JP2003243156A - Encapsulation substrate, manufacturing method thereof, display device, and electronic device - Google Patents
Encapsulation substrate, manufacturing method thereof, display device, and electronic deviceInfo
- Publication number
- JP2003243156A JP2003243156A JP2002044932A JP2002044932A JP2003243156A JP 2003243156 A JP2003243156 A JP 2003243156A JP 2002044932 A JP2002044932 A JP 2002044932A JP 2002044932 A JP2002044932 A JP 2002044932A JP 2003243156 A JP2003243156 A JP 2003243156A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- manufacturing
- sealing substrate
- marks
- mark
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 192
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 46
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 title 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 97
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 12
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011093 chipboard Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 230000008685 targeting Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 位置合わせを行い易い封止用基板を簡単に製
造することにある。
【解決手段】 基板10に、1つ又はそれ以上の凹部2
0とそれぞれの凹部20の隣に位置する第1及び第2の
マーク22,24と、を同時に形成する。1つの凹部2
0及び第1及び第2のマーク22,24を有する領域の
外側で、基板10を切断する。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To easily manufacture a sealing substrate which can be easily aligned. A substrate (10) has one or more recesses (2).
0 and the first and second marks 22 and 24 located next to the respective recesses 20 are simultaneously formed. One recess 2
The substrate 10 is cut outside the region having the 0 and the first and second marks 22 and 24.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、封止用基板及びそ
の製造方法、表示装置並びに電子機器に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sealing substrate, a method of manufacturing the same, a display device and an electronic device.
【0002】[0002]
【背景技術】水分や酸素の影響を受けやすい発光材料や
電極を使用した素子(例えば有機EL(Electrolumines
cence)素子)では、封止構造が適用されている。従
来、有機EL素子を封止するために使用される封止用基
板は、ガラス基板を彫り込んだ後、これを切断して製造
していた。封止用基板を取り付けるときに、その端部を
位置合わせの基準にするには、ガラス基板を切断すると
きに切断面をまっすぐにしなければならないが、これは
困難であった。2. Description of the Related Art Devices using light emitting materials and electrodes that are easily affected by moisture and oxygen (for example, organic EL (Electrolumines)
cence) element), a sealing structure is applied. Conventionally, a sealing substrate used for sealing an organic EL element has been manufactured by engraving a glass substrate and then cutting the glass substrate. When attaching the sealing substrate, the cut surface must be straightened when the glass substrate is cut in order to use the end of the sealing substrate as a reference for alignment, but this was difficult.
【0003】本発明は、従来の問題点を解決するもので
あり、その目的は、位置合わせを行い易い封止用基板を
簡単に製造することにある。The present invention solves the problems of the prior art, and an object thereof is to easily manufacture a sealing substrate that is easily aligned.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】(1)本発明に係る封止
用基板の製造方法は、(a)基板に、1つ又はそれ以上
の凹部とそれぞれの前記凹部の隣に位置するマークと、
を同時に形成し、(b)1つの前記凹部及び前記マーク
を有する領域の外側で、前記基板を切断することを含
む。(1) In the method for manufacturing a sealing substrate according to the present invention, (a) one or more recesses and a mark located next to each recess are formed on the substrate. ,
And (b) cutting the substrate outside the region having the one recess and the mark.
【0005】本発明によれば、凹部及びマークを有する
封止用基板を製造することができる。この封止用基板
は、マークを利用して簡単に位置合わせを行うことがで
きる。また、凹部とマークを同時に形成するので、工程
を増やすことなく、簡単にマークを形成することができ
る。According to the present invention, a sealing substrate having a recess and a mark can be manufactured. This sealing substrate can be easily aligned using the marks. Further, since the recess and the mark are formed at the same time, the mark can be easily formed without increasing the number of steps.
【0006】(2)この封止用基板の製造方法におい
て、前記(a)工程で、前記基板に複数の開口を有する
マスクを設け、前記基板における前記マスクの前記開口
から露出した部分を削って、前記凹部と前記マークを同
時に形成してもよい。(2) In this method for manufacturing a sealing substrate, in the step (a), a mask having a plurality of openings is provided in the substrate, and a portion of the substrate exposed from the openings is shaved. The recess and the mark may be formed at the same time.
【0007】これによれば、マスクの開口からの露出部
を削って凹部及びマークを形成するので、凹部及びマー
クの相対的な位置精度が高い。According to this, since the recessed portion and the mark are formed by shaving the exposed portion from the opening of the mask, the relative positional accuracy of the recessed portion and the mark is high.
【0008】(3)この封止用基板の製造方法におい
て、前記(b)工程で、前記基板から、それぞれが1つ
の前記凹部と前記マークを有する複数のチップ基板を得
てもよい。(3) In this method for manufacturing a sealing substrate, in the step (b), a plurality of chip substrates each having one recess and one mark may be obtained from the substrate.
【0009】これによれば、複数のチップ基板の凹部及
びマークを同時に形成することができるので、封止用基
板の生産性が高い。According to this, since the recesses and marks of a plurality of chip substrates can be formed at the same time, the productivity of the sealing substrate is high.
【0010】(4)この封止用基板の製造方法におい
て、前記(a)工程で、前記基板に、それぞれの前記凹
部の隣に複数の前記マークを形成し、前記(b)工程
で、前記基板から、それぞれが1つの前記凹部と前記複
数のマークを有する複数のチップ基板を得てもよい。(4) In this method for manufacturing a sealing substrate, in the step (a), a plurality of the marks are formed on the substrate next to the recesses, and in the step (b), the marks are formed. From the substrate, a plurality of chip substrates each having one recess and the plurality of marks may be obtained.
【0011】これによれば、少なくとも2つのマークを
有しており、方向を検出できる封止用基板を製造するこ
とができる。According to this, it is possible to manufacture a sealing substrate which has at least two marks and whose direction can be detected.
【0012】(5)この封止用基板の製造方法におい
て、前記(a)工程で、それぞれの前記凹部を多角形の
開口形状を有するように形成し、1つの前記マークを前
記多角形の1つの角部の隣に形成してもよい。(5) In this method of manufacturing a sealing substrate, in the step (a), each of the recesses is formed so as to have a polygonal opening shape, and one mark of the polygonal shape is formed. It may be formed next to one corner.
【0013】これによれば、複数のマークを離れた位置
に形成するので、位置決めを行い易い封止用基板を製造
することができる。According to this, since the plurality of marks are formed at positions separated from each other, it is possible to manufacture the sealing substrate which can be easily positioned.
【0014】(6)この封止用基板の製造方法におい
て、前記(a)工程で、前記複数のマークのうち、前記
多角形の対向する一対の角部の隣に位置する一対のマー
クを、異なる形状で形成してもよい。(6) In this method of manufacturing a sealing substrate, in the step (a), among the plurality of marks, a pair of marks positioned next to a pair of opposite corners of the polygon are You may form in a different shape.
