perspective view showing an example of a mobile phone. Figure 11
In (a), reference numeral 1000 indicates a mobile phone body,
Reference numeral 1001 indicates a display unit using the organic EL device A described above.

【0106】図11(b)は、腕時計型電子機器の一例
を示した斜視図である。図11(b)において、符号1
100は時計本体を示し、符号1101は上記の有機E
L装置Aを用いた表示部を示している。
FIG. 11B is a perspective view showing an example of a wrist watch type electronic device. In FIG. 11B, reference numeral 1
Reference numeral 100 indicates a watch body, and reference numeral 1101 indicates the organic E described above.
The display part which used the L apparatus A is shown.

【0107】図11(c)は、ワープロ、パソコンなど
の携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図
11(c)において、符号1200は情報処理装置、符
号1202はキーボードなどの入力部、符号1204は
情報処理装置本体、符号1206は上記の有機EL装置
Aを用いた表示部を示している。
FIG. 11C is a perspective view showing an example of a portable information processing device such as a word processor and a personal computer. In FIG. 11C, reference numeral 1200 is an information processing apparatus, reference numeral 1202 is an input unit such as a keyboard, reference numeral 1204 is the information processing apparatus main body, and reference numeral 1206 is a display unit using the organic EL device A.

【0108】図11(a)〜(c)に示す電子機器は、
上記実施の形態の有機EL装置Aを備えているので、薄
型で高寿命の有機EL表示部を備えた電子機器を実現す
ることができる。
The electronic devices shown in FIGS. 11A to 11C are
Since the organic EL device A according to the above-described embodiment is provided, it is possible to realize an electronic device including a thin organic EL display unit having a long life.

【0109】なお、本発明の技術範囲は、上記実施の形
態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しな
い範囲において種々の変更を加えることが可能である。
The technical scope of the present invention is not limited to the above embodiment, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.

【0110】例えば、上記実施形態では、発光素子3の
発光が基板1を介して外面側に出射される形式の例を用
いて説明したが、発光素子3の発光が基板1と逆側の陰
極10側から封止基板2を介して出射される形式であっ
ても適用可能である。この場合、封止基板2としては、
光の取り出しが可能な透明あるいは半透明材料が用いら
れる。
For example, in the above-described embodiment, the case where the light emission of the light emitting element 3 is emitted to the outer surface side through the substrate 1 has been described, but the light emission of the light emitting element 3 is the cathode on the side opposite to the substrate 1. The present invention can be applied even in a form in which light is emitted from the 10 side through the sealing substrate 2. In this case, as the sealing substrate 2,
A transparent or translucent material capable of extracting light is used.

【0111】[0111]

【発明の効果】以上説明したように、接着剤を介して第
1の部材と第2の部材とを貼り合わせる際、第1の部材
及び第2の部材の少なくともいずれか一方を揺動自在に
支持しつつ貼り合わせるようにしたので、第1の部材あ
るいは第2の部材の貼り合わせ領域にうねりや凹凸があ
ったり、第1の部材に対して第2の部材が傾斜して配置
されているような場合でも、揺動によってうねりや傾斜
をキャンセルできる。したがって、第1の部材と第2の
部材とは均一の接着剤厚さで貼り合わせられ、良好な接
着性を得られ、高い封止性を実現でき、発光素子の劣化
を防いで所望の性能を発揮する電気光学装置を製造する
ことができる。
As described above, when the first member and the second member are attached to each other via the adhesive, at least one of the first member and the second member is allowed to swing. Since the substrates are bonded while being supported, the bonding region of the first member or the second member has undulations or irregularities, or the second member is inclined with respect to the first member. Even in such a case, it is possible to cancel the swell and inclination by swinging. Therefore, the first member and the second member are bonded with a uniform adhesive thickness, good adhesiveness can be obtained, high sealing performance can be realized, and deterioration of the light emitting element can be prevented to achieve desired performance. It is possible to manufacture an electro-optical device that exhibits the above.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の電気光学装置の一実施形態を示す要部
断面図である。
FIG. 1 is a main-portion cross-sectional view showing an embodiment of an electro-optical device of the present invention.

【図2】図1のB−B矢視断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line BB of FIG.

【図3】本発明の電気光学装置の全体図である。FIG. 3 is an overall view of an electro-optical device of the present invention.

【図4】本発明の電気光学装置の製造装置のうち塗布装
置を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a coating device of the electro-optical device manufacturing apparatus of the invention.

【図5】塗布装置によって貼り合わせ領域に配置された
接着剤を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an adhesive placed in a bonding area by a coating device.