【0015】これによれば、向きが反対になっていても
それを認識できる封止用基板を製造することができる。According to this, it is possible to manufacture a sealing substrate which can recognize the opposite direction.
【0016】(7)この封止用基板の製造方法におい
て、前記凹部を、マトリクス状に配列されるように形成
してもよい。(7) In this method of manufacturing a sealing substrate, the recesses may be formed so as to be arranged in a matrix.
【0017】(8)この封止用基板の製造方法におい
て、前記マークを、前記基板の表裏面とは異なる粗さの
底面を有するように形成してもよい。(8) In this method for manufacturing a sealing substrate, the mark may be formed to have a bottom surface having a roughness different from the front and back surfaces of the substrate.
【0018】これによれば、マークを認識しやすい封止
用基板を製造することができる。According to this, it is possible to manufacture the sealing substrate in which the mark is easily recognized.
【0019】(9)この封止用基板の製造方法におい
て、前記基板は、光透過性を有し、前記マークを、前記
基板を透過する光によって認識できるように形成しても
よい。(9) In this method of manufacturing a sealing substrate, the substrate may be light-transmissive, and the mark may be formed so that it can be recognized by light transmitted through the substrate.
【0020】これによれば、マークの形成面とは反対側
の面からそのマークを認識することができる封止用基板
を製造することができる。According to this, it is possible to manufacture a sealing substrate in which the mark can be recognized from the surface opposite to the surface on which the mark is formed.
【0021】(10)この封止用基板の製造方法におい
て、前記(b)工程で、前記マークによって切断ライン
の位置を決めて、前記基板を切断してもよい。(10) In this method for manufacturing a sealing substrate, in the step (b), the position of the cutting line may be determined by the mark to cut the substrate.
【0022】これによれば、高い位置精度で基板を切断
するので、封止用基板の形状を一定にすることができ
る。According to this, since the substrate is cut with high positional accuracy, the shape of the sealing substrate can be made constant.
【0023】(11)本発明に係る封止用基板は、上記
方法によって製造されてなる。(11) The sealing substrate according to the present invention is manufactured by the above method.
【0024】(12)本発明に係る表示装置は、上記封
止用基板と、前記封止用基板によって封止された表示部
と、を含む。(12) A display device according to the present invention includes the above-mentioned sealing substrate and a display section sealed by the sealing substrate.
【0025】(13)本発明に係る電子機器は、上記表
示装置を含む。(13) An electronic device according to the present invention includes the above display device.
【0026】[0026]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図1〜図8は、本発明の実
施の形態に係る封止用基板の製造方法を説明する図であ
る。本実施の形態では、図1に示すように、基板10に
マスク12を設ける。図2,3,4は、それぞれ、図1
のII−II線、III−III線、IV−IV線断面図である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 to 8 are diagrams illustrating a method of manufacturing a sealing substrate according to an embodiment of the present invention. In the present embodiment, a mask 12 is provided on the substrate 10 as shown in FIG. 2, 3 and 4 are respectively shown in FIG.
II-II line, III-III line, IV-IV line sectional view of.
【0027】基板10は、酸素や水分を透過しない又は
透過しにくいものである。基板10は、無機酸化物(ガ
ラス(ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミ
ノケイ酸ガラス、ケイ酸ガラス等)、石英、セラミック
ス等)から形成されていてもよい。本実施の形態では、
基板10は、光透過性を有し、特定の波長の光のみを透
過するものであってもよい。変形例として、基板10は
光を透過しないものであってもよい。すなわち、基板1
0は、透明、不透明のいずれであってもよいし、カラー
フィルタの機能を有していてもよい。The substrate 10 does not or hardly permeates oxygen and moisture. The substrate 10 may be formed of an inorganic oxide (glass (soda lime glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, silicate glass, etc.), quartz, ceramics, etc.). In this embodiment,
The substrate 10 may be light-transmissive and only transmit light having a specific wavelength. Alternatively, the substrate 10 may not transmit light. That is, the substrate 1
0 may be transparent or opaque, and may have a color filter function.
【0028】マスク12は、複数の開口(本実施の形態
では、1つ又はそれ以上の第1の開口14と、1つ又は
それ以上の第2の開口16と、1つ又はそれ以上の第3
の開口18)を有する。第1の開口14は、封止用基板
の凹部20の開口に対応する形状(例えば四辺形(長方
形及び正方形を含む。)等の多角形)をなしている。図
1に示すように、複数の第1の開口14が、マトリクス
状に配列されていてもよい。The mask 12 includes a plurality of openings (in the present embodiment, one or more first openings 14, one or more second openings 16 and one or more first openings 14). Three
18). The first opening 14 has a shape (for example, a polygon such as a quadrangle (including a rectangle and a square)) corresponding to the opening of the recess 20 of the sealing substrate. As shown in FIG. 1, the plurality of first openings 14 may be arranged in a matrix.
【0029】第2及び第3の開口16,18は、同じ形
状であってもよいが、本実施の形態では、異なる形状に
なっている。第2の開口16は、L字状(例えばライン
幅0.2mm以下)をなしている。第3の開口18は、
円形(例えば直径0.2mm以下)である。第2及び第
3の開口16,18の形状は、これらに限定されるもの
ではなく、十字(X字)状(例えばライン幅0.2mm
以下)であってもよい。The second and third openings 16 and 18 may have the same shape, but in the present embodiment, they have different shapes. The second opening 16 has an L shape (for example, a line width of 0.2 mm or less). The third opening 18 is
It has a circular shape (for example, a diameter of 0.2 mm or less). The shapes of the second and third openings 16 and 18 are not limited to these, but may be cross-shaped (X-shaped) (for example, a line width of 0.2 mm).
The following) may be applicable.
【0030】1つの第1の開口14の隣に、第1の開口
14以外の少なくとも1つの開口(例えば、少なくとも
1つの第2の開口16と、少なくとも1つの第3の開口
18と、の一方又は両方)が形成されている。第1の開
口14が多角形である場合、その1つの角部の隣に、第
1の開口14以外の1つの開口(第2又は第3の開口1
6,18)が形成されていてもよい。第1の開口14の
対向する一対の角部(対角線の両端にある角部)のう
ち、一方の角部の隣に第2の開口16を形成し、他方の
角部の隣に、第2の開口16とは形状の異なる第3の開
口18を形成してもよい。第1の開口14の1つの辺の
両端に位置する一対の角部の隣に、同じ形状の1対の開
口(例えば一対の第2の開口16又は一対の第3の開口
18)を形成してもよい。L字の開口(第2の開口1
6)は、その内角側を、第1の開口14の角部に向けて
配置されるように形成してもよい。Next to the one first opening 14, one of at least one opening other than the first opening 14 (for example, at least one second opening 16 and at least one third opening 18). Or both) are formed. When the first opening 14 has a polygonal shape, one opening other than the first opening 14 (second or third opening 1
6, 18) may be formed. The second opening 16 is formed next to one corner of the pair of opposite corners of the first opening 14 (corners at both ends of the diagonal line), and the second opening 16 is formed next to the other corner. The third opening 18 having a different shape from the opening 16 may be formed. Next to a pair of corners located at both ends of one side of the first opening 14, a pair of openings having the same shape (for example, a pair of second openings 16 or a pair of third openings 18) is formed. May be. L-shaped opening (second opening 1
6) may be formed such that the inner corner side thereof is arranged toward the corner of the first opening 14.
【0031】マスク12は、樹脂(例えばエネルギー
(光等)に感応する樹脂)で形成することができる。樹
脂を使用する場合、基板10に樹脂層を形成してフォト
リソグラフィによって開口を形成してもよいし、スクリ
ーン印刷等によって開口を有する樹脂層を形成してもよ
いし、予め開口を有するフィルムを形成し、これをマス
ク12として基板10に貼り付けてもよい。The mask 12 can be formed of a resin (for example, a resin sensitive to energy (light or the like)). When a resin is used, a resin layer may be formed on the substrate 10 to form an opening by photolithography, a resin layer having an opening may be formed by screen printing, or a film having an opening in advance may be formed. It may be formed and attached to the substrate 10 as the mask 12.
【0032】次に、基板10におけるマスク12の開口
(第1,2,3の開口14,16,18)から露出した
部分を削る。その方法として、サンドブラスト、エッチ
ング(例えばウェットエッチング)等を適用することが
できる。基板10を削ることは、マスク12の全ての開
口(第1,2,3の開口14,16,18)からの露出
部に対して同時に行う。Next, the portion of the substrate 10 exposed from the openings (first, second, third openings 14, 16, 18) of the mask 12 is shaved. As the method, sandblast, etching (for example, wet etching) or the like can be applied. The substrate 10 is ground at the same time with respect to the exposed portions from all the openings (first, second, third openings 14, 16, 18) of the mask 12.
【0033】図5は、一部が削られた基板10を示す図
であり、図6,7,8は、それぞれ、図5のVI−VI線、
VII−VII線、VIII−VIII線断面図である。一部を削るこ
とで、基板10に、1つ又はそれ以上の凹部20と、そ
れぞれの凹部20の隣に位置するマーク(例えば第1及
び第2のマーク22,24)と、を同時に形成する。こ
れによれば、凹部20を形成するときに、同時にマーク
(例えば第1及び第2のマーク22,24)を形成する
ので、工程は増えない。また、マスク12の開口からの
露出部を削って凹部20及びマーク(例えば第1及び第
2のマーク22,24)を形成するので、これらの相対
的な位置精度が高い。FIG. 5 is a view showing the substrate 10 with a part thereof cut away, and FIGS. 6, 7 and 8 are respectively VI-VI line of FIG.
FIG. 7 is a sectional view taken along line VII-VII and line VIII-VIII. One or more recesses 20 and marks (for example, the first and second marks 22 and 24) located next to the recesses 20 are simultaneously formed in the substrate 10 by cutting a part. . According to this, since the marks (for example, the first and second marks 22 and 24) are formed at the same time when the recess 20 is formed, the number of steps is not increased. Further, since the recessed portion 20 and the marks (for example, the first and second marks 22 and 24) are formed by shaving the exposed portion from the opening of the mask 12, their relative positional accuracy is high.
【0034】凹部20は、基板10におけるマスク12
の第1の開口14からの露出部を削って形成したもので
ある。凹部20は、例えば四辺形(長方形及び正方形を
含む。)等の多角形をなしている。図5に示すように、
複数の凹部20が、マトリクス状に配列されていてもよ
い。凹部20の深さは、封止用基板によって封止される
表示部62(図12参照)の厚み以上であってもよい。
凹部20の底面は、基板10の表裏面よりも粗面(例え
ば凹凸面)であってもよい。The recess 20 is formed by the mask 12 on the substrate 10.
Is formed by shaving the exposed portion from the first opening 14. The recess 20 has a polygonal shape such as a quadrangle (including a rectangle and a square). As shown in FIG.
The plurality of recesses 20 may be arranged in a matrix. The depth of the recess 20 may be greater than or equal to the thickness of the display portion 62 (see FIG. 12) sealed by the sealing substrate.
The bottom surface of the recess 20 may be a rougher surface (for example, an uneven surface) than the front and back surfaces of the substrate 10.
【0035】マーク(第1及び第2のマーク22,2
4)は、基板10におけるマスク12の第1の開口以外
の開口(第2及び第3の開口16,18)からの露出部
を削って形成したものである。Marks (first and second marks 22, 2
4) is formed by shaving exposed portions from openings (second and third openings 16 and 18) other than the first opening of the mask 12 in the substrate 10.
【0036】第1及び第2のマーク22,24は、同じ
形状であってもよいが、本実施の形態では、異なる形状
になっている。第1のマーク22は、L字状(例えばラ
イン幅0.2mm以下)をなしている。第2のマーク2
4は、円形(例えば直径0.2mm以下)である。第1
及び第2のマーク22,24の形状は、これらに限定さ
れるものではなく、十字(X字)状(例えばライン幅
0.2mm以下)であってもよい。なお、マーク(例え
ば第1及び第2のマーク22,24)は、凹部20より
も浅く形成してもよい。The first and second marks 22 and 24 may have the same shape, but in the present embodiment, they have different shapes. The first mark 22 has an L shape (for example, a line width of 0.2 mm or less). Second mark 2
4 is a circle (for example, a diameter of 0.2 mm or less). First
The shapes of the second marks 22 and 24 are not limited to these, and may be cross-shaped (X-shaped) (for example, a line width of 0.2 mm or less). The marks (eg, the first and second marks 22 and 24) may be formed shallower than the recess 20.
【0037】1つの凹部20の隣に、少なくとも1つの
マーク(例えば、少なくとも1つの第1のマーク22
と、少なくとも1つの第2のマーク24と、の一方又は
両方)が形成されている。凹部20の開口が多角形であ
る場合、その1つの角部の隣に、1つのマーク(第1又
は第2のマーク22,24)が形成されていてもよい。
凹部20の対向する一対の角部(対角線の両端にある角
部)のうち、一方の角部の隣に第1のマーク22を形成
し、他方の角部の隣に、第1のマーク22とは形状の異
なる第2のマーク24を形成してもよい。これによれ
ば、向きが反対になっていてもそれを認識できる封止用
基板を製造することができる。Next to one recess 20, at least one mark (eg, at least one first mark 22).