【図6】本発明の電気光学装置の製造装置のうち圧着装
置を示す斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view showing a crimping device of the electro-optical device manufacturing apparatus of the invention.

【図7】図6の側面図及び下方から見た平面図である。FIG. 7 is a side view of FIG. 6 and a plan view seen from below.

【図8】圧着装置の他の実施例を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing another embodiment of the crimping device.

【図9】本発明の電気光学装置の製造装置のうち圧着装
置系の全体構成図である。
FIG. 9 is an overall configuration diagram of a crimping device system in the electro-optical device manufacturing apparatus of the invention.

【図10】本発明の電気光学装置の製造方法の一実施形
態を示す概略図である。
FIG. 10 is a schematic view showing one embodiment of a method for manufacturing an electro-optical device of the present invention.

【図11】有機EL表示装置を備えた電子機器の一例を
示す図であり、(a)は携帯電話、(b)は腕時計型電
子機器、(c)は携帯型情報処理装置のそれぞれ斜視図
である。
FIG. 11 is a diagram illustrating an example of an electronic device including an organic EL display device, in which (a) is a mobile phone, (b) is a wristwatch type electronic device, and (c) is a portable information processing device. Is.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板(第1の部材) 2 封止基板(第2の部材) 3 発光素子 21 接着剤 31 塗布装置 41 検出装置 50 圧着装置 53 保持部 55 照射部 A 有機EL装置(電気光学装置) CONT 制御装置 H1 第1チャンバ(第1室) H2 第2チャンバ(第2室) K 封止空間(空間) R 貼り合わせ領域 ST2 ステージ(支持装置) 1 substrate (first member) 2 Sealing substrate (second member) 3 light emitting element 21 Adhesive 31 coating device 41 detector 50 crimping device 53 Holder 55 Irradiation part A Organic EL device (electro-optical device) CONT control device H1 first chamber (first chamber) H2 2nd chamber (2nd chamber) K Sealed space (space) R bonding area ST2 stage (support device)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 英和 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 Fターム(参考) 3K007 AB08 AB11 AB12 AB13 AB18 BB01 BB04 BB05 DB03 FA02 FA03    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Hidekazu Kobayashi             Seiko, 3-3-3 Yamato, Suwa City, Nagano Prefecture             -In Epson Corporation F term (reference) 3K007 AB08 AB11 AB12 AB13 AB18                       BB01 BB04 BB05 DB03 FA02                       FA03