And at least one second mark 24 and / or both) are formed. When the opening of the recess 20 is polygonal, one mark (first or second mark 22, 24) may be formed next to one corner thereof.
The first mark 22 is formed next to one corner of the pair of opposite corners of the recess 20 (corners at both ends of the diagonal), and the first mark 22 is formed next to the other corner. The second mark 24 having a different shape may be formed. According to this, it is possible to manufacture a sealing substrate that can recognize the opposite direction.
【0038】凹部20の1つの辺の両端に位置する一対
の角部の隣に、同じ形状の1対のマーク(例えば一対の
第1のマーク22又は一対の第2のマーク24)を形成
してもよい。L字の第1のマーク22は、その内角側
を、凹部20の角部に向けて配置されるように形成して
もよい。本実施の形態では、複数のマーク(例えば第1
及び第2のマーク22,24)を離れた位置に形成する
ので、位置決めを行い易い封止用基板を製造することが
できる。A pair of marks having the same shape (for example, a pair of first marks 22 or a pair of second marks 24) is formed next to a pair of corners located at both ends of one side of the recess 20. May be. The L-shaped first mark 22 may be formed such that the inner corner side thereof is arranged toward the corner of the recess 20. In the present embodiment, a plurality of marks (for example, the first mark
Since the second marks 22 and 24) are formed at separate positions, it is possible to manufacture a sealing substrate that can be easily positioned.
【0039】基板10の表裏面の状態は、JIS B0
601の定義に従った場合、次の条件を満たしていても
よい。The condition of the front and back surfaces of the substrate 10 is JIS B0.
According to the definition of 601, the following conditions may be satisfied.
【0040】
平均面粗さ:0.001μm≦Ra≦0.05μm
最大高低差:0.1μm≦P−V≦1.0μm
自乗平均面粗さ:0.005μm≦RMS≦0.07μ
m
10点平均面粗さ:0.01μm≦Rz≦0.50μm
この場合、凹部20又はマーク(例えば第1及び第2の
マーク22,24)の底面は、次の条件を満たしていて
もよい。Average surface roughness: 0.001 μm ≦ Ra ≦ 0.05 μm Maximum height difference: 0.1 μm ≦ PV ≦ 1.0 μm Root mean square surface roughness: 0.005 μm ≦ RMS ≦ 0.07 μ
m 10-point average surface roughness: 0.01 μm ≦ Rz ≦ 0.50 μm In this case, the bottom surface of the recess 20 or the mark (for example, the first and second marks 22 and 24) may satisfy the following condition. .
【0041】
平均面粗さ:0.05μm≦Ra≦2.0μm
最大高低差:1.0μm≦P−V≦15μm
自乗平均面粗さ:0.07μm≦RMS≦2.0μm
10点平均面粗さ:0.50μm≦Rz≦10μm
基板10の表裏面とは異なる粗さの底面を有するように
マーク(例えば第1及び第2のマーク22,24)を形
成し、基板10が光透過性を有する場合、基板10を透
過する光によって、マーク(例えば第1及び第2のマー
ク22,24)を認識することができる。これによれ
ば、マーク(例えば第1及び第2のマーク22,24)
の形成面とは反対側の面からそのマーク(例えば第1及
び第2のマーク22,24)を認識することができる。Average surface roughness: 0.05 μm ≦ Ra ≦ 2.0 μm Maximum height difference: 1.0 μm ≦ P−V ≦ 15 μm Root mean square surface roughness: 0.07 μm ≦ RMS ≦ 2.0 μm 10-point average surface roughness Size: 0.50 μm ≦ Rz ≦ 10 μm The marks (for example, the first and second marks 22 and 24) are formed so as to have a bottom surface having a roughness different from the front and back surfaces of the substrate 10, and the substrate 10 is made light-transmissive. If so, the mark (for example, the first and second marks 22 and 24) can be recognized by the light transmitted through the substrate 10. According to this, the marks (for example, the first and second marks 22, 24)
The mark (for example, the first and second marks 22 and 24) can be recognized from the surface opposite to the surface where the mark is formed.
【0042】基板10を削ることが終了したら、マスク
12を除去し、次に、基板10を切断する。その切断ラ
インLは、図5に示すように、凹部20及びマーク(例
えば第1及び第2のマーク22,24)を避けて位置す
る。また、少なくとも1つの切断ラインLは、複数の凹
部20を区画している部分にあって、かつ、隣同士の1
対の凹部20に対応した1対のマーク(例えば第1及び
第2のマーク22,24)の間に位置している。切断ラ
インLによって、1つの凹部20及びマーク(例えば第
1及び第2のマーク22,24)を有する領域が囲まれ
る。切断ラインLの位置は、マーク(例えば第1及び第
2のマーク22,24)によって決めてもよい。これに
よれば、高い位置精度で基板10を切断するので、チッ
プ基板(封止用基板)30の形状を一定にすることがで
きる。When the substrate 10 is completely ground, the mask 12 is removed, and then the substrate 10 is cut. As shown in FIG. 5, the cutting line L is located so as to avoid the recess 20 and the marks (for example, the first and second marks 22 and 24). In addition, at least one cutting line L is located in a portion that divides the plurality of recesses 20 and is adjacent to each other.
It is located between a pair of marks (for example, first and second marks 22 and 24) corresponding to the pair of recesses 20. The cutting line L surrounds a region having one recess 20 and a mark (for example, the first and second marks 22 and 24). The position of the cutting line L may be determined by marks (for example, the first and second marks 22 and 24). According to this, since the substrate 10 is cut with high positional accuracy, the shape of the chip substrate (sealing substrate) 30 can be made constant.
【0043】基板10の切断方法は、スクライバ等によ
って基板10に溝又は傷を入れて割ってもよいし、カッ
タ等によって基板10をフルカットしてもよいし、基板
10にカッタ等を押しつけて応力によって切断してもよ
いし、基板10に熱によって圧縮応力を加えた直後にこ
れを冷却して引張応力を加えて切断してもよい。As a method of cutting the substrate 10, a groove or a scratch may be made on the substrate 10 by a scribe or the like to break the substrate 10, or the substrate 10 may be fully cut by a cutter or the like, or the cutter or the like may be pressed against the substrate 10. The cutting may be performed by stress, or immediately after compressive stress is applied to the substrate 10 by heat, the substrate 10 may be cooled and tensile stress may be applied to cut.
【0044】本実施の形態では、基板10を切断して複
数のチップ基板26を得る。それぞれのチップ基板26
は、1つの凹部20とマーク(1つ又はそれ以上の第1
のマーク22と、1つ又はそれ以上の第2のマーク24
と、の一方又は両方))を有する。チップ基板26は、
封止用基板となる。In this embodiment, the substrate 10 is cut to obtain a plurality of chip substrates 26. Each chip board 26
Includes one recess 20 and a mark (one or more first
Mark 22 and one or more second marks 24
And one or both)). The chip substrate 26 is
It becomes a sealing substrate.