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の部材上に配置される発光素子と、
前記第1の部材に貼り合わせられる第2の部材とを備え
た電気光学装置の製造方法において、 前記第1の部材と前記第2の部材とが貼り合わせられる
貼り合わせ領域に接着剤を配置する第1の工程と、 前記第1の部材及び前記第2の部材のうち少なくともい
ずれか一方を揺動自在に支持しつつ前記第1の部材と前
記第2の部材とを貼り合わせる第2の工程とを有するこ
とを特徴とする電気光学装置の製造方法。
1. A light emitting device disposed on the first member,
In a method of manufacturing an electro-optical device including a second member bonded to the first member, an adhesive is arranged in a bonding region where the first member and the second member are bonded. A first step; and a second step of bonding the first member and the second member while swingably supporting at least one of the first member and the second member. And a method for manufacturing an electro-optical device.
【請求項2】 前記第2の工程は、前記第1の部材と前
記第2の部材とを所定の力で圧着する工程を有すること
を特徴とする請求項1記載の電気光学装置の製造方法。
2. The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the second step includes a step of pressure-bonding the first member and the second member with a predetermined force. .
【請求項3】 前記圧着しつつ、前記接着剤を硬化させ
ることを特徴とする請求項2記載の電気光学装置の製造
方法。
3. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 2, wherein the adhesive is cured while the pressure is applied.
【請求項4】 前記接着剤は光硬化性材料であり、前記
第2の工程は、前記接着剤に対して所定の波長を有する
光を照射する工程を有することを特徴とする請求項1〜
3のいずれか一項記載の電気光学装置の製造方法。
4. The adhesive is a photo-curable material, and the second step includes a step of irradiating the adhesive with light having a predetermined wavelength.
4. The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 3.
【請求項5】 前記第2の工程を、前記第1の工程に対
して高い温度雰囲気下で行うことを特徴とする請求項1
〜4のいずれか一項記載の電気光学装置の製造方法。
5. The method according to claim 1, wherein the second step is performed in a high temperature atmosphere with respect to the first step.
5. The method for manufacturing an electro-optical device according to any one of items 4 to 4.
【請求項6】 前記第1の部材に対して前記第2の部材
を複数貼り合わせることを特徴とする請求項1〜5のい
ずれか一項記載の電気光学装置の製造方法。
6. The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein a plurality of the second members are attached to the first member.
【請求項7】 前記発光素子は、前記第1の部材と前記
第2の部材との間に配置されることを特徴とする請求項
1〜6のいずれか一項記載の電気光学装置の製造方法。
7. The manufacture of the electro-optical device according to claim 1, wherein the light emitting element is arranged between the first member and the second member. Method.
【請求項8】 前記第1の工程において前記接着剤を前
記貼り合わせ領域に配置する際、不連続に配置すること
を特徴とする請求項1〜7のいずれか一項記載の電気光
学装置の製造方法。
8. The electro-optical device according to claim 1, wherein when the adhesive is arranged in the bonding area in the first step, the adhesive is arranged discontinuously. Production method.
【請求項9】 前記第2の工程を、不活性ガス雰囲気下
で行うことを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項記
載の電気光学装置の製造方法。
9. The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the second step is performed in an inert gas atmosphere.
【請求項10】 第1の部材上に配置される発光素子
と、前記第1の部材に貼り合わせられる第2の部材とを
備えた電気光学装置の製造装置において、 前記第1の部材と前記第2の部材とが貼り合わせられる
貼り合わせ領域に対して接着剤を配置可能な塗布装置
と、 前記第1の部材を支持する支持装置と、 前記第2の部材を揺動自在に保持しつつ前記支持装置に
支持されている前記第1の部材に対して所定の力で圧着
させて貼り合わせる圧着装置とを備えることを特徴とす
る電気光学装置の製造装置。
10. A manufacturing apparatus of an electro-optical device comprising a light emitting element arranged on a first member, and a second member bonded to the first member, wherein the first member and the A coating device capable of arranging an adhesive in a bonding region where the second member is bonded, a support device supporting the first member, and a swingable holding of the second member. An apparatus for manufacturing an electro-optical device, comprising: a pressure bonding device that pressure-bonds the first member supported by the supporting device with a predetermined force to bond the first member.
【請求項11】 前記第2の部材は前記第1の部材の所
定面に対して貼り合わせられ、 前記圧着装置は、少なくとも、前記所定面に平行な第1
の軸線まわり方向と、前記所定面に平行且つ前記第1の
軸線と直交する第2の軸線まわり方向とに前記第2の部
材を揺動自在に保持することを特徴とする請求項10記
載の電気光学装置の製造装置。
11. The second member is attached to a predetermined surface of the first member, and the pressure bonding device is at least a first surface parallel to the predetermined surface.
11. The second member is swingably held in a direction around the axis of and a direction around a second axis which is parallel to the predetermined surface and is orthogonal to the first axis. Electro-optical device manufacturing equipment.
【請求項12】 前記塗布装置を収容する第1室と、 前記支持装置及び前記圧着装置を収容する第2室と、 前記第1室及び前記第2室の温度を制御する制御装置と
を備えることを特徴とする請求項10又は11記載の電
気光学装置の製造装置。
12. A first chamber for accommodating the coating device, a second chamber for accommodating the supporting device and the pressure bonding device, and a control device for controlling the temperatures of the first chamber and the second chamber. The apparatus for manufacturing an electro-optical device according to claim 10 or 11, wherein:
【請求項13】 前記制御装置は、前記第2室の温度を
前記第1室より高く設定することを特徴とする請求項1
2記載の電気光学装置の製造装置。
13. The control device sets the temperature of the second chamber higher than that of the first chamber.
2. The electro-optical device manufacturing apparatus according to 2.
【請求項14】 前記圧着装置のうち前記第2の部材を
保持する保持部には、前記接着剤に対して所定の波長を
有する光を照射可能な照射部が設けられていることを特
徴とする請求項10〜13のいずれか一項記載の電気光
学装置の製造装置。
14. The holding section for holding the second member of the pressure bonding apparatus is provided with an irradiation section capable of irradiating the adhesive with light having a predetermined wavelength. The electro-optical device manufacturing apparatus according to claim 10.
【請求項15】 請求項10〜請求項14のいずれか一
項記載の電気光学装置の製造装置で製造されたことを特
徴とする電気光学装置。
15. An electro-optical device manufactured by the electro-optical device manufacturing apparatus according to claim 10.
【請求項16】 請求項15記載の電気光学装置を備
えたことを特徴とする電子機器。
16. An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 15.
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