【0045】図9には、以上の工程によって得られた封
止用基板30が示されている。封止用基板30は、凹部
20の底面を形成するプレート部34と、凹部20の内
壁面を形成するフレーム部36と、を有する。フレーム
部36は、少なくとも表示部62(図12参照)を囲む
形状をなしている。フレーム部36は、角リング状であ
ってもよい。凹部20の内壁面は、底面に対して直角に
なっていてもよいし、傾斜していてもよい。封止用基板
30には、凹部20(詳しくはその底面)に乾燥剤32
を取り付けてもよい。FIG. 9 shows the sealing substrate 30 obtained by the above steps. The sealing substrate 30 has a plate portion 34 that forms the bottom surface of the recess 20 and a frame portion 36 that forms the inner wall surface of the recess 20. The frame portion 36 has a shape surrounding at least the display portion 62 (see FIG. 12). The frame portion 36 may have a square ring shape. The inner wall surface of the recess 20 may be perpendicular to the bottom surface or may be inclined. The sealing substrate 30 has a desiccant 32 on the recess 20 (more specifically, on the bottom surface).
May be attached.
【0046】本実施の形態によれば、凹部20及びマー
ク(例えば第1及び第2のマーク22,24)を有する
封止用基板30を製造することができる。この封止用基
板30は、マーク(例えば第1及び第2のマーク22,
24)を利用して簡単に位置合わせを行うことができ
る。封止用基板30は、少なくとも2つのマーク(例え
ば第1及び第2のマーク22,24)を有しているの
で、その方向を検出することができる。また、複数の封
止用基板30の凹部20及びマーク(例えば第1及び第
2のマーク22,24)を同時に形成するので生産性が
高い。According to the present embodiment, it is possible to manufacture the sealing substrate 30 having the recess 20 and the marks (for example, the first and second marks 22 and 24). The sealing substrate 30 has marks (for example, the first and second marks 22,
24) can be used to easily perform the alignment. Since the sealing substrate 30 has at least two marks (for example, the first and second marks 22 and 24), its direction can be detected. Moreover, since the recesses 20 and the marks (for example, the first and second marks 22 and 24) of the plurality of sealing substrates 30 are simultaneously formed, the productivity is high.
【0047】図10〜図12は、本発明の実施の形態に
係る表示装置の製造方法を説明する図である。本実施の
形態では、図10に示すように、複数の封止用基板30
をトレイ40に並べる。例えば、封止用基板30は、そ
の凹部20をトレイ40に向けて配置する。トレイ40
には、隣同士の封止用基板30を区画する仕切りが形成
されており、それぞれの封止用基板30を、取り付ける
ときの方向に対応して配置することができる。その方向
の精度が高くないときに、それぞれの封止用基板30の
配置方向を、方向補正ステージ50で補正する。方向補
正ステージ50には、封止用基板30を載せて少なくと
も回転(あるいはそれに加えて二次元的に移動)する移
動台(例えばターンテーブル)52と、カメラ54と、
が設けられている。封止用基板30は、例えば図示しな
い吸着器を使用して、トレイ40から移動台52に移さ
れる。例えば、封止用基板30は、その凹部20を移動
台52に向けて配置する。10 to 12 are views for explaining the method of manufacturing the display device according to the embodiment of the present invention. In the present embodiment, as shown in FIG. 10, a plurality of sealing substrates 30 are used.
Are arranged on the tray 40. For example, the sealing substrate 30 is arranged with the recess 20 thereof facing the tray 40. Tray 40
Is formed with a partition for partitioning the adjacent sealing substrates 30, and the respective sealing substrates 30 can be arranged corresponding to the mounting direction. When the accuracy of the direction is not high, the direction in which the sealing substrates 30 are arranged is corrected by the direction correction stage 50. On the direction correction stage 50, a moving base (for example, a turntable) 52 on which the sealing substrate 30 is placed and which rotates at least (or additionally moves two-dimensionally) 52, a camera 54,
Is provided. The sealing substrate 30 is transferred from the tray 40 to the moving table 52 using, for example, an adsorption device (not shown). For example, the sealing substrate 30 is arranged so that the concave portion 20 faces the moving table 52.
【0048】図10又は図11に示すように、移動台5
2上に封止用基板30が載せられると、カメラ54によ
って、マーク(例えば第1及び第2のマーク22,2
4)が撮像される。詳しくは、封止用基板30を光が透
過して、封止用基板30におけるカメラ54とは反対側
の面に形成された(彫り込まれた)マーク(例えば第1
及び第2のマーク22,24)を撮像する。As shown in FIG. 10 or FIG.
When the sealing substrate 30 is placed on the second substrate 2, a mark (for example, the first and second marks 22 and 2) is recorded by the camera 54.
4) is imaged. Specifically, light is transmitted through the sealing substrate 30, and a mark (engraved) formed (engraved) on the surface of the sealing substrate 30 opposite to the camera 54 (for example, the first
And the second marks 22, 24) are imaged.
【0049】図11に示すように、カメラ54の撮像領
域56内で、マーク(例えば第1及び第2のマーク2
2,24)が撮像される。撮像により実際に得られた画
像(以下、実際の画像という。)は、記憶部に記憶され
る。また、封止用基板30が正確な方向を向いた場合に
撮像されて得られるマーク(例えば第1及び第2のマー
ク22,24)の画像(以下、正確な画像という。)を
予め記憶部に記憶しておき、実際の画像と正確な画像と
を比較する。比較の結果、両者がずれていることが判明
すれば、移動台52を移動(例えば回転)させる。そし
て、例えば、移動台52の移動と、実際の画像と正確な
画像との比較と、を繰り返し、実際の画像と正確な画像
が最も近くなる位置で、移動台52を停止させる。ある
いは、実際の画像と正確な画像のずれから、どの方向に
どれだけずれているかを算出して、その値に基づいて移
動台52を移動させてもよい。こうして、封止用基板3
0の配置方向を補正することができる。As shown in FIG. 11, marks (for example, the first and second marks 2) are formed in the image pickup area 56 of the camera 54.
2, 24) are imaged. An image actually obtained by imaging (hereinafter referred to as an actual image) is stored in the storage unit. In addition, an image (hereinafter, referred to as an accurate image) of a mark (for example, the first and second marks 22 and 24) obtained by imaging when the sealing substrate 30 faces the correct direction is previously stored in the storage unit. In memory and compare the actual image with the accurate image. As a result of the comparison, if it is found that the two are displaced, the movable table 52 is moved (for example, rotated). Then, for example, the movement of the movable table 52 and the comparison between the actual image and the accurate image are repeated, and the movable table 52 is stopped at the position where the actual image and the accurate image are closest to each other. Alternatively, it is also possible to calculate how much in which direction and how much the image is displaced from the actual image and the accurate image, and move the movable table 52 based on the calculated value. Thus, the sealing substrate 3
The arrangement direction of 0 can be corrected.
【0050】なお、本実施の形態では、封止用基板30
に、異なる形の複数のマーク(例えば第1及び第2のマ
ーク22,24)が形成されており、少なくとも2箇所
にあるマークを撮像する。例えば、封止用基板30の対
向する一対の角部を対象とする一対の撮像領域56で、
第1及び第2のマーク22,24を撮像する。第1のマ
ーク22が撮像されるべき撮像領域56で、第2のマー
ク24が撮像されると、封止用基板30の向きが反対で
ある(角度が180°ずれている)ことが判明する。そ
の場合、移動台52を180°回転させてから、封止用
基板30の配置方向の補正を行う。これによれば、封止
用基板30の向きが反対になっていてもそれを補正する
ことができる。In this embodiment, the sealing substrate 30 is used.
, A plurality of marks having different shapes (for example, the first and second marks 22 and 24) are formed, and at least two marks are imaged. For example, in a pair of imaging regions 56 targeting a pair of opposite corners of the sealing substrate 30,
The first and second marks 22, 24 are imaged. When the second mark 24 is imaged in the imaging region 56 where the first mark 22 is to be imaged, it is found that the sealing substrate 30 has the opposite direction (the angle is shifted by 180 °). . In that case, the moving table 52 is rotated by 180 °, and then the arrangement direction of the sealing substrate 30 is corrected. According to this, even if the direction of the sealing substrate 30 is opposite, it can be corrected.
【0051】次に、図12に示すように、封止用基板3
0を基板60に取り付ける。基板60には表示部62が
設けてあり、表示部62を封止するように、詳しくは表
示部62が凹部20内に配置されるように、封止用基板
30を基板60に取り付ける。その工程では、封止用基
板30を、図示しない吸着器で吸着して、移動台52か
ら基板60上に平行移動させて、移動前後の方向が平行
になるように基板60上に載せてもよい。なお、基板6
0は、予め、配置方向が補正された封止用基板30に対
応するように正確な方向を向くように配置してある。あ
るいは、基板60の配置方向に対応するように、封止用
基板30の配置方向を補正する。Next, as shown in FIG. 12, the sealing substrate 3
0 is attached to the substrate 60. A display unit 62 is provided on the substrate 60, and the sealing substrate 30 is attached to the substrate 60 so as to seal the display unit 62, specifically, the display unit 62 is arranged in the recess 20. In the step, the sealing substrate 30 is adsorbed by an adsorption device (not shown), is moved in parallel from the moving table 52 onto the substrate 60, and is placed on the substrate 60 so that the directions before and after the movement are parallel. Good. The substrate 6
0 is arranged so as to face an accurate direction so as to correspond to the sealing substrate 30 whose arrangement direction is corrected in advance. Alternatively, the arrangement direction of the sealing substrate 30 is corrected so as to correspond to the arrangement direction of the substrate 60.
【0052】図13に示すように、封止用基板30を基
板60に固定する。例えば、封止用基板30のフレーム
部36と基板60とを、両者間に接着剤38を設けた後
に加圧し、接着剤38の性質に応じた硬化処理(例えば
加熱、紫外線照射等)を行う。こうして、表示装置を製
造することができる。As shown in FIG. 13, the sealing substrate 30 is fixed to the substrate 60. For example, the frame portion 36 of the sealing substrate 30 and the substrate 60 are pressurized after the adhesive 38 is provided between the frame portion 36 and the substrate 60, and a curing treatment (for example, heating, ultraviolet irradiation, etc.) according to the property of the adhesive 38 is performed. . Thus, the display device can be manufactured.
【0053】表示装置は、例えば有機EL(Electrolum
inescence)パネルである。表示装置は、基板60と、
表示部62と、封止用基板30と、を有する。封止用基
板30によって少なくとも表示部62が封止される。封
止された空間は、窒素が充填されるか真空になっていて
もよい。この表示装置では、表示部62で生成された光
は、基板60側に出射される。すなわち、基板60側に
画像が表示される。変形例として、乾燥剤32をなくし
て、封止用基板30側に画像が表示されるように表示部
62を構成してもよい。The display device is, for example, an organic EL (Electrolum).
inescence) panel. The display device includes a substrate 60,
The display unit 62 and the sealing substrate 30 are included. At least the display portion 62 is sealed by the sealing substrate 30. The sealed space may be filled with nitrogen or evacuated. In this display device, the light generated by the display unit 62 is emitted to the substrate 60 side. That is, the image is displayed on the substrate 60 side. As a modification, the desiccant 32 may be omitted and the display unit 62 may be configured so that an image is displayed on the sealing substrate 30 side.
【0054】図14は、表示部62が設けられた基板6
0の詳細を説明する図である。基板60は、光透過性を
有しており、ガラス基板又はプラスチック基板であって
もよい。基板60には、封止用基板30によって封止さ
れる領域内に、表示部62が設けられている。基板60
には、表示部62を駆動するための走査側駆動回路64
(及びこれに接続される配線)が形成されている。本実
施の形態では、走査側駆動回路64(及びこれに接続さ
れる配線の一部)も、封止用基板30によって封止され
る領域内に形成されている。基板60には、赤、緑、青
の3色に応じて電源線66,68,70が形成されてい
る。基板60には、陰極用配線72が形成されている。
基板60には、集積回路チップ74が実装されたフレキ
シブル基板76が取り付けられている。集積回路チップ
74は、基板60に形成された種々の配線と電気的に接
続されている。集積回路チップ74は、データ側駆動回
路を有する。FIG. 14 shows the substrate 6 provided with the display section 62.
It is a figure explaining the detail of 0. The substrate 60 is light transmissive and may be a glass substrate or a plastic substrate. A display unit 62 is provided on the substrate 60 in a region sealed by the sealing substrate 30. Board 60
Includes a scanning side drive circuit 64 for driving the display unit 62.
(And the wiring connected to this). In the present embodiment, the scanning side drive circuit 64 (and part of the wiring connected thereto) is also formed in the region sealed by the sealing substrate 30. Power supply lines 66, 68, and 70 are formed on the substrate 60 in accordance with the three colors of red, green, and blue. The cathode wiring 72 is formed on the substrate 60.
A flexible substrate 76 on which an integrated circuit chip 74 is mounted is attached to the substrate 60. The integrated circuit chip 74 is electrically connected to various wirings formed on the substrate 60. The integrated circuit chip 74 has a data side driving circuit.
【0055】図15は、表示部62の詳細を示す図であ
る。表示部62において、基板60上には複数のスイッ
チング素子78(例えば薄膜トランジスタ)が形成され
ている。表示部62は、複数色(例えば赤、緑、青の3
色)の光を発光する複数の発光素子80を有する。スイ
ッチング素子78は、発光素子80の制御を行うもので
ある。発光素子80は、画素電極82及び陰極86(詳
しくはその一部)と、これらの間の発光層84とを含
む。画素電極82は、図14に示す電源線66,68,
70に電気的に接続されている。陰極86は、図14に
示す陰極用配線72に電気的に接続されている。画素電
極82から供給される電流により発光層84が発光す
る。FIG. 15 is a diagram showing details of the display unit 62. In the display unit 62, a plurality of switching elements 78 (for example, thin film transistors) are formed on the substrate 60. The display unit 62 has a plurality of colors (for example, three colors of red, green, and blue).
It has a plurality of light emitting elements 80 that emit light of different colors. The switching element 78 controls the light emitting element 80. The light emitting element 80 includes a pixel electrode 82, a cathode 86 (specifically, a part thereof), and a light emitting layer 84 between them. The pixel electrode 82 is composed of the power supply lines 66, 68,
It is electrically connected to 70. The cathode 86 is electrically connected to the cathode wiring 72 shown in FIG. The light emitting layer 84 emits light by the current supplied from the pixel electrode 82.
【0056】隣同士の発光層84は、バンク部88で区
画されている。発光層84は、高分子であっても低分子
であってもよい。発光層84として高分子材料を使用し
た場合、酸素や水分から遮断することが重要であり、本
発明に係る封止用基板を使用することが効果的である。The adjacent light emitting layers 84 are partitioned by the bank portion 88. The light emitting layer 84 may be a polymer or a low molecule. When a polymer material is used as the light emitting layer 84, it is important to shield it from oxygen and moisture, and it is effective to use the sealing substrate according to the present invention.
【0057】本発明の実施の形態に係る表示装置を有す
る電子機器として、図16にはノート型パーソナルコン
ピュータ1000が示され、図17には携帯電話200
0が示されている。As an electronic apparatus having the display device according to the embodiment of the present invention, a notebook personal computer 1000 is shown in FIG. 16, and a mobile phone 200 is shown in FIG.
0 is shown.
【0058】本発明は、上述した実施の形態に限定され
るものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本
発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構
成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるい
は目的及び結果が同一の構成)を含む。また、本発明
は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置
き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説
明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目
的を達成することができる構成を含む。また、本発明
は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構
成を含む。The present invention is not limited to the above-described embodiment, but various modifications can be made. For example, the present invention includes configurations that are substantially the same as the configurations described in the embodiments (for example, configurations having the same function, method and result, or configurations having the same purpose and result). Further, the invention includes configurations in which non-essential parts of the configurations described in the embodiments are replaced. Further, the present invention includes a configuration having the same effects as the configurations described in the embodiments or a configuration capable of achieving the same object. Further, the invention includes configurations in which known techniques are added to the configurations described in the embodiments.
【図1】図1は、本発明の実施の形態に係る封止用基板
の製造方法を説明する図である。FIG. 1 is a diagram illustrating a method of manufacturing a sealing substrate according to an embodiment of the present invention.
【図2】図2は、図1のII−II線線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line II-II of FIG.
【図3】図3は、図1のIII−III線断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III in FIG.
【図4】図4は、図1のIV−IV線断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line IV-IV in FIG.
【図5】図5は、本発明の実施の形態に係る封止用基板
の製造方法を説明する図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a method of manufacturing the sealing substrate according to the embodiment of the present invention.
【図6】図6は、図5のVI−VI線断面図である。6 is a sectional view taken along line VI-VI of FIG.
【図7】図7は、図5のVII−VII線断面図である。7 is a sectional view taken along line VII-VII of FIG.
【図8】図8は、図5のVIII−VIII線断面図である。FIG. 8 is a sectional view taken along line VIII-VIII of FIG.
【図9】図9は、本発明の実施の形態に係る封止用基板
を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a sealing substrate according to an embodiment of the present invention.
【図10】図10は、本発明の実施の形態に係る表示装
置の製造方法を説明する図である。FIG. 10 is a diagram for explaining the manufacturing method for the display device according to the embodiment of the present invention.
【図11】図11は、本発明の実施の形態に係る表示装
置の製造方法を説明する図である。FIG. 11 is a diagram for explaining the manufacturing method for the display device according to the embodiment of the present invention.
【図12】図12は、本発明の実施の形態に係る表示装
置の製造方法を説明する図である。FIG. 12 is a diagram for explaining the manufacturing method for the display device according to the embodiment of the present invention.
【図13】図13は、本発明の実施の形態に係る表示装
置を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a display device according to an embodiment of the present invention.
【図14】図14は、表示部が形成された基板を説明す
る図である。FIG. 14 is a diagram illustrating a substrate on which a display unit is formed.
【図15】図15は、表示部を説明する図である。FIG. 15 is a diagram illustrating a display unit.
【図16】図16は、本発明の実施の形態に係る電子機
器を示す図である。FIG. 16 is a diagram showing an electronic device according to an embodiment of the present invention.
【図17】図17は、本発明の実施の形態に係る電子機
器を示す図である。FIG. 17 is a diagram showing an electronic device according to an embodiment of the present invention.
10 基板 12 マスク 14 第1の開口 16 第2の開口 18 第3の開口 20 凹部 22 第1のマーク 24 第2のマーク 26 チップ基板 30 封止用基板 62 表示部 10 substrates 12 masks 14 First opening 16 Second opening 18 Third opening 20 recess 22 first mark 24 second mark 26 chip substrate 30 Sealing substrate 62 display
Claims (13)
とそれぞれの前記凹部の隣に位置するマークと、を同時
に形成し、 (b)1つの前記凹部及び前記マークを有する領域の外
側で、前記基板を切断することを含む封止用基板の製造
方法。1. A substrate is formed with (a) one or more recesses and a mark located next to each recess at the same time, and (b) a region having one recess and the mark. A method of manufacturing a sealing substrate, which comprises cutting the substrate outside.
おいて、 前記(a)工程で、前記基板に複数の開口を有するマス
クを設け、前記基板における前記マスクの前記開口から
露出した部分を削って、前記凹部と前記マークを同時に
形成する封止用基板の製造方法。2. The method for manufacturing a sealing substrate according to claim 1, wherein in the step (a), a mask having a plurality of openings is provided in the substrate, and a portion of the substrate exposed from the openings of the mask. A method for manufacturing a sealing substrate, in which the recess and the mark are simultaneously formed by shaving.
の製造方法において、 前記(b)工程で、前記基板から、それぞれが1つの前
記凹部と前記マークを有する複数のチップ基板を得る封
止用基板の製造方法。3. The method for manufacturing a sealing substrate according to claim 1, wherein in the step (b), a plurality of chip substrates each having one recess and one mark are formed from the substrate. A method of manufacturing a sealing substrate to be obtained.
おいて、 前記(a)工程で、前記基板に、それぞれの前記凹部の
隣に複数の前記マークを形成し、 前記(b)工程で、前記基板から、それぞれが1つの前
記凹部と前記複数のマークを有する複数のチップ基板を
得る封止用基板の製造方法。4. The method for manufacturing a sealing substrate according to claim 3, wherein in the step (a), a plurality of the marks are formed on the substrate next to the respective recesses, and the step (b) is performed. Then, a method for manufacturing a sealing substrate, in which a plurality of chip substrates each having one of the recess and the plurality of marks are obtained from the substrate.
おいて、 前記(a)工程で、それぞれの前記凹部を多角形の開口
形状を有するように形成し、1つの前記マークを前記多
角形の1つの角部の隣に形成する封止用基板の製造方
法。5. The method for manufacturing a sealing substrate according to claim 4, wherein in the step (a), each of the recesses is formed so as to have a polygonal opening shape, and one of the marks is formed by the plurality of marks. A method for manufacturing a sealing substrate, which is formed next to one corner of a prism.
おいて、 前記(a)工程で、前記複数のマークのうち、前記多角
形の対向する一対の角部の隣に位置する一対のマーク
を、異なる形状で形成する封止用基板の製造方法。6. The method for manufacturing a sealing substrate according to claim 5, wherein in the step (a), a pair of marks positioned adjacent to a pair of opposite corners of the polygon are included in the plurality of marks. A method for manufacturing a sealing substrate in which marks are formed in different shapes.
の封止用基板の製造方法において、 前記凹部を、マトリクス状に配列されるように形成する
封止用基板の製造方法。7. The method for manufacturing a sealing substrate according to claim 1, wherein the recesses are formed so as to be arranged in a matrix.
の封止用基板の製造方法において、 前記マークを、前記基板の表裏面とは異なる粗さの底面
を有するように形成する封止用基板の製造方法。8. The method for manufacturing a sealing substrate according to claim 1, wherein the mark is formed so as to have a bottom surface having a roughness different from the front and back surfaces of the substrate. Method of manufacturing stop substrate.
おいて、 前記基板は、光透過性を有し、 前記マークを、前記基板を透過する光によって認識でき
るように形成する封止用基板の製造方法。9. The method for manufacturing a sealing substrate according to claim 8, wherein the substrate has a light-transmitting property, and the mark is formed so as to be recognizable by light passing through the substrate. Substrate manufacturing method.
において、 前記(b)工程で、前記マークによって切断ラインの位
置を決めて、前記基板を切断する封止用基板の製造方
法。10. The method for manufacturing a sealing substrate according to claim 9, wherein in the step (b), the position of the cutting line is determined by the mark and the substrate is cut.
記載の方法によって製造されてなる封止用基板。11. A sealing substrate manufactured by the method according to any one of claims 1 to 10.
機器。13. An electronic device including the display device according to claim 12.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002044932A JP2003243156A (en) | 2002-02-21 | 2002-02-21 | Encapsulation substrate, manufacturing method thereof, display device, and electronic device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002044932A JP2003243156A (en) | 2002-02-21 | 2002-02-21 | Encapsulation substrate, manufacturing method thereof, display device, and electronic device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003243156A true JP2003243156A (en) | 2003-08-29 |
JP2003243156A5 JP2003243156A5 (en) | 2005-08-11 |
Family
ID=27784106
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002044932A Withdrawn JP2003243156A (en) | 2002-02-21 | 2002-02-21 | Encapsulation substrate, manufacturing method thereof, display device, and electronic device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003243156A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004030415A1 (en) * | 2002-09-27 | 2004-04-08 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | El element-use sealing plate multiple-beveling mother glass substrate, and el element-use glass substrate multiple-beveling mother glass substrate |
US7311396B2 (en) * | 2003-10-13 | 2007-12-25 | Lg Electronics Inc. | Barcode marking method and apparatus for electro-luminescence display device |
-
2002
- 2002-02-21 JP JP2002044932A patent/JP2003243156A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004030415A1 (en) * | 2002-09-27 | 2004-04-08 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | El element-use sealing plate multiple-beveling mother glass substrate, and el element-use glass substrate multiple-beveling mother glass substrate |
US7311396B2 (en) * | 2003-10-13 | 2007-12-25 | Lg Electronics Inc. | Barcode marking method and apparatus for electro-luminescence display device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100858919B1 (en) | Display unit and method of manufacturing the display unit | |
TWI451610B (en) | Mother board structure of light-emitting device, light-emitting device and method of manufacturing same | |
EP3454375B1 (en) | Organic light emitting display and method for manufacturing the same | |
TWI632676B (en) | Organic electroluminescent device and electronic device | |
US10164215B2 (en) | Electro-optic device that prevents deterioration of a light emitting element | |
KR101267534B1 (en) | methode of fabricating organic electro-luminescence device | |
EP4184551A2 (en) | Display panel and manufacturing method therefor, display screen, and electronic device | |
TWI574399B (en) | Organic light emitting display device and method of manufacturing organic light emitting display device | |
JP2007035536A (en) | Flat panel display | |
WO2019064419A1 (en) | Vapor deposition mask and vapor deposition mask manufacturing method | |
KR20180088379A (en) | Display substrate and method of manufacturing the same | |
JP2003217827A (en) | Encapsulation substrate, manufacturing method thereof, display device, and electronic device | |
US7492040B2 (en) | Glass lid, and package provided with such a lid, for the encapsulation of electronic components | |
US20060091799A1 (en) | Sealing glass substrate for organic EL material and method of manufacturing organic EL display | |
JP2007232928A (en) | Method for manufacturing light emitting panel, light emitting panel, and sealing member | |
JP2003243156A (en) | Encapsulation substrate, manufacturing method thereof, display device, and electronic device | |
JP2008058489A (en) | Electro-optical device, method of manufacturing electro-optical device, and electronic apparatus | |
JP2006338946A (en) | Display panel | |
TW201044900A (en) | Organic electro-luminescence display device and method for fabricating the same | |
JP2013138022A (en) | Self-luminous panel | |
KR100852351B1 (en) | Laser scanning apparatus and using method of the same | |
JP4123339B2 (en) | Method of mounting sealing substrate, mounting apparatus thereof, manufacturing method of display device, and manufacturing apparatus thereof | |
JP2006253097A (en) | Self-luminous panel and method for producing self-luminous panel | |
KR102627283B1 (en) | Edge Bending Organic Light Emitting Diode Display | |
US20080008940A1 (en) | Glass mask used for patterning and manufacturing method and apparatus therefor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050124 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050124 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20051220 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070919 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071003 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20071130 